JP2022144821A - 配管接続構造及び処理装置 - Google Patents

配管接続構造及び処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2022144821A
JP2022144821A JP2021045996A JP2021045996A JP2022144821A JP 2022144821 A JP2022144821 A JP 2022144821A JP 2021045996 A JP2021045996 A JP 2021045996A JP 2021045996 A JP2021045996 A JP 2021045996A JP 2022144821 A JP2022144821 A JP 2022144821A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pipe
flange portion
connection structure
structure according
flange
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021045996A
Other languages
English (en)
Inventor
崇 吉田
Takashi Yoshida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2021045996A priority Critical patent/JP2022144821A/ja
Priority to CN202210226459.8A priority patent/CN115111443A/zh
Priority to KR1020220030229A priority patent/KR20220131168A/ko
Priority to US17/654,281 priority patent/US11774017B2/en
Publication of JP2022144821A publication Critical patent/JP2022144821A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L27/00—Adjustable joints, Joints allowing movement
    • F16L27/10—Adjustable joints, Joints allowing movement comprising a flexible connection only, e.g. for damping vibrations
    • F16L27/1012—Flanged joints
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L23/00—Flanged joints
    • F16L23/02—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially
    • F16L23/032—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially characterised by the shape or composition of the flanges
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J15/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with non-particulate solids, e.g. sheet material; Apparatus specially adapted therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/18—Stationary reactors having moving elements inside
    • B01J19/1887—Stationary reactors having moving elements inside forming a thin film
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/03—Pressure vessels, or vacuum vessels, having closure members or seals specially adapted therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L23/00—Flanged joints
    • F16L23/003—Auxiliary devices
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L23/00—Flanged joints
    • F16L23/02—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L23/00—Flanged joints
    • F16L23/02—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially
    • F16L23/036—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially characterised by the tensioning members, e.g. specially adapted bolts or C-clamps
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L23/00—Flanged joints
    • F16L23/16—Flanged joints characterised by the sealing means
    • F16L23/18—Flanged joints characterised by the sealing means the sealing means being rings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00002—Chemical plants
    • B01J2219/00027—Process aspects
    • B01J2219/00029—Batch processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00002—Chemical plants
    • B01J2219/00027—Process aspects
    • B01J2219/00031—Semi-batch or fed-batch processes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Flanged Joints, Insulating Joints, And Other Joints (AREA)
  • Supports For Pipes And Cables (AREA)
  • Massaging Devices (AREA)
  • Branch Pipes, Bends, And The Like (AREA)

Abstract

【課題】装置組み立て時の誤差を吸収できる技術を提供する。【解決手段】本開示の一態様による配管接続構造は、処理装置が備える配管接続構造であって、一端に第１のフランジ部を有する第１の配管と、一端に前記第１のフランジ部と接続される第２のフランジ部を有する第２の配管と、前記第１の配管の管軸と前記第２の配管の管軸とが一致しない位置を含む複数の位置で前記第１のフランジ部と前記第２のフランジ部とを接続して締結する配管クランプと、を有する。【選択図】図４

Description

本開示は、配管接続構造及び処理装置に関する。
排気配管に各部品の誤差を吸収するためのベローズを用いた真空処理装置が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
特開２０１２－１０４７５５号公報
本開示は、装置組み立て時の誤差を吸収できる技術を提供する。
本開示の一態様による配管接続構造は、処理装置が備える配管接続構造であって、一端に第１のフランジ部を有する第１の配管と、一端に前記第１のフランジ部と接続される第２のフランジ部を有する第２の配管と、前記第１の配管の管軸と前記第２の配管の管軸とが一致しない位置を含む複数の位置で前記第１のフランジ部と前記第２のフランジ部とを接続して締結する配管クランプと、を有する。
本開示によれば、装置組み立て時の誤差を吸収できる。
実施形態の処理装置の一例を示す概略図 実施形態の配管接続構造の一例を示す斜視図（１） 実施形態の配管接続構造の一例を示す斜視図（２） 実施形態の配管接続構造の一例を示す断面図 第１のフランジ部の一部を拡大して示す図 第１の配管と第２の配管との接続形態を示す図 配管クランプの一例を示す図 配管クランプの一例を示す図 実施形態の配管接続構造の別の一例を示す斜視図
以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。
〔処理装置〕
図１を参照し、実施形態の処理装置の一例について説明する。実施形態の処理装置は、処理容器（Chamber）内に基板を収容して、該基板に対して所定の処理（例えば、成膜処理、エッチング処理）を施す装置である。処理装置は、複数の基板に対して一度に処理を行うバッチ式の装置であってもよく、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の装置であってもよい。また、処理装置は、処理容器内の回転テーブルの上に配置した複数の基板を回転テーブルにより公転させ、第１のガスが供給される領域と第２のガスが供給される領域とを順番に通過させて基板に対して処理を行うセミバッチ式の装置であってもよい。
処理装置１は、処理容器１０、ガス供給部２０、排気部３０等を備える。処理装置１では、ガス供給部２０により処理容器１０内に処理ガスが供給されることで処理容器１０内に収容された基板に対して所定の処理が施される。また、処理装置１では、処理容器１０内に供給された処理ガスが排気部３０により排気される。
処理容器１０は、基板を収容する。処理容器１０は供給ポート１１を有し、該供給ポート１１を介してガス供給部２０から処理容器１０内に処理ガスが供給される。処理容器１０は排気ポート１２を有し、該排気ポート１２を介して処理容器１０内から処理ガスが排気される。
ガス供給部２０は、処理ガス供給源、バルブ、流量制御器（いずれも図示せず）等を含む。ガス供給部２０は、流量制御器で流量が制御された処理ガスを、供給ポート１１を介して処理容器１０内に供給する。処理ガス供給源から処理容器１０内への処理ガスの供給及び停止は、バルブの開閉により制御される。
排気部３０は、排気ライン３１、ＡＰＣバルブ３２、真空ポンプ３３等を含む。排気ライン３１は、例えば排気配管を含み、排気ポート１２と真空ポンプ３３とを接続する。排気ライン３１は、後述する配管接続構造１００及び配管接続構造２００の少なくとも１つを含む。ＡＰＣバルブ３２は、排気ライン３１に介設されており、排気ライン３１のコンダクタンスを調整することで排気速度を調整する。真空ポンプ３３は、例えばドライポンプ、ターボ分子ポンプ等を含み、排気ライン３１を介して処理容器１０内を排気する。
〔配管接続構造〕
図２～図８を参照し、図１の処理装置１が備える配管接続構造１００の一例について説明する。
配管接続構造１００は、第１の配管１１０、第２の配管１２０、配管クランプ１３０等を有する。
第１の配管１１０は、内径ＩＤ１１を有する直管である。第１の配管１１０は、フランジ部１１１、封止部材１１２、摺動部材１１３等を含む。
フランジ部１１１は、第１の配管１１０の一端（－ｚ方向の側の端部）に設けられている。フランジ部１１１は、後述する第２の配管１２０のフランジ部１２１と接続される接続面１１１ａを有する。
封止部材１１２は、フランジ部１１１の接続面１１１ａに設けられている。封止部材１１２は、フランジ部１１１とフランジ部１２１との隙間を封止する。これにより、第１の配管１１０内及び第２の配管１２０内の気密が確保される。封止部材１１２は、例えばＯリングである。
摺動部材１１３は、フランジ部１１１の接続面１１１ａに設けられている。摺動部材１１３は、フランジ部１１１とフランジ部１２１との間の位置合わせの際に両者の相対移動を滑らかにする。これにより、フランジ部１１１とフランジ部１２１との擦れに起因する金属粉等のパーティクルの発生を抑制できる。摺動部材１１３は、例えばボールローラである。
第２の配管１２０は、内径ＩＤ２１を有し、一端（＋ｚ方向の側の端部）に向けてテーパ状に拡径する直管である。第２の配管１２０の内径ＩＤ２１は、第１の配管１１０の内径ＩＤ１１と同じである。ただし、第２の配管１２０の内径ＩＤ２１は、第１の配管１１０の内径ＩＤ１１と異なっていてもよい。第２の配管１２０は、フランジ部１２１、環状突起１２２等を含む。
フランジ部１２１は、第２の配管１２０の一端（＋ｚ方向の側の端部）に設けられている。フランジ部１２１は、第１の配管１１０のフランジ部１１１と接続される接続面１２１ａを有する。フランジ部１２１は、フランジ部１１１よりも大きい内径ＩＤ２２を有する。これにより、第１の配管１１０の管軸Ｚ１と第２の配管１２０の管軸Ｚ２とが一致しない位置でフランジ部１１１とフランジ部１２１とを接続した場合でも、フランジ部１１１とフランジ部１２１とが接続される部分において流路断面積が小さくならない。そのため、フランジ部１１１とフランジ部１２１とが接続される部分における処理ガスの流れの変化を抑制できる。ただし、フランジ部１２１は、フランジ部１１１と同じ内径を有していてもよい。また、フランジ部１２１は、フランジ部１１１よりも大きい外径を有する。
環状突起１２２は、フランジ部１２１の接続面１２１ａから突出し、フランジ部１１１の外径よりも大きい内径の環形状を有する。環状突起１２２は、フランジ部１１１とフランジ部１２１との間の位置合わせの際に、フランジ部１１１の外壁と接触することでフランジ部１１１の移動を所定の範囲に制限する。なお、図４では、環状突起１２２の左側の内壁がフランジ部１１１の外壁と接触している状態を示している。
配管クランプ１３０は、第１の配管１１０の管軸Ｚ１と第２の配管１２０の管軸Ｚ２とが一致する位置及び一致しない位置を含む複数の位置でフランジ部１１１とフランジ部１２１とを接続して締結する。例えば、図６の接続形態Ａに示されるように、配管クランプ１３０は、管軸Ｚ１が管軸Ｚ２よりも右側にずれた位置でフランジ部１１１とフランジ部１２１とを接続して締結する。また例えば、図６の接続形態Ｂに示されるように、配管クランプ１３０は、管軸Ｚ１と管軸Ｚ２とが一致した位置でフランジ部１１１とフランジ部１２１とを接続して締結する。また例えば、図６の接続形態Ｃに示されるように、配管クランプ１３０は、管軸Ｚ１が管軸Ｚ２よりも左側にずれた位置でフランジ部１１１とフランジ部１２１とを接続して締結する。このように、配管クランプ１３０が、管軸Ｚ１と管軸Ｚ２とが一致しない位置を含む複数の位置でフランジ部１１１とフランジ部１２１とを接続して締結するので、装置組み立て時の誤差を吸収できる。
配管クランプ１３０は、第１の保持部材１３１、第２の保持部材１３２、固定部材１３３、位置調整部材１３４、押圧部材１３５等を含む。
第１の保持部材１３１は、平面視で半円弧状を有する。第１の保持部材１３１は、凹部１３１ａ及び凸部１３１ｂを含む。
第２の保持部材１３２は、平面視で半円弧状を有する。第２の保持部材１３２は、凹部１３２ａ及び凸部１３２ｂを含む。
固定部材１３３は、第１の保持部材１３１と第２の保持部材１３２とを接続して固定する。固定部材１３３は、例えばネジである。
第１の保持部材１３１と第２の保持部材１３２とは、凹部１３１ａに凸部１３２ｂを嵌合させると共に、凹部１３２ａに凸部１３１ｂを嵌合させ、固定部材１３３で固定することにより、フランジ部１１１とフランジ部１２１とを接続して締結する。このように、第１の保持部材１３１と第２の保持部材１３２とは、分割可能に構成されている。
位置調整部材１３４は、第１の配管１１０と第２の配管１２０との間の相対位置を調整する。位置調整部材１３４は、例えば第１の保持部材１３１又は第２の保持部材１３２を径方向に貫通して設けられ、第１の配管１１０の管壁に接触して第１の配管１１０を管軸Ｚ１と垂直な方向に移動させる複数のねじを含む。
押圧部材１３５は、フランジ部１１１とフランジ部１２１とを互いに近づける方向に押圧する。押圧部材１３５は、例えば第１の保持部材１３１又は第２の保持部材１３２を厚さ方向に貫通して設けられ、フランジ部１２１に接触してフランジ部１２１をフランジ部１１１に近づける方向に押圧する複数のねじを含む。
以上に説明したように、実施形態の配管接続構造１００は、第１の配管１１０の管軸Ｚ１と第２の配管１２０の管軸Ｚ２とが一致しない位置を含む複数の位置でフランジ部１１１とフランジ部１２１とを接続して締結する配管クランプ１３０を有する。これにより、配管接続構造１００は、管軸Ｚ１及び管軸Ｚ２に垂直な平面方向（ｘｙ方向）に自由度を有するため、ｘｙ方向における装置組み立て時の誤差を吸収できる。
また、実施形態の配管接続構造１００は、ベローズのように表面積が大きく複雑な構造を有していない。そのため、コーティング等の腐食対策を容易に施すことができる。
図９を参照し、図１の処理装置１が備える配管接続構造２００の一例について説明する。
配管接続構造２００は、第２の配管２２０が、第１の配管２１０と第３の配管２３０とを接続するＬ字管である点で、前述の配管接続構造１００と異なる。
配管接続構造２００は、第１の配管２１０、第２の配管２２０、第３の配管２３０、第１の配管クランプ、第２の配管クランプ等を有する。なお、図９では、第１の配管クランプ及び第２の配管クランプの図示を省略している。
第１の配管２１０は、前述の第１の配管１１０と同じ構成であってよい。すなわち、第１の配管２１０は、直管であり、フランジ部２１１、封止部材（図示せず）、摺動部材（図示せず）等を含む。
第２の配管２２０は、Ｌ字管である。第２の配管２２０は、フランジ部２２１、環状突起２２２、フランジ部２２３、環状突起２２４等を含む。
フランジ部２２１は、第２の配管２２０の一端（＋ｚ方向の側の端部）に設けられている。フランジ部２２１は、第１の配管２１０のフランジ部２１１と接続される接続面２２１ａを有する。フランジ部２２１は、フランジ部２１１よりも大きい内径を有する。これにより、第１の配管２１０の管軸と第２の配管２２０の管軸とが一致しない位置でフランジ部２１１とフランジ部２２１とを接続した場合でも、フランジ部２１１とフランジ部２２１とが接続される部分において流路断面積が小さくならない。そのため、フランジ部２１１とフランジ部２２１とが接続される部分における処理ガスの流れの変化を抑制できる。ただし、フランジ部２２１は、フランジ部２１１と同じ内径を有していてもよい。また、フランジ部２２１は、フランジ部２１１よりも大きい外径を有する。
環状突起２２２は、フランジ部２２１の接続面２２１ａから突出し、フランジ部２１１の外径よりも大きい内径の環形状を有する。環状突起２２２は、フランジ部２１１とフランジ部２２１との間の位置合わせの際に、フランジ部２１１の外壁と接触することでフランジ部２１１の移動を所定の範囲に制限する。なお、図９では、環状突起２２２の＋ｘ方向側の内壁がフランジ部２１１の外壁と接触している状態を示している。
フランジ部２２３は、第２の配管２２０の他端（＋ｘ方向の側の端部）に設けられている。フランジ部２２３は、第３の配管２３０のフランジ部２３１と接続される接続面２２３ａを有する。フランジ部２２３は、フランジ部２３１よりも大きい内径を有する。これにより、第２の配管２２０の管軸と第３の配管２３０の管軸とが一致しない位置でフランジ部２２３とフランジ部２３１とを接続した場合でも、フランジ部２２３とフランジ部２３１とが接続される部分において流路断面積が小さくならない。そのため、フランジ部２２３とフランジ部２３１とが接続される部分における処理ガスの流れの変化を抑制できる。ただし、フランジ部２２３は、フランジ部２３１と同じ内径を有していてもよい。また、フランジ部２２３は、フランジ部２３１よりも大きい外径を有する。
環状突起２２４は、フランジ部２２３の接続面２２３ａから突出し、フランジ部２３１の外径よりも大きい内径の環形状を有する。環状突起２２４は、フランジ部２３１とフランジ部２２３との間の位置合わせの際に、フランジ部２３１の外壁と接触することでフランジ部２３１の移動を所定の範囲に制限する。なお、図９では、環状突起２２４の＋ｙ方向側の内壁がフランジ部２３１の外壁と接触している状態を示している。
第３の配管２３０は、前述の第１の配管１１０と同じ構成であってよい。すなわち、第３の配管２３０は、直管であり、フランジ部２３１、封止部材（図示せず）、摺動部材（図示せず）等を含む。
第１の配管クランプは、第１の配管２１０の管軸と第２の配管２２０の管軸とが一致する位置及び一致しない位置を含む複数の位置でフランジ部２１１とフランジ部２２１とを接続して締結する。第１の配管クランプは、前述の配管クランプ１３０と同じ構成であってよい。
第２の配管クランプは、第２の配管２２０の管軸と第３の配管２３０の管軸とが一致する位置及び一致しない位置を含む複数の位置でフランジ部２２３とフランジ部２３１とを接続して締結する。第２の配管クランプは、前述の配管クランプ１３０と同じ構成であってよい。
以上に説明したように、実施形態の配管接続構造２００は、第１の配管２１０の管軸と第２の配管２２０の管軸とが一致しない位置を含む複数の位置でフランジ部２１１とフランジ部２２１とを接続して締結する配管クランプを有する。これにより、配管接続構造２００は、第１の配管２１０及び第２の配管２２０の管軸に垂直な平面方向（ｘｙ方向）に自由度を有するため、ｘｙ方向における装置組み立て時の誤差を吸収できる。
また、実施形態の配管接続構造２００は、第２の配管２２０の管軸と第３の配管２３０の管軸とが一致しない位置を含む複数の位置でフランジ部２２３とフランジ部２３１とを接続して締結する配管クランプを有する。これにより、配管接続構造２００は、第２の配管２２０及び第３の配管２３０の管軸に垂直な平面方向（ｙｚ方向）に自由度を有するため、ｙｚ方向における装置組み立て時の誤差を吸収できる。
このように、実施形態の配管接続構造２００によれば、ｙ軸に対する回転方向以外の幾何公差を吸収できる。
また、実施形態の配管接続構造２００は、ベローズのように表面積が大きく複雑な構造を有していない。そのため、コーティング等の腐食対策を容易に施すことができる。
なお、上記の実施形態において、フランジ部１１１，２１１は第１のフランジ部の一例であり、フランジ部１２１，２２１は第２のフランジ部の一例であり、フランジ部２３１は第３のフランジ部の一例であり、フランジ部２２３は第４のフランジ部の一例である。
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
１ 処理装置
１００ 配管接続構造
１１０ 第１の配管
１１１ フランジ部
１２０ 第２の配管
１２１ フランジ部
１３０ 配管クランプ

Claims (14)

  1. 処理装置が備える配管接続構造であって、
    一端に第１のフランジ部を含む第１の配管と、
    一端に前記第１のフランジ部と接続される第２のフランジ部を含む第２の配管と、
    前記第１の配管の管軸と前記第２の配管の管軸とが一致しない位置を含む複数の位置で前記第１のフランジ部と前記第２のフランジ部とを接続して締結する配管クランプと、
    を有する、配管接続構造。
  2. 前記第２のフランジ部は、前記第１のフランジ部よりも大きい内径を有する、
    請求項１に記載の配管接続構造。
  3. 前記第２のフランジ部は、前記第１のフランジ部よりも大きい外径を有する、
    請求項１又は２に記載の配管接続構造。
  4. 前記第２のフランジ部は、前記第１のフランジ部と接続される接続面から突出し、前記第１のフランジ部の外径よりも大きい内径を有する環状突起を含む、
    請求項１乃至３のいずれか一項に記載の配管接続構造。
  5. 前記配管クランプは、前記第１のフランジ部及び前記第２のフランジ部を保持する保持部材を含む、
    請求項１乃至４のいずれか一項に記載の配管接続構造。
  6. 前記保持部材は、複数に分割可能である、
    請求項５に記載の配管接続構造。
  7. 前記配管クランプは、前記第１の配管と前記第２の配管との間の相対位置を調整する位置調整部材を含む、
    請求項５又は６に記載の配管接続構造。
  8. 前記位置調整部材は、前記保持部材を貫通して設けられ、前記第１の配管の管壁に接触して前記第１の配管を管軸と垂直な方向に移動させる複数のねじを含む、
    請求項７に記載の配管接続構造。
  9. 前記配管クランプは、前記第１のフランジ部と前記第２のフランジ部とを互いに近づける方向に押圧する押圧部材を含む、
    請求項５乃至８のいずれか一項に記載の配管接続構造。
  10. 前記押圧部材は、前記保持部材を貫通して設けられ、前記第２のフランジ部に接触して前記第２のフランジ部を前記第１のフランジ部に近づける方向に押圧する複数のねじを含む、
    請求項９に記載の配管接続構造。
  11. 前記第１の配管は、前記第１のフランジ部の前記第２のフランジ部と接続される接続面に設けられる封止部材を含む、
    請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の配管接続構造。
  12. 前記第１の配管は、前記第１のフランジ部の前記第２のフランジ部と接続される接続面に設けられる摺動部材を含む、
    請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の配管接続構造。
  13. 前記第２の配管は、他端に第４のフランジ部を有するＬ字管であり、
    一端に前記第４のフランジ部と接続される第３のフランジ部を有する第３の配管と、
    前記第２の配管の他端の側の管軸と前記第３の配管の管軸とが一致しない位置を含む複数の位置で前記第３のフランジ部と前記第４のフランジ部とを接続して締結する第２の配管クランプと、
    を有する、
    請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の配管接続構造。
  14. 排気ポートを含む処理容器と、
    前記排気ポートに接続される排気配管と、
    を備え、
    前記排気配管は、
    一端に第１のフランジ部を含む第１の配管と、
    一端に前記第１のフランジ部と接続される第２のフランジ部を含む第２の配管と、
    前記第１の配管の管軸と前記第２の配管の管軸とが一致しない位置を含む複数の位置で前記第１のフランジ部と前記第２のフランジ部とを接続して締結する配管クランプと、
    を有する、
    処理装置。
JP2021045996A 2021-03-19 2021-03-19 配管接続構造及び処理装置 Pending JP2022144821A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021045996A JP2022144821A (ja) 2021-03-19 2021-03-19 配管接続構造及び処理装置
CN202210226459.8A CN115111443A (zh) 2021-03-19 2022-03-09 配管连接构造和处理装置
KR1020220030229A KR20220131168A (ko) 2021-03-19 2022-03-10 배관 접속 구조 및 처리 장치
US17/654,281 US11774017B2 (en) 2021-03-19 2022-03-10 Pipe connection structure and processing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021045996A JP2022144821A (ja) 2021-03-19 2021-03-19 配管接続構造及び処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022144821A true JP2022144821A (ja) 2022-10-03

Family

ID=83284355

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021045996A Pending JP2022144821A (ja) 2021-03-19 2021-03-19 配管接続構造及び処理装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11774017B2 (ja)
JP (1) JP2022144821A (ja)
KR (1) KR20220131168A (ja)
CN (1) CN115111443A (ja)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2628851A (en) * 1950-10-17 1953-02-17 Marman Products Co Inc Flexible ventilated coupling
GB718298A (en) * 1952-02-21 1954-11-10 Rolls Royce Improvements in or relating to gas sealing joints for pipes and the like
US4448448A (en) * 1982-03-22 1984-05-15 Raphael Theresa Pollia Coupling system
DD237951A3 (de) * 1984-06-06 1986-08-06 Mikroelektronik Zt Forsch Tech Vorrichtung zum reinigen halogenhaltiger schadstoffe
DE102004050300B4 (de) * 2004-10-15 2009-02-12 Norma Germany Gmbh Profilschelle
JP5549552B2 (ja) 2010-11-12 2014-07-16 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置の組み立て方法及び真空処理装置
US8708038B2 (en) * 2011-06-30 2014-04-29 Donnie C. Tucker Pipe grapple
DE102011082762A1 (de) * 2011-09-15 2013-03-21 Airbus Operations Gmbh Bewegliche Kupplung für eine Rohrleitung, Tankanordnung sowie Luft- oder Raumfahrzeug
CN105497939B (zh) * 2016-01-11 2018-06-29 老肯医疗科技股份有限公司 一种用于脉动真空压力蒸汽灭菌器的节水降噪真空系统
DE102020108936A1 (de) * 2020-03-31 2021-09-30 Airbus Operations Gmbh Abwassertankanordnung für ein Flugzeug
CN111996514A (zh) * 2020-08-26 2020-11-27 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 Lpcvd工艺中监控硅片膜厚和均一性的方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220131168A (ko) 2022-09-27
CN115111443A (zh) 2022-09-27
US20220299137A1 (en) 2022-09-22
US11774017B2 (en) 2023-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6882467B2 (ja) 可撓性機器フロントエンドモジュールインターフェース、環境制御された機器フロントエンドモジュール、及び組み付け方法
KR101825503B1 (ko) 가스 유동 패턴을 제어하기 위한 프로세스 챔버 장치, 시스템들, 및 방법들
KR20170046578A (ko) 기판 처리 장치
TW202007886A (zh) 閥裝置
JP2022144821A (ja) 配管接続構造及び処理装置
TWI700766B (zh) 基座定位及旋轉設備及使用方法
WO2020021911A1 (ja) バルブ装置、流体制御装置、流体制御方法、半導体製造装置及び半導体製造方法
KR101353044B1 (ko) 배관 연결용 메탈링
JP2021124133A (ja) 非密閉式バタフライバルブおよびその製造方法
KR102632156B1 (ko) 시일 구조 및 시일 방법
JP2019086327A (ja) 弁装置の漏れ検査方法及び検査装置
JP2007154935A (ja) シール材、およびシール材の製造方法、ならびにシール材を用いた振り子型ゲートバルブ
US20180119860A1 (en) Method of forming a pipe joint, pipe joint component, and pipe joint, fluid control device, fluid control unit and semiconductor fabrication apparatus including the pipe joint component
WO2010146969A1 (ja) プラズマ処理装置及び方法
TWI704636B (zh) 晶圓處理裝置
JP4555728B2 (ja) コンタミレス回転機器におけるハウジング側密封環の固定構造
KR101448686B1 (ko) 반도체 제조설비의 배관에 사용되는 가스켓
JP4611904B2 (ja) コンタミレス回転機器における軸封装置
TW202238019A (zh) 流量控制用三通閥及溫度控制裝置
KR20200121443A (ko) 배관 연결 조립체
JP7163241B2 (ja) 荷電粒子加速器及びその施工方法
TW202229755A (zh) 流量控制用三通閥及溫度控制裝置
WO2022118804A1 (ja) 流量制御用三方弁及び温度制御装置
JP7028683B2 (ja) レーザ加工装置
JP7242029B2 (ja) ソレノイドバルブ、流量制御装置、流体制御装置および半導体製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20231221