JP2017028112A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを処理する処理ユニット2と、処理ユニット2にIPA等の処理液を供給する処理液供給ユニット3とを有する。IPAタンク15内のIPAはポンプ17によりヒータ18を経由し処理ユニット2に向けて圧送される。ヒータ18の前後には枝管20、23が連通接続されている。枝管20、23にはノーマルオープンのバルブ21、24が介装される。緊急停止処理時にはバルブ21、24への通電が停止されバルブ21、24は自動的に開放する。この結果、ヒータ18内のIPAがその自重により枝管20に向けて排出される。
【選択図】図1
Description
(1)基板処理装置の構成
図1は、本発明の第1実施形態に係る基板処理装置1の構成を模式的に示す図である。この基板処理装置1は、基板の一例としての半導体ウエハW(以下、単に「ウエハW」という。)を1枚ずつ処理する枚葉型の装置である。基板処理装置1は、ウエハWに洗浄液、リンス液またはIPA等の処理液を供給することにより、洗浄等の基板処理をウエハWに対し実行する。基板処理装置1は、筐体100を備え、この筐体100の内部にウエハWを処理するための処理ユニット2と、この処理ユニット2に処理液を供給するための処理液供給ユニット3と、処理液供給ユニット3から各処理ユニット2に向けて処理液を分配する循環配管PCと、が配置されている。図1では、一つの処理ユニット2が図示されているが、基板処理装置1は複数の処理ユニット2を備えてもよい。この場合、循環配管PCには複数の処理ユニット2が接続される。また、複数の処理ユニット2に対して複数の処理液供給ユニット3が配されてもよい。なお、循環配管PCは処理ユニット2に供給されなかった処理液の残液を処理液供給ユニット3に還流させる。
(2)ヒータの構造
次に、図2を参照してヒータ18の構造について説明する。図2はヒータ18の縦断面図である。ヒータ18はその発熱により内部を流通する処理液(このケースではIPA)を加熱する部材である。ヒータ18は筒状のケース30と、ケース30の底板31を貫通するように取り付けられた流入管32と、ケース30の天板33を貫通するように取り付けられた流出管34と、底板31と天板33とを貫通するハロゲンランプ等の加熱器35と、加熱器35をらせん状に取り囲む流路管36と、を有している。流路管36の下側の端部は流入管32に、上側の端部は流出管34にそれぞれ連通接続されている。加熱器35が発熱することにより流入路32から入力したIPAが流路管36内で加熱され、加熱されたIPAは流出路34からヒータ18の外部に流出する。
(3)緊急停止処理
次に、基板処理装置1の緊急停止処理について説明する。
(4)第2実施形態
図3は、本発明の第2実施形態に係る基板処理装置200の構成を模式的に示す図である。以下の説明において、第1実施形態と同一の構成の各部については同一の符号を付し、重複説明を省略する。
2 処理ユニット
3 処理液供給ユニット
4 スピンチャック
5 第1ノズル
6 第2ノズル
8 スピンベース
9 回転駆動機構
10 移動機構
11 移動機構
12 カップ
15 IPAタンク
16 IPA供給管
17 ポンプ
18 ヒータ
19 分岐点
20 枝管
21 バルブ
22 分岐点
23 枝管
24 バルブ
25 バルブ
26 バルブ
27 ドレインタンク
28 N2供給管
29 排気用チェック弁
30 ケース
31 底板
32 流入管
33 天板
34 流出管
35 加熱器
36 流路管
37 電流調整器
38 温度センサ
39 分岐管
42 入力部
43 制御部
44 枝管
45 バルブ
46 分岐点
47 ドレイン管
48 バルブ
49 サブタンク
100 筐体
101 開口
102 カバー
103 センサ
104 漏液センサ
C 回転中心軸線
W ウエハ
PC 循環配管
Claims (5)
- 基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持された基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
前記処理液を貯留する処理液タンクと、
前記処理液タンクと前記ノズルとを結ぶ処理液配管と、
前記処理液配管に介装され、前記処理液タンクに貯留された処理液を前記ノズルに向けて送液するポンプと、
前記処理液配管に介装され、その発熱によりその内部を流通する処理液を加熱するヒータと、を備えた基板処理装置において、
所定のエラー状態を検知して装置停止信号を出力するセンサまたは装置停止信号を入力する入力手段と、
前記センサまたは入力手段から入力される装置停止信号に応じて、前記ポンプを停止させると共に、前記ヒータの発熱を停止させる緊急停止処理を実行する制御部と、
前記緊急停止処理の以後、前記処理液を前記ヒータの内部から外部に移動させる排液手段と、を備えた基板処理装置。 - 前記ポンプは前記タンクから前記ヒータに向けて前記処理液を供給し、
前記処理液配管には、前記ポンプと前記ヒータとを結ぶ途中の箇所において、前記ヒータよりも下方に向けて枝管が連通接続され、
前記枝管には基板処理装置の稼働中は閉止状態とされるバルブが、前記排液手段として介装されると共に、
前記制御部は、前記緊急停止処理の以後、前記バルブを開放状態に移行させる、請求項1記載の基板処理装置。 - 前記枝管は前記タンクに連通接続される、請求項2記載の基板処理装置。
- 前記ヒータは前記タンクの下方に配設され、
前記ポンプは前記ヒータと前記ノズルとの間の間の処理液経路に配設され、
前記処理液配管には、前記ポンプと前記ヒータとを結ぶ途中の箇所において、枝管が連通接続され、
前記枝管には基板処理装置の稼働中は閉止状態とされるバルブが、前記排液手段として介装されると共に、
前記制御部は、前記緊急停止処理の以後、前記バルブを開放状態に移行させる、請求項1記載の基板処理装置。 - 前記処理液はイソプロピルアルコールであることを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理装置。
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