JP2022142981A - 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 繋ぎ露光の精度の点で有利な露光装置を提供すること。【解決手段】 光源からの光で原版を照明し、基板を走査方向に移動させながら前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光を行う露光装置であり、第１露光により露光される領域と第２露光により露光される領域が部分的に重複するように繋ぎ露光を行う露光装置であって、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方における露光光の一部を遮光する遮光板と、前記遮光板に力を加えて、該遮光板により遮光される光量を調整する複数の調整部と、を有し、前記複数の調整部は、前記遮光板に力を加えていない状態において、前記投影光学系の光軸を通り、前記走査方向に沿う直線に対して非対称となるように配置される。【選択図】 図４

Description

本発明は、露光装置、露光方法、及び物品の製造方法に関する。

液晶パネルや有機ＥＬディスプレイ、或いは半導体デバイスなどの製造では、基板と原版とを同期して移動させながら投影光学系を介してレジストが塗布された基板に原版のパターンを露光する走査型の露光装置が用いられる。近年では、基板の大型化に伴う露光領域の大面積化に対応するため、１回の走査露光により原版のパターンが転写される領域（部分領域）より大きい領域にパターンを形成することが求められている。その方法として、特許文献１では、複数の部分領域を走査方向と直交する非走査方向に重複させて露光する、繋ぎ露光による露光方法が提案されている。

繋ぎ露光を行う際には、隣り合う部分領域が重複する繋ぎ領域内の積算露光量のばらつきを小さくすることが重要である。特許文献２には、投影光学系と原版との間に照明形状を調整可能な可変スリットを配置し、可変スリットを通過する光量を調整することで、繋ぎ領域における積算露光量を均一にすることができる内容が開示されている。

特開平１１－３１７３６６号公報 特開２０１７－０５３８８８号公報

しかしながら、特許文献２に記載されている可変スリットを用いても、繋ぎ領域の非走査方向における中間位置に、可変スリットを調整する調整部が対応するように配置されていないと、繋ぎ領域内の積算露光量のばらつきを完全に均一にすることができない。また、繋ぎ領域は生産するパネルのレイアウトにより決まるため、調整部の位置を全てのレイアウトで最適となるように位置決めすることができない。調整部の数を増やすことである程度多様なレイアウトに対応することができるようになるが、配置スペース等の制約がある。したがって、可変スリットを用いる場合でも、繋ぎ領域内の積算露光量にバラつきが生じ、露光の精度が低下してしまうおそれがある。

そこで、本発明は、繋ぎ露光の精度の点で有利な露光装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、光源からの光で原版を照明し、基板を走査方向に移動させながら前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光を行う露光装置であり、第１露光により露光される領域と第２露光により露光される領域が部分的に重複するように繋ぎ露光を行う露光装置であって、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方における露光光の一部を遮光する遮光板と、前記遮光板に力を加えて、該遮光板により遮光される光量を調整する複数の調整部と、を有し、前記複数の調整部は、前記遮光板に力を加えていない状態において、前記投影光学系の光軸を通り、前記走査方向に沿う直線に対して非対称となるように配置されることを特徴とする。

本発明によれば、繋ぎ露光の精度の点で有利な露光装置を提供することができる。

露光装置の構成を示す概略図である。 繋ぎ露光を説明するための図である。 第１実施形態におけるスリットの構成を示す図である。 第１実施形態における繋ぎ露光を示す図である。 第１実施形態における繋ぎ露光の手順を示すフローチャートである。 第２実施形態における露光量調整板の構成を示す図である。

以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。尚、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。

＜第１実施形態＞
本実施形態における露光装置の構成について説明する。本実施形態における露光装置は、半導体デバイスやＦＰＤなどのデバイスの製造工程であるフォトリソグラフィ工程に用いられるリソグラフィ装置である。本実施形態における露光装置は、パターンが形成された面を有する原版を介して基板を露光し、原版のパターンを基板に転写する露光処理を行う。

図１は、本実施形態における露光装置１００の概略図である。本実施形態では、投影光学系４の光軸に平行な方向をＺ方向、このＺ軸方向に垂直な任意の平面をＸＹ平面として座標系を定義する。また、露光装置１００で走査露光を行う際に基板１６を移動させる走査方向をＹ方向、走査方向に対して直交する非走査方向をＸ方向と定義する。

露光装置１００は、照明光学系１、原版３と基板１６のアライメントマークを検出するアライメントスコープ２、原版ステージ２７、投影光学系４、露光量調整板１９、基板ステージ１７、制御部２０、取得部２６を有する。照明光学系１は、例えば、光源５、コンデンサレンズ６及び８、フライアイレンズ７、スリット９（遮光板）、結像光学系１０、平面鏡１１を含みうる。光源５は、例えば、水銀ランプと、楕円ミラーとを含みうる。スリット９は、光源５と原版３との間に設けられており、光源５から出射された光のうちスリットの開口部に入射された光のみを透過させ、照明範囲を規定する。結像光学系１０は、複数のミラーを含み、スリット９を通過した光を原版３に結像させるように配置されている。平面鏡１１は、照明光学系１において光路を折り曲げる。

投影光学系４は、照明光学系１によって、原版ステージ２７に保持された原版３のパターンを基板ステージ１７に保持された基板１６上に投影する。原版３は投影光学系４の物体面の位置に配置され、基板１６は投影光学系４の像面の位置に配置される。本実施形態における投影光学系４は、原版３のパターンを基板１６に等倍で投影する等倍結像光学系でも良いし、拡大結像光学系や縮小結像光学系であっても良い。

照明光学系１によって照明される原版３のパターンは、投影光学系４の第１平行平板１３ａ、平面鏡１４、凹面鏡１２、凸面鏡１５、凹面鏡１２、平面鏡１４、そして第２平行平板１３ｂを経て、基板１６に結像される。基板１６を駆動するための基板ステージ１７には露光量を計測する光量センサ１８（検出部）が配置されている。

露光量調整板１９は、投影光学系４と基板１６との間に設けられ、投影光学系４から出射された光の一部を遮光するように設けられる。露光量調整板１９は、例えば、金属で構成されうる。露光量調整板１９は、非走査方向（Ｘ方向）に可動な機構を有しており、露光量を制御できる構成となっている。制御部２０は、ＣＰＵやメモリを含み、露光装置１００全体の制御を行う。

本実施形態における露光装置１００では、繋ぎ露光と呼ばれる露光モードにより基板１６を露光することを想定している。図２は、繋ぎ露光の工程を説明するための図である。図２（ａ）は、基板１６における第１露光領域２２ａが露光される工程（第１露光）を示す図である。図２（ａ）では、原版３と基板１６を同期させて走査方向（Ｙ方向）に移動させながら、露光光２３により第１露光領域２２ａを露光している。

図２（ｂ）は、第１露光領域２２ａが露光された後の工程（第２露光）を示す図である。図２（ｂ）では、原版３と基板１６を同期させて非走査方向（Ｘ方向）に移動させている。この時、露光は実行されない。原版３と基板１６を非走査方向へ移動する移動量は、第１露光領域２２ａと次の露光で露光される第２露光領域との間に露光されない領域が生じないように、一部が重なるように決定される。

図２（ｃ）は、基板１６における第２露光領域２２ｂが露光される工程を示す図である。図２（ｃ）では、原版３と基板１６を同期させて走査方向（Ｙ方向）に移動させながら、露光光２３により第２露光領域２２ｂを露光している。ここで、第２露光領域２２ｂは、第１露光領域２２ａと一部が重なるように露光されているため、第１露光領域２２ａと第２露光領域２２ｂが部分的に重複する繋ぎ領域２４（繋ぎ露光で重複して露光される領域）が形成されている。また、本実施形態では、複数回の走査露光であれば良いため、２回の走査露光に限らず３回以上の走査露光により露光が行われても良い。

図２（ｄ）は、繋ぎ露光によって露光される積算露光量を示す図である。積算露光量とは、基板に露光された露光量の積算値である。図２（ｄ）では、第１露光領域２２ａ及び第２露光領域２２ｂのＹ方向のある地点における非走査方向（Ｘ方向）の積算露光量を示している。グラフの縦軸は積算露光量であり、横軸はＸ方向における位置を示す。第１露光と第２露光では、繋ぎ領域２４で重複して露光が行われるため、露光される領域の積算露光量を均一にするためには、繋ぎ領域２４における露光量を低下させる必要がある。例えば、投影光学系４と基板１６との間の光路に露光量調整板１９を非走査方向（Ｘ方向）に挿入させることで、繋ぎ領域２４における露光量を低下させることができる。制御部２０は、露光量調整板１９の駆動を制御する。繋ぎ領域２４における露光量は、露光量調整板１９の駆動の大きさにより調整することができる。露光量調整板１９は、走査方向（Ｙ方向）に対して交差する方向に延びたエッジにより、第１露光と第２露光で露光される繋ぎ領域２４の積算露光量を、繋ぎ領域２４以外の領域と同程度にすることができる。

しかしながら、露光量調整板１９による調整では、繋ぎ領域２４の積算露光量に二次の成分が含まれる場合、繋ぎ領域２４の全域で均一な値に補正することができない。例えば、図２（ｄ）に示すような積算露光量の分布を均一に補正することができない。本実施形態では、積算露光量の分布を均一に調整するために、スリット９の形状を変形可能な構成にすることにより、繋ぎ領域２４における積算露光量を均一に調整する方法について説明する。

繋ぎ露光では、１回の走査露光で露光できる範囲より広い範囲の領域を露光できる。そのため、例えば、大画面の液晶パネルや有機ＥＬパネルを生産する際に有利な技術となりうる。しかしながら、繋ぎ領域２４が形成されてしまうため、繋ぎ領域２４とそれ以外の領域で積算露光量のばらつき、或いは繋ぎ領域２４内における積算露光量のバラつきを抑制することが求められる。

図３は、露光量を局所的に調整できる可変スリット２１を示す図である。図３（ａ）は、本実施形態の比較例を示す図であり、可変スリット２１の複数の調整部２１ｃが左右対称に配置されている。図３（ｂ）は、本実施形態の可変スリット２１の構成を示す図であり、複数の調整部２１ｃが左右で非対称に配置されている。

可変スリット２１は、スリット９（遮光板）に適用される。可変スリット２１は、可変ブレード２１ａと、固定ブレード２１ｂから構成される。可変ブレード２１ａは、Ｘ方向に並んだ複数の調整部２１ｃ（Ｌ１～５、Ｘ０、Ｒ１～５）を有し、各々の調整部２１ｃが、可変ブレード２１ａを押し引きすることで各位置でのスリット幅（可変ブレード２１ａと固定ブレード２１ｂ間の幅）を調整する。すなわち、可変スリット２１に力を加えることで、可変スリット２１を変形させることにより、開口２１ｄの形状を調整する。開口２１ｄは、可変ブレード２１ａと固定ブレード２１ｂ間の空間であり、開口２１ｄを光が通過することで、原版３に照明される照明領域を開口２１ｄの形状に規定することができる。本実施形態における調整部２１ｃ（Ｌ１～５、及びＲ１～５）は、可変スリット２１に力を加えていない状態において、スリット中心を通り走査方向（Ｙ方向）に沿う直線に対して非対称に配置される。ここで、スリット中心とは、例えば、投影光学系４の光軸である。

図３（ａ）において、隣り合う２つの調整部２１ｃ（Ｌ１～Ｌ５、或いは、Ｒ１～Ｒ５）の間隔をＡとする。繋ぎ領域の中心位置との差は、調整部２１ｃ（Ｌ１～Ｌ５）を選択した場合と、調整部２１ｃ（Ｒ１～Ｒ５）を選択した場合でどちらも同じ量である。例えば、繋ぎ領域の中心位置が図３（ａ）の四角で示す位置である場合、調整部２１ｃ（Ｌ４）を選択しても、調整部２１ｃ（Ｒ４）を選択しても、差はＡ／２となる。したがって、図３（ａ）の場合には、非走査方向（Ｘ方向）において、繋ぎ領域２４の中心位置と調整部との距離が最大でＡ／２ずれてしまう。

一方、図３（ｂ）においては、調整部２１ｃ（Ｌ１～Ｌ５）を選択した場合と、調整部２１ｃ（Ｒ１～Ｒ５）を選択した場合とで、繋ぎ領域の中心位置との差が異なる。図３（ｂ）においても、隣り合う２つの調整部２１ｃ（Ｌ１～Ｌ５、或いは、Ｒ１～Ｒ５）の間隔をＡとし、開口２１ｄの中心（Ｘ０の位置）を基準に、調整部２１ｃ（Ｌ１～Ｌ５）と対称な位置を黒丸で示す。本実施形態では、一方の調整部２１ｃ（Ｒ１～５）の配置が、他方の調整部２１ｃ（Ｌ１～５）の位置の中間位置（黒丸と黒丸の中間位置）となるように配置される。図３（ｂ）では、例えば、繋ぎ領域の中心位置が図３（ｂ）の四角で示す位置である場合、調整部２１ｃ（Ｌ５）を選択するか、調整部２１ｃ（Ｒ５）を選択するかで、差が異なる。調整部２１ｃ（Ｌ５）を選択した場合には、繋ぎ領域の中心位置との差が３Ａ／４となってしまうが、調整部２１ｃ（Ｒ５）を選択した場合には、繋ぎ領域の中心位置との差がＡ／４となる。即ち、図３（ｂ）では、近い調整部を選択することで、繋ぎ領域の中心位置との差を最大でもＡ／４のずれに抑えることができる。尚、調整部２１ｃ（Ｌ４）を選択した場合にも繋ぎ領域の中心位置との差がＡ／４となるため、調整部２１ｃ（Ｌ４）を選択しても良い。即ち、繋ぎ領域の中心位置と最も近い調整部が選択されれば良い。

ここで、非走査方向（Ｘ方向）において、繋ぎ領域２４の中心位置と調整部２１ｃとの距離を最小にすることで、繋ぎ領域２４における露光精度が向上する理由について説明する。図２（ｄ）で示したように、繋ぎ領域２４の積算露光量の分布が二次の形状を有する場合、調整部２１ｃを調整することで、積算露光量の二次成分を打ち消すことができる。このとき、積算露光量の二次成分は繋ぎ領域２４の中心位置でピークを持つ。二次の形状のピーク位置に対応する位置、又はそれに近い位置の調整部２１ｃを調整することで、より効果的に積算露光量の二次の成分を除去することができる。

例えば、複数の調整部のうち第１露光で繋ぎ領域２４に露光する露光量を調整する調整部と繋ぎ領域２４の形成予定位置の非走査方向（Ｘ方向）における中心位置の位置座標との距離である第１距離とする。また、複数の調整部のうち第２露光で繋ぎ領域２４に露光する露光量を調整する調整部と繋ぎ領域２４の形成予定位置の非走査方向（Ｘ方向）における中心位置の位置座標との距離である第２距離とする。そして、第１距離と第２距離を比較する。第１距離が第２距離よりも小さい場合には、第１露光で繋ぎ領域２４に露光する露光量を調整し、第２距離が第１距離よりも小さい場合には、第２露光で繋ぎ領域２４に露光する露光量を調整することで、効果的に積算露光量の二次の成分を除去することができる。

ここで、二次の成分とは、繋ぎ領域２４における非走査方向（Ｘ方向）の露光量分布の形状が曲線を含むことを示しており、二次の成分を除去することで、繋ぎ領域２４における非走査方向（Ｘ方向）の露光量分布の形状が曲線から直線となる。本実施形態において、複数の調整部は、繋ぎ領域２４の露光量分布の形状が曲線から直線となるように制御される。

繋ぎ領域２４における積算露光量が二次の成分を有する理由として、例えば、光学部材の製造時の誤差が要因となりうる。例えば、結像光学系１０に用いられるミラーの製造誤差が要因となる。本実施形態において原版３に照明される照明形状が円弧である場合、結像光学系１０に用いられるミラーは、円弧形状に沿った方向に研磨される。円弧形状に沿った方向に研磨されたミラーを用いることで、照明形状の走査方向（Ｙ方向）に沿って照度ムラが生じてしまうおそれがある。走査方向（Ｙ方向）に照度ムラがある場合、積算露光量は露光量が大きくなる箇所と小さくなる箇所との積算値となるため、積算露光量は均一となり、円弧形状の照明領域のうち大部分では問題とならない。

しかしながら、円弧形状の照明領域の端部（露光量調整板１９のエッジ付近の照明領域）では、露光量が大きくなる箇所が遮光され、露光量が小さくなる箇所のみが繋ぎ領域２４に積算されてしまうおそれがある。或いは、露光量が小さくなる箇所が遮光され、露光量が大きくなる箇所のみが繋ぎ領域２４に積算されてしまうおそれがある。そのような場合には、繋ぎ領域２４において積算露光量が均一とならず、繋ぎ領域２４の中心にピークを持つような二次形状の積算露光量の分布を示す結果となる。

本実施形態では、繋ぎ領域２４の中心近傍に調整部２１ｃが対応するよう選択されるため、積算露光量の分布における二次の成分を効果的に除去して、繋ぎ領域２４の積算露光量のバラつきを効果的に低減することが可能となる。また、繋ぎ露光の精度を最大限向上させる上では、調整部２１ｃを左右非対称の配置とし、どちらで二次成分を補正するかを選択することで、繋ぎ露光の精度を向上させることができる。図３では、一方の調整部に対し逆側の調整部の配置を全て、それぞれの対称位置の中間に配置したが、繋ぎ領域に使用しない調整部２１ｃ（例えば、開口２１ｄの中心付近のＲ１とＬ１）は左右対称となる位置に配置してもよい。また、可変スリット２１で規定する露光光の形状は、円弧形状としても良いし、矩形形状としても良い。

次に、繋ぎ露光を実行する際に、複数の調整部２１ｃのうちどの調整部を駆動させるかの決定方法、及び調整部の駆動量の決定方法について説明する。取得部２６は、ユーザにより入力装置（不図示）に入力された、生産するパネルのレイアウト等の情報を取得する。これにより、取得部２６は、繋ぎ領域２４が形成される予定の領域の位置情報を取得することができる。繋ぎ領域２４が形成される予定の領域の位置情報とは、例えば、非走査方向（Ｘ方向）における繋ぎ領域２４の中間位置の座標である。取得部２６により繋ぎ領域２４全域の座標を取得し、制御部２０により非走査方向（Ｘ方向）における繋ぎ領域２４の中間位置の座標が算出されても良い。

制御部２０は、繋ぎ領域２４の位置情報に基づいて、第１露光及び第２露光で露光される繋ぎ領域２４において遮光する光量を決定し、光路の一部を遮光するように露光量調整板１９を非走査方向（Ｘ方向）に駆動させる。また、調整部２１ｃの駆動量を決定するため、光量センサ１８で露光量分布を計測する。具体的には、基板ステージ１７を非走査方向（Ｘ方向）に逐次ステップさせ、光量センサ１８にて光量を検出する。光量センサ１８による露光量分布の計測は、繋ぎ露光を行う前に毎回実行されても良いし、生産するパネルのレイアウトを変更したタイミングや前回の計測から所定時間経過したタイミングで実行されても良い。

図４を参照して、本実施形態における繋ぎ露光において繋ぎ領域２４の積算露光量を均一にする方法について説明する。図４では、第１露光と第２露光の２回の走査露光により繋ぎ露光を行う例について説明する。尚、以下の説明における露光量調整板１９では、露光量調整板１９ａと露光量調整板１９ｂが光路を挟んで別体に設けられている。

図４（ａ）は、露光領域２４の位置と、第１露光における可変スリット２１の位置および露光量調整板１９ａの位置との対応を示す図である。第１露光では露光量調整板１９ａを非走査方向（Ｘ方向）に駆動させ、繋ぎ領域２４の露光量が０％から１００％の連続的な露光量分布となるよう調整する。図４（ｂ）は、露光領域２４の位置と、第２露光における可変スリット２１の位置および露光量調整板１９ｂの位置との対応を示す図である。第２露光では露光量調整板１９ｂを非走査方向（Ｘ方向）に駆動させ、繋ぎ領域２４の露光量が０％から１００％の連続的な露光量分布となるよう調整する。また、図４（ａ）と図４（ｂ）を参照して、露光領域２４の非走査方向（Ｘ方向）における中間位置は、Ｒ３の位置の調整部に相当する。したがって、Ｒ３の位置の調整部を駆動させることで、積算露光量分布の二次形状を除去するように補正する。

図４（ｃ）は、繋ぎ露光により露光される領域と、あるＹ座標位置での非走査方向（Ｘ方向）における位置と積算露光量のグラフを示す図である。グラフの縦軸は積算露光量であり、横軸は非走査方向（Ｘ方向）における位置である。グラフ内の点線は、光量センサ１８により事前に露光量分布の計測を行った結果であり、二次形状の積算露光量分布を示す。制御部２０は、二次形状の積算露光量の補正量を算出し、Ｒ３の位置の調整部、及び補正に関連するＲ３の位置の周辺の調整部の駆動量を決定する。図４（ｃ）に示すように繋ぎ領域２４の積算露光量が他の領域の積算露光量よりも小さい場合には、開口２１ｄを広げる方向に調整部を調整することで、積算露光量が図４（ｃ）のグラフの実線で示すように繋ぎ領域２４でも均一に露光することができる。

露光装置１００で繋ぎ露光を実行する手順について説明する。図５は、本実施形態における繋ぎ露光による処理方法を示すフローチャートである。制御部２０が露光装置１００の各部を制御することで、以下で説明する各ステップが実行される。

ステップＳ５０１では、取得部２６が基板１６に露光される露光領域のレイアウトに応じて、繋ぎ領域２４が形成される予定の位置情報を取得する。取得する位置情報は、例えば、非走査方向（Ｘ方向）における繋ぎ領域２４の形成予定位置の中間位置の座標である。

ステップＳ５０２では、ステップＳ５０１で取得した繋ぎ領域２４の位置情報に基づいて、繋ぎ領域２４の積算露光量を調整するために、制御部２０が露光量調整板１９を駆動させる。また、露光量調整板１９を駆動させる際に、光量センサ１８により露光量分布を取得する。繋ぎ領域２４の積算露光量は、第１露光での積算露光量と第２露光での積算露光量の和により算出される。前回の繋ぎ領域での計測情報を用いて今回の繋ぎ領域を行う場合には、ステップＳ５０２は省略される。

ステップＳ５０３では、駆動させる調整部２１ｃを選択し、選択された調整部２１ｃの駆動量を決定する。駆動させる調整部２１ｃは、ステップＳ５０１で取得した繋ぎ領域２４の位置情報と、調整部２１ｃが配置されている位置と、に基づいて選択される。事前に制御部２０に記憶されている調整部２１ｃの各軸の位置座標に基づいて、形成される予定の繋ぎ領域２４の非走査方向（Ｘ方向）における中間位置の位置座標と最も近い調整部が制御部２０により判定される。選択された調整部、及びその周辺の調整部（例えば、選択された調整部に隣接して配置されている調整部）の駆動量を制御部２０が決定する。

上述した説明では、露光分布の二次の成分を除去する（即ち、二次形状の露光分布を一次形状の分布となるよう補正する）ように調整部２１ｃが制御される例について説明したが、これだけでは繋ぎ領域２４における積算露光量が均一に補正されたとは言えない。二次の成分だけでなく一次の成分も除去するように調整部２１ｃが制御する必要がある。以下では、一次の成分を除去する例について説明する。

ここで、一次の成分とは、繋ぎ領域２４における非走査方向（Ｘ方向）の露光量分布の直線成分を含むことを示しており、二次及び一次の成分を除去することで、繋ぎ領域２４における非走査方向（Ｘ方向）の露光量分布の形状が傾きの無い直線となる。本実施形態において、複数の調整部は、繋ぎ領域２４の露光量分布の形状が傾きの無い直線となるように制御されることで、繋ぎ領域２４が均一に露光される。

ステップＳ５０２で、二次の成分を除去するために選択された調整部とは反対の位置に属する調整部を駆動させることで、積算露光量を均一にする。即ち、図４（ａ）において第１露光でＲ３の位置の調整部が二次形状の補正に選択された場合、第２露光でＲ３の位置とは反対側に位置する調整部を制御することにより、一次の成分を除去することができる。具体的には、露光領域２４の露光量に影響するＬ２～Ｌ５の調整部を一定量ずつ駆動させることで、一次成分の除去を行うことができる。

また、本実施形態において、二次の成分を除去するために選択された調整部（Ｒ３の位置の調整部）と同じ位置に属する調整部（Ｒ２～Ｒ５の位置の調整部）を駆動させることで、一次成分を除去して積算露光量を均一にしても良い。即ち、第１露光で二次成分を除去し、第２露光で一次成分を除去する方法でも良いし、第１露光と第２露光のどちらか一方のみで補正される方法でも良い。或いは、第１露光と第２露光で所定の割合に分けてそれぞれの露光で一次成分と二次成分が除去されても良い。また、ステップＳ５０３で決定された補正量を元に補正駆動をした後に、再度ステップＳ５０２のように光量センサ１８で積算露光量を確認し、より正確な調整部２１ｃの補正量が算出されても良い。

ステップＳ５０４では、ステップＳ５０３で決定された駆動量で調整部２１ｃを駆動させ、繋ぎ露光を行う。

本実施形態では、繋ぎ領域２４が二次の成分の露光分布を有する場合でも、開口２１ｄの重心を通り走査方向（Ｙ方向）に沿う直線に対して非対称に配置された調整部のうち、適切な調整部を選択し駆動させることで、積算露光量を均一に補正することができる。また、多彩なパネルレイアウトに対応した繋ぎ露光を実行させることが可能となる。

＜第２実施形態＞
第１実施形態では、スリット９に左右非対称に配置される複数の調整部２１ｃを備えた可変スリット２１を適用させることで、繋ぎ領域の積算露光量を均一に補正することができる例について説明した。本実施形態では、左右非対称に配置される複数の調整部２７を備えた可変調整板２５を露光量調整板１９に適用させる例について説明する。尚、露光装置１００の構成については、第１実施形態と同様であるため説明を省略する。また、本実施形態で言及しない事項については、第１実施形態に従う。

本実施形態において、スリット９は、繋ぎ領域の積算露光量を均一にするためではなく、原版３に照明される光の照明形状を、例えば、円弧形状に規定するために配置されている。したがって、照明形状を規定する必要が無い場合には、露光装置１００に構成されなくとも良い。また、スリット９が配置される場合であっても、スリット９は可変スリットでなくとも良いし、第１実施形態と同様に可変スリットであっても良い。

図６は、露光量を局所的に調整できる可変調整板２５（遮光板）を示す図である。可変調整板２５は、左右２枚の遮光板２５ａ、２５ｂを有している。可変調整板２５は、複数の調整部２７（Ｌ１～７、Ｒ１～７）を有しており、各々の調整部２７が遮光板２７ａ、２７ｂを押し引きすることで遮光する露光量を局所的に調整する。調整部２７（Ｌ１～７）は、調整部２７（Ｒ１～７）に対して、非対称となるよう配置される。具体的には、遮光板２７ａ及び遮光板２７ｂに力を加えていない状態において、遮光板２７ａと遮光板２７ｂの中心位置を通り走査方向（Ｙ方向）に沿う直線に対して非対称に配置される。遮光板が非走査方向（Ｘ方向）に駆動していない場合には、露光光による照明領域の重心位置が遮光板２７ａと遮光板２７ｂの中間位置となる。図６では、Ｌ１～Ｌ７の位置と対称となる位置を黒丸で示している。調整部２７（Ｒ１～７）は、黒丸とは異なる位置に配置されている。非対称に調整部２７が配置される理由は、第１実施形態と同様に繋ぎ露光領域の二次成分を除去するように、補正に用いる調整部を選択できるようにするためである。

本実施形態においても、第１実施形態と同様に、繋ぎ領域２４が二次の成分の露光分布を有する場合でも、左右非対称に配置された調整部のうち、適切な調整部を選択し駆動させることで、積算露光量を均一に補正することができる。また、多彩なパネルレイアウトに対応した繋ぎ露光を実行させることが可能となる。

＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板上に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

３ 原版
４ 投影光学系
５ 光源
９ スリット
１６ 基板
１９ 露光量調整板
２１ｃ 調整部
２２ａ 第１露光領域
２２ｂ 第２露光領域
１００ 露光装置

Claims (14)

1. 光源からの光で原版を照明し、基板を走査方向に移動させながら前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光を行う露光装置であり、第１露光により露光される領域と第２露光により露光される領域が部分的に重複するように繋ぎ露光を行う露光装置であって、
   前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、
   前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方における露光光の一部を遮光する遮光板と、
   前記遮光板に力を加えて、該遮光板により遮光される光量を調整する複数の調整部と、を有し、
   前記複数の調整部は、前記遮光板に力を加えていない状態において、前記投影光学系の光軸を通り、前記走査方向に沿う直線に対して非対称となるように配置されることを特徴とする露光装置。
2. 前記遮光板は、前記光源と前記原版との間に配置され、前記原版へ照明される照明形状を規定する可変スリットであることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記投影光学系と前記基板との間の光路に挿入される露光量調整板を更に有し、
   前記露光量調整板は、前記繋ぎ露光で重複して露光される領域に露光される露光量を低減することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 前記遮光板は、前記投影光学系と前記基板との間の光路に挿入される露光量調整板であり、前記繋ぎ露光で重複して露光される領域に露光される露光量を低減することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
5. 前記複数の調整部の駆動を制御する制御部を更に有し、
   前記制御部は、前記繋ぎ露光で重複して露光される領域に露光される積算露光量を調整することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記制御部は、前記繋ぎ露光で重複して露光される領域の位置情報と、前記複数の調整部の位置とに基づいて、前記繋ぎ露光で重複して露光される領域に露光される積算露光量を調整することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 前記制御部は、前記繋ぎ露光で重複して露光される領域の位置情報と、前記複数の調整部の位置とに基づいて、前記第１露光で前記繋ぎ露光で重複して露光される領域に露光する露光量を調整するか、前記第２露光で前記繋ぎ露光で重複して露光される領域に露光する露光量を調整するかを選択することを特徴とする請求項５又は６に記載の露光装置。
8. 前記第１露光を行う前に、前記繋ぎ露光で重複して露光される領域の位置情報を取得する取得部を更に有することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 前記取得部は、前記繋ぎ露光で重複して露光される領域の前記走査方向と直交する方向における中心位置の位置座標を取得することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
10. 前記基板が配置される面に露光される光を検出する検出部を更に有し、
    前記制御部は、前記検出部により検出された結果に基づき、前記複数の調整部の駆動量を調整することを特徴とする請求項５乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
11. 前記制御部は、前記複数の調整部のうち前記第１露光で前記繋ぎ露光で重複して露光される領域に露光する露光量を調整する調整部と前記繋ぎ露光で重複して露光される領域の前記走査方向と直交する方向における中心位置の位置座標との距離である第１距離と、前記複数の調整部のうち前記第２露光で前記繋ぎ露光で重複して露光される領域に露光する露光量を調整する調整部と前記繋ぎ露光で重複して露光される領域の前記走査方向と直交する方向における中心位置の位置座標との距離である第２距離とを比較し、前記第１距離が前記第２距離よりも小さい場合には、前記第１露光の露光量を調整し、前記第２距離が前記第１距離よりも小さい場合には、前記第２露光の露光量を調整することを特徴とする請求項５乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
12. 前記制御部は、前記第１距離が前記第２距離よりも小さい場合には、前記第１露光で前記繋ぎ露光で重複して露光される領域における前記走査方向と直交する方向の露光量分布の二次成分が除去されるように前記複数の調整部を駆動させ、前記第２距離が前記第１距離よりも小さい場合には、前記第２露光で前記繋ぎ露光で重複して露光される領域における前記走査方向と直交する方向の露光量分布の二次成分が除去されるように前記複数の調整部を駆動させることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
13. 光源からの光で原版を照明し、基板を走査方向に移動させながら前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光を行う露光方法であり、第１露光により露光される領域と第２露光により露光される領域が部分的に重複するように繋ぎ露光を行う露光装置によって露光を行う露光方法であって、
    前記露光装置は、
    前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、
    前記第１露光及び前記第２露光の少なくとも一方における露光光の一部を遮光する遮光板と、を有し、
    前記遮光板に力を加えて、該遮光板により遮光される光量を調整する複数の調整部が、前記遮光板に力を加えていない状態において、前記投影光学系の光軸を通り、前記走査方向に沿う直線に対して非対称となるように配置された前記複数の調整部が前記遮光板に力を加えて前記開口の形状を調整する工程を含むことを特徴とする露光方法。
14. 請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
    前記露光工程で露光された基板を現像する現像工程と、
    前記現像工程で現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。

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