JP2022048009A - 類似不良検索/表示システム、装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (19)
- 処理対象の製造データの特徴量を決定する決定部と、
不良原因が判明していない製造データと当該製造データの特徴量とを含む原因未判明データを格納する第1の格納部と、
不良原因が判明している製造データと当該製造データの特徴量と不良原因情報とを含む原因既判明データを格納する第2の格納部と、
前記処理対象の製造データの特徴量に基づいて、特徴量が前記処理対象の製造データに類似する前記原因未判明データ及び前記原因既判明データを、前記第1の格納部及び前記第2の格納部に対してそれぞれ検索する検索部と、
前記原因未判明データの検索結果と前記原因既判明データの検索結果とを表示する表示部と、
を具備する類似不良検索/表示システム。 - 前記第1の格納部から検索された前記原因未判明データの第1の個数と前記第2の格納部から検索された前記原因既判明データの第2の個数とに応じて前記製造データに関する不良の発生傾向を判定する判定部を更に備え、
前記表示部は、更に前記発生傾向を表示する、
請求項1記載の類似不良検索/表示システム。 - 前記発生傾向は、新顔、再発、再発1件目及び見逃しの少なくとも1種を含む、請求項2記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記判定部は、
前記第1の個数と前記第2の個数との双方が所定数未満である場合、前記発生傾向が前記新顔であると判定し、
前記第1の個数が前記所定数以上であり且つ前記第2の個数が前記所定数未満である場合、前記発生傾向が前記見逃しであると判定し、
前記第1の個数が前記所定数未満であり且つ前記第2の個数が前記所定数以上である場合、前記発生傾向が前記再発1件目であると判定し、
前記第1の個数と前記第2の個数との双方が前記所定数以上である場合、前記発生傾向が前記再発であると判定する、
請求項3記載の類似不良検索/表示システム。 - 前記表示部は、前記第1の格納部から検索された前記原因未判明データ及び/又は前記第2の格納部から検索された前記原因既判明データを、前記発生傾向の種類を示すラベルと共に表示する、請求項3記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記表示部は、前記第1の格納部から検索された前記原因未判明データ及び/又は前記第2の格納部から検索された前記原因既判明データを表示する、請求項1記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記表示部は、前記処理対象の製造データに関する不良の発生頻度を時系列で表すグラフを表示する、請求項1記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記グラフは、前記第1の格納部から検索された前記原因未判明データの個数の時間変化を示す、請求項7記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記表示部は、前記第2の格納部から検索された前記原因既判明データに含まれる不良原因の調査報告書類及び/又は不良原因である製造装置を含む不良原因情報を表示する、請求項1記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記原因未判明データは、更に、識別子、タイムスタンプ及び製造に関与した機器の情報の少なくとも1つを含む、請求項1記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記原因既判明データは、更に、識別子、タイムスタンプ、製造に関与した機器の情報、不良原因の調査報告書類及び不良原因である製造装置の情報の少なくとも1つを含む、請求項1記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記表示部は、前記第1の格納部から検索された前記原因未判明データ及び/又は前記第2の格納部から検索された前記原因既判明データを一つ一つ表示する、請求項1記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記表示部は、前記第1の格納部から検索された前記原因未判明データの平均データ及び/又は前記第2の格納部から検索された前記原因既判明データの平均データを表示する、請求項1記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記決定部は、前記処理対象の製造データである複数の製造データを特徴量に基づいて複数のクラスタに分類し、前記複数のクラスタにそれぞれ対応する複数の特徴量を決定し、
前記検索部は、前記複数の特徴量各々について、前記第1の格納部及び前記第2の格納部に対して特徴量が前記複数の製造データ各々に類似する前記原因未判明データ及び前記原因既判明データをそれぞれ検索する、
請求項1記載の類似不良検索/表示システム。 - 前記第1の格納部は、特徴量に応じて前記原因未判明データを複数の第1のクラスタに分類し、
前記第2の格納部は、特徴量に応じて前記原因既判明データを複数の第2のクラスタに分類し、
前記検索部は、前記処理対象の製造データの特徴量が属する第1のクラスタを前記複数の第1のクラスタから特定し、特定された前記第1のクラスタに属する前記原因未判明データを前記第1の格納部から検索し、前記処理対象の製造データの特徴量が属する第2のクラスタを前記複数の第2のクラスタから特定し、特定された前記第2のクラスタに属する前記原因既判明データを前記第2の格納部から検索する、
請求項1記載の類似不良検索/表示システム。 - 前記処理対象の製造データは、製品の外観に関する検査画像、前記製品の不良の空間分布を表す不良マップ及び前記製品に関する検査機器の波形データの少なくとも1つを含む、請求項1記載の類似不良検索/表示システム。
- 前記処理対象の製造データは、複数の半導体チップが配列された円盤の外観に関する光学画像であり、
前記複数の半導体チップのうちの少なくとも1個の半導体チップは、少なくとも1個の検査工程又は検査項目に関して不良を含んでいる、
請求項1記載の類似不良検索/表示システム。 - 処理対象の製造データの特徴量を決定する算出部と、
前記処理対象の製造データの特徴量に基づいて、不良原因が判明していない製造データと当該製造データの特徴量とを含む原因未判明データを格納する第1の格納部と、不良原因が判明している製造データと当該製造データの特徴量と不良原因情報とを含む原因既判明データを格納する第2の格納部とに対して、特徴量が前記処理対象の製造データに類似する前記原因未判明データ及び前記原因既判明データをそれぞれ検索する検索部と、
前記原因未判明データの検索結果と前記原因既判明データの検索結果とを表示する表示部と、
を具備する類似不良検索/表示装置。 - 処理対象の製造データの特徴量を決定し、
前記処理対象の製造データの特徴量に基づいて、不良原因が判明していない製造データと当該製造データの特徴量とを含む原因未判明データを格納する第1の格納部と、不良原因が判明している製造データと当該製造データの特徴量と不良原因情報とを含む原因既判明データを格納する第2の格納部とに対して、特徴量が前記処理対象の製造データに類似する前記原因未判明データ及び前記原因既判明データをそれぞれ検索し、
前記原因未判明データの検索結果と前記原因既判明データの検索結果とを表示する、
ことを具備する類似不良検索/表示方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02234451A (ja) * | 1989-03-07 | 1990-09-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Lsi製造工程の不良工程抽出方法 |
JP2000200356A (ja) * | 1999-01-08 | 2000-07-18 | Hitachi Ltd | 欠陥分類方法およびその装置 |
JP2004158820A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-06-03 | Toshiba Corp | 不良解析システム、不良解析方法、不良解析プログラム、及び半導体装置の製造方法 |
JP2004253445A (ja) * | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2009302403A (ja) * | 2008-06-16 | 2009-12-24 | Fujitsu Microelectronics Ltd | 半導体装置の不良解析方法及び半導体装置の不良解析システム |
WO2014006807A1 (ja) * | 2012-07-03 | 2014-01-09 | シャープ株式会社 | グラフ描画装置、グラフ描画方法、工程管理システム、工程管理方法および可読記憶媒体 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8010321B2 (en) * | 2007-05-04 | 2011-08-30 | Applied Materials, Inc. | Metrics independent and recipe independent fault classes |
JP5715873B2 (ja) * | 2011-04-20 | 2015-05-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥分類方法及び欠陥分類システム |
US8987010B1 (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-24 | International Business Machines Corporation | Microprocessor image correction and method for the detection of potential defects |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02234451A (ja) * | 1989-03-07 | 1990-09-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Lsi製造工程の不良工程抽出方法 |
JP2000200356A (ja) * | 1999-01-08 | 2000-07-18 | Hitachi Ltd | 欠陥分類方法およびその装置 |
JP2004158820A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-06-03 | Toshiba Corp | 不良解析システム、不良解析方法、不良解析プログラム、及び半導体装置の製造方法 |
JP2004253445A (ja) * | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2009302403A (ja) * | 2008-06-16 | 2009-12-24 | Fujitsu Microelectronics Ltd | 半導体装置の不良解析方法及び半導体装置の不良解析システム |
WO2014006807A1 (ja) * | 2012-07-03 | 2014-01-09 | シャープ株式会社 | グラフ描画装置、グラフ描画方法、工程管理システム、工程管理方法および可読記憶媒体 |
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