KR100637714B1 - Apparatus for treating substrate - Google Patents

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KR100637714B1 KR20050027018A KR20050027018A KR100637714B1 KR 100637714 B1 KR100637714 B1 KR 100637714B1 KR 20050027018 A KR20050027018 A KR 20050027018A KR 20050027018 A KR20050027018 A KR 20050027018A KR 100637714 B1 KR100637714 B1 KR 100637714B1
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명은 유기 전계 발광 소자 제조에 사용되는 증착 장치를 제공한다. The present invention provides a deposition apparatus used for producing the organic EL device. 증착 장치는 복수의 챔버들을 가지며, 기판은 기판 이송체에 고정되어 챔버들간 이동된다. Deposition apparatus having a plurality of chambers, the substrate is fixed to the substrate conveying member is moved between the chambers. 기판 이송체 또는 각각의 챔버 내에는 기판 이송체를 구동하는 구동기가 수용되는 구동 챔버가 제공된다. The substrate conveying member or each chamber is provided with a drive chamber which accommodates a driver for driving the substrate transfer body. 구동기가 구동 챔버 내에 설치되어 있으므로 기판 이송체의 구동과정에서 발생되는 파티클이 기판으로 재흡착되는 것을 방지할 수 있다. Since the actuator is installed in a driving chamber thereby preventing the particles generated from the driving process of a substrate conveying member to be re-adsorbed to the substrate.
증착, 유기 전계 발광 소자, 롤러, 기판 이송체, 구동 챔버 Depositing organic electroluminescent device, a roller, a substrate conveying member, the driving chamber

Description

기판 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE} The substrate processing apparatus {APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도; 1 is a perspective view schematically showing a substrate processing apparatus in accordance with one embodiment of the present invention;

도 2는 마스크 부착(제거) 챔버의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도; 2 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the mask attachment chamber (removed);

도 3은 증착 챔버 내부의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도; 3 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the deposition chamber;

도 4는 도 1의 장치에서 공정챔버들의 내부를 보여주는 단면도; 4 is a sectional view showing the inside of the process chamber in the apparatus of Figure 1;

도 5는 본 발명의 일 예에 의한 기판 이송체의 부분 단면도; Figure 5 is a partial cross-sectional view of a substrate conveying member according to one embodiment of the present invention;

도 6은 도 5의 기판 이송체에 설치된 구동 챔버와 그 내부에 설치된 구동기의 일 예를 보여주는 단면도; 6 is a sectional view showing an example of an actuator provided inside the driving chamber provided in a substrate conveying member of Figure 5 that;

도 7은 도 6의 구동기의 평면도이다 7 is a plan view of the actuator of Figure 6

도 8은 본 발명의 다른 예에 의한 기판 이송체의 정면도; Figure 8 is a front view of a substrate conveying member according to another embodiment of the present invention;

도 9는 도 8의 기판 이송체의 구동에 사용되는 구동 챔버와 그 내부에 설치된 구동기의 일 예를 보여주는 단면도; 9 is a sectional view showing an example of the drive chamber and the actuator installed therein is used for driving the substrate transfer element of Figure 8; 그리고 And

도 10은 도 9의 구동기의 평면도이다. 10 is a plan view of the actuator of Fig.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 * * Description of the Related Art *

40 : 공정 챔버 42 : 마스크 부착 챔버 40: processing chamber 42: the mask attachment chamber

44 : 증착 챔버 46 : 마스크 제거 챔버 44: vapor deposition chamber 46: the mask removal chamber

48 : 증착물질 공급 챔버 110 : 기판 이송체 48: deposition material supply chamber 110: substrate conveying member

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 하나의 챔버 내에서 또는 복수의 챔버들간 기판을 이송하는 기판 이송체를 포함하는 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a device for processing a substrate, more particularly, to an apparatus comprising a substrate conveying member for transporting the substrate among the one or plurality of chambers in the chamber.

정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. The information processing device is rapidly developed to have functions and faster information processing speed of various types. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하는 디스플레이 장치를 가진다. This information processing apparatus has a display device for displaying the operation information. 과거에는 주로 디스플레이 장치로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 사용되었으나, 현재에는 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD)가 주로 사용되고 있다. In the past, but primarily a CRT (cathode ray tube) monitor is used as a display device, the current has mainly been used a liquid crystal display device (liquid crystal display, LCD). 그러나 액정 표시 장치는 별도의 광원을 필요로 하는 장치로서 밝기, 시야각 및 대면적화 등에 한계가 있어, 최근에는 저전압 구동, 자기 발광, 경량 박형, 넓은 시야각, 그리고 빠른 응답 속도의 장점을 갖는 유기 전계 발광 소자를 이용한 표시 장치가 각광받고 있다. However, the liquid crystal display device includes a brightness as a device that requires a separate light source, there is a limit such as field of view and large area, in recent years, low-voltage driving, a self-light-emitting, lightweight, thin, wide viewing angle, and the organic light emission having the advantage of fast response time the display apparatus using the device is spotlighted.

유기 전계 발광 소자는 유기 박막에 주입되는 전자와 정공이 재결합하고 남은 에너지가 빛으로 발생되는 것으로서 유기 물질의 도펀트(dopant)의 양에 따라 나오는 빛의 파장을 조절할 수 있고, 풀 칼라(full color)의 구현이 가능하다. The organic electroluminescent device may be as the electrons and holes recombine, and the remaining energy to be injected into the organic thin film caused by light control The wavelengths of the light according to the amount of dopant (dopant) of the organic material, a full-color (full color) this implementation is possible.

유기 박막을 증착하기 위해 일반적으로 사용되고 있는 장치는 공정챔버들간 기판을 이송하는 하나의 긴 이송챔버와 이송챔버의 아래에 제공되며 증착공정이 수행되는 증착 챔버를 가진다. Device which is generally used to deposit an organic thin film is provided on the bottom of a long transfer chamber and the transfer chamber for transporting the substrate between the process chamber has a deposition chamber in which a deposition process is performed. 이송챔버에는 이송 가이드가 제공되고, 기판은 기판 이송체에 지지된 상태로 이송챔버 내에서 이동된다. The transfer chamber is provided with a conveyance guide, the substrate is moved in the transfer chamber to the substrate supported on the conveying member. 기판 이송체는 이송 가이드를 따라 직선이동되며, 해당 증착 챔버의 상부에 위치되면 기판을 증착 챔버 아래로 이동시킨다. When a substrate conveying member is moved linearly along a transfer guide, positioned on top of the deposition chamber and moving the substrate to below the deposition chamber.

그러나 상술한 장치 사용시 이송챔버와 증착 챔버가 각각 제공되므로 공정 수행을 위해 기판은 이송챔버, 증착챔버, 이송챔버로 번갈아 이동되어야 한다. However, for the process is performed so that when using the above-described apparatus the transfer chamber and the deposition chamber is provided, each substrate must be moved alternately to the transfer chamber, a deposition chamber, the transfer chamber. 따라서 공정에 소요되는 시간이 길고, 설비가 대형화되는 문제가 있다. Therefore, a long time to process, there is a problem that the facility is large.

또한, 상술한 장치에서 기판 이송체의 구동을 위해 사용되는 구동기는 다양한 기어조립체들을 포함하고 있어 파티클이 다량 발생하며, 기판 이송체의 구동으로 인해 파티클이 발생되는 영역과 공정 진행시 기판이 위치되는 영역이 별도로 구획되어 있지 않아 기판에 파티클이 부착되기 쉽다. Further, the actuator used for driving a substrate conveying member in the above-described apparatus because it contains a variety of gear assembly, and the particles are much generated, due to the operation of the substrate conveying member in which the substrate during progress area and the process in which the particles are generated position this region does not have a separate compartment susceptible to particles adhering to the substrate.

본 발명은 다수의 증착 공정을 연속적으로 수행하기에 적합한 새로운 형태의 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a new type of apparatus suitable for performing a number of deposition processes continuously.

또한, 본 발명은 기판 이송체의 구동시 파티클 발생을 최소화할 수 있는 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. Further, an object of the present invention is to provide a device that can minimize the generation of particles during the driving of the substrate conveying member.

또한, 본 발명은 기판 이송체의 구동시 발생되는 파티클이 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. Further, an object of the present invention is to provide a device capable of preventing the particles generated during the operation of the substrate conveying member are attached to the substrate.

본 발명은 기판 상에 소정 공정을 수행하는 기판 처리 장치를 제공한다. The present invention provides a substrate processing apparatus for performing a predetermined process on the substrate. 본 발명의 일 특징에 의하면, 상기 장치는 하나 또는 복수의 공정 챔버들과 기판을 지지하는 기판 이송체를 가진다. According to one aspect of the invention, the device has a substrate conveying member for supporting one or a plurality of process chambers and the substrate. 상기 기판 이송체는 각각의 상기 공정 챔버 내에서 또는 상기 공정 챔버들간 기판을 이송한다. The substrate conveying member will transfer a substrate between each of the process chamber or in the process chamber. 상기 기판 이송체를 직선 이동시키기 위해 구동기가 제공된다. The actuator is provided for moving the substrate linearly conveying member. 상기 기판 이송체에는 상기 공정 챔버 내에서 기판이 위치되는 영역과 분리되는 공간을 제공하며 상기 구동기를 수용하는 구동 챔버가 설치된다. The substrate conveying member is provided with the space region and the separation in which the substrate is located within the process chamber and a drive chamber accommodating the drive is provided. 상술한 구조로 인해, 상기 기판 지지체를 구동하는 과정에서 발생되는 파티클은 상기 구동챔버 내에 잔류하므로, 이들 파티클이 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있다. Due to the above structure, the particles generated in the process of driving the substrate support can be prevented from remaining, so, these particles are attached to the substrate in the driving chamber. 제조상의 편리를 위해 상기 구동챔버는 상기 기판 지지체와 일체로 구성되는 것이 바람직하며, 기판 이송체의 안정적인 이동을 위해 상기 구동 챔버는 상기 기판 이송체의 양측 가장자리에 각각 제공되는 것이 바람직하다. The driving chamber for the convenience of manufacturing the said drive chamber to ensure reliable movement of the desirable, and a substrate conveying member that is configured integrally with the substrate support is preferably provided on each side edge of the substrate conveying member.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 장치는 상기 기판 이송체의 직선 이동을 안내하는 이송 가이드를 가진다. According to a further feature of the present invention, the apparatus has a conveyance guide for guiding a linear movement of the substrate conveying member. 상기 구동 챔버에는 상기 이송 가이드가 삽입되는 개구가 형성되며, 상기 이송 가이드는 상기 구동 챔버의 외부에 배치되며 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 벽과 대향되는 상부벽, 상기 상부벽으로부터 연장되며 상기 개구를 통해 삽입되는 중간벽, 상기 중간벽으로부터 연장되어 상기 구동 챔버 내에 배치되며 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 벽과 대향되는 하부벽을 가진다. The drive chamber is formed with an opening wherein the transfer guide is inserted, wherein the transfer guide is arranged outside of said drive chamber and extending from top wall, said top wall opposite to the wall of the drive chamber to said opening formed in said opening an intermediate wall, which is inserted through and extends from the intermediate wall disposed in the drive chamber has a lower wall that faces the wall of the drive chamber is formed in the opening. 상기 상부벽, 상기 중간벽, 그리고 상기 하부벽은 상기 개구가 형성된 상기 구동 챔버의 벽과 인접하게 배치된다. The top wall, intermediate wall, and the bottom wall is disposed adjacent the wall of the drive chamber is formed in the opening. 상술한 구조로 인해 상기 구동 챔버 내에서 발생된 파티클이 상기 기판이 위치되는 영역으로 유입되는 경로가 굴곡져 기판으로 파티클이 유입되는 것을 최소화한다. Due to the above structure that minimizes the generation of particles within the drive chamber in which the path becomes the bend entering the region in which the substrate is located the particles flowing into the substrate.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 구동기는 모터에 의해 회전되는 제 1회전축, 상기 제 1회전축과 수직하게 배치되는 하나 또는 복수의 제 2회전축, 상기 제 2회전축을 삽입하며 상기 기판 이송체에 접촉되는 적어도 하나의 구동 롤러, 그리고 상기 제 1회전축의 회전력을 상기 제 2회전축에 전달하는 전달부재를 포함한다. According to a further feature of the invention, the actuator is inserted into the first rotation axis, the first axis of rotation and one or a plurality of the second rotational axis, the second rotation axis that is perpendicular to the arrangement to be rotated by a motor, and the substrate conveying member at least one drive roller which is in contact, and includes a transmission member for transmitting a rotating force of the first rotating shaft to the second rotating shaft. 상기 전달부재는 상기 제 1회전축을 삽입하는 제 1자성체와 상기 제 1자성체와 접하거나 인접한 위치에서 상기 제 1자성체에 수직하게 배치되며 상기 제 2회전축을 삽입하는 제 2자성체를 포함한다. The transfer member includes a second magnetic body in the first magnetic body and said first magnetic body in contact with or adjacent to the position to insert the first rotation axis is arranged perpendicularly to the first magnetic material inserted to the second rotation axis. 전달부재로 기어 조립체 대신 상술한 자성체들이 사용되므로, 상기 제 1회전축으로부터 상기 제 2회전축으로 구동력 제공시 마찰로 인해 파티클이 발생되는 것을 방지할 수 있다. Since gear assembly instead of the above-described magnetic material are used as the delivery member, due to friction when a driving force provided to the second rotation axis from the first rotation shaft can be prevented from the generation of particles. 상기 모터의 회전력은 상기 제 1회전축에 직접 전달되거나, 상기 모터의 회전력을 전달하는 복수의 구성요소들을 매개하여 전달될 수 있다. Rotational force of the motor may be directly transmitted to the first rotation axis, it can be transmitted to a plurality of intermediate components for transmitting the rotating force of the motor.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 구동기는 상기 구동 챔버 내에 배치되며 상기 구동기의 측벽과 접하여 회전되도록 상기 하부벽에 설치되는 가이드 롤러를 더 구비한다. According to a further feature of the invention, the actuator further includes a guide roller disposed in the drive chamber, which is provided in the lower wall such that the side walls in contact with the rotation of the drive. 상기 가이드 롤러는 상기 기판 이송체가 그 이동방향과 수직한 방향으로 흔들리는 것을 방지한다. The guide rollers are prevented from swinging in a direction perpendicular to the moving direction of the substrate body is transferred.

본 발명의 다른 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는 하나 또는 복수의 공정 챔버들과 기판을 지지하는 기판 이송체를 가진다. According to another embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus has a substrate conveying member for supporting one or a plurality of process chambers and the substrate. 상기 기판 이송체는 상기 하나의 공정 챔버 내에서 또는 상기 공정 챔버들간에 기판을 이송하며, 구동기에 의해 직선 이동된다. The substrate conveying member, and transferring the substrate between the one of the processing chamber or within the process chamber, and is moved by the linear actuator. 상기 공정 챔버의 내측벽 양쪽에는 각각 상기 기판 이송체에 지지되 는 기판이 위치되는 영역과 분리되는 공간을 제공하는 구동 챔버를 포함한다. There are inner walls on both sides of the process chamber, respectively supported by the substrate conveying member is a drive chamber to provide a space in which the separation zone in which the substrate is located. 이는 상술한 바와 같이 상기 기판 지지체를 구동하는 과정에서 발생되는 파티클이 기판에 부착되는 것을 방지한다. Which as described above prevents the particles generated in the process of driving the substrate support being attached to the substrate.

본 발명의 일 특징에 의하면, 상기 기판 이송체는 기판을 지지하는 지지판과 이로부터 연장되는 격리벽들을 가진다. According to one feature of the present invention, the substrate conveying member has the isolation wall extending from the support plate and which for supporting a substrate. 상기 격리벽들은 공정 진행시 상기 구동 챔버의 외부에 위치되도록 배치되며 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 측벽과 대향되도록 상기 지지판으로부터 돌출되는 외부 격리벽과 공정 진행시 상기 구동 챔버의 내부에 위치되도록 배치되며 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 측벽과 대향되도록 상기 지지판으로부터 돌출되는 내부 격리벽을 포함한다. The isolation wall being arranged so as to be located on the outside of the drive chamber when proceeding step is arranged to be positioned inside the drive chamber when going outside, isolated walls and step projecting from the support plate to face the side wall of the drive chamber is the opening formed It includes an inner isolation wall projecting from the support plate to face the side wall of the drive chamber is formed in the opening. 상기 외부 격리벽과 상기 내부 격리벽은 상기 구동 챔버의 측벽과 인접하도록 위치된다. The isolated external wall and the inner isolation wall is positioned to close to the side wall of the drive chamber. 이는 상기 구동 챔버 내에서 발생된 파티클이 상기 기판이 위치되는 영역으로 유입되는 것을 방지한다. This prevents the particles generated in the drive chamber from entering the region in which the substrate is located.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 구동기는 상기 기판 이송체의 상부에 제공되는 상부 구동부재와 상기 기판 이송체의 하부에 제공되는 하부 구동부재를 가진다. According to a further feature of the invention, the actuator has a bottom drive member provided at the lower portion of the upper driving member and the substrate conveying member provided at an upper portion of the substrate conveying member. 상기 상부 구동부재와 상기 하부 구동부재 각각은 상기 기판 이송체의 상부와 하부에 각각 제공되는 제 1회전축, 각각의 상기 제 1회전축과 수직하게 배치되는 제 2회전축, 상기 제 2회전축을 삽입하며 상기 기판 이송체의 상부면 또는 하부면에 접촉되는 적어도 하나의 구동 롤러, 그리고 상기 제 1회전축의 회전력을 상기 제 2회전축에 전달하는 전달부재를 가진다. Each of the upper driving member and the lower driven member, and inserting the second rotary shaft, the second rotation axis that is perpendicular to the arrangement of the first axis of rotation, each of the first rotation shaft are provided respectively on the top and bottom of the substrate conveying member wherein the substrate top surface of the conveying member or the at least one drive roller being in contact with the lower surface, and has a transmission member for transmitting a rotating force of the first rotating shaft to the second rotating shaft. 상기 전달 부재는 상기 제 1회전축을 삽입하는 제 1자성체와 상기 제 1자성체와 접하거나 인접한 위치에서 상기 제 1자성체에 수직하게 배치되며 상기 제 2회전축을 삽입하는 제 2자성체를 가진다. It said transmission member is in the first magnetic body and said first magnetic body and in contact or adjacent to the position to insert the first rotation axis is arranged perpendicularly to the first magnetic body has a second magnetic body to insert the second rotation axis. 기어 조립체 대신 자성체들이 사용되므로 상기 제 1회전축의 회전력을 상기 제 2회전축으로 전달시 기계적인 접촉으로 인해 파티클이 발생되는 것을 방지할 수 있다. Gear assembly instead of a magnetic body, so that because of the rotation of the first rotating shaft in a mechanical contact with the transfer to the second rotary shaft can be prevented from the generation of particles.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 구동기는 상기 기판 이송체의 측벽과 접하여 회전되도록 상기 구동 챔버 내에 설치되는 가이드 롤러를 더 포함한다. According to a further feature of the invention, the driver further comprises a guide roller which is disposed in the drive chamber so as to be rotated in contact with the side wall of the substrate conveying member. 이는 기판 이송체가 이동시 이동 방향과 수직한 방향으로 흔들리는 것을 방지한다. This prevents the swinging movement to the moving body is a direction normal to the direction of conveying the substrate.

본 발명의 기판 처리 장치들은 유기 전계 발광 소자 제조에 사용되는 기판 상에 유기 박막을 증착하는 공정을 수행하는 장치일 수 있으며, 상기 공정챔버들은 일렬로 복수개가 배치되고 측벽에는 상기 기판 이송체가 이동되는 개구가 제공될 수 있다. And the apparatus of the present invention may be an apparatus for performing a process of depositing an organic thin film on a substrate used for manufacturing an organic EL device, the process chamber are arranged a plurality of lining up the side wall has to be moved body conveying the substrate an opening may be provided.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 10을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. With reference to the embodiments 1 to 10, also the accompanying drawings of the present invention will be described in more detail below. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. Embodiment of the invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention is not to be construed as being limited due to the embodiments set forth herein. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. This example is provided to more completely describe the present invention to those having ordinary skill in the art. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 위해 과장된 것이다. Therefore, the shape of the elements in the drawings are exaggerated for more clear explanation.

또한, 본 실시예에서는 기판 처리 장치로 유기 전계 발광 소자(electro-luminescent light emitting device) 제조에 사용되는 기판(3) 상에 유기 박막을 증착하는 장치를 예로 들어 설명한다. In this embodiment, it will be described as an apparatus for depositing an organic thin film on a substrate (3) used for producing the organic electroluminescent device (electro-luminescent light emitting device) to a substrate processing apparatus as an example. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정 되지 않으며, 기판을 직선 이동하는 기판 이송체를 포함하는 모든 장치에 적용 가능하다. However, not limited to this is the spirit of the present invention, it is applicable to a substrate in any apparatus comprising a substrate conveying member for moving linearly.

도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 증착 장치(1)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 1 is a view schematically showing a deposition apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. 도 1을 참조하면, 증착 장치(1)는 복수의 챔버들을 포함한다. 1, the deposition apparatus 1 includes a plurality of chambers. 챔버들은 로딩 챔버(10), 크리닝 챔버(30), 공정 챔버들(40), 그리고 언로딩 챔버(20)를 포함하고, 각각의 공정 챔버(40)는 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)를 가진다. Deposition chambers chambers loading chamber 10, the cleaning chamber 30, a process chamber (40), and including an unloading chamber 20, each process chamber 40 is a mask attached to the chamber (42), ( 44), and has a mask removing chamber 46. 각각의 공정 챔버(40)에서 증착 챔버(44)는 하나 또는 복수개가 제공될 수 있다. Deposition chamber 44 in each of the process chamber 40 may be provided with one or a plurality. 마스크 부착 챔버(42) 또는 마스크 제거 챔버(44)에는 각각 마스크들이 저장되는 마스크 챔버(도시되지 않음)가 제공될 수 있다. Mask attachment chamber 42 or mask removal chamber 44 may be provided with a respective mask to the mask chamber (not shown) are stored. 또한, 상술한 로딩 챔버(10), 크리닝 챔버(30), 공정 챔버(40), 언로딩 챔버(20) 외에 다른 종류의 챔버들이 더 제공될 수 있다. In addition, they can be further provided with another type of chamber in addition to the above-described loading chamber 10, the cleaning chamber 30, the processing chamber 40, an unloading chamber 20.

일 예에 의하면, 로딩 챔버(10), 크리닝 챔버(30), 공정 챔버(40), 그리고 언로딩 챔버(20)는 순차적으로 일렬로 배치되고, 공정 챔버(40) 내에서 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)는 동일방향으로 순차적으로 일렬로 배치된다. According to one example, the loading chamber 10, the cleaning chamber 30, the process chamber 40, and an unloading chamber 20 are arranged in sequence in line, the process chamber 40, a mask attached to the chamber (42 in ), the deposition chamber 44, and the mask removing chamber 46 is arranged in a line in sequence in the same direction. 공정 챔버(40)의 수는 다양하게 변화될 수 있으며, 예컨대 증착 장치(1)가 유기 전계 발광 소자 제조에 사용되는 장치인 경우, 공정 챔버(40)는 약 20개가 제공될 수 있다. The number of process chambers 40 may be variously changed and, for example, when the deposition apparatus 1, the apparatus used to manufacture the organic EL device, the processing chamber 40 may be provided about twenty. 각각의 챔버에는 내부의 유지 보수 등이 용이하도록 도어(52)가 설치되며, 공정 진행시 챔버 내부가 고진공을 유지하도록 진공펌프(도시되지 않음)가 설치된 배기관(54)이 연결되는 진공포트(도시되지 않음)가 제공된다. Each chamber and a door 52 provided so as to facilitate the like maintained within the maintenance, the process vacuum pump such that the chamber holding the vacuum during progress (not shown) is installed, the exhaust pipe vacuum ports 54 are connected (shown is not) is provided. 상술한 바와 달리 챔버들의 배열은 다양하게 변화될 수 있다. Unlike the arrangement of the chamber described above it may be variously changed. 예컨대, 장치가 일방향으로 매우 길어지지 않도록 공정챔버들(40)은 'ㄷ'자 형상으로 배열되거나 지그재그 형상으로 배열될 수 있다. For example, the process chamber so that the support unit is extremely long in one direction (40) or arranged in the shape 'c' may be arranged in a staggered pattern.

증착 공정이 수행될 기판(3)은 로딩 챔버(10)를 통해 장치(1) 내로 유입되고, 증착 공정이 완료된 기판(3)은 언로딩 챔버(20)를 통해 장치(1)로부터 유출된다. The substrate is a deposition process is performed (3) is introduced into the apparatus 1 through the loading chamber 10, a substrate 3, a deposition process is completed are discharged from the apparatus 1 through the unloading chamber 20. 로딩 챔버(10)로 유입된 기판(3)은 크리닝 챔버(30)로 이송된다. The inlet to the substrate loading chamber 10. (3) is transferred to the cleaning chamber 30. 크리닝 챔버(30)는 플라즈마 또는 자외선 등을 사용하여 기판(3)을 세정하는 공정을 수행한다. Cleaning chamber 30 using, for example, plasma or UV light to perform a process of cleaning a substrate (3). 크리닝이 완료된 기판(3)은 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)로 순차적으로 이동된다. Substrate cleaning is completed (3) is moved in sequence by a mask attached to the chamber 42, a deposition chamber 44, and the mask removing chamber 46. 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)의 양 측벽에는 개구(40a)가 형성된다. The side walls of the mask attached to the chamber 42, a deposition chamber 44, and the mask removing chamber 46 has an opening (40a) is formed. 기판은 개구(40a)를 통해 인접하는 챔버들로 이동된다. The substrate is moved to an adjacent chamber through the opening (40a). 마스크 부착 챔버(42)에서 일정 패턴이 형성된 마스크(4)가 기판(3)에 부착되고, 증착 챔버(44)에서 기판(3) 상에 박막이 증착되며, 마스크 제거 챔버(46)에서 마스크(4)가 기판(3)으로부터 제거된다. Mask attached a certain pattern is attached to the formed mask 4 of the substrate 3 in the chamber 42, the thin film is deposited on the substrate 3 in the deposition chamber 44, a mask from the mask removal chamber 46 ( 4) is removed from the substrate (3). 이후, 기판(3)은 다음 공정 챔버(40)로 이동되며, 상술한 마스크 부착, 증착, 마스크 제거 과정이 계속적으로 반복된다. Thereafter, the substrate 3 is moved to the next process chamber 40, the above-described mask attachment, deposition, mask removal process is continually repeated. 공정 챔버(40)에 따라 마스크 부착 및 마스크 제거 없이 증착 공정만 수행될 수 있다. According to the process chamber 40 can be performed without a mask, only the deposition process to attach and remove the mask. 이 경우 공정 챔버(40)에는 마스크 부착 챔버(42) 및 마스크 제거 챔버(46)가 제공되지 않을 수 있다. In this case, the process chamber 40 may not be provided with a mask attached to the chamber 42 and the mask removal chamber (46).

도 2는 마스크 부착 챔버(42) 및 마스크 제거 챔버(46) 내의 구조를 개략적으로 보여주는 도면이다. 2 is a view schematically showing the structure of a mask attached to the chamber 42 and the mask removal chamber (46). 마스크 부착 챔버(42)와 마스크 제거 챔버(46)은 대체로 유사한 구조를 가진다. Mask attachment chamber 42 and the mask removing chamber 46 has a substantially similar structure. 도 2를 참조하면, 마스크 부착 챔버(42) 내에는 마스크 이동기(300)가 제공된다. 2, in the mask attachment chamber 42 is provided with a mask mobile device 300. The 마스크 이동기(300)는 상하로 이동가능하며, 마스크(4)는 마스크 이동기(300) 상에 놓인다. Mask the mobile device 300 is movable up and down, the mask 4 is placed on the mask mobile device 300. The 마스크 부착 챔버(42)에서 마스크 이동기(300)가 기설정된 높이까지 이동되면, 후술하는 기판 이송체(110)에 제공된 클램프(도시되지 않음)에 의해 마스크(4)는 기판 이송체(110)에 결합된다. When the movement of the mask attachment chamber 42 by a height of the mask user equipment 300 a predetermined, the mask 4 is a substrate conveying member (110) by a clamp (not shown) provided in the substrate conveying member 110 to be described later It is combined. 마스크(4)가 기판 이송체(110)에 결합되기 전, 기판(3)과 마스크(4)의 정렬이 이루어진다. Before being coupled to the mask (4) transferring the substrate body (110), made of the alignment of the substrate 3 and the mask 4. 마스크 제거 챔버(46)에서 마스크 이동기(300)가 기설정된 높이까지 이동되면, 마스크(4)는 기판 이송체(110)로부터 분리되어 마스크 이동기(300) 상에 놓여진다. If mask removal mask mover 300 in the chamber 46 is moved to the high group is set, the mask 4 is removed from the substrate conveying member 110 is placed on the mask mobile device 300. The 상술한 마스크(4)의 결합 및 마스크(4)의 제거를 위한 구조 및 방법은 일 예에 불과한 것으로, 이와는 다른 다양한 구조 및 방법이 사용될 수 있다. For bonding and removal of the mask 4 of the aforementioned mask 4 structure and method that only an example, the contrast, there are a variety of other structures and methods it may be used.

도 3은 증착 챔버(44) 및 증착물질 공급챔버(48)를 개략적으로 보여주는 단면도이다. Figure 3 is a cross-sectional schematic view of the deposition chamber 44 and the deposition material supplying chamber (48). 도 3을 참조하면, 증착 챔버(44)의 하부면에는 증착물질 공급챔버(48)가 제공된다. 3, the lower surface of the deposition chamber 44 is provided with a deposition material supplying chamber (48). 증착물질 공급챔버(48)는 증착 챔버(44)와 일체로 제조될 수 있으며, 선택적으로 증착물질 공급챔버(48)는 증착 챔버(44)와 별도로 제조된 후 증착 챔버(44)에 결합될 수 있다. Deposited material supply chamber 48 may be made integral with the deposition chamber 44, may be selectively coupled to a deposition material supply chamber 48, the deposition chamber 44 after the prepared separately from the deposition chamber 44 with have. 증착물질 공급챔버(48) 내에는 증착물질 공급부재(500)가 제공된다. In a deposition material supply chamber 48 is provided with a deposition material supplying member (500). 증착물질 공급부재(500)는 공급용기(520)와 가열부재(540)를 가진다. Deposition material supplying member 500 has a heating element 540 and the supply container (520). 공급용기(520)는 증착하고자 하는 물질을 수용하며 상부가 개방된 공간을 가진다. Supply container 520 accommodating the material to be deposited and having an open top area. 가열부재(540)는 증착물질로부터 플룸(flume)이 발생하도록 공급용기(520)를 가열하여 증착물질에 열을 제공한다. Heating member 540 is heated to a flume (flume) supplied to the generating vessel (520) from the deposited material and provides heat to the deposition material.

증착물질 공급챔버(48)에는 진공펌프가 설치된 배관이 연결되는 진공포트(도시되지 않음)가 제공되고, 전방에는 내부의 유지보수가 용이하고 공급용기(520)에 증착물질을 공급할 수 있도록 도어(도 1의 56)가 제공된다. In the door so that the vacuum pump is a vacuum port (not shown) which pipes are connected service is installed, the maintenance of the inside front easily and supplying a deposition material in the supply vessel 520, the deposited material supply chamber 48 ( the 56: 1), is provided. 가열부재(540)로는 코 일 형상의 열선이 사용될 수 있으며, 가열부재(540)는 공급용기(520)의 측벽 내에 배치되거나 공급용기(520)의 측벽을 감싸도록 배치될 수 있다. A heating member (540) includes a heating wire may be used for the coil shape, the heating member 540 may be disposed to surround the side wall of the disposed in a side wall of the supply container (520) or supply vessel (520). 이와 달리 가열부재(540) 대신 공급용기(520)로 레이저를 조사하는 레이저 조사 부재(도시되지 않음)가 사용될 수 있다. In contrast, the heating member 540 instead of the supply container laser (not shown) irradiating member for irradiating the laser 520 may be used. 상술한 예에서는 증착 챔버(44)와 증착물질 공급챔버(48)가 각각 제공되는 것으로 설명하였다. In the above example it was described as being the deposition chamber 44 and the deposition material supplied to the chamber 48 is provided, respectively. 그러나 이와 달리 증착물질 공급챔버(48)는 제공되지 않고, 증착물질 공급부재(500)는 증착 챔버(44) 내에 배치될 수 있다. However, contrast is not provided is the deposition material supplied to the chamber 48, a deposition material supply member 500 may be disposed in the deposition chamber 44.

기판(3)의 크기가 소형인 경우, 기판 이송체(110)가 증착물질 공급챔버(48)와 대향되는 위치에 고정된 상태에서 증착 공정이 이루어진다. If the size of the substrate 3 is small, the deposition process takes place in the substrate conveying member 110 is fixed at a position opposite to the deposition material supplying chamber 48 condition. 그러나 기판(3)의 크기가 대형인 경우, 기판 이송체(110)가 이송 가이드(120)를 따라 이동하면서 소정영역씩 증착공정이 수행된다. However, when the size of the substrate 3 is large, while moving along the substrate conveying member 110, the feed guide 120, the deposition process is performed by a predetermined area. 기판 이송체(110)가 계속적으로 일정속도로 이동되면서 증착공정을 수행할 수 있으며, 기판 이송체(110)가 일정 시간씩 정지하면서 이동되어 증착공정을 수행할 수 있다. A substrate conveying member 110 may perform the deposition process while continuously moving at a constant speed, the substrate conveying member 110 is moved and stopped by a certain period of time can be carried out a deposition process. 증착 공정이 수행되는 동안, 기판 이송체(110)는 증착 챔버(44) 내에서 왕복이동될 수 있다. During the deposition process is performed, a substrate conveying member 110 can be reciprocated in the deposition chamber 44. 이와 달리 공급용기(520)가 이동되면서 증착이 이루어질 수 있다. As the contrast supply container 520, this movement can be made is deposited. 그러나 이 경우 설비의 구성이 복잡해지므로, 기판 이송체(110)가 이송 가이드(120)를 따라 이동되면서 증착 공정이 수행되는 것이 바람직하다. However, since a complicated configuration of the equipment case, it is preferred that the deposition process is performed while moving the substrate along the conveying member 110, the feed guide 120.

공정 챔버(40)는 공급용기(520)의 상부 또는 증착물질 공급챔버(48)의 개구를 개폐하는 덮개(620)를 가진다. Process chamber 40 has a cover 620 for opening and closing an opening of the upper or deposited material supply chamber 48 of the supply container (520). 덮개(620)는 증착 공정이 진행되지 않는 동안(증착물질 공급챔버(48)의 상부에 기판(3)이 위치되지 않은 경우) 증착물질로부터 발생된 플룸이 증착 챔버(44) 내로 유입되는 것을 방지한다. Cover 620 prevents the deposition process are introduced into the (CVD material feed when the top that the substrate 3 is not positioned in the chamber 48), a plume deposition chamber 44 resulting from the deposition material while not proceed do. 플룸이 증착 챔버(44) 내로 유입되는 경우, 이송 가이드(120) 또는 증착 챔버(44) 내에 설치된 구조물에 증착이 이루어지며, 이들은 후에 파티클로서 작용한다. If the flume is introduced into the deposition chamber 44, the evaporation is done to the structure provided in the conveyance guide 120, or the deposition chamber 44, which then acts as a particle.

증착공정 수행시 증착 물질로부터 발생된 플룸이 기판(3)으로부터 벗어나 기판(3) 상부로 이동되면 플룸이 기판 이송체(110) 또는 다른 구조물에 증착된다. Once the plume generated from the deposited material during the deposition process carried out from the substrate 3, the substrate 3 is moved to the upper plume is deposited on the substrate conveying member 110 or other structure. 또한, 플룸이 증착 챔버(44) 내 넓은 영역으로 퍼지면 증착 챔버(44)의 측벽에 형성된 개구(40a)를 통해 이와 인접한 마스크 부착 챔버(42) 또는 마스크 제거 챔버(46) 내로 유입되어 그 챔버들(42, 46)을 오염시킨다. In addition, the plume is introduced into the deposition chamber 44 through the opening (40a) formed on the side wall of the deposition chamber 44 spreads into a wide area, this adjacent mask attachment chamber 42 or mask removal chamber 46 at the chamber contaminate (42, 46). 이를 방지하기 위해 증착 챔버(44) 내에서 기판 이송체(110)에 부착된 기판(3)보다 낮은 위치에 차단판(640)이 제공된다. The blocking plate 640 in it is lower than the deposition chamber 44, the substrate 3 is attached to the substrate conveying member 110 in order to prevent position is provided. 차단판(640)은 증착물질 공급챔버(48)의 개구(502)와 대향되는 위치에 일정크기의 개구(642)를 가진다. Blocking plate 640 has an opening 642 of a predetermined size at a position facing the opening 502 of the deposition material supplying chamber (48). 플룸은 개구(642)를 통해서 증착 챔버(44) 내 상부로 공급되므로, 증착물질로부터 발생된 플룸이 도달되는 영역은 기판(3) 상의 일정영역으로만 제한된다. Plume is because through the opening 642, supplied to the upper evaporation chamber 44, the area that the plume generated from the deposited material is reached is limited to a certain area on the substrate (3).

증착 공정 진행시 공정 챔버(40) 내부는 고진공으로 유지한다. Inside the deposition process proceeds when the processing chamber 40 is maintained at a high vacuum. 종종 챔버들 중 어느 하나에 이상이 발생되는 경우 챔버 내부를 보수하여야 할 필요가 있다. If often that an error occurs in either of the chamber needs to be repaired to the chamber. 보수는 챔버 내부가 상압으로 유지된 상태에서 이루어진다. Maintenance is performed in a state in which the chamber is maintained by pressure. 챔버들이 개구(40a)를 통해 서로 연통되어 있으므로, 어느 하나의 챔버에서 보수가 이루어질 때 모든 챔버 내의 압력이 상압으로 변화된다. Since the chambers are in communication with each other through an opening (40a), when the repair made in which one chamber that the pressure in all the chambers is changed to atmospheric pressure. 보수가 완료된 이후 공정을 시작하기 전에 모든 챔버 내부를 다시 진공으로 유지하여야 하므로 많은 시간이 소요된다. Maintenance is kept to be back inside a vacuum chamber before every start since the process is completed, because it takes a lot of time. 이를 방지하기 위해 본 발명의 장치(1)는 도 4에 도시된 바와 같이 각각의 공정챔버들(40)간 경계벽에 형성된 개구(40a)를 개폐하는 게이트 밸브(700)를 가진다. To prevent this, the device of the present invention (1) has a gate valve 700 for opening and closing an opening (40a) formed in the boundary wall between 40 respectively of the processing chamber as shown in Fig.

어느 하나의 공정 챔버 내부를 보수할 필요가 있을 때, 보수가 필요한 공정 챔버의 양측벽에 제공된 게이트 밸브(700)를 닫아 보수가 필요한 공정 챔버의 내부가 다른 공정 챔버로부터 격리되도록 한다. Such that any one of when it is necessary to complement the inner process chamber, closing the gate valve 700 is provided in the side walls of the process chamber, the maintenance required if the interior of the process chamber, the maintenance required, isolated from the other process chamber. 특정 공정챔버의 보수시, 보수가 필요한 공정 챔버의 양측에 배치된 게이트 밸브(700)를 닫은 후 도어(52)를 개방한다. After closing the gate valve 700 is disposed in the maintenance when, on both sides of the process chamber, the maintenance required for a particular process chamber and opens the door (52). 따라서 보수가 필요한 공정챔버는 상압으로 변화되고, 다른 공정 챔버들은 진공으로 유지된다. Therefore, the process chamber is required maintenance has been changed to normal pressure, other process chambers are kept under vacuum. 보수가 완료되면, 도어(52)를 닫고 보수가 이루어진 공정챔버 내부를 진공으로 유지한다. When the repair is completed, maintain the inside of the process chamber are made of maintenance close door 52 in a vacuum.

상술한 구조로 인해 공정챔버 내부를 진공으로 유지하는 데 소요되는 시간이 단축되며, 결과적으로 설비 가동률이 향상된다. Shortening the time required to maintain the vacuum inside the processing chamber due to the above-described structure will be, resulting in improved capacity utilization. 상술한 예에서는 게이트 밸브(700)가 공정챔버들(40)간 경계벽에 형성된 개구(40a)에만 제공되는 것으로 설명하였으나, 이와 달리 게이트 밸브(700)는 각각의 공정 챔버들 내 경계벽(예컨대, 마스크 부착 챔버(42)와 증착 챔버(44) 간 경계벽, 및 증착 챔버(44)와 마스크 제거 챔버(46) 간 경계벽)에 형성된 개구들(40a)에 제공될 수 있다. In the above example, the gate valve 700 has been described as being provided only in the opening (40a) formed in the boundary wall between the 40 process chamber, In contrast, the gate valve 700 is within the perimeter wall of each of the process chamber (e.g., mask It can be provided attached to the chamber 42 and the deposition chamber 44 between the perimeter wall, and the deposition chamber 44 and the openings (40a) formed in the mask removing boundary wall) between the chamber (46).

각 공정 챔버들간, 그리고 공정 챔버 내에서 기판은 기판 이송체에 지지된 상태로 이동된다. In each process chamber between, and a process chamber, the substrate is moved to the substrate supported on the conveying member. 기판 이송체(110)는 공정 수행시 기판을 지지하고, 챔버들간 기판을 이송한다. A substrate conveying member 110 and supports the substrate during process operation, and transferring the substrate between chambers. 기판 이송체(110)는 복수의 챔버에서 동시에 공정이 수행될 수 있도록 복수개가 제공된다. A substrate conveying member 110 has a plurality are provided so as to be at the same time the process is performed in a plurality of chambers. 각각의 기판 이송체(110)는 구동기에 의해 구동되며, 구동기는 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 회수 챔버(46) 내(이하, 간략히 챔버라고 기재한다)에 각각 제공된다. Each substrate transfer body 110 is driven by an actuator, the actuator is provided at each of My (hereinafter, described as briefly chamber) mask mounting chamber 42, a deposition chamber 44, and a mask recover chamber 46 do. 본 발명에 의하면 구동기는 기판 이송체에 지지되는 기판이 위치되는 영역과 분리되는 영역을 제공하는 구동 챔버 내에 설치된다. According to the invention the actuator is installed in the driving chamber to provide an area that is separate from the region in which the substrate supported on a substrate conveying member position. 이는 기판 이송체(110)를 구동하는 과정에서 발생되는 파티클이 기판에 부착되는 것을 방지한다. This prevents the particles generated in the process of driving the substrate transfer body 110, which is attached to the substrate.

도 5 내지 도 7은 본 발명의 기판 이송체, 구동기, 그리고 구동 챔버의 일 예를 보여주는 도면들이다. 5 to 7 are views showing an example of the substrate of the present invention the conveying member, the driver, and the driving chamber. 도 5는 기판 이송체 내부의 일부 구조를 보여주는 부분 단면도이고, 도 6은 기판 이송체에 설치된 구동 챔버와 그 내부에 설치된 구동기를 보여주는 단면도이고, 도 7은 구동기의 평면도이다. 5 is a cross-sectional view of a portion showing some internal structure of a substrate conveying member, Figure 6 is a cross-sectional view showing the driving chamber and the actuator installed therein is installed on the substrate conveying member, Figure 7 is a plan view of the driver.

도 5를 참조하면, 기판 이송체(110)는 지지판(120)을 가진다. 5, a substrate conveying member 110 has a support plate 120. 기판(3)은 그 증착면이 아래를 향하도록 지지판의 하부면에 지지된다. The substrate 3 is supported on the lower surface of the support plate facing down is the evaporation surface. 지지판(120)의 하부면 중앙부(120a)에는 기판의 부착(sticking)이 용이하도록 접착층(122)이 형성된다. Lower surface central portion (120a) of the support plate 120, the adhesive layer 122 is formed to facilitate the adhesion (sticking) of the substrate. 지지판(120)에는 내부에 형성된 홀들(128)에 삽입되어 상하로 이동가능한 분리 로드(126)가 제공된다. Support plate 120 has been inserted into the holes 128 formed therein is provided with a separating rod 126 capable of moving up and down. 상술한 바와 달리 기판 이송체(110)는 클램프(도시되지 않음) 등과 같은 기구적인 구조, 또는 접착층과 기구적인 구조의 조합에 의해 기판을 고정할 수 있다. Unlike the substrate described above, the conveying member 110 can hold the substrate by a combination of mechanical structure, or the adhesive layer and the mechanical structure, such as clamps (not shown). 또한, 기판 이송체(110) 내에는 자석(124)이 제공되고, 마스크(4)는 금속 재질로 이루어져, 기판 이송체(110)에 결합된 마스크(4)의 일부 영역이 아래로 처지는 것을 방지한다. In addition, the substrate in the conveying member 110 is provided with a magnet 124, a mask (4) is made of a metallic material, prevent the portion of the mask (4) bonded to a substrate conveying member 110 sagging down do. 자석(124)은 영구자석이 사용되는 것이 바람직하다. Magnets 124 are preferably permanent magnets are used.

기판 이송체(110)의 양측 가장자리 각각에는 구동 챔버(170)가 제공된다. Each side edge of the substrate conveying member 110 is provided with a drive chamber (170). 구동 챔버(170)는 기판 이송체(110)의 이동방향과 동일한 방향으로 길게 형성되며, 내부에 구동기(160)가 위치되는 공간(170a)을 제공한다. Driving chamber 170 is formed to extend in the same direction as the direction of movement of the substrate conveying member 110, provides a space (170a) where the actuator 160 is located in the interior. 구동기(160)는 기판 이송체(110)를 직선 이동시키기 위한 동력을 제공한다. Actuator 160 provides the power for moving the substrate linearly conveying member 110. 공정 챔버(40) 내 측벽에는 기판 이송체(110)의 직선 이동을 안내하는 이송 가이드(140)가 제공되며, 구동 챔버 (170)의 상부벽에는 이송 가이드(140)가 삽입되는 개구(172)가 형성된다. A process chamber (40) with an opening (172) to be inserted within the side wall, the conveyance guide 140 is provided and, in the conveyance guide 140, the top wall of the drive chamber 170 for guiding the linear movement of the substrate conveying member (110) It is formed.

이송 가이드(140)는 대체로 평평한 상부벽(142), 중앙에 공간(144a)이 형성된 중간벽들(144), 그리고 내부에 공간(146a)이 형성된 하부벽(146)을 가진다. The transfer guide (140) has a generally flat top wall 142 and intermediate wall in the central area (144a) is formed (144), and a lower wall 146, the space (146a) formed therein. 상부벽(142)은 공정 챔버(40)의 측벽으로부터 안쪽으로 연장되어 구동 챔버(170)의 상부에 설치되며, 구동 챔버(170)의 상부벽과 대향되도록 배치된다. Top wall 142 extends inwardly from the side wall of the processing chamber 40 is installed at the top of the drive chamber 170, and is arranged to be opposed to the top wall of the drive chamber 170. 중간벽(144)은 상부벽(142)으로 아래로 연장되어 상술한 개구(172)를 통해 삽입된다. Intermediate wall 144 may extend down to the upper wall 142 is inserted through the aforementioned openings 172. The 하부벽(146)은 중간벽으로부터 연장되며 구동 챔버(170) 내에 설치된다. The lower wall 146 extends from the intermediate wall is provided in the driving chamber (170). 하부벽(146)의 상면과 하면에는 후술하는 구동 롤러들(165)의 일부를 노출시키는 홈이 제공된다. The upper surface and lower surface of the lower wall 146 is provided with a groove that exposes a portion of the driving roller to be described later (165). 구동 챔버(170)의 상부벽과 대향되는 이송 가이드(140)의 하부벽(146), 중간벽(144), 그리고 상부벽(142)은 구동 챔버(170)의 상부벽과 인접하게 설치된다. The lower wall 146, intermediate wall 144 and upper wall 142 of the conveying guide 140 to be opposed to the top wall of the drive chamber 170 is installed adjacent to the upper wall of the drive chamber 170. 이는 구동 챔버(170) 내에서 발생되는 파티클이 구동 챔버(170) 외부로 빠져나가기 위해서는 많은 굴곡을 거치도록 하여, 구동 챔버(170) 내에서 발생된 파티클이 기판(3)에 부착되는 것을 방지한다. This prevents the attachment to the drive chamber 170, the particles generated in the to undergo a number of bending to exit to the outside the drive chamber 170, the particles generated in the drive chamber 170, the substrate 3 .

구동기(160)는 제 1회전축(162), 전달부재들(163), 제 2회전축들(164), 그리고 구동 롤러들(165)과 가이드 롤러들(167)을 가진다. Actuator 160 has a first axis of rotation 162, the transmission member (163), the second axis of rotation of 164, and the drive rollers 165 and guide rollers 167. 제 1회전축(162)은 중간벽들(144) 사이에 형성된 공간(144a) 내에 제공되며, 기판 이송체(110)의 이동방향과 평행한 방향으로 길게 배치된다. The first rotating shaft 162 is provided in the space formed between the intermediate wall (144), (144a), is arranged longitudinally in a direction parallel to the direction of movement of the substrate conveying member (110). 제 1회전축(162)의 일측 끝에는 모터(161)가 장착된다. The motor 161 is mounted at the end of one side of the first rotary shaft 162. 제 2회전축(164)은 이송 가이드(140)의 하부벽(146) 내에 형성된 공간(146a) 내에 제공되며 제 1회전축(162)과 수직한 방향으로 복수개 제공된다. A second rotary shaft 164 is provided in a space (146a) formed in the bottom wall 146 of the conveyance guide 140 is provided with a plurality in a direction perpendicular to the first axis of rotation (162). 구동 롤러(165)는 구동 챔버(170)의 상부벽과 하부벽에 접촉되는 직경을 가지며 제 2회전축(164)을 삽입하도록 설치된다. Drive roller 165 has a diameter that is in contact with the upper wall and lower wall of the drive chamber 170 is provided so as to sandwich the second rotation axis (164). 각각의 제 2회전축(164)에는 하나 또는 복수개의 구동 롤러들(165)이 설치된다. Each of the second rotary shaft 164 has one or a plurality of drive rollers 165 are installed.

제 1회전축(162)의 회전력은 전달부재(163)에 의해 제 2회전축(164)으로 전달된다. The rotational force of the first rotating shaft 162 is transmitted to the second rotation axis (164) from the transmitting member (163). 전달부재(163)는 제 1자성체(163a)와 제 2자성체(163b)를 가진다. Transmission member 163 has a first magnetic body (163a) and the second magnetic body (163b). 제 1자성체(163a)는 제 1회전축(162)에 고정되도록 제 1회전축(162)을 삽입한다. The first magnetic body (163a) is inserted into the first rotary shaft 162 so as to be fixed to the first rotary shaft 162. 제 1자성체(163a)는 제 1회전축(162)의 길이방향을 따라 복수개가 제공된다. The first magnetic body (163a) is provided with a plurality in the longitudinal direction of the first rotating shaft 162. The 제 2자성체(163b)는 각각의 제 1자성체(163a)와 수직하도록 각각의 제 1자성체(163a)에 인접하게 배치되며, 각각의 제 2자성체(163b)는 각각의 제 2회전축(164)을 삽입한다. A second magnetic body (163b) has a respective first magnetic body (163a) and the vertical so as to be disposed adjacent to each of the first magnetic body (163a), each of the second magnetic body (163b) are each of the second rotating shaft 164 inserts. 제 1회전축(162)과 제 2회전축(164) 간의 동력 전달을 위해 자성체들(163)이 사용되므로 파티클이 발생되는 것을 방지할 수 있다. The magnetic material for the power transmission between the first rotary shaft 162 and the second rotary shaft 164 (163) is used, so it is possible to prevent the generation of particles. 상술한 구동기(160)는 각각의 챔버 내에 제공되며, 각각의 챔버 내에서 독립적으로 구동된다. The above-described actuator 160 is provided in each chamber, and are independently driven by in each chamber.

기판이 이송되는 동안, 그리고 마스크(4)나 기판(3)이 지지판(120)에 결합 또는 분리되는 동안 지지판(120)이 측방향(즉, 기판 이동체(110)의 이동방향과 수직한 방향)으로 흔들리는 것을 방지하기 위해 가이드 롤러들(167)이 제공된다. While the substrate is transported, and the mask 4 and the board 3 (movement in a direction normal to the direction of the other words, the substrate moving object 110), the support plate 120 is laterally during the coupling or separation on a support plate 120, It is the guide roller 167 is provided to prevent the swaying. 가이드 롤러들(167)은 이송 가이드(140)의 하부벽(146) 일측에 설치된다. The guide roller 167 is installed at a side lower wall 146 of the conveying guide 140. The 하부벽(146)의 일측에는 상하방향으로 배치되는 고정축(166)이 삽입되는 삽입홈(146b)이 형성된다. One side of the bottom wall 146 has a groove (146b), the fixed shaft 166 is disposed in a vertical direction is inserted are formed. 가이드 롤러(167)는 고정축(166)을 삽입하도록 설치되며, 기판 이송체(110)가 이동되는 동안 구동 챔버(170)의 측벽에 접촉되어 회전된다. Guide rollers 167 are provided so as to insert the fixed shaft 166, is rotated in contact with the side wall of the drive chamber 170 while the substrate transfer body 110 moves.

공정이 완료된 기판(3)이 기판 이송체(110)로부터 분리되면, 기판 이송체(110)는 다시 처음 위치로 회송된다. When the process is complete, the substrate 3 is separated from the substrate conveying member 110, a substrate conveying member 110 is returned back to the first position. 기판 이송체(110)의 회송을 안내하기 위해 회 송 가이드(도 4의 180)가 제공된다. The time transmission guides (180 in Fig. 4) for guiding the return of the substrate conveying member 110 is provided. 회송 가이드(180)는 이송 가이드(140)와 동일한 형상을 가지며, 이송 가이드(140)의 상부에 배치된다. Return guide 180 has the same shape as the conveying guide 140 is disposed on top of the conveying guide 140. The

도 8 내지 도 10은 본 발명의 기판 이송체(210), 구동기(260), 그리고 구동 챔버(270)의 다른 예를 보여주는 도면들이다. 8 to 10 are diagrams showing another example of the substrate transfer body 210, actuator 260, and the driving chamber 270 of the present invention. 도 8는 기판 이송체(210)의 정면도이고, 도 9는 기판 이송체(210)에 설치된 구동 챔버(270)와 그 내부에 설치된 구동기(260)를 보여주는 단면도이고, 도 10은 구동기(260)의 평면도이다. Figure 8 is a front view of the substrate transfer body 210, Fig. 9 is a sectional view showing a substrate transfer body drive chamber provided in 210, 270 and the actuator 260 is installed therein, Figure 10 is a driver (260) a plan view of the. 기판을 지지 또는 분리하기 위한 구조는 상술한 실시예에 동일하므로 상세한 설명은 생략한다. Structure for supporting or separating the substrate is identical to the above-described embodiment the description will be omitted.

도 8 내지 도 10을 참조하면, 구동 챔버(270)는 마스크 부착 챔버(42), 증착 챔버(44), 그리고 마스크 제거 챔버(46)의 각각(이하, 간략히 챔버라고 기재한다)에 설치된다. 8 through Referring to Figure 10, the drive chamber 270 is provided on each (hereinafter, described as briefly chamber) of the mask attachment chamber 42, the deposition chamber 44, and the mask removing chamber 46. 구동 챔버(270)는 내부에 구동기(260)가 설치되는 공간(272)을 제공한다. Driving chamber 270 provides a space 272 where the actuator 260 is installed inside. 구동 챔버(270)는 기판 이송체(210)의 이동방향과 평행한 방향으로 길게 형성되며, 챔버의 양측에 각각 형성된다. Driving chamber 270 are formed to extend in a direction parallel to the direction of movement of the substrate conveying member 210, it is formed on both sides of the chamber. 기판 이송체(210)는 지지판(220) 및 외부 격리벽(242)과 내부 격리벽(244)을 가진다. A substrate conveying member (210) has a support plate 220 and an outer isolation walls 242 and the inside isolation wall 244. 지지판(220)은 기판을 지지하는 중앙부와 구동 챔버(270)의 측벽(270a)에 제공된 개구(274)를 통해 구동 챔버(270) 내로 삽입되는 가장자리부를 가진다. Support plate 220 has the edge portion is inserted into the driving chamber 270 through the opening 274 provided in the side wall (270a) of the central portion and the drive chamber 270 for supporting a substrate. 상술한 개구(270a)는 구동 챔버(270)의 측벽(270a)의 중간 높이에 형성된다. Above the opening (270a) is formed at the middle height of the side wall (270a) of the drive chamber 270.

기판 이송체(210)에는 외부 격리벽(242)과 내부 격리벽(244)이 제공된다. Substrate transfer body 210 is provided with an internal isolation wall 244 and the outer isolation walls 242. 외부 격리벽(242)은 공정 진행시 구동 챔버(270)의 외부에 위치되도록 배치되며, 구동 챔버(270)의 측벽(270a)과 대향되도록 지지판(220)으로부터 상하로 각각 돌출된다. External isolation wall 242 is disposed so as to be located outside the process proceeds when the driving chamber 270, respectively, are projected vertically from a side wall (270a), the support plate 220 so as to be opposed to the driving chamber (270). 내부 격리벽(244)은 공정 진행시 구동 챔버(270)의 내부에 위치되도록 배치되 며, 구동 챔버(270)의 측벽과 대향되도록 지지판(220)으로부터 상하로 각각 돌출된다. Isolated inner wall 244 are arranged such that said position inside the drive chamber (270) when proceeding process, protrude respectively up and down from the support plate 220 so as to be opposed to the side wall of the drive chamber 270. 내부 격리벽(244)과 외부 격리벽(242)은 구동 챔버(270)의 측벽(270a)과 인접하도록 배치된다. Isolated inner wall 244 and the outer isolation walls 242 are disposed so as to be adjacent the sidewall (270a) of the drive chamber 270. 상술한 구조로 인해 구동 챔버(270) 내에서 발생되는 파티클이 구동 챔버(270) 외부로 빠져나가기 위해서는 많은 굴곡을 거쳐야 한다. In order due to the aforementioned structure of the drive chamber 270, the particles generated in the driving chamber 270 to escape to the outside must go through the many winding. 따라서 구동 챔버(270) 내에서 발생된 파티클이 기판(3)에 부착되어 공정불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, the particles are generated in the drive chamber 270 is attached to the substrate 3, it is possible to prevent the process defects.

상술한 바와 같이 구동 챔버(270) 내에는 구동기(260)가 설치된다. Within the drive chamber 270, as described above, the actuator 260 is installed. 구동기(260)는 구동 챔버(270) 내에서 지지판(220)의 상부에 제공되는 상부 구동부재(260a)와 지지판(220)의 하부에 제공되는 하부 구동부재(260b)를 가진다. Actuator 260 has a bottom drive member (260b) provided in the lower portion of the upper driving member (260a) and the support plate 220 provided on the upper portion of the support plate 220 in the driving chamber (270). 상부 구동부재(260a)는 제 1회전축(262), 전달부재(263), 제 2회전축(264), 그리고 구동 롤러들(265)과 가이드 롤러들(267)을 가진다. An upper drive member (260a) has a first rotary shaft 262, the transmitting member 263, the second rotary shaft 264, and driven rollers 265 and guide rollers 267. 제 1회전축(262)의 끝단에는 모터(261)가 장착되며, 기판 이송체(210)의 이동방향과 평행한 방향으로 길게 배치된다. The end of the first rotating shaft 262 is mounted a motor (261), it is arranged longitudinally in a direction parallel to the direction of movement of the substrate conveying member (210). 제 2회전축(264)은 제 1회전축(262)과 수직한 방향으로 복수개 제공된다. A second rotary shaft 264 is provided to a plurality in a direction perpendicular to the first axis of rotation (262).

구동 롤러(265)는 제 2회전축(264)을 삽입하도록 설치되며, 지지판(220)의 가장자리 상부면과 접촉된다. Drive roller 265 is installed so as to sandwich the second rotary shaft 264, is in contact with the edge of the upper surface of the support plate 220. 제 2회전축(264)의 끝단은 구동 챔버 내에 회전가능하게 설치된다. End of the second rotary shaft 264 is rotatably mounted within the drive chamber. 제 1회전축(262)의 회전력은 전달부재(263)에 의해 제 2회전축(264)으로 전달된다. The rotational force of the first rotating shaft 262 is transmitted to the second rotation axis (264) from the transmitting member (263). 전달부재(263)는 상술한 실시예에 동일하게 제 1회전축(262)을 삽입하는 제 1자성체(263a)와 제 2회전축(264)을 삽입하는 제 2자성체(263b)를 가진다. Transmission member 263 has a second magnetic body (263b) for inserting the first magnetic body (263a) and the second rotary shaft 264 to be inserted into the same first axis of rotation 262 to the above-described embodiment. 상술한 구동기(260)는 각각의 챔버 내에 제공되며, 각각의 챔버 내에서 독립적으로 구동된다. The above-described actuator 260 is provided in each chamber, and are independently driven by in each chamber. 지지판(220)이 측방향(지지판의 이동방향과 수직한 방향)으로 흔들리는 것을 방지하기 위해 가이드 롤러(267)가 제공된다. The support plate 220 is laterally in order to prevent the shaking (movement in a direction normal to the direction of the supporting plate), the guide roller 267 is provided. 가이드 롤러(267)는 고정축(266)을 삽입하도록 설치되며, 기판 이송체(210)가 이동되는 동안 내부 격리벽(244)의 측벽에 접촉되어 회전된다. Guide roller 267 is installed so as to sandwich the fixed shaft 266, is rotated in contact with the side wall of the internal isolation wall 244 while the substrate transfer body 210 moves.

하부 구동부재(260b)는 상부 구동부재(260a)와 동일한 구조를 가진다. A lower drive member (260b) has the same structure as that of the upper driving member (260a). 다만, 하부 구동부재(260b)에 제공되는 구동 롤러(265)는 상부 구동부재(260a)에 제공되는 구동 롤러(265)의 수직 아래에 배치되어 지지판(220)의 가장자리 하부면과 접촉되며, 상부 구동부재(260a)에 제공되는 구동 롤러(265)와 반대 방향으로 회전된다. However, the drive roller 265 provided on the lower drive member (260b) is disposed vertically below the drive roller 265 provided at the upper drive member (260a) is in contact with the edge of the lower surface of the support plate 220, the upper It is rotated in the opposite direction as the drive roller 265 provided on the drive member (260a). 상부 구동부재(260a)와 하부 구동부재(260b)에 제공된 구동 롤러들(265)의 회전에 의해 지지판(220)은 직선 이동된다. Support plate 220 by rotation of the upper drive member (260a) and a lower drive member (260b) provided in the drive roller 265 is moved linearly.

상술한 예에서는 공정 챔버들간 기판의 이송 및 공정의 수행이 동일 챔버 내에서 이루어지는 구조를 가지는 장치를 예로 들어 설명하였다. In the above-described example is carried out of the transport and processing of the substrate between the process chamber has been described, for device having a structure formed in the same chamber as an example. 그러나 이와 달리 본 발명에서 기판 이송체 및 이를 구동시키기 위해 제공되는 구성요소들은 한국공개특허 2002-72362에 개시된 바와 같이 공정이 수행되는 챔버와 기판의 이송이 각각 이루어지는 챔버가 각각 제공된 장치에도 적용가능하다. However, alternatively the substrate conveying member, and components that are provided for driving the same in the present invention are also applicable provided the respective two chambers, each consisting of a chamber and a substrate to which the process is carried out as disclosed in Korea Laid-Open Patent Publication 2002-72362 .

본 발명에 의하면, 기판 이송체를 구동하는 구동기가 공정 챔버 내에서 기판이 위치되는 영역과 분리된 구동 챔버 내에 배치되므로, 기판 이송체의 구동으로 인해 발생되는 파티클이 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있다. According to the present invention, a driver for driving the substrate conveying member are disposed in a region and separating the substrates are located driving chamber within the processing chamber, to prevent the particles caused by the driving of the substrate conveying member are attached to the substrate have.

또한, 본 발명에 의하면, 기판 이송체에서 롤러 설치부분과 기판을 지지하는 부분 사이에 굴곡진 굴곡부가 제공되므로, 롤러와 이송 가이드의 마찰로 인해 발생 되는 파티클이 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있다. Further, according to the present invention, since the curved bending portion provided between the portion for supporting the roller mounting portion and the substrate in the substrate conveying member, it is possible to prevent particles generated by the friction of the rollers and the conveyance guide which is attached to the substrate .

또한, 본 발명에 의하면, 회전축들간 회전력을 전달하기 위해 자성체가 사용되므로, 기어 조립체를 사용할 때에 비해 파티클 발생을 줄일 수 있다. According to the present invention, it is possible to reduce the generation of particles compared to using a, gear assembly, because the magnetic material is used to transfer the rotational force between the rotating shaft.

또한, 본 발명에 의하면, 기판을 지지하는 이송체의 이동을 안내하는 이송 가이드가 증착 공정이 수행되는 증착 챔버 내에 제공되므로 설비 면적이 작고, 기판 이송체가 이송 가이드에 장착되어 증착 챔버 내에서 이동되는 도중에 기판의 증착이 이루어지므로 공정이 빠르게 진행된다. Further, according to the present invention, since the conveyance guide for guiding the movement of the conveying member for supporting a substrate provided in the deposition chamber is carried out the deposition process the plant area is small, it is attached to the substrate transfer body conveyance guide which is moved in the deposition chamber during this process goes quickly and is made, the deposition of the substrate.

또한, 본 발명에 의하면, 각 공정챔버들간 경계벽에 형성된 개구에는 게이트 밸브가 제공되므로, 하나의 공정 챔버의 유지보수가 이루어지는 동안 다른 공정 챔버들 내부는 계속적으로 진공으로 유지할 수 있다. Further, according to the present invention, since the opening formed in the boundary wall is provided with a gate valve between each process chamber, while the maintenance of one of the processing chamber formed inside the different process chamber may be continuously maintained at a vacuum. 따라서 유지보수 완료 후 공정을 계속적으로 진행시 챔버들 내부를 진공으로 유지하는 데 소요되는 시간을 단축할 수 있으므로 설비가동률이 증가된다. Therefore, the utilization rate is increased, because during the progress after completion of the maintenance process to continue to reduce the time it takes to keep the inside of the chamber to a vacuum.

Claims (12)

  1. 하나 또는 복수의 공정 챔버들과; One or more of the process chamber;
    기판을 지지하며, 상기 공정 챔버 내에서 또는 상기 공정 챔버들간에 기판을 이송하는 기판 이송체와; And supporting a substrate, and a substrate conveying member for conveying the substrate to within the process chamber or between the process chamber;
    상기 기판 이송체를 직선 이동시키는 구동기와; And a driver for linearly moving the substrate conveying member;
    상기 공정 챔버 내에 설치되며 상기 구동기를 지지하는 이송 가이드와; Installed in the process chamber and transfer guide for supporting said actuator; 그리고 And
    상기 공정 챔버 내에서 기판이 위치되는 영역과 분리되는 공간을 제공하며 상기 구동기를 수용하는 구동 챔버를 가지며, Provides a space in which the separation region in which the substrate is located within the process chamber and has a drive chamber accommodating the drive,
    상기 구동 챔버에는 상기 이송 가이드가 삽입되는 개구가 형성되고, The drive chamber is formed with an opening wherein the transfer guide is inserted,
    상기 이송 가이드는, The transfer guide,
    상기 구동 챔버의 외부에 배치되며, 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 벽과 대향되는 상부벽과; It is arranged outside of said drive chamber, and a top wall in which the opening is opposite to the wall formed of the drive chamber;
    상기 상부벽으로부터 연장되며 상기 개구를 통해 삽입되는 중간벽과; An intermediate wall extending from the top wall to be inserted through the opening and;
    상기 중간벽으로부터 연장되어 상기 구동 챔버 내에 배치되며, 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 벽과 대향되는 하부벽을 포함하되, Extending from the intermediate wall disposed in the drive chamber, comprising: a bottom wall in which the opening is formed in the wall facing the drive chamber,
    상기 구동 챔버 내에서 발생된 파티클이 상기 기판이 위치되는 영역으로 유입되지 않도록 상기 상부벽, 상기 중간벽, 그리고 상기 하부벽은 상기 개구가 형성된 상기 구동 챔버의 벽과 인접하게 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. Said top wall that the particles generated in the drive chamber from being introduced into the region in which the substrate is located, said intermediate wall and said lower wall, characterized in that disposed adjacent the wall of the drive chamber to said opening formed The substrate processing apparatus.
  2. 하나 또는 복수의 공정 챔버들과; One or more of the process chamber;
    기판을 지지하며, 상기 공정 챔버 내에서 또는 상기 공정 챔버들간에 기판을 이송하는 기판 이송체와; And supporting a substrate, and a substrate conveying member for conveying the substrate to within the process chamber or between the process chamber;
    상기 기판 이송체를 직선 이동시키는 구동기와; And a driver for linearly moving the substrate conveying member; 그리고 And
    상기 기판 이송체는 상기 공정 챔버 내에서 기판이 위치되는 영역과 분리되는 공간을 제공하며 상기 구동기를 수용하는 구동 챔버를 가지고, The substrate conveying member providing the space region and the separation in which the substrate is located within the process chamber and has a drive chamber accommodating the drive,
    상기 구동 챔버는 상기 기판 이송체의 양측 가장자리에 각각 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. Wherein the drive chamber is a substrate processing apparatus, characterized in that provided on each side edge of the substrate conveying member.
  3. 제 2항에 있어서, 3. The method of claim 2,
    상기 장치는 상기 공정 챔버 내에 설치되며 상기 구동기를 지지하는 이송 가이드를 가지고, The apparatus installed in the process chamber has a conveyance guide for supporting the driver,
    상기 구동 챔버에는 상기 이송 가이드가 삽입되는 개구가 형성되며, The drive chamber is formed with an opening wherein the transfer guide is inserted,
    상기 이송 가이드는, The transfer guide,
    상기 구동 챔버의 외부에 배치되며, 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 벽과 대향되는 상부벽과; It is arranged outside of said drive chamber, and a top wall in which the opening is opposite to the wall formed of the drive chamber;
    상기 상부벽으로부터 연장되며 상기 개구를 통해 삽입되는 중간벽과; An intermediate wall extending from the top wall to be inserted through the opening and;
    상기 중간벽으로부터 연장되어 상기 구동 챔버 내에 배치되며, 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 벽과 대향되는 하부벽을 포함하되, Extending from the intermediate wall disposed in the drive chamber, comprising: a bottom wall in which the opening is formed in the wall facing the drive chamber,
    상기 구동 챔버 내에서 발생된 파티클이 상기 기판이 위치되는 영역으로 유입되지 않도록 상기 상부벽, 상기 중간벽, 그리고 상기 하부벽은 상기 개구가 형성된 상기 구동 챔버의 벽과 인접하게 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. Said top wall that the particles generated in the drive chamber from being introduced into the region in which the substrate is located, said intermediate wall and said lower wall, characterized in that disposed adjacent the wall of the drive chamber to said opening formed The substrate processing apparatus.
  4. 제 1항 또는 제 3항에 있어서, According to claim 1,
    상기 구동기는, The actuator,
    모터에 의해 회전되는 제 1회전축과; A first rotary shaft which is rotated by the motor and;
    상기 제 1회전축과 수직하게 배치되는 하나 또는 복수의 제 2회전축과; Wherein the one or a plurality of second rotation axis that is perpendicular to the first axis of rotation and disposed;
    상기 제 2회전축을 삽입하며 상기 기판 이송체에 접촉되는 적어도 하나의 구동 롤러와; Inserting the second rotary shaft and at least one drive roller in contact with the substrate conveying member;
    상기 제 1회전축의 회전력을 상기 제 2회전축에 전달하는 전달부재를 포함하되, Comprising: a transmitting member for transmitting the rotational force of the first rotating shaft to the second rotary shaft,
    상기 전달 부재는, The transmission member,
    상기 제 1회전축을 삽입하는 제 1자성체와; And the first magnetic body for inserting said first rotary shaft;
    상기 제 1자성체와 접하거나 인접한 위치에서 상기 제 1자성체에 수직하게 배치되며, 상기 제 2회전축을 삽입하는 제 2자성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The substrate processing apparatus of the first magnetic material in contact with or adjacent positions; and a second magnetic body to insert the second rotation axis is vertically arranged, the first magnetic body.
  5. 제 4항에 있어서, 5. The method of claim 4,
    상기 구동기는, The actuator,
    상기 구동 챔버의 내측벽과 접하여 회전되도록 상기 하부벽에 설치되는 가이드 롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The substrate processing apparatus according to claim 1, further including a guide roller which are mounted to the bottom wall so as to be rotated in contact with the inner wall of the drive chamber.
  6. 하나 또는 복수의 공정 챔버들과; One or more of the process chamber;
    기판을 지지하며, 상기 하나의 공정 챔버 내에서 또는 상기 공정 챔버들간에 기판을 이송하는 기판 이송체와; And supporting a substrate, and a substrate conveying member for conveying the substrate to within a single process chamber or between the process chamber; 그리고 And
    상기 기판 이송체를 직선 이동시키는 구동기와; And a driver for linearly moving the substrate conveying member;
    상기 공정 챔버의 내측벽 양쪽에 각각 설치되며 상기 기판 이송체에 지지되는 기판이 위치되는 영역과 분리되는 공간을 제공하는 구동 챔버를 포함하며, Are respectively provided on both sides of the inner wall of the process chamber and a driving chamber for providing a space that is separate from the region in which the substrate supported by the substrate conveying member position,
    상기 공정챔버들은 일렬로 복수개가 배치되고, 측벽에는 상기 기판 이송체가 이동되는 개구가 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The process chamber are arranged a plurality of lining up, the side wall has a substrate processing apparatus wherein a numerical aperture is moved body conveying the substrate provided.
  7. 하나 또는 복수의 공정 챔버들과; One or more of the process chamber;
    기판을 지지하며, 상기 하나의 공정 챔버 내에서 또는 상기 공정 챔버들간에 기판을 이송하는 기판 이송체와; And supporting a substrate, and a substrate conveying member for conveying the substrate to within a single process chamber or between the process chamber;
    상기 기판 이송체를 직선 이동시키는 구동기와; And a driver for linearly moving the substrate conveying member; 그리고 And
    상기 공정 챔버의 내측벽 양쪽에 각각 설치되며 상기 기판 이송체에 지지되는 기판이 위치되는 영역과 분리되는 공간을 제공하는 구동 챔버를 포함하며, Are respectively provided on both sides of the inner wall of the process chamber and a driving chamber for providing a space that is separate from the region in which the substrate supported by the substrate conveying member position,
    상기 기판 이송체는, The substrate conveying member,
    기판을 지지하는 지지판과; A support plate for supporting the substrate;
    공정 진행시 상기 구동 챔버의 외부에 위치되도록 배치되며, 개구가 형성된 구동 챔버의 측벽과 대향되도록 상기 지지판으로부터 돌출되는 외부 격리벽과; Process is arranged to be located outside of the drive chamber when in progress, the outside opening is isolated projecting from the support plate to face the side wall of the drive chamber formed in the wall and; 그리고 And
    공정 진행시 상기 구동 챔버의 내부에 위치되도록 배치되며, 상기 개구가 형성된 구동 챔버의 측벽과 대향되도록 상기 지지판으로부터 돌출되는 내부 격리벽을 포함하며, When proceeding step is disposed so as to be located at the inside of the driving chamber, and includes an inner isolation wall projecting from the support plate so that the side wall of the drive chamber is formed with the opening,
    상기 외부 격리벽과 상기 내부 격리벽은 상기 구동 챔버 내에서 발생된 파티클이 상기 기판이 위치되는 영역으로 유입되지 않도록 상기 구동 챔버의 측벽과 인접하도록 위치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The isolated external wall and the inner wall is isolated substrate processing apparatus, characterized in that the particles generated in the drive chamber, which is positioned so close to the side wall of the drive chamber from being introduced into the region in which the substrate is located.
  8. 제 7항에 있어서, The method of claim 7,
    상기 구동기는, The actuator,
    상기 기판 이송체의 상부에 제공되는 상부 구동부재와; And the upper driving member provided at an upper portion of the substrate conveying member;
    상기 기판 이송체의 하부에 제공되는 하부 구동부재를 포함하되, Comprising: a lower driving member provided in the lower surface of the substrate conveying member,
    상기 상부 구동부재와 상기 하부 구동부재 각각은, The upper drive member and each of the lower drive member,
    상기 기판 이송체의 상부와 하부에 각각 제공되는 제 1회전축과; A first rotary shaft that is provided on each of the top and bottom of the substrate and the conveying member;
    각각의 상기 제 1회전축과 수직하게 배치되는 제 2회전축과; A second rotation axis that is perpendicular to the arrangement and each of the first axis of rotation and;
    상기 제 2회전축을 삽입하며 상기 기판 이송체의 상부면 또는 하부면에 접촉되는 적어도 하나의 구동 롤러와; Inserting the second rotary shaft and at least one drive roller being in contact with the upper surface or lower surface of the substrate conveying member;
    상기 제 1회전축의 회전력을 상기 제 2회전축에 전달하는 전달부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The substrate processing device comprises a transmission member for transmitting a rotating force of the first rotating shaft to the second rotating shaft.
  9. 제 8항에 있어서, The method of claim 8,
    상기 전달 부재는, The transmission member,
    상기 제 1회전축을 삽입하는 제 1자성체와; And the first magnetic body for inserting said first rotary shaft;
    상기 제 1자성체와 접하거나 인접한 위치에서 상기 제 1자성체에 수직하게 배치되며, 상기 제 2회전축을 삽입하는 제 2자성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The substrate processing apparatus of the first magnetic material in contact with or adjacent positions; and a second magnetic body to insert the second rotation axis is vertically arranged, the first magnetic body.
  10. 제 8항 또는 제 9항에 있어서, The method of claim 8 or 9,
    상기 구동기는, The actuator,
    상기 기판 이송체의 측벽과 접하여 회전되도록 상기 구동 챔버 내에 설치되는 가이드 롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The substrate processing apparatus according to claim 1, further including a guide roller installed in the driving chamber to the side walls and the rotation of the substrate in contact with the conveying member.
  11. 하나 또는 복수의 공정 챔버들과; One or more of the process chamber;
    기판을 지지하며, 상기 공정 챔버 내에서 또는 상기 공정 챔버들간에 기판을 이송하는 기판 이송체와; And supporting a substrate, and a substrate conveying member for conveying the substrate to within the process chamber or between the process chamber;
    상기 기판 이송체를 직선 이동시키는 구동기와; And a driver for linearly moving the substrate conveying member; 그리고 And
    상기 기판 이송체는 상기 공정 챔버 내에서 기판이 위치되는 영역과 분리되는 공간을 제공하며 상기 구동기를 수용하는 구동 챔버를 가지고, The substrate conveying member providing the space region and the separation in which the substrate is located within the process chamber and has a drive chamber accommodating the drive,
    상기 공정챔버들은 일렬로 복수개가 배치되고, 측벽에는 상기 기판 이송체가 이동되는 개구가 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The process chamber are arranged a plurality of lining up, the side wall has a substrate processing apparatus wherein a numerical aperture is moved body conveying the substrate provided.
  12. 제 6항 또는 제 11항에 있어서, 7. The method of claim 6 or 11,
    상기 장치는 유기 전계 발광 소자 제조에 사용되는 기판 상에 유기 박막을 증착하는 장치인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The apparatus includes a substrate processing apparatus, characterized in that the device for depositing an organic thin film on a substrate used for manufacturing an organic EL device.
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