JP2022065430A - 処理液供給装置、報知方法及び記憶媒体 - Google Patents

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Abstract

【課題】処理液供給装置における処理液の貯留容器の交換時に、交換した貯留容器の適否を、交換作業中の作業者が直ちに視認できるように報知する。【解決手段】処理液を用いて基板を処理する基板処理装置に処理液を供給する処理液供給装置であって、処理液を貯留した貯留容器が一側面側から設置される区画を複数有する収容部と、前記区画それぞれに対し設けられ、対応する前記区画に設置されている前記貯留容器の側面に付された識別情報保持部から、当該貯留容器の識別情報を取得する取得部と、前記区画それぞれに対し設けられ、対応する前記区画の前記取得部での取得結果に基づく、当該区画における前記貯留容器の設置状態を、発光素子の発光状態で報知する報知部と、を備え、前記報知部の前記発光素子は、前記一側面側に向けて発光する。【選択図】図８

Description

本開示は、処理液供給装置、報知方法及び記憶媒体に関する。
特許文献１には、薬液収納容器を交換する方法が開示されている。この方法では、容器の配置形態と略同一になるように各ＬＥＤが配置されたＬＥＤ表示部が用いられ、容器内の薬液が空になると、対応するＬＥＤ表示部のＬＥＤが点灯する。オペレータは、容器７１を交換する作業に先立ち、バーコードリーダによって未使用容器のバーコードを読み取る。バーコードリーダ照合機は、未使用容器のバーコードデータとデータベースに登録されており点灯中のＬＥＤに対応する容器のバーコードデータとを照合する。そして、バーコードリーダ照合機によって両容器の薬液種類が同一であると判断された場合、ＬＥＤの表示は点灯表示から点滅表示に移行させられる。
特開２００６－２１８３９１号公報
本開示にかかる技術は、処理液供給装置における処理液の貯留容器の交換時に、交換した貯留容器の適否を、交換作業中の作業者が直ちに視認できるように報知する。
本開示の一態様は、処理液を用いて基板を処理する基板処理装置に処理液を供給する処理液供給装置であって、処理液を貯留した貯留容器が一側面側から設置される区画を複数有する収容部と、前記区画それぞれに対し設けられ、対応する前記区画に設置されている前記貯留容器の側面に付された識別情報保持部から、当該貯留容器の識別情報を取得する取得部と、前記区画それぞれに対し設けられ、対応する前記区画の前記取得部での取得結果に基づく、当該区画における前記貯留容器の設置状態を、発光素子の発光状態で報知する報知部と、を備え、前記報知部の前記発光素子は、前記一側面側に向けて発光する。
本開示によれば、処理液供給装置における処理液の貯留容器の交換時に、交換した貯留容器の適否を、交換作業中の作業者が直ちに視認できるように報知することができる。
本実施形態にかかる処理液供給装置を備えたウェハ処理システムの内部構成の概略を示す説明図である。 ウェハ処理システムの正面側の内部構成の概略を模式的に示す図である。 ウェハ処理システムの背面側の内部構成の概略を模式的に示す図である。 ウェハ処理システムの外観の概略を示す正面図である。 タッチパネルが表示する表示画面の一例を示す図である。 処理液の貯留容器の構成の概略を示す斜視図である。 収容装置の構成の概略を示す側面図であり、貯留容器が設置された状態を示している。 収容装置の構成の概略を示す側面図であり、貯留容器が設置されていない状態を示している。 第２設置台に設けられたホルダの構成の概略を示す斜視図である。 第１設置台に設けられたホルダの構成の概略を示す斜視図である。 収容装置に設置された貯留容器から処理液を供給する機構の構成の概略を示す説明図である。 貯留容器の交換方法の流れを示すフローチャートである。
半導体デバイス等の製造プロセスでは、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）上にレジストパターンを形成するため、ウェハ上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する処理や、ウェハ上に現像液を供給してレジスト膜を現像処理する処理等、様々な液処理が行われる。これら液処理は、各種液処理装置や装置間でウェハを搬送する搬送機構等を搭載した基板処理システムにより行われる。
このような基板処理システムにおいて、各種の処理液は、当該処理液を貯留する貯留容器から各種液処理装置に供給される。また、処理液には例えばレジスト液や現像液のように複数種類のものが用いられ、さらに、レジスト液等そのものも複数種類のものが用いられる。そのため、基板処理システムには、多数の処理液の貯留容器が配置される。
このように多数配置されている状態において処理液の貯留容器を交換する方法の１つがが前述の特許文献１に開示の方法である。しかし、この特許文献１に開示の方法では、バーコードリーダによってバーコードが読み取られた未使用の貯留容器を、作業者が誤った場所に設置してしまったときに、そのことを作業者が知ることができないため、誤った処理液が供給されてしまうことがある。
そして、上述のように未使用の貯留容器を作業者が誤った場所に設置していることは、作業者が直ちに（すなわちその場で）認識できることが好ましい。交換作業時間を極力短くするためである。
そこで、本開示にかかる技術は、処理液の貯留容器の交換時に、交換後の貯留容器の適否を、交換作業中の作業者が直ちに視認できるように報知する。
以下、本実施形態にかかる処理液供給装置及び報知方法について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
＜ウェハ処理システム＞
図１は、本実施形態にかかる処理液供給装置を備えたウェハ処理システム１の内部構成の概略を示す説明図である。図２及び図３は、各々ウェハ処理システム１の正面側及び背面側の内部構成の概略を模式的に示す図である。図４は、ウェハ処理システム１の外観の概略を示す正面図である。図５は、後述のタッチパネルが表示する表示画面の一例を示す図である。図６は、処理液の貯留容器の構成の概略を示す斜視図である。なお、以下の例において、ウェハ処理システム１は、ウェハＷに対して塗布現像処理を行う塗布現像処理システムである。
ウェハ処理システム１は、図１に示すように、複数枚のウェハＷを収容したカセットＣが搬入出されるカセットステーション１０と、ウェハＷに所定の処理を施す複数の各種処理装置を備えた処理ステーション１１と、を有する。そして、ウェハ処理システム１は、カセットステーション１０と、処理ステーション１１と、処理ステーション１１に隣接する露光装置１２との間でウェハＷの受け渡しを行うインターフェイスステーション１３と、を一体に接続した構成を有している。
カセットステーション１０には、カセット載置台２０が設けられている。カセット載置台２０には、ウェハ処理システム１の外部に対してカセットＣを搬入出する際に、カセットＣを載置するカセット載置板２１が複数設けられている。
カセットステーション１０には、Ｘ方向に延びる搬送路２２上を移動自在なウェハ搬送装置２３が設けられている。ウェハ搬送装置２３は、上下方向及び鉛直軸周り（θ方向）にも移動自在であり、各カセット載置板２１上のカセットＣと、後述する処理ステーション１１の第３のブロックＧ３の受け渡し装置との間でウェハＷを搬送できる。
処理ステーション１１には、各種装置を備えた複数例えば４つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４が設けられている。例えば処理ステーション１１の正面側（図１のＸ方向負方向側）には、第１のブロックＧ１が設けられ、処理ステーション１１の背面側（図１のＸ方向正方向側）には、第２のブロックＧ２が設けられている。また、処理ステーション１１のカセットステーション１０側（図１のＹ方向負方向側）には、第３のブロックＧ３が設けられ、処理ステーション１１のインターフェイスステーション１３側（図１のＹ方向正方向側）には、第４のブロックＧ４が設けられている。
第１のブロックＧ１には、図２に示すように複数の液処理装置、例えば現像処理装置３０、下部反射防止膜形成装置３１、レジスト塗布装置３２、上部反射防止膜形成装置３３が下からこの順に配置されている。現像処理装置３０は、ウェハＷを現像処理するものであり、下部反射防止膜形成装置３１は、ウェハＷのレジスト膜の下層に反射防止膜（以下「下部反射防止膜」という）を形成するものである。レジスト塗布装置３２は、ウェハＷにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するものであり、上部反射防止膜形成装置３３は、ウェハＷのレジスト膜の上層に反射防止膜（以下「上部反射防止膜」という）を形成するものである。
例えば現像処理装置３０、下部反射防止膜形成装置３１、レジスト塗布装置３２、上部反射防止膜形成装置３３は、それぞれ水平方向に３つ並べて配置されている。なお、これら現像処理装置３０、下部反射防止膜形成装置３１、レジスト塗布装置３２、上部反射防止膜形成装置３３の数や配置は、任意に選択できる。
これら現像処理装置３０、下部反射防止膜形成装置３１、レジスト塗布装置３２、上部反射防止膜形成装置３３では、例えばスピン塗布法により、ウェハＷ上に所定の処理液が供給される。スピン塗布法では、例えば吐出ノズルからウェハＷ上に処理液を吐出すると共に、ウェハＷを回転させて、処理液をウェハＷの表面に拡散させる。
第２のブロックＧ２には、図３に示すようにウェハＷの加熱や冷却といった熱処理を行う熱処理装置４０や、レジスト液とウェハＷとの定着性を高めるためのアドヒージョン装置４１、ウェハＷの外周部を露光する周辺露光装置４２が設けられている。これら熱処理装置４０、アドヒージョン装置４１、周辺露光装置４２は、上下方向と水平方向に並べて設けられており、その数や配置は、任意に選択できる。
例えば第３のブロックＧ３には、複数の受け渡し装置５０、５１、５２、５３、５４、５５が下から順に設けられている。また、第４のブロックＧ４には、複数の受け渡し装置６０、６１、６２が下から順に設けられている。
図１に示すように第１のブロックＧ１～第４のブロックＧ４に囲まれた領域には、基板搬送領域としてのウェハ搬送領域Ｄが形成されている。ウェハ搬送領域Ｄには、基板搬送装置としてのウェハ搬送装置７０が配置されている。
ウェハ搬送装置７０は、例えばＹ方向、Ｘ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム７０ａを有している。ウェハ搬送装置７０は、ウェハ搬送領域Ｄ内を移動し、周囲の第１のブロックＧ１、第２のブロックＧ２、第３のブロックＧ３及び第４のブロックＧ４内の所定の装置にウェハＷを搬送できる。ウェハ搬送装置７０は、例えば図３に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックＧ１～Ｇ４の同程度の高さの所定の装置にウェハＷを搬送できる。
また、ウェハ搬送領域Ｄには、第３のブロックＧ３と第４のブロックＧ４との間で直線的にウェハＷを搬送するシャトル搬送装置８０が設けられている。
シャトル搬送装置８０は、例えば図３のＹ方向に直線的に移動自在になっている。シャトル搬送装置８０は、ウェハＷを支持した状態でＹ方向に移動し、第３のブロックＧ３の受け渡し装置５２と第４のブロックＧ４の受け渡し装置６２との間でウェハＷを搬送できる。
図１に示すように第３のブロックＧ３のＸ方向正方向側の隣には、ウェハ搬送装置９０が設けられている。ウェハ搬送装置９０は、例えばＸ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム９０ａを有している。ウェハ搬送装置９０は、ウェハＷを支持した状態で上下に移動して、第３のブロックＧ３内の各受け渡し装置にウェハＷを搬送できる。
インターフェイスステーション１３には、ウェハ搬送装置１００と受け渡し装置１０１が設けられている。ウェハ搬送装置１００は、例えばＹ方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アーム１００ａを有している。ウェハ搬送装置１００は、例えば搬送アーム１００ａにウェハＷを支持して、第４のブロックＧ４内の各受け渡し装置、受け渡し装置１０１及び露光装置１２との間でウェハＷを搬送できる。
前述のカセットステーション１０には、図４に示すように、各種情報を示す画面を表示する表示装置としても機能するタッチパネル１１０が設けられている。タッチパネル１１０は、液晶パネルや有機ＥＬパネル等から構成される表示デバイスを有する。また、タッチパネル１１０は、例えば、その表示面が正面側（図４のＸ方向負方向側）に向くように、カセットステーション１０の処理ステーション１１側に設けられる。
タッチパネル１１０が表示する表示画面は、例えば、図５に示すような、後述のＲＦＩＤリーダで後述のＲＦＩＤタグが検知されているか否かを「●」と「〇」で示すＲＦＩＤリーダ毎に示す領域Ｒ１、Ｒ２を有する表示画面Ｐである。例えば、「●」は検知されていることを示し、「〇」は検知されていないことを示す。表示画面Ｐにおいて、上側に位置する領域Ｒ１は、複数のＲＦＩＤリーダのうち上方に位置するものについての情報を示している。また、表示画面Ｐにおいて、下側に位置する領域Ｒ２は、複数のＲＦＩＤリーダのうち下方に位置するものについての情報を示している。
タッチパネル１１０は、図５の表示画面Ｐの他、後述のＲＦＩＤタグに関する設定を行うための設定画面や、ウェハ処理システム１に現在生じているエラーの情報を表示するエラー画面等も表示することができる。
さらにまた、処理ステーション１１には、図１及び図４に示すように、処理液供給装置２００が有する収容装置２０１が設けられれている。収容装置２０１は、処理液を貯留する貯留容器Ｂ（図６参照）を収容するものであり、例えば、図１及び図４に示すように、処理ステーション１１のカセットステーション１０側における下方寄りの位置に設けられる。
収容装置２０１は、前後方向（図１及び図４のＸ方向）に延びるレール（図示せず）に沿って移動可能に構成されており、これにより、前後方向に沿って移動自在となっている。収容装置２０１は、通常時において、処理ステーション１１内に収まっているが、貯留容器Ｂの交換時には、処理ステーション１１から手前側に引き出され、これにより、作業者が、収容装置２０１から貯留容器Ｂを除いたり、収容装置２０１に貯留容器Ｂを設置したりすることが可能になる。
収容装置２０１に収容される貯留容器Ｂには、処理液として、例えばレジスト液が貯留されている。また、貯留容器Ｂには、図６に示すように、識別情報保持部としてのＲＦＩＤタグＢ１が付されている。ＲＦＩＤタグＢ１は具体的には例えば貯留容器Ｂの側面に貼り付けられている。このＲＦＩＤタグＢ１は、当該ＲＦＩＤタグＢ１が貼り付けられた貯留容器Ｂの識別情報を保持する。ＲＦＩＤタグＢ１が保持する貯留容器Ｂの識別情報は例えば当該貯留容器の製品名の情報である。
以上の構成要素を備えるウェハ処理システム１には、図１に示すように制御装置Ｕが設けられている。制御装置Ｕは、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータにより構成され、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、ウェハ処理システム１における後述のウェハ処理を制御するプログラムや、後述の、交換された貯留容器Ｂの適否を報知するプログラムが格納されている。また、制御装置Ｕが行う制御の一部または全てをＰＬＣ（Programmable Logic Controller）が行ってもよい。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、当該記憶媒体Ｈから制御装置Ｕにインストールされたものであってもよい。プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。
＜ウェハ処理＞
次に、ウェハ処理システム１を用いて行われるウェハ処理について説明する。
先ず、複数のウェハＷを収納したカセットＣが、カセットステーション１０の所定のカセット載置板２１に載置される。その後、ウェハ搬送装置２３によりカセットＣ内の各ウェハＷが順次取り出され、処理ステーション１１の第３のブロックＧ３の例えば受け渡し装置５２に搬送される。
次にウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって例えば第１のブロックＧ１の下部反射防止膜形成装置３１に搬送され、ウェハＷ上に下部反射防止膜が形成される。その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって、第２のブロックＧ２の熱処理装置４０に搬送され、加熱処理が行われる。
次いで、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によってレジスト塗布装置３２に搬送され、ウェハＷ上にレジスト膜が形成される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって熱処理装置４０に搬送され、プリベーク処理される。なお、プリベーク処理においても下部反射防止膜形成後の熱処理と同様な処理が行われ、また、後述の反射防止膜形成後の熱処理、ＰＥＢ処理、ポストベーク処理においても同様な処理が行われる。ただし、各熱処理に供される熱処理装置４０は互いに異なる。
次にウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって上部反射防止膜形成装置３３に搬送され、ウェハＷ上に上部反射防止膜が形成される。その後ウェハＷは、熱処理装置４０に搬送されて、加熱処理が行われる。その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって周辺露光装置４２に搬送され、周辺露光処理が行われる。
次に、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって受け渡し装置５２に搬送され、シャトル搬送装置８０によって第４のブロックＧ４の受け渡し装置６２に搬送される。その後、ウェハＷは、インターフェイスステーション１３のウェハ搬送装置１００によって露光装置１２に搬送され、所定のパターンで露光処理される。次にウェハＷは、ウェハ搬送装置１００によって第４のブロックＧ４の受け渡し装置６０に搬送される。その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって熱処理装置４０に搬送され、ＰＥＢ処理される。
次に、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって現像処理装置３０に搬送され、現像処理が行われる。現像処理後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって熱処理装置４０に搬送され、ポストベーク処理される。
次いで、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０により第３のブロックＧ３の受け渡し装置５０に搬送される。その後、ウェハＷは、カセットステーション１０のウェハ搬送装置２３によって所定のカセット載置板２１のカセットＣに搬送され、一連のフォトリソグラフィー工程が完了する。そして、この一連のフォトリソグラフィー工程が、同一カセットＣ内の後続のウェハＷについても実施される。
＜収容装置＞
続いて、収容装置２０１の構成について説明する。図７及び図８は、収容装置２０１の構成の概略を示す側面図であり、図７は貯留容器Ｂが設置された状態を示し、図８は貯留容器Ｂが設置されていない状態を示している。図９及び図１０はそれぞれ、収容装置２０１が有する後述のホルダの構成の概略を示す斜視図である。
図７及び図８に示すように、収容装置２０１は、貯留容器Ｂが一側面側（図のＹ方向正側）から設置される区画（以下、「設置区画」ということがある。）Ｋを複数有する収容部としての棚２１０を備える。
棚２１０は、設置区画Ｋをそれぞれ有する第１設置台２２０及び第２設置台２２１を有し、第２設置台２２１が、第１設置台２２０よりも底側に、すなわち第１設置台２２０よりも低い場所に位置する。棚２１０内の空間は、棚板２１１、２１２により、上下方向に３つに分割されており、例えば、上側に位置する棚板２１１が第１設置台２２０を構成し、下側に位置する棚板２１２が第２設置台２２１を構成する。第２設置台２２１の高さ位置が例えば８０ｃｍ～１０５ｃｍであるのに対し、第１設置台２２０の高さ位置は例えば１４０～１６５ｃｍであり比較的高い。
また、第１設置台２２０及び第２設置台２２１はそれぞれ、水平方向（図のＸ方向）に並ぶ複数（図の例では３つ）の設置区画Ｋを有する。以下では、第１設置台２２０の３つの設置区画Ｋを、図のＸ方向負側から順に、設置区画Ｋ１１、設置区画Ｋ１２、設置区画Ｋ１３ということがあり、第２設置台２２１の３つの設置区画Ｋを、図のＸ方向負側から順に、設置区画Ｋ２１、設置区画Ｋ２２、設置区画Ｋ２３ということがある。
また、収容装置２０１は、貯留容器Ｂの側面に貼付されたＲＦＩＤタグＢ１から当該貯留容器Ｂの識別情報を読み取る（すなわち取得する）取得部として、ＲＦＩＤリーダ２３０、２３１を備える。ＲＦＩＤリーダ２３０、２３１は、設置区画Ｋそれぞれに対し設けられ、具体的には、第１取得部としてのＲＦＩＤリーダ２３０は、第１設置台２２０の設置区画Ｋそれぞれに対し設けられ、第２取得部としてのＲＦＩＤリーダ２３１は、第２設置台２２１の設置区画Ｋそれぞれに対し設けられている。ＲＦＩＤリーダ２３０、２３１による取得結果は、無線通信及び有線通信の少なくともいずれか一方により、制御装置Ｕ（図１参照）に出力される。ＲＦＩＤリーダ２３０、２３１と制御装置Ｕとの間の通信の一部または全部を、ＩＯ－Ｌｉｎｋマスタを介して行ってもよい。
制御装置Ｕは、ＲＦＩＤリーダ２３０、２３１毎に、その取得結果に基づいて、対応する設置区画Ｋにおける貯留容器Ｂの設置状態について判定を行う。制御装置Ｕが行う上述の判定には例えば以下のものがある。
（１）対応する設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂが当該設置区画Ｋに設置すべきものであるか否かの判定
（２）貯留容器ＢのＲＦＩＤタグが検知されているか否かの判定
上記（１）の判定は、例えば、ＲＦＩＤリーダ２３０、２３１による取得結果に基づいて、記憶部（図示せず）に予め記憶された、各設置区画Ｋと適切な貯留容器Ｂの識別情報とを対応付けたテーブルを参照して、行われる。上記適切な貯留容器Ｂの識別情報は、例えばウェハ処理システム１に用意された当該識別情報の登録モードのときに、上記テーブルに登録される。具体的には、作業者によってタッチパネルに表示された選択画面（図示せず）から登録モードが選択され且つ適切な貯留容器Ｂが適切な設置区画Ｋに設置されたときに、当該設置区画Ｋに対応するＲＦＩＤリーダ２３０（またはＲＦＩＤリーダ２３１）で読み取った結果が、上記適切な貯留容器Ｂの識別情報として上記テーブルに登録される。この登録は、例えば、ウェハ処理システム１の立ち上げ時や、処理液の変更を伴う処理レシピの変更時に行われる。また、上記登録は、貯留容器Ｂの交換の度に行われてもよい。
さらに、収容装置２０１は、設置区画Ｋそれぞれに対し報知部２４０、２４１も設けられている。具体的には、第１設置台２２０の設置区画Ｋそれぞれに対し報知部（以下、「第１報知部」ということがある。）２４０も設けられ、第２設置台２２１の設置区画Ｋそれぞれに対し報知部（以下、「第２報知部」ということがある。）２４１も設けられている。
各報知部２４０、２４１は、対応する設置区画ＫのＲＦＩＤリーダ２３０、２３１での取得結果に基づく、当該設置区画Ｋにおける貯留容器Ｂの設置状態を２つの発光素子２５０、２５１の発光状態で報知する。発光素子２５０、２５１は例えばＬＥＤである。
この報知部２４０、２４１の発光素子２５０、２５１は、作業者が貯留容器Ｂの交換作業時に位置する側である上記一側面側（図のＹ方向正側）に向けて発光するように配設されている。
発光素子２５０と発光素子２５１とは、互いに異なる色で発光する。例えば、発光素子２５０は緑色に発光し、発光素子２５１は赤色に発光する。
発光素子２５０、２５１の発光は制御装置Ｕにより制御される。
報知部２４０、２４１は、例えば、対応する設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂが当該設置区画Ｋに設置すべきものである場合、すなわち適切な場合、緑色の発光素子２５０が点灯状態となり、不適切な場合、赤色の発光素子２５１が点灯状態となる。
また、報知部２４０、２４１は、例えば、対応する設置区画Ｋに設けられたＲＦＩＤリーダ２３０、２３１でＲＦＩＤタグＢ１を検知してから、対応する設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂの適否の判定が完了するまでの間、緑色の発光素子２５０と赤色の発光素子２５１の両方が短い間隔で同時に点滅する状態となる。これにより、報知部２４０、２４１は、上記判定中であることを報知する。
さらに、報知部２４０、２４１は、例えば、対応する設置区画Ｋに設けられたＲＦＩＤリーダ２３０、２３１でＲＦＩＤタグＢ１が検知されていない場合、すなわち、対応する設置区画Ｋに貯留容器Ｂが設置されていない場合（または、対応する設置区画Ｋへの貯留容器Ｂの設置の仕方が悪い場合）、発光素子２５０、２５１の両方が長い間隔で同時に点滅する状態となる。これにより、報知部２４０、２４１は、上述のようにＲＦＩＤタグＢ１が検知されていないことを報知する。
報知部２４０、２４１は、対応する設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂの設置状態以外の情報も、発光素子２５０、２５１の発光状態で報知することができる。
例えば、報知部２４０、２４１は、ＲＦＩＤリーダ２３０、２３１に異常が発生している場合、そのことを報知するように、発光素子２５０、２５１の両方が短い間隔で交互に点滅する状態となる。
例えば、報知部２４０、２４１と制御装置Ｕとの間の通信を司る機器（例えばＩＯ－Ｌｉｎｋマスタ）に異常が発生している場合、そのことを報知するように、当該機器を利用する報知部２４０、２４１の発光素子２５０、２５１の両方が短い間隔で交互に点滅する状態となる。
また、例えば、制御装置Ｕの処理液供給装置２００に係る制御部分に異常が発生している場合、そのことを報知するように、全ての報知部２４０、２４１の発光素子２５０，２５１の両方が消灯状態となる。
このように報知部２４０、２４１は、互いに異なる色に発光する発光素子２５０、２５１の発光状態で、種々の情報を報知することができる。
なお、ＲＦＩＤリーダ２３０、２３１に異常が発生しているか否かの判定や、報知部２４０、２４１と制御装置Ｕとの間の通信を司る機器に異常が発生しているか否かの判定、制御装置Ｕの処理液供給装置２００に係る制御部分に異常が発生しているか否かの判定は
制御装置Ｕにより行われる。
また、第１報知部２４０及び第２報知部２４１の高さ位置は以下のようになっている。
すなわち、第１設置台２２０の高さ位置を基準とした第１報知部２４０の高さ位置は、第２設置台２２１の高さ位置を基準とした第２報知部２４１の高さ位置よりも低くなっている。具体的には、第１設置台２２０の設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂの位置を基準とした、当該設置区画Ｋに対し設けられた第１報知部２４０の相対的な高さ位置は、第２設置台２２１の設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂの位置を基準とした、当該設置区画Ｋに対し設けられた第２報知部２４１の相対的な高さ位置よりも低くなっている。
したがって、第１設置台２２０の高さ位置が前述のように比較的高い場合において、身長が高くない作業者（例えば身長がアジア人女性の平均程度である作業者）であっても、第１報知部２４０の発光素子２５０、２５１の発光状態を視認することができ、対応する設置区画Ｋにおける貯留容器Ｂの設置状態を把握することができる。
また、第１報知部２４０は、第１設置台２２０の側方にまとめて配置されているのに対し、第２報知部２４１は、第２設置台２２１における設置区画Ｋ毎に、対応する設置区画Ｋの周囲に設けられている。
第１報知部２４０は手前側（図７のＹ方向正側）に設けられ、第２報知部２４１は奥側（図７のＹ方向負側）に設けられている。このように第１報知部２４０と第２報知部２４１とで奥行き方向（図のＹ方向）にかかる位置が異なる理由としては例えば以下の理由が挙げられる。すなわち、設置区画Ｋ毎に、対応する設置区画Ｋの周囲に設けられる第２報知部２４１については、手前側（図のＹ方向正側）に設けた場合、当該報知部２４１に対する配線等が貯留容器Ｂの交換作業の妨げになるおそれがある、という理由である。
なお、第１報知部２４０は例えば上下方向に並ぶように設けられている。上側の第１報知部２４０が設置区画Ｋ１１に、中央の第１報知部２４０が設置区画Ｋ１２、下側の第１報知部２４０が設置区画Ｋ１３にそれぞれ対応する。
さらに、収容装置２０１は、設置区画Ｋ毎に、ホルダ２６０またはホルダ２６１が設けられている。そして、第１設置台２２０の設置区画Ｋに設けられたホルダ２６０と、第２設置台２２１の設置区画Ｋに設けられたホルダ２６１とでは構成が異なる。
ホルダ２６１は、図９に示すように、貯留容器Ｂを個別に収容する個別収容部３００を有し、個別収容部３００は、第２設置台２２１（図７参照）に固定される。個別収容部３００は、貯留容器Ｂの底面を支持する底板３０１と、底板３０１に支持された貯留容器Ｂの側方周囲を囲う側面板３０２、３０３、正面板３０４、背面板３０５とを有する。
奥側（図９のＹ方向負側）に設けられた背面板３０５の手前側（図９のＹ方向正側）に、ＲＦＩＤリーダ２３１が設けられている。
また、背面板３０５には、報知部２４１の発光素子２５０、２５１を支持する支持部材３１０が接続されている。
このホルダ２６１と同様、ホルダ２６０は、図１０に示すように、貯留容器Ｂを個別に収容する個別収容部４００を有する。ただし、個別収容部４００は、第１設置台２２０（図７参照）に固定されておらず、第１設置台２２０上の位置である供給位置と、第１設置台２２０より下方の位置であって貯留容器Ｂの交換作業が行われる交換位置との間で、移動自在となっている。上記交換位置は、具体的には、上記供給位置より手前側（図１０のＹ方向正側）斜め下方の位置である。
上述のような移動を可能とするため、ホルダ２６０は昇降部材４１０を有する。昇降部材４１０は、個別収容部４００を上記供給位置と上記交換位置との間で昇降させる部材である。この昇降部材４１０は、例えば、折り畳み可能に構成されており、先端側に、個別収容部４００が固定され、基端側が固定部材４２０に軸支される。昇降部材４１０が折り畳まれたときに、個別収容部４００の位置が上記供給位置となり、昇降部材４１０が延ばされたときに、個別収容部４００の位置が上記交換位置となる。
固定部材４２０自体は、第１設置台２２０に固定されている。また、固定部材４２０には、ＲＦＩＤリーダ２３０も固定されている。
ホルダ２６０に保持された貯留容器Ｂを交換する際、作業者は、個別収容部４００を上記供給位置から上記交換位置まで移動させ、そして、個別収容部４００内の貯留容器Ｂの交換を行う。交換後、作業者は、個別収容部４００を上記供給位置に戻す。
前述のように、高さ位置が比較的高い第１設置台２２０に対するホルダ２６０を上述のように構成することで、身長が高くない作業者（例えば身長がアジア人女性の平均程度である作業者）であっても、第１設置台２２０の貯留容器Ｂの交換を容易に行うことができる。
なお、個別収容部４００の位置を上記供給位置または上記交換位置で維持するためのロック機構や、ロック機構によるロックを解除するロック解除機構をホルダ２６０に設けてもよい。また、作業者が個別収容部４００を上記供給位置と上記交換位置との間で容易に移動させることができるように、個別収容部４００の手前側（図１０のＹ方向正側）の面等の下方に取手を設けるようにしてもよい。
また、個別収容部４００は、貯留容器Ｂの底面を支持する底板４０１と、底板４０１に支持された貯留容器Ｂの下部を囲う筒状壁４０２と、貯留容器Ｂの奥側（図のＹ方向負側）上部と対向する上部背面板４０３とを有する。また、筒状壁４０２の奥側（図のＹ方向負側）部分の上端中央と上部背面板４０３の下端中央とにそれぞれ、切り欠き４０４、４０５とが設けられている。
上記供給位置に個別収容部４００が位置しているときに、固定部材４２０に固定されたＲＦＩＤリーダ２３０は、この切り欠き４０４、４０５内に収まる。したがって、ＲＦＩＤリーダ２３０による、上記供給位置の個別収容部４００内に収容された貯留容器Ｂに貼付されたＲＦＩＤタグＢ１の読み取りが、筒状壁４０２及び上部背面板４０３に妨げられることがない。
＜貯留容器Ｂからの供給機構＞
図１１は、収容装置２０１に設置された貯留容器Ｂから処理液を供給する機構の構成の概略を示す説明図である。
貯留容器Ｂは、収容装置２０１（図７参照）に設置された後、当該貯留容器Ｂの上部の開口部を塞ぐキャップＢ２が取り付けられる。キャップＢ２には、窒素ガス等の加圧ガスの供給管５０１と、処理液の供給管５０２とが設けられている。供給管５０１を介して、貯留容器Ｂ内に加圧ガスが供給されると、貯留容器Ｂ内の処理液が、供給管５０２内へ流入し、バッファタンク５０３に圧送される。このバッファタンク５０３から、ウェハ処理システム１の各液処理装置へ、処理液が供給される。
また、供給管５０１には、当該供給管５０１を介した加圧ガスの供給と供給停止とを切り換える開閉弁５１０が設けられている。開閉弁５１０には、当該開閉弁５１０による供給管５０１の開閉動作を実行させるためのソレノイド５１１が設けられている。ソレノイド５１１に対しては、当該ソレノイド５１１を制御する制御回路５１２が配線５１３を介して接続されている。
そして、本実施形態では、制御回路５１２とソレノイド５１１との通信を遮断するリレー５１４が配線５１３に設けられている。リレー５１４は、制御回路５１２からソレノイド５１１への電力供給を遮断可能に設けられていてもよい。このようにリレー５１４を設けることにより、貯留容器Ｂへ加圧ガスを供給する動作、すなわち、貯留容器Ｂから処理液を供給する動作を不能にするインターロックを行うことができる。つまり、リレー５１４は上記インターロックを行う機構である。
上記インターロックは、例えば、設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂが当該設置区画Ｋに設置すべきものでない場合に、有効とされる。
なお、制御回路５１２とリレー５１４は、制御装置Ｕの制御の下、動作する。
＜交換方法＞
続いて、貯留容器Ｂを交換した際の貯留容器Ｂの適否を報知する方法を含む、貯留容器Ｂの交換方法の一例について説明する。図１２は、貯留容器Ｂの交換方法の流れを示すフローチャートである。
貯留容器Ｂが空になったと制御装置Ｕに判定されると、貯留容器Ｂの交換を促すように、例えば、貯留容器Ｂが空になった旨の警告を示す画面が、タッチパネル１１０に表示される（ステップＳ１）。上記画面には、上記警告の他、例えば、交換すべき貯留容器Ｂの収容装置２０１内の位置、用意すべき新しい貯留容器Ｂの情報等が示される。なお、以下、設置区画Ｋ１１の貯留容器Ｂが空になったものとして説明する。
また、貯留容器Ｂが空になったか否かは、例えば以下のようにして判定される。すなわち、バッファタンク５０３に設けられた液面センサ（図示せず）により、バッファタンク５０３内の処理液の量が少なくなると、処理液の補充のため、対応する貯留容器Ｂへの供給管５０１を介した加圧ガスの供給が行われる。この加圧ガスの供給開始から所定時間経過しても、上記液面センサの検知結果に変化がない場合に、対応する貯留容器Ｂが空になったと判定される。
その後、設置区画Ｋ１１に設置されていた貯留容器Ｂが取り外されると、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０でＲＦＩＤタグＢ１が検出されなくなる。このように検出されなくなると、リレー５１４が動作し、前述のインターロックが有効にされる（ステップＳ２）。
また、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０でＲＦＩＤタグＢ１が検出されなくなると、その旨が設置区画Ｋ１１の報知部２４０から報知されるよう、当該報知部２４０の発光素子２５０、２５１の両方が長い間隔で同時に点滅する状態とされる（ステップＳ３）。
作業者により新しい貯留容器Ｂが設置区画Ｋ１１にされた場合に、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０でＲＦＩＤタグＢ１が検出されるため、ステップＳ３に次いで、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０でＲＦＩＤタグＢ１が検出されたか否かの判定が制御装置Ｕにより行われる（ステップＳ４）。この判定はＲＦＩＤタグＢ１が検出されるまで繰り返される。具体的には、設置区画Ｋ１１に交換後の貯留容器Ｂが設置され、設置区画Ｋ１１に設けられたＲＦＩＤリーダ２３０によって、交換後の貯留容器Ｂの識別情報が取得されるまで繰り返される。
なお、ＲＦＩＤリーダ２３０の読み取り可能範囲が狭いときには、新しい貯留容器Ｂの設置の際、ＲＦＩＤリーダ２３０と新しい貯留容器ＢのＲＦＩＤタグＢ１とを対向させる必要がある場合がある。この場合は、ＲＦＩＤリーダ２３０と新しい貯留容器ＢのＲＦＩＤタグＢ１とを対向させるよう促すメッセージを、ステップＳ１で表示する表示画面に表示してもよい。
新しい貯留容器Ｂが設置区画Ｋ１１に設置され、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０でＲＦＩＤタグＢ１が検出された場合（ステップＳ４、ＹＥＳの場合）、設置区画Ｋ１１に設置された貯留容器Ｂが適切であるか否かの判定が制御装置Ｕにより行われる（ステップＳ５）。具体的には、例えば、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０が取得した、ＲＦＩＤタグＢ１に保持された新たな貯留容器Ｂの識別情報に基づいて、当該新たな貯留容器Ｂが適切であるかの否かが制御装置Ｕにより行われる。より具体的には、例えば、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０が取得した、ＲＦＩＤタグＢ１に保持された新たな貯留容器Ｂの識別情報が、前述のテーブルに登録された、設置区画Ｋ１１に対する適切な貯留容器Ｂの識別情報と一致するか否かの判定が制御装置Ｕに行われる。なお、この一致するか否かの判定に際し、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０が取得した上記識別情報は必要に応じて制御装置Ｕにより所定の文字コードへ変換される。
ステップＳ４の判定の結果は、以下に説明するように、設置区画Ｋ１１の報知部２４０により報知される。
ステップＳ５の判定の結果、適切である場合すなわち識別情報が一致する場合（ＹＥＳの場合）、適切である旨が設置区画Ｋ１１の報知部２４０から報知されるよう、当該報知部２４０の発光素子２５０、２５１のうち緑色の発光素子２５０のみが点灯状態とされる（ステップＳ６）。
また、リレー５１４が動作し、前述のインターロックが解除（無効化）される（ステップＳ７）。
そして、設置区画Ｋ１１の貯留容器Ｂが空である旨の警告等を示す画面の表示が解除される（ステップＳ８）。この解除は、以下のタイミングで行われてもよい。すなわち、インターロック解除後、設置区画Ｋ１１の貯留容器Ｂへの加圧ガスの供給が再開され、その貯留容器Ｂから適切な処理液が供給され、対応するバッファタンク５０３に所定量補充されたタイミングで、ステップＳ８の警告画面表示の解除が行われてもよい。
ステップＳ５において、設置区画Ｋ１１に設置された貯留容器Ｂの識別情報が前述のテーブルに登録された情報と一致せず当該貯留容器Ｂが適切でない場合（ＮＯの場合）、その旨が設置区画Ｋ１１の報知部２４０から報知されるよう、当該報知部２４０の発光素子２５０、２５１のうち赤色の発光素子２５１のみが点灯状態とされる（ステップＳ９）。
その後、設置区画Ｋ１１に設置された、適切でない貯留容器Ｂが、上記報知を受けた作業者により取り外されると、設置区画Ｋ１１のＲＦＩＤリーダ２３０でＲＦＩＤタグＢ１が検出されなくなるため、その旨が再度報知されるよう、ステップＳ３に戻される。
以上のように、本実施形態において、処理液供給装置２００は、貯留容器Ｂが一側面側から設置される区画Ｋを複数有する棚２１０を備える。また、処理液供給装置２００は、区画Ｋそれぞれに対し設けられ、対応する区画Ｋに設置されている貯留容器ＢのＲＦＩＤタグＢ１から、当該貯留容器Ｂの識別情報を取得するＲＦＩＤリーダ２３０、２３１を備える。さらに、処理液供給装置２００は、区画Ｋそれぞれに対し設けられ、対応する区画ＫのＲＦＩＤリーダ２３０、２３１での取得結果に基づく、当該区画Ｋにおける貯留容器Ｂの設置状態を発光素子２５０、２５１の発光状態で報知する報知部２４０、２４１を備える。そのため、処理液供給装置２００によれば、貯留容器Ｂの交換時に、交換した貯留容器Ｂの適否を、交換作業中の作業者が視認できる。
そして、処理液供給装置２００では、報知部２４０、２４１の発光素子２５０、２５１が、上記一側面側すなわち作業者側に向けて発光する。したがって、以下の効果がある。本開示にかかる技術とは異なる技術（代替技術）として、本実施形態で報知部２４０により報知される情報を、タッチパネル１１０に表示することにより報知する技術が考えられる。
上記代替技術では、作業者が報知内容を確認するためにタッチパネル１１０まで移動する必要があるのに対し、本実施形態では、発光素子２５０、２５１が上述のように作業者側に向けて発光するため、作業者が移動することなくその場で直ちに、発光素子２５０、２５１による報知内容を確認することができる。
つまり、処理液供給装置２００によれば、貯留容器Ｂの交換時に、交換した貯留容器Ｂの適否を、交換作業中の作業者が直ちに視認できるように報知することができる。
特に、本実施形態によれば、作業者の熟練度によらず、区画Ｋに設置した貯留容器Ｂの適否を作業者がその場で判断することができる。
また、本実施形態では、第１設置台２２０に対する報知部２４０は、第１設置台２２０の側方にまとめて配置されている。そのため、報知部２４０を手前側（図７等のＹ方向正側）すなわち作業者側に設けても、報知部２４０に対する配線等によって、第１設置台２２０の設置区画Ｋの貯留容器Ｂの交換作業が妨げられることがない。また、報知部２４０が手前側にあることにより、作業者が、報知部２４０による報知をより容易に視認することができる。特に、作業者の身長が低い場合、高さ位置が高い第１設置台２２０に対する報知部２４０が奥側に位置すると、作業者が、報知部２４０による報知を視認することができないおそれがあるが、報知部２４０が手前側にあることにより、これを防ぐことができる。
さらに、本実施形態では、第２設置台２２１に対する報知部２４１については、設置区画Ｋ毎に、対応する設置区画Ｋの周囲に配置されている。これにより、報知部２４１と設置区画Ｋの対応関係を作業者がより容易に把握できるようにしている。
また、報知部２４１は、奥側（図７等のＹ方向負側）すなわち作業者よりも遠い位置に設けられており、そのため、報知部２４１に対する配線等によって、報知部２４１が設けられている第２設置台２２１の設置区画Ｋの貯留容器Ｂの交換作業が妨げられることがない。また、報知部２４１が設けられている第２設置台２２１の高さ位置は低いため、身長が低い作業者であっても、奥側に設けられた報知部２４１による報知を視認することができる。
また、本実施形態では、報知部２４０、２４１が、互いに異なる色で発光する２つの発光素子２５０、２５１から成る、という簡易な構成を有している。そして、この２つの発光素子２５０、２５１の発光状態で、各区画Ｋに設置された貯留容器Ｂの適否を含む、処理液供給装置２００に係る多数の状態を報知することができる。つまり、本実施形態では、報知部２４０、２４１は、簡易な構成で、処理液供給装置２００に係る多数の状態を報知することができる。
さらに、本実施形態では、貯留容器Ｂから処理液を供給する動作を不能にするインターロックを行うためのリレー５１４が設けられており、上記インターロックが、設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂが適切でない場合に、有効とされる。したがって、不適切な処理液が供給されるのを防ぐことができる。その結果、バッファタンク５０３での適切な処理液と不適切な処理液との混合や、製品不良の発生を防ぐことができる。
＜変形例＞
なお、各報知部２４０、２４１が有する発光素子の数は２つに限られず、１つであってもよいし、３以上であってもよい。
以上の例では、交換時に設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂの適否の判定に、当該貯留容器Ｂの製品名の情報を用いていた。ＲＦＩＤタグＢ１には、上記製品名の情報に代えて、または加えて、貯留容器Ｂの他の識別情報（例えば処理液の種類の情報、ロット番号等）が保持されている場合がある。この場合、上記他の識別情報を、上記適否の判定に用いてもよい。また、ＲＦＩＤタグＢ１に保持されている貯留容器Ｂの識別情報のうちの複数に基づいて上記適否の判定を行ってもよい。
ＲＦＩＤタグＢ１に保持されている貯留容器Ｂの識別情報のうち、いずれを上記適否の判定に用いるかの設定は、例えば、作業者が、タッチパネル１１０に表示された設定画面を見て、タッチパネル１１０を操作することにより行われる。
以上の例では、設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂの適否を報知部２４０、２４１による発光状態のみで報知していた。これに加えて、設置区画Ｋに設置された貯留容器Ｂの適否を、音出力手段を介した音または音声出力手段を介した音声で、報知するようにしてもよい。
また、以上の例では、貯留容器Ｂが空になった旨の警告を、タッチパネル１１０を介した画面表示で報知していたが、これに代えて、または、これに加えて、音出力手段を介した音または音声出力手段を介した音声で、上記警告を報知するようにしてもよい。これにより見落としを防ぐことができる。
以上の例では、棚２１０は、奥行き方向（図７等のＹ方向）に一列のみ貯留容器Ｂが設置されていたが、奥行き方向に二列、貯留容器Ｂが設置されていてもよい。この場合、奥側（図７等のＹ方向負側）の貯留容器Ｂについては、棚２１０の奥側から設置され、当該貯留容器Ｂに対する報知部２４０、２４１は奥側に向けて発光する。
また、以上の例では、棚２１０は、第１設置台２２０及び第２設置台２２１という、高さ方向に並ぶ２つの設置台を有していたが、高さ方向に並ぶ３以上の設置台を有していてもよい。この場合、第１設置台２２０より高い位置の設置台は、第１設置台２２０と同様にＲＦＩＤリーダ２３０、報知部２４０、ホルダ２６０が設けられ、第２設置台２２１より低い位置の設置台は第２設置台２２１と同様にＲＦＩＤリーダ２３１、報知部２４１、ホルダ２６１が設けられる。
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
３０ 現像処理装置
３１ 下部反射防止膜形成装置
３２ レジスト塗布装置
３３ 上部反射防止膜形成装置
２００ 処理液供給装置
２１０ 棚
２３０、２３１ ＲＦＩＤリーダ
２３１ ＲＦＩＤリーダ
２４０、２４１ 報知部
２５０、２５１ 発光素子
Ｂ 貯留容器
Ｂ１ ＲＦＩＤタグ
Ｈ 記憶媒体
Ｋ 区画
Ｗ ウェハ
基づいて

Claims (8)

  1. 処理液を用いて基板を処理する基板処理装置に処理液を供給する処理液供給装置であって、
    処理液を貯留した貯留容器が一側面側から設置される区画を複数有する収容部と、
    前記区画それぞれに対し設けられ、対応する前記区画に設置されている前記貯留容器の側面に付された識別情報保持部から、当該貯留容器の識別情報を取得する取得部と、
    前記区画それぞれに対し設けられ、対応する前記区画の前記取得部での取得結果に基づく、当該区画における前記貯留容器の設置状態を、発光素子の発光状態で報知する報知部と、を備え、
    前記報知部の前記発光素子は、前記一側面側に向けて発光する、処理液供給装置。
  2. 前記収容部は、前記区画をそれぞれ有する第１設置台及び第２設置台を有し、
    前記取得部は、前記第１設置台に対し設けられた第１取得部と、前記第２設置台に対し設けられた第２取得部と、を有し、
    前記報知部は、前記第１設置台に対し設けられた第１報知部と、前記第２設置台に対し設けられた第２報知部と、を有し、
    前記第２設置台は、前記第１設置台よりも低い場所に位置し、
    前記第１設置台の高さ位置を基準とした前記第１報知部の高さ位置は、前記第２設置台の高さ位置を基準とした前記第２報知部の高さ位置よりも低い、請求項１に記載の処理液供給装置。
  3. 前記第１設置台及び前記第２設置台はそれぞれ、水平方向に並ぶ複数の前記区画を有し、
    前記第１報知部は、前記第１設置台の側方にまとめて配置されており、
    前記第２報知部は、前記第２設置台における前記区画毎に、対応する前記区画の周囲に配置されている、請求項２に記載の処理液供給装置。
  4. 前記第１設置台は、
    前記貯留容器を個別に収容する個別収容部と、
    前記個別収容部を、当該第１設置台上の位置と当該第１設置台より下方の位置との間で昇降させる昇降部材と、を有する、請求項２または３に記載の処理液供給装置。
  5. 前記区画に設置された前記貯留容器から処理液を供給する動作を不能にするインターロックを行う機構を有し、
    前記区画に設置された交換後の前記貯留容器が当該区画に設置すべきものでない場合に、前記インターロックは有効とされる、請求項１～４のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
  6. 前記報知部は、互いに異なる色で発光する２つの前記発光素子を有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
  7. 処理液を用いて基板を処理する基板処理装置に処理液を供給する処理液供給装置において、処理液の貯留容器を交換した際の前記貯留容器の適否を報知する方法であって、
    前記処理液供給装置が、
    前記貯留容器が一側面側から設置される区画を複数有する収容部と、
    前記区画それぞれに対し設けられ、対応する前記区画に設置されている前記貯留容器の側面に付された識別情報保持部から、当該貯留容器の識別情報を取得する取得部と、
    前記区画それぞれに対し設けられ、対応する前記区画の前記取得部での取得結果に基づく、当該区画における前記貯留容器の設置状態の情報を、発光素子の発光状態で報知する報知部と、を備え、
    前記報知部の発光素子は、前記一側面側に向けて発光し、
    前記方法は、
    交換後の前記貯留容器が設置された前記区画に設けられた取得部によって、当該貯留容器の前記識別情報を取得する工程と、
    取得された前記識別情報に基づいて、前記区画に設置された前記交換後の前記貯留容器が当該区画に設置すべきものであるか否かの判定を行う工程と、
    前記判定の結果を前記報知部により報知する工程と、を含む、報知方法。
  8. 請求項７に記載の報知方法を前記処理液供給装置によって実行させるように、当該処理液供給装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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