JP2022086587A - Transportation device, film deposition apparatus, method for depositing film and method for manufacturing electronic device - Google Patents

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Abstract

To improve dust collection efficiency of a dust collection roller and ease of maintenance by the arrangement of a magnet.SOLUTION: A substrate transportation device includes: a transportation roller for transporting a substrate placed thereon; and a cover unit for surrounding the transportation roller. The cover unit includes: a tray provided below the transportation roller; and a magnet provided below the tray.SELECTED DRAWING: Figure 8

Description

本発明は、搬送装置、成膜装置、成膜方法および電子デバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a transport device, a film forming apparatus, a film forming method, and a method for manufacturing an electronic device.

有機ＥＬディスプレイ等の製造においては、マスクを用いて基板上に蒸着物質を成膜するインライン型の成膜装置が知られている。引用文献１には、成膜のためのチャンバ内で基板を搬送しながら成膜を行う成膜装置が示されている。 In the manufacture of organic EL displays and the like, an in-line type film forming apparatus that deposits a vapor-deposited substance on a substrate using a mask is known. Reference 1 shows a film forming apparatus that performs film formation while transporting a substrate in a chamber for film formation.

特開２０１４－１７３１７０号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-173170 特開２００４－２０４８２３号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-204823

ここで、搬送装置に設けられた搬送ローラと搬送される基板との接触によって生じた粉塵などが、搬送ローラの回転によって生じる気流や蒸着源から放出される蒸着材料によって生じる気流によって舞い上がり、基板上や成膜装置の駆動構造に付着し、成膜不良や搬送ローラの動作不良が生じることを防ぐために、搬送ローラにはカバーユニットが設けられることがある。また、カバーユニットには、溜まった粉塵がカバーユニット外に出ないようマグネットが設けられる場合がある（引用文献２）。 Here, dust and the like generated by the contact between the transport roller provided in the transport device and the substrate to be transported are blown up by the air flow generated by the rotation of the transport roller and the air flow generated by the vapor deposition material discharged from the vapor deposition source, and are on the substrate. A cover unit may be provided on the transport roller in order to prevent the film from adhering to the drive structure of the film deposition apparatus and causing a film formation defect or a malfunction of the transport roller. Further, the cover unit may be provided with a magnet so that the accumulated dust does not go out of the cover unit (Reference 2).

本発明は、マグネットの配置によって集塵ローラの集塵効率及びメンテナンスの容易さを向上するための技術に関する。 The present invention relates to a technique for improving the dust collection efficiency and ease of maintenance of a dust collection roller by arranging magnets.

本発明の一側面によれば、基板の搬送装置であって、
載置された基板を搬送する搬送ローラと、
前記搬送ローラを囲むカバーユニットと、
を備え、
前記カバーユニットは、
前記搬送ローラの下側に設けられたトレイと、
前記トレイの下側に設けられたマグネットと、
を含むことを特徴とする搬送装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, it is a substrate transfer device.
A transport roller that transports the mounted substrate,
The cover unit that surrounds the transport roller and
Equipped with
The cover unit is
A tray provided under the transport roller and
With the magnet provided on the underside of the tray,
A transport device comprising the above is provided.

本発明によれば、マグネットの配置によって集塵ローラの集塵効率及びメンテナンスの容易さを向上することができる。 According to the present invention, the dust collection efficiency and the ease of maintenance of the dust collection roller can be improved by arranging the magnets.

一実施形態に係る成膜装置の概略図。The schematic diagram of the film forming apparatus which concerns on one Embodiment. 成膜装置の成膜処理を示す図。The figure which shows the film forming process of a film forming apparatus. 搬送ユニットと蒸着ユニットの分離を示す図。The figure which shows the separation of a transport unit and a vapor deposition unit. 一実施形態に係る搬送ユニットの概略図。The schematic diagram of the transport unit which concerns on one Embodiment. 搬送ユニットの面Ｘでの断面図。Sectional drawing of the transport unit in surface X. 搬送ユニットの面Ｙでの断面図。Sectional drawing of the transport unit on the surface Y. 搬送ローラおよびカバーユニットの構成の一例を示す図。The figure which shows an example of the structure of a transfer roller and a cover unit. カバーユニットに配置されたマグネットが形成する磁界の磁束密度を示す図。The figure which shows the magnetic flux density of the magnetic field formed by the magnet arranged in the cover unit.

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。 Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The following embodiments do not limit the invention according to the claims. Although a plurality of features are described in the embodiment, not all of the plurality of features are essential for the invention, and the plurality of features may be arbitrarily combined. Further, in the attached drawings, the same or similar configurations are given the same reference numbers, and duplicate explanations are omitted.

＜成膜装置の概要＞
図１（Ａ）および図１（Ｂ）は、本実施形態に係る成膜装置を示す概略図である。図１（Ａ）および図１（Ｂ）に示す本実施形態に係る成膜装置１は、基板を搬送しながら製膜するインライン型の成膜装置である。本実施形態に係る成膜装置１は、例えば、スマートフォン用の有機ＥＬ表示装置の表示パネルなどの電子デバイスの製造ラインに適用される。成膜装置１は、搬送ユニット２、蒸着ユニット３、フレーム４を含む。 <Overview of film forming equipment>
1 (A) and 1 (B) are schematic views showing a film forming apparatus according to the present embodiment. The film forming apparatus 1 according to the present embodiment shown in FIGS. 1 (A) and 1 (B) is an in-line type film forming apparatus that forms a film while conveying a substrate. The film forming apparatus 1 according to the present embodiment is applied to a manufacturing line of an electronic device such as a display panel of an organic EL display device for a smartphone. The film forming apparatus 1 includes a transport unit 2, a vapor deposition unit 3, and a frame 4.

搬送ユニット２は、基板上に形成する薄膜パターンに対応する開口パターンをもつメタルマスクなどのマスクによってマスクされた基板が配置されたマスクトレイを搬入口５から搬出口６まで搬送するための装置である。また、搬送ユニット２の底面には、蒸着ユニット３の蒸着源から放出された蒸着材料がマスクトレイに配置された基板に蒸着されるよう、開口が配置される。 The transport unit 2 is a device for transporting a mask tray on which a substrate masked by a mask such as a metal mask having an opening pattern corresponding to a thin film pattern formed on the substrate is arranged from the carry-in inlet 5 to the carry-out port 6. be. Further, an opening is arranged on the bottom surface of the transport unit 2 so that the vapor deposition material discharged from the vapor deposition source of the vapor deposition unit 3 is vapor-deposited on the substrate arranged on the mask tray.

蒸着ユニット３は、後述する蒸着源を有し、蒸着ユニット３の天面側には搬送ユニット２によって搬送される基板に蒸着材料を放出するための開口を有する。また、蒸着ユニット３またはフレーム４に配置された昇降機構４１およびスライド機構４２によって、後述する搬送ユニット２と蒸着ユニット３との分離が行われる。 The vapor deposition unit 3 has a vapor deposition source described later, and has an opening on the top surface side of the vapor deposition unit 3 for discharging the vapor deposition material to the substrate conveyed by the transfer unit 2. Further, the elevating mechanism 41 and the slide mechanism 42 arranged on the vapor deposition unit 3 or the frame 4 separate the transport unit 2 and the vapor deposition unit 3, which will be described later.

フレーム４は、搬送ユニット２と蒸着ユニット３とを支持するための構造である。本実施形態では、フレーム４が昇降機構４１およびスライド機構４２を備えるものとして説明を行うが、昇降機構およびスライド機構の少なくとも一つが蒸着ユニット３に備えられてもよい。 The frame 4 has a structure for supporting the transport unit 2 and the vapor deposition unit 3. In the present embodiment, it is assumed that the frame 4 includes the elevating mechanism 41 and the slide mechanism 42, but at least one of the elevating mechanism and the slide mechanism may be provided in the vapor deposition unit 3.

また、図１（Ｂ）に示すように、本実施形態では、成膜装置１は３つの蒸着ユニット３Ａ～３Ｃ（総称して蒸着ユニット３とする）を備え、搬送される基板に１種類以上の蒸着材料を連続して蒸着することができる。なお、図１（Ｂ）の例では、昇降機構４１は省略して示されている。蒸着ユニット３の数、およびそれぞれの蒸着ユニット３が放出する蒸着材料の種類は任意に変更可能である。また、昇降機構４１およびスライド機構４２は、複数の蒸着ユニット３をまとめて昇降またはスライドさせてもよいし、別個に昇降またはスライドさせてもよい。 Further, as shown in FIG. 1B, in the present embodiment, the film forming apparatus 1 includes three vapor deposition units 3A to 3C (collectively referred to as vapor deposition units 3), and one or more types are provided on the substrate to be conveyed. The vapor deposition material can be continuously vapor-deposited. In the example of FIG. 1B, the elevating mechanism 41 is omitted. The number of vapor deposition units 3 and the type of vapor deposition material emitted by each vapor deposition unit 3 can be arbitrarily changed. Further, the elevating mechanism 41 and the slide mechanism 42 may elevate or slide a plurality of vapor deposition units 3 together, or may elevate or slide them separately.

図２（Ａ）～図２（Ｄ）は、本実施形態に係る成膜装置１の成膜処理を示す。ここで、図１（Ａ）の成膜装置１の面ＸＺでの断面図を示す。なお、図２（Ａ）～図２（Ｄ）では、フレーム４は省略して示されている。 2 (A) to 2 (D) show the film forming process of the film forming apparatus 1 according to the present embodiment. Here, a cross-sectional view of the film forming apparatus 1 of FIG. 1A on the surface XZ is shown. In FIGS. 2A to 2D, the frame 4 is omitted.

図２（Ａ）は、基板が配置されたマスクトレイ２０１が搬入口５から搬入された状態の成膜装置１を示す。搬送ユニット２はそれぞれの蒸着ユニット３に対応する開口２１Ａ～２１Ｃ（総称して開口２１とする）を備える。蒸着ユニット３はそれぞれに対応する蒸着源３１Ａ～３１Ｃ（総称して蒸着源３１とする）を備える。図２（Ａ）において、搬入されたマスクトレイ２０１は、搬送ユニット２が備える複数の搬送ローラ２２によって、搬送ユニット２の開口２１上に搬送される。 FIG. 2A shows a film forming apparatus 1 in a state where the mask tray 201 on which the substrate is arranged is carried in from the carry-in inlet 5. The transport unit 2 includes openings 21A to 21C (collectively referred to as openings 21) corresponding to the respective vapor deposition units 3. The vapor deposition unit 3 includes the corresponding vapor deposition sources 31A to 31C (collectively referred to as the vapor deposition source 31). In FIG. 2A, the carried-in mask tray 201 is conveyed onto the opening 21 of the transfer unit 2 by a plurality of transfer rollers 22 included in the transfer unit 2.

図２（Ｂ）は、マスクトレイ２０１が開口２１Ａ上に搬送され、蒸着ユニット３Ａの蒸着源３１Ａから蒸着材料を放出している状態の成膜装置１を示す。図２（Ｂ）では、基板が搬送されている状態で、蒸着源３１Ａから上方に向かって蒸着材料が放出されている。これによって、マスクパターンに従って基板上に蒸着材料が蒸着される。本実施形態に係る成膜装置１は、マスクトレイ２０１が移動している状態で蒸着を行うものとして説明するが、マスクトレイ２０１が開口２１上に位置する状態で移動を一時停止または減速するようマスクトレイ２０１の搬送速度を制御してもよい。これによって、成膜装置１は基板上に適切な厚みの蒸着材料が蒸着するよう制御することができる。 FIG. 2B shows a film forming apparatus 1 in a state where the mask tray 201 is conveyed over the opening 21A and the vapor deposition material is discharged from the vapor deposition source 31A of the vapor deposition unit 3A. In FIG. 2B, the vapor deposition material is discharged upward from the vapor deposition source 31A while the substrate is being conveyed. As a result, the vapor deposition material is vapor-deposited on the substrate according to the mask pattern. The film forming apparatus 1 according to the present embodiment will be described as performing vapor deposition in a state where the mask tray 201 is moving, but the movement is temporarily stopped or decelerated while the mask tray 201 is located on the opening 21. The transport speed of the mask tray 201 may be controlled. As a result, the film forming apparatus 1 can control the vapor deposition material having an appropriate thickness to be deposited on the substrate.

図２（Ｃ）は、蒸着された基板が搬送ユニット２によって搬送され、次の蒸着ユニット３Ｂに対応する開口２１Ｂ上にマスクトレイ２０１が搬送されている状態を示す。ここで、蒸着ユニット３Ｂの蒸着源３１Ｂから蒸着材料が放出される。そして成膜装置１はマスクトレイ２０１の搬送を進めて次の蒸着ユニット３Ｃによって次の蒸着を行い、図２（Ｄ）に示すように、蒸着が完了したマスクトレイ２０１が、搬出口６から搬出される。このように、搬送ユニット２の搬送ローラ２２によって搬入口５から搬出口６まで搬送されるまでに複数の蒸着ユニット３から蒸着を行うことができる。 FIG. 2C shows a state in which the vapor-deposited substrate is transported by the transport unit 2 and the mask tray 201 is transported on the opening 21B corresponding to the next vapor deposition unit 3B. Here, the vapor deposition material is discharged from the vapor deposition source 31B of the vapor deposition unit 3B. Then, the film forming apparatus 1 advances the transfer of the mask tray 201 and performs the next vapor deposition by the next vapor deposition unit 3C, and as shown in FIG. 2D, the mask tray 201 in which the vapor deposition is completed is carried out from the carry-out port 6. Will be done. In this way, thin-film deposition can be performed from a plurality of thin-film deposition units 3 before being transported from the carry-in inlet 5 to the carry-out port 6 by the transfer roller 22 of the transfer unit 2.

続いて、図３（Ａ）および図３（Ｂ）を参照して、搬送ユニット２と蒸着ユニット３との分離について説明する。蒸着ユニット３の蒸着源３１から放出された蒸着材料が搬送ユニット２の側壁や天面に付着し、落下して搬送中の基板に付着することで、蒸着処理が失敗する場合がある。また、搬送ユニット２の側壁や天面に付着した蒸着材料が落下して搬送ローラ２２に付着することで搬送している基板が汚損したり、搬送ローラ２２の動作不良が生じる場合がある。このため、搬送ユニット２の側壁や天面には防着板が設けられ、防着板を定期的に洗浄または交換するメンテナンスが必要になる。 Subsequently, the separation of the transport unit 2 and the vapor deposition unit 3 will be described with reference to FIGS. 3 (A) and 3 (B). The vapor deposition material discharged from the vapor deposition source 31 of the vapor deposition unit 3 adheres to the side wall or the top surface of the transport unit 2, drops and adheres to the substrate being transported, and the vapor deposition process may fail. Further, the thin-film deposition material adhering to the side wall or the top surface of the transport unit 2 may fall and adhere to the transport roller 22, so that the substrate being transported may be soiled or the transport roller 22 may malfunction. Therefore, a protective plate is provided on the side wall and the top surface of the transport unit 2, and maintenance is required to periodically clean or replace the protective plate.

また、搬送ローラ２２とマスクトレイ２０１との接触によって生じる粉塵が、搬送ローラの回転や蒸着材料の放出によって生じる気流によって舞い上がり、基板や成膜装置１の駆動構造に付着し、成膜処理の失敗や搬送ユニット２の動作不良が生じる場合がある。このため、搬送ローラ２２には、生じた粉塵が散らばることを防ぐためのカバーユニットが設けられ、カバーユニットの交換または清掃などのメンテナンスを定期的に行うことがある。 Further, the dust generated by the contact between the transport roller 22 and the mask tray 201 flies up due to the air flow generated by the rotation of the transport roller and the discharge of the vapor-deposited material, adheres to the substrate and the drive structure of the film forming apparatus 1, and the film forming process fails. Or the transport unit 2 may malfunction. Therefore, the transport roller 22 is provided with a cover unit for preventing the generated dust from being scattered, and maintenance such as replacement or cleaning of the cover unit may be performed periodically.

このような場合、搬送ユニット２と蒸着ユニット３とを分離し、搬送ユニット２の底面側の開口２１から搬送ユニット２内の搬送空間にアクセスすることで、メンテナンスの際の作業の利便性が向上する。搬送ユニット２と蒸着ユニット３との分離では、図３（Ａ）に示すように、フレーム４が備える昇降機構４１によって、蒸着ユニット３が搬送ユニット２に対して相対的に下方に移動する。なお、本実施形態に係る蒸着ユニット３は、後述するように、搬送ユニット２と接続された場合に開口２１よりもＺ軸上方に進入する部分を備えるため、昇降機構４１による蒸着ユニット３の降下が必要となる。これによって、搬送ユニット２に対して水平方向に蒸着ユニット３が移動することが可能となる。 In such a case, the transport unit 2 and the vapor deposition unit 3 are separated, and the transport space in the transport unit 2 is accessed from the opening 21 on the bottom surface side of the transport unit 2, thereby improving the convenience of work during maintenance. do. In the separation of the transport unit 2 and the vapor deposition unit 3, as shown in FIG. 3A, the vapor deposition unit 3 moves downward relative to the transport unit 2 by the elevating mechanism 41 provided in the frame 4. As will be described later, the thin-film deposition unit 3 according to the present embodiment includes a portion that enters above the Z-axis from the opening 21 when connected to the transport unit 2, so that the vapor deposition unit 3 is lowered by the elevating mechanism 41. Is required. This makes it possible for the vapor deposition unit 3 to move in the horizontal direction with respect to the transport unit 2.

続いて、図３（Ｂ）に示すように、フレーム４が備えるスライド機構４２によって、蒸着ユニット３が搬送ユニット２に対して相対的に水平に移動する。これによって、フレーム４に保持された搬送ユニット２の下方から搬送ユニット２内部の搬送空間にアクセスすることができ、メンテナンスの利便性を向上することができる。また、蒸着ユニット３の上方から蒸着ユニット３内にアクセスすることができるため、蒸着ユニット３のメンテナンスの利便性も向上することができる。 Subsequently, as shown in FIG. 3B, the slide mechanism 42 included in the frame 4 causes the vapor deposition unit 3 to move relatively horizontally with respect to the transport unit 2. As a result, the transport space inside the transport unit 2 can be accessed from below the transport unit 2 held by the frame 4, and the convenience of maintenance can be improved. Further, since the inside of the vapor deposition unit 3 can be accessed from above the vapor deposition unit 3, the convenience of maintenance of the vapor deposition unit 3 can be improved.

続いて、図４に、搬送ユニット２の構造を示す。搬送ユニット２は、底面の開口２１、複数の搬送ローラ２２、天面防着部２３、側壁防着部２４、筐体２５、天面蓋２６を含む。なお、図４において側壁防着部２４は一部のみが図示されている。 Subsequently, FIG. 4 shows the structure of the transport unit 2. The transport unit 2 includes an opening 21 on the bottom surface, a plurality of transport rollers 22, a top surface protection portion 23, a side wall protection portion 24, a housing 25, and a top surface lid 26. In FIG. 4, only a part of the side wall adhesive portion 24 is shown.

天面防着部２３は、搬送ユニット２内の搬送路の天面側に蒸着する蒸着材料の除去などのメンテナンスを容易にするように、筐体２５から取り外し可能に配置される。本実施形態では、天面蓋２６に天面防着部２３が配置され、筐体２５から天面蓋２６を取り外すと、天面蓋２６とともに天面防着部２３も筐体２５から取り外される。また、天面防着部２３は複数の防着板（天面防着板）によって形成され、それぞれの天面防着板は別個に筐体２５または天面蓋２６から取り外すことができる。天面蓋２６が複数の天面防着板を支持する構造については図５および図６を参照して後述する。また、筐体２５、天面蓋２６、および天面防着部２３の詳細な構造については図５および図６を参照して後述する。 The top surface protective portion 23 is detachably arranged from the housing 25 so as to facilitate maintenance such as removal of the vapor-deposited material deposited on the top surface side of the transport path in the transport unit 2. In the present embodiment, the top protection portion 23 is arranged on the top cover 26, and when the top cover 26 is removed from the housing 25, the top protection portion 23 is also removed from the housing 25 together with the top lid 26. .. Further, the top surface protection portion 23 is formed of a plurality of protection plates (top surface protection plates), and each top surface protection plate can be separately removed from the housing 25 or the top surface lid 26. The structure in which the top cover 26 supports the plurality of top protection plates will be described later with reference to FIGS. 5 and 6. Further, the detailed structure of the housing 25, the top cover 26, and the top protection portion 23 will be described later with reference to FIGS. 5 and 6.

側壁防着部２４は、搬送ユニット２内の筐体２５の側壁から脱着可能な防着板を含み、筐体２５の内側の側壁に蒸着材料が蒸着することを防ぐ。メンテナンスの際には、側壁防着部２４を筐体２５から取り外し、交換又は洗浄することでメンテナンス作業を容易に行うことができる。なお、本実施形態に係る側壁防着部２４も複数の側壁防着板によって形成され、それぞれの側壁防着板も別個に筐体２５から取り外すことができる。 The side wall protective portion 24 includes a protective plate that can be attached to and detached from the side wall of the housing 25 in the transport unit 2 to prevent the vapor deposition material from being deposited on the inner side wall of the housing 25. At the time of maintenance, the maintenance work can be easily performed by removing the side wall adhesive portion 24 from the housing 25, replacing it, or cleaning it. The side wall protective portion 24 according to the present embodiment is also formed by a plurality of side wall protective plates, and each side wall protective plate can also be separately removed from the housing 25.

天面蓋２６は、筐体２５の天面側に配置され、天面蓋２６を上方に持ち上げることで筐体２５から天面蓋２６を取り外すことができる。これによって、筐体２５の天面側から搬送空間にアクセスすることができる。すなわち、天面蓋２６は搬送ユニット２の内部の搬送空間の天井を形成する天井部であり、筐体２５は搬送空間の側壁を形成する側壁部である。また、天面防着部２３は搬送空間の天井部を覆う防着部であり、側壁防着部２４は搬送空間の側壁部を覆う防着部である。 The top cover 26 is arranged on the top surface side of the housing 25, and the top cover 26 can be removed from the housing 25 by lifting the top cover 26 upward. As a result, the transport space can be accessed from the top surface side of the housing 25. That is, the top cover 26 is a ceiling portion that forms the ceiling of the transport space inside the transport unit 2, and the housing 25 is a side wall portion that forms the side wall of the transport space. Further, the top surface protection portion 23 is a protection portion that covers the ceiling portion of the transport space, and the side wall protection portion 24 is a protection portion that covers the side wall portion of the transport space.

続いて、図５を参照して搬送ユニット２の詳細な構造について説明する。図５は、図４の面４０１での搬送ユニット２の断面図である。また、図５では、蒸着ユニット３も図示されている。 Subsequently, the detailed structure of the transport unit 2 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of the transport unit 2 on the surface 401 of FIG. Further, in FIG. 5, the vapor deposition unit 3 is also shown.

図５では、天面蓋２６にはガイドローラ２７が配置され、天面防着板５０１～５０４は、ガイドローラ２７によって支持される。すなわち、ガイドローラ２７と、天面防着板５０１～５０４のガイドローラ２７に当接する部分が、天面蓋２６に沿って防着板を移動可能に支持するスライド構造（着脱構造）として機能する。本実施形態では、ガイドローラ２７の移動方向は、基板の搬送方向と交差する方向であり、図５ではＹ軸方向である。なお、図５の例では、天面蓋２６にガイドローラ２７が配置され、天面防着板５０１～５０４は、ガイドローラ２７が転動する転動面を含むものとして図示している。しかしながら別の例では、天面蓋２６にレールが配置され、当該レールに沿って転動するローラが天面防着板５０１～５０４に配置されてもよい。また、天面蓋２６が天面防着板５０１～５０４を着脱可能に支持する着脱構造としては、スライド構造以外にもフック型の留め部材などの任意の構造を用いてもよい。 In FIG. 5, a guide roller 27 is arranged on the top cover 26, and the top protective plates 501 to 504 are supported by the guide roller 27. That is, the portion of the top surface protective plates 501 to 504 that abuts on the guide roller 27 functions as a slide structure (detachable structure) that movably supports the protective plate along the top cover 26. .. In the present embodiment, the moving direction of the guide roller 27 is a direction intersecting the transport direction of the substrate, and is the Y-axis direction in FIG. In the example of FIG. 5, the guide roller 27 is arranged on the top cover 26, and the top surface protective plates 501 to 504 are shown to include a rolling surface on which the guide roller 27 rolls. However, in another example, a rail may be arranged on the top cover 26, and rollers rolling along the rail may be arranged on the top protective plates 501 to 504. Further, as the detachable structure in which the top cover 26 detachably supports the top protective plates 501 to 504, any structure such as a hook type fastening member may be used in addition to the slide structure.

また、円５０６～５０８に示すように、天面防着板と水平な面においてスライド方向と交差する方向で隣り合う天面防着板はラビリンス構造を形成する。ここでラビリンス構造とは、防着板が覆う面に対して垂直な方向、すなわち上下方向で隣接する防着板が重なり合うことを意味する。天面防着板５０１～５０４では、上下（Ｚ軸）方向で隣接する防着板が重なり合う。これによって、隣接する天面防着板５０１～５０４の位置が多少変化しても、天面防着板５０１～５０４が搬送空間の天井の内面を覆うことができ、ガイドローラ２７、天面蓋２６、および筐体２５に蒸着材料が付着することを防ぐことができる。 Further, as shown in circles 506 to 508, the top surface protective plates adjacent to each other in the direction intersecting the slide direction on the horizontal surface with the top surface protective plate form a labyrinth structure. Here, the labyrinth structure means that adjacent protective plates overlap each other in the direction perpendicular to the surface covered by the protective plates, that is, in the vertical direction. In the top surface protective plates 501 to 504, adjacent protective plates overlap in the vertical (Z-axis) direction. As a result, even if the positions of the adjacent top protection plates 501 to 504 change slightly, the top protection plates 501 to 504 can cover the inner surface of the ceiling of the transport space, and the guide roller 27 and the top cover can be covered. It is possible to prevent the vapor deposition material from adhering to the 26 and the housing 25.

また、円５０９に示すように、筐体２５の側面に取りつけられ、搬送空間の側面を覆う側壁防着部２４は、側壁防着部２４に隣接する天面防着板５０１とラビリンス構造を形成する。これによって、天面防着板５０１の位置が多少変化しても、ガイドローラ２７、天面蓋２６、および筐体２５に蒸着材料が付着することを防ぐことができる。 Further, as shown in the circle 509, the side wall protective portion 24 attached to the side surface of the housing 25 and covering the side surface of the transport space forms a labyrinth structure with the top surface protective plate 501 adjacent to the side wall protective portion 24. do. As a result, even if the position of the top surface protective plate 501 is slightly changed, it is possible to prevent the vapor-filmed material from adhering to the guide roller 27, the top surface lid 26, and the housing 25.

また、本実施形態に係る天面蓋２６は、筐体２５との係合構造を有し、筐体２５と天面蓋２６との係合を解除することで筐体２５から取り外すことができる。筐体２５から天面蓋２６を取り外す際には、天面蓋２６に設けられたフック穴５０５にクレーンのフックを取りつけることで、クレーンを用いて天面蓋２６を取り外すことができる。 Further, the top cover 26 according to the present embodiment has an engaging structure with the housing 25, and can be removed from the housing 25 by disengaging the housing 25 from the top lid 26. .. When removing the top cover 26 from the housing 25, the top lid 26 can be removed using the crane by attaching the hook of the crane to the hook hole 505 provided in the top lid 26.

続いて、図６を参照して搬送ユニット２の詳細な構造について説明する。図６では、図４の面４０２での搬送ユニット２の断面図である。また、図６では蒸着ユニット３も図示されている。 Subsequently, the detailed structure of the transport unit 2 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view of the transport unit 2 on the surface 402 of FIG. Further, in FIG. 6, the vapor deposition unit 3 is also shown.

図６では、ガイドローラ２７のスライド方向上の一方では搬送ユニット２の筐体２５または天面蓋２６に設けられたストッパ６０６に当たる。また、スライド方向上の他方ではカバー２８に当たる。カバー２８は、ガイドローラ２７によって天面防着板６０１～６０５を取り外し可能にするか否かを切り替え可能な係止構造である。図６の例では、カバー２８は天面防着板６０１～６０５を天面蓋２６から個別に取り外すことはできない閉状態である。一方、図８を参照して後述するように、カバー２８を開状態に切り替えることで、閉状態でカバー２８が覆っていた筐体２５の開口から天面防着板６０１～６０５をガイドローラ２７に沿って個別に取り外すことができる。また、筐体２５の開口から個別にガイドローラ２７に沿って天面防着板を取りつけて、ストッパ６０６または既に取りつけられた他の天面防着板に当接するまでスライドさせることで、天面防着板をスライド方向で位置合わせすることなく取りつけることができる。このように、脱着構造としてスライド構造を採用することで、天面防着板を着脱する際の作業の効率が向上する。 In FIG. 6, one of the guide rollers 27 in the sliding direction corresponds to the stopper 606 provided on the housing 25 or the top cover 26 of the transport unit 2. The other side in the slide direction hits the cover 28. The cover 28 has a locking structure in which it is possible to switch whether or not the top surface protective plates 601 to 605 are removable by the guide roller 27. In the example of FIG. 6, the cover 28 is in a closed state in which the top surface protective plates 601 to 605 cannot be individually removed from the top surface lid 26. On the other hand, as will be described later with reference to FIG. 8, by switching the cover 28 to the open state, the top surface protective plates 601 to 605 are guided by the guide rollers 27 from the opening of the housing 25 covered by the cover 28 in the closed state. Can be removed individually along. Further, the top surface protective plate is individually attached from the opening of the housing 25 along the guide roller 27, and the top surface is slid until it comes into contact with the stopper 606 or another top surface protective plate already attached. The protective plate can be attached without aligning in the sliding direction. As described above, by adopting the slide structure as the detachable structure, the efficiency of the work when attaching and detaching the top surface protective plate is improved.

また、円６０７～６１０に示すように、スライド方向で隣り合う防着板同士も、ラビリンス構造を形成する。これによって、スライド方向で前後の隣接する天面防着板６０１～６０５の位置が多少変化しても、ガイドローラ２７、天面蓋２６、および筐体２５に蒸着材料が付着することを防ぐことができる。 Further, as shown in circles 607 to 610, the protective plates adjacent to each other in the slide direction also form a labyrinth structure. This prevents the vapor-filmed material from adhering to the guide roller 27, the top cover 26, and the housing 25 even if the positions of the front and rear adjacent top protection plates 601 to 605 are slightly changed in the slide direction. Can be done.

また、スライド方向で同一列の天面防着板６０１～６０５は、同じ形状を有する。これによって、防着板を設置する順序を考慮する必要がなく、天面防着板を着脱する作業が容易になる。 Further, the top surface protective plates 601 to 605 in the same row in the slide direction have the same shape. As a result, it is not necessary to consider the order in which the protective plates are installed, and the work of attaching and detaching the top protective plates becomes easy.

また、円６１１～６１２に示すように、筐体２５の側面に取りつけられ、搬送空間の側面を覆う側壁防着部２４は、側壁防着部２４に隣接する天面防着板６０１、６０５とラビリンス構造を形成する。これによって、天面防着板６０１、６０５の位置が多少変化しても、ガイドローラ２７、天面蓋２６、および筐体２５に蒸着材料が付着することを防ぐことができる。 Further, as shown in circles 611 to 612, the side wall protective portions 24 which are attached to the side surfaces of the housing 25 and cover the side surfaces of the transport space are the top surface protective plates 601 and 605 adjacent to the side wall protective portions 24. Form a labyrinth structure. As a result, even if the positions of the top surface protective plates 601 and 605 are slightly changed, it is possible to prevent the vapor deposition material from adhering to the guide roller 27, the top surface lid 26, and the housing 25.

また、搬送ローラ２２は、シャフト６２１を介して搬送ローラ駆動部６２２によって駆動される。 Further, the transfer roller 22 is driven by the transfer roller drive unit 622 via the shaft 621.

＜搬送ローラ２２とカバーユニットの構成＞
続いて、図７（Ａ）～図１０（Ｂ）を参照して、搬送ローラ２２とカバーユニットの構成の一例について説明する。なお、なお、図７（Ａ）～図１０（Ｂ）において、同様の構成については同一の参照符号を使用する。本実施形態に係る搬送ユニット２に設けられる複数の搬送ローラ２２のそれぞれはカバーユニットを有する。搬送ローラごとにカバーユニットを設けることで、搬送ローラ２２とマスクトレイ２０１との接触などによって生じた粉塵が蒸着ユニット側に落下することを防ぐことができる。 <Structure of transport roller 22 and cover unit>
Subsequently, an example of the configuration of the transport roller 22 and the cover unit will be described with reference to FIGS. 7 (A) to 10 (B). Note that, in FIGS. 7A to 10B, the same reference numerals are used for the same configuration. Each of the plurality of transport rollers 22 provided in the transport unit 2 according to the present embodiment has a cover unit. By providing a cover unit for each transfer roller, it is possible to prevent dust generated by contact between the transfer roller 22 and the mask tray 201 from falling to the vapor deposition unit side.

図７（Ａ）および図７（Ｂ）において、カバーユニットは、図７（Ａ）で網掛けおよびハッチングで示すカバーユニットパーツ７００および図７（Ｂ）で網掛けおよびハッチングで示すカバーユニットパーツ７１０を含む。カバーユニットパーツ７００は、上面部７０１、側面部７０２、取り付け部７０３、底面部７０４、逆流防止部７０５、背面部７０６を含む。カバーユニットパーツ７００および７１０は、ネジ７２０によって脱着可能に係合され、搬送ローラ２２を囲む。なお、図７（Ａ）、図７（Ｂ）において、カバーユニットパーツ７１０は説明を容易にするために透過して図示しているが、カバーユニットパーツ７１０を構成する材料を限定するものではなく、任意の材料を使用することができる。また、後述する図８（Ａ）～図１０（Ｂ）のカバーユニットパーツについても同様である。一例では、カバーユニットパーツ７００および７１０は非磁性体の材料によって構成される。これによって、マグネットによってカバーユニットが磁化して粉塵が付着することを防ぎ、メンテナンス時に粉塵を取り除くことが容易になる。 In FIGS. 7 (A) and 7 (B), the cover unit is the cover unit part 700 shown by shading and hatching in FIG. 7 (A) and the cover unit part 710 shown by shading and hatching in FIG. 7 (B). including. The cover unit part 700 includes an upper surface portion 701, a side surface portion 702, a mounting portion 703, a bottom surface portion 704, a backflow prevention portion 705, and a back surface portion 706. The cover unit parts 700 and 710 are detachably engaged by screws 720 and surround the transport roller 22. In FIGS. 7 (A) and 7 (B), the cover unit part 710 is shown transparently for the sake of simplicity, but the material constituting the cover unit part 710 is not limited. , Any material can be used. The same applies to the cover unit parts shown in FIGS. 8 (A) to 10 (B), which will be described later. In one example, the cover unit parts 700 and 710 are made of a non-magnetic material. This prevents the cover unit from being magnetized by the magnet and adhering to the dust, which makes it easy to remove the dust during maintenance.

上面部７０１は、搬送ローラ２２に載置されたマスクトレイ２０１の搬送を可能にしながら搬送ローラ２２の周面の上側の少なくとも一部を覆うように、上方周面を露出させる開口部を備える。上面部７０１は、鉛直方向（上下方向、Ｚ軸方向）で、搬送ローラ２２の周面の上側を覆っている。換言すると、鉛直方向で上方から見た時、搬送ローラ２２の周面の一部が、上面部７０１によって覆い隠されている。これによって、載置された基板の搬送を行いながら、カバーユニット内に溜まった粉塵がカバーユニット外に出ないようにすることができる。図７（Ａ）に示す上面部７０１は、搬送ローラ２２の回転軸と垂直な面でハの字型の形状をしている。具体的には、搬送方向に沿って並ぶ２つの上面部７０１の間に開口がある。それぞれの上面部７０１についてみると、開口側の端が、開口とは反対側の端よりも、鉛直方向において高い位置にある。すなわち、上面部７０１は、鉛直方向および搬送方向に対してローラ側に傾斜している一対の傾斜部であり、搬送ローラ２２の鉛直方向で上方の周面の接線と平行な角度を有する。これによって、カバーユニットの上面部に粉塵が堆積することを防ぐことができる。また、搬送されるマスクトレイ２０１が自重により撓み、上面部７０１に当接した際に、マスクトレイ２０１を搬送ローラ２２の上方周面に導くガイドとして動作することができる。 The upper surface portion 701 is provided with an opening that exposes the upper peripheral surface so as to cover at least a part of the upper side of the peripheral surface of the transport roller 22 while enabling the transfer of the mask tray 201 mounted on the transfer roller 22. The upper surface portion 701 covers the upper side of the peripheral surface of the transport roller 22 in the vertical direction (vertical direction, Z-axis direction). In other words, when viewed from above in the vertical direction, a part of the peripheral surface of the transport roller 22 is covered by the upper surface portion 701. As a result, it is possible to prevent the dust accumulated in the cover unit from coming out of the cover unit while transporting the mounted substrate. The upper surface portion 701 shown in FIG. 7A has a V-shaped shape on a plane perpendicular to the rotation axis of the transport roller 22. Specifically, there is an opening between two upper surface portions 701 arranged along the transport direction. Looking at each upper surface portion 701, the end on the opening side is higher in the vertical direction than the end on the side opposite to the opening. That is, the upper surface portion 701 is a pair of inclined portions inclined toward the roller side with respect to the vertical direction and the transport direction, and has an angle parallel to the tangent line of the upper peripheral surface in the vertical direction of the transport roller 22. This makes it possible to prevent dust from accumulating on the upper surface of the cover unit. Further, when the mask tray 201 to be transported bends due to its own weight and comes into contact with the upper surface portion 701, it can operate as a guide for guiding the mask tray 201 to the upper peripheral surface of the transport roller 22.

側面部７０２は、背面部７０６および上面部７０１と連結され、搬送ローラ２２の回転軸と平行な平面のうち、搬送ローラ２２の周面に対向する鉛直面を覆う。換言すると、側面部７０２は、搬送ローラ２２の回転軸方向（Ｙ軸方向）に垂直で、かつ、鉛直方向（Ｚ軸方向）に垂直な方向（Ｘ軸方向、搬送方向）で、搬送ローラ２２の周面を覆っている。すなわち、Ｘ軸方向から見ると、搬送ローラ２２の周面は側面部７０２によって覆い隠されている。また、側面部７０２は、カバーユニットパーツ７１０を支持する構造を有する。カバーユニットパーツ７００は取り付け部７０３を介してカバーユニットパーツ７００を搬送ローラ２２のシャフトカバー７５０に固定される。底面部７０４は、トレイ７１２の下方に配置される、マグネット７５１が配置される。逆流防止部７０５は、カバーユニットに溜まった粉塵が搬送ローラ２２の回転などによって生じた気流によって舞い上がりカバーユニット外に出ることを防ぐ。背面部７０６は、回転軸方向で、搬送ローラ２２のシャフト側の側面を覆い、側面部７０２、底面部７０４に連結される。 The side surface portion 702 is connected to the back surface portion 706 and the upper surface portion 701, and covers a vertical surface facing the peripheral surface of the transport roller 22 in a plane parallel to the rotation axis of the transport roller 22. In other words, the side surface portion 702 is perpendicular to the rotation axis direction (Y-axis direction) of the transfer roller 22 and in the direction perpendicular to the vertical direction (Z-axis direction) (X-axis direction, transfer direction). It covers the peripheral surface of. That is, when viewed from the X-axis direction, the peripheral surface of the transport roller 22 is covered by the side surface portion 702. Further, the side surface portion 702 has a structure for supporting the cover unit part 710. In the cover unit part 700, the cover unit part 700 is fixed to the shaft cover 750 of the transport roller 22 via the mounting portion 703. The bottom surface portion 704 is arranged with a magnet 751 arranged below the tray 712. The backflow prevention unit 705 prevents the dust collected in the cover unit from flying up due to the air flow generated by the rotation of the transport roller 22 and the like and going out of the cover unit. The back surface portion 706 covers the side surface of the transport roller 22 on the shaft side in the direction of the rotation axis, and is connected to the side surface portion 702 and the bottom surface portion 704.

続いて、図７（Ｂ）を参照してカバーユニットパーツ７１０の構成を説明する。カバーユニットパーツ７１０は、前面部７１１、トレイ７１２、および側面部７１３を含む。前面部７１１は、搬送ローラ２２の回転軸に垂直な面であって、基板側の面を覆う。前面部７１１は、搬送ローラ２２の回転軸方向で、搬送ローラ２２の基板側の側面を覆っている。換言すると、搬送ローラ２２の回転軸方向において、基板側から見たときに、送ローラ２２の基板側の側面が、前面部７１１によって覆い隠される。トレイ７１２は、搬送ローラ２２の下方に配置される。トレイ７１２は、上が開口である箱型（凹型）の形状をしており、上方からの粉塵を効率よく溜めることができる搬送ローラ２２の下方周面を覆う。また、トレイ７１２は前面部７１１に連結される。側面部７１３は、カバーユニットパーツ７００の側面部７０２に着脱可能に連結される。 Subsequently, the configuration of the cover unit part 710 will be described with reference to FIG. 7B. The cover unit part 710 includes a front portion 711, a tray 712, and a side portion 713. The front surface portion 711 is a surface perpendicular to the rotation axis of the transport roller 22 and covers the surface on the substrate side. The front surface portion 711 covers the side surface of the transfer roller 22 on the substrate side in the direction of the rotation axis of the transfer roller 22. In other words, in the rotation axis direction of the transport roller 22, the side surface of the feed roller 22 on the substrate side is covered by the front surface portion 711 when viewed from the substrate side. The tray 712 is arranged below the transport roller 22. The tray 712 has a box-shaped (concave-shaped) shape with an opening at the top, and covers the lower peripheral surface of the transport roller 22 capable of efficiently collecting dust from above. Further, the tray 712 is connected to the front surface portion 711. The side surface portion 713 is detachably connected to the side surface portion 702 of the cover unit part 700.

これによって、カバーユニットに粉塵が溜まった際には、カバーユニットパーツ７１０をカバーユニットパーツ７００から取り外すことでトレイ７１２に溜まった粉塵を効率的に除去することができる。また、カバーユニットパーツ７１０は非磁性体でできており、マグネットはカバーユニットパーツ７００側に設けられている。このため、カバーユニットパーツ７１０をカバーユニットパーツ７００から取り外して、カバーユニットパーツ７１０から粉塵を除去する際には粉塵をトレイ７１２から取り除きやすい。 As a result, when dust is accumulated in the cover unit, the dust accumulated in the tray 712 can be efficiently removed by removing the cover unit part 710 from the cover unit part 700. Further, the cover unit part 710 is made of a non-magnetic material, and the magnet is provided on the cover unit part 700 side. Therefore, when the cover unit part 710 is removed from the cover unit part 700 and the dust is removed from the cover unit part 710, it is easy to remove the dust from the tray 712.

続いて、図８を参照してマグネット７５１の詳細な構成について説明する。 Subsequently, a detailed configuration of the magnet 751 will be described with reference to FIG.

図８に示すように、マグネット７５１はトレイ７１２の下であって、底面部７０４の上に配置されるマグネットカバー８０３の内部に配置される。マグネット７５１は、搬送ローラ２２の回転軸を通る鉛直面（ＹＺ平面）を避けて、複数配置される。これによって、磁性体を含み、マグネット７５１によって磁化されうる搬送ローラ２２からマグネット７５１の距離を離しながら、マグネット７５１による高い集塵効率を維持することができる。 As shown in FIG. 8, the magnet 751 is arranged under the tray 712 and inside the magnet cover 803 arranged on the bottom surface portion 704. A plurality of magnets 751 are arranged so as to avoid a vertical surface (YZ plane) passing through the rotation axis of the transport roller 22. Thereby, it is possible to maintain high dust collection efficiency by the magnet 751 while keeping the distance of the magnet 751 from the transport roller 22 including the magnetic material and which can be magnetized by the magnet 751.

また、マグネットケース８０３の内部には、ヨーク８０１およびサブヨーク８０２が配置される。これによって、マグネット７５１が形成する磁界の磁束の向きをコントロールすることができる。マグネット７５１が形成する磁界の磁束密度は、図８に示すように、粉塵をためておくトレイ７１２では０．５ｍＴ以上であり、搬送ローラ２２の周面では０．５ｍＴ未満である。搬送ローラ２２の周面の全体が、磁束密度が０．５ｍＴ未満の位置にある。これによって、搬送ローラ２２に含まれる磁性体の磁化を防ぎながら、トレイ７１２で粉塵を保持しておくことができる。より高い集塵効果のために、磁束密度が１０ｍＴ以上の位置に、トレイ７１２の少なくとも一部が配置されるとよい。 Further, a yoke 801 and a sub-yoke 802 are arranged inside the magnet case 803. Thereby, the direction of the magnetic flux of the magnetic field formed by the magnet 751 can be controlled. As shown in FIG. 8, the magnetic flux density of the magnetic field formed by the magnet 751 is 0.5 mT or more on the tray 712 for storing dust, and less than 0.5 mT on the peripheral surface of the transport roller 22. The entire peripheral surface of the transport roller 22 is at a position where the magnetic flux density is less than 0.5 mT. This makes it possible to hold the dust in the tray 712 while preventing the magnetic material contained in the transport roller 22 from being magnetized. For a higher dust collection effect, it is preferable that at least a part of the tray 712 is arranged at a position where the magnetic flux density is 10 mT or more.

また、トレイ７１２は、背面部７０６から取り外される側面部７１１に連結されており、マグネット７５１は背面部７０６に連結された底面部７０４に配置されている。このため、側面部７１１を背面部７０６から取り外すと、磁力によって粉塵が固定されないため、トレイ７１２に溜まった粉塵を容易に除去することができる。 Further, the tray 712 is connected to the side surface portion 711 removed from the back surface portion 706, and the magnet 751 is arranged on the bottom surface portion 704 connected to the back surface portion 706. Therefore, when the side surface portion 711 is removed from the back surface portion 706, the dust is not fixed by the magnetic force, so that the dust accumulated in the tray 712 can be easily removed.

＜他の実施形態＞
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。 <Other embodiments>
The invention is not limited to the above embodiment, and various modifications and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, a claim is attached to publicize the scope of the invention.

１ 成膜装置、２ 搬送ユニット、３ 蒸着ユニット、２２ 搬送ローラ、７００ カバーユニットパーツ、７１０ カバーユニットパーツ、７１２ トレイ、７５１ マグネット 1 film forming equipment, 2 transfer unit, 3 vapor deposition unit, 22 transfer roller, 700 cover unit parts, 710 cover unit parts, 712 trays, 751 magnets

Claims (14)

基板の搬送装置であって、
載置された基板を搬送する搬送ローラと、
前記搬送ローラを囲むカバーユニットと、を備え、
前記カバーユニットは、
前記搬送ローラの下方に設けられたトレイと、
前記トレイの下方に設けられたマグネットと、
を含むことを特徴とする搬送装置。 It is a board transfer device
A transport roller that transports the mounted substrate,
A cover unit that surrounds the transport roller is provided.
The cover unit is
A tray provided below the transport roller and
A magnet provided below the tray and
A transport device comprising: 前記マグネットは、前記搬送ローラの回転軸を通る鉛直面から離れた位置に配置されることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。 The transport device according to claim 1, wherein the magnet is arranged at a position away from the vertical plane passing through the rotation axis of the transport roller. 前記マグネットは、前記搬送ローラの回転軸を通る鉛直面を挟んで複数配置されることを特徴とする請求項２に記載の搬送装置。 The transfer device according to claim 2, wherein a plurality of the magnets are arranged so as to sandwich a vertical surface passing through the rotation axis of the transfer roller. 前記搬送ローラの周面は磁性体によって形成され、
前記搬送ローラの前記周面は、前記マグネットが形成する磁界の磁束密度が０．５ｍＴ未満となる位置に配置され、
前記トレイの少なくとも一部は、前記マグネットが形成する磁界の磁束密度が０．５ｍＴ以上となる位置に配置されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の搬送装置。 The peripheral surface of the transport roller is formed of a magnetic material.
The peripheral surface of the transport roller is arranged at a position where the magnetic flux density of the magnetic field formed by the magnet is less than 0.5 mT.
The transport device according to any one of claims 1 to 3, wherein at least a part of the tray is arranged at a position where the magnetic flux density of the magnetic field formed by the magnet is 0.5 mT or more. 前記トレイの少なくとも一部は、前記マグネットが形成する磁界の磁束密度が１０ｍＴ以上となる位置に配置されることを特徴とする請求項４に記載の搬送装置。 The transport device according to claim 4, wherein at least a part of the tray is arranged at a position where the magnetic flux density of the magnetic field formed by the magnet is 10 mT or more. 前記カバーユニットは、
前記搬送ローラの回転軸方向に平行な鉛直面を覆う側面部と、
前記搬送ローラの回転軸方向で、前記搬送ローラの基板側の側面を覆い、前記側面部から着脱可能な前面部と、を含み、
前記トレイは前記前面部と連結されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の搬送装置。 The cover unit is
A side surface portion covering a vertical surface parallel to the rotation axis direction of the transport roller, and
Includes a front surface portion that covers the side surface of the transfer roller on the substrate side in the rotation axis direction of the transfer roller and is removable from the side surface portion.
The transport device according to any one of claims 1 to 5, wherein the tray is connected to the front surface portion. 前記側面部、前記前面部、および前記トレイは非磁性体によって形成されることを特徴とする請求項６に記載の搬送装置。 The transport device according to claim 6, wherein the side surface portion, the front surface portion, and the tray are formed of a non-magnetic material. 前記カバーユニットは、前記側面部と連結された底面部を含み、
前記マグネットは前記底面部に設置されていることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の搬送装置。 The cover unit includes a bottom surface portion connected to the side surface portion, and includes a bottom surface portion.
The transport device according to claim 6 or 7, wherein the magnet is installed on the bottom surface portion. 前記トレイは非磁性体によって形成されることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の搬送装置。 The transport device according to any one of claims 1 to 8, wherein the tray is formed of a non-magnetic material. 前記マグネットは、非磁性体のマグネットケースの内部に配置され、前記マグネットケースの内部にはヨークが設けられることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の搬送装置。 The transport device according to any one of claims 1 to 9, wherein the magnet is arranged inside a non-magnetic magnet case, and a yoke is provided inside the magnet case. 前記トレイは、上下方向に平行な鉛直面で凹型の形状を有することを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の搬送装置。 The transport device according to any one of claims 1 to 10, wherein the tray has a concave shape on a vertical surface parallel to the vertical direction. 基板を搬送しながら成膜するインライン型の成膜装置であって、
基板を搬送する搬送ユニットと、
前記搬送ユニットの下方に配置され、前記搬送ユニットによって搬送される基板に蒸着材料を放出する蒸着ユニットと、を含み、
前記搬送ユニットは、
載置された基板を搬送する搬送ローラと、
前記搬送ローラを囲むカバーユニットと、を備え、
前記カバーユニットは、
前記搬送ローラの下方に設けられたトレイと、
前記トレイの下方に設けられたマグネットと、
を含むことを特徴とする成膜装置。 It is an in-line type film forming device that forms a film while transporting a substrate.
A transport unit that transports the board and
A vapor deposition unit located below the transport unit that discharges the vapor deposition material onto a substrate transported by the transport unit.
The transport unit is
A transport roller that transports the mounted substrate,
A cover unit that surrounds the transport roller is provided.
The cover unit is
A tray provided below the transport roller and
A magnet provided below the tray and
A film forming apparatus comprising. 請求項１から１１のいずれか１項に記載の搬送装置によって前記基板を搬送する搬送工程と、
搬送される前記基板に蒸着材料を放出する蒸着工程と、を有する
ことを特徴とする成膜方法。 The transport step of transporting the substrate by the transport device according to any one of claims 1 to 11.
A film forming method comprising a vapor deposition step of discharging a vapor deposition material onto the substrate to be conveyed. 請求項１から１１のいずれか１項に記載の搬送装置によって前記基板を搬送する搬送工程と、
搬送される前記基板に蒸着材料を放出する蒸着工程と、を有する
ことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 The transport step of transporting the substrate by the transport device according to any one of claims 1 to 11.
A method for manufacturing an electronic device, comprising: a vapor deposition step of discharging a vapor deposition material onto the substrate to be conveyed.
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