JP2022104576A - 液供給ユニット及び液供給方法 - Google Patents

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Abstract

Figure 2022104576000001
【課題】液が液供給ユニット内で沸騰することを防止する液供給ユニット及び液供給方法を提供する。
【解決手段】本発明は液供給ユニットを提供する。一例で、液供給ユニットは、液を貯蔵する内部空間を有するタンクと、液供給源から内部空間に液を供給し、インレットバルブが設置されるインレットラインと、タンクからノズルに液を供給するか、又はタンクに液を回収し、アウトレットバルブが設置されるアウトレットラインと、内部空間にガスを供給し、ガス調節バルブが設置されるガス供給ラインと、内部空間を排気し、排気バルブが設置される排気ラインと、内部空間に貯蔵された液を循環させる循環ラインと、制御器と、を含み、制御器は、内部空間に液が供給される間に循環ラインが加圧されるようにすることができる。
【選択図】図３

Description

本発明は被処理体に液を供給する液供給ユニット及びこれを利用して液を供給する方法に関する。
基板表面に残留するパーティクル（Ｐａｒｔｉｃｌｅ）、有機汚染物、そして金属汚染物等の汚染物質は半導体素子の特性と生産収率に多くの影響を及ぶ。このため、基板表面に付着された各種汚染物質を除去する洗浄工程が半導体製造工程で非常に重要であり、半導体を製造する各単位工程の前後段階で基板を洗浄処理する工程が実施されている。
一般的に基板の洗浄工程はケミカルを利用して基板上に残留する金属異物質、有機物質、又はパーティクル等を除去するケミカル処理工程、純水を利用して基板上に残留するケミカルを除去するリンス工程、そして窒素ガスや超臨界流体等を利用して基板を乾燥する乾燥工程を含む。
ケミカル処理工程で液供給ユニットはノズルユニットに液を提供する。一般的に液供給ユニットは液を貯蔵するタンクと、タンクの内部空間からノズルユニットに液を提供する供給ライン、基板を処理した後にタンクの内部空間に液を回収する回収ライン等を含む。液供給が停止されることを防止するためにタンクは２つ以上が提供され、各タンクに貯蔵された液は各タンクに連結された排水ラインによって排出される。
例えば、液供給ユニットはノズルユニットに既設定された温度の液を供給する。工程に応じて液を高温に提供するために各ラインにはヒーターが提供される。一般的に、ヒーターの吐出端に温度センサーが提供される。温度センサーが測定した液の温度に基づいて液を既設定された温度に加熱する。しかし、ヒーターが前記液の接触面の温度を考慮しなく、液を加熱するので、ヒーターと液の接触部位で液が加熱されてバブルを形成する。このようなバブルはその後に基板を処理する過程で、基板上にパーティクルを形成する問題がある。
国際特許公開第ＷＯ２０１６１２１７０４Ａ１号公報
本発明の一目的は、液が液供給ユニット内で沸騰することを防止する液供給ユニット及び液供給方法を提供することにある。
本発明の一目的はパーティクル発生を最小化する液供給ユニット及び液供給方法提供することにある。
本発明が解決しようとする課題が上述した課題に限定されることはなく、言及されなかった課題は本明細書及び添付された図面から本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるべきである。
本発明は液供給ユニットを提供する。一例で、液供給ユニットは、液を貯蔵する内部空間を有するタンクと、液供給源から内部空間に液を供給し、インレットバルブが設置されるインレットラインと、タンクからノズルに液を供給するか、又はタンクに液を回収し、アウトレットバルブが設置されるアウトレットラインと、内部空間にガスを供給し、ガス調節バルブが設置されるガス供給ラインと、内部空間を排気し、排気バルブが設置される排気ラインと、内部空間に貯蔵された液を循環させる循環ラインと、制御器と、を含み、制御器は、内部空間に液が供給される間に循環ラインが加圧されるようにすることができる。
一例で、制御器は、内部空間に液が供給される間に内部空間が加圧されるようにガス調節バルブと排気バルブを制御することができる。
一例で、制御器は、内部空間に液が供給される間に、内部空間にガスを供給し、排気バルブは閉鎖されるようにガス調節バルブと排気バルブを制御することができる。
一例で、循環ラインには、第１ポンプと、循環ライン内の液を加熱する第１ヒーターと、第１ヒーターの後段に提供された圧力提供部材と、をさらに含み、圧力提供部材を通過するための液の圧力は第１ヒーターを通過するための液の圧力より大きく提供されることができる。
一例で、圧力提供部材は第１レギュレータに提供され、循環ラインは、第１レギュレータの前段に設置されて循環ライン内の液の圧力を測定する第１圧力センサーが設置され、第１レギュレータは、循環ライン内で液の圧力が既設定された圧力以上である場合、開放されて液の流れを許容することができる。
一例で、第１ヒーターには第１ヒーターと液の接触面温度を測定する第１温度センサーが設置され、第１温度センサーが測定した第１ヒーターと液の接触面温度が、既設定された圧力に応じる液の沸点を超過しないように第１ヒーターを制御することができる。
一例で、制御器は、循環ライン内で液の圧力が既設定された圧力以上である場合、内部空間を排気するように排気バルブを制御することができる。
一例で、アウトレットラインには、第２ポンプと、アウトレットライン内の液を加熱する第２ヒーターと、アウトレットライン内で前段の圧力が既設定された圧力以上である場合、開放されて液の流れを許容する第２レギュレータと、第２レギュレータの前段に設置されてアウトレットライン内の液の圧力を測定する第２圧力センサーが設置されることができる。
一例で、第２ヒーターと第２レギュレータとの間でアウトレットラインから分岐され、ノズルと連結される供給ラインをさらに含むことができる。
一例で、第２ヒーターには第２ヒーターと液の接触面温度を測定する第２温度センサーが設置され、制御器は、第２温度センサーが測定した第２ヒーターと液の接触面温度が、既設定された圧力に応じる液の沸点を超過しないように第２ヒーターを制御することができる。
一例で、タンクは、第１タンクと第２タンクを含み、循環ラインは第１タンクそして第２タンクに連結され、制御器は、第２タンクからアウトレットラインを通じてノズルに液を供給する間に、インレットラインを通じて第１タンク内に液を供給し、第１タンクの内部空間の液が循環ラインを通じて循環されるように制御することができる。
また、本発明は液供給方法を提供する。一例で、液供給方法は、第１タンク又は第２タンクの中でいずれか１つの内部空間に液を供給する間に他の１つの内部空間の液を循環させる循環ラインを加圧することができる。
一例で、内部空間に液が供給される間に、内部空間にガスを供給し、内部空間の排気が行われないようにすることができる。
一例で、循環ラインは、循環ライン内液を加熱するヒーターと、ヒーターの後段に提供された圧力提供部材が提供され、圧力提供部材を通過するための液の圧力は第１ヒーターを通過するための液の圧力より大きく提供されることができる。
一例で、循環ライン内の圧力が既設定された圧力以上になった場合、内部空間を排気することができる。
一例で、ヒーターと液の接触面の温度は、既設定された圧力に応じる液の沸点を超過しないように提供されることができる。
また、基板処理方法は、第２タンクの内部空間からノズルに液を供給する間に第１タンクの内部空間に液を供給して第１タンクの液供給を準備し、液供給が遂行される間に第１タンク内の液は循環ラインを通じて循環され、循環ラインが加圧されることができる。
一例で、第１タンクの内部空間に液が供給される間に、第１タンクの内部空間にガスを供給し、第１タンクの内部空間の排気が行われないようにすることができる。
一例で、循環ライン内の液の圧力が既設定された圧力以上になった場合、循環ライン内で液の流れを許容することができる。
一例で、循環ラインにはヒーターが提供され、ヒーターと液の接触面の温度は、既設定された圧力に応じる液の沸点を超過しないように提供されることができる。
本発明の一実施形態によれば、液が液供給ユニット内で沸騰することを防止することができる。
本発明の一実施形態によれば、パーティクル発生を最小化することができる。
本発明の効果が上述した効果によって限定されることはなく、言及されなかった効果は本明細書及び添付された図面から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されることができる。
本発明の一実施形態による基板処理装置が提供された基板処理設備の一例を概略的に示す正面図である。 図１の工程チャンバーに提供された基板処理装置の一例を示す断面図である。 本発明の液供給ユニットを示す図面である。 本発明の一実施形態に係る液供給方法の順序図を示す図面である。 本発明の一実施形態に係る液供給ユニットを利用して液を供給する方法を順次的に示す図面である。 本発明の一実施形態に係る液供給ユニットを利用して液を供給する方法を順次的に示す図面である。 本発明の一実施形態に係る液供給ユニットを利用して液を供給する方法を順次的に示す図面である。 本発明の一実施形態に係る液供給ユニットを利用して液を供給する方法を順次的に示す図面である。 本発明の一実施形態に係る液供給ユニットを利用して液を供給する方法を順次的に示す図面である。 本発明の他の実施形態に係る液供給方法の順序図を示す図面である。 本発明の他の実施形態に係る液供給ユニットを利用して液を供給する方法を順次的に示す図面である。 本発明の他の実施形態に係る液供給ユニットを利用して液を供給する方法を順次的に示す図面である。
以下、本発明の実施形態を添付された図面を参照してさらに詳細に説明する。本発明の実施形態は様々な形態に変形することができ、本発明の範囲が以下の実施形態に限定されることとして解釈されてはならない。本実施形態は当業界で平均的な知識を有する者に本発明をさらに完全に説明するために提供されることである。したがって、図面での要素の形状はより明確な説明を強調するために誇張されている。
図１は本発明の基板処理設備１を概略的に示した平面図である。図１を参照すれば、基板処理設備１はインデックスモジュール１０と工程処理モジュール２０を有し、インデックスモジュール１０はロードポート１２０及び移送フレーム１４０を有する。ロードポート１２０、移送フレーム１４０、及び工程処理モジュール２０は順次的に一列に配列される。以下、ロードポート１２０、移送フレーム１４０、そして工程処理モジュール２０が配列された方向を第１方向１２とする。そして、上部から見る時、第１方向１２と垂直になる方向を第２方向１４とし、第１方向１２と第２方向１４を含む平面に垂直である方向を第３方向１６とする。
ロードポート１４０には基板Ｗが収納されたキャリヤー１３０が安着される。ロードポート１２０は複数に提供され、これらは第２方向１４に沿って一列に配置される。図１では４つのロードポート１２０が提供されたことと図示した。しかし、ロードポート１２０の数は工程処理モジュール２０の工程効率及びフットプリント等の条件に応じて増加するか、又は減少してもよい。キャリヤー１３０には基板の縁を支持するように提供されたスロット（図示せず）が形成される。スロットは第３方向１６に複数が提供され、基板は第３方向１６に沿って互いに離隔された状態に積層されるようにキャリヤー内に位置される。キャリヤー１３０としては前面開放一体型ポッド（Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｅｄ Ｐｏｄ；ＦＯＵＰ）が使用されることができる。
工程処理モジュール２０はバッファユニット２２０、移送チャンバー２４０、そして工程チャンバー２６０を有する。移送チャンバー２４０はその長さ方向が第１方向１２と平行に配置される。第２方向１４に沿って移送チャンバー２４０の一側及び他側には各々工程チャンバー２６０が配置される。移送チャンバー２４０の一側に位置した工程チャンバー２６０と移送チャンバー２４０の他側に位置した工程チャンバー２６０は移送チャンバー２４０を基準に互いに対称になるように提供される。工程チャンバー２６０の中で一部は移送チャンバー２４０の長さ方向に沿って配置される。また、工程チャンバー２６０の中で一部は互いに積層されるように配置される。
即ち、移送チャンバー２４０の一側には工程チャンバー２６０がＡＸＢ（ＡとＢは各々１以上の自然数）の配列に配置されることができる。ここで、Ａは第１方向１２に沿って一列に提供された工程チャンバー２６０の数であり、Ｂは第３方向１６に沿って一列に提供された工程チャンバー２６０の数である。移送チャンバー２４０の一側に工程チャンバー２６０が４つ又は６つ提供される場合、工程チャンバー２６０は２Ｘ２又は３Ｘ２の配列に配置されることができる。工程チャンバー２６０の数は増加するか、或いは減少してもよい。上述したことと異なりに、工程チャンバー２６０は移送チャンバー２４０の一側のみに提供されることができる。また、上述したことと異なりに、工程チャンバー２６０は移送チャンバー２４０の一側及び両側に単層に提供されることができる。
バッファユニット２２０は移送フレーム１４０と移送チャンバー２４０との間に配置される。バッファユニット２２０は移送チャンバー２４０と移送フレーム１４０との間に基板Ｗが搬送される前に基板Ｗが留まる空間を提供する。バッファユニット２２０はその内部に基板Ｗが置かれるスロット（図示せず）が提供され、スロット（図示せず）は相互間に第３方向１６に沿って離隔されるように複数に提供される。バッファユニット２２０で移送フレーム１４０と対向する面と移送チャンバー２４０と対向する面の各々が開放される。
移送フレーム１４０はロードポート１２０に安着されたキャリヤー１３０とバッファユニット２２０との間に基板Ｗを搬送する。移送フレーム１４０にはインデックスレール１４２とインデックスロボット１４４が提供される。インデックスレール１４２はその長さ方向が第２方向１４と並んで提供される。インデックスロボット１４４はインデックスレール１４２上に設置され、インデックスレール１４２に沿って第２方向１４に直線移動される。
インデックスロボット１４４はベース１４４ａ、本体１４４ｂ、及びインデックスアーム１４４ｃを有する。ベース１４４ａはインデックスレール１４２に沿って移動可能するように設置される。本体１４４ｂはベース１４４ａに結合される。本体１４４ｂはベース１４４ａ上で第３方向１６に沿って移動可能するように提供される。また、本体１４４ｂはベース１４４ａ上で回転可能するように提供される。インデックスアーム１４４ｃは本体１４４ｂに結合され、本体１４４ｂに対して前進及び後進移動可能するように提供される。インデックスアーム１４４ｃは複数に提供されて各々個別に駆動されるように提供される。インデックスアーム１４４ｃは第３方向１６に沿って互いに離隔された状態に積層されるように配置される。インデックスアーム１４４ｃの中で一部は工程処理モジュール２０でキャリヤー１３０に基板Ｗを搬送する時に使用され、他の一部はキャリヤー１３０で工程処理モジュール２０に基板Ｗを搬送する時に使用されることができる。これはインデックスロボット１４４が基板Ｗを搬入及び搬出する過程で工程処理前の基板Ｗから発生されたパーティクルが工程処理後の基板Ｗに付着されることを防止することができる。
移送チャンバー２４０はバッファユニット２２０と工程チャンバー２６０との間に、そして工程チャンバー２６０の間に基板Ｗを搬送する。移送チャンバー２４０にはガイドレール２４２とメーンロボット２４４が提供される。ガイドレール２４２はその長さ方向が第１方向１２と並んで配置される。メーンロボット２４４はガイドレール２４２上に設置され、ガイドレール２４２上で第１方向１２に沿って直線移動される。メーンロボット２４４はベース２４４ａ、本体２４４ｂ、及びメーンアーム２４４ｃを有する。ベース２４４ａはガイドレール２４２に沿って移動可能するように設置される。本体２４４ｂはベース２４４ａに結合される。本体２４４ｂはベース２４４ａ上で第３方向１６に沿って移動可能するように提供される。また、本体２４４ｂはベース２４４ａ上で回転可能するように提供される。メーンアーム２４４ｃは本体２４４ｂに結合され、これは本体２４４ｂに対して前進及び後進移動可能するように提供される。メーンアーム２４４ｃは複数に提供されて各々個別駆動されるように提供される。メーンアーム２４４ｃは第３方向１６に沿って互いに離隔された状態に積層されるように配置される。バッファユニット２２０から工程チャンバー２６０に基板を搬送する時に使用されるメーンアーム２４４ｃと工程チャンバー２６０からバッファユニット２２０に基板を搬送する時に使用されるメーンアーム２４４ｃは互いに異なることができる。
工程チャンバー２６０内には基板Ｗに対して洗浄工程を遂行する基板処理装置３００が提供される。各々の工程チャンバー２６０内に提供された基板処理装置３００は遂行する洗浄工程の種類に応じて異なる構造を有することができる。選択的に、各々の工程チャンバー２６０内の基板処理装置３００は同一な構造を有することができる。選択的に、工程チャンバー２６０は複数のグループに区分されて、同一なグループに属する工程チャンバー２６０に提供された基板処理装置３００は互いに同一な構造を有し、異なるグループに属する工程チャンバー２６０に提供された基板処理装置３００は互いに異なる構造を有することができる。
例えば、工程チャンバー２６０が２つのグループに分けられる場合、移送チャンバー２４０の一側には第１グループの工程チャンバー２６０が提供され、移送チャンバー２４０の他側には第２グループの工程チャンバー２６０が提供されることができる。選択的に、移送チャンバー２４０の一側及び他側の各々で下層には第１グループの工程チャンバー２６０が提供され、上層には第２グループの工程チャンバー２６０が提供されることができる。第１グループの工程チャンバー２６０と第２グループの工程チャンバー２６０は各々使用されるケミカルの種類や、洗浄方式の種類に応じて区分されることができる。
以下では処理液を利用して基板Ｗを洗浄する基板処理装置３００の一例を説明する。図２は基板処理装置３００の一例を示す断面図である。図２を参照すれば、基板処理装置３００はハウジング３２０、支持ユニット３４０、昇降ユニット３６０、ノズルユニット３８０、そして液供給ユニット４００を有する。
ハウジング３２０は基板処理工程が遂行される空間を提供し、その上部は開放される。ハウジング３２０は内部回収筒３２２、中間回収筒３２４、そして外部回収筒３２６を有する。各々の回収筒３２２、３２４、３２６は工程に使用された処理液の中で互いに異なる処理液を回収する。内部回収筒３２２は支持ユニット３４０を囲む環状のリング形状に提供され、中間回収筒３２４は内部回収筒３２２を囲む環状のリング形状に提供され、外部回収筒３２６は中間回収筒３２４を囲む環状のリング形状に提供される。内部回収筒３２２の内側空間３２２ａ、内部回収筒３２２と中間回収筒３２４との間の空間３２４ａ、そして中間回収筒３２４と外部回収筒３２６との間の空間３２６ａは各々内部回収筒３２２、中間回収筒３２４、そして外部回収筒３２６に処理液が流入される流入口として機能する。各々の回収筒３２２、３２４、３２６にはその底面下方向に垂直に延長される回収ライン３２２ｂ、３２４ｂ、３２６ｂが連結される。各々の回収ライン３２２ｂ、３２４ｂ、３２６ｂは各々の回収筒３２２、３２４、３２６を通じて流入された処理液を排出する。排出された処理液は外部の処理液再生システム（図示せず）を通じて再使用されることができる。
支持ユニット３４０はハウジング３２０内に配置される。支持ユニット３４０は工程進行の中で基板を支持し、基板を回転させる。支持ユニット３４０は本体３４２、支持ピン３３４、チョクピン３４６、そして支持軸３４８を有する。本体３４２は上部から見る時、大体に円形に提供される上部面を有する。本体３４２の底面にはモーター３４９によって回転可能な支持軸３４８が固定結合される。支持ピン３３４は複数が提供される。支持ピン３３４は本体３４２の上部面の縁部に所定の間隔に離隔されるように配置され、本体３４２から上部に突出される。支持ピン３４４は相互間に組合によって全体的に環状のリング形状を有するように配置される。支持ピン３３４は本体３４２の上部面から基板が一定距離離隔されるように基板の背面縁を支持する。チャックピン３４６は複数が提供される。チョクピン３４６は本体３４２の中心で支持ピン３３４より遠く離れるように配置される。チャックピン３４６は本体３４２から上部に突出されるように提供される。チョクピン３４６はスピンヘッド３４０が回転される時、基板が正位置から側方向に離脱されないように基板の側部を支持する。チャックピン３４６は本体３４２の半径方向に沿って待機位置と支持位置との間に直線移動可能するように提供される。待機位置は支持位置に比べて本体３４２の中心から遠く離れた位置である。基板がスピンヘッド３４０にローディング又はアンローディングの時にはチョクピン３４６は待機位置に位置され、基板に対して工程遂行の時にはチョクピン３４６は支持位置に位置される。支持位置でチョクピン３４６は基板の側部と接触される。
昇降ユニット３６０はハウジング３２０を上下方向に直線移動させる。ハウジング３２０が上下に移動されることによって支持ユニット３４０に対するハウジング３２０の相対高さが変更される。昇降ユニット３６０はブラケット３６２、移動軸３６４、そして駆動器３６６を有する。ブラケット３６２はハウジング３２０の外壁に固定設置され、ブラケット３６２には駆動器３６６によって上下方向に移動される移動軸３６４が固定結合される。基板Ｗが支持ユニット３４０に置かれるか、或いは支持ユニット３４０から持ち上げられる時、支持ユニット３４０がハウジング３２０の上部に突出されるようにハウジング３２０は下降される。また、工程が進行される時には基板Ｗに供給された処理液の種類に応じて処理液が既設定された回収筒３６０に流入されるようにハウジング３２０の高さが調節する。例えば、第１処理液で基板を処理している間に基板は内部回収筒３２２の内側空間３２２ａと対応される高さに位置される。また、第２処理液、そして第３処理液で基板を処理する間に各々の基板は内部回収筒３２２と中間回収筒３２４の間空間３２４ａ、そして中間回収筒３２４と外部回収筒３２６の間の空間３２６ａに対応される高さに位置されることができる。上述したことと異なりに昇降ユニット３６０はハウジング３２０の代わりにスピンヘッド３４０を上下方向に移動させることができる。
ノズルユニット３８０は基板処理工程の時基板Ｗに処理液を供給する。ノズルユニット３８０はノズル支持台３８２、ノズル３８４、支持軸３８６、そして駆動器３８８を有する。支持軸３８６はその横方向が第３方向１６に沿って提供され、支持軸３８６の下端には駆動器３８８が結合される。駆動器３８８は支持軸３８６を回転及び昇降運動させる。ノズル支持台３８２は駆動器３８８と結合された支持軸３８６の終端反対側と垂直に結合される。ノズル３８４はノズル支持台３８２の終端底面に設置される。ノズル３８４は駆動器３８８によって工程位置と待機位置に移動される。工程位置はノズル３８４がハウジング３２０の垂直上部に配置された位置であり、待機位置はノズル３８４がハウジング３２０の垂直上部からずれた位置である。
ノズルユニット３８０は１つ又は複数が提供されることができる。ノズルユニット３８０が複数が提供される場合、ケミカル、リンス液、又は有機溶剤は互いに異なるノズルユニット３８０を通じて提供されることができる。一例で、ケミカルはフッ酸、硫酸、硝酸、リン酸等のような酸性溶液であるか、或いは水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、アンモニウム等を含有するアルカリ性溶液であり得る。リンス液は純水であり、有機溶剤はイソプロピルアルコール蒸気と非活性ガスの混合物であるか、或いはイソプロピルアルコールであり得る。
液供給ユニット４１００はノズルユニット３８０に液を供給する。図３は本発明の液供給ユニット４１００を示す図面である。図３を参照すれば、液供給ユニット４１００は液供給源４１１０、第１タンク４１２０、第２タンク４１３０、インレットライン４１３６、４１３５、ガス供給ライン４１２９、４１３９、排気ライン４１１２、４１１４、アウトレットライン４１５０、ドレーンライン４１８１、４１８２、循環ライン４１６０、そして供給ライン４１９０を含む。
液供給源４１１０は工程に使用される液を貯蔵し、第１タンク４１２０又は第２タンク４１３０に液を供給する。一例で、液はイソプロピルアルコールであり得る。選択的に、液はこれと異なる種類のケミカル、有機溶剤等で提供されることができる。
第１タンク４１２０と第２タンク４１３０は大体に同一な構造を有する。第１タンク４１２０と第２タンク４１３０は液を貯蔵する。第１タンク４１２０と第２タンク４１３０との中でいずれか１つで被処理体５０００に液を供給する間には、他の１つでは液交換を遂行する。一例で、被処理体５０００は複数の工程チャンバー内で処理される基板である。例えば、被処理体５０００はの中でいずれか１つは図２に図示された基板Ｗである。一例で、第１タンク４１２０と第２タンク４１３０の内部にはセンサー（図示せず）が装着される。センサー（図示せず）は各タンクの内部空間に貯蔵された液の残余量を検出する。
第１タンク４１２０と第２タンク４１３０は単一の液供給源４１１０から供給された１つの液を貯蔵することができる。選択的に、第１タンク４１２０と第２タンク４１３０には別の液供給源４１１０から供給された第１液と第２液が混合されて貯蔵されることができる。
インレットライン４１３６、４１３５は第１インレットライン４１３６と第２インレットライン４１３５を有することができる。第１インレットライン４１３６は液供給源４１１０を第１タンク４１２０と連結する。第１インレットライン４１３６には第１インレットバルブ４１２２が設置されて液供給源４１１０から第１タンク４１２０に供給される液の供給の可否及び供給流量を調節する。第２インレットライン４１３５は液供給源４１１０を第２タンク４１３０に連結する。第２インレットライン４１３５には第２インレットバルブ４１３２が設置されて液供給源４１１０から第２タンク４１３０に供給される液の供給の可否及び供給流量を調節する。
ガス供給ライン４１２９、４１３９は各タンク４１２０、４１３０内にガスを供給する。一例で、ガス供給ライン４１２９、４１３９は第１ガス供給ライン４１２９と第２ガス供給ライン４１３９を含む。第１ガス供給ライン４１２９は第１タンク４１２０内にガスを供給し、第２ガス供給ライン４１３９は第２タンク４１３０内にガスを供給する。第１ガス供給ライン４１２９には第１ガスバルブ４１２８が設置される。第１ガスバルブ４１２８は第１タンク４１２０に供給されるガスの供給の可否及び供給流量を調節する。第２ガス供給ライン４１３９には第２ガスバルブ４１３８が設置される。第２ガスバルブ４１３８は第２タンク４１３０に供給されるガスの供給の可否及び供給流量を調節する。ガスは、各タンク４１２０、４１３０内に貯蔵された液が揺れるか、或いは揮発されることを防止する。一例で、ガスは非活性ガスで提供される。例えば、ガスは窒素である。
排気ライン４１１２、４１１４は各タンク４１２０、４１３０の内部空間を排気する。一例で、排気ライン４１１２、４１１４は第１排気ライン４１１２と第２排気ライン４１１４を含む。第１排気ライン４１１２は第１タンク４１２０の内部空間を排気する。第２排気ライン４１１４は第２タンク４１３０の内部空間を排気する。第１排気ライン４１１２には第１排気バルブ４１１３が設置される。第１排気バルブ４１１３は第１タンク４１２０の内部空間の排気の可否及び排気流量を調節する。第２排気ライン４１１４には第２排気バルブ４１１６が設置される。第２排気バルブ４１１６は第２タンク４１３０の内部空間の排気の可否及び排気流量を調節する。
アウトレットラインは４１５０、第１タンク４１２０と第２タンク４１３０を供給ライン４１９０に連結する。また、アウトレットライン４１５０は第１タンク４１２０と第２タンク４１３０の各々から排出された液を再び第１タンク４１２０と第２タンク４１３０の各々に回収する。以下、アウトレットライン４１５０で第１タンク４１２０と第２タンク４１３０の各々から排出された液を再び第１タンク４１２０と第２タンク４１３０に回収する領域を回収ライン４１７０であると称する。
供給ライン４１９０は被処理体５０００に液を供給する。アウトレットラインは４１５０、第１アウトレットライン４１５１と第２アウトレットライン４１５２を有する。第１アウトレットライン４１５１は第１タンク４１２０を供給ライン４１９０に連結する。第１アウトレットライン４１５１には第１アウトレットバルブ４１２６が設置されて第１タンク４１２０から供給ライン４１９０に供給される液の流量を調節する。第２アウトレットライン４１５２は第２タンク４１３０を供給ライン４１９０に連結する。第２アウトレットライン４１５２には第２アウトレットバルブ４１３６が設置されて第２タンク４２３０から供給ライン４１９０に供給される液の供給の可否及び供給流量を調節する。
ドレーンライン４１８１、４１８２は、第１ドレーンライン４１８１と第２ドレーンライン４１８２を含む。第１ドレーンライン４１８１は第１タンク４１２０を排水する。第１ドレーンライン４１８１には第１ドレーンバルブ４１８５が設置されて第１タンク４１２０から排水される液の排水の可否及び排水流量を調節する。第２ドレーンライン４１８２は第２タンク４１３０を排水する。第２ドレーンライン４１８２には第２ドレーンバルブ４１８７が設置されて第２タンク４１３０から排水される液の排水の可否及び排水流量を調節する。
回収ライン４１７０は、アウトレットライン４１５０内の液の圧力が既設定された圧力以上である場合、液が供給ライン４１９０に供給されなく、各タンク４１２０、４１３０に回収されるようにする。回収ライン４１７０は、液を供給ライン４１９０から第１タンク４１２０又は第２タンク４１３０の各々の内部空間に回収する。回収ライン４１７０は、第１回収ライン４１７１と第２回収ライン４１７２を有する。第１回収ライン４１７１は第１タンク４１２０に液を回収する。第１回収ライン４１７１には第１回収バルブ４１２３が設置されて供給ライン４１９０から第１タンク４１２０に回収される液の回収の可否と回収流量を調節する。第２回収ライン４１７２は第２タンク４１３０に液を回収する。第２回収ライン４１７２には第２回収バルブ４１３８が設置されて供給ライン４１９０から第２タンク４１３０に回収される液の回収の可否と回収流量を調節する。
一例で、アウトレットライン４１５０には、第２ポンプ４１７７、第２ヒーター４１７５、第２圧力センサー４１７０１、そして圧力提供部材４１７３が提供される。一例で、第２ポンプ４１７７、第２ヒーター４１７５、第２圧力センサー４１７０１、そして圧力提供部材４１７３は各タンク４１２０、４１３０を基準に上流から下流方向に順次的に設置される。一例で、第２ポンプ４１７７は分当たりストロークを制御して液の供給流量を調節する。第２ヒーター４１７５はアウトレットライン４１５０を流れる液を加熱する。第２圧力センサー４１７０１はアウトレットライン４１５０内の液の圧力を測定する。
圧力提供部材４１７３は第２ヒーター４１７５の後段に提供され、圧力提供部材４１７３を通過するために液の圧力が高く提供されるようにする。例えば、圧力提供部材４１７３は液が流れる配管内で液の流れに対する抵抗を発生させる部材である。一例で、圧力提供部材４１７３は逆圧力レギュレータ（ｂａｃｋ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｒｅｇｕｌａｔｏｒ）、フィルターの中でいずれかの１つで提供されることができる。選択的に、圧力提供部材４１７３はアウトレットライン４１５０をなす配管の直径より小さい直径を有する配管で提供されることができる。したがって、圧力提供部材４１７３を通過するために高い圧力が必要するようにする。以下、圧力提供部材４１７３は逆圧力レギュレータである第２レギュレータ４１７３で提供されることと説明する。しかし、これと異なりに、圧力提供部材４１７３はアウトレットライン４１５０上で、圧力提供部材４１７３を通過するためには液の圧力が高く提供されなければならない他の部材で提供されることができる。
第２レギュレータ４１７３は第２圧力センサー４１７０１が測定した圧力に基づいてアウトレットライン４１５０内の液の圧力を調節する。一例で、第２レギュレータ４１７３は逆圧力レギュレータ（ｂａｃｋ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｒｅｇｕｌａｔｏｒ）で提供される。例えば、第２レギュレータ４１７３は前段の圧力が既設定された圧力を超過する場合、開放されて液が流れるようにするバルブのような方式に作動されることができる。したがって、第２レギュレータ４１７３の前段の圧力は既設定された圧力を超過しない。第２ヒーター４１７５には第２温度センサー４１７５１が設置される。一例で、第２温度センサー４１７５１は第２ヒーター４１７５と循環ライン内の液が接触する接触面に設置されることができる。例えば、第２温度センサー４１７５１は第２ヒーター４１７５の表面に設置されることができる。一例で、第２圧力センサー４１７０１と第２レギュレータ４１７３との間で供給ライン４１９０がアウトレットライン４１５０と連結される。したがって、アウトレットライン４１５０を流れる液の圧力が既設定された圧力に到達する時まで液は回収ライン４１７０に流れなく、供給ライン４１９０に流れることができる。
循環ライン４１６０は、第１タンク４１２０と第２タンク４１３０の内部空間に貯蔵された液を循環させる。循環ライン４１６０は第１ライン４１６１、第２ライン４１６２、第３ライン４１６３、第４ライン４１６４、そして共有ライン４１６５を有する。
共有ライン４１６５は第１ライン４１６１、第２ライン４１６２、第３ライン４１６３、そして第４ライン４１６４を全て連結する。共有ライン４１６５を通過した液は第１ライン４１６１を通じて第１タンク４１２０に再び流入されるか、或いは第２ライン４１６２を通じて第２タンク４１３０に再び流入される。同様に、第１タンク４１２０の内部空間に貯蔵された液は第１ライン４１６１、共有ライン４１６５、そして第３ライン４１６３を通じて循環する。第２タンク４１３０の液は第２ライン４１６２、共有ライン４１６５、そして第４ライン４１６４を通じて循環する。
共有ライン４１６５には、第１ポンプ４１６７と第１ヒーター４１７４、第１圧力センサー４１６５１、そして圧力提供部材４１６６が設置される。一例で、第１ポンプ４１６７と第１ヒーター４１７４、第１圧力センサー４１６５１、そして圧力提供部材４１６６は各タンク４１２０、４１３０を基準に上流から下流方向に順次的に設置される。
一例で、第１ポンプ４１６７は分当たりストロークを制御して液の供給流量を調節する。第１ヒーター４１７４は循環ライン４１６０を流れる液を加熱する。第１圧力センサー４１６５１は共有ライン４１６５を流れる液の圧力を測定する。
圧力提供部材４１６６はヒーター４１７４の後段に提供され、圧力提供部材４１６６を通過するための液の圧力が第１ヒーター４１７４を通過するための液の圧力より高く提供されるようにする。例えば、圧力提供部材４１７３は液が流れる配管内で液の流れに対する抵抗を発生させる部材である。一例で、圧力提供部材４１６６は逆圧力レギュレータ（ｂａｃｋ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｒｅｇｕｌａｔｏｒ）、フィルターの中でいずれか１つで提供されることができる。選択的に、圧力提供部材４１６６は共有ライン４１６５をなす配管の直径より小さい直径を有する配管で提供されることができる。したがって、圧力提供部材４１６６を通過するためには液の圧力が高くならなければならない。以下、圧力提供部材４１６６は逆圧力レギュレータである第１レギュレータ４１６６で提供されることと説明する。しかし、これと異なりに圧力提供部材４１６６は共有ライン４１６５上で、圧力提供部材４１６６を通過する液の圧力を増加させることができる他の部材で提供されることができる。第１レギュレータ４１６６は第１圧力センサー４１６５１が測定した圧力に基づいて共有ライン４１６５内の液の圧力を調節する。例えば、第１レギュレータ４１６６は前段の圧力が既設定された圧力を超過する場合、開放されて液が流れるようにするバルブのような方式に作動されることができる。したがって、第１レギュレータ４１６６の前段の圧力は既設定された圧力を超過しない。第１ヒーター４１７４には第１温度センサー４１７４１が設置される。一例で、第１温度センサー４１７４１は第１ヒーター４１７４と循環ライン４１６０内の液が接触する接触面に設置されることができる。例えば、第１温度センサー４１７４１は第１ヒーター４１７４の表面に設置されることができる。
第１ライン４１６１は第１タンク４１２０の上面に連結される。第１ヒーター４１７４と第１第１ポンプ４１６７を経由した液は第１ライン４１６１を通じて第１タンク４１２０に流入される。第１ライン４１６１には第１バルブ４１２４が設置されて共有ライン４１６５から第１タンク４１２０に流入される液の流入の可否及び流入流量を調節する。第２ライン４１６２は第２タンク４１３０の上面に連結される。第１ヒーター４１７４と第１ポンプ４１６７を経由した液は第２ライン４１６２を通じて第２タンク４１３０に流入される。第２ライン４１６２には第２バルブ４１３４が設置されて共有ライン４１６５から第２タンク４１３０に流入される液の流入の可否及び流入流量を調節する。第３ライン４１６３は第１タンク４１２０の底面に連結される。第１タンク４１２０の液は第３ライン４１６３を通じて流出される。第３ライン４１６３には第３バルブ４１２５が設置されて、第１タンク４１２０から第１ヒーター４１７４に供給される液の供給の可否及び供給流量を調節する。第４ライン４１６４は第２タンク４１３０の底面に連結される。第２タンク４１３０の内部空間に貯蔵された液は第４ライン４１６４を通じて流出される。第４ライン４１６４には第４バルブ４１３５が設置されて、第２タンク４１３０から第１ヒーター４１７４に供給される液の供給の可否及び供給流量を調節する。
以下、図４乃至図１２を参照して、本発明の液供給方法に対して説明する。制御器は、本発明の液供給方法を遂行するために液供給ユニット４１００を制御する。図４は本発明の一実施形態に係る液供給方法の順序図を示す図面である。図５乃至図６そして図８乃至図９は本発明の一実施形態に係る液供給方法を順番に示す図面であり、図７はイソプロピルアルコールの圧力に応じる沸点を示したグラフである。
図４を参照すれば、先ず、第１タンク４１２０又は第２タンク４１３０内の内部空間に薬液を供給する。一例で、第２タンク４１３０の内部空間に貯蔵された液をノズルユニット３８０に供給する間に第１タンク４１２０の内部空間に液を補充しながら、第１タンク４１２０の内部空間に貯蔵された液を循環ライン４１６０を通じて循環させる。同様に、第１タンク４１２０の内部空間に貯蔵された液をノズルユニット３８０に供給する間に第２タンク４１３０の内部空間に液を補充しながら、第２タンク４１３０の内部空間に貯蔵された液を循環ライン４１６０を通じて循環させることができる。以下、第１タンク４１２０の内部空間に液を補充することと説明する。
図５に図示されたように、液供給源４１１０から第１インレットライン４１３６を通じて第１タンク４１２０の内部空間に液を供給する。液の供給が開始されれば、図６に図示されたように、第１ガス供給ライン４１２９を通じて第１タンク４１２０の内部空間に窒素を供給する。一例で、第１タンク４１２０の内部空間に窒素を供給する間に、内部空間は加圧される。例えば、第１タンク４１２０の内部空間に供給されるガスの圧力が第１排気ライン４１１２を通じて排気される排気圧より大きく提供されることができる。一例で、内部空間にガスを供給する間に第１排気バルブ４１１３は閉鎖されることができる。図７を参照すれば、イソプロピルアルコールの圧力が増加するほど、沸点が上昇することを確認することができる。本発明は、内部空間を加圧することによって、液供給ユニット内の液の沸点は上昇するようになる。したがって、液が比較的低い温度で沸騰することを防止することができる長所がある。
第１タンク４１２０の内部空間に液を補充する間に、図８に図示されたように循環ライン４１６０を通じて第１タンク４１２０内部に貯蔵された液は循環する。液が循環される間に、第１圧力センサー４１６５１は継続的に共有ライン４１６５を流れる液の圧力を測定する。第１レギュレータ４１６６はこれに基づいて循環ライン４１６０内の圧力を調節する。例えば、第１圧力センサー４１６５１が測定した圧力が既設定された圧力になる時まで内部空間はガス供給ラインを通じて流入されるガスによって継続的に加圧される。第１圧力センサー４１６５１が測定した液の圧力が既設定された圧力に到達すれば、第１レギュレータ４１６６を通じて液が流れるようになる。したがって、循環ライン４１６０で液を継続的に循環させるためには循環ライン４１６０内の圧力が既設定された圧力に到達しなければならなく、このために内部空間は続いて加圧される。循環ライン４１６０内の圧力が既設定された圧力に到達すれば、第１レギュレータ４１６６の前段の圧力は既設定された圧力に維持される。このために、図８に図示されたように第１排気バルブ４１１３が開放される。第１排気バルブ４１１３を開放して、循環ライン４１６０を流れる液の圧力を既設定された圧力に維持させる。
第１タンク４１２０の内部空間に液を補充する間に、第１ヒーター４１７４の温度が制御される。一例で、第１ヒーター４１７４の出力は第１温度センサー４１７４１が測定した温度に基づいて制御される。第１ヒーター４１７４の出力は循環ライン４１６０を流れるイソプロピルアルコールが沸騰しないように制御される。例えば、第１ヒーター４１７４の出力は第１圧力センサー４１６５１が測定した圧力を基準にイソプロピルアルコールの沸点以下になるように制御される。一例で、循環ライン４１６０内の圧力は既設定された圧力に制御されるので、第１ヒーター４１７４の出力は既設定された圧力を基準にイソプロピルアルコールの沸点以下になるように制御される。一例で、第１温度センサー４１７４１は第１ヒーター４１７４と共有ライン４１６５を流れる液が接触する面の温度を測定するように提供される。一例で、第１温度センサー４１７４１は第１ヒーター４１７４の表面の温度を測定することができる。したがって、第１ヒーター４１７４と共有ライン４１６５を流れる液が接触する面で液が沸騰することを防止する長所がある。即ち、本願発明は、第１ヒーター４１７４の前段又は後段で測定した温度に基づいて第１ヒーター４１７４の出力を調節して第１ヒーター４１７４と液が接触する面で液が沸騰することを防止する長所がある。
上述した過程を通じて第１タンク４１２０内部の液補充が完了されれば、図９に図示されたように第１タンク４１２０を通じてノズルユニット３８０に液を供給する。この時、第２タンク４１３０の内部空間に液が補充され、第２タンク４１３０の内部空間に貯蔵された液は循環ライン４１６０を通じて循環される。上述した液供給方法は第２タンク４１３０の内部空間に液を補充する時にも同様に適用される。
図１０は本発明の他の実施形態に係る液供給方法を示す順序図である。図１０を参照すれば、液を供給する間に配管内の圧力とヒーターと液が接触する面の温度が制御されることができる。一例で、ヒーターと液が接触する面はヒーターの表面であり得る。配管内の圧力を調節する方法とヒーターの表面の温度を制御する方法は上述したことと同一である。一例で、図１１に図示されたようにアウトレットライン４１５０を通じてノズルユニット３８０に液を供給する間に、アウトレットライン４１５０内の圧力は第２圧力センサー４１７０１によって継続的に測定される。図１２に図示されたように第２圧力センサー４１７０１が測定した液の圧力が既設定された圧力に到達すれば、第２レギュレータ４１７３を通じて液が流れるようになる。したがって、回収ラインに液が供給されるためには、アウトレットライン４１５０の圧力が既設定された圧力に到達しなければならなく、このために内部空間は続いて加圧される。アウトレットライン４１５０を通じて液をノズルユニット３８０に供給する間に第２ヒーター４１７５の温度が制御される。一例で、第２ヒーター４１７５の出力は第２温度センサー４１７５１が測定した温度に基づいて制御される。第２ヒーター４１７５の出力はアウトレットライン４１５０を流れるイソプロピルアルコールが沸騰しないように制御される。例えば、第２ヒーター４１７５の出力は第２圧力センサー４１７０１が測定した圧力を基準にイソプロピルアルコールの沸点以下になるように制御される。一例で、アウトレットライン４１５０内の圧力は既設定された圧力に制御されるので、第２ヒーター４１７５の出力は既設定された圧力を基準にイソプロピルアルコールの沸点以下になるように制御される。一例で、第２温度センサー４１７５１は第２ヒーター４１７５とアウトレットライン４１５０を流れる液が接触する面の温度を測定するように提供される。一例で、第２温度センサー４１７５１は第２ヒーター４１７５の表面の温度を測定することができる。したがって、第２ヒーター４１７５とアウトレットライン４１５０を流れる液が接触する面で液が沸騰することを防止する長所がある。
以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、前述した内容は本発明の好ましい実施形態を例として説明することであり、本発明は多様な他の組合、変更、及び環境で使用することができる。即ち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、前述した開示内容と均等な範囲、及び／又は当業界の技術又は知識の範囲内で変更又は修正が可能である。前述した実施形態は本発明の技術的思想を具現するための最善の状態を説明することであり、本発明の具体的な適用分野及び用途で要求される様々な変更も可能である。したがって、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態に本発明を制限しようとする意図ではない。添付された請求の範囲は他の実施状態も含むことと解析されなければならない。
４１００ 液供給ユニット
４１１０ 液供給源
４１２０ 第１タンク
４１３０ 第２タンク
４１３５、４１３６ インレットライン
４１２９、４１３９ ガス供給ライン
４１１２、４１１４ 排気ライン
４１５０ アウトレットライン
４１６０ 循環ライン
４１７０ 回収ライン
４１６５１、４１７０１ 圧力センサー
４１７１、４１７２ 回収ライン
４１６６、４１７３ 圧力提供部材
４１７４、４１７５ ヒーター
４１７４１、 温度センサー
４１６７、４１７７ ポンプ
４１８１、４１８２ ドレーンライン
４１９０ 供給ライン
５０００ 被処理体

Claims (20)

  1. 液を供給する液供給ユニットにおいて、
    液を貯蔵する内部空間を有するタンクと、
    液供給源から前記内部空間に前記液を供給し、インレットバルブが設置されるインレットラインと、
    前記タンクからノズルに前記液を供給するか、又は前記タンクに前記液を回収し、アウトレットバルブが設置されるアウトレットラインと、
    前記内部空間にガスを供給し、ガス調節バルブが設置されるガス供給ラインと、
    前記内部空間を排気し、排気バルブが設置される排気ラインと、
    前記内部空間に貯蔵された液を循環させる循環ラインと、
    制御器と、を含み、
    前記制御器は、
    前記内部空間に前記液が供給される間に前記循環ラインが加圧されるようにする液供給ユニット。
  2. 前記制御器は、
    前記内部空間に前記液が供給される間に前記内部空間が加圧されるように前記ガス調節バルブと前記排気バルブを制御する請求項１に記載の液供給ユニット。
  3. 前記制御器は、
    前記内部空間に前記液が供給される間に、
    前記内部空間に前記ガスを供給し、前記排気バルブは、閉鎖されるように前記ガス調節バルブと前記排気バルブを制御する請求項２に記載の液供給ユニット。
  4. 前記循環ラインには、
    第１ポンプと、
    前記循環ライン内の液を加熱する第１ヒーターと、
    前記第１ヒーターの後段に提供された圧力提供部材と、をさらに含み、
    前記圧力提供部材を通過するための前記液の圧力は、前記第１ヒーターを通過するための前記液の圧力より大きく提供される請求項１に記載の基板処理装置。
  5. 前記圧力提供部材は、第１レギュレータで提供され、
    前記循環ラインは、
    前記第１レギュレータの前段に設置されて前記循環ライン内の前記液の圧力を測定する第１圧力センサーが設置され、
    前記第１レギュレータは、
    前記循環ライン内で前記液の圧力が既設定された圧力以上である場合、開放されて前記液の流れを許容する請求項４に記載の液供給ユニット。
  6. 前記第１ヒーターには前記第１ヒーターと前記液の接触面温度を測定する第１温度センサーが設置され、
    前記第１温度センサーが測定した前記第１ヒーターと前記液の接触面温度が、
    前記既設定された圧力に応じる前記液の沸点を超過しないように前記第１ヒーターを制御する請求項５に記載の液供給ユニット。
  7. 前記制御器は、
    前記循環ライン内で前記液の圧力が既設定された圧力以上である場合、前記内部空間を排気するように前記排気バルブを制御する請求項５に記載の液供給ユニット。
  8. 前記アウトレットラインには、
    第２ポンプと、
    前記アウトレットライン内の液を加熱する第２ヒーターと、
    前記アウトレットライン内で前段の圧力が既設定された圧力以上である場合、開放されて前記液の流れを許容する第２レギュレータと、
    前記第２レギュレータの前段に設置されて前記アウトレットライン内の前記液の圧力を測定する第２圧力センサーと、が設置される請求項１に記載の液供給ユニット。
  9. 前記第２ヒーターと前記第２レギュレータとの間で前記アウトレットラインから分岐され、前記ノズルと連結される供給ラインをさらに含む請求項８に記載の液供給ユニット。
  10. 前記第２ヒーターには前記第２ヒーターと前記液の接触面温度を測定する第２温度センサーが設置され、
    前記制御器は、
    前記第２温度センサーが測定した前記第２ヒーターと前記液の接触面温度が、
    既設定された圧力に応じる前記液の沸点を超過しないように前記第２ヒーターを制御する請求項８に記載の液供給ユニット。
  11. 前記タンクは、
    第１タンクと第２タンクを含み、
    前記循環ラインは、前記第１タンクそして前記第２タンクに連結され、
    前記制御器は、
    前記第２タンクから前記アウトレットラインを通じて前記ノズルに前記液を供給する間に、
    前記インレットラインを通じて前記第１タンク内に前記液を供給し、前記第１タンクの前記内部空間の前記液が前記循環ラインを通じて循環されるように制御する請求項１乃至請求項１０のいずれかの一項に記載の液供給ユニット。
  12. 液を供給する方法において、
    第１タンク又は第２タンクの中でいずれか１つの内部空間に前記液を供給する間に他の１つの内部空間の液を循環させる循環ラインを加圧する液供給方法。
  13. 前記内部空間に前記液が供給される間に、
    前記内部空間にガスを供給し、前記内部空間の排気が行われないようにする請求項１２に記載の液供給方法。
  14. 前記循環ラインは、
    前記循環ライン内液を加熱するヒーターと、
    前記ヒーターの後段に提供された圧力提供部材と、が提供され、
    前記圧力提供部材を通過するための前記液の圧力は、前記ヒーターを通過するための前記液の圧力より大きく提供される請求項１２に記載の基板処理装置。
  15. 前記循環ライン内の圧力が既設定された圧力以上になった場合、前記内部空間を排気する請求項１４に記載の液供給方法。
  16. 前記ヒーターと前記液の接触面の温度は、
    前記既設定された圧力に応じる前記液の沸点を超過しないように提供される請求項１５に記載の液供給方法。
  17. 請求項１１の基板処理装置を利用して基板を処理する方法において、
    前記第２タンクの前記内部空間から前記ノズルに前記液を供給する間に前記第１タンクの前記内部空間に前記液を供給して前記第１タンクの液供給を準備し、
    前記液供給が遂行される間に前記第１タンク内の液は循環ラインを通じて循環され、前記循環ラインが加圧される液供給方法。
  18. 前記第１タンクの内部空間に前記液が供給される間に、
    前記第１タンクの内部空間に前記ガスを供給し、前記第１タンクの内部空間の排気が行われないようにする請求項１７に記載の液供給方法。
  19. 前記循環ライン内の前記液の圧力が既設定された圧力以上になった場合、前記循環ライン内で液の流れを許容する請求項１７に記載の液供給方法。
  20. 前記循環ラインにはヒーターが提供され、
    前記ヒーターと前記液の接触面の温度は、
    既設定された圧力に応じる前記液の沸点を超過しないように提供される請求項１９に記載の液供給方法。
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