JP2022105895A - 制御装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】オペレータの作業を要さない待機時間におけるオペレータの効率化を図ることができる制御装置を提供する。【解決手段】制御装置400は、加工装置または該加工装置に接続される周辺装置である制御対象装置を制御する制御装置400であって、該制御対象装置が有するメンテナンスユニットをメンテナンスするためのメンテナンス情報510を記憶する記憶部410と、該制御対象装置の任意の動作期間において、メンテナンス情報510の通知タイミングであるか否かを判定する判定部421と、該通知タイミングであると判定した場合に、メンテナンス情報510を出力するように動作期間中の制御対象装置を制御する出力制御部422と、を備える。【選択図】図4

Description

本発明は、加工装置または加工装置に接続された周辺装置を制御する制御装置に関する。
半導体ウエーハや樹脂基板、光デバイスウエーハやガラス等の分割や研削を実施する際に、ダイサーやグラインダーと呼ばれる切削装置やレーザー加工装置、研削装置などの加工装置が用いられる。これらの加工装置は、良好な加工結果を維持するために、定期的なメンテナンスが推奨されている。例えば、特許文献1には、トラブルが発生した際に、トラブル情報が入力されると、サーバから得たトラブル解消情報をモニタ上に表示する加工装置が開示されている。
特開2013-45867号公報
従来の加工装置は、例えば、装置の立ち上がり、または、立ち下げには、数分の時間を要することがある。また、従来の加工措置は、複数の被加工物を連続して自動で加工するフルオートメーション中が、オペレータの待機時間になっていた。このような問題は、加工装置に接続される周辺装置にも同様に生じ得る。このため、従来の加工装置等では、オペレータの待機時間を効率的に使用することに改善の余地があった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、オペレータの作業を要さない待機時間におけるオペレータの効率化を図ることができる制御装置を提供することにある。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の制御装置は、加工装置または該加工装置に接続される周辺装置である制御対象装置を制御する制御装置であって、該制御対象装置が有するメンテナンスユニットをメンテナンスするためのメンテナンス情報を記憶する記憶部と、該制御対象装置の任意の動作期間において、該メンテナンス情報の通知タイミングであるか否かを判定する判定部と、該通知タイミングであると判定した場合に、該メンテナンス情報を出力するように該動作期間中の該制御対象装置を制御する出力制御部と、を備えることを特徴とする。
前記制御装置において、該記憶部は、該メンテナンスユニットのメンテナンスを実施した履歴情報を記憶し、該判定部は、該履歴情報が示す該メンテナンスユニットのメンテナンスを実施してから所定の期間が経過した場合に、該メンテナンス情報の通知タイミングであると判定してもよい。
前記制御装置において、該制御対象装置は、該メンテナンスユニットの状態情報を検出するセンサ手段を備え、該判定部は、該制御対象装置の該動作期間において、該センサ手段から取得した該状態情報が通知条件を満たしている場合に、該メンテナンス情報の通知タイミングであると判定してもよい。
前記制御装置において、該任意の動作期間は、該制御対象装置の起動中、立ち下げ中、及び、所定の動作中のうちの少なくとも1つの期間としてもよい。
前記制御装置において、該出力制御部は、該通知タイミングであると判定した場合に、該メンテナンス情報及び前記動作期間を識別可能な動作期間情報を出力するように、該動作期間中の該制御対象装置を制御してもよい。
本願発明の加工装置は、オペレータの作業を要さない待機時間におけるオペレータの効率化を図ることができるという効果を奏する。
図1は、実施形態に係る加工装置と加工装置に接続された周辺装置との一例を示す斜視図である。 図2は、実施形態に係る周辺装置の構成例を説明するための斜視図である。 図3は、実施形態に係る周辺装置の構成例を分解して示す分解斜視図である。 図4は、実施形態に係る制御装置の機能構成の一例を示す図である。 図5は、実施形態に係る制御装置が実行する制御の処理手順の一例を示すフローチャートである。 図6は、制御装置が制御対象装置に出力させるメンテナンス情報の出力例を示す図である。 図7は、制御装置が制御対象装置に出力させるメンテナンス情報の他の出力例を示す図である。 図8は、制御装置が制御対象装置に出力させるメンテナンス情報の他の出力例を示す図である。 図9は、制御装置を加工装置で実現した場合の機能構成の一例を示す図である。
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
〔実施形態〕
本発明の実施形態に係る制御装置の一例を、図面に基づいて説明する。図1は、実施形態に係る加工装置と加工装置に接続された周辺装置との一例を示す斜視図である。図2は、実施形態に係る周辺装置の構成例を説明するための斜視図である。図3は、実施形態に係る周辺装置の構成例を分解して示す分解斜視図である。
図1に示すように、加工システム1は、加工装置100と、周辺装置200と、を備える。加工装置100と周辺装置200とは、電気的に接続されている。加工装置100は、例えば、切削装置であるが、これに限定されない。周辺装置200は、例えば、純水精製装置であるが、これに限定されない。図1に示す一例では、周辺装置200は、加工装置100に隣接されて配置される場合について説明するが、離して配置してもよい。
加工装置100は、被加工物300を保持するチャックテーブル110と、チャックテーブル110に保持された被加工物300を切削するための切削ブレード121を備えた切削手段120と、チャックテーブル110をX軸方向に移動させるX軸移動手段(図示せず)と、切削手段120をY軸方向に移動させるY軸移動手段(図示せず)と、切削手段120をZ軸方向に移動させるZ軸移動手段(図示せず)と、チャックテーブル110をZ軸と平行な軸心回りに回転させる回転駆動源(図示せず)等を備えている。加工装置100は、X軸移動手段と、Y軸移動手段と、Z軸移動手段及び回転駆動源により、チャックテーブル110と切削手段120とをX軸方向、Y軸方向、Z軸方向及びZ軸回りに相対的に移動させて、被加工物300を切削してチップに分割するものである。
被加工物300は、本実施形態では、シリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハである。また、本発明では、被加工物300は、電子部品に使用される各種セラミック基板、樹脂基板、ガラス基板などであってもよい。被加工物300は、図1に示すように、粘着シート310に貼着され、粘着シート310に環状フレーム320が貼着されて、粘着シート310を介して環状フレーム320に装着される。
また、加工装置100は、切削前後の被加工物300を複数収容するカセットエレベータ130と、カセットエレベータ130に被加工物300を出し入れする搬出入手段140と、切削後の被加工物300を洗浄する洗浄手段150と、搬出入手段140とチャックテーブル110と洗浄手段150とに亘って被加工物300を搬送する搬送手段160と、を備えている。
加工装置100は、搬出入手段140によりカセットエレベータ130内から切削前の被加工物300を取り出し、取り出された被加工物300を搬送手段160によりチャックテーブル110に搬送する。そして、加工装置100は、チャックテーブル110に被加工物Wを保持し、X軸移動手段と、Y軸移動手段と、Z軸移動手段及び回転駆動源により、チャックテーブル110と切削手段120とをX軸方向、Y軸方向、Z軸方向及びZ軸回りに相対的に移動させて、被加工物Wを切削してチップに分割する。加工装置100は、切削後の被加工物300を搬送手段160によりチャックテーブル110から洗浄手段150に搬送した後、洗浄手段150により洗浄する。そして、加工装置100は、切削後の被加工物300を搬送手段160により搬出入手段140に搬送し、搬出入手段140によりカセットエレベータ130内に収容する。
周辺装置200は、加工装置100からの切削屑と切削水などからなる廃液を純水に精製して再利用するためのものである。周辺装置200は、図2及び図3に示すように、周辺装置200の構成要素が配設された装置ハウジング210(図2に示す)と、廃液収容手段220と、廃液ろ過手段230と、清水収容手段240と、純水精製手段250と、表示手段270と、純水温度調整手段290と、制御装置400と、を備える。
廃液収容手段220は、加工装置100により精製された廃液を収容するものである。廃液収容手段220は、加工装置100からの廃液を収容する廃液タンク221と、廃液タンク221内の廃液を送給する廃液送給ポンプ222を備えている。
廃液ろ過手段230は、廃液収容手段220から送給された廃液から切削屑を除去して清水を精製するものである。廃液ろ過手段230は、廃液収容手段220から送給された廃液が配管231を介して導入される第1のフィルタ232と、廃液が配管231を介して導入される第2のフィルタ233と、第1のフィルタ232及び第2のフィルタ233を着脱自在に設けた清水受けパン236などを備えている。廃液送給ポンプ222と第1のフィルタ232及び第2のフィルタ233とを接続する配管231には、電磁開閉弁234-1,234-2が設けられている。電磁開閉弁234-1,234-2が開くと、第1のフィルタ232及び第2のフィルタ233に廃液が導入される。また、配管231には、廃液の圧力を検出する圧力検出手段235が取り付けられている。
第1のフィルタ232及び第2のフィルタ233は、導入された廃液をろ過し、廃液中の切削屑を捕捉して、清水に精製する。第1のフィルタ232及び第2のフィルタ233は、精製した清水を清水受けパン236上に流出する。清水受けパン236は、フレキシブルホースなどからなる配管237を通して清水を清水収容手段240に送る。
清水収容手段240は、廃液ろ過手段230からの清水を貯留するものである。清水収容手段240は、廃液ろ過手段230からの清水を収容する清水貯留タンク241を備えている。
純水精製手段250は、清水を純水に精製するものである。純水精製手段250は、吐出ポンプ251と、紫外線照射手段252と、第1のイオン交換手段253と、第2のイオン交換手段254と、吸引ポンプ255と、精密フィルタ256などを備えている。吐出ポンプ251は、清水貯留タンク241内の清水を、配管257を通して紫外線照射手段252に送給する。紫外線照射手段252は、導入された清水に紫外線を照射して殺菌する。紫外線照射手段252は、例えば、交換可能なUV(ultraviolet)ランプ(図示せず)を有し、UVランプによって紫外線を照射する。紫外線照射手段252は、配管258を通して第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254の流入口に接続している。紫外線照射手段252と第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254とを接続する配管258には、電磁開閉弁259-1,259-2が設けられている。電磁開閉弁25-1,259-2が開くと、第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254に清水が導入される。
第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254は、イオン交換して清水を純水に精製するものである。また、第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254の排出口と吸引ポンプ255とを接続する配管260には、第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254の排出口からの純水の圧力を検出する圧力検出手段261-1,261-2が取り付けられている。吸引ポンプ255は、配管260内の第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254によって精製された純水を所定の水圧で精密フィルタ256及び純水温度調整手段290に向けて送出する。なお、本実施形態では、吸引ポンプ255は、第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254によって精製された純水を所定の圧力(ゲージ圧)で配管262を通して精密フィルタ256に送出する。精密フィルタ256は、例えば、イオン交換樹脂、樹脂屑などの微細な物質を捕捉するものである。純水温度調整手段290は、純水を所定温度に調整して加工装置100の切削水供給手段に循環するものである。
第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254は、流入口から導入された清水をイオン交換樹脂274内に導き、イオン交換樹脂によりイオン交換して純水に精製し、排出口から吸引ポンプ255に送り出す。
制御装置400は、周辺装置200を構成する上述した構成要素をそれぞれ制御して、周辺装置200に廃液を純水に精製させるものである。制御装置400は、圧力検出手段235,261-1,261-2の検出結果に基づいて、電磁開閉弁234-1,234-2,259-1,259-2、吐出ポンプ251及び吸引ポンプ255を制御して、廃液を廃液収容手段220に収容した後、廃液ろ過手段230でろ過して清水に精製し、清水を清水収容手段240に収容した後、純水精製手段250で純水に精製し、精密フィルタ256及び純水温度調整手段290に向けて送出して、周辺装置200に廃液を純水に精製させる。なお、制御装置400は、例えばCPU等で構成された演算処理装置やROM、RAM等を備える図示しないマイクロプロセッサを主体として構成されている。また、制御装置400には、純水精製開始情報などの処理情報を入力する操作盤(図示せず)が接続されている。
制御装置400は、周辺装置200に廃液を純水に精製させる際には、吸引ポンプ255から精密フィルタ256に送出される純水の圧力を調整する。そして、制御装置400は、圧力検出手段261-1,261-2の検出結果に基づいて、配管260内から排出される純水の圧力が所定の値となるように、吐出ポンプ251を制御する。制御装置400は、第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254の容器内の純水の圧力を所定の値に維持する。
なお、第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254の容器内の純水の圧力が-0.01MPa(ゲージ圧)よりも低くなると、容器内にイオン交換樹脂に付着していた気泡が大量に発生して、イオン交換樹脂の性能を充分に発揮できなくなる。また、第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254の容器内の純水の圧力が0MPa(ゲージ圧)よりも高くなると、容器内に正圧がかかり、容器を頑丈な圧力容器とする必要があるからである。こうすることで、周辺装置200は、吸引ポンプ255によって第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254にかかる吸引力を、吐出ポンプ251の清水の加圧によって緩和する。
表示手段270は、オペレータが視認可能なように、装置ハウジング210に設けられている。表示手段270は、制御装置400に電気的に接続されており、制御装置400が指示した各種情報を表示する。表示手段270は、例えば、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイなどの表示デバイスを有する。
図4は、実施形態に係る制御装置400の機能構成の一例を示す図である。図4に示す制御装置400は、上述したように、周辺装置200の各構成をそれぞれ制御して、各動作を周辺装置200に実施させるものである。制御装置400は、記憶部410と、制御ユニット420と、を備える。以下、記憶部410は、制御装置400に内蔵された記憶媒体である場合についてが、制御装置400の外部の記憶装置で実現してもよい。
記憶部410は、制御ユニット420により実行される各種処理等の機能を実現するプログラムや、かかるプログラムによる処理に用いられるデータなどを記憶する。記憶部410は、制御ユニット420と電気的に接続されている。記憶部410は、HDD(Hard Disk Drive)や半導体メモリ等により実現できる。記憶部410は、制御ユニット420が備えるプロセッサが制御プログラムに記述された命令を実行する際の一時的な作業領域としても利用されてもよい。
記憶部410は、例えば、メンテナンス情報510、状態情報520、動作期間情報530等を記憶する。メンテナンス情報510は、例えば、周辺装置200が有するメンテナンスユニットをメンテナンスするための情報を含む。本実施形態では、メンテナンスユニットは、例えば、上述した第1のフィルタ232、第2のフィルタ233、第1のイオン交換手段253、第2のイオン交換手段254等のオペレータによってメンテナンスが必要な周辺装置200の構成を含む。
図4に示す一例では、メンテナンス情報510は、スケジュール情報511、履歴情報512、メンテナンス対象情報513、マニュアル情報514等を有する。スケジュール情報511は、例えば、メンテナンスユニットをメンテナンスするスケジュール、交換期限、使用期限等の情報を有する。スケジュール情報511は、例えば、メンテナンス情報510の通知タイミングを判定するための情報を含む。通知タイミングは、例えば、通知を行う期間、日時等を含む。履歴情報512は、例えば、メンテナンスユニットをメンテナンスした日時、履歴、実施したメンテナンス内容等を示す情報を有する。メンテナンス対象情報513は、例えば、スケジュールの以前にメンテナンスが必要なメンテナンスユニットの対象を通知するための通知条件等を示す情報を含む。通知条件は、例えば、メンテナンスユニットがフィルタである場合、フィルタ付近の配管内の圧力の閾値等を示す条件を含む。例えば、フィルタが目詰まりすると配管内の圧力が高まるため、制御装置400は、フィルタ付近の配管内のある圧力をセンサ手段280で測定し、測定された圧力が閾値を超えた場合、交換と判定する。マニュアル情報514は、例えば、メンテナンスの手順書、メンテナンスに関するトラブル事例等を示す情報を有する。
状態情報520は、メンテナンスユニットの状態を識別可能な情報を含む。状態情報520は、例えば、イオン交換樹脂の性能を発揮できる状態であるか否かを判定するための圧力等を示す情報を含む。状態情報520は、例えば、上述した圧力検出手段が検出したメンテナンスユニットに関する圧力を示す情報を含む。状態情報520は、複数の圧力検出手段ごとに設けることができる。動作期間情報530は、例えば、周辺装置200の動作期間を識別可能な情報を含む。動作期間情報530は、例えば、周辺装置200の立ち上げ中、周辺装置200の立ち下げ中、廃液を純水に精製中等の情報が周辺装置200の動作に応じて設定される。例えば、「周辺装置の起動中」、「周辺装置の立ち下げ中」等の動作期間情報530は、表示手段270上に表示されることで、周辺装置200がどの動作を実施している期間なのかを示すことができる。
制御ユニット420は、CPU(Central Processing Unit)などの制御部演算処理装置と、ROM(Read Only Memory)又はRAM(Random Access Memory)などの記憶装置と、入出力インターフェース装置とを備える。制御ユニット420は、かかる装置を用いて、周辺装置200が実施する一連の処理手順に従い、上述した各構成要素を制御するための制御プログラムなどを実行可能なコンピュータである。
図4に示す一例では、制御ユニット420は、表示手段270、センサ手段280等と電気的に接続されていることを示し、接続される他の構成については省略している。センサ手段280は、例えば、上述した圧力検出手段235,261-1,261-2等を含む。センサ手段280は、メンテナンスユニットの状態を検出する圧力センサ、温度センサ、加速度センサ等の各種センサ素子を含む。制御ユニット420は、センサ手段280の検出結果を状態情報520として取得し、記憶部410に記憶する。通知条件は、例えばセンサ手段280による測定値が閾値を下回るまたは上回る場合かで設定される。
制御ユニット420は、判定部421と、出力制御部422と、を備える。制御ユニット420は、プログラムを実行することにより、判定部421、出力制御部422等の機能部を実現する。制御ユニット420は、プログラムを実行することにより、周辺装置200における任意の動作期間を制御する機能を提供できる。
判定部421は、制御対象装置である周辺装置200の任意の動作期間において、メンテナンス情報510の通知タイミングであるか否かを判定する機能を提供できる。任意の動作期間は、周辺装置200の起動中(立ち上がり中)、立ち下げ中、及び、所定の動作中のうちの少なくとも1つの期間を含む。起動中は、例えば、制御装置400が電源ONに応じて周辺装置200を起動させてから周辺装置200(制御対象装置)が待機状態、操作可能な状態等になるまでの期間を含む。立ち下げ中は、例えば、制御装置400が周辺装置200(制御対象装置)を停止する操作を受け付けてから周辺装置200が停止するまでの期間を含む。周辺装置200における所定の動作中は、例えば、周辺装置200を稼働させた状態で加工装置100に供給する純水の精度や温度が安定するまで待機するアイドリング期間である。また、周辺装置200における所定の動作中は、例えば、アイドリング期間が終了し、加工装置100からの廃液を純水に精製して再利用する動作を行っている期間である。本発明は、オペレータの待機時間を効率的に利用することが目的であるため、メンテナンス情報510を通知するタイミングは、起動中(立ち下がり中)、立ち下げ中、などオペレータの操作を受け付けない、装置の準備中、及び、アイドリング中や連続稼働中など、オペレータの操作を要さない自動運転中が好ましい。判定部421は、周辺装置200に動作期間に、メンテナンス情報510と現在の日時とを比較して、通知タイミングであるか否かを判定する。判定部421は、周辺装置200に動作期間とは異なる期間では、通知タイミングであるか否かの判定を行わない。判定部421は、判定結果を記憶部410に記憶する。
判定部421は、履歴情報512が示すメンテナンスユニットのメンテナンスを実施してから所定の期間が経過した場合に、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定する。所定の期間は、例えば、メンテナンスユニットの有効期限、スケジュール、サイクル等に基づいて設定された期間を含む。判定部421は、例えば、履歴情報512を動作期間に参照し、メンテナンスを最後に実施した日時から所定の期間が経過している場合に、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定する。
判定部421は、周辺装置200の動作期間において、センサ手段280から取得した状態情報520が通知条件を満たしている場合に、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定する。すなわち、判定部421は、状態情報520が通知条件を満たしている場合、メンテナンスのスケジュール以前であっても、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定する。
出力制御部422は、判定部421が通知タイミングであると判定した場合に、メンテナンス情報510を動作期間中の周辺装置200に出力させる機能を提供できる。出力制御部422は、メンテナンス情報510を動作期間中の周辺装置200がメンテナンス情報510を出力するように、周辺装置200を制御する。例えば、出力制御部422は、メンテナンス情報510を動作期間中の周辺装置200が表示するように、周辺装置200の表示手段270を制御する。例えば、出力制御部422は、メンテナンス情報510を動作期間中の周辺装置200が音声で出力するように、周辺装置200のスピーカ等を制御してもよい。
出力制御部422は、判定部421が通知タイミングであると判定した場合に、メンテナンス情報510及び動作期間を識別可能な動作期間情報530を、動作期間中の周辺装置200に出力させる。これにより、周辺装置200は、動作期間中に、メンテナンス情報及び動作期間情報530をオペレータに提示することができる。
例えば、制御対象装置が出力手段を備えていない場合、出力制御部422は、制御対象装置に関連する他の装置、出力手段等に出力させてもよい。他の装置は、例えば、制御対象装置に接続された装置、制御対象装置の近傍に設けられた装置、オペレータが参照可能な電子機器等を含む。
以上、本実施形態に係る周辺装置200及び制御装置400の構成例について説明した。なお、図1から図4を用いて説明した上記の構成はあくまで一例であり、本実施形態に係る周辺装置200及び制御装置400の構成は係る例に限定されない。本実施形態に係る制御装置400の機能構成は、仕様や運用に応じて柔軟に変形可能である。
(制御装置の制御の一例)
次に、実施形態に係る制御装置400が実行する処理手順の一例を説明する。図5は、実施形態に係る制御装置400が実行する制御の処理手順の一例を示すフローチャートである。図5に示す処理手順は、制御装置400の制御ユニット420がプログラムを実行することによって実現される。図5に示す処理手順は、制御ユニット420によって繰り返し実行される。
図5に示す処理手順では、制御装置400の制御ユニット420は、周辺装置200が動作期間中であるか否かを判定する(ステップ1001)。例えば、制御ユニット420は、周辺装置200が起動中、立ち下げ中、所定の動作中のいずれかである場合に、動作期間中であると判定する。制御ユニット420は、動作期間中ではないと判定した場合(ステップ1001でNo)、通知タイミングの対象期間ではないので、図5に示す処理手順を終了させる。
また、制御ユニット420は、動作期間中であると判定した場合(ステップ1001でYes)、処理をステップ1002に進める。制御ユニット420は、周辺装置200のメンテナンス情報510を取得する(ステップ1002)。例えば、制御ユニット420は、周辺装置200に対応したメンテナンス情報510を、記憶部410、データベース等から取得する。制御ユニット420は、ステップ1002の処理が終了すると、処理をステップ1003に進める。
制御ユニット420は、メンテナンス情報510の通知タイミングであるか否かを判定する(ステップ1003)。例えば、制御ユニット420は、現在の日時がメンテナンス情報510のスケジュール、履歴等に該当する場合に、通知タイミングであると判定する。例えば、複数のメンテナンス情報510が取得している場合、制御ユニット420は、複数のメンテナンス情報510のうちの少なくとも1つのメンテナンス情報510が通知タイミングである場合に、通知タイミングであると判定する。制御ユニット420は、通知タイミングであると判定した場合(ステップ1003でYes)、処理をステップ1004に進める。
制御ユニット420は、スケジュール及びマニュアルを含むメンテナンス情報510を出力するように、動作期間中の制御対象装置を制御する(ステップ1004)。例えば、制御ユニット420は、スケジュール及びマニュアルを含むメンテナンス情報510を作成し、該メンテナンス情報510を表示するように、動作期間中の周辺装置200を制御する。本実施形態では、制御ユニット420は、動作期間情報530を付加したメンテナンス情報510を表示するように、動作期間中の周辺装置200を制御する。例えば、制御ユニット420は、メンテナンス情報510の表示を周辺装置200に指示することで、メンテナンス情報510を表示手段270に表示させる。
図6は、制御装置400が制御対象装置に出力させるメンテナンス情報510の出力例を示す図である。図6に示す一例では、メンテナンス情報510は、メンテナンスユニットが紫外線照射手段252である場合の情報となっている。メンテナンス情報510は、スケジュール情報511と、マニュアル情報514と、動作期間情報530とを表示するための情報となっている。スケジュール情報511は、「UVランプ交換期限まであと3日です。」の情報を示している。マニュアル情報514は、交換手順と、UVランプを取り外す画像との情報を示している。なお、マニュアル情報514の画像は、動画でもよい。動作期間情報530は、「周辺装置200の起動中」の情報を示している。これにより、制御装置400は、周辺装置200の動作期間中に、メンテナンス情報510によってUVランプの交換期限が近いこと、UVランプの交換手順、周辺装置200の動作期間等をオペレータに認識させることができる。
図5に戻り、制御ユニット420は、ステップ1004の処理が終了すると、処理を後述するステップ1007に進める。
また、制御ユニット420は、通知タイミングではないと判定した場合(ステップ1003でNo)、処理をステップ1005に進める。制御ユニット420は、状態情報520が通知条件を満たすか否かを判定する。例えば、制御ユニット420は、センサ手段280から取得した状態情報520が、メンテナンス対象情報513が示す通知条件を満たす場合に、状態情報520が通知条件を満たすと判定する。制御ユニット420は、状態情報520が通知条件を満たしていないと判定した場合(ステップ1005でNo)、メンテナンス情報510の通知を行うことなく、図5に示す処理手順を終了させる。
また、制御ユニット420は、状態情報520が通知条件を満たしていると判定した場合(ステップ1005でYes)、処理をステップ1006に進める。制御ユニット420は、メンテナンス対象及びマニュアルを含むメンテナンス情報510を出力するように、動作期間中の制御対象装置を制御する(ステップ1006)。例えば、制御ユニット420は、メンテナンス対象情報513の通知条件を満たす状態情報520に基づいて、メンテナンス対象を特定する。制御ユニット420は、特定したメンテナンス対象とそのマニュアルを含むメンテナンス情報510を作成し、該メンテナンス情報510を表示するように、動作期間中の周辺装置200を制御する。本実施形態では、制御ユニット420は、動作期間情報530を付加したメンテナンス情報510を表示するように、動作期間中の周辺装置200を制御する。
図7は、制御装置400が制御対象装置に出力させるメンテナンス情報510の他の出力例を示す図である。図7に示す一例では、メンテナンス情報510は、メンテナンスユニットが精密フィルタ256である場合の情報となっている。メンテナンス情報510は、メンテナンス対象情報513と、通知情報515と、動作期間情報530とを表示するための情報となっている。メンテナンス対象情報513は、「精密フィルタが劣化しています。」の情報を示している。通知情報515は、例えば、スケジュール情報511、メンテナンス対象情報513等を通知するための情報である。通知情報515は、「注意、精密フィルタの交換時期まで15日ですが、精密フィルタが劣化しています。精密フィルタを交換してください。」の情報を示している。なお、メンテナンス情報510は、マニュアル情報514等の他の情報を有する構成としてもよい。動作期間情報530は、「周辺装置200の立ち下げ中」の情報を示している。これにより、制御装置400は、周辺装置200の動作期間中に、メンテナンス情報510によって精密フィルタ256を交換期限の前に交換する必要があることをオペレータに認識させることができる。
図5に戻り、制御ユニット420は、ステップ1006の処理が終了すると、処理をステップ1007に進める。
制御ユニット420は、メンテナンス情報510の出力を終了させる(ステップ1007)。例えば、制御ユニット420は、終了条件を満たすと、メンテナンス情報510の出力を終了するように、制御対象装置を制御する。終了条件は、例えば、制御対象装置の起動中、立ち下げ中、所定の動作中等が終了すること、メンテナンス情報510を出力させてから一定時間が経過すること、オペレータから終了が指示されたこと等を条件としている。制御ユニット420は、ステップ1007の処理が終了すると、図7に示す処理手順を終了させる。
図5に示す処理手順では、制御ユニット420は、ステップ1003で通知タイミングではないと判定した後に、ステップ1005で状態情報520が通知条件を満たすかを判定しているが、これに限定されない。例えば、処理手順は、状態情報520が通知条件を満たすかを先に判定し、通知条件を満たしていないと判定した場合に、通知タイミングを判定する順序に変更することができる。
以上説明したように、制御装置400は、周辺装置200の任意の動作期間において、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定した場合、動作期間中の周辺装置200にメンテナンス情報510を出力させることができる。これにより、制御装置400は、周辺装置200の動作期間中に、メンテナンス情報510をオペレータに確認させることができる。その結果、制御装置400は、周辺装置200の動作期間であり、オペレータの作業を要さない待機時間に、オペレータが周辺装置200のメンテナンスを確認できるので、待機時間におけるオペレータの効率化を図ることができる。
また、制御装置400は、履歴情報512が示すメンテナンスユニットのメンテナンスを実施してから所定の期間が経過した場合に、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定することができる。これにより、制御装置400は、メンテナンスを実際に実施した日時を基準に、メンテナンス情報510の通知タイミングを判定することができる。その結果、制御装置400は、周辺装置200の動作期間において、より一層適切なタイミングでメンテナンス情報510をオペレータに出力させることができる。
また、制御装置400は、周辺装置200の動作期間において、周辺装置200のセンサ手段280から取得した状態情報520が通知条件を満たしている場合に、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定することができる。これにより、制御装置400は、メンテナンスユニットのメンテナンス期限の以前であっても、メンテナンスユニットの状態が通知条件を満たしていると、メンテナンス情報510を周辺装置200に出力させることができる。その結果、制御装置400は、周辺装置200の動作期間において、メンテナンスユニットの状態に応じたタイミングでメンテナンス情報510をオペレータに出力させることができる。
また、制御装置400は、任意の動作期間を、周辺装置200の起動中、立ち下げ中及び所定の動作中のうちの少なくとも1つの期間とすることができる。これにより、制御装置400は、オペレータの作業を要さない待機時間となる周辺装置200の起動中、立ち下げ中、所定の動作中等を、動作期間として設定することができる。例えば、制御装置400は、周辺装置200の起動中、立ち下げ中及び所定の動作中を動作期間とすることで、メンテナンス情報510の通知タイミングの判定回数を増やすことができるので、複数のメンテナンスユニットの通知タイミングを判定することができる。その結果、制御装置400は、オペレータの作業を要さない待機時間におけるオペレータのより一層の効率化を図ることができる。
また、制御装置400は、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定した場合、メンテナンス情報510及び周辺装置200の動作期間が識別可能な動作期間情報530を、周辺装置200に出力させることができる。これにより、制御装置400は、周辺装置200の動作期間とメンテナンス情報510を、待機期間中のオペレータに確認させることができる。その結果、制御装置400は、周辺装置200の動作期間を考慮して、メンテナンス情報510の確認、メンテナンス部品の手配等をオペレータに実施させることができる。
本実施形態では、周辺装置200は、加工装置100に接続される周辺装置200であって、表示手段270と、センサ手段280と、制御装置400と、を備え、制御装置400は、該周辺装置200が有するメンテナンスユニットをメンテナンスするためのメンテナンス情報510を記憶する記憶部410と、該周辺装置200の任意の動作期間において、該メンテナンス情報510の通知タイミングであるか否かを判定する判定部421と、該通知タイミングであると判定した場合に、該メンテナンス情報510を出力するように該動作期間中の該周辺装置200を制御する出力制御部422と、を備える。
(実施形態の変形例)
上述した制御装置400が出力させるメンテナンス情報510の変形例を以下に説明する。例えば、周辺装置200は、純水精製装置である場合、紫外線照射手段252のUVランプの交換期限が過ぎると、バクテリアや藻が繁殖し、ワークに異物が付着する恐れがある。このため、制御装置400は、メンテナンスユニットに対応したトラブル情報をメンテナンス情報510に含める機能を有する。
図8は、制御装置400が制御対象装置に出力させるメンテナンス情報510の他の出力例を示す図である。図8に示すメンテナンス情報510は、図6に示したメンテナンス情報510のマニュアル情報514を、トラブル情報516に置き換えた構成となっている。トラブル情報516は、UVランプの交換期限が過ぎた場合のトラブルを示す情報となっている。
制御ユニット420は、メンテナンスユニットのスケジュール及びトラブルを含むメンテナンス情報510を作成し、該メンテナンス情報510を表示するように、動作期間中の周辺装置200を制御する。制御ユニットは、例えば、メンテナンスユニットに対応するトラブル情報516を記憶部410、データベース等から取得し、該トラブル情報516を含むメンテナンス情報510を作成する。制御ユニット420は、作成したメンテナンス情報510の表示を周辺装置200に指示することで、メンテナンス情報510を表示手段270に表示させる。
図8に示す一例では、メンテナンス情報510は、スケジュール情報511と、トラブル情報516と、動作期間情報530とを表示するための情報となっている。スケジュール情報511は、「UVランプ交換期限まであと3日です。」の情報を示している。トラブル情報516は、「注意、交換期限を過ぎて使用すると、バクテリアや藻が繁殖し、ワークに異物が付着する恐れがあります。」の情報を示している。動作期間情報530は、「周辺装置200の起動中」の情報を示している。これにより、制御装置400は、周辺装置200の動作期間中に、トラブル情報516によって交換期限が近いメンテナンスユニットで生じる可能性があるトラブルをオペレータに認識させることができる。
例えば、メンテナンスユニットが第1のイオン交換手段253及び第2のイオン交換手段254である場合、制御装置400は、トラブル事例を示すトラブル情報516をメンテナンス情報510に含めるように構成してもよい。例えば、トラブル情報516は、交換期限を超えて使用した場合、ワーク、チャック、カメラ等に異物が付着する恐れがあることを示す情報を含む。
なお、制御装置400は、例えば、マニュアル情報514及びトラブル情報516を含むメンテナンス情報510を、周辺装置200に出力させるように構成してもよい。
[その他の実施形態]
なお、本発明に係る制御装置400は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、制御装置400は、上述した加工装置100で実現してもよい。
図9は、制御装置400を加工装置100で実現した場合の機能構成の一例を示す図である。例えば、加工装置100は、図9に示すように、上述した切削手段120と、駆動手段170と、センサ手段180と、表示手段190と、制御装置400と、を備える。制御装置400は、切削手段120、駆動手段170、センサ手段180及び表示手段190と電気的に接続されている。なお、図9に示す加工装置100は、本発明に係る構成のみを記載し、他の構成を省略している。
駆動手段170は、チャックテーブル110をX軸方向に移動させるX軸移動手段と、切削手段120をY軸方向に移動させるY軸移動手段(図示せず)と、切削手段120をZ軸方向に移動させるZ軸移動手段と、を備える。制御装置400は、駆動手段170を制御することで、チャックテーブル110と切削手段120とを相対移動させることにより、チャックテーブル110に保持された被加工物300を加工する。
センサ手段180は、切削手段120の切削ブレード121の刃先の状態を検出するセンサである。例えば、センサ手段180は、発光部と受光部とを有し、発光部と受光部の間に切削ブレード121を位置付けたときの光の受光量に基づいて、刃先の状態を示す状態情報520を制御ユニットに供給する。例えば、通知条件は、発光部と受光部との間に切削ブレードを位置づけない状態で光の受光量を測定し、受光量がしきい値を下回る場合は発光部または受光部が劣化しているとしてメンテナンス時期に該当すると判定するための条件とすることができる。なお、センサ手段180は、他のメンテナンスユニットの状態を検出可能な各種センサを用いることができる。
表示手段190は、オペレータが視認可能なように、装置ハウジング210に設けられている。表示手段190は、制御装置400に電気的に接続されており、制御装置400が指示した各種情報を表示する。表示手段190は、例えば、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイなどの表示デバイスを有する。
制御装置400は、加工装置100の各構成をそれぞれ制御して、各動作を加工装置100に実施させるものである。制御装置400は、上述したように、記憶部410と、制御ユニット420と、を備える。
記憶部410は、例えば、メンテナンス情報510、状態情報520、動作期間情報530等を記憶する。メンテナンス情報510は、例えば、加工装置100が有するメンテナンスユニットをメンテナンスするための情報を含む。本実施形態では、メンテナンスユニットは、例えば、切削手段120の切削ブレード121やチャックテーブル110等のオペレータによってメンテナンスが必要な加工装置100の構成を含む。メンテナンス情報510は、加工装置100に対応したスケジュール情報511、履歴情報512、メンテナンス対象情報513、マニュアル情報514等を有する。
状態情報520は、例えば、切削ブレード121の刃先の状態を判定するための情報を含む。状態情報520は、センサ手段180が検出した状態を示す情報を含む。動作期間情報530は、例えば、加工装置100の動作期間を識別可能な情報を含む。動作期間情報530は、例えば、加工装置100の起動中、立ち下げ中、加工動作中等の情報が加工装置100の動作に応じて設定される。
制御ユニット420は、判定部421と、出力制御部422と、を備える。制御ユニット420は、プログラムを実行することにより、判定部421、出力制御部422等の機能部を実現する。
判定部421は、制御対象装置である加工装置100の任意の動作期間において、メンテナンス情報510の通知タイミングであるか否かを判定する機能を提供できる。任意の動作期間は、加工装置100の起動中(立ち上がり中)、立ち下げ中、及び、所定の動作中のうちの少なくとも1つの期間を含む。加工装置100における所定の動作中は、例えば、加工装置100がオートメーションで加工動作を行っている期間である。
判定部421は、加工装置100の動作期間において、センサ手段280から取得した状態情報520が通知条件を満たしている場合に、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定する。すなわち、判定部421は、状態情報520が通知条件を満たしている場合、メンテナンスのスケジュール以前であっても、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定する。また、メンテナンスユニットによっては、日数管理をせず、状態情報520が通知条件を満たしたタイミングを通知タイミングであると判定しても良い。
出力制御部422は、判定部421が通知タイミングであると判定した場合に、メンテナンス情報510を動作期間中の加工装置100に出力させる機能を提供できる。出力制御部422は、メンテナンス情報510を動作期間中の加工装置100がメンテナンス情報510を出力するように、加工装置100を制御する。例えば、出力制御部422は、メンテナンス情報510を動作期間中の加工装置100が表示するように、加工装置100の表示手段190を制御する。例えば、出力制御部422は、メンテナンス情報510を動作期間中の加工装置100が音声で出力するように、加工装置100のスピーカ等を制御してもよい。
出力制御部422は、判定部421が通知タイミングであると判定した場合に、メンテナンス情報510及び動作期間を識別可能な動作期間情報530を、動作期間中の加工装置100に出力させる。これにより、加工装置100は、動作期間中に、メンテナンス情報及び動作期間情報530をオペレータに提示することができる。
制御ユニット420は、上述した図5に示す処理手順を実行し、周辺装置200を加工装置100に置き換えることで、判定部421及び出力制御部422として機能することができる。
以上、本実施形態に係る加工装置100及び制御装置400の構成例について説明した。なお、図9を用いて説明した上記の構成はあくまで一例であり、本実施形態に係る加工装置100及び制御装置400の構成は係る例に限定されない。本実施形態に係る制御装置400の機能構成は、仕様や運用に応じて柔軟に変形可能である。
次に、他の実施形態に係る制御装置400の動作の一例について説明する。以下の説明では、メンテナンスユニットが切削手段120の切削ブレード121であることを前提とする。
制御装置400は、加工装置100が動作期間中である場合、メンテナンス情報510の通知タイミングであるか否かを判定する。制御装置400は、通知タイミングであると判定した場合、切削ブレード121のメンテナンスのスケジュール及びマニュアルを含むメンテナンス情報510を、加工装置100に出力させる。この場合、メンテナンス情報510は、例えば、切削ブレード121の交換スケジュール、交換マニュアル等の情報を含む。これにより、制御装置400は、メンテナンス期限の直前等に、メンテナンスをオペレータに促すことができる。
制御装置400は、加工装置100が動作期間中、かつ、メンテナンス情報510の通知タイミングではない場合、切削ブレード121の状態情報520が通知条件を満たすか否かを判定する。制御装置400は、状態情報520が通知条件を満たすと判定した場合、メンテナンス対象及びマニュアルを含むメンテナンス情報510を、加工装置100に出力させる。この場合、メンテナンス情報510は、例えば、メンテナンス対象の切削ブレード121、交換マニュアル等の情報を含む。これにより、制御装置400は、メンテナンス期限の以前に、切削ブレード121が劣化していることをオペレータに認識させることができる。
以上説明したように、制御装置400は、加工装置100の任意の動作期間において、メンテナンス情報510の通知タイミングであると判定した場合、動作期間中の加工装置100にメンテナンス情報510を出力させることができる。これにより、制御装置400は、加工装置100の動作期間中に、メンテナンス情報510をオペレータに確認させることができる。その結果、制御装置400は、加工装置100の動作期間であり、オペレータの作業を要さない待機時間に、オペレータが加工装置100のメンテナンスを確認できるので、待機時間におけるオペレータの効率化を図ることができる。
他の実施形態では、加工装置100は、切削手段120(加工ユニット)と、駆動手段170と、センサ手段180と、表示手段190と、制御装置400と、を備え、制御装置400は、該加工装置100が有するメンテナンスユニットをメンテナンスするためのメンテナンス情報510を記憶する記憶部410と、該加工装置100の任意の動作期間において、該メンテナンス情報510の通知タイミングであるか否かを判定する判定部421と、該通知タイミングであると判定した場合に、該メンテナンス情報510を出力するように該動作期間中の該加工装置100を制御する出力制御部422と、を備える。
上記の実施形態では、制御装置400は、加工装置100または周辺装置200の制御対象装置に組み込まれる場合について説明したが、これに限定されない。例えば、制御装置400は、制御対象装置の外部から遠隔操作を行う遠隔装置、サーバ等で実現してもよい。また、加工装置100は、切削手段120を有する加工装置を上述したが、レーザー加工装置、研削装置、プラズマ加工装置、バイト切削装置、テープ貼着装置、洗浄装置、検査装置など、その他の半導体処理装置でも良い。
また、上記の実施形態において説明した制御装置400の各構成要素は機能概念的なものであり、必ずしも物理的に図示の如く構成されていることを要しない。すなわち、制御装置400の分散・統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部または一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的または物理的に分散・統合して構成することができる。例えば、制御装置400は、判定部421及び出力制御部422が機能的に統合されたり、組み合わせたりしてもよい。
1 加工システム
100 加工装置
110 チャックテーブル
120 切削手段
121 切削ブレード
170 駆動手段
180 センサ手段
190 表示手段
200 周辺装置
220 廃液収容手段
230 廃液ろ過手段
232 第1のフィルタ
233 第2のフィルタ
240 清水収容手段
250 純水精製手段
253 第1のイオン交換手段
254 第2のイオン交換手段
256 精密フィルタ
270 表示手段
290 純水温度調整手段
300 被加工物
400 制御装置
410 記憶部
420 制御ユニット
421 判定部
422 出力制御部
510 メンテナンス情報
511 スケジュール情報
512 履歴情報
513 メンテナンス対象情報
514 マニュアル情報
520 状態情報
530 動作期間情報

Claims (5)

  1. 加工装置または該加工装置に接続される周辺装置である制御対象装置を制御する制御装置であって、
    該制御対象装置が有するメンテナンスユニットをメンテナンスするためのメンテナンス情報を記憶する記憶部と、
    該制御対象装置の任意の動作期間において、該メンテナンス情報の通知タイミングであるか否かを判定する判定部と、
    該通知タイミングであると判定した場合に、該メンテナンス情報を出力するように該動作期間中の該制御対象装置を制御する出力制御部と、
    を備えることを特徴とする制御装置。
  2. 該記憶部は、該メンテナンスユニットのメンテナンスを実施した履歴情報を記憶し、
    該判定部は、該履歴情報が示す該メンテナンスユニットのメンテナンスを実施してから所定の期間が経過した場合に、該メンテナンス情報の通知タイミングであると判定することを特徴とする請求項1に記載の制御装置。
  3. 該制御対象装置は、該メンテナンスユニットの状態情報を検出するセンサ手段を備え、
    該判定部は、該制御対象装置の該動作期間において、該センサ手段から取得した該状態情報が通知条件を満たしている場合に、該メンテナンス情報の通知タイミングであると判定することを特徴とする請求項1または2に記載の制御装置。
  4. 該任意の動作期間は、該制御対象装置の起動中、立ち下げ中、及び、所定の動作中のうちの少なくとも1つの期間であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の制御装置。
  5. 該出力制御部は、該通知タイミングであると判定した場合に、該メンテナンス情報及び前記動作期間を識別可能な動作期間情報を出力するように、該動作期間中の該制御対象装置を制御することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の制御装置。
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