JP2022042002A - フルオレン化合物およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高い屈折率を示す光学材料の原料モノマーとなるフルオレン化合物を提供する。
【解決手段】フルオレン化合物は、下記式（１）で表される。

（Ｙ^１ａ、Ｙ^１ｂは式：－Ｚ^１－（Ｒ^１）_ｍ１；ｋ１ａ、ｋ１ｂは０～４の整数で少なくとも一方は１以上；Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂは置換基；ｍ２ａ、ｍ２ｂは０～４の整数；ｋ１ａ＋ｍ２ａ、ｋ１ｂ＋ｍ２ｂは４以下；Ｙ^２ａ、Ｙ^２ｂは式：－Ｚ^２（Ｒ^３）_ｍ３－Ｏ－（Ａ^１Ｏ）_ｎ１－Ｈ（Ｚ^１はアレーン環；Ｒ^１は置換基；ｍ１、ｍ３、ｎ１は０以上の整数；Ｚ^２は多環式アレーン環；Ｒ^３は置換基；Ａ^１はアルキレン基）
【選択図】なし

Description

本発明は、フルオレン骨格を有する化合物およびその製造方法に関する。

フルオレン骨格を有する化合物は、その化学構造に由来して優れた光学的特性を備えており、光学部材を形成するための樹脂材料（光学材料）などとして利用されている。

特許文献１には、レンズなどの光学部材を形成する光学材料として、下記式（１）で表される繰り返し単位を含む熱可塑性樹脂が開示されている。

（式中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、ハロゲン原子、芳香族基を含んでいてもよい炭素原子数１～１２の炭化水素基を示し、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、置換基を含んでいてもよい炭素原子数６～１０の芳香族基を示し、Ｌ^１およびＬ^２は２価の連結基を示し、ｊおよびｋは０以上の整数を示し、ｍおよびｎは０または１を示し、Ｗは下記式（２）または（３）で表される群より選ばれる少なくとも１つである。）

（式中、Ｘは２価の連結基を示す）。

特許文献１には、上記熱可塑性樹脂を形成するための原料モノマーとして、下記式（ａ）で表されるジオール成分が記載されている。

（式中、環Ｚ、Ｒ^１およびＲ^２、Ａｒ^１およびＡｒ^２、Ｌ^１およびＬ^２、ｊおよびｋ、ｍおよびｎはそれぞれ前記式（１）に同じ）。

国際公開第２０１９／０４４２１４号

特許文献１には、環Ｚがベンゼン環（または１，４－フェニレン基）であるのがより好ましいことが記載されている。また、例示されている数多くの前記式（ａ）で表されるジオール成分のうち、環Ｚがベンゼン環である式（ａ１）～（ａ２４）で表されるジオール成分が好ましいことも記載されている。

さらに、特許文献１の実施例では、前記式（ａ）で表されるジオール成分として、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２，７－ジフェニルフルオレン（ＢＰＤＰ２）、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－３，６－ジフェニルフルオレン（ＢＰＤＰ３）、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－４，５－ジフェニルフルオレン（ＢＰＤＰ４）、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン（ＢＰＤＮ２）、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレン（ＢＰＤＮ１）を用いて種々のポリカーボネート樹脂などが調製されており、高屈折率化、高耐熱化などに効果的であることが記載されている。

しかし、これらのポリカーボネート樹脂でも用途などによっては屈折率や耐熱性が十分でない場合があり、さらなる向上が求められている。

従って、本発明の目的は、高い屈折率を示すフルオレン化合物およびその製造方法ならびに前記化合物を含む組成物を提供することにある。

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、特定の化学構造を有するフルオレン化合物が高い屈折率を示すことを見いだし、本発明を完成した。

すなわち、本発明のフルオレン化合物は、下記式（１）で表される。

［式中、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂはそれぞれ独立して下記式（Ｙ１）

（式中、Ｚ^１はアレーン環を示し、
Ｒ^１は置換基を示し、ｍ１は０または１以上の整数を示す。）
で表される１価の基を示し、ｋ１ａおよびｋ１ｂはそれぞれ独立して０～４の整数を示し、ｋ１ａおよびｋ１ｂのうち少なくとも一方は１以上であり、
Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｍ２ａおよびｍ２ｂはそれぞれ独立して０～４の整数を示し、
ｋ１ａ＋ｍ２ａおよびｋ１ｂ＋ｍ２ｂはそれぞれ独立して４以下であり、
Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂはそれぞれ独立して下記式（Ｙ２）

（式中、Ｚ^２は多環式アレーン環を示し、
Ｒ^３は置換基を示し、ｍ３は０または１以上の整数を示し、
Ａ^１は直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、ｎ１は０または１以上の整数を示す。）
で表される１価の基を示す］。

前記式（１）において、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂを表す式（Ｙ１）中のＺ^１はベンゼン環、ナフタレン環またはビフェニル環であってもよく、ｋ１ａおよびｋ１ｂが０～２程度の整数であってもよく、Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂを表す式（Ｙ２）中のＺ^２はナフタレン環またはビフェニル環であってもよい。また、前記式（１）で表されるフルオレン化合物は結晶の形態であってもよい。

また、前記式（１）において、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂを表す式（Ｙ１）中のＺ^１は縮合多環式アレーン環などの多環式アレーン環、なかでも、ナフタレン環などの縮合多環式Ｃ_{１０－１４}アレーン環であってもよい。前記フルオレン化合物は、溶融重合または溶液重合するためのモノマー、および樹脂を改質するための樹脂添加剤から選択された少なくとも一種であってもよい。

なお、本発明は、前記フルオレン化合物と、溶媒とを含む組成物（液状組成物または溶液）を包含する。

また、本発明は、下記（ｉ）または（ii）に記載の反応工程を含む前記フルオレン化合物の製造方法を包含する。

（ｉ）下記式（２）で表される化合物と、下記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物とをカップリング反応させる工程

［式中、Ｘ^１ａおよびＸ^２ａならびにＸ^１ｂおよびＸ^２ｂは、それぞれ独立して、カップリング反応により炭素－炭素結合を形成可能な一対の反応性基を示し、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂ、ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ならびにＹ^２ａおよびＹ^２ｂは前記式（１）に同じ］。

（ii）下記式（６）で表される化合物と、下記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物とを反応させる工程

［式中、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂ、ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ならびにＹ^２ａおよびＹ^２ｂは前記式（１）に同じ］。

前記製造方法は、前記反応工程で得られた前記フルオレン化合物を、溶媒、例えば、（ａ）芳香族炭化水素類および脂肪族炭化水素類を含む溶媒、および（ｂ）ケトン類を含む溶媒から選択された少なくとも一種の溶媒（晶析溶媒または再沈殿溶媒）から析出（晶析または沈殿）させる精製工程（晶析工程または再沈殿工程）をさらに含んでいてもよい。

本発明は、下記式（１Ｅ）で表されるフルオレン化合物を包含する。

［式中、Ｙ^３ａおよびＹ^３ｂはそれぞれ独立して下記式（Ｙ３）

（式中、Ｒ^４は水素原子またはメチル基を示し、
Ｚ^２、Ｒ^３、ｍ３、Ａ^１およびｎ１は、それぞれ前記式（Ｙ２）に同じ。）
で表される１価の基を示し、
Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂは前記式（Ｙ１）に同じであり、
ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ｋ１ａ＋ｍ２ａおよびｋ１ｂ＋ｍ２ｂは、それぞれ独立して前記式（１）に同じ］。

本発明は、前記式（１）で表される化合物と、エピハロヒドリン成分とを反応させて前記式（１Ｅ）で表される化合物を製造する方法を包含する。また、本発明は、前記式（１Ｅ）で表される化合物を含む硬化性組成物、この硬化性組成物が硬化した硬化物、および、この硬化物を含む光学部材も包含する。

なお、本発明では、従たる目的として、以下の課題を解決してもよい。

すなわち、本発明の他の目的は、高い耐熱性（または耐熱分解性）を示すフルオレン化合物およびその製造方法ならびに前記化合物を含む組成物を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、化学構造中に多くのベンゼン環（芳香環）を含んでいても、高い溶解性（または相溶性）を有するフルオレン化合物およびその製造方法ならびに前記化合物を含む組成物を提供することにある。

本発明の別の目的は、化学構造中に多くのベンゼン環（芳香環）を含んでいても、低い融解温度（溶融温度）を有するフルオレン化合物およびその製造方法ならびに前記化合物を含む組成物を提供することにある。

また、本明細書および特許請求の範囲において、置換基の炭素原子の数をＣ_１、Ｃ_６、Ｃ_１０などで示すことがある。例えば、炭素数が１のアルキル基は「Ｃ_１アルキル」で示し、炭素数が６～１０のアリール基は「Ｃ_６－１０アリール」で示す。

本発明のフルオレン化合物は、特定の化学構造を有するため、高い屈折率を示す。また、前記フルオレン化合物は、高い耐熱性（または耐熱分解性）を示す。さらに、前記フルオレン化合物は、化学構造中に多くのベンゼン環（芳香環）を含んでいるにも拘らず、意外にも高い溶解性（または相溶性）を示すため、高溶解性と、高屈折率、高耐熱性とを両立することもできる。そのため、前記フルオレン化合物は、溶剤や、硬化剤などの他の反応成分などと容易にまたは効率よく均一な組成物を調製することもできる。また、前記フルオレン化合物は、予想に反して低い融解温度（溶融開始または終了温度）を示し、容易に溶融することもできるため、溶融重合するためのモノマーとして有効に利用できるのみならず、溶融混練などで樹脂中に容易にまたは効率よく混合でき、樹脂改質剤としても有効に利用できる。

［式（１）で表されるフルオレン化合物（またはジオール化合物）］
前記式（１）において、１価の基Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂを表す前記式（Ｙ１）中のＺ^１で表されるアレーン環（芳香族炭化水素環）としては、例えば、ベンゼン環などの単環式アレーン環、多環式アレーン環などが挙げられる。多環式アレーン環としては、縮合多環式アレーン環（縮合多環式芳香族炭化水素環）、環集合アレーン環（環集合多環式芳香族炭化水素環）などが挙げられる。

縮合多環式アレーン環としては、例えば、縮合二環式アレーン環、縮合三環式アレーン環などの縮合二ないし四環式アレーン環などが挙げられる。縮合二環式アレーン環としては、例えば、ナフタレン環、インデン環などの縮合二環式Ｃ_{１０－１６}アレーン環などが挙げられる。縮合三環式アレーン環としては、例えば、アントラセン環、フェナントレン環などの縮合三環式Ｃ_{１４－２０}アレーン環などが挙げられる。好ましい縮合多環式アレーン環は、ナフタレン環などの縮合多環式Ｃ_{１０－１４}アレーン環である。

環集合アレーン環としては、例えば、ビフェニル環、フェニルナフタレン環、ビナフチル環などのビアレーン環；テルフェニル環などのテルアレーン環などが挙げられる。好ましい環集合アレーン環は、ビフェニル環などのＣ_{１２－１８}ビアレーン環である。

なお、本明細書および特許請求の範囲において、「環集合アレーン環」とは、２つ以上の環系（アレーン環系）が一重結合（単結合）か二重結合で直結し、環を直結する結合の数が環系の数より１つだけ少ないものを意味し、例えば、上述のように、フェニルナフタレン環、ビナフチル環などは縮合多環式アレーン環骨格を有していても環集合アレーン環に分類され、ナフタレン環（非環集合アレーン環）などの「縮合多環式アレーン環」と明確に区別される。

好ましい環Ｚ^１としては、Ｃ_６－１４アレーン環が挙げられ、より好ましくはベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環などのＣ_６－１２アレーン環、さらに好ましくはベンゼン環、ナフタレン環などのＣ_６－１０アレーン環、特にナフタレン環である。なお、Ｚ^１が多環式アレーン環、特にナフタレン環などの縮合多環式アレーン環であると、屈折率や耐熱性を有効に向上し易いのみならず、低い融解温度、さらには高い溶解性（相溶性）を示す場合もあり好ましい。

また、１価の基Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂにおける環Ｚ^１は、それぞれフルオレン骨格の１～４位、５～８位のいずれの位置に置換していてもよいが、２位、３位および／または７位などが挙げられる。Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂの置換数ｋ１ａおよびｋ１ｂが１である場合、好ましい置換位置（または結合位置）としては、１，８－位、２，７－位、３，６－位、４，５－位などの前記式（１）において紙面上で左右対称な位置であり、特に２，７－位が好ましい。

なお、フルオレン骨格に対する環Ｚ^１上の結合位置は、環Ｚ^１がナフタレン環である場合、ナフタレン環の１位または２位のいずれであってもよく、ナフタレン環の２位であるのが好ましい。

Ｒ^１で表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）としては、例えば、ハロゲン原子、炭化水素基（または基［－Ｒ^ｈ］）、基［－ＯＲ^ｈ］（式中、Ｒ^ｈは前記炭化水素基を示す）、基［－ＳＲ^ｈ］（式中、Ｒ^ｈは前記炭化水素基を示す）、アシル基、ニトロ基、シアノ基、モノまたはジ置換アミノ基などが挙げられる。

ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。

前記Ｒ^ｈで表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などが挙げられる。

アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－１０アルキル基が挙げられ、好ましくは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基、さらに好ましくは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基である。

シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ_５－１０シクロアルキル基が挙げられる。

アリール基としては、例えば、フェニル基、アルキルフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基などのＣ_６－１２アリール基が挙げられる。アルキルフェニル基としては、例えば、メチルフェニル基（またはトリル基）、ジメチルフェニル基（またはキシリル基）などのモノないしトリＣ_１－４アルキル－フェニル基が挙げられる。

アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などのＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキル基が挙げられる。

前記基［－ＯＲ^ｈ］としては、例えば、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基などが挙げられ、具体的には、前記炭化水素基Ｒ^ｈの例示に対応する基が挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－１０アルコキシ基が挙げられる。シクロアルキルオキシ基としては、例えば、シクロヘキシルオキシ基などのＣ_５－１０シクロアルキルオキシ基が挙げられる。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基などのＣ_６－１０アリールオキシ基が挙げられる。アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基などのＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルオキシ基が挙げられる。

前記基［－ＳＲ^ｈ］としては、例えば、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基などが挙げられ、具体的には、前記炭化水素基Ｒ^ｈの例示に対応する基が挙げられる。アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ_１－１０アルキルチオ基が挙げられる。シクロアルキルチオ基としては、例えば、シクロヘキシルチオ基などのＣ_５－１０シクロアルキルチオ基が挙げられる。アリールチオ基としては、例えば、チオフェノキシ基（フェニルチオ基）などのＣ_６－１０アリールチオ基が挙げられる。アラルキルチオ基としては、例えば、ベンジルチオ基などのＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルチオ基が挙げられる。

アシル基としては、アセチル基などのＣ_１－６アルキル－カルボニル基などが挙げられる。

モノまたはジ置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ビス（アルキルカルボニル）アミノ基などが挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基などのジＣ_１－４アルキルアミノ基が挙げられる。ビス（アルキルカルボニル）アミノ基としては、例えば、ジアセチルアミノ基などのビス（Ｃ_１－４アルキル－カルボニル）アミノ基が挙げられる。

これらの基Ｒ^１のうち、代表的な基としては、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などが挙げられる。ｍ１が１以上である場合、好ましい基Ｒ^１としては、アルキル基、アルコキシ基であり、具体的には、メチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基、メトキシ基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルコキシ基が挙げられ、なかでも、アルキル基、特にメチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基が好ましい。なお、基Ｒ^１がアリール基であるとき、基Ｒ^１は環Ｚ^１とともに前記環集合アレーン環を形成してもよい。

置換数ｍ１は、環Ｚ^１の種類に応じて選択してもよく、例えば０～７程度の整数から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、０～６の整数、０～５の整数、０～４の整数、０～３の整数、０～２の整数であり、さらに好ましくは０または１であり、特に０である。

なお、置換数ｍ１が２以上である場合、環Ｚ^１に置換する２以上の基Ｒ^１の種類は、互いに同一または異なっていてもよい。また、基Ｒ^１の置換位置は特に制限されず、環Ｚ^１の種類に応じて選択してもよい。

前記式（Ｙ１）で表される代表的な１価の基Ｙ^１ａ、Ｙ^１ｂとしては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基などのナフチル基、ビフェニリル基などが挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、ナフチル基がさらに好ましく、特に２－ナフチル基が好ましい。

１価の基Ｙ^１ａ、Ｙ^１ｂの置換数ｋ１ａ、ｋ１ｂは、例えば０～３程度の整数であり、好ましくは０～２、より好ましくは１または２、さらに好ましくは１である。ｋ１ａおよびｋ１ｂは互いに異なっていてもよいが、同一であるのが好ましい。ｋ１ａおよびｋ１ｂのうち、少なくとも一方は１以上の整数であり、好ましくは双方が１以上の整数であり、さらに好ましくは双方が１である。

なお、ｋ１ａおよびｋ１ｂがそれぞれ１以上である場合、フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環のうち、異なるベンゼン環に置換する基Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂの種類は、互いに異なっていてもよく、同一であるのが好ましい。また、ｋ１ａ、ｋ１ｂが２以上である場合、フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環のうち、同一のベンゼン環に置換する２以上の基Ｙ^１ａ、Ｙ^１ｂの種類は、それぞれ互いに同一または異なっていてもよい。

Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂで表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）は、前記基Ｙ^１ａ、Ｙ^１ｂ以外の置換基であればよく、代表的な基としては、アルキル基などの炭化水素基（ただし、アリール基を除く）、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基などが挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｔ－ブチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基などが挙げられる。置換数ｍ２ａ、ｍ２ｂが１以上である場合、好ましいＲ^２ａ、Ｒ^２ｂとしては、メチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基である。

Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂの置換数ｍ２ａおよびｍ２ｂとしては、例えば、０～３程度の整数であり、好ましくは０～２の整数、さらに好ましくは０または１であり、特に０である。ｍ２ａおよびｍ２ｂは互いに異なっていてもよいが、同一であるのが好ましい。なお、ｍ２ａおよびｍ２ｂがそれぞれ１以上である場合、フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環のうち、異なるベンゼン環に置換するＲ^２ａおよびＲ^２ｂの種類は、互いに異なっていてもよく、同一であるのが好ましい。また、ｍ２ａ、ｍ２ｂが２以上である場合、フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環のうち、同一のベンゼン環に置換する２以上のＲ^２ａ、Ｒ^２ｂの種類は、それぞれ互いに同一または異なっていてもよい。なお、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂの置換位置は特に制限されず、基Ｙ^１ａ、Ｙ^１ｂの置換位置以外の位置に置換していればよい。

フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環における置換数の各合計値ｋ１ａ＋ｍ２ａ、ｋ１ｂ＋ｍ２ｂは、それぞれ、例えば０～４の整数、好ましくは１～３の整数、より好ましくは１または２、さらに好ましくは１である。合計値ｋ１ａ＋ｍ２ａとｋ１ｂ＋ｍ２ｂとは互いに異なっていてもよいが、同一であるのが好ましい。

フルオレン骨格の９，９－位に結合する１価の基（またはヒドロキシル基含有基）Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂを示す前記式（Ｙ２）中のＺ^２で表される多環式アレーン環としては、縮合多環式アレーン環、環集合アレーン環などが挙げられる。縮合多環式アレーン環、環集合アレーン環としては、前述の式（Ｙ１）におけるＺ^１と好ましい態様を含めて同様の縮合多環式アレーン環、環集合アレーン環などが挙げられる。

好ましい環Ｚ^２としては、Ｃ_{１０－１４}アレーン環が挙げられ、より好ましくはナフタレン環、ビフェニル環などのＣ_{１０－１２}アレーン環、さらに好ましくはナフタレン環である。

なお、フルオレン骨格の９位に対する環Ｚ^２上の結合位置は、環Ｚ^２がナフタレン環である場合、ナフタレン環の１位または２位のいずれであってもよく、ナフタレン環の２位であるのが好ましく、環Ｚ^２がビフェニル環である場合、ビフェニル環の３位であるのが好ましい。

Ｒ^３で表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）としては、前述の式（Ｙ１）におけるＲ^１と同様の基などが挙げられる。置換数ｍ３が１以上の場合、好ましい置換基Ｒ^３としては、ハロゲン原子；アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基；アルコキシ基；アシル基；ニトロ基；シアノ基；置換アミノ基などが挙げられ、より好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基が挙げられ、さらに好ましくはメチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基、シクロヘキシル基などのＣ_５－８シクロアルキル基、フェニル基などのＣ_６－１４アリール基、メトキシ基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルコキシ基が挙げられる。これらのなかでも、アルキル基、アリール基が好ましく、特にメチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基、フェニル基などのＣ_６－１０アリール基が好ましい。なお、基Ｒ^３がアリール基であるとき、基Ｒ^３は、環Ｚ^２とともに前記環集合アレーン環を形成してもよい。

基Ｒ^３の置換数ｍ３は、０または１以上の整数であればよく、環Ｚ^２の種類に応じて適宜選択でき、例えば、０～６程度の整数であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、０～４の整数、０～３の整数、０～２の整数であり、０または１がさらに好ましく、特に０が好ましい。なお、ｍ３が２以上である場合、２以上の基Ｒ^３の種類は互いに同一または異なっていてもよい。特にｍ３が１である場合、環Ｚ^２がナフタレン環またはビフェニル環、基Ｒ^３がメチル基であってもよい。また、基Ｒ^３の置換位置は特に制限されず、環Ｚ^２と、基［－Ｏ－（Ａ^１Ｏ）_ｎ１－Ｈ］およびフルオレン環の９位との結合位置以外の位置に置換していればよく、環Ｚ^２において、基［－Ｏ－（Ａ^１Ｏ）_ｎ１－Ｈ］に対してオルト位（基［－Ｏ－（Ａ^１Ｏ）_ｎ１－Ｈ］の結合位置に隣接する炭素原子）に置換することが多い。

アルキレン基Ａ^１としては、例えば、エチレン基、プロピレン基（１，２－プロパンジイル基）、トリメチレン基、１，２－ブタンジイル基、テトラメチレン基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－６アルキレン基などが挙げられ、繰り返し数ｎ１が１以上である場合、好ましくは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレン基、さらに好ましくはエチレン基、プロピレン基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－３アルキレン基であり、特にエチレン基が好ましい。

オキシアルキレン基（－Ａ^１Ｏ－）の繰り返し数（付加モル数）ｎ１は、０または１以上であればよく、例えば０～１５程度の整数の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、０～１０、０～８、０～６、０～４、０～２、０～１である。また、繰り返し数ｎ１は、重合反応性などを向上できる点から、１以上であってもよく、例えば１～１５程度の整数の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１～１０、１～８、１～６、１～４、１～３、１～２であり、特に１であるのが好ましい。なお、本明細書および特許請求の範囲において、「繰り返し数（付加モル数）」は、平均値（算術平均値、相加平均値）または平均付加モル数であってもよく、好ましい態様は、上記好ましい範囲（上記整数の範囲）と同様である。繰り返し数ｎ１が大きすぎると、屈折率や耐熱性が低下するおそれがある。

ｎ１が２以上である場合、２以上のオキシアルキレン基（－Ａ^１Ｏ－）の種類は、互いに異なっていてもよく、同一であるのが好ましい。

基［－Ｏ－（Ａ^１Ｏ）_ｎ１－Ｈ］の環Ｚ^２に対する置換位置は、環Ｚ^２がナフタレン環である場合、フルオレン環の９位に結合するナフチル基の５～８位のいずれかの位置に置換してもよく、例えば、フルオレン環の９位に対してナフタレン環の１位または２位が置換し（１－ナフチルまたは２－ナフチルの関係で置換し）、この置換位置に対して１，５－位、２，６－位などの関係が好ましく、特に２，６－位の関係で置換するのが好ましい。また、環Ｚ^２が環集合アレーン環である場合、フルオレンの９位に結合するアレーン環またはこのアレーン環に隣接するアレーン環に置換してもよく、フルオレンの９位に結合するアレーン環に置換するのが好ましい。例えば、環Ｚ^２がビフェニル環の場合、ビフェニル環の３位（３－ビフェニリル基）がフルオレンの９位に結合し、このビフェニル環（３－ビフェニリル基）の６位に基［－Ｏ－（Ａ^１Ｏ）_ｎ１－Ｈ］が置換するのが好ましい。

前記式（Ｙ２）で表される１価の基（またはヒドロキシル基含有基）Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂの代表的な基としては、ｎ１が０であるヒドロキシ多環式アリール基、ｎ１が１以上であるヒドロキシ（ポリ）アルコキシ多環式アリール基などが挙げられる。なお、本明細書および特許請求の範囲において、「（ポリ）アルコキシ」は、アルコキシ基、ポリアルコキシ基の双方を含む意味に用いる。

前記ヒドロキシ多環式アリール基としては、例えば、ヒドロキシ縮合多環式アリール基、ヒドロキシ環集合アリール基などが挙げられる。

ヒドロキシ縮合多環式アリール基としては、例えば、ヒドロキシナフチル基などのヒドロキシＣ_{１０－１４}縮合多環式アリール基などが挙げられ、具体的なヒドロキシナフチル基としては、６－ヒドロキシ－２－ナフチル基、５－ヒドロキシ－１－ナフチル基などが挙げられ、６－ヒドロキシ－２－ナフチル基が好ましい。

ヒドロキシ環集合アリール基としては、例えば、ヒドロキシビフェニリル基（またはフェニル－ヒドロキシフェニル基）などのヒドロキシＣ_{１２－１６}環集合アリール基などが挙げられ、具体的なヒドロキシビフェニリル基としては、６－ヒドロキシ－３－ビフェニリル基（または４－ヒドロキシ－３－フェニルフェニル基）などが挙げられる。

前記ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ多環式アリール基としては、例えば、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ縮合多環式アリール基、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ環集合アリール基などが挙げられる。

ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ縮合多環式アリール基としては、例えば、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル基などのヒドロキシ（ポリ）アルコキシＣ_{１０－１４}縮合多環式アリール基などが挙げられ、具体的なヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル基としては、６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル基、６－（２－ヒドロキシプロポキシ）－２－ナフチル基、６－（２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ）－２－ナフチル基などの６－（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－２－ナフチル基；５－（２－ヒドロキシエトキシ）－１－ナフチル基などの５－（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－１－ナフチル基などが挙げられ、６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル基などの６－（モノないしヘキサ）Ｃ_２－３アルコキシ－２－ナフチル基が好ましい。

ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ環集合アリール基としては、例えば、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシビフェニリル基［またはフェニル－ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル基］などのヒドロキシ（ポリ）アルコキシＣ_{１２－１６}環集合アリール基などが挙げられ、具体的なヒドロキシ（ポリ）アルコキシビフェニリル基としては、６－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ビフェニリル基［または４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル基］、６－（２－ヒドロキシプロポキシ）－３－ビフェニリル基などの６－ヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－３－ビフェニリル基などが挙げられる。

これらの１価の基（またはヒドロキシル基含有基）Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂのうち、Ｚ^２が縮合多環式アレーン環であるヒドロキシ縮合多環式アリール基、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ縮合多環式アリール基が好ましく；Ｚ^２がナフタレン環であるヒドロキシナフチル基、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル基がより好ましく；６－ヒドロキシ－２－ナフチル基、６－ヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－２－ナフチル基がさらに好ましく；なかでも６－ヒドロキシ－２－ナフチル基、６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル基などの６－ヒドロキシ（モノないしヘキサ）Ｃ_２－３アルコキシ－２－ナフチル基が好ましく；特に６－ヒドロキシ－２－ナフチル基が好ましい。

Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよい。Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂの種類が互いに異なる場合、Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂにおけるＺ^２、Ｒ^３、ｍ３、Ａ^１の種類およびこれらの置換位置がそれぞれ同じで、繰り返し数ｎ１のみが異なっていてもよい。好ましくはＹ^２ａおよびＹ^２ｂの種類は同一である。

前記式（１）で表される代表的なフルオレン化合物としては、ｋ１ａおよびｋ１ｂが１であり、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂにおける環Ｚ^１が同一であり、Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂにおける環Ｚ^２が同一である化合物などが挙げられる。このようなフルオレン化合物としては、例えば、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂにおける環Ｚ^１がベンゼン環、ナフタレン環またはビフェニル環、好ましくはナフタレン環であり、かつＹ^２ａおよびＹ^２ｂにおける環Ｚ^２がナフタレン環またはビフェニル環、好ましくはナフタレン環である化合物などが挙げられる。なお、このようなフルオレン化合物において、ｍ１、ｍ２ａ、ｍ２ｂおよびｍ３は０であってもよく、ｎ１は０または１以上であってもよい。このようなフルオレン化合物のなかでも、Ｚ^１がナフタレン環であり、かつＺ^２がナフタレン環である化合物が好ましい。

前記Ｚ^１がナフタレン環であり、Ｚ^２がナフタレン環である化合物（すなわち、ｋ１ａおよびｋ１ｂが１であり、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂにおける環Ｚ^１がナフタレン環であり、Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂにおける環Ｚ^２がナフタレン環である化合物）としては、例えば、９，９－ビス（ヒドロキシナフチル）－ジナフチルフルオレン、９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］－ジナフチルフルオレンなどが挙げられる。

９，９－ビス（ヒドロキシナフチル）－ジナフチルフルオレンとしては、例えば、９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（５－ヒドロキシ－１－ナフチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（５－ヒドロキシ－１－ナフチル）－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス（ヒドロキシナフチル）－２，７－ジナフチルフルオレンなどが挙げられる。

９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］－ジナフチルフルオレンとしては、例えば、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシプロポキシ）－２－ナフチル］－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス［６－（２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ）－２－ナフチル］－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス［５－（２－ヒドロキシエトキシ）－１－ナフチル］－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス［５－（２－ヒドロキシエトキシ）－１－ナフチル］－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－ナフチル］－２，７－ジナフチルフルオレンなどが挙げられる。

これらのフルオレン化合物のうち、９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンが好ましく、９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンがさらに好ましい。

前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、高い屈折率を有している。前記フルオレン化合物の屈折率は、温度２５℃、波長５８９ｎｍにおいて、例えば１．７５～１．８５程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１．７６～１．８２、１．７７～１．８１、１．７８～１．８である。

また、前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、高い耐熱性を備えている。前記フルオレン化合物の５％質量減少温度は、例えば３５０～５００℃程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、４００～４８０℃、４２０～４７０℃、４３０～４６０℃、４４０～４５０℃である。

前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、高い５％質量減少温度を示すにも拘らず、意外にも低い融解温度（溶融温度）を有しており、融解開始温度は、例えば、１００～２５０℃程度であってもよく、好ましくは以下段階的に、１２０～２３０℃、１５０～２１０℃、１６０～２００℃、１７０～１９０℃である。また、融解終了温度は、例えば、１３０～２８０℃程度であってもよく、好ましくは以下段階的に、１５０～２６０℃、１８０～２５０℃、２００～２４０℃、２１０～２３０℃である。そのため、溶融重合するためのモノマー成分や、樹脂と溶融混練などで混合して樹脂添加剤（樹脂改質剤）として用いることもできる。

なお、本明細書および特許請求の範囲において、前記式（１）で表されるフルオレン化合物の屈折率および５％質量減少温度および融解温度（溶融温度）は、後述する実施例に記載の方法により測定できる。

また、前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、溶解性（相溶性）にも優れており、溶媒および／または樹脂などの有機化合物とともに均一な組成物を容易にまたは効率よく形成することもできる。また、前記組成物は、前記式（１）で表されるフルオレン化合物を高濃度で溶解（相溶）しても溶解（相溶）後に析出し難く、さらには溶解（相溶）後に低温環境下におかれても析出し難く、安定して溶解（相溶）状態を保持でき、保存安定性（溶液安定性または低温安定性）にも優れている。

前記式（１）で表されるフルオレン化合物と組成物を形成するための前記溶媒としては、例えば、炭化水素類、具体的には、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類など；メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ベンジルアルコールなどのアルコール類；エーテル類、具体的には、ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンなどの環状エーテル類、アニソールなどの芳香族エーテル類など；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；ケトン類、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）などの鎖状ケトン類、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類など；エステル類、酢酸エチルなどの酢酸エステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどの乳酸エステル類、γ－ブチロラクトンなどのラクトン類など；エーテルエステル類、具体的には、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）などのアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、３－エトキシプロピオン酸エチルなどのアルコキシカルボン酸エステル類など；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などであってもよい。

これらの溶媒は単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、エーテルエステル類であってもよく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類が好ましく、ＰＧＭＥＡなどのＣ_２－４アルキレングリコールモノＣ_１－４アルキルエーテル－アセテート類が好ましい。

前記式（１）で表されるフルオレン化合物と溶媒とを含む組成物（液状組成物または溶液）を形成する場合、前記フルオレン化合物の割合は、組成物全体に対して、例えば１～８０質量％、好ましくは１０～７０質量％、さらに好ましくは２０～６０質量％、特に３０～５０質量％である。

前記組成物は、さらに、他の反応成分や触媒などを含む反応溶液（反応混合物）としてもよく、例えば、前記式（１）で表されるフルオレン化合物をモノマーとして溶液重合するための反応溶液などとしてもよい。

［式（１）で表されるフルオレン化合物（ジオール化合物）の製造方法］
（反応工程）
前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、例えば、下記反応工程式（第１の反応工程式）に従って調製してもよい。

（式中、Ｘ^１ａおよびＸ^２ａならびにＸ^１ｂおよびＸ^２ｂは、それぞれ独立して、カップリング反応により炭素－炭素結合（または直接結合）を形成可能な一対の反応性基を示し、
Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂ、ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ならびにＹ^２ａおよびＹ^２ｂは好ましい態様を含めて前記式（１）に同じ）。

（第１の反応工程式における式（２）で表される化合物の調製）
前記式（２）で表される化合物は、前記式（４）で表される化合物と、前記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物とを反応させることで調製でき、例えば、特開２０１１－６８６２４号公報、特開２０２０－７５９０４号公報などに記載の方法に準じて調製してもよい。

前記式（４）において、Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂとしては、後述するカップリング反応（式（２）で表される化合物と、式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物との反応）の項に記載の反応性基などが挙げられる。

前記式（４）で表される化合物としては、例えば、２，７－ジブロモ－９－フルオレノンなどのジハロ－９－フルオレノンなどが挙げられる。前記式（４）で表される化合物は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用してもよいが、単独で用いるのが好ましい。前記式（４）で表される好ましい化合物は、２，７－ジブロモ－９－フルオレノンなどの２，７－ジハロ－９－フルオレノンである。

前記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物は、前記１価の基（ヒドロキシル基含有基）Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂに対応するヒドロキシ多環式アレーン類（ｎ１＝０に対応する化合物）またはヒドロキシ（ポリ）アルコキシ多環式アレーン類（ｎ１≧１に対応する化合物）であり、好ましい態様も前記Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂに対応して同様である。具体的なヒドロキシ多環式アレーン類としては、１－ナフトール、２－ナフトールなどのナフトール、２－ヒドロキシビフェニルなどのヒドロキシビフェニルなどが挙げられ、具体的なヒドロキシ（ポリ）アルコキシ多環式アレーン類としては、１－（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレン、２－（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレン、２－（２－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン、２－［２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ］ナフタレンなどのヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－ナフタレン、２－（２－ヒドロキシエトキシ）ビフェニルなどのヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－ビフェニルなどが挙げられる。これらの前記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用してもよいが、単独で用いるのが好ましい。なお、前記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物は同一化合物であるのが好ましい。これらの前記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物のうち、２－ナフトールなどのナフトール、２－（２－ヒドロキシエトキシ）ナフタレンなどのヒドロキシ（モノないしヘキサ）Ｃ_２－３アルコキシ－ナフタレンが好ましい。

前記式（４）で表される化合物と、前記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物の合計量との割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／２～１／１０程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１／２．２～１／５、１／２．５～１／４、１／２．７～１／３．３である。

反応は酸触媒の存在下で行ってもよい。酸触媒としては、例えば、無機酸、有機酸、固体酸などが挙げられる。無機酸としては、例えば、硫酸、塩化水素、リン酸などが挙げられる。無機酸は水溶液の形態、例えば、塩酸などであってもよい。有機酸としては、例えば、スルホン酸などが挙げられ、スルホン酸としては、例えば、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などの（ハロ）アルカンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸などのアレーンスルホン酸などが挙げられる。固体酸としては、例えば、無機固体酸、具体的には、金属酸化物、複合金属酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩、ポリ酸などの金属化合物、非金属硫酸塩、粘土鉱物、ゼオライト、カオリンなど；有機固体酸、具体的には、強酸性陽イオン交換樹脂、弱酸性陽イオン交換樹脂などの陽イオン交換樹脂が挙げられる。強酸性陽イオン交換樹脂としては、例えば、デュポン社製のナフィオンなどのスルホン酸基を有するイオン交換樹脂などが挙げられる。弱酸性陽イオン交換樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸－ジビニルベンゼンコポリマーなどのカルボン酸基を有するイオン交換樹脂などが挙げられる。

これらの酸触媒は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。好ましい酸触媒は、硫酸などの無機酸、陽イオン交換樹脂であり、反応の進行により生成する水の脱水剤としても作用する点から、硫酸、特に、濃硫酸が好ましい。

前記硫酸には、例えば、濃度３０～９０質量％程度の希硫酸、濃度９０質量％以上の濃硫酸、発煙硫酸などが含まれ、反応系において硫酸に転化可能であれば、硫酸前駆体として、三酸化硫黄を使用してもよい。硫酸としては、Ｈ_２ＳＯ_４換算で、濃度が８０～９９質量％程度の範囲から選択してもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、９０～９９質量％、９３～９９質量％、９６～９９質量％の濃硫酸であり、さらに好ましくは９７～９８．５質量％の濃硫酸であり、特に９８質量％の濃硫酸が好ましい。

酸触媒の割合は、前記式（４）で表される化合物１００質量部に対して、例えば、１０～１０００質量部程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１００～７００質量部、３００～５００質量部、３５０～４５０質量部である。酸触媒の割合が少なすぎると、反応を効率よく進行できないおそれがある。

また、反応はチオール類の存在下で行ってもよい。チオール類としては、例えば、メルカプトカルボン酸、アミノアルカンチオール、チオカルボン酸、アルキルメルカプタン、アラルキルメルカプタンおよびこれらの塩などが挙げられる。

メルカプトカルボン酸としては、例えば、３－メルカプトプロピオン酸（またはβ－メルカプトプロピオン酸）などの３－メルカプトアルカン酸、２－メルカプトアルカン酸、メルカプトコハク酸、メルカプト安息香酸などが挙げられる。２－メルカプトアルカン酸としては、例えば、チオグリコール酸（メルカプト酢酸またはメルカプトエタン酸）、チオ乳酸（またはα－メルカプトプロピオン酸）、２－メルカプト酪酸（または２－メルカプト－ｎ－ブタン酸）、２－メルカプトイソ酪酸（または２－メルカプト－イソブタン酸）などの２－メルカプトＣ_２－６アルカン酸などが挙げられる。

アミノアルカンチオールとしては、例えば、２－アミノエタンチオール（またはシステアミン）、２－アミノプロパンチオール、３－アミノプロパンチオール、２－アミノブタンチオール、３－アミノブタンチオール、４－アミノブタンチオール、６－アミノヘキサンチオール、８－アミノオクタンチオール、１１－アミノウンデカンチオール、１６－アミノヘキサデカンチオールなどのアミノＣ_２－２０アルカンチオールなどが挙げられる。

チオカルボン酸としては、例えば、チオ酢酸、チオシュウ酸などが挙げられる。

アルキルメルカプタンとしては、例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカプタン、ｎ－ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのＣ_１－１６アルキルメルカプタンなどが挙げられる。

アラルキルメルカプタンとしては、例えば、ベンジルメルカプタンなどが挙げられる。

なお、これらの代表的な塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩などの無機酸塩；酢酸塩などの有機酸塩；ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩；アンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩などのテトラアルキルアンモニウム塩；またはこれらの複塩などが挙げられる。好ましくはナトリウム塩などのアルカリ金属塩が挙げられ、具体的な化合物としては、例えば、メチルメルカプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムなどが挙げられる。

これらのチオール類は単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらのチオール類のうち、３－メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸、チオ乳酸などのメルカプトアルカン酸、システアミンなどのアミノアルカンチオールが好ましい。

チオール類の割合は、前記式（４）で表される化合物１００質量部に対して、例えば０．１質量部以上、具体的には、１～５０質量部程度の範囲から選択してもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、２～２０質量部、３～１０質量部、４～６質量部である。また、チオール類の割合は、前記式（４）で表される化合物１モルに対して、例えば０．０１～０．５モル程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、０．０５～０．４モル、０．１～０．３モル、０．１５～０．２モルである。なお、チオール類の割合は、前記酸触媒１００質量部に対して、例えば０．００１～５０質量部程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、０．００５～１０質量部、０．０１～１質量部、０．０１～０．１質量部である。チオール類の割合が少な過ぎると、反応が効率よく進行しないおそれがあり、多すぎると、チオール類が硫黄成分などの不純物として残留するおそれがある。

反応は溶媒中で行ってもよい。溶媒としては、例えば、エーテル類、具体的には、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどの鎖状エーテル類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサンなどの環状エーテル類など；ケトン類、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどの鎖状ケトン類、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類など；エステル類、具体的には、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの鎖状エステル類、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、γ－カプロラクトン（またはγ－ヘキサノラクトン）などの環状エステル類（ラクトン類）など；カーボネート類、具体的には、ジメチルカーボネート（または炭酸ジメチル）、ジエチルカーボネート（または炭酸ジエチル）などの鎖状カーボネート類、エチレンカーボネート（または炭酸エチレン）、プロピレンカーボネート（または炭酸プロピレン）などの環状カーボネート類など；アミド類、具体的には、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）などの鎖状アミド類、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）などの環状アミド類など；尿素類、具体的には、テトラメチル尿素、テトラエチル尿素などの鎖状尿素類、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン（ＤＭＩまたはＮ，Ｎ’－ジメチルエチレン尿素）、Ｎ，Ｎ’－ジメチル－Ｎ，Ｎ’－トリメチレン尿素（またはＮ，Ｎ’－プロピレン尿素）などの環状尿素類など；ニトリル類、具体的には、アセトニトリル、プロピオノニトリル、ベンゾニトリルなどのシアン化炭化水素など；ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼンなどのニトロ化炭化水素類；ヘキサメチルホスホルアミドなどのホスホルアミド類；スルホン類、具体的には、エチルメチルスルホンなどの鎖状スルホン類、スルホランなどの環状スルホン類など；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）などのスルホキシド類；炭化水素類、具体的には、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類など；ハロゲン化炭化水素類、具体的には、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタンなどのハロアルカン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロベンゼンなどが挙げられる。

これらの溶媒は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、エーテル類、スルホン類および尿素類から選択される少なくとも１種を含むのが好ましく、特に、少なくとも分子内に環状構造を有する環式化合物（環状構造を有する非プロトン性極性溶媒）、なかでも、１，４－ジオキサンなどの環状エーテル類、スルホランなどの環状スルホン類およびＤＭＩなどの環状尿素類から選択される少なくとも１種を含むのが好ましい。

溶媒の割合は、前記式（４）で表される化合物１００質量部に対して、例えば１００～１００００質量部程度の範囲から選択してもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、３００～２０００質量部、４００～１５００質量部、５００～１０００質量部である。溶媒の割合が多すぎると、原料の濃度が低すぎて反応性が低下するおそれがあり、溶媒の割合が少なすぎると、粘度が高すぎて反応性が低下するおそれがある。

反応温度は、例えば０～２００℃程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１０～１００℃、２０～８０℃、３０～６０℃である。また、反応時間は、例えば３０分～４８時間程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１～２４時間、２～１２時間、４～８時間である。

反応は、攪拌しながら行ってもよく、空気中、または窒素ガスや希ガスなど不活性雰囲気中で行ってもよく、常圧または加圧下で行ってもよい。また、反応は、脱水しながら行ってもよい。

なお、反応終了後の反応混合物（反応液または反応混合液）は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、中和、洗浄、乾燥、晶析、カラムクロマトグラフィーや、これらを組み合わせた手段により分離（または精製）してもよい。

（第１の反応工程式における式（１）で表される化合物の調製）
前記式（１）で表されるフルオレン化合物（ジオール化合物）は、前記式（２）で表される化合物と、前記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物とをカップリング反応（またはクロスカップリング反応）させることで調製できる。

カップリング反応としては、慣用のカップリング反応、例えば、鈴木－宮浦カップリング反応、右田－小杉－スティレ（Stille）カップリング反応、根岸カップリング反応、檜山カップリング反応などのパラジウム触媒（またはパラジウム（０）触媒）によるカップリング反応、熊田－玉尾－コリュー（Corriu）カップリング反応などのニッケル触媒（またはニッケル（０）触媒）によるカップリング反応などが挙げられる。これらのカップリング反応のうち、鈴木－宮浦カップリング反応が好ましい。

前記式（２）（または式（４））において、Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂはそれぞれ独立してカップリング反応により炭素－炭素結合（または直接結合）を形成可能な反応性基を示し；前記式（３ａ）および（３ｂ）において、Ｘ^２ａは前記反応性基Ｘ^１ａと、Ｘ^２ｂは前記反応性基Ｘ^１ｂとともに、それぞれカップリング反応により炭素－炭素結合を形成可能な反応性基を示している。反応性基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂならびにＸ^２ａおよびＸ^２ｂは、前記カップリング反応の種類に応じて適宜選択できる。鈴木－宮浦カップリング反応により合成する場合、一方の反応性基、例えば、基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂとしては、ハロゲン原子またはフッ化アルカンスルホニルオキシ基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子などが挙げられる。フッ化アルカンスルホニルオキシ基としては、例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基（または基［－ＯＴｆ］）などのフッ化Ｃ_１－４アルカンスルホニルオキシ基などが挙げられる。これらの一方の反応性基は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。これらの一方の反応性基のうち、ハロゲン原子が好ましく、ヨウ素原子、臭素原子がさらに好ましく、臭素原子がさらに好ましい。

鈴木－宮浦カップリング反応における前記一方の反応性基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂとカップリング可能な他方の反応性基Ｘ^２ａおよびＸ^２ｂとしては、例えば、ボロン酸基（ジヒドロキシボリル基または基［－Ｂ（ＯＨ）_２］）、ボロン酸エステル基などが挙げられる。ボロン酸エステル基としては、例えば、ジメトキシボリル基、ジイソプロポキシボリル基、ジブトキシボリル基などのジアルコキシボリル基；ピナコラートボリル基（または基［－Ｂｐｉｎ］）、１，３，２－ジオキサボリナン－２－イル基、５，５－ジメチル－１，３，２－ジオキサボリナン－２－イル基などの環状ボロン酸エステル基などが挙げられる。これらの他方の反応性基は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。他方の反応性基のうち、基［－Ｂ（ＯＨ）_２］が好ましい。

なお、基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂと、基Ｘ^２ａおよびＸ^２ｂとは、それぞれ互いにカップリング反応可能な一対の反応性基であればいずれの反応性基であってもよく、基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂがボロン酸基などの前記他方の反応性基であり、基Ｘ^２ａおよびＸ^２ｂがハロゲン原子などの前記一方の反応性基であってもよいが、基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂがハロゲン原子などの前記一方の反応性基であり、基Ｘ^２ａおよびＸ^２ｂがボロン酸基などの前記他方の反応性基であるのが好ましい。

前記式（２）で表される化合物しては、前記式（１）で表されるフルオレン化合物の好ましい態様に対応する化合物、例えば、９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジブロモフルオレンなどの９，９－ビス（ヒドロキシナフチル）－ジハロフルオレン；９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］－２，７－ジブロモフルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ－ナフチル］－ジハロフルオレンなどが挙げられる。

前記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物としては、前記式（１）で表されるフルオレン化合物の好ましい態様に対応する化合物、例えば、フェニルボロン酸、１－ナフチルボロン酸、２－ナフチルボロン酸などが挙げられ、２－ナフチルボロン酸が好ましい。前記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物は、同一の化合物であるのが好ましい。前記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物は、市販品などを利用できる。

前記式（２）で表される化合物と、前記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物の合計量との割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／２～１／１０程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１／２．１～１／５、１／２．２～１／３、１／２．３～１／２．５であってもよく、より効率よく調製できる点でさらに好ましくは１／２．１～１／２．３である。

カップリング反応は、触媒の存在下で行ってもよい。鈴木－宮浦カップリング反応により合成する場合、パラジウム触媒の存在下で反応させてもよく、パラジウム触媒としては、慣用のカップリング触媒、例えば、パラジウム（０）触媒、パラジウム（ＩＩ）触媒などが挙げられる。

パラジウム（０）触媒としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）［またはＰｄ（ＰＰｈ_３）_４］、ビス（トリ－ｔ－ブチルホスフィン）パラジウム（０）［またはＰｄ（Ｐ（ｔ－Ｂｕ）_３）_２］などのパラジウム（０）－ホスフィン錯体などが挙げられる。

パラジウム（ＩＩ）触媒としては、例えば、［１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｅ）］、［１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｐ）］、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｆ）］、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２］、ビス（トリ－ｏ－トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（Ｐ（ｏ－ｔｏｌｙｌ）_３）_２］などのパラジウム（ＩＩ）－ホスフィン錯体などが挙げられる。なお、パラジウム（ＩＩ）触媒を用いる場合、例えば、ホスフィン、アミン、有機金属試薬などの反応系内の還元性化合物により、０価の錯体に還元されて反応が開始する。

なお、前記パラジウム触媒は、例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）クロロホルム錯体［またはＰｄ_２（ｄｂａ）_３・ＣＨＣｌ_３］、酢酸パラジウム（ＩＩ）などの触媒前駆体と、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類、カルベン類などの配位子とを添加して反応系内で調製してもよい。前記触媒前駆体と、配位子との割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／４～１／１０程度であってもよく、好ましくは１／４～１／５である。

これらの触媒は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの触媒のうち、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４などのパラジウム（０）－ホスフィン錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）などの触媒前駆体、操作性（空気中での安定性）に優れる点から、特に、酢酸パラジウム（ＩＩ）が好ましい。触媒の割合は、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、金属換算で、例えば０．０００１～０．１モル程度であってもよく、好ましくは０．０１～０．０７モル、さらに好ましくは０．０４～０．０６モルであってもよく、より効率よく調製できる点で特に好ましくは以下段階的に、０．０００１～０．００１モル、０．０００３～０．０００７モルであり、前記酢酸パラジウム（ＩＩ）などの触媒前駆体を用いる場合、特に好ましくは０．０００５～０．００１５モルである。

鈴木－宮浦カップリング反応は、塩基の存在下で行ってもよい。塩基としては、例えば、金属炭酸塩または炭酸水素塩、金属水酸化物、金属フッ化物、金属リン酸塩、金属有機酸塩、金属アルコキシドなどが挙げられる。

金属炭酸塩または炭酸水素塩としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩または炭酸水素塩、炭酸タリウム（Ｉ）などが挙げられる。

金属水酸化物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化バリウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、水酸化タリウム（Ｉ）などが挙げられる。

金属フッ化物としては、例えば、フッ化カリウム、フッ化セシウムなどのアルカリ金属フッ化物などが挙げられる。

金属リン酸塩としては、例えば、リン酸三カリウムなどのアルカリ金属リン酸塩などが挙げられる。

金属有機酸塩としては、例えば、酢酸カリウムなどのアルカリ金属酢酸塩などが挙げられる。

金属アルコキシドとしては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ－ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられる。

これらの塩基は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。好ましい塩基としては、炭酸カリウムなどの金属炭酸塩が好ましい。塩基の割合は、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、例えば、０．１～５０モル程度であってもよく、好ましくは以下段階的に、０．５～５モル、１～３モル、１．５～２．５モルであってもよく、より効率よく調製できる点でさらに好ましくは以下段階的に、５～１０モル、６～８モル、６．５～７．５モルである。

カップリング反応は、相間移動触媒の存在下または非存在下で行ってもよい。相間移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）、トリオクチルメチルアンモニウムクロリドなどのテトラアルキルアンモニウムハライドなどが挙げられる。これらの相間移動触媒は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。

カップリング反応は、反応に不活性な溶媒の非存在下または存在下で行ってもよい。溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノールなどのアルコール類；環状エーテル、鎖状エーテルなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）などのケトン類；酢酸エチルなどのエステル類；アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；脂肪族炭化水素類、脂環族炭化水素類、芳香族炭化水素類など炭化水素類などが挙げられる。

環状エーテルとしては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。鎖状エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどのジアルキルエーテル、グリコールエーテル類などが挙げられる。前記グリコールエーテル類としては、例えば、メチルセロソルブ、メチルカルビトールなどの（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジメトキシエタンなどの（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテルなどが挙げられる。

脂肪族炭化水素類としては、例えば、ヘキサン、ドデカンなどが挙げられる。脂環族炭化水素類としては、シクロヘキサンなどが挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレンなどが挙げられる。

これらの溶媒は単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、水とトルエンなどの芳香族炭化水素類またはＭＩＢＫなどのケトン類との混合溶媒が好ましい。

カップリング反応は、不活性ガス雰囲気下、例えば、窒素ガス；ヘリウム、アルゴンなどの希ガスなどの雰囲気下で行ってもよい。反応温度は、例えば５０～２００℃、好ましくは６０～１００℃であり、さらに好ましくは７０～９０℃、特に７５～８３℃である。反応時間は、例えば０．５～２４時間程度であってもよく、好ましくは１０～２０時間であってもよく、より効率よく調製できる点でさらに好ましくは０．５～８時間程度、０．５～１．５時間である。

反応終了後、必要により、反応混合物を、慣用の分離精製方法、例えば、中和、洗浄、抽出、ろ過、脱水、濃縮、デカンテーション、乾燥、晶析、再沈殿、カラムクロマトグラフィー、吸着、これらを組み合わせた方法などにより分離精製してもよい。

また、前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、上記の方法とは異なる方法、例えば、下記反応工程式（第２の反応工程式）に従って調製してもよい。

（式中、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂ、ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ならびにＹ^２ａおよびＹ^２ｂは好ましい態様を含めて前記式（１）に同じであり、
Ｘ^１ａおよびＸ^２ａならびにＸ^１ｂおよびＸ^２ｂは前記第１の反応工程式と好ましい態様を含めて同じである）。

第２の反応工程式では、前記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物を反応させて基Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂを導入する工程と、前記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物を反応させて基Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂを導入する工程との順序が、前記第１の反応工程式と入れ替わっている。そのため、第２の反応工程式における前記式（６）で表される化合物の調製は、前記（第１の反応工程式における式（１）で表される化合物の調製）の項の記載において、前記式（２）で表される化合物に代えて前記式（４）で表される化合物を用いる（または前記式（２）を前記式（４）に読み替える）ことで調製できる。また、第２の反応工程式における前記式（１）で表される化合物の調製についても同様に、前記（第１の反応工程式における式（２）で表される化合物の調製）の項の記載において、前記式（４）で表される化合物に代えて前記式（６）で表される化合物を用いる（または前記式（４）を前記式（６）に読み替える）ことで調製できる。

上述したように、前記式（１）で表されるフルオレン化合物（ジオール化合物）の製造方法は、（ｉ）前記式（２）で表される化合物と、下記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物とをカップリング反応させる工程；または（ii）前記式（６）で表される化合物と、下記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物とを反応させる工程のいずれかを含んでいればよく、反応中間体である前記式（２）および（６）で表される化合物は、上述した方法や、他の慣用の方法を用いて調製してもよい。

（精製工程）
前記式（１）で表されるフルオレン化合物（ジオール化合物）は、前述の慣用の分離精製方法で精製してもよいが、前記反応条件による影響のためか、十分にまたは効率よく分離精製できない場合があり、比較的高純度、かつ高収率で調製するのは困難である。しかし、前記反応工程で得られた前記フルオレン化合物を、溶媒、例えば、前記式（１）で表されるフルオレン化合物と組成物（液状組成物または溶液）を形成するための溶媒として例示した溶媒と同様の溶媒、好ましくは（ａ）芳香族炭化水素類および脂肪族炭化水素類を少なくとも含む溶媒（再沈殿溶媒）、および（ｂ）ケトン類を少なくとも含む溶媒（晶析溶媒）から選択された少なくとも一種の溶媒から析出（晶析もしくは再結晶または再沈殿）させる精製工程（晶析工程もしくは再結晶工程または再沈殿工程）により分離精製すると、カラムクロマトグラフィーなどの他の分離精製方法と比べて、高純度で効率よく前記フルオレン化合物を調製し易いようである。

（ａ）芳香族炭化水素類および脂肪族炭化水素類を少なくとも含む溶媒において、良溶媒である前記芳香族炭化水素類としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられ、トルエンが好ましい。貧溶媒である前記脂肪族炭化水素類としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、デカンなどのＣ_５－１２アルカンなどが挙げられ、ヘプタンなどのＣ_６－８アルカンが好ましい。

トルエンなどの前記芳香族炭化水素類と、ヘプタンなどの前記脂肪族炭化水素類との割合は、例えば、前者／後者（体積比）＝１０／９０～９０／１０程度の範囲から選択してもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１０／９０～９０／１０、２０／８０～７０／３０、３０／７０～５０／５０である。なお、前記体積比は、２０～２５℃、１気圧下における体積割合であってもよい。

芳香族炭化水素類および脂肪族炭化水素類の総量の割合は、芳香族炭化水素類および脂肪族炭化水素類を含む溶媒全体に対して、例えば５０質量％以上、好ましくは以下段階的に、７０質量％以上、９０質量％以上であり、さらに好ましくは実質的に１００質量％である。

また、（ｂ）ケトン類を少なくとも含む晶析溶媒において、ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、などのＣ_３－６ケトン類などが挙げられる。ケトン類の割合は、ケトン類を含む晶析溶媒全体に対して、例えば５０質量％以上、好ましくは以下段階的に、７０質量％以上、９０質量％以上であり、さらに好ましくは実質的に１００質量％である。

溶媒（ａ）を用いて精製すると、非晶質（非晶体）が得られ、溶媒（ｂ）では結晶が得られるようである。溶媒（ａ）および（ｂ）のうち、高い純度および収率を保持しつつ、着色を低減し易い点から、晶析溶媒（ｂ）が好ましく、特に、ＭＩＢＫなどのＣ_５－６ケトン類を含む晶析溶媒から晶析させるのが好ましい。

精製工程、特に晶析工程では、例えば、溶液を濃度１０～６０質量％、好ましくは２０～５０質量％、さらに好ましくは３０～５０質量％に調整してもよい。また、攪拌および／または降温しながら晶析してもよく、例えば１００～５００ｒｐｍ程度、好ましくは２００～３００ｒｐｍ程度で攪拌しつつ、例えば４０～１００℃、好ましくは５０～７０℃程度から降温して、例えば３０～６０℃、好ましくは４０～５０℃程度の析出温度で晶析してもよい。また、撹拌することなく、静置しつつ降温、例えば、２０～３０℃程度の室温まで降温して晶析してもよい。

得られる前記式（１）で表されるフルオレン化合物のＨＰＬＣ純度は、例えば７５％以上であってもよく、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上、なかでも９５％以上、特に９８％以上である。なお、本明細書および特許請求の範囲において、ＨＰＬＣ純度は、後述する実施例に記載の方法で測定できる。

また、得られる前記式（１）で表されるフルオレン化合物の収率は、例えば４０％以上、好ましい範囲としては、以下段階的に、５０％以上、６０％以上、７０％以上であり、さらに好ましくは８０％以上である。

［式（１Ｅ）で表されるフルオレン化合物（エポキシ化合物またはエポキシ樹脂）］
前記式（１Ｅ）で表されるフルオレン化合物は、前記式（１）で表される化合物において、フルオレン骨格の９，９位に結合する基Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂ［前記式（Ｙ２）で表されるヒドロキシル基含有基］に代えて、基Ｙ^３ａおよびＹ^３ｂ［前記式（Ｙ３）で表されるエポキシ基含有基］を有するエポキシ化合物（またはエポキシ樹脂）である。

前記式（Ｙ３）で表されるエポキシ基含有基Ｙ^３ａおよびＹ^３ｂにおいて、Ｒ^４は水素原子であるのが好ましい。また、前記式（Ｙ３）において、Ｒ^３、ｍ３、Ａ^１およびｎ１は、それぞれ好ましい態様を含めて前記式（Ｙ２）に同じである。

そのため、代表的なエポキシ基含有基Ｙ^３ａおよびＹ^３ｂは、前記式（１）の項に例示したヒドロキシル基含有基Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂに対応して、ヒドロキシル基をグリシジルオキシ基またはβ－メチルグリシジルオキシ基に置き換えた基などが挙げられる。好ましいエポキシ基含有基Ｙ^３ａおよびＹ^３ｂもヒドロキシル基含有基Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂに対応して同様であり、なかでも、６－グリシジルオキシ－２－ナフチル基、６－（２－グリシジルオキシエトキシ）－２－ナフチル基などの６－グリシジルオキシ（モノないしヘキサ）Ｃ_２－３アルコキシ－２－ナフチル基が好ましく；特に６－グリシジルオキシ－２－ナフチル基が好ましい。なお、エポキシ基含有基Ｙ^３ａおよびＹ^３ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよく、同一が好ましい。

また、前記式（１Ｅ）において、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂ、ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ならびに、ｋ１ａ＋ｍ２ａおよびｋ１ｂ＋ｍ２ｂは、それぞれ前記式（１）および（Ｙ１）と好ましい態様を含めて同じである。なお、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂ中の環Ｚ^１が、特にナフタレン環などの縮合多環式アレーン環であると、屈折率や耐熱性を有効に向上し易いのみならず、意外にも低い溶融開始温度および高い溶解性（相溶性）を示すこともできるため、好ましい。

そのため、代表的な前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物についても、前述の代表的な前記式（１）で表されるジオール化合物に対応して、２つのヒドロキシル基をグリシジルオキシ基またはβ－メチルグリシジルオキシ基に置き換えた化合物などが挙げられる。好ましい前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物についても、前記式（１）で表されるジオール化合物の好ましい態様に対応して同様であり、なかでも、９，９－ビス（６－グリシジルオキシ－２－ナフチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス（グリシジルオキシナフチル）－２，７－ジナフチルフルオレン；９，９－ビス［６－（２－（グリシジルオキシ）エトキシ）－２－ナフチル］－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス［グリシジルオキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－ナフチル］－２，７－ジナフチルフルオレンが好ましく、９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンがさらに好ましい。

前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物は、高い屈折率を有している。前記エポキシ化合物の屈折率は、温度２５℃、波長５８９ｎｍにおいて、例えば１．６７～１．８、具体的には１．６７～１．７７程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１．６９～１．７５、１．７～１．７４、１．７１～１．７３であってもよく；さらに好ましくは以下段階的に、１．７２～１．７９、１．７３～１．７８、１．７４～１．７７５、１．７５～１．７７である。

また、前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物は、高い耐熱性を備えている。前記エポキシ化合物の５％質量減少温度は、例えば３００～５００℃程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、３５０～４５０℃、３７０～４３０℃、３８０～４２０℃である。

前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物は、高い５％質量減少温度を示すにも拘らず、意外にも低い融解（溶融）温度を示し、融解（溶融）開始温度は、例えば１００～２５０℃程度であってもよく、好ましくは以下段階的に、１２０～２００℃、１３０～１８０℃、１４０～１６０℃である。そのため、後述する他の成分などと溶融混練などで容易にまたは効率よく均一な硬化性組成物を調製することもできる。

なお、本明細書および特許請求の範囲において、前記式（１Ｅ）で表されるフルオレン化合物の屈折率、５％質量減少温度および融解温度は、後述する実施例に記載の方法により測定できる。

また、前記エポキシ化合物（またはエポキシ樹脂）のエポキシ当量は、例えば３００～１５００ｇ／ｅｑ程度の範囲から選択してもよく、好ましくは３５０～１０００ｇ／ｅｑ、さらに好ましくは４００～５００ｇ／ｅｑであってもよく；特に好ましくは、３５０～４８０ｇ／ｅｑ、なかでも３７０～４５０ｇ／ｅｑである。なお、本明細書および特許請求の範囲において、前記エポキシ化合物のエポキシ当量は、ＪＩＳ Ｋ ７２３６：２００１に準じて後述する実施例に記載の方法により測定できる。

なお、前記エポキシ化合物（または後述する硬化性組成物）は、前記式（１Ｅ）で表される化合物（単量体）のみならず、その多量体、例えば、二量体、三量体、四量体などの二ないし十量体を含む混合物であってもよい。多量体は、単独でまたは二種以上組み合わせて含まれていてもよい。

本明細書および特許請求の範囲において、特に断りのない限り、前記エポキシ化合物の「多量体」は、原料化合物［前記式（１）で表されるジオール化合物］に由来する構造（骨格）を化学構造中に２つ以上有するエポキシ化合物を意味し、この２つ以上のジオール化合物由来の構造が、後述するエピハロヒドリン成分由来の連結基、例えば２－ヒドロキシプロパン－１，３－ジイル基などを介して結合（連結）されている。このような多量体は、後述する前記式（１Ｅ）で表される化合物（単量体）の製造過程で不可避的にまたは不純物として混入してもよく、必要に応じて、一段法（タフィー法又は直接法）や二段法（Advanced法、溶融法又は間接法）などの慣用の方法で調製した多量体を単量体に意図的に添加してもよい。

前記多量体の割合は、前記単量体および多量体の総モル数に対して、例えば０～５０モル％程度、具体的には０～２０モル％程度であってもよく、好ましくは０～１０モル％、さらに好ましくは０～５モル％である。前記割合は、例えば０．１～８モル％、好ましくは０．２～３モル％であってもよい。

また、前記式（１Ｅ）で表されるフルオレン化合物（単量体）のＨＰＬＣ純度は、例えば７５％程度以上であってもよく、好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。なお、本明細書および特許請求の範囲において、ＨＰＬＣ純度は、後述する実施例に記載の方法で測定できる。

［式（１Ｅ）で表されるフルオレン化合物（エポキシ化合物）の製造方法］
前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物の製造方法は特に制限されず、例えば、前記式（１）で表されるジオール化合物と、エピハロヒドリン成分とを反応させることにより調製してもよい。

エピハロヒドリン成分（エピハロヒドリン類）としては、エピハロヒドリン、β－メチルエピハロヒドリンなどが挙げられる。エピハロヒドリンとしては、例えば、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、エピヨードヒドリンなどが挙げられる。β－メチルエピハロヒドリンとしては、β－メチルエピクロロヒドリン、β－メチルエピブロモヒドリン、β－メチルエピヨードヒドリンなどが挙げられる。これらのエピハロヒドリン成分は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらのエピハロヒドリン成分のうち、エピクロロヒドリンなどのエピハロヒドリン、β－メチルエピクロロヒドリンが好ましく、エピクロロヒドリンがさらに好ましい。

エピハロヒドリン成分の割合は、前記式（１）で表されるジオール化合物１モルに対して、例えば２モル以上であればよいが、前記ジオール化合物に対して過剰量、例えば５～１００モル、好ましくは１０～５０モル、さらに好ましくは１５～３０モルである。

なお、必要に応じて、触媒の存在下で反応させてもよく、非存在下で反応させてもよい。触媒としては、例えば、第４級アンモニウム塩、具体的には、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイドなどのテトラＣ_１－２０アルキルアンモニウムハライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライドなどのベンジルトリＣ_１－４アルキルアンモニウムハライドなど；トリメチルアミンボランなどのトリＣ_１－４アルキルアミンボラン、クラウンエーテル、ホスホニウム塩、ピリジニウム塩などが挙げられる。触媒は、単独でまたは二種以上組み合わせてもよい。

触媒を用いる場合、その割合は特に限定されないが、前記式（１）で表されるジオール化合物１モルに対して、例えば、０．００１～１モル、好ましくは０．０１～０．２モル、さらに好ましくは０．０５～０．１モルである。

また、反応により生成するハロゲン化水素をトラップするため、塩基の存在下で反応させてもよい。塩基は、例えば、金属水酸化物、金属炭酸塩または炭酸水素塩などの無機塩基；アミン類などの有機塩基などが挙げられる。金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物などが挙げられる。金属炭酸塩または炭酸水素塩としては、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの炭酸アルカリ金属またはアルカリ土類金属塩などが挙げられる。アミン類としては、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミン、ベンジルジメチルアミンなどの芳香族第３級アミン、ピリジンなどの複素環式第３級アミンなどが挙げられる。塩基は、単独でまたは二種以上組み合わせてもよい。これらの塩基のうち、強塩基（強アルカリ）が好ましく、水酸化ナトリウムなどの金属水酸化物がさらに好ましい。

塩基の割合は特に限定されないが、例えば、前記式（１）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば０．０１～２０モル、好ましくは以下段階的に、０．０５～１０モル、１～５モル、２～４モルである。

反応は、不活性な溶媒中で行ってもよく、溶媒を用いることなく行ってもよい。溶媒としては、非プロトン性溶媒などを使用でき、例えば、炭化水素類、具体的には、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類など；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；酢酸エチルなどのエステル類；エーテル類、具体的には、ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類など；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）などのケトン類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。溶媒は、単独でまたは二種以上組み合わせてもよい。これらの溶媒のうち、反応性の点から、ＭＥＫ、ＭＩＢＫなどのケトン類、アミド類、スルホキシド類が好ましく、ＤＭＦなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類がさらに好ましい。

反応は、空気中または窒素ガス、希ガスなどの不活性雰囲気中で行ってもよく、攪拌しながら行ってもよい。また、反応は、常圧下、加圧下または減圧下で行ってもよい。

反応温度や反応時間は、原料の種類などに応じて適宜選択してもよい。反応温度は、例えば３０～１５０℃、好ましくは以下段階的に、５０～１４０℃、１００～１３０℃であり、還流しながら（還流温度で）行ってもよく；さらに好ましくは３０～５０℃である。また、反応時間は、例えば３０分～４８時間、好ましくは２～６時間である。

反応終了後、必要により、反応混合物を、慣用の分離精製方法、例えば、洗浄、抽出、ろ過、脱水、濃縮、デカンテーション、乾燥、晶析、再沈殿、カラムクロマトグラフィー、吸着、これらを組み合わせた方法などにより分離精製してもよい。

［硬化性組成物］
硬化性組成物は、前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物を少なくとも含んでいればよく、熱硬化性または光硬化性組成物などであってもよい。また、必要に応じて、前記エポキシ化合物とは異なる他のエポキシ化合物（エポキシ樹脂）、硬化剤、硬化促進剤、光重合開始剤、反応性希釈剤、溶媒、添加剤などの他の成分を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物は、特にＹ^１ａおよびＹ^１ｂ中の環Ｚ^１が縮合多環式アレーン環などの多環式アレーン環であると、化学構造中に多くのベンゼン環骨格を有しているにも拘らず、意外にも溶解性（相溶性）に優れるため、前記他の成分を含んでいても、容易にまたは効率よく均一な硬化性組成物および硬化物を調製できる。

（他のエポキシ化合物）
前記式（１Ｅ）とは異なる他のエポキシ化合物（エポキシ樹脂）としては、例えば、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、具体的には、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＡＤ型、ビスフェノールＳ型、ビフェノール型などのビまたはビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型などのノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、テトラキス（グリシジルオキシフェニル）エタンなどのテトラキスフェノール型エポキシ樹脂、１，６－ビス（グリシジルオキシ）ナフタレンなどの縮合環芳香族炭化水素変性エポキシ樹脂、９，９－ビス（グリシジルオキシアリール）フルオレン類、９，９－ビス［グリシジルオキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類などの他の９，９－ビスアリールフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂など；芳香族ジカルボン酸（またはその水添物の）ジグリシジルエステルなどのグリシジルエステル型エポキシ樹脂；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン、トリグリシジルアミノフェノールなどのグリシジルアミン型エポキシ樹脂；ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレートなどの環状脂肪族型エポキシ樹脂；スチルベン型エポキシ樹脂；イソシアヌレート型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、キサンテン単位を含むエポキシ樹脂などの複素環型エポキシ樹脂；テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂などの含臭素エポキシ樹脂などが挙げられる。

これらの他のエポキシ樹脂は、単量体であってもよく、二量体、三量体などの多量体であってもよい。これらの他のエポキシ樹脂は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。好ましい他のエポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂などのビまたはビスフェノール型エポキシ樹脂である。

他のエポキシ樹脂を含む場合、前記エポキシ樹脂（前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物）の割合は、硬化性組成物中のエポキシ樹脂全体に対して、例えば５０～９９質量％、好ましくは６０～９８質量％、さらに好ましくは７０～９５質量％である。

（硬化剤、硬化促進剤、光重合開始剤）
硬化性組成物は、硬化剤、硬化促進剤および光重合開始剤から選択される少なくとも一種を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール樹脂系硬化剤などが挙げられる。

アミン系硬化剤としては、特に第１級アミンであってもよく、例えば、鎖状脂肪族アミン、具体的には、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンなどの鎖状脂肪族ポリアミン類など；環状脂肪族アミン、具体的には、メンセンジアミン、イソホロンジアミン、ビス（４－アミノ－３－メチルシクロヘキシル）メタン、ノルボルナンジアミン、３，９－ビス（３－アミノプロピル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどの単環式、架橋環式またはスピロ環式脂肪族ポリアミンなど；キシリレンジアミンなどの芳香脂肪族ポリアミン；メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンなどが挙げられる。

ポリアミノアミド系硬化剤としては、例えば、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンヘキサミンなどのポリエチレンポリアミン類と、ダイマー酸と、必要に応じて脂肪酸との縮合物などが挙げられる。

酸無水物系硬化剤としては、例えば、ドデセニル無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物などの脂肪族系酸無水物；テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物などの脂環族系酸無水物；無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などの芳香族系酸無水物などが挙げられる。

フェノール樹脂系硬化剤としては、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂などのノボラック樹脂、レゾール型フェノール樹脂などが挙げられる。

これらの硬化剤は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの硬化剤のうち、フェノール樹脂系硬化剤が好ましく、フェノールノボラック樹脂などのノボラック樹脂がさらに好ましい。

硬化剤の割合は、硬化性組成物中のエポキシ樹脂成分（エポキシ基を有する化合物）の総量１００質量部に対して、例えば０．１～５００質量部、好ましくは１～３００質量部、さらに好ましくは１０～１５０質量部である。また、硬化剤の官能基（または活性水素）の割合は、エポキシ樹脂成分のエポキシ基１当量に対して、例えば０．１～４当量、好ましくは以下段階的に、０．３～２当量、０．５～１．５当量である。

硬化促進剤としては、例えば、第３級アミン類、イミダゾール類およびその誘導体などのアミン類；アルカリ金属またはアルカリ土類金属アルコキシド；ホスフィン類、具体的にはトリフェニルホスフィンなどのトリアリールホスフィン類；ダイマー酸ポリアミドなどのアミド化合物；三フッ化ホウ素・エチルアミン錯体などのルイス酸錯体化合物；ポリサルファイド、メルカプタン化合物（チオール化合物）などの硫黄化合物；フェニルジクロロボランなどのホウ素化合物；有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物などの縮合性有機金属化合物などが挙げられる。前記アミン類に関し、第３級アミン類としては、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどが挙げられ、前記イミダゾール類としては、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾールなどのモノまたはジアルキルイミダゾール、２－フェニルイミダゾールなどのアリールイミダゾールなどが挙げられ、前記誘導体としては、フェノール塩、フェノールノボラック塩、炭酸塩、ギ酸塩などの塩などが挙げられる。これらの硬化促進剤は、単独でまたは二種以上組み合わせてもよい。これらの硬化促進剤のうち、ホスフィン類が好ましく、トリフェニルホスフィンなどのトリアリールホスフィン類がさらに好ましい。

硬化促進剤の割合は、硬化性組成物中のエポキシ樹脂成分（エポキシ基を有する化合物）の総量１００質量部に対して、例えば０．０１～３０質量部、好ましくは以下段階的に、０．０５～２０質量部、０．１～１０質量部、０．１～５質量部である。また、硬化促進剤の割合は、硬化性組成物中のエポキシ樹脂成分および硬化剤の総量１００質量部に対して、例えば０．０１～１０質量部、好ましくは０．１～５質量部、さらに好ましくは０．５～２質量部である。

硬化性組成物は、例えば、カチオン重合開始剤、光酸発生剤などの光重合開始剤を含む光硬化性組成物であってもよい。光重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩などのブレンステッド酸のオニウム塩などが挙げられる。

芳香族ジアゾニウム塩としては、例えば、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのベンゼンジアゾニウム類が挙げられる。

芳香族スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのトリフェニルスルホニウム類、４，４’－ビス（ジフェニルスルホニオ）ジフェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェートなどの４，４’－ビス（ジフェニルスルホニオ）ジフェニルスルフィド類などが挙げられる。

芳香族ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジフェニルヨードニウム類、ジ（４－ノニルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジ（４－ノニルフェニル）ヨードニウム類が挙げられる。

これらの光重合開始剤は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの光重合開始剤の割合は、硬化剤組成物中のエポキシ樹脂成分（エポキシ基を有する化合物）の総量１００質量部に対して、０．１～１０質量部、好ましくは０．５～５質量部程度であってもよい。

（反応性希釈剤）
反応性希釈剤としては、低粘度、例えば、２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ程度以下、好ましくは３０ｍＰａ・ｓ以下の単官能性または多官能性のエポキシ化合物であってもよい。単官能性エポキシ化合物としては、例えば、２－エチルへキシルグリシジルエーテルなどのアルキルグリシジルエーテル類、アリルグリシジルエーテルなどのアルケニルグリシジルエーテル類、フェニルグリシジルエーテル、ｐ－ｔ－ブチルフェニルグリシジルエーテルなどのアリールグリシジルエーテル類、これらの化合物に対応するアルキレンオキシド付加体のグリシジルエーテル類などのグリシジルエーテル類；オクチレンオキシド、スチレンオキシド、４－ビニルシクロヘキセンモノオキシドなどのアルケンオキシド類などが挙げられる。

多官能性エポキシ化合物としては、例えば、ジグリシジルエーテル、ポリオールポリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、シクロアルケンオキシドなどが挙げられる。前記ポリオールポリグリシジルエーテルとしては、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどの（ポリ）アルカンジオールジグリシジルエーテル類、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジ乃至トリグリシジルエーテル、グリセリンジ乃至トリグリシジルエーテルなどが挙げられる。前記シクロアルケンオキシドとしては、ビニルシクロヘキセンジオキシド、メチル化ビニルシクロヘキセンジオキシドなどが挙げられる。

これらの反応性希釈剤は、単独でまたは二種以上組み合わせてもよい。反応性希釈剤の割合は、硬化剤組成物中のエポキシ樹脂成分（エポキシ基を有する化合物）の総量１００質量部に対して、例えば１～１０００質量部、好ましくは５～５００質量部、さらに好ましくは１０～２００質量部である。

（溶媒）
溶媒としては、例えば、前記式（１）で表されるフルオレン化合物と組成物（液状組成物または溶液）を形成するための溶媒として例示した溶媒と同様の溶媒であってもよい。

これらの溶媒は単独でまたは二種以上組み合わせて使用してもよい。これらの溶媒は単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類が好ましく、ＰＧＭＥＡなどのＣ_２－４アルキレングリコールモノＣ_１－４アルキルエーテル－アセテート類が好ましい。溶媒の割合は、硬化剤組成物中のエポキシ樹脂成分（エポキシ基を有する化合物）の総量１００質量部に対して、例えば０～５００質量部の範囲から選択してもよく、好ましくは以下段階的に、１０～４００質量部、２０～３００質量部、３０～２００質量部である。また、溶媒を含む場合、硬化性組成物の固形分濃度は特に制限されず、硬化性組成物が所望の流動性を示すよう調整してもよく、例えば０．１～７０質量％程度であってもよい。

（添加剤）
添加剤としては、慣用の添加剤、例えば、染料、顔料などの着色剤、安定剤、充填剤、導電剤、帯電防止剤、難燃剤、難燃助剤、可撓化剤、可塑剤、界面活性剤、分散剤、相溶化剤、流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、表面改質剤、抗菌剤、防腐剤などが挙げられる。前記安定剤としては、熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などが挙げられる。前記充填剤としては、シリカ、タルク、マイカなどが挙げられる。前記難燃剤としては、リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤などが挙げられる。これらの添加剤は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用してもよい。これらの添加剤の合計割合は、固形分全体に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは０～３質量％であってもよく；例えば０．０１～５質量％程度、好ましくは０．１～１質量％であってもよい。

硬化性組成物は、前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ化合物と、必要に応じて前述のような他の成分とを、混合機または攪拌機で混合して分散させる方法で調製してもよい。混合機または攪拌機としては、例えば、ボールミル、タンブルミキサー、リボンブレンダー、ヘンシェルミキサー、ミキシングロール、ニーダー、バンバリーミキサーなどが挙げられる。混合（混練）または攪拌する際の温度は、例えば５０～２５０℃程度であってもよく、好ましくは１００～２００℃である。

［硬化物］
硬化物は、前記硬化性組成物を硬化反応（硬化処理）して調製できる。硬化処理は、硬化触媒の使用、加熱、光照射（活性エネルギー線照射）などにより行うことができ、これらを組み合わせて行ってもよい。

加熱により硬化処理を行う場合、加熱温度としては、例えば５０～２５０℃、好ましくは以下段階的に、７０～２２０℃、８０～２００℃、９０～１７０℃であってもよく、さらに好ましくは１５０～２００℃、特に１７０～１８０℃である。なお、硬化処理は段階的に行ってもよく、例えば比較的低温、具体的には５０～１３０℃程度、好ましくは７０～１２０℃で加熱処理したのち、比較的高温、具体的には１４０～３５０℃程度、好ましくは１５０～３００℃で加熱処理してもよい。このような硬化処理は、硬化物の形状に応じて、硬化性組成物を成形中および／または成形（または予備成形）後に行ってもよい。例えば、必要に応じて、前記硬化性組成物を加熱溶融して所定の型に注入し、加熱して硬化し、所望の形状の成形体を得ることができる。成形方法および硬化条件は特に限定されず、例えば、所定の金型を用いて成形する場合には、加熱加圧による成形法やコールドプレスと呼ばれる低温成形法などを用いてもよい。また、硬化性組成物を接着部位に適用して硬化させてもよく、硬化性組成物で基材をコーティングして硬化、例えば、後述する光照射などにより硬化させてもよい。

光照射により硬化処理を行う場合、光の波長は、酸発生剤などの種類に応じて適宜選択してもよく、紫外光線または可視光線などであってもよい。光の照射光量（露光量）は、硬化性組成物（塗膜）の厚みなどに応じて選択でき、例えば１０～１００００ｍＪ／ｃｍ^２程度であってもよく、好ましくは１００～５０００ｍＪ／ｃｍ^２、さらに好ましくは５００～３０００ｍＪ／ｃｍ^２である。光源としては、例えば、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤレーザーなどのレーザー光などが利用できる。硬化性組成物の硬化を促進するために、光照射のみならず、前記加熱処理を行ってもよい。

硬化物の形状は特に制限されず、一次元的形状（棒状など）、二次元的形状（シート状、フィルム状、板状など）、三次元的形状［例えば、ブロック状、棒状、中空状（管状又はチューブ状）など］のいずれであってもよい。このような硬化物は、前記式（１Ｅ）で表される化合物を含むため、高い屈折率および高い耐熱性を示す。

硬化物の５％質量減少温度は、例えば３５０～５００℃程度であってもよく、好ましくは以下段階的に、４００～４５０℃、４１０～４３０℃である。また、硬化物の熱機械分析測定装置（ＴＭＡ）により測定したガラス転移温度Ｔｇ（ＴＭＡ）は、例えば１５０～３００℃程度であってもよく、好ましくは以下段階的に、２００～２５０℃、２００～２２０℃である。また、硬化物の動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）により測定したガラス転移温度Ｔｇ（ＤＭＡ）は、例えば１５０～３００℃程度であってもよく、好ましくは以下段階的に、２００～２５０℃、２１０～２３０℃である。

なお、硬化物の５％質量減少温度、Ｔｇ（ＴＭＡ）およびＴｇ（ＤＭＡ）は、後述の実施例に記載の方法に従って測定できる。

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。以下に、評価方法の詳細などについて示す。

［評価方法］
（ＨＰＬＣ）
ＨＰＬＣ（高性能または高速液体クロマトグラフ）装置として（株）島津製作所製「ＬＣ－２０１０Ａ ＨＴ」、カラムとして東ソー（株）製「ＯＤＳ－８０ＴＭ」を用いて、試料をアセトニトリルに溶解して測定し、ＨＰＬＣ純度［面積％］を算出した。

（^１Ｈ－ＮＭＲ）
試料を、内部標準物質としてテトラメチルシランを含む重溶媒（ＣＤＣｌ_３）に溶解し、核磁気共鳴装置（ＢＲＵＫＥＲ社製「ＡＶＡＮＣＥ ＩＩＩ ＨＤ」）を用いて、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。

（屈折率ｎＤ）
屈折率は、屈折率計（（株）アタゴ製「ＲＸ－７０００ｉ」）を用いて、温度２５℃、波長５８９ｎｍ（Ｄ線）で測定した。なお、屈折率の算出は、試料をジメチルスルホキシドに溶解して、濃度５．０質量％、１０．０質量％および３０．０質量％（実施例４で得られたＤＰＢＮＦＧのみ５．０質量％、１０．０質量％および１４．７質量％）の溶液を調製し、得られた溶液および濃度０質量％（ジメチルスルホキシドのみ）の屈折率を測定して作成した検量線（近似直線）において、濃度を１００質量％に外挿して求めた。

（融解または溶融温度）
融点測定装置（BUCHI製「Melting Point Ｍ－５６５」）を用いて、下記条件で測定し、融解（溶融）開始温度と融解（溶融）終了温度とを読み取った。３回測定した融解（溶融）開始温度および融解（溶融）終了温度の平均値をそれぞれ算出した。

測定開始温度：１００℃
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
融解開始検出条件：１５％（試料の透過度の変化率が１５％以上となった点を融解開始温度とした）
測定モード：局法モード
測定数：ｎ＝３

（５％質量減少温度）
熱重量測定－示差熱分析装置（ＴＧ－ＤＴＡ）（エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製「ＴＧ／ＤＴＡ６２００」）を使用して、窒素雰囲気下、昇温速度１０℃／分の条件下で、試料の質量が５質量％減少した温度を測定した。

（ガラス転移温度Ｔｇ）
硬化物のガラス転移温度Ｔｇ（ＴＭＡ）は、ＪＩＳ Ｋ ７１９７に準じて、熱機械分析（ＴＭＡ）測定装置（（株）リガク製「ＴＭＡ ８３１１」）を用い、下記条件で測定した。

試験寸法：約１０ｍｍ×５ｍｍ×３ｍｍ
昇温速度：５℃／ｍｉｎ
測定温度範囲：室温～３００℃
測定モード：圧縮（荷重４９ｍＮ）
雰囲気：窒素気流中（１００ｍＬ／ｍｉｎ）
測定数：ｎ＝１

また、硬化物のガラス転移温度Ｔｇ（ＤＭＡ、ｔａｎδ）は、ＪＩＳ Ｋ ７２４４に準じて、動的粘弾性（ＤＭＡ）測定装置（（株）ユービーエム製「Ｒｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００」）を用い、の下記条件で測定した。

昇温速度：４℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ
雰囲気：空気気流中
測定モード：曲げ
測定数：ｎ＝１

（溶解性）
試料２００ｍｇに対して、後述する各溶媒を濃度３０質量％または５０質量％になるようにそれぞれ添加し、室温（２５℃）で攪拌した際の各溶媒に対する試料の溶解性を確認した。室温（２５℃）で溶解しない場合は５０℃または８０℃まで段階的に加温して、以下の評価基準で溶解性を確認した。

○（２５℃）：２５℃で溶解した
○（５０℃）：２５℃で溶解せず、５０℃に昇温する際に溶解した
○（８０℃）：５０℃で溶解せず、８０℃に昇温する際に溶解した
× ：８０℃まで昇温しても溶解しなかった

（保存安定性）
試料を濃度３０質量％でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に完全に溶解した溶液を５℃で保管し、２４時間後の溶液状態を観察して、以下の評価基準で保存安定性（溶液安定性または低温安定性）を確認した。

○：試料の析出が確認されなかった
×：試料の析出が確認された

（エポキシ当量）
ＪＩＳ Ｋ ７２３６：２００１に準じ、自動滴定装置（三菱化学（株）製ＧＴ－１００）を用いて、過塩素酸溶液（酢酸性）にて滴定した。

［合成例１］９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジブロモフルオレン（以下、ＤＢｒＢＮＦともいう）の合成

反応容器に２，７－ジブロモ－９－フルオレノン１２．５ｇ（０．０３７ｍｏｌ）、２－ナフトール１６．０ｇ（０．１１ｍｏｌ）、１，４－ジオキサン９０ｍＬ、３－メルカプトプロピオン酸０．５ｍＬ（５．８ｍｍｏｌ）、９８質量％濃硫酸２６ｍＬを仕込み、窒素雰囲気下にて攪拌し、６０℃で２４時間反応させた。室温まで冷却後、加熱減圧し溶媒を除いた後、ジクロロメタン３００ｍＬおよびイオン交換水３００ｍＬを加え分液抽出した。炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整した後、イオン交換水３００ｍＬを加えて再度水洗した。このイオン交換水による水洗の操作を３回繰り返した後、加熱減圧にてジクロロメタンを除き黄色粗結晶を得た。得られた黄色粗結晶をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル担体、展開溶媒：ジクロロメタン）で精製し、減圧乾燥させることによりＤＢｒＢＮＦ ６．０１ｇ（微褐色固体、収率２４％、ＨＰＬＣ純度９５．２％）を得た。得られたＤＢｒＢＮＦの^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。

^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）５．２（ｓ、２Ｈ）、７．０－７．１（ｍ，４Ｈ）、７．３（ｄ，２Ｈ）、７．５（ｍ，１２Ｈ）。

［実施例１Ａ］９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン（以下、ＤＮＢＮＦともいう）の合成

反応器内にＤＢｒＢＮＦ ０．７８ｇ（１．３ｍｍｏｌ）、２－ナフチルボロン酸０．５４ｇ（３．１ｍｍｏｌ）、トルエン１０ｍＬ、および１Ｍ炭酸カリウム水溶液２．６ｍＬ（２．６ｍｍｏｌ）を仕込み、窒素気流下、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）［またはＰｄ（ＰＰｈ_３）_４］７５ｍｇ（０．０６５ｍｍｏｌ）を添加し、内温８５℃にて１５時間加熱還流して反応させた。反応液にイオン交換水５０ｍＬ、ジクロロメタン７５ｍＬを添加し攪拌した後、分液抽出した。このイオン交換水による水洗操作を３回繰り返した後、有機層を濃縮し淡褐色粗体を得た。得られた淡褐色粗体をカラムクロマトグラフィー［シリカゲル担体、展開溶媒：ジクロロメタン／酢酸エチル（体積比）＝１００／１］で精製した後、減圧乾燥させることによりＤＮＢＮＦ ３５１ｍｇ（淡黄色固体、収率４９．９％、ＨＰＬＣ純度９７．４％）を得た。得られたＤＮＢＮＦの屈折率ｎＤは１．７９であり、５％質量減少温度は４４３℃であり、^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。

^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）４．９（ｓ，２Ｈ）、７．０（ｄ，２Ｈ）、７．１（ｓ，２Ｈ）、７．４－７．７（ｍ，１４Ｈ）、７．８－８．１（ｍ，１４Ｈ）

［実施例１Ｂ］ＤＮＢＮＦの合成
反応器内にＤＢｒＢＮＦ ２１．３ｇ（０．０３５ｍｏｌ）、２－ナフチルボロン酸１３．２ｇ（０．０７７ｍｏｌ）、トルエン１３０ｍＬ、および８．１Ｍ炭酸カリウム水溶液３０ｍＬ（０．２４５ｍｏｌ）を仕込み、窒素気流下、７０～８０℃で溶解した。さらに、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）［またはＰｄ（ＰＰｈ_３）_４］２０．２ｍｇ（０．０１８ｍｍｏｌ）を添加し、内温８０℃にて１時間反応させた。反応液にイオン交換水３０ｍＬを添加し攪拌した後分液抽出した。このイオン交換水による水洗操作を３回繰り返した後、有機層をトルエンで２倍希釈し、ヘプタン３５０ｍｌを滴下し、淡赤橙色粗結晶を得た。減圧乾燥後、ＤＮＢＮＦ ２０．５ｇ（淡赤橙色固体、収率８３．３％、ＨＰＬＣ純度８８．６％）を得た。なお、得られたＤＮＢＮＦの屈折率ｎＤ、５％質量減少温度、^１Ｈ－ＮＭＲの結果は、実施例１Ａと同様であった。また、融解（溶融）開始温度は１７６．４℃、融解（溶融）終了温度は２２４．１℃であった。なお、Ｘ線回折（ＸＲＤ）ではハローピークが見られ、非晶質体（アモルファス）であることが確認された。

［実施例１Ｃ］ＤＮＢＮＦの合成
反応器内にＤＢｒＢＮＦ ２１．３ｇ（０．０３５ｍｏｌ）、２－ナフチルボロン酸１３．８ｇ（０．０８１ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン３６．７ｍｇ（０．１４０ｍｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）８０ｍＬ、および４Ｍ炭酸カリウム水溶液６０ｍＬ（０．２４５ｍｏｌ）を仕込み、窒素気流下、７０℃で溶解した。さらに、酢酸パラジウム７．９ｍｇ（０．０３５ｍｍｏｌ）を添加し、内温７５℃にて７時間反応させた。反応溶液中の水を排出し、イオン交換水３０ｍＬ添加後、１０質量％塩酸で中和した。その後、イオン交換水による水洗操作を３回繰り返した。反応溶液を濃縮して濃度約４０～４５質量％に調整し、２５０ｒｐｍで攪拌しながら６０℃から室温まで放冷して温度を下げることで晶析した。なお、約４５℃で析出が始まった。減圧乾燥後、ＤＮＢＮＦ １８．７ｇ（白色固体、収率７６．０％、ＨＰＬＣ純度９９．０％）を得た。実施例１Ａおよび１Ｂで得られたＤＮＢＮＦと比べて、着色が大きく低減され、収率および純度も高かった。なお、得られたＤＮＢＮＦの屈折率ｎＤ、５％質量減少温度、^１Ｈ－ＮＭＲの結果は、実施例１Ａと同様であった。また、融解開始温度は１８８．５℃、融解終了温度は２１８．８℃であった。なお、Ｘ線回折（ＸＲＤ）では、ハローピークではなく所定の回折パターンが見られ、実施例１Ｂとは異なって結晶であることが確認された。

［実施例２］９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－２，７－ジフェニルフルオレン（以下、ＤＰＢＮＦともいう）の合成

反応器内にＤＢｒＢＮＦ ２１．３ｇ（０．０３５ｍｏｌ）、フェニルボロン酸９．９ｇ（０．０８１ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン３６．７ｍｇ（０．１４０ｍｍｏｌ）、ＭＩＢＫ ８０ｍＬ、および４Ｍ炭酸カリウム水溶液６０ｍＬ（０．２４５ｍｏｌ）を仕込み、窒素気流下、７０℃で溶解した。さらに、酢酸パラジウム７．９ｍｇ（０．０３５ｍｍｏｌ）を添加し、内温７５℃にて５時間反応させた。反応溶液中の水を排出し、イオン交換水３０ｍＬ添加後、１０質量％塩酸でｐＨ７まで調整した。その後、イオン交換水による水洗操作を３回繰り返した。反応溶液を濃縮してＭＩＢＫを除去し、トルエンを２１ｇ（０．２３０ｍｍｏｌ）添加した。トルエン溶液をヘプタン２１ｇ（０．２１０ｍｍｏｌ）に滴下することでＤＰＢＮＦ １７．７ｇ（淡黄色固体、収率８４．０％、ＨＰＬＣ純度８７．９％）を得た。得られたＤＰＢＮＦの屈折率ｎＤは１．７５であり、５％質量減少温度は３６０℃であり、^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。また、融解開始温度は１８０．７℃、融解終了温度は２２７．４℃であった。

^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）５．４９（ｓ，２Ｈ）、７．０（ｍ，４Ｈ）、７．２－８．０（ｍ，２４Ｈ）

［比較例１］
９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）フルオレン（大阪ガスケミカル（株）製「ＢＮＦ」）の屈折率ｎＤは１．７４であり、５％質量減少温度は３６９℃であり、融解開始温度は２５９℃、融解終了温度は２６３℃であった。

［比較例２］
９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン（大阪ガスケミカル（株）製「ＢＰＦ」、融点２２３～２２４℃）の屈折率ｎＤは１．６８であり、５％質量減少温度は３０１℃であった。

［比較例３］
９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン（大阪ガスケミカル（株）製「ＢＣＦ」、融点２１８～２１９℃）の屈折率ｎＤは１．６８であり、５％質量減少温度は３１３℃であった。

［比較例４］
９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（大阪ガスケミカル（株）製「ＢＰＥＦ」、融点１６１～１６３℃）の屈折率ｎＤは１．６５であり、５％質量減少温度は３４２℃であった。

下記表１に、実施例および比較例で得られたフルオレン化合物の物性（屈折率、５％質量減少温度、融解温度）を示す（表１中の融解温度の（ ）内の数値は市販品の融点を示す）。

表１の結果から明らかなように、実施例では比較例に比べて非常に高い屈折率を示している。また、比較例１（ＢＮＦ）のフルオレン骨格の２，７位に対して、ベンゼン環を導入した実施例２（ＤＰＢＮＦ）では５％質量減少温度の低下が見られた一方で、ナフタレン環を導入した実施例１（ＤＮＢＮＦ）では５％質量減少温度が大きく向上し、より耐熱性に優れている。なお、実施例１（ＤＮＢＮＦ）および実施例２（ＤＰＢＮＦ）は、高い５％質量減少温度を示す一方で、意外にも融解開始温度が低く、特に実施例１（ＤＮＢＮＦ）では実施例２（ＤＰＢＮＦ）よりもベンゼン環骨格の多いナフタレン環を導入するにも拘らず融解終了温度も低く、容易に溶融可能なことが分かった。

下記表２に、実施例１Ｃおよび実施例２，比較例１で得られたフルオレン化合物を濃度３０質量％で各溶媒に溶解した際の溶解性の評価結果を示す。なお、表中、ＰＧＭＥＡはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥはプロピレングリコールモノメチルエーテル、ｎ－ＰｒＯＨはｎ－プロパノール、ＮＭＰはＮ－メチル－２－ピロリドン、ＤＭＦはＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシドをそれぞれ示す（以下、同じ）。

表２の結果から明らかなように、実施例１（ＤＮＢＮＦ）および実施例２（ＤＰＢＮＦ）は多くのベンゼン環骨格を含むため、溶解性が大きく低下することが予想されたが、意外にも高い溶解性を示した。特に、実施例１（ＤＮＢＮＦ）では、測定した全ての溶媒種に対して溶解可能であった。

下記表３に、実施例１Ｃおよび実施例２，比較例１で得られたフルオレン化合物を濃度３０質量％でＰＧＭＥＡに溶解した溶液（表２の溶解性試験で調製した溶液）の保存安定性の評価結果を示す。

表３の結果から明らかなように、いずれの実施例でも、析出し易い高濃度、低温環境下において、析出することなく安定して溶液状態を保持していた。

［実施例３Ａ］９，９－ビス（６－グリシジルオキシ－２－ナフチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン（以下、ＤＮＢＮＦＧともいう）の合成

反応器内に実施例１Ｃで得られたＤＮＢＮＦ １０５．４３ｇ（０．１５ｍｏl）、クロロメチルオキシラン３０３．６ｇ（３．３ｍｏl）、ジメチルスルホキシド８３．２ｇを添加し、窒素気流下４０℃で３０分加熱溶解させた。その後、フレーク状の水酸化ナトリウム１３．２ｇ（０．３３ｍｏｌ）を投入した。水酸化ナトリウムの投入から４時間後、温度を４０℃に保持しつつ加熱攪拌した結果、ＨＰＬＣにて原料であるＤＮＢＮＦの消失を確認した。その後、エバポレーターにてクロロメチルオキシランを濃縮除去し、ＭＩＢＫを５５０ｇ加えた後、イオン交換水２００ｍＬによる水洗操作を５回繰り返した。ＭＩＢＫ溶液を固形分２０質量％に調整し、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１６３５ｇに対して１時間かけて滴下することでＤＮＢＮＦＧ １０７ｇ（白色固体、収率８８％、ＨＰＬＣ純度９５％）を得た。得られたＤＮＢＮＦＧの屈折率ｎＤは１．７６であり、５％質量減少温度は４０５℃であり、非常に高い屈折率および耐熱性を示した。得られたＤＮＢＮＦＧの融解開始温度（溶け始める温度）は１４９℃であり、エポキシ当量は４３２．４ｇ／ｅｑであり、^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。

^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）２．８（ｔ，２Ｈ）、２．９（ｔ，２Ｈ）、３．４（ｍ，２Ｈ）、４．０（ｄｄ，２Ｈ）、４．３（ｄｄ，２Ｈ）、７．１（ｍ，４Ｈ）、７．４－７．９（ｍ，２８Ｈ）

［実施例３Ｂ］ＤＮＢＮＦＧの合成
２００ｍＬ４つ口ナスフラスコに、実施例１Ｂで得られたＤＮＢＮＦ ３５．１ｇ（０．０５ｍｏｌ）、エピクロロヒドリン１０１ｇ（１．１ｍｏｌ、２２ｅｑ．）を入れ、容器内を窒素置換した。水酸化ナトリウム（顆粒）６．６ｇ（０．１７ｍｏｌ、３．３ｅｑ．）を添加し、１１８℃で加熱還流しながら還流されたエピクロロヒドリンをディーンスタークで系内に戻した。３時間攪拌後エピクロロヒドリンを濃縮し、除去した。メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）１９９ｇ（２．０ｍｏｌ、４０ｅｑ．）で溶解後、蒸留水１１７ｇとセライト２ｇを添加し、７０℃で攪拌した。セライトを濾過し、排水後、有機層を蒸留水８０ｍＬで洗浄する操作を４回繰り返した。有機層をメタノール２０５ｇで再沈殿し、得られた固体を７０℃で乾燥することで淡黄色固体を得た。さらに、シリカゲルクロマトグラフィー（ジクロロメタン／ヘキサン＝６／４（体積比））で精製することで、ＤＮＢＮＦＧ ５．６４ｇ（微黄色固体、収率１６．１％、ＨＰＬＣ純度９４％）を得た。得られたＤＮＢＮＦＧの屈折率ｎＤは、５％質量減少温度および溶融開始温度は実施例３Ａと同様であった。なお、ＤＮＢＮＦＧの^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。

^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）２．８（ｔ，２Ｈ）、２．９（ｔ，２Ｈ）、３．４（ｍ，２Ｈ）、４．０（ｄｄ，２Ｈ）、４．４（ｄｄ，２Ｈ）、７．１（ｍ，４Ｈ）、７．４－７．７（ｍ，１４Ｈ）、７．８－８．０（ｍ，１４Ｈ）

［実施例４］９，９－ビス（６－グリシジルオキシ－２－ナフチル）－２，７－ジフェニルフルオレン（以下、ＤＰＢＮＦＧともいう）の合成

ＤＮＢＮＦに代えて、ＤＰＢＮＦ ９０．４ｇ（０．１５ｍｏｌ）を用いた以外は実施例３Ａと同様の方法により、ＤＰＢＮＦＧ ９３ｇ（淡黄色固体、収率８７％、ＨＰＬＣ純度８７％）を得た。得られたＤＰＢＮＦＧの屈折率ｎＤは１．７２であり、５％質量減少温度は３８０℃であり、溶融開始温度は１９５℃であり、エポキシ当量は３８４．４ｇ／ｅｑであり、^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。

^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）２．８（ｔ，２Ｈ）、２．９（ｔ,２Ｈ）、３．４（ｍ，２Ｈ）、４．０（ｄｄ，２Ｈ）、４．３（ｄｄ,２Ｈ）、７．１（ｍ，４Ｈ）、７．３－７．９（ｍ，２４Ｈ）

［比較例５］
９，９－ビス（６－グリシジルオキシ－２－ナフチル）フルオレン（大阪ガスケミカル（株）製「ＢＮＦＧ」）の屈折率ｎＤは１．７０であり、５％質量減少温度は３９１℃であり、溶融開始温度は１１３℃であり、エポキシ当量は２９２．０ｇ／ｅｑであった。

［比較例６］
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学（株）製「ｊＥＲ８２８」）の屈折率ｎＤは１．５８であり、５％質量減少温度は３８０℃であり、エポキシ当量は１８７ｇ／ｅｑであった。

下記表４に、実施例および比較例で得られたフルオレン化合物（エポキシ樹脂）の物性を示す。

表４の結果から明らかなように、実施例では比較例に比べて非常に高い屈折率を示している。また、比較例５（ＢＮＦＧ）のフルオレン骨格の２，７位に対して、ベンゼン環を導入した実施例４（ＤＰＢＮＦＧ）では５％質量減少温度の低下が見られた一方で、ナフタレン環を導入した実施例３（ＤＮＢＮＦＧ）では５％質量減少温度が大きく向上し、耐熱性に優れている。実施例は耐熱性に優れる一方で、溶融開始温度は比較的低く、硬化剤などの他の成分と容易にまたは効率よく混合できることが分かった。特に、ナフタレン環を導入した実施例３が、ベンゼン環を導入した実施例４よりも溶融開始温度が低かったのは意外であった。

下記表５に、実施例３Ａおよび実施例４，比較例５で得られたフルオレン化合物（エポキシ樹脂）を濃度３０質量％で各溶媒に溶解した際の溶解性の評価結果を示す。

表５の結果から明らかなように、実施例３Ａ（ＤＮＢＮＦＧ）は多くのベンゼン環骨格を含むため、溶解性が大きく低下することが予想されたが、測定した全ての溶媒種に対して溶解可能であり、意外にも高い溶解性を示した。特に、ナフタレン環を導入した実施例３が、ベンゼン環を導入した実施例４よりも溶解性が優れていたのは意外であった。

なお、実施例３Ａ（ＤＮＢＮＦＧ）は、濃度５０質量％であっても、酢酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘプタノン、ＤＭＦおよびＤＭＳＯに対して、それぞれ室温（２５℃）で溶解し、シクロヘキサノン、ＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥ、ベンジルアルコール、１，４－ジオキサン、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、γ－ブチロラクトン、ＮＭＰおよびトルエンに対して、それぞれ８０℃以下の加温で溶解した。

これに対して、実施例４（ＤＰＢＮＦＧ）は、濃度５０ｗｔ％ではＮＭＰに室温（２５℃）で溶解したのみであった。

＜硬化性組成物および硬化物の調製＞
実施例３Ａおよび比較例５～６のエポキシ樹脂と、硬化剤としてのフェノールノボラック樹脂（群栄化学工業（株）製「ＰＳＭ－４２６１」、水酸基当量１０５ｇ／ｅｑ）とを、当量比１：１の割合となるよう仕込み、二本ロールを用いて１９０℃で混練した。回収した混練物を室温まで冷ました後、触媒としてのＴＰＰ（トリフェニルホスフィン、関東化学（株）製）を、エポキシ樹脂およびフェノールノボラック樹脂の総量１００質量部に対して１質量部加えて、ロールを用いて１２０℃で混練した。得られた混練物を１７５℃で３０分間プレス成形した後、オーブンを用いて１７５℃で５時間加熱（ポストキュア）して硬化物を得た。

下記表６に、実施例および比較例で得られたフルオレン化合物（エポキシ樹脂）、およびこのエポキシ樹脂を用いて得られた硬化物の物性を示す。

表６から明らかなように、実施例３Ａでは、比較例５～６に比べて、高い耐熱性を示した。また、実施例３Ａで用いたＤＮＢＮＦＧは、比較例５～６に比べて、化学構造中に多くのベンゼン環骨格を有していることから、溶解性（相溶性）の低下が予想されるにも拘らず、意外にも硬化剤などと良好な相溶性を示し、均一な硬化性組成物および硬化物を調製できた。

本発明の前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、高い屈折率を示し、耐熱性も優れるため、樹脂原料、例えば、ポリアリレート樹脂などのポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂などのポリエーテルケトン系樹脂などの熱可塑性樹脂のモノマー成分や、（メタ）アクリル樹脂、ビニルエステル樹脂（またはエポキシ（メタ）アクリレート樹脂）、ビニルエーテル樹脂、エポキシ樹脂などの硬化性樹脂の原料などとして有効に利用できる。特に、前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、５％質量減少温度が高く、高い耐熱性を示すにも拘らず、意外にも融解（溶融）温度が低い。さらには、溶解性にも優れるため、溶融重合または溶液重合するためのモノマーとして用いてもよい。

また、前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、屈折率向上剤、耐熱性向上剤、硬化剤などの添加剤（または樹脂添加剤）などとして有効に利用できる。硬化剤としては、例えば、エポキシ樹脂の硬化剤などが挙げられる。前記式（１）で表されるフルオレン化合物は、融解（溶融）温度が低いのみならず、溶解性（相溶性）にも優れるため、溶融混練などで容易にまたは効率よく均一な組成物を調製してもよい。

本発明の前記式（１）で表されるフルオレン化合物を原料とする樹脂またはフルオレンを添加剤として含む組成物は、光学部材（光学材料または透明材料）などに好適に利用できる。前記光学部材としては、例えば、リフローレンズ、ピックアップレンズ、マイクロレンズなどの光学レンズ、偏光膜、反射防止フィルム、タッチパネル用フィルム、フレキシブル基板用フィルム、ディスプレイ用フィルムなどの光学フィルム、燃料電池用膜、光ファイバー、光導波路、ホログラムなどが挙げられる。

また、前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ樹脂およびこのエポキシ樹脂を含む硬化性組成物（またはその硬化物）は、高屈折率、高耐熱性などの特性に優れているため、例えば、電子部品の層間の絶縁材、プリント基板用のソルダーレジスト、カバーレイなどのレジスト材料、カラーフィルター、印刷インキなどのインキ、電子部品または半導体封止剤などの封止剤、塗料、コーティング剤、接着剤、粘着剤、アンダーフィル、帯電防止剤、充填材、導電部材または導電材料、積層材料、感熱紙用材料などの感熱材料、カーボン材料、絶縁材料、発泡体、感圧材料、前記光学材料（または透明材料）などのあらゆる材料として有用である。前記式（１Ｅ）で表されるエポキシ樹脂は、意外なことに、融解（溶融）開始温度が比較的低いのみならず、溶解性（相溶性）にも優れるため、比較的低温であっても容易にまたは効率よく均一な硬化性組成物を調製することもできる。

Claims (12)

1. 下記式（１）
   

   

   ［式中、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂはそれぞれ独立して下記式（Ｙ１）
   

   

   （式中、Ｚ^１はアレーン環を示し、
   Ｒ^１は置換基を示し、ｍ１は０または１以上の整数を示す。）
   で表される１価の基を示し、ｋ１ａおよびｋ１ｂはそれぞれ独立して０～４の整数を示し、ｋ１ａおよびｋ１ｂのうち少なくとも一方は１以上であり、
   Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｍ２ａおよびｍ２ｂはそれぞれ独立して０～４の整数を示し、
   ｋ１ａ＋ｍ２ａおよびｋ１ｂ＋ｍ２ｂはそれぞれ独立して４以下であり、
   Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂはそれぞれ独立して下記式（Ｙ２）
   

   

   （式中、Ｚ^２は多環式アレーン環を示し、
   Ｒ^３は置換基を示し、ｍ３は０または１以上の整数を示し、
   Ａ^１は直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、ｎ１は０または１以上の整数を示す。）
   で表される１価の基を示す。］
   で表されるフルオレン化合物。
2. 前記式（１）において、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂを表す式（Ｙ１）中のＺ^１がベンゼン環、ナフタレン環またはビフェニル環であり、ｋ１ａおよびｋ１ｂが０～２の整数であり、Ｙ^２ａおよびＹ^２ｂを表す式（Ｙ２）中のＺ^２がナフタレン環またはビフェニル環である請求項１記載のフルオレン化合物。
3. 前記式（１）において、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂを表す式（Ｙ１）中のＺ^１が縮合多環式アレーン環である請求項１または２記載のフルオレン化合物。
4. 溶融重合または溶液重合するためのモノマー、および樹脂を改質するための樹脂添加剤から選択された少なくとも一種である請求項１～３のいずれか一項に記載のフルオレン化合物。
5. 請求項１～４のいずれか一項に記載のフルオレン化合物と、溶媒とを含む組成物。
6. 下記（ｉ）または（ii）に記載の反応工程を含む請求項１～４のいずれか一項に記載のフルオレン化合物の製造方法。
   （ｉ）下記式（２）で表される化合物と、下記式（３ａ）で表される化合物および式（３ｂ）で表される化合物とをカップリング反応させる工程
   

   

   ［式中、Ｘ^１ａおよびＸ^２ａならびにＸ^１ｂおよびＸ^２ｂは、それぞれ独立して、カップリング反応により炭素－炭素結合を形成可能な一対の反応性基を示し、
   Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂ、ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ならびにＹ^２ａおよびＹ^２ｂは前記式（１）に同じ。］
   （ii）下記式（６）で表される化合物と、下記式（５ａ）で表される化合物および式（５ｂ）で表される化合物とを反応させる工程
   

   

   ［式中、Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂ、ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ならびにＹ^２ａおよびＹ^２ｂは前記式（１）に同じ。］
7. 前記反応工程で得られた請求項１～４のいずれか一項に記載のフルオレン化合物を、溶媒から析出させる精製工程をさらに含み、前記溶媒が、（ａ）芳香族炭化水素類および脂肪族炭化水素類を含む溶媒、および（ｂ）ケトン類を含む溶媒から選択された少なくとも一種の溶媒である請求項６記載の製造方法。
8. 下記式（１Ｅ）
   

   

   ［式中、Ｙ^３ａおよびＹ^３ｂはそれぞれ独立して下記式（Ｙ３）
   

   

   （式中、Ｒ^４は水素原子またはメチル基を示し、
   Ｚ^２、Ｒ^３、ｍ３、Ａ^１およびｎ１は、それぞれ請求項１記載の式（Ｙ２）に同じ。）
   で表される１価の基を示し、
   Ｙ^１ａおよびＹ^１ｂは請求項１記載の式（Ｙ１）に同じであり、
   ｋ１ａおよびｋ１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂ、ｍ２ａおよびｍ２ｂ、ｋ１ａ＋ｍ２ａおよびｋ１ｂ＋ｍ２ｂは、それぞれ独立して請求項１記載の式（１）に同じ。］
   で表されるフルオレン化合物。
9. 請求項１記載の式（１）で表される化合物と、エピハロヒドリン成分とを反応させて請求項８記載の式（１Ｅ）で表される化合物を製造する方法。
10. 請求項８記載の式（１Ｅ）で表される化合物を含む硬化性組成物。
11. 請求項１０記載の硬化性組成物が硬化した硬化物。
12. 請求項１１記載の硬化物を含む光学部材。