KR20180109438A - Thin film deposition apparatus - Google Patents

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Abstract

An objective of an embodiment of the present invention is to provide a thin film deposition apparatus which is more advantageous in terms of improving efficiency of a thin film deposition process. A thin film deposition apparatus of the present invention comprises: a deposition material guide (40) inducing a deposition material to a substrate (S); and a movable mask device (M) having a mask sheet (50) disposed to pass between the substrate (S) and the deposition material guide (40). In the mask sheet (50), mask pattern regions (51) corresponding to the substrate (S) are arranged along a longitudinal direction. The movable mask device (M) is configured such that the mask sheet (50) is movable in the longitudinal direction so that any one of the mask pattern regions (51) faces the substrate (S) in accordance with a moving direction of the mask sheet (50).

Description

박막증착장비 {THIN FILM DEPOSITION APPARATUS}[0001] THIN FILM DEPOSITION APPARATUS [0002]

본 발명의 실시예는 기판에 박막을 증착하는 데 이용되는 박막증착장비에 관한 것이다.Embodiments of the present invention are directed to thin film deposition equipment used to deposit thin films on substrates.

유기발광다이오드(organic light emitting diode : OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 발광하는 전계발광현상을 이용하여 빛을 내는 자체발광형 유기물질을 말한다. 이러한 유기발광다이오드에 의한 디스플레이는 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박형으로 만들 수 있으며 넓은 시야각과 신속한 응답속도를 가지고 있기 때문에, 일반 LCD(liquid crystal display)와는 달리, 바로 옆에서 보아도 화질이 변하지 않고 화면에 잔상이 남지 않는다. 또한, 소형화면에서는 LCD 이상의 화질과 단순한 제조공정으로 인하여 유리한 가격 경쟁력을 가지므로 차세대 디스플레이 소자로 큰 주목을 받고 있다.An organic light emitting diode (OLED) is a self-emitting organic material that emits light by using an electroluminescence phenomenon in which a fluorescent organic compound emits light when an electric current flows. Such a display using an organic light emitting diode can be driven at a low voltage and can be formed into a thin and thin shape. Since it has a wide viewing angle and a fast response speed, unlike a general LCD (liquid crystal display) There are no afterimages on the screen. In addition, in the case of a small screen, since it has an advantage in cost competitiveness due to the image quality and simple manufacturing process of the LCD, it is receiving great attention as a next generation display device.

유기발광다이오드를 사용하여 모바일 기기(mobile device)용 디스플레이, 컴퓨터용 모니터 또는 텔레비전 등을 생산할 때 요구되는 것이 바로 박막증착장비로, 박막증착장비는 기판에 유기물질을 증착하여 박막을 형성할 수 있게 구성되며 유기발광다이오드의 제조를 위한 중요한 장비 중 하나이다.A thin film deposition apparatus is required for producing a display for a mobile device, a monitor for a computer, or a television using an organic light emitting diode. The thin film deposition apparatus is capable of forming a thin film by depositing an organic material on a substrate And is one of the important equipment for the production of organic light emitting diodes.

일반적으로, 박막증착장비는, 진공분위기 조성이 가능한 증착실을 가진 증착챔버, 증착챔버의 증착실에 반입된 기판을 지지하는 기판 지지유닛, 기판 지지유닛에 의하여 지지된 기판에 증착물질(유기물질)을 제공하는 증착물질 공급유닛, 그리고 기판에 증착물질을 요구되는 패턴으로 증착시키기 위한 마스크를 포함한다.In general, a thin film deposition apparatus includes a deposition chamber having an evaporation chamber capable of forming a vacuum atmosphere, a substrate support unit for supporting a substrate carried into a deposition chamber of the deposition chamber, a deposition material ), And a mask for depositing the deposition material on the substrate in a desired pattern.

근래에는, 박막증착공정 효율을 보다 향상시키기 위하여, 증착물질 공급유닛으로부터의 증착물질을 기판 쪽으로 유도하는 증착물질 가이드가 부가되고, 증착물질 가이드의 증착물질 유출구에 마스크가 장착된 타입의 박막증착장비에 대한 개발이 시도되고 있다.In recent years, in order to further improve the efficiency of the thin film deposition process, there has been proposed a thin film deposition apparatus of the type in which a deposition material guide for guiding the deposition material from the deposition material supply unit to the substrate is added, and a mask is mounted on the deposition material outlet of the deposition material guide Is being developed.

그러나, 증착물질 가이드를 포함하는 박막증착장비는, 마스크에 증착물질(이물)이 부착되어 마스크 패턴을 구성하는 노출영역(개구)이 적어도 부분적으로 막히거나 기판과 마스크의 간격이 설정범위를 벗어난 경우, 마스크에 손상이 발생된 경우, 다른 마스크 패턴이 요구되는 경우 등에 마스크를 증착물질 가이드로부터 분리한 다음 세정하거나 교체하여야 하기 때문에, 박막증착공정 효율을 한층 더 향상시키는 데 한계가 따를 수밖에 없는 문제점이 있다.However, in the thin film deposition apparatus including the deposition material guide, when the deposition material (foreign matter) is adhered to the mask and the exposure area (opening) constituting the mask pattern is at least partially clogged or the gap between the substrate and the mask is out of the setting range , The mask has to be separated from the deposition material guide and then cleaned or replaced when the mask is damaged and another mask pattern is required. Therefore, there is a problem in that the efficiency of the thin film deposition process can not be further improved. have.

본 발명의 실시예는 박막증착공정의 효율성 향상 면에서 보다 유리한 박막증착장비를 제공하는 데 목적이 있다.Embodiments of the present invention are directed to providing a more advantageous thin film deposition apparatus in terms of improving the efficiency of a thin film deposition process.

해결하고자 하는 과제는 이에 제한되지 않고, 언급되지 않은 기타 과제는 통상의 기술자라면 이하의 기재로부터 명확히 이해할 수 있을 것이다.The problems to be solved are not limited thereto, and other matters not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 실시예에 따르면, 기판을 지지하는 기판 지지유닛과; 증착물질을 공급하는 증착물질 공급유닛과; 상기 증착물질 공급유닛으로부터의 증착물질을 상기 기판 지지유닛에 의하여 지지된 기판 쪽으로 유도하는 증착물질 가이드와; 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이를 통과하도록 배치되고 상기 기판에 대응하는 마스크 패턴영역이 복수로 구비되며 복수의 상기 마스크 패턴영역이 길이방향을 따라 배열된 마스크 시트를 가지되, 상기 마스크 시트가 길이방향으로 이동 가능하도록 구성되어 상기 마스크 시트의 이동방향에 따라 상기 마스크 패턴영역들 중 어느 하나가 상기 기판과 대향되는 이동식 마스크 장치를 포함하는, 박막증착장비가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising: a substrate supporting unit for supporting a substrate; A deposition material supply unit for supplying the deposition material; A deposition material guide for guiding the deposition material from the deposition material supply unit toward the substrate supported by the substrate support unit; A plurality of mask pattern regions arranged to pass between the substrate and the deposition material guide and corresponding to the substrate, and a plurality of the mask pattern regions are arranged along the longitudinal direction, wherein the mask sheet has a length And a movable masking device configured to be movable in the direction of the mask sheet so that one of the mask pattern regions faces the substrate in accordance with the moving direction of the mask sheet.

상기 마스크 시트는 엔드리스 시트(endless sheet)이고, 상기 이동식 마스크 장치는 상기 엔드리스 시트가 순환이동 가능하도록 걸린 적어도 셋 이상의 시트 가이드를 더 포함하며, 상기 시트 가이드들 중 어느 둘은 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이의 양 옆쪽에 각각 배치되고, 상기 시트 가이드들 중 나머지는 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이로부터 상기 기판의 배치방향 쪽 또는 상기 증착물질 가이드의 배치방향 쪽으로 이격된 위치에 배치될 수 있다.Wherein the mask sheet is an endless sheet and the movable mask apparatus further comprises at least three sheet guides which are arranged to allow the endless sheet to circulate, And the other of the sheet guides may be disposed at a position spaced from between the substrate and the deposition material guide toward the placement direction of the substrate or the deposition material guide.

또한, 상기 시트 가이드들 중에서 적어도 어느 하나 이상은 롤러 구동유닛에 의하여 회전되는 구동롤러로 구성될 수 있다.In addition, at least one of the sheet guides may be constituted by a driving roller rotated by a roller driving unit.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 박막증착장비는 증착실을 가지며 상기 증착실에 상기 기판 지지유닛 및 상기 증착물질 공급유닛이 수용된 증착챔버를 더 포함할 수 있다. 또, 상기 증착물질 공급유닛은, 도가니와; 상기 도가니를 지지하는 도가니 프레임을 포함할 수 있다. 그리고, 상기 도가니 프레임은 상기 도가니를 상기 증착실의 내면으로부터 이격시키며 상기 증착실의 내면과 상기 도가니 사이에 상기 엔드리스 시트가 통과하는 시트 이동로를 형성하도록 구성될 수 있다.The thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a deposition chamber having an evaporation chamber and accommodating the substrate support unit and the evaporation material supply unit in the evaporation chamber. The evaporation material supply unit may include a crucible; And a crucible frame for supporting the crucible. The crucible frame may be configured to separate the crucible from the inner surface of the evaporation chamber and form a sheet path through which the endless sheet passes between the inner surface of the evaporation chamber and the crucible.

또한, 상기 시트 가이드들 중에서 나머지는 상기 엔드리스 시트가 상기 시트 이동로를 통과하도록 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이로부터 상기 증착물질 가이드의 배치방향 쪽으로 이격된 위치에 배치될 수 있다.The remaining of the sheet guides may be disposed at a position spaced apart from the substrate and the deposition material guide so as to pass the deposition material guide so that the endless sheet passes through the sheet transfer path.

본 발명의 실시예에 따르면, 기판을 지지하는 기판 지지유닛과; 증착물질을 공급하는 증착물질 공급유닛과; 상기 증착물질 공급유닛으로부터의 증착물질을 상기 기판 지지유닛에 의하여 지지된 기판 쪽으로 유도하는 증착물질 가이드와; 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이를 통과하도록 배치되고 상기 기판에 대응하는 마스크 패턴영역이 복수로 구비되며 복수의 상기 마스크 패턴영역이 길이방향을 따라 배열된 마스크 시트를 가지되, 상기 마스크 시트가 길이방향으로 이동 가능하도록 구성되어 상기 마스크 시트의 이동방향에 따라 상기 마스크 패턴영역들 중 어느 하나가 상기 기판과 대향되는 이동식 마스크 장치를 포함하고, 아울러 상기 이동식 마스크 장치가, 상기 마스크 시트가 감긴 시트 공급롤러와; 상기 시트 공급롤러로부터 공급되어 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이를 통과한 마스크 시트가 감기는 시트 회수롤러를 더 포함하는, 박막증착장비가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising: a substrate supporting unit for supporting a substrate; A deposition material supply unit for supplying the deposition material; A deposition material guide for guiding the deposition material from the deposition material supply unit toward the substrate supported by the substrate support unit; A plurality of mask pattern regions arranged to pass between the substrate and the deposition material guide and corresponding to the substrate, and a plurality of the mask pattern regions are arranged along the longitudinal direction, wherein the mask sheet has a length Wherein the movable mask device comprises a movable mask device configured to be movable in a direction of movement of the mask sheet so that any one of the mask pattern areas faces the substrate in accordance with the movement direction of the mask sheet, A roller; And a sheet collection roller that is fed from the sheet feeding roller and through which the mask sheet passed between the substrate and the deposition material guide is wound.

본 발명의 실시예에 따른 박막증착장비는 상기 기판에 대하여 상기 기판과 대향하는 마스크 패턴영역의 위치를 조정하는 마스크 얼라이너(mask aligner)를 더 포함할 수 있다.The thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a mask aligner for adjusting a position of a mask pattern region opposed to the substrate with respect to the substrate.

상기 증착물질 가이드는, 상기 증착물질 공급유닛으로부터의 증착물질이 유입되는 증착물질 유입구와; 증착물질을 상기 기판 쪽으로 유출시키며 면적이 상기 증착물질 유입구에 비하여 큰 증착물질 유출구와; 상기 증착물질 유입구와 상기 증착물질 유출구를 연결하며 상기 증착물질 유입구 쪽에서 상기 증착물질 유출구 쪽으로 갈수록 점차 확장되는 형상을 가진 증착물질 안내통로를 포함할 수 있다.The evaporation material guide may include an evaporation material inlet through which the evaporation material from the evaporation material supply unit flows; A large evaporation material outlet port that discharges the evaporation material toward the substrate and has an area larger than that of the evaporation material inlet; And an evaporation material guide passage connecting the evaporation material inlet and the evaporation material outlet and gradually expanding toward the evaporation material outlet from the evaporation material inlet.

본 발명의 실시예에 따른 박막증착장비는 상기 마스크 시트의 이동경로에서 상기 마스크 시트에 부착된 이물을 제거하는 시트 세정유닛을 더 포함할 수 있다.The thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a sheet cleaning unit for removing foreign matter adhered to the mask sheet in a movement path of the mask sheet.

상기 마스크 패턴영역들 중 적어도 어느 하나 이상은 다른 마스크 패턴을 가지도록 형성될 수 있다.At least one of the mask pattern regions may be formed to have a different mask pattern.

본 발명의 실시예에 따른 박막증착장비는 인라인 타입(in-line type)과 클러스터 타입(cluster type) 중 어느 하나일 수 있다.The thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention may be one of an in-line type and a cluster type.

과제의 해결 수단은 이하에서 설명하는 실시예, 도면 등을 통하여 보다 구체적이고 명확하게 될 것이다. 또한, 이하에서는 언급한 해결 수단 이외의 다양한 해결 수단이 추가로 제시될 수 있다.Means for solving the problems will be more specifically and clarified through the embodiments, drawings, and the like described below. In addition, various solution means other than the above-mentioned solution means may be further proposed.

본 발명의 실시예에 의하면, 마스크 시트가 기판과 증착물질 가이드 사이 영역을 통과하도록 배치되고 복수의 마스크 패턴영역이 마스크 시트에 마스크 시트의 길이방향을 따라 배열되고 마스크 시트가 길이방향으로 이동 가능하게 구성되기 때문에, 일부 마스크 패턴영역에 대하여 세정이 요구되거나 손상이 발생되더라도 마스크 시트를 교체함이 없이 다른 마스크 패턴영역을 사용하여 박막증착공정을 계속적으로 수행할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, a mask sheet is arranged to pass through a region between a substrate and a deposition material guide, and a plurality of mask pattern regions are arranged in the mask sheet along the longitudinal direction of the mask sheet, It is possible to continuously perform the thin film deposition process using another mask pattern area without replacing the mask sheet even if some cleaning is required or damage occurs to some mask pattern area.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막증착장비를 앞에서 본 상태가 도시된 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막증착장비를 위에서 본 상태가 도시된 구성도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막증착장비의 일부 구성이 도시된 사시도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막증착장비를 앞에서 본 상태가 도시된 구성도이다.FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a thin film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic view showing a thin film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing a part of the structure of the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a view illustrating a thin film deposition apparatus according to a second embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 참고로, 본 발명의 실시예를 설명하기 위하여 참조하는 도면에서 구성요소의 크기나 선의 두께 등은 이해의 편의상 다소 과장되게 표현되어 있을 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예를 설명하는 데 사용되는 용어는 주로 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의한 것이므로 사용자, 운용자의 의도, 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 용어에 대해서는 본 명세서의 전반에 걸친 내용을 토대로 하여 해석하는 것이 마땅하겠다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. For a better understanding of the invention, it is to be understood that the size of elements and the thickness of lines may be exaggerated for clarity of understanding. Further, the terms used to describe the embodiments of the present invention are mainly defined in consideration of the functions of the present invention, and thus may be changed depending on the intentions and customs of the user and the operator. Therefore, the terminology should be interpreted based on the contents of the present specification throughout.

본 발명의 제1 실시예에 따른 박막증착장비가 도 1 내지 도 3에 도시되어 있다.A thin film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention is shown in Figs.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막증착장비는, 진공분위기 조성이 가능한 증착실(11)을 가진 증착챔버(10), 증착챔버(10)의 증착실(11)에 반입된 기판(S)을 지지하는 기판 지지유닛(20), 증착물질을 공급하는 증착물질 공급유닛(30), 증착물질 공급유닛(30)으로부터의 증착물질을 기판 지지유닛(20)에 의하여 지지된 기판(S) 쪽으로 유도하는 증착물질 가이드(40), 그리고 기판(S)과 증착물질 가이드(40) 사이의 영역(A)을 통과 가능하도록 배치된 이동식 마스크 시트(50)를 가진 마스크 장치(M)를 포함한다.1 and 2, the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a deposition chamber 10 having a deposition chamber 11 capable of forming a vacuum atmosphere, a deposition chamber 10 for depositing the deposition chamber 10, A substrate supporting unit 20 for supporting the substrate S carried in the chamber 11, a deposition material supply unit 30 for supplying the deposition material, a deposition material supplying unit 30 for supplying the deposition material from the substrate support unit And a movable mask sheet 50 disposed so as to pass through an area A between the substrate S and the deposition material guide 40. The movable mask sheet 50 is arranged to pass through the area A between the substrate S and the deposition material guide 40, And a masking device (M).

증착챔버(10)의 벽체에는 기판(S)(이하, 도면부호의 병기는 생략한다.)을 증착실(11)에 반입하고 반입된 기판을 증착실(11)의 외부로 반출하기 위한 기판 출입구(12)가 마련된다. 기판 출입구(12)는 복수로 구비될 수 있다. 기판 출입구(12)는 출입구 개폐유닛(13)에 의하여 개폐될 수 있다. 도시된 바는 없으나, 증착챔버(10)는 증착실(11)을 진공분위기로 조성하는 배기유닛을 포함한다.The substrate S is carried to the evaporation chamber 11 and the substrate S is transported to the evaporation chamber 11 to transport the substrate to the outside of the evaporation chamber 11, (12). The plurality of substrate entry / exit openings 12 may be provided. The board entry / exit port 12 can be opened / closed by the entrance / Although not shown, the deposition chamber 10 includes an exhaust unit for forming the deposition chamber 11 in a vacuum atmosphere.

기판 지지유닛(20)은 증착실(11)의 상부에 배치되고, 증착물질 공급유닛(30)은 증착실(11)의 하부에 배치되며, 증착물질 가이드(40)는 기판 지지유닛(20)과 증착물질 공급유닛(30) 사이에 배치된다. 증착물질 공급유닛(30)으로부터의 증착물질은 증착물질 가이드(40)의 안내작용에 따라 기판 지지유닛(20)에 의하여 지지된 기판 쪽으로 유도되므로, 기판 지지유닛(20)의 위치와 증착물질 공급유닛(30)의 위치는 각각 증착실(11)의 상부와 증착실(11)의 하부에서 다른 위치로 얼마든지 다양하게 변경될 수 있다. 일례로, 기판 지지유닛(20)의 위치와 증착물질 공급유닛(30)의 위치는 서로 바뀔 수 있다.The substrate supporting unit 20 is disposed on the upper portion of the deposition chamber 11 and the deposition material supply unit 30 is disposed on the lower side of the deposition chamber 11, And the evaporation material supply unit 30. The deposition material from the deposition material supply unit 30 is guided toward the substrate supported by the substrate support unit 20 in accordance with the guiding action of the deposition material guide 40 so that the position of the substrate support unit 20, The position of the unit 30 can be variously changed as much as the upper portion of the vapor deposition chamber 11 and the lower portion of the vapor deposition chamber 11, respectively. For example, the position of the substrate supporting unit 20 and the position of the deposition material supply unit 30 may be switched from each other.

기판 지지유닛(20)은, 기판을 지지한 상태로 기판의 증착면과 평행한 제1 방향(D1)으로 이동 가능하도록 구성될 수도 있고, 기판을 기판의 증착면과 평행한 제1 방향(D1)으로 이동시키도록 구성될 수도 있다. 이에, 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막증착장비는 기판이 이동되면서 기판의 증착면에 대한 박막 형성이 이루어지는 인라인 타입(in-line type)일 수 있다.The substrate supporting unit 20 may be configured to be movable in a first direction D1 parallel to the deposition surface of the substrate while supporting the substrate and may be configured to move the substrate in a first direction D1 ). ≪ / RTI > Accordingly, the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention may be an in-line type in which a thin film is formed on a deposition surface of a substrate while a substrate is being moved.

증착물질 공급유닛(30)은 도가니 본체 및 도가니 가열수단(히터)으로 구성된 도가니(31)를 포함한다. 도가니 본체에는 증착물질이 수용되고, 도가니 가열수단은 도가니 본체에 수용된 증착물질을 증발시키는 데 필요한 열을 제공한다. 증발된 증착물질은, 도가니(31)로부터 방출되고, 기판에 도달하면 기판의 증착면에 증착되어 박막을 형성한다.The evaporation material supply unit 30 includes a crucible 31 composed of a crucible body and crucible heating means (heater). The crucible body contains a deposition material, and the crucible heating means provides the heat necessary to evaporate the deposition material contained in the crucible body. The vaporized deposition material is discharged from the crucible 31, and upon reaching the substrate, is deposited on the deposition surface of the substrate to form a thin film.

증착물질 가이드(40)는 증착물질 공급유닛(30)으로부터의 증착물질이 유입되는 증착물질 유입구(41), 기판 쪽으로 증착물질을 유출시키는 증착물질 유출구(42) 및 증착물질 유입구(41)와 증착물질 유출구(42)를 공간적으로 연결시키는 증착물질 안내통로(43)를 가진다. 이러한 증착물질 가이드(40)는, 증착물질 유출구(42)가 증착물질 유입구(41)에 비하여 큰 면적을 가지도록 형성되고, 증착물질 안내통로(43)가 증착물질 유입구(41) 쪽에서 증착물질 유출구(42) 쪽으로 갈수록 점차 확장되는 형상을 가지도록 형성된다.The deposition material guide 40 includes a deposition material inlet 41 through which the deposition material flows from the deposition material supply unit 30, a deposition material outlet 42 through which the deposition material flows out toward the substrate, And a deposition material guide passage 43 for spatially connecting the material outlet 42 with each other. The evaporation material guide 40 is formed such that the evaporation material outlet 42 has a larger area than the evaporation material inlet 41 and the evaporation material guide passage 43 is formed at the evaporation material inlet 41 side, (42).

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 마스크 시트(50)는 기판에 대응되는 마스크 패턴영역(51)을 가진다. 마스크 시트(50)에는 마스크 패턴영역(51)이 복수로 구비된다. 마스크 시트(50)는 길이방향의 양단이 서로 이어져 고리 형상의 구조를 가진 엔드리스 시트(endless sheet)이고, 복수의 마스크 패턴영역(51)은 엔드리스 시트(50)의 길이방향을 따라 배열된다. 마스크 패턴영역(51)들은 서로 이격되도록 일정한 간격을 두고 일렬로 배치될 수 있다.As shown in Figs. 2 and 3, the mask sheet 50 has a mask pattern region 51 corresponding to the substrate. The mask sheet 50 is provided with a plurality of mask pattern regions 51. The mask sheet 50 is an endless sheet having an annular structure formed by connecting both ends in the longitudinal direction and the plurality of mask pattern areas 51 are arranged along the longitudinal direction of the endless sheet 50. The mask pattern regions 51 may be arranged in a line at regular intervals to be spaced from each other.

마스크 시트(50)는 기판의 증착면과 평행한 제2 방향(D2)으로 배치된다. 제2 방향(D2)은 제1 방향(D1)과 수직을 이루고 기판의 증착면과 평행한 방향인 것이 바람직하다.The mask sheet 50 is disposed in a second direction D2 parallel to the deposition surface of the substrate. The second direction D2 is preferably perpendicular to the first direction D1 and parallel to the deposition surface of the substrate.

각각의 마스크 패턴영역(51)은 기판의 증착면을 증착물질에 노출시키기 위한 노출영역과 차단시키기 위한 차단영역으로 구성된 마스크 패턴을 가진다. 노출영역은 기판의 증착면에 형성할 박막 패턴에 대응하는 패턴으로 형성되고 단수 또는 복수의 개구(52)로 구성된다.Each mask pattern region 51 has a mask pattern composed of an exposure region for exposing the deposition surface of the substrate to the deposition material and a blocking region for blocking the substrate. The exposed region is formed in a pattern corresponding to the thin film pattern to be formed on the deposition surface of the substrate and is composed of a single or a plurality of openings (52).

마스크 장치(M)는 엔드리스 시트(50)가 순환이동 가능하도록 걸린 시트 가이드(60)를 더 포함한다. 시트 가이드(60)는 네 개가 구비된다.The mask apparatus M further includes a sheet guide 60 to which the endless sheet 50 is allowed to circulate. Four sheet guides 60 are provided.

시트 가이드(60)들 중에서 어느 둘은 기판과 증착물질 가이드(40) 사이의 영역(A)의 양 옆쪽(제2방향(D2)의 양쪽, 즉 도 1에서 보아 좌우 양쪽)에 각각 배치되고, 시트 가이드(60)들 중에서 나머지 둘은 기판과 증착물질 가이드(40) 사이의 영역(A)으로부터 증착물질 가이드(40)의 배치방향 쪽으로 이격된 위치에 각각 배치된다. 도 1을 기준으로 할 때, 시트 가이드(60)들 중 나머지 둘은 시트 가이드(60)들 중 어느 둘로부터 하측방향으로 이격된 위치에 배치된다. 실시 조건 등에 따라서는 시트 가이드(60)들 중 나머지 둘을 기판과 증착물질 가이드(40) 사이의 영역(A)으로부터 기판의 배치방향 쪽(즉, 기판 지지유닛(20의 배치방향 쪽)으로 이격된 위치에 배치할 수도 있다.Two of the sheet guides 60 are disposed on both sides of the region A between the substrate and the evaporation material guide 40 (both sides in the second direction D2, that is, both left and right as viewed in Fig. 1) The other two of the sheet guides 60 are disposed at a position spaced apart from the region A between the substrate and the deposition material guide 40 in the direction of arrangement of the deposition material guide 40. [ 1, the remaining two of the sheet guides 60 are disposed at positions spaced downwardly from any two of the sheet guides 60. As shown in Fig. The other two of the sheet guides 60 are spaced apart from the region A between the substrate and the deposition material guide 40 in the direction in which the substrate is arranged (that is, in the direction of arrangement of the substrate supporting units 20) It is also possible to dispose it at the position where it is.

증착물질 공급유닛(30)은 도가니(31)를 지지하여 증착실(11)의 바닥으로부터 상측으로 일정한 높이 이격시키는 도가니 프레임(32)을 더 포함한다. 그리고, 시트 가이드(60)들 중 나머지 둘(도 1에서 보아 상대적으로 하측에 배치된 두 시트 가이드)은 엔드리스 시트(50)가 증착실(11) 바닥과 도가니(31) 사이의 영역(B)을 통과할 수 있는 높이에 위치된다. 물론, 도가니 프레임(32)은 증착실(11) 바닥과 도가니(31) 사이의 영역(B)을 통과하는 엔드리스 시트(50)와의 간섭 발생이 없는 구조를 가지도록 구성된다. 예를 들어, 도가니 프레임(32)은 증착실(11) 바닥과 도가니(31) 사이에 순환이동을 하는 엔드리스 시트(50)가 통과하는 시트 이동로를 형성하도록 구성될 수 있다.The deposition material supply unit 30 further includes a crucible frame 32 that supports the crucible 31 and separates the crucible 31 from the bottom of the deposition chamber 11 by a predetermined height. 1), the endless sheet 50 is placed in the region B between the bottom of the vapor deposition chamber 11 and the crucible 31, and the remaining two sheets of the sheet guides 60 (two sheet guides relatively lower in FIG. As shown in FIG. Of course, the crucible frame 32 is structured so as not to cause interference with the endless sheet 50 passing through the region B between the bottom of the evaporation chamber 11 and the crucible 31. For example, the crucible frame 32 may be configured to form a sheet path through which the endless sheet 50 circulating between the bottom of the deposition chamber 11 and the crucible 31 passes.

실시 조건 등에 따라서는 엔드리스 시트(50)의 원활한 순환이동 등을 위하여 시트 가이드(60)를 다섯 개 이상 구비할 수도 있다. 또는, 엔드리스 시트(50)의 이동경로에서 증착실(11) 바닥과 도가니(31) 사이의 영역(B)을 포함하는 경로를 제외시키고, 시트 가이드(60)를 세 개만 구비할 수도 있다.The number of the sheet guides 60 may be five or more for smooth circulation movement of the endless sheet 50 or the like. Alternatively, only the sheet guide 60 may be provided, excluding the path including the region B between the bottom of the evaporation chamber 11 and the crucible 31 in the movement path of the endless sheet 50.

시트 가이드(60)는 일부 또는 전체가 롤러로 구성될 수 있다. 또한, 시트 가이드(60)를 구성하는 롤러 중 적어도 어느 하나 이상은 롤러 구동유닛(도시되지 않음)에 의하여 회전되는 구동롤러로 구성될 수 있다. 롤러 구동유닛이 작동되면, 엔드리스 시트(50)는 길이방향(제2 방향 참조)을 따라 한쪽 또는 그 반대쪽으로 이동되고, 이에 따라 마스크 패턴영역(51)들 중 어느 하나는 기판과 대향하도록 배치된다.The sheet guide 60 may be partially or wholly made of a roller. At least one of the rollers constituting the sheet guide 60 may be constituted by a drive roller rotated by a roller drive unit (not shown). When the roller driving unit is operated, the endless sheet 50 is moved to one side or the other side in the longitudinal direction (see the second direction), so that any one of the mask pattern regions 51 is arranged to face the substrate .

따라서, 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막증착장비는, 마스크 패턴영역(51)들 중 일부에 대하여 세정이 요구되거나 손상이 발생된 경우, 마스크 패턴영역(51)들 중 다른 것이 기판과 대향하도록 배치시킴으로써, 엔드리스 시트(50)를 교체할 필요 없이 박막증착공정을 계속 수행할 수 있다.Therefore, in the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention, when some of the mask pattern regions 51 are required to be cleaned or damaged, the other of the mask pattern regions 51 faces the substrate So that the thin film deposition process can be continuously performed without the need to replace the endless sheet 50.

또한, 본 발명의 제1 실시예에 따른 박막증착장비는, 마스크 패턴영역(51)들 중 적어도 어느 하나 이상이 다른 마스크 패턴을 가지도록 형성될 수 있는바, 이에 의하면, 기판의 증착면에 박막을 다른 패턴으로 형성하고자 하는 경우에도, 엔드리스 시트(50)를 교체함이 없이 박막증착공정을 수행할 수 있다.Also, in the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention, at least one or more of the mask pattern regions 51 may be formed to have a different mask pattern, The thin film deposition process can be carried out without replacing the endless sheet 50. In addition,

도면부호 80은 기판에 대하여 기판과 대향하는 어느 하나의 마스크 패턴영역(51)의 위치를 조정하는 마스크 얼라이너(mask aligner)이다.Reference numeral 80 denotes a mask aligner for adjusting the position of one mask pattern region 51 opposed to the substrate with respect to the substrate.

마스크 장치(M)는 시트 가이드(60)들을 지지하는 마운팅 프레임(70)을 더 포함하고, 마운팅 프레임(70)은 기판의 증착면에 대한 수직방향의 축을 중심으로 회전 가능하게 설치되며, 마스크 얼라이너(80)는 마운팅 프레임(70)을 회전시켜 기판에 대하여 기판과 대향하는 어느 하나의 마스크 패턴영역(51)의 위치를 조정하도록 구성될 수 있다. 이를 위하여 마스크 얼라이너(80)는 증착실(11)의 내면 및 마운팅 프레임(70)에 양쪽 단부가 각각 회전 가능하게 연결된 실린더를 포함할 수 있다.The mask apparatus M further includes a mounting frame 70 for supporting the sheet guides 60. The mounting frame 70 is rotatably installed around a vertical axis with respect to the deposition surface of the substrate, The liner 80 may be configured to rotate the mounting frame 70 to adjust the position of any one of the mask pattern areas 51 opposite to the substrate with respect to the substrate. To this end, the mask aligner 80 may include a cylinder rotatably connected to the inner surface of the deposition chamber 11 and both ends of the mounting frame 70.

도면부호 90은 엔드리스 시트(50)의 이동경로에서 엔드리스 시트(50)에 부착된 이물을 제거하는 시트 세정유닛으로, 이는 브러시를 포함하고 마스크 장치(M)의 마운팅 프레임(70)에 브러시가 엔드리스 시트(50)에 접촉 가능하도록 장착될 수 있다. 이러한 시트 세정유닛(90)에 의하면, 엔드리스 시트(50)를 분리하여 별도로 세정하여야 하는 주기를 장기화할 수 있다.Reference numeral 90 denotes a sheet cleaning unit that removes foreign matter adhering to the endless sheet 50 in the movement path of the endless sheet 50. The sheet cleaning unit 90 includes a brush and is attached to the mounting frame 70 of the mask apparatus M, And can be mounted so as to be contactable with the sheet 50. [ According to such a sheet cleaning unit 90, it is possible to separate the endless sheet 50 and prolong the cycle for separately cleaning.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막증착장비를 앞에서 본 상태가 도시된 구성도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막증착장비는, 본 발명의 제2 실시예와 비교하여 볼 때, 기타 구성 및 작용은 모두 동일한 것에 대하여, 마스크 시트(50)가 양쪽 단부를 이은 엔드리스 시트가 아닌 일정의 길이를 가진 시트이고, 마스크 장치(M)에 마스크 시트(50)의 양쪽이 각각 감긴 시트 공급롤러(61)와 시트 회수롤러(62)가 적용된 점이 상이하다.FIG. 4 is a view illustrating a thin film deposition apparatus according to a second embodiment of the present invention. 4, the thin film deposition equipment according to the second embodiment of the present invention is similar to the second embodiment of the present invention except that the mask sheet 50, Except that the sheet supply roller 61 and the sheet collecting roller 62 wound on both sides of the mask sheet 50 are applied to the mask apparatus M Do.

시트 공급롤러(61)에는 마스크 시트(50)의 한쪽이 감긴다. 그리고, 시트 회수롤러(62)에는 시트 공급롤러(61)로부터 공급되어 기판과 증착물질 가이드(40) 사이(A)를 통과한 마스크 시트(50)의 다른 쪽이 감긴다.One side of the mask sheet 50 is wound on the sheet feed roller 61. [ The other side of the mask sheet 50 which has been fed from the sheet feeding roller 61 and passed between the substrate and the deposition material guide 40 is wound around the sheet collecting roller 62. [

본 발명의 제2 실시예에 따른 박막증착장비를 구성하는 롤러 구동유닛은 시트 회수롤러(62)를 회전시키도록 적용되어, 롤러 구동유닛이 작동되면, 시트 공급롤러(61)로부터는 마스크 시트(50)가 풀리고, 시트 회수롤러(62)에는 시트 공급롤러(61)로부터의 마스크 시트(50)가 감긴다. 시트 공급롤러(61)를 회전시키는 롤러 구동유닛을 추가로 적용하여, 시트 회수롤러(62)로부터 시트 공급롤러(61)에 마스트 시트(50)를 감는 과정을 선택적으로 수행할 수도 있다.The roller drive unit constituting the thin film deposition apparatus according to the second embodiment of the present invention is adapted to rotate the sheet collection roller 62 so that the sheet supply roller 61 is driven to rotate the mask sheet 50 is released and the mask sheet 50 from the sheet feed roller 61 is wound on the sheet collecting roller 62. [ A process of winding the mast sheet 50 from the sheet collecting roller 62 to the sheet feeding roller 61 may be selectively performed by further applying a roller driving unit that rotates the sheet feeding roller 61. [

상기와 같은 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막증착장비도, 기판과 대향하는 마스크 패턴영역(51)을 변경하면서 마스크 시트(50)를 교체함이 없이 박막증착공정을 계속 수행할 수 있다.In the thin film deposition apparatus according to the second embodiment of the present invention as described above, the thin film deposition process can be continued without changing the mask sheet 50 while changing the mask pattern area 51 opposed to the substrate.

이상에서는 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 개시된 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되지 않으며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 이내에서 통상의 기술자에 의하여 다양하게 변형될 수 있다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention.

또한, 본 발명의 실시예에서 설명한 기술적 사상은, 각각 독립적으로 실시될 수도 있고, 둘 이상이 서로 조합되어 실시될 수도 있다.Further, the technical ideas described in the embodiments of the present invention may be performed independently of each other, or two or more may be implemented in combination with each other.

10 : 증착챔버
20 : 기판 지지유닛
30 : 증착물질 공급유닛
40 : 증착물질 가이드
41 : 증착물질 유입구
42 : 증착물질 유출구
43 : 증착물질 안내통로
50 : 마스크 시트
60 : 시트 가이드
61 : 시트 공급롤러
62 : 시트 회수롤러
70 : 마운팅 프레임
80 : 마스크 얼라이너
90 : 시트 세정유닛
M : 마스크 장치
S : 기판10: Deposition chamber
20:
30: evaporation material supply unit
40: Evaporation material guide
41: deposition material inlet
42: Evaporation material outlet
43: evaporation material guide passage
50: Mask sheet
60: Sheet guide
61: sheet feed roller
62: sheet collecting roller
70: Mounting frame
80: Mask aligner
90: sheet cleaning unit
M: mask device
S: substrate

Claims (8)

기판을 지지하는 기판 지지유닛과;
증착물질을 공급하는 증착물질 공급유닛과;
상기 증착물질 공급유닛으로부터의 증착물질을 상기 기판 지지유닛에 의하여 지지된 기판 쪽으로 유도하는 증착물질 가이드와;
상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이를 통과하도록 배치되고 상기 기판에 대응하는 마스크 패턴영역이 복수로 구비되며 복수의 상기 마스크 패턴영역이 길이방향을 따라 배열된 마스크 시트를 가지되, 상기 마스크 시트가 길이방향으로 이동 가능하도록 구성되어 상기 마스크 시트의 이동방향에 따라 상기 마스크 패턴영역들 중 어느 하나가 상기 기판과 대향되는 이동식 마스크 장치를 포함하는,
박막증착장비.A substrate supporting unit for supporting the substrate;
A deposition material supply unit for supplying the deposition material;
A deposition material guide for guiding the deposition material from the deposition material supply unit toward the substrate supported by the substrate support unit;
A plurality of mask pattern regions arranged to pass between the substrate and the deposition material guide and corresponding to the substrate, and a plurality of the mask pattern regions are arranged along the longitudinal direction, wherein the mask sheet has a length And a movable mask device configured to be movable in the direction of the mask sheet so that any one of the mask pattern areas is opposed to the substrate in accordance with the movement direction of the mask sheet.
Thin Film Deposition Equipment. 청구항 1에 있어서,
상기 마스크 시트는 엔드리스 시트(endless sheet)이고,
상기 이동식 마스크 장치는 상기 엔드리스 시트가 순환이동 가능하도록 걸린 적어도 셋 이상의 시트 가이드를 더 포함하며,
상기 시트 가이드들 중 어느 둘은 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이의 양 옆쪽에 각각 배치되고, 상기 시트 가이드들 중 나머지는 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이로부터 상기 기판의 배치방향 쪽 또는 상기 증착물질 가이드의 배치방향 쪽으로 이격된 위치에 배치된,
박막증착장비.The method according to claim 1,
The mask sheet is an endless sheet,
Wherein the movable mask device further comprises at least three sheet guides which are engaged with the endless sheet so as to be rotatable,
Wherein at least two of the sheet guides are disposed on both sides of the substrate and the deposition material guide, and the remainder of the sheet guides are disposed on the deposition direction side of the substrate from the substrate and the deposition material guide, And a guide member disposed at a position spaced apart from the guide surface,
Thin Film Deposition Equipment. 청구항 2에 있어서,
상기 시트 가이드들 중 적어도 어느 하나 이상은 롤러 구동유닛에 의하여 회전되는 구동롤러로 구성된,
박막증착장비.The method of claim 2,
Wherein at least one of the sheet guides is constituted by a driving roller rotated by a roller driving unit,
Thin Film Deposition Equipment. 청구항 1에 있어서,
상기 이동식 마스크 장치는,
상기 마스크 시트가 감긴 시트 공급롤러와;
상기 시트 공급롤러로부터 공급되어 상기 기판과 상기 증착물질 가이드 사이를 통과한 마스크 시트가 감기는 시트 회수롤러를 더 포함하는,
박막증착장비.The method according to claim 1,
Wherein the mobile mask device comprises:
A sheet feeding roller on which the mask sheet is wound;
Further comprising a sheet collection roller that is supplied from the sheet supply roller and through which a mask sheet passed between the substrate and the deposition material guide is wound,
Thin Film Deposition Equipment. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나에 있어서,
상기 기판에 대하여 상기 기판과 대향하는 마스크 패턴영역의 위치를 조정하는 마스크 얼라이너(mask aligner)를 더 포함하는,
박막증착장비.The method according to any one of claims 1 to 4,
Further comprising a mask aligner for adjusting a position of a mask pattern region opposed to the substrate with respect to the substrate,
Thin Film Deposition Equipment. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나에 있어서,
상기 증착물질 가이드는,
상기 증착물질 공급유닛으로부터의 증착물질이 유입되는 증착물질 유입구와;
증착물질을 상기 기판 쪽으로 유출시키며 면적이 상기 증착물질 유입구에 비하여 큰 증착물질 유출구와;
상기 증착물질 유입구와 상기 증착물질 유출구를 연결하며 상기 증착물질 유입구 쪽에서 상기 증착물질 유출구 쪽으로 갈수록 점차 확장되는 형상을 가진 증착물질 안내통로를 포함하는,
박막증착장비.The method according to any one of claims 1 to 4,
The deposition material guide
A deposition material inlet through which the deposition material flows from the deposition material supply unit;
A large evaporation material outlet port that discharges the evaporation material toward the substrate and has an area larger than that of the evaporation material inlet;
And an evaporation material guide passage connecting the evaporation material inlet and the evaporation material outlet and gradually expanding toward the evaporation material outlet from the evaporation material inlet,
Thin Film Deposition Equipment. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나에 있어서,
상기 마스크 시트의 이동경로에서 상기 마스크 시트에 부착된 이물을 제거하는 시트 세정유닛을 더 포함하는,
박막증착장비.The method according to any one of claims 1 to 4,
Further comprising a sheet cleaning unit for removing foreign substances adhered to the mask sheet in a movement path of the mask sheet,
Thin Film Deposition Equipment. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나에 있어서,
상기 마스크 패턴영역들 중 적어도 어느 하나 이상은 다른 마스크 패턴을 가지도록 형성된,
박막증착장비.The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein at least one of the mask pattern regions is formed to have a different mask pattern,
Thin Film Deposition Equipment.
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