JP2022128409A - 計時器又は宝飾品用の外側部品上に希少材料を薄層状に堆積させる方法及びこの方法で得られる外側部品 - Google Patents

計時器又は宝飾品用の外側部品上に希少材料を薄層状に堆積させる方法及びこの方法で得られる外側部品 Download PDF

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Abstract

【課題】 計時器又は宝飾品用の外側部品を希少材料で覆い、希少材料の損失を避ける。【解決手段】 本発明は、計時器又は宝飾品用の外側部品の面において希少材料を薄層状に堆積させる方法に関し、希少材料の粗い材料を用意する用意ステップ(100)と、希少材料の粗い材料を成形してPVD法のための蒸発源として用いることができるようにする成形ステップ(200)と、及びPVD法を実行することによって、計時器又は宝飾品用の外側部品によって構成している基材の面上に蒸発源の材料を堆積させて、外側部品の面を覆うようにする堆積ステップ(300)とを行う。【選択図】 図1

Description

本発明は、計時器及び宝飾品の分野にある。
特に、本発明は、計時器又は宝飾品用の外側部品に薄層状の希少材料を堆積させる方法、及びこの方法によって得られる計時器又は宝飾品に関する。
「希少材料」という用語は、本文献において、起源、履歴、構成などに起因して、非常にまれ、又はさらには固有であり、このために特に高い金銭的及び/又は心情的な価値を有するような材料を意味する。また、本文献は、周囲温度において固体状の希少材料に関連する。
例えば、本発明に関連する意味において、希少材料は、地球外起源の材料であることができる。これは、例えば、隕石に由来する材料、宇宙ミッション中に収集されたサンプルに由来する材料、遺物に由来する材料、特定の履歴に関連する場所や物に由来する材料、例えば、船や宇宙ロケットの残骸の破片に由来する材料、履歴上の人物が保有していた物に由来する材料である。
計時器や宝飾品の分野において、装飾的な機能を発揮させるために高貴な材料や希少材料を用いることが日常的にある。
本文献において、「高貴な材料」とは、貴金属、例えば金や銀、のような任意の高貴な材料を意味する。
例えば、計時器や宝飾品の分野において、リストレット、携行型時計(例、腕時計、懐中時計)のケースの要素、宝飾品の要素のような外側部品にインサートを組み入れたり、このような外側部品を完全に高貴な材料や希少材料によって作ったりすることが知られている。
具体的には、隕石や難破船の要素のような希少材料を、携行型時計の表盤、ベゼル又はケースミドル部において多かれ少なかれ大きな要素の形態で組み入れることが知られている。
これらの要素は、例えば多かれ少なかれ薄いスライスの形態で、希少材料によって作られたオリジナルの粗い材料として収集され、形成しようとするインサート又は外側部品の寸法構成に対応するように成形される。具体的には、これらの部品は、一般的には、収集された後に、機械加工によって成形される。
これらの収集及び成形方法を用いることによって、希少材料の元の外観が概して保持されるが、オリジナルの部品の材料を多く使うことが必要となる。特に、これらの収集及び成形方法は、外側部品におけるインサート又は外側部品として用いるために必要な大きさ及び/又は外観の要件を満たさない希少材料のチップや切りくずを発生させてしまう。
希少材料のオリジナルの部品は、その文言上の意味通り、非常に希少でありコストがかかるため、このような希少材料の損失を可能なかぎり抑える必要性があることがわかる。
また、外側部品の面に希少材料を組み入れることによって、一般的に、時間の経過に伴ってアセンブリーの機械的強度の問題が発生する。したがって、希少材料を外側部品における適切な位置に維持するために、時計技術者は固定用ブラケットや他の機械的要素を追加することを余儀なくされる。このことは、このような外側部品が組み入れられる計時器又は宝飾品の信頼性、外観、重量及び製造コストに影響を与える可能性がある。
本発明は、計時器又は宝飾品用の外側部品を希少であり又はさらには固有であるような材料で覆うことを可能にし、かつ、外側部品の製造の間の希少材料の損失を避けたり又は大幅に抑えたりするような手法を提供することによって、前記課題を解決する。
本発明の主な利点の1つは、消費される希少材料の量が外側部品を覆うために必要な量に実質的に対応する程度にて、希少材料を節約することができることである。
なお、本発明は、希少材料のオリジナルの部品の外観に忠実な外観を復元することを目的とするものではなく、希少材料の部品の原子のすべて又は大部分を用いて、当該部品の損失をなくしたり大幅に減らすことを目的とするものである。
このために、本発明は、計時器又は宝飾品の外側部品の面の薄層状の希少材料を堆積させる方法に関し、以下のステップを行う。
- 希少材料によって作られた粗い材料を用意する用意ステップ
前記希少材料は、地球外起源の材料、例えば、隕石や宇宙ミッション中に収集されたサンプルに由来するもの、遺物に由来する材料、特定の履歴に関連する場所又は物に由来するもの、例えば、船の残骸や宇宙ロケットの破片、歴史上の人物が所有していた物から選択される。
- 前記希少材料によって作られた粗い材料を成形して、物理蒸着法、特に、カソードスパッタリング、によって用いることができる蒸発源(ターゲット)を得る成形ステップ
- 物理蒸着法、特に、前記蒸発源のカソードスパッタリング、を実行することによって、計時器又は宝飾品用の外側部品によって構成している基材の面上に前記蒸発源の材料を堆積させて、前記外側部品の面を覆うようにする堆積ステップ
この方法の主な利点の1つは、当該方法を終了した後に新しい部品が作られるときに、蒸発源を形成する希少材料を再利用することができることである。したがって、希少材料を大幅に節約することができる。このように、計時器又は宝飾品用の外側部品を製造するための単価が大幅に削減される。
また、外側部品を覆うために希少材料をごくわずかしか必要としない。さらに、本発明に係る方法を介して、希少材料のあらゆる残留物又は切りくずを用いることが可能となり、このことは、計時器又は宝飾品用の外側部品の製造単価をさらに小さくすることに寄与する。
実際に、これらの希少材料の残留物又は切りくずを、その性質に応じて、溶融、粉末化又は圧縮し、成形して、新しい蒸発源を得ることができる。
このように、これらの特徴によって、希少材料を含む計時器又は宝飾品用の部品の中小規模の連続的な工業生産が可能になる。このことは、現行技術において職人に依存する形態で1つずつ生産されていることとは対照的である。
また、本発明に係る方法は、従来技術の手法とは対照的に、外側部品上の希少材料の機械的強度が優れていることを確実にすることを可能にする。
また、物理蒸着法には、蒸発源の正確な組成、したがって、希少材料の正確な組成、を知っていなくても効果的であるという利点がある。このように正確な組成を知らないことは、この目的のために希少材料が分析されていない場合にはよくあることである。
最後に、薄層の化学的組成は、蒸発源の均質性と同様に、蒸発源の化学的組成を表す。
特定の実施形態において、本発明は、単独で又は技術的に可能なすべての組み合わせにしたがって、以下の特徴のうちの1つ又は複数をさらに有することができる。
特定の実施形態において、前記成形ステップにおいて、前記蒸発源を、ディスクの形態、粉末材料、すなわち、粉末の形態の材料、の形態、又は粒の形態であるように形成する。
特定の実施形態において、前記計時器又は宝飾品用の外側部品に堆積される層が前記希少材料と前記少なくとも1種類の補助的材料との組み合わせによって作られるように、前記希少材料は、補助的材料である少なくとも1種類の他の材料に関連づけられる。
特定の実施形態において、前記補助的材料は、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、又はこれらの金属の1つ又は複数の種類の合金、又はセラミックス又は結晶から選択される。
特定の実施形態において、前記成形ステップは、補助的材料によって作られた少なくとも1種類の第2の蒸発源を成形する操作を行い、前記堆積ステップの間に、前記計時器又は宝飾品用の外側部品に対する希少材料の堆積及び補助的材料の堆積を同時に行う。
特定の実施形態において、前記成形ステップは、前記希少材料によって作られたインサートと形状的に連係してそのインサートを受ける複数のハウジングが形成されたディスクの形態である前記補助的材料を形成して、単一の蒸発源を形成する操作を行う。
特定の実施形態において、前記成形ステップにおいて、希少材料によって作られた粉末ないしペレットを前記補助的材料によって作られたマトリックス内に導入する。
特定の実施形態において、前記成形ステップの間に、前記蒸発源は、エポキシ接着剤のような適切な接着剤又はインジウムのような材料によって構成している材料を介して、前記補助的材料によって作られた、例えばディスクの形態である、支持部分に、希少材料の粉末の粒子、ペレット、チップ、又は他の残留物を固定することによって成形される。
特定の実施形態において、前記堆積ステップは、カソードスパッタリングによって行われる。
特定の実施形態において、前記堆積ステップは、直接蒸発法、特に、熱蒸発、電子ビーム又はレーザー衝撃、によって行われる。
特定の実施形態において、本発明に係る方法は、前記堆積ステップの前に、面の準備を行う予備的ステップを行う。
特定の実施形態において、前記予備的ステップにおいて、前記外側部品の面上に接着副層を堆積させ、かつ/又は前記予備的ステップにおいて、接着性を改善させるように、又は希少材料によって作られた初期の部品の構造をシミュレーションするように、前記外側部品の面の構造化を行う。
特定の実施形態において、本発明に係る方法は、前記堆積ステップの後に、堆積された薄層の面を処理する最終ステップを行う。
特定の実施形態において、前記最終ステップは、セルロースワニス処理、物理蒸着法による透光性の薄層の堆積処理、透光性の原子薄層の堆積処理、又は化学蒸着法による透光性の薄層の堆積処理を行う。
別の目的によると、本発明は、上記方法によって堆積された希少材料の薄層を含む計時器又は宝飾品用の外側部品に関する。
以下の添付の図面を参照しながら例として与えられる以下の詳細な説明を読むことによって、本発明の他の特徴及び利点が明らかになる。なお、この説明は限定するためのものではない。
本発明の実施形態に係る、計時器又は宝飾品用の外側部品の面上に薄層状の希少材料を堆積させるための方法のいくつかのステップを示しているフローチャートである。
本発明は、計時器又は宝飾品の外側部品の面上に薄層状の希少材料を堆積させる方法に関する。好ましいことに、本発明は、眼鏡製造に関連するもののような任意のファッションアイテムにも適用することができる。
図1のフローチャートに示しているように、本発明に係る方法は、まず、以下において「希少材料ブランク」と呼ぶ、希少材料の粗い材料を用意する用意ステップ100を行う。このステップの後に、前記希少材料ブランクを、物理蒸着法(PVD)を介して薄層状に堆積させる方法のための蒸発源として用いることができるように、前記希少材料ブランクを成形する成形ステップ200を行う。その後に、物理蒸着法によって、成形された蒸発源の材料を基材上に堆積させる堆積ステップ300を行う。本発明において、この基材は、前記外側部品を覆うように実装されている計時器又は宝飾品用の外側部品によって構成している。
前記希少材料は、ここでは、非常に希少な又はさらには固有な材料に対応している。これは、特に、起源、履歴、構成に起因しており、特にこのために、高い金銭的及び/又は心情的な価値がある。前記希少材料は、例えば、本発明において、完成した外側部品の外観に応じて、すなわち、所望の希少材料の薄層が堆積された後に、選ばれる。また、希少材料を、その希少材料を形成する材料の技術的特徴にしたがって選択して、完成した外側部品に特定の技術的性質を与えることもできる。
希少材料を用意する用意ステップ100が完了した後で、前記希少材料を含む蒸発源を得て、物理蒸着法を実行するために、前記成形ステップ200の間に希少材料ブランクを準備する必要がある。このような基材上に薄層を堆積させる方法については、後で説明する。
この成形ステップ200の実行は、特に、希少材料ブランクを形成する材料の性質に依存する。
具体的には、例として、用意された希少材料ブランクが金属材料によって作られている場合、例えば、難破船の残骸に由来する場合、蒸発源が、ディスク、例えば、半径が数センチメートルであり厚みが数ミリメートルであるディスク、の形状となるように希少材料ブランクを成形すると有利である。このために、成形ステップ200の間に、希少材料ブランクを機械加工することによって、そして随意的に、用意された希少材料ブランクが希少材料の残留物のセット又は粒子の形態である場合には、溶融し成型することによって、あるいは随意的に、粉末を圧縮して焼結させることによって、蒸発源を得る。
希少材料ブランクの性質に適合している成型技術が用いられる。例えば、焼結、圧縮、溶融材料の鋳込みを成型することなどによって、蒸発源を作ることができる。
代わりに、前記希少材料ブランクが鉱物材料、例えば隕石の残骸、によって作られている場合、成形200の操作によって得られる蒸発源が、粉末材料の形態、例えば、粉末の形態、又はペレットの形態、であることは有利である。このために、成形ステップ200の間に、希少材料ブランクを研削することができる。
好ましいことに、希少材料ブランクを形成する材料の性質に応じて、成形ステップ200の間に、希少材料ブランクは完全に粉砕され、又は機械加工され、チップ、切りくず又はその他の残留物が溶かされて鋳造され、蒸発源を形成する。ここで、本発明に係る方法は、希少材料ブランクの全体を新しい蒸発源を製造するために再利用することができる程度に、希少材料の損失を避けることを可能にすることがわかる。
ここで、成形ステップ200は、円筒状、ワイヤ状、又はこの成形ステップ200によって得られる蒸発源に適した他の任意の形状の部品を形成することを伴うことができ、これによって、堆積ステップ300において用いることができるようにする。
本発明に係る方法において、堆積ステップ300の間に用いる薄層を堆積させる方法のタイプは、特に、成形ステップ200の実行に依存する。具体的には、蒸発源がディスクの形態であるか、粉末材料の形態であるか、又はペレットの形態であるかに応じて、噴霧又は蒸発によって薄層を堆積させる方法が好ましくなる。
特に、前記蒸発源の材料を堆積させる堆積ステップ300は、雰囲気が制御された密閉チャンバーによって形成される反応室内において、蒸発源の原子を気化させる操作を行い、そして、それらの原子を基材、この場合は外側部品、の面上に堆積させるように移動させて、前記基材上に希少材料の薄層を形成することを行う。
堆積ステップ300の代替的実施形態において、薄層を堆積させる方法は、カソード又はアークスパッタリングによって、レーザービームによって、又はイオンビームによって、行われる。
本発明の実施形態において、単純かつ迅速に複雑な形状を有する基材上に薄層を堆積させることが可能であるかぎり、カソードスパッタリングによって薄層を堆積させる方法が好ましい。カソードスパッタリングを用いないこともでき、この場合は、前記基材の面全体にて均質に薄層の堆積を得るために、前記基材の位置を変える必要がある。
下で定められる補助的材料の有無にかかわらず、蒸発源がディスクの形態に形成される場合に、この代替的実施形態が用いられる。
前記堆積ステップ300の別の代替的実施形態において、薄層を堆積させる方法は、特に低圧における、熱蒸発によって行われる。このようにして、蒸発源の希少材料の蒸発が、ジュール効果によって真空下とすることによって、熱誘導によって、イオン又は電子のビームの衝撃によって、電気アークによって、又はレーザービームによって、達成される。
この代替的実施形態は、蒸発源が、寸法構成を小さくされたディスクの形態、又は粉末材料の形態、すなわち、粉末の形態、又は粒の形態、に形成される場合に用いられる。
なお、これらの方法は当業者に知られており、本テキストに記載されている用途ではない用途において用いられている。
外側部品に薄層を堆積させることを促進させるために、チャンバーの媒体に試薬ガスを添加することが特に有利であることがある。
本発明の代替的実施形態において、希少材料は、計時器又は宝飾品用の外側部品に堆積する層が、前記希少材料と前記少なくとも1種類の補助的材料との組み合わせによって得られるように、本テキストの残りの部分において「補助的材料」と呼ぶ他の材料の少なくとも1つに関連づけられる。
このために、前記成形ステップ200は、前記希少材料ブランクを形成する材料とは異なる補助的材料によって作られた少なくとも1種類の第2の蒸発源を成形する操作を含む。
例えば、前記補助的材料は、金、銀、白金、パラジウム、ロジウムのような貴金属、又はこれらの金属の1つ又は複数の種類の金属の合金であることができる。また、前記補助的材料は、セラミックス材料又は結晶であることができる。
また、この本発明の代替的実施形態において、堆積ステップ300の間に、計時器又は宝飾品用の外側部品上への希少材料及び少なくとも1種類の第2の蒸発源の材料の堆積を、同じチャンバー内で物理蒸着法によって同時に行う。
好ましいことに、前記補助的材料、及び薄層状に堆積される希少材料の量に対する前記補助的材料の量は、前記薄層の所望の外観及び/又は所望の機械的特徴にしたがって選択される。前記所望の機械的特徴は、特に、本発明に係る方法の最後における外側部品の機械的応力又は腐食に対する耐性によって表される。
代わりに、希少材料が少なくとも1種類の他の材料にも関連づけられるような本発明に係る方法の別の代替的実施形態において、成形ステップ200は、複数のハウジングが形成されたディスクの形状に補助的材料を形成する操作を含む。これらのハウジングは、好ましいことに、例えば緊密嵌め合いによって、希少材料によって作られたインサートを形状と連係して受けるように形成されて、単一の蒸発源が希少材料と他の材料の特定の構成によって形成されるようにされる。前記インサートは、セッティング又はろう付け又は接着によって補助的材料のディスクのハウジング内に固定される。
前記インサートは、当業者が使用できる範囲内の他の手段によって、焼結、圧縮、成型、機械加工又は成形される希少材料によって構成していることができる。
ハウジング、そして、材料のインサートは、円形に規則的に分布するように構成している。より一般的には、ハウジングとインサートは、蒸発源の侵食トラックに対応するようにディスクにて配置される。これは、当業者には「レーストラック」という名称でも知られる。
また、代わりに、成形ステップ200において、希少材料の粉末、ペレット、チップ、又は他の残留物を、補助的材料によって作られたマトリックス内に導入することができる。
最後に、代わりに、好ましいことに、成形ステップ200の間に、希少材料の粉末の粒子、ペレット、チップ又はその他の残留物を、例えばディスクの形態である、支持部品上に固定することによって、前記蒸発源を成形することができる。前記支持部品は、例えばエポキシ接着剤のような適切な接着剤又はインジウムによって構成している材料を介して、補助的材料によって作られる。
この特徴は、堆積ステップ300の間に希少材料を最大限に使用することを可能にする。
また、この代替的実施形態の特徴によって、外側部品を薄層で覆うために少量しか必要としないために、希少材料をさらに節約することができる。
したがって、堆積ステップ300の間に、蒸発源を形成する要素、すなわち、希少材料と補助的材料、は同時に堆積され、混合されて、この混合物から発生する新しい材料の薄層を、計時器又は宝飾品の外側部品の面上に形成する。
選択された蒸発源における希少材料の割合に応じて、ディスクのハウジングは多かれ少なかれ大きな寸法構成を有し、かつ/又はハウジングはディスク内で多かれ少なかれ多数あり、これによって、外側部品の面上に堆積される薄層における希少材料の所望の量に応じてインサートの大きさ及び/又は数を変えることができる。
前記ディスクを希少材料によって形成することができ、前記インサートを補助的材料によって作ることができることに留意すべきである。なお、補助的材料と希少材料のコストを考えると、この手法は常に最も賢明ではない。
また、代わりに、成形ステップ200の間に、希少材料に対して、金属や鉱物のような適切な材料でドーピング又は合金化して、望ましい技術的特徴を与えることができる。したがって、蒸発源は、合金化又はドーピングの後に、ディスクの形態に形成される。
例えば、純金によって作られたターゲット、そして、有名な難破船に由来する銅、真鍮又は青銅によって作られた部品、又は隕石に由来する鉱物粒子、又は宇宙ミッション中に収集されたサンプルに由来する鉱物粒子に由来する希少材料の抽出物を溶かして、これによって、高貴であり、かつ、希少な合金によって作られたターゲットを作ることができる。前記難破船の部分の材料又は前記地球外を起源とする材料を含むからである。
また、代わりに、成形ステップ200の間に、粉末又は粒の形態に形成された希少材料を、補助的材料、金属又は鉱物の粉末と混合することができる。これは、堆積ステップ300を行った後に外側部品に与えることができる、機械的性質や外観のために選択される。
本発明の別の代替的実施形態において、堆積された層の組成を変えるように構成している反応性雰囲気にて物理蒸着法を実行して、その機械的性質及び/又はその外観を向上させることができる。
例えば、前記雰囲気は、酸化、窒化、炭化の雰囲気であるように構成していることができ、また、希少材料及び/又は補助的材料に対してドーピングをするように構成していることができる。
本発明に係る方法は、堆積ステップ300の前に、計時器又は宝飾品用の外側部品の面処理を行うことによって、その外側部品の面を準備する予備的ステップ10を行うことができる。この予備的ステップ10は、例えば隕石のような希少材料ブランクに典型的な構造を再現し、かつ/又は接着を改善させるように、微視的又は巨視的スケールでの面テクスチャリングを行ったり、又はプラズマによる面の活性化を行ったりすることができる。
特に、予備的ステップ10の間に、接着副層を堆積させて、これによって、外側部品面に対する薄層の固定を改善させることができる。例えば、前記接着副層は、外側部品がセラミックス材料によって作られる場合に、チタン、アルミニウム又はクロムによって作ることができる。
付加的又は代替的に、本発明に係る方法は、堆積した薄層に対して面処理を行う最終ステップ20を行うことができる。この最終ステップ20は、例えば、腐食又は変色から前記薄層を保護するように意図されている。例えば、最終ステップ20は、セルロースワニス処理、物理蒸着法(頭字語PVDで知られる)による透光性の薄層の堆積処理、ALD(原子層堆積:atomic layer deposition)法による透光性の原子薄層の堆積処理、又は化学蒸着法(CVD)による透光性の薄層の堆積処理などを行う。
最後に、本発明の別の目的は、前記堆積方法によって堆積される希少材料の薄層を含む計時器又は宝飾品の外側部品に関する。
10 面の準備
20 面の処理
100 用意
200 成形
300 堆積

Claims (15)

  1. 計時器又は宝飾品用の外側部品の面において周囲温度において希少材料を固体の薄層状に堆積させる方法であって、
    希少材料の粗い材料を用意する用意ステップ(100)と、
    前記希少材料の粗い材料を成形して蒸発源を得る成形ステップ(200)と、及び
    物理蒸着法を実行することによって、計時器又は宝飾品用の外側部品によって構成している基材の面上に前記蒸発源の材料を堆積させて、前記外側部品の面を覆うようにする堆積ステップ(300)とを行い、
    前記方法において、前記成形ステップ(200)は、前記希少材料とは別の補助的材料によって作られた少なくとも1種類の第2の蒸発源を成形する操作を行い、
    前記堆積ステップ(300)の間に、前記計時器又は宝飾品用の外側部品に対する希少材料の堆積及び補助的材料の堆積を同時に行う
    ことを特徴とする方法。
  2. 前記成形ステップ(200)において、前記蒸発源を、ディスクの形態、粉末材料の形態又は粒の形態であるように形成する
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記計時器又は宝飾品用の外側部品に堆積される層が前記希少材料と前記少なくとも1種類の補助的材料との組み合わせによって作られるように、前記希少材料は、補助的材料である少なくとも1種類の他の材料に関連づけられる
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
  4. 前記補助的材料は、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、又はこれらの金属の1つ又は複数の種類の合金、又はセラミックス又は結晶から選択される
    ことを特徴とする請求項3に記載の方法。
  5. 前記成形ステップ(200)は、前記希少材料によって作られたインサートと形状的に連係してそのインサートを受ける複数のハウジングが形成されたディスクの形態である前記補助的材料を形成して、単一の蒸発源を形成する操作を行う
    ことを特徴とする請求項3又は4に記載の方法。
  6. 前記成形ステップ(200)において、希少材料によって作られた粉末ないしペレットを前記補助的材料によって作られたマトリックス内に導入する
    ことを特徴とする請求項3又は4に記載の方法。
  7. 前記成形ステップ(200)の間に、前記蒸発源は、適切な接着剤又はインジウムのような材料によって構成している材料を介して、前記補助的材料によって作られた支持部分に、希少材料の粉末の粒子、ペレット、又はチップを固定することによって成形される
    ことを特徴とする請求項3又は4に記載の方法。
  8. 前記堆積ステップ(300)は、カソードスパッタリングによって行われる
    ことを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記堆積ステップ(300)は、直接蒸発法によって行われる
    ことを特徴とする請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記堆積ステップ(300)の前に、面の準備を行う予備的ステップ(10)を行う
    ことを特徴とする請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 前記予備的ステップ(10)において、前記外側部品の面上に接着副層を堆積させる
    ことを特徴とする請求項10に記載の方法。
  12. 前記予備的ステップ(10)において、接着性を改善させるように、又は希少材料によって作られた初期の部品の構造をシミュレーションするように、前記外側部品の面の構造化を行う
    ことを特徴とする請求項10に記載の方法。
  13. 前記堆積ステップ(300)の後に、堆積された薄層の面を処理する最終ステップ(20)を行う
    ことを特徴とする請求項1~12のいずれか一項に記載の方法。
  14. 前記最終ステップ(20)は、セルロースワニス処理、物理蒸着法による透光性の薄層の堆積処理、透光性の原子薄層の堆積処理、又は化学蒸着法による透光性の薄層の堆積処理を行う
    ことを特徴とする請求項13に記載の方法。
  15. 請求項1~14のいずれか一項に記載の方法によって堆積された希少材料の薄層を含む
    ことを特徴とする計時器又は宝飾品用の外側部品。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008032949A (ja) * 2006-07-28 2008-02-14 Sony Corp 反射防止膜、金属膜の加熱方法、及び、加熱装置
JP2013538279A (ja) * 2010-09-20 2013-10-10 ヴァレオ ビジョン 高分子系の表面処理材料から成る自動車部品
JP2013226836A (ja) * 2013-05-30 2013-11-07 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性積層フィルム
JP2020030201A (ja) * 2018-06-25 2020-02-27 ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa 可変時計部品
JP2020517564A (ja) * 2017-04-20 2020-06-18 ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa セラミック部品の製造方法
WO2020169847A1 (en) * 2019-02-22 2020-08-27 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Method for producing targets for physical vapor deposition (pvd)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4725511A (en) * 1983-08-16 1988-02-16 Reber William L High technology decorative materials for watchfaces and fabrication of same
CH655421GA3 (ja) * 1984-06-07 1986-04-30
US6682636B2 (en) * 2000-08-18 2004-01-27 Honeywell International Inc. Physical vapor deposition targets and methods of formation
US6709557B1 (en) * 2002-02-28 2004-03-23 Novellus Systems, Inc. Sputter apparatus for producing multi-component metal alloy films and method for making the same
US8053861B2 (en) * 2009-01-26 2011-11-08 Novellus Systems, Inc. Diffusion barrier layers
KR101225844B1 (ko) * 2010-07-13 2013-01-23 플란제 에스이 스퍼터링용 로터리 타겟의 접합 조성물 및 이를 이용한 로터리 타겟의 접합방법
US20150162111A1 (en) * 2013-12-10 2015-06-11 Intermolecular, Inc. Transparent Conductive Films and Methods for Forming the Same
CH709669B1 (fr) * 2014-05-19 2019-07-15 Positive Coating Sa Procédé de déposition d'un revêtement protecteur et/ou décoratif sur un substrat, notamment sur un élément pour une pièce d'horlogerie.
EP3220212B1 (fr) * 2016-03-16 2024-05-29 The Swatch Group Research and Development Ltd Procédé de décoration d'un composant horloger
US20180305260A1 (en) * 2017-04-20 2018-10-25 Rolex Sa Ceramic component for timepiece
CH715364A2 (fr) * 2018-09-21 2020-03-31 Swatch Group Res & Dev Ltd Procédé pour améliorer l'adhérence d'une couche de protection contre le ternissement de l'argent sur un substrat comprenant une surface argentée.
CH715927A2 (fr) * 2019-03-14 2020-09-15 Omega Sa Procédé de fabrication d'un composant d'horlogerie ou de bijouterie à base céramique et à décor structuré.

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008032949A (ja) * 2006-07-28 2008-02-14 Sony Corp 反射防止膜、金属膜の加熱方法、及び、加熱装置
JP2013538279A (ja) * 2010-09-20 2013-10-10 ヴァレオ ビジョン 高分子系の表面処理材料から成る自動車部品
JP2013226836A (ja) * 2013-05-30 2013-11-07 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性積層フィルム
JP2020517564A (ja) * 2017-04-20 2020-06-18 ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa セラミック部品の製造方法
JP2020030201A (ja) * 2018-06-25 2020-02-27 ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa 可変時計部品
WO2020169847A1 (en) * 2019-02-22 2020-08-27 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Method for producing targets for physical vapor deposition (pvd)

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