JP2022034374A - 部材転写方法 - Google Patents

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高正 平山
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Abstract

【課題】硬質基板を用いつつも、良好に部材（被加工品）の転写を行うことができる部材転写方法を提供すること。【解決手段】本発明の部材転写方法は、第１の硬質基板上に配置された部材を第２の硬質基板に転写する方法であって、第１の紫外線吸収層を介して、該第１の硬質基板と該部材とを積層して、積層体Ａを形成する工程と、その後、該積層体Ａを、該部材が該第２の硬質基板側となるようにして、該第２の硬質基板に固定し、積層体Ｂを形成する工程と、その後、該第１の紫外線吸収層に紫外線を照射して、該積層体Ｂから該第１の硬質基板を剥離する工程とを含む。【選択図】図２

Description

本発明は、部材転写方法に関する。
従来より、電子部品の加工においては、工程間の移送等のため、基板をキャリアとして用い、当該基板上に配置された電子部品を他の基板に転写することが行われている。マイクロＬＥＤ等の超小型チップを転写する際には、転写の際の位置精度をよくする観点から、硬質基板をキャリアとして用いることがある。
国際公開第２０１２／０１１２０２号
硬質基板をキャリアとした場合、より具体的には、第１の硬質基板上に所定の粘着剤層を介して配置された電子部品（例えば、マイクロＬＥＤ）を、粘着剤層付の第２の硬質基板上に転写する場合、しなりにくい硬質基板を用いているため、第１の硬質基板を基板の主面に対して垂直方向に離間させることとなる。そうすると、電子部品に負荷がかかり当該電子部品が破損したり、転写不良が生じたり等の問題が生じる。
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、硬質基板を用いつつも、良好に部材（被加工品）の転写を行うことができる部材転写方法を提供することにある。
本発明の部材転写方法は、第１の硬質基板上に配置された部材を第２の硬質基板に転写する方法であって、第１の紫外線吸収層を介して、該第１の硬質基板と該部材とを積層して、積層体Ａを形成する工程と、その後、該積層体Ａを、該部材が該第２の硬質基板側となるようにして、該第２の硬質基板に固定し、積層体Ｂを形成する工程と、その後、該第１の紫外線吸収層に紫外線を照射して、該積層体Ｂから該第１の硬質基板を剥離する工程とを含む。
１つの実施形態において、上記第１の硬質基板と、上記部材との間に、粘着剤層が配置されている。
１つの実施形態において、上記第１の紫外線吸収層が、有機物から構成される。
１つの実施形態において、上記第１の紫外線吸収層が、無機物から構成される。
１つの実施形態において、上記第２の硬質基板上に、第２の紫外線吸収層が形成され、該第２の紫外線吸収層が、前記部材と前記第２の硬質基板との間に配置されている。
本発明の別の局面によれば、積層体が提供される。この積層体は、第１の硬質基板と、第１の紫外線吸収層と、部材と、第２の硬質基板とをこの順に備え、上記部材転写方法に用いられる。
本発明によれば、硬質基板を用いつつも、良好に部材（被加工品）の転写を行うことができる部材転写方法を提供することができる。
本発明の１つの実施形態による部材転写方法を説明する概略図である。 本発明の別の実施形態による部材転写方法を説明する概略図である。 本発明の別の実施形態による部材転写方法を説明する概略図である。
Ａ．部材転写法の概要
図１は、本発明の１つの実施形態による部材転写方法を説明する概略図である。図２は、本発明の別の実施形態による部材転写方法を説明する概略図である。本発明の部材転写方は、第１の硬質基板１０上に配置された部材３０を第２の硬質基板２０に転写する方法である。当該方法は、第１の紫外線吸収層４０を介して第１の硬質基板１０と部材３０とを積層して積層体Ａを形成する工程（以下、積層工程ともいう）と、その後、積層体Ａを、部材３０が第２の硬質基板２０側となるようにして、第２の硬質基板２０に固定し、積層体Ｂを形成する工程（以下、固定工程ともいう）と、その後、第１の紫外線吸収層４０に紫外線を照射して、上記積層体Ｂ（第２の硬質基板２０）から第１の硬質基板１０を剥離する工程（以下、剥離工程ともいう）を含む。紫外線吸収層（第１の紫外線吸収層４０、第２の紫外線吸収層５０（後述））とは、紫外線を吸収し得る特性を有する層であって、紫外線（好ましくは、ＵＶレーザー光）の照射により、その表面の一部または全部において、剥離性を示す層をいう。
上記部材は、特に限定されず、例えば、半導体素子、光半導体素子などの電子部品が、用いられ得る。固定工程前、上記部材は、第１の紫外線吸収層上に複数配置されていてもよく、１個配置されていてもよい。
上記部材ひとつあたりの載置面積は、例えば、１μｍ２～１ｃｍ２である。また、複数の部材が配置される場合、その間隔は、例えば、２μｍ～５ｍｍである。
１つの実施形態において、上記部材３０と上記第１の紫外線吸収層４０とは一体で用いられる。部材３０／第１の紫外線吸収層４０とから構成される構成体（例えば、電子部品）としては、例えば、無機物である第１の紫外線吸収層４０と組み合わされた部材３０が挙げられ、具体的には、例えば、第１の紫外線吸収層４０として、ＧａＮ（窒化ガリウム）系化合物結晶層を備える光半導体素子（ＬＥＤ）が挙げられる。この実施形態においては、図１に示すように、上記方法により、部材３０／第１の紫外線吸収層４０とから構成される構成体が、第１の硬質基板１０から第２の硬質基板２０に転写される。
別の実施形態においては、図２に示すように、剥離工程において、第１の硬質基板１０と第１の紫外線吸収層４０とを含む積層体が、積層体Ｂ（第１の硬質基板１０）から剥離され、したがって、上記転写方法により、部材３０と第１の紫外線吸収層４０とは離間する。本実施形態においては、第１の紫外線吸収層４０として、有機物である第１の紫外線吸収層４０が形成され得る。
本発明によれば、紫外線の照射により、硬質基板の剥離が実現できるため、部材に不要な負荷をかけることなく、当該部材の転写を完了させることができる。なお、積層工程と固定工程との間において、部材を加工する任意の適切な工程を行ってもよい。
Ｂ.積層工程
Ｂ－１．硬質基板
上記硬質基板（第１の硬質基板、第２の硬質基板）とは、曲げ弾性率が、１ＧＰａ以上である板上の成形体をいう。曲げ弾性率は、硬質基板を構成する材料に応じて、ＪＩＳ Ｋ７１７１またはＪＩＳ Ｒ１６０２にそれぞれ準拠して、４点曲げ試験により測定することができる。
上記硬質基板を構成する材料としては、任意の適切な材料が用いられ得る。硬質基板を構成する材料としては、例えば、ガラス、金属、シリコン、サファイア、プラスチック等が挙げられる。１つの実施形態においては、硬質基板としてポリエチレンテレフタレートから構成された硬質基板が用いられる。ポリエチレンテレフタレートから構成された硬質基板の厚みは、例えば、１００μｍ以上である。
上記硬質基板の紫外線（波長３６０ｎｍ）透過率は、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは８０％～９９．９％である。硬質基板が光透過性を有していれば、剥離工程における剥離を好ましく生じさせることができる。
第１の硬質基板と第２の硬質基板は、同じ構成であってもよく、異なる構成であってもよい。
Ｂ－２．第１の紫外線吸収層
１つの実施形態において、上記第１の紫外線吸収層は、有機物から構成される。別の実施形態においては、上記第１の紫外線吸収層は、無機物から構成される。
（有機物から構成される第１の紫外線吸収層）
有機物から構成される第１の紫外線吸収層は、初期には（すなわち、紫外線照射前には）粘着性を有し、紫外線照射後に粘着力が低下して剥離性を示す層であり得る。１つの実施形態においては、第１の紫外線吸収層は、部分的な紫外線照射（例えば、ＵＶレーザー光照射）により、部分的に粘着力が低下する層であり得る。
１つの実施形態において、有機物から構成される第１の紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を含む。好ましくは、有機物から構成される第１の紫外線吸収層は、活性エネルギー線硬化型粘着剤をさらに含む。
第１の紫外線吸収層が紫外線吸収剤を含むことにより、ＵＶレーザー光照射による被着体の剥離が可能となる。より詳細には、第１の紫外線吸収層にＵＶレーザー光を照射することにより、紫外線吸収剤が分解して発生するガス、および／または紫外線吸収剤が発熱することにより第１の紫外線吸収層が分解して発生するガスにより、第１の紫外線吸収層に変形が生じ、その結果、ＵＶレーザー光が照射された部分において、剥離性が発現する。
また、第１の紫外線吸収層が、活性エネルギー線硬化型粘着剤を含んでいれば、活性エネルギー線を照射することにより、第１の紫外線吸収層全体の粘着力が低下する。部材が貼着された第１の紫外線吸収層の全体に活性エネルギー線を照射して、粘着力を低下させた後に、上記のようにレーザー光を照射することにより、剥離後の糊残りを防止することができる。活性エネルギー線としては、例えば、ガンマ線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）、ラジオ波、アルファ線、ベータ線、電子線、プラズマ流、電離線、粒子線等が挙げられる。好ましくは、紫外線である。
上記有機物から構成される第１の紫外線吸収層の波長３５５ｎｍの光透過率は、好ましくは５０％以下である。当該光透過率を低くすることにより、剥離の際のレーザー出力を低くすることができる。第１の紫外線吸収層の波長３５５ｎｍの光透過率は、より好ましくは４０％以下であり、さらに好ましくは３０％以下である。このような範囲であれば、上記効果はより顕著となる。
有機物から構成される第１の紫外線吸収層をステンレス板に貼着した際の２３℃における初期粘着力は、好ましくは０．１Ｎ／２０ｍｍ～２０Ｎ／２０ｍｍであり、より好ましくは０．５Ｎ／２０ｍｍ～１５Ｎ／２０ｍｍである。このような範囲であれば、良好に部材を保持し得る紫外線吸収層を形成することができる。粘着力は、ＪＩＳ Ｚ ０２３７：２０００に準じて測定される。具体的には、２ｋｇのローラーを１往復により第１の紫外線吸収層をステンレス板（算術平均表面粗さＲａ：５０±２５ｎｍ）に貼着し、２３℃下で３０分間放置した後、剥離角度１８０°、剥離速度（引張速度）３００ｍｍ／ｍｉｎの条件で、第１の紫外線吸収層を引きはがして測定される。紫外線吸収層は、活性エネルギー線照射およびレーザー光照射により粘着力が変化するが、本明細書において、「初期粘着力」とは、活性エネルギー線およびレーザー光を照射する前の粘着力を意味する。
１つの実施形態においては、有機物から構成される第１の紫外線吸収層をステンレス板に貼着し、４６０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後の２３℃における粘着力は、好ましくは０．０１Ｎ／２０ｍｍ～２Ｎ／２０ｍｍであり、より好ましくは０．０２Ｎ／２０ｍｍ～１Ｎ／２０ｍｍである。このような範囲であれば、糊残り少なく部材の転写を行うことができる。上記紫外線照射は、例えば、紫外線照射装置（日東精機社製、商品名「ＵＭ－８１０」）を用いて、高圧水銀灯の紫外線（特性波長：３６５ｎｍ、積算光量：４６０ｍＪ／ｃｍ２、照射エネルギー：７０Ｗ／ｃｍ２、照射時間：６．６秒）を第１の紫外線吸収層に照射して行われる。
有機物から構成される第１の紫外線吸収層の厚みは、好ましくは５０μｍ以下である。このような範囲であれば、剥離の際のレーザー出力をより低くすることが可能となる。第１の紫外線吸収層の厚みは、４０μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以下であることがさらに好ましく、１μｍ～３０μｍであることより好ましい。このような範囲であれば、上記効果が顕著となる。
・紫外線吸収剤：
紫外線吸収剤としては、紫外線（例えば、波長３５５ｎｍ）を吸収する化合物であれば、任意の適切な紫外線吸収剤が用いられ得る。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、サリチレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等が挙げられる。なかでも好ましくは、トリアジン系紫外線吸収剤またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはトリアジン系紫外線吸収剤である。特に、粘着剤Ａとしてアクリル系粘着剤を用いる場合に、当該アクリル系粘着剤のベースポリマーとの相溶性が高いことから、トリアジン系紫外線吸収剤は好ましく用いられ得る。トリアジン系紫外線吸収剤は、水酸基を有する化合物から構成されていることがより好ましく、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物から構成された紫外線吸収剤（ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤）であることが特に好ましい。
ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－ヒドロキシフェニルと［（Ｃ１０－Ｃ１６（主としてＣ１２－Ｃ１３）アルキルオキシ）メチル］オキシランとの反応生成物（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ４００」、ＢＡＳＦ社製）、２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［３－（ドデシルオキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ］フェノール）、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジンと（２－エチルヘキシル）－グリシド酸エステルの反応生成物（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ４０５」、ＢＡＳＦ社製）、２，４－ビス（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ４６０」、ＢＡＳＦ社製）、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ １５７７」、ＢＡＳＦ社製）、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［２－（２－エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］－フェノール（商品名「アデカスタブ ＬＡ－４６」、（株）ＡＤＥＫＡ製）、２－（２－ヒドロキシ－４－［１－オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）－４，６－ビス（４－フェニルフェニル）－１，３，５－トリアジン（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ４７９」、ＢＡＳＦ社製）、ＢＡＳＦ社製の商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ４７７」などが挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ベンゾトリアゾール系化合物）としては、例えば、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ＰＳ」、ＢＡＳＦ社製）、ベンゼンプロパン酸および３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ（Ｃ７－９側鎖および直鎖アルキル）のエステル化合物（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ３８４－２」、ＢＡＳＦ社製）、オクチル３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル］プロピオネートおよび２－エチルヘキシル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２イル）フェニル］プロピオネートの混合物（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ １０９」、ＢＡＳＦ社製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ９００」、ＢＡＳＦ社製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８」、ＢＡＳＦ製）、メチル３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ １１３０」、ＢＡＳＦ社製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－ｐ－クレゾール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ」、ＢＡＳＦ社製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４」、ＢＡＳＦ社製）、２－［５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル］－４－メチル－６－（ｔｅｒｔ－ブチル）フェノール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６」、ＢＡＳＦ社製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェノール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２８」、ＢＡＳＦ社製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９」、ＢＡＳＦ社製）、２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール］（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ３６０」、ＢＡＳＦ社製）、メチル３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネートとポリエチレングリコール３００との反応生成物（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ２１３」、ＢＡＳＦ社製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ドデシル－４－メチルフェノール（商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ ５７１」、ＢＡＳＦ社製）、２－［２－ヒドロキシ－３－（３，４，５，６－テトラヒドロフタルイミド－メチル）－５－メチルフェニル］ベンゾトリアゾール（商品名「Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ２５０」、住友化学（株）製）、２－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（商品名「ＳＥＥＳＯＲＢ ７０３」、シプロ化成社製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－メチル－６－（３，４，５，６－テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール（商品名「ＳＥＥＳＯＲＢ ７０６」、シプロ化成社製）、２－（４－ベンゾイルオキシ－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（シプロ化成社製の商品名「ＳＥＥＳＯＲＢ ７０１２ＢＡ」）、２－ｔｅｒｔ－ブチル－６－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－メチルフェノール（商品名「ＫＥＭＩＳＯＲＢ ７３」、ケミプロ化成社製）、２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール］（商品名「アデカスタブ ＬＡ－３１」、（株）ＡＤＥＫＡ製）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－ｐ－セルロース（商品名「アデカスタブ ＬＡ－３２」、（株）ＡＤＥＫＡ製）、２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール（商品名「アデカスタブ ＬＡ－３６」、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
上記紫外線吸収剤は、染料または顔料であってもよい。顔料としては、例えば、アゾ系、フタロシアニン系、アントラキノン系、レーキ系、ペリレン系、ペリノン系、キナクリドン系、チオインジゴ系、ジオキサンジン系、イソインドリノン系、キノフタロン系等の顔料が挙げられる。染料としては、アゾ系、フタロシアニン系、アントラキノン系、カルボニル系、インジゴ系、キノンイミン系、メチン系、キノリン系、ニトロ系等の染料が挙げられる。
上記紫外線吸収剤を構成する化合物の分子量は、好ましくは１００～１５００であり、より好ましくは２００～１２００であり、さらに好ましくは２００～１０００である。このような範囲であれば、レーザー光照射により、より良好な変形部を形成し得る紫外線吸収層を形成することができる。
上記紫外線吸収剤の最大吸収波長は、好ましくは３００ｎｍ～４５０ｎｍであり、より好ましくは３２０ｎｍ～４００ｎｍであり、さらに好ましくは３３０ｎｍ～３８０ｎｍである。紫外線吸収剤の最大吸収波長と上記光重合開始剤の最大吸収波長との差は、好ましく１０ｎｍ以上であり、より好ましくは２５ｎｍ以上である。
上記紫外線吸収剤の５％重量減少温度は、好ましくは３５０℃以下であり、より好ましくは３３０℃以下である。紫外線吸収剤の５％重量減少温度の下限は、例えば、１００℃である。このような範囲であれば、レーザー光照射により、より良好な変形部を形成し得る紫外線吸収層を形成することができる。紫外線吸収剤の５％重量減少温度とは、紫外線吸収剤を昇温させた際の当該紫外線吸収剤の重量が、昇温前の重量に対して、５重量％減少した時点での温度を意味する。５％重量減少温度は、示差熱分析装置を用いて、昇温温度１０℃／分、空気雰囲気下、流量２５ｍｌ／分の測定条件で測定される。
上記紫外線吸収剤の含有割合は、第１の紫外線吸収層中のベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは１重量部～５０重量部であり、より好ましくは５重量部～２０重量部である。このような範囲であれば、活性エネルギー線の照射により紫外線吸収層全体の粘着力を良好に低下させる際に、紫外線吸収層の硬化が良好に進み、かつ、レーザー光照射により、良好な剥離性を示す紫外線吸収層を形成することができる。
・活性エネルギー線硬化型粘着剤：
１つの実施形態においては、活性エネルギー線硬化型粘着剤として、母剤となるベースポリマーと、該ベースポリマーと結合可能な活性エネルギー線反応性化合物（モノマーまたはオリゴマー）とを含む活性エネルギー線硬化型粘着剤（Ａ１）が用いられる。別の実施形態においては、ベースポリマーとして活性エネルギー線反応性ポリマーを含む活性エネルギー線硬化型粘着剤（Ａ２）が用いられる。好ましくは、上記ベースポリマーは、光重合開始剤と反応し得る官能基を有する。該官能基としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基等が挙げられる。
上記粘着剤（Ａ１）において用いられるベースポリマーとしては、例えば、天然ゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体ゴム、再生ゴム、ブチルゴム、ポリイソブチレンゴム、ニトリルゴム（ＮＢＲ）等のゴム系ポリマー；シリコーン系ポリマー；アクリル系ポリマー等が挙げられる。これらのポリマーは、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも好ましくは、アクリル系ポリマーである。
アクリル系ポリマーとしては、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステルなどの炭化水素基含有（メタ）アクリル酸エステルの単重合体または共重合体；該炭化水素基含有（メタ）アクリル酸エステルと他の共重合性モノマーとの共重合体等が挙げられる。（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸のメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、ｓ－ブチルエステル、ｔ－ブチルエステル、ペンチルエステル、イソペンチルエステル、ヘキシルエステル、ヘプチルエステル、オクチルエステル、２－エチルヘキシルエステル、イソオクチルエステル、ノニルエステル、デシルエステル、イソデシルエステル、ウンデシルエステル、ドデシルエステルすなわちラウリルエステル、トリデシルエステル、テトラデシルエステル、ヘキサデシルエステル、オクタデシルエステル、およびエイコシルエステルが挙げられる。（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸のシクロペンチルエステルおよびシクロヘキシルエステルが挙げられる。（メタ）アクリル酸アリールエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸フェニルおよび（メタ）アクリル酸ベンジルが挙げられる。上記炭化水素基含有（メタ）アクリル酸エステル由来の構成単位の含有割合は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以上であり、より好ましくは６０重量部以上である。
上記他の共重合性モノマーとしては、例えば、カルボキシ基含有モノマー、酸無水物モノマー、ヒドロキシ基含有モノマー、グリシジル基含有モノマー、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、アクリルアミド、およびアクリロニトリルなどの官能基含有モノマー等が挙げられる。カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、およびクロトン酸が挙げられる。酸無水物モノマーとしては、例えば、無水マレイン酸および無水イタコン酸が挙げられる。ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４－ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６－ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８－ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０－ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２－ヒドロキシラウリル、および（４－ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレートが挙げられる。グリシジル基含有モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジルおよび（メタ）アクリル酸メチルグリシジルが挙げられる。スルホン酸基含有モノマーとしては、例えば、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２－（メタ）アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、および（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸が挙げられる。リン酸基含有モノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートが挙げられる。アクリルアミドとしては、例えばＮ－アクリロイルモルホリンが挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記共重合性モノマー由来の構成単位の含有割合は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは６０重量部以下であり、より好ましくは４０重量部以下である。
アクリル系ポリマーは、そのポリマー骨格中に架橋構造を形成するために、多官能性モノマー由来の構成単位を含み得る。多官能性モノマーとして、例えば、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート（すなわち、ポリグリシジル（メタ）アクリレート）、ポリエステル（メタ）アクリレート、およびウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記多官能性モノマー由来の構成単位の含有割合は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以下であり、より好ましくは３０重量部以下である。
上記アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは１０万～３００万であり、より好ましくは２０万～２００万である。重量平均分子量は、ＧＰＣ（溶媒：ＴＨＦ）により測定され得る。
上記粘着剤（Ａ１）に用いられ得る上記活性エネルギー線反応性化合物としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、アセチレン基等の重合性炭素－炭素多重結合を有する官能基を有する光反応性のモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。該光反応性のモノマーの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物；多官能ウレタン（メタ）アクリレート；エポキシ（メタ）アクリレート；オリゴエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、メタクリロイソシアネート、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（２－イソシアナトエチルメタクリレート）、ｍ－イソプロペニル－α，α－ジメチルベンジルイソシアネート等のモノマーを用いてもよい。光反応性のオリゴマーの具体例としては、上記モノマーの２～５量体等が挙げられる。光反応性のオリゴマーの分子量は、好ましくは１００～３０００である。
また、上記活性エネルギー線反応性化合物として、エポキシ化ブタジエン、グリシジルメタクリレート、アクリルアミド、ビニルシロキサン等のモノマー；または該モノマーから構成されるオリゴマーを用いてもよい。
さらに、上記活性エネルギー線反応性化合物として、オニウム塩等の有機塩類と、分子内に複数の複素環を有する化合物との混合物を用いてもよい。該混合物は、活性エネルギー線（例えば、紫外線、電子線）の照射により有機塩が開裂してイオンを生成し、これが開始種となって複素環の開環反応を引き起こして３次元網目構造を形成し得る。上記有機塩類としては、例えば、ヨードニウム塩、フォスフォニウム塩、アンチモニウム塩、スルホニウム塩、ボレート塩等が挙げられる。上記分子内に複数の複素環を有する化合物における複素環としては、オキシラン、オキセタン、オキソラン、チイラン、アジリジン等が挙げられる。
上記粘着剤（Ａ１）において、活性エネルギー線反応性化合物の含有割合は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部～５００重量部であり、より好ましくは５重量部～３００重量部であり、さらに好ましくは４０重量部～１５０重量部である。
上記粘着剤（Ａ２）に含まれる活性エネルギー線反応性ポリマー（ベースポリマー）としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、アセチレン基等の炭素－炭素多重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。活性エネルギー線反応性ポリマーの具体例としては、多官能（メタ）アクリレートから構成されるポリマー；光カチオン重合型ポリマー；ポリビニルシンナマート等のシンナモイル基含有ポリマー；ジアゾ化されたアミノノボラック樹脂；ポリアクリルアミド；等が挙げられる。
１つの実施形態においては、上記アクリル系ポリマーの側鎖、主鎖および／または主鎖末端に、活性エネルギー線重合性の炭素－炭素多重結合が導入されて構成された活性エネルギー線反応性ポリマーが用いられる。アクリル系ポリマーへの放射線重合性の炭素－炭素二重結合の導入手法としては、例えば、所定の官能基（第１の官能基）を有するモノマーを含む原料モノマーを共重合させてアクリル系ポリマーを得た後、第１の官能基との間で反応を生じて結合しうる所定の官能基（第２の官能基）と放射線重合性炭素－炭素二重結合とを有する化合物を、炭素－炭素二重結合の放射線重合性を維持したままアクリル系ポリマーに対して縮合反応または付加反応させる方法が、挙げられる。
第１の官能基と第２の官能基の組み合わせとしては、例えば、カルボキシ基とエポキシ基、エポキシ基とカルボキシ基、カルボキシ基とアジリジル基、アジリジル基とカルボキシ基、ヒドロキシ基とイソシアネート基、イソシアネート基とヒドロキシ基が挙げられる。これら組み合わせのうち、反応追跡の容易さの観点からは、ヒドロキシ基とイソシアネート基の組み合わせや、イソシアネート基とヒドロキシ基の組み合わせが、好ましい。また、反応性の高いイソシアネート基を有するポリマーを作製するのは技術的難易度が高いところ、アクリル系ポリマーの作製または入手のしやすさの観点からは、アクリル系ポリマー側の上記第１の官能基がヒドロキシ基であり且つ上記第２の官能基がイソシアネート基である場合が、より好ましい。この場合、放射線重合性炭素－炭素二重結合と第２の官能基たるイソシアネート基とを併有するイソシアネート化合物としては、例えば、メタクリロイルイソシアネート、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、およびｍ－イソプロペニル－α，α－ジメチルベンジルイソシアネートが挙げられる。また、第１の官能基を有するアクリル系ポリマーとしては、上記のヒドロキシ基含有モノマー由来の構成単位を含むものが好ましく、２－ヒドロキシエチルビニルエーテルや、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングルコールモノビニルエーテルなどのエーテル系化合物由来の構成単位を含むものも好ましい。
上記粘着剤（Ａ２）は、上記活性エネルギー線反応性化合物（モノマーまたはオリゴマー）をさらに含んでいてもよい。
上記活性エネルギー線硬化型粘着剤は、光重合開始剤を含み得る。
光重合開始剤としては、任意の適切な開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、α－ヒドロキシ－α，α’－ジメチルアセトフェノン、２－メチル－２－ヒドロキシプロピオフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα－ケトール系化合物；メトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）－フェニル］－２－モルホリノプロパン－１等のアセトフェノン系化合物；ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物；ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物；２－ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物；１－フェノン－１，１―プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム等の光活性オキシム系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；チオキサンソン、２－クロロチオキサンソン、２－メチルチオキサンソン、２，４－ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４－ジクロロチオキサンソン、２，４－ジエチルチオキサンソン、２，４－ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物；カンファーキノン；ハロゲン化ケトン；アシルホスフィノキシド；アシルホスフォナート等が挙げられる。光重合開始剤の使用量は、任意の適切な量に設定され得る。
１つの実施形態においては、４００ｎｍ以下（好ましくは３８０ｎｍ以下、より好ましくは３４０ｎｍ以下）の範囲に最大吸収波長を有する光重合開始剤が用いられる。このような光重合開始剤を用いれば、活性エネルギー線を照射することにより紫外線吸収層全体の粘着力低下させる際、粘着剤の硬化反応が好ましく生じ、糊残りの特に少ない紫外線吸収層を形成することができる。
上記光重合開始剤として、市販品を用いてもよい。例えば、４００ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長を有する光重合開始剤として、ＢＡＳＦ社製の商品名「イルガキュア１２７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア３６９Ｅ」、「イルガキュア３７９」、「イルガキュア３７９ＥＧ」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュアＴＯＰ」、「イルガキュア７８４」、「イルガキュアＯＸＥ０１」等が挙げられる。
１つの実施形態においては、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤は、光増感剤を含み得る。
１つの実施形態においては、上記光増感剤は、上記光重合開始剤と併用され得る。当該光増感剤は、自らが光を吸収して得たエネルギーを光重合開始剤に渡すことで、光重合開始剤からラジカルを発生させることができるため、光重合開始剤自身の吸収ピークが無い長波長側の光で重合を進行させることができる。このため、光増感剤を含有させることにより、上記紫外線吸収剤の吸収波長と光重合開始剤からラジカルを発生さることが可能な波長との差を大きくすることが可能となる。その結果、第１の紫外線吸収層の光重合と紫外線吸収剤による剥離を互いに影響せずに行うことができる。１つの実施形態においては、光重合開始剤としての２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（例えば、ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア６５１」）と、光増感剤とが併用される。このような光増感剤としては、川崎化成工業株式会社製の商品名「ＵＶＳ－５８１」、９，１０－ジエトキシアントラセン（例えば、川崎化成工業社製、商品名「ＵＶＳ１１０１」）等が挙げられる。
上記光増感剤のその他の例としては、９，１０－ジブトキシアントラセン（例えば、川崎化成工業社製、商品名「ＵＶＳ－１３３１」）、２－イソプロピルチオキサントン、ベンゾフェノン、チオキサントン誘導体、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン誘導体としては、例えば、エトキシカルボニルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン等が挙げられる。
上記光増感剤の含有割合は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部～２重量部であり、より好ましくは０．５重量部～２重量部である。
好ましくは、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤は、架橋剤を含む。架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、アミン系架橋剤等が挙げられる。
上記架橋剤の含有割合は、粘着剤のベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは０．５重量部～１０重量部であり、より好ましくは１重量部～８重量部である。
１つの実施形態においては、イソシアネート系架橋剤が好ましく用いられる。イソシアネート系架橋剤は、多種の官能基と反応し得る点で好ましい。上記イソシアネート系架橋剤の具体例としては、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類；シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類；２，４－トリレンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類；トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート３量体付加物（日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートＬ」）、トリメチロールプロパン／へキサメチレンジイソシアネート３量体付加物（日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートＨＬ」）、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートＨＸ」）等のイソシアネート付加物；等が挙げられる。好ましくは、イソシアネート基を３個以上有する架橋剤が用いられる。
活性エネルギー線硬化型粘着剤は、必要に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、活性エネルギー線重合促進剤、ラジカル捕捉剤、粘着付与剤、可塑剤（例えば、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸エステル系可塑剤等）、顔料、染料、充填剤、老化防止剤、導電材、帯電防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、剥離調整剤、軟化剤、界面活性剤、難燃剤、酸化防止剤等が挙げられる。
（無機物から構成される第１の紫外線吸収層）
上記のとおり、無機物から構成される第１の紫外線吸収層と上記部材とは、組み合わせて用いられ得、ひとつの構成体（例えば、電子部品）を構成し得る。すなわち、無機物から構成される第１の紫外線吸収層は、上記構成体（例えば、電子部品）の一部であり得る。
上記のような無機物から構成される第１の紫外線吸収層は、エピタキシャル層であり得る。上記のような無機物から構成される第１の紫外線吸収層としては、例えば、ＧａＮ（窒化ガリウム）系化合物結晶層等のIII族の窒化物からなる層が挙げられる。
無機物から構成される第１の紫外線吸収層は、いわゆるレーザーリフトオフの手法により剥離性を発現する。例えば、高密度ＵＶレーザー光が照射されることにより、無機物から構成される第１の紫外線吸収層が分解して、その結果、第１の紫外線吸収層と第１の硬質基板とが離間する。レーザーリフトオフの詳細は、例えば、国際公開第２０１２／０１１２０２号に記載されており、当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
Ｂ－３．粘着剤層
上記積層体Ａは、粘着剤層を備えていてもよい。１つの実施形態においては、第１の硬質基板と部材との間に粘着剤層が配置され得る。例えば、第１の硬質基板と第１の紫外線吸収層との間に、粘着剤層が配置され得る。また、粘着剤層と第１の紫外線吸収層とは、任意の適切な基材を介して、積層されていてもよい。基材としては、任意の適切な樹脂から構成された基材が用いられ得る。
１つの実施形態において、上記粘着剤層は、紫外線硬化型の粘着剤を含む。当該粘着剤層は、紫外線照射により粘着力が向上する粘着剤層であってもよく、紫外線照射により粘着力が低下する粘着剤層であってもよい。粘着剤としては、例えば、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤が用いられ得る。別の実施形態においては、上記粘着剤層は、感圧粘着剤を含む。感圧粘着剤としては、常用の粘着剤が用いられ得る。
Ｃ.固定工程
上記積層工程により、積層体Ａ（第１の硬質基板１０／第１の紫外線吸収層４０／部材３０）を形成した後、固定工程において、当該積層体Ａを第２の硬質基板２０上に固定する。
（第２の硬質基板）
第２の硬質基板としては、Ｂ－１項で説明した硬質基板が用いられ得る。
図１および図２に示すように、第２の硬質基板２０上には、第２の紫外線吸収層５０または粘着剤層が形成され得る。第２の紫外線吸収層５０は、部材３０と第２の硬質基板２０との間に配置され得る。第２の紫外線吸収層５０としては、有機物から構成される層であることが好ましい。このような紫外線吸収層としては、「有機物から構成される第１の紫外線吸収層」の項で説明した紫外線吸収層が挙げられ、すなわち、第２の紫外線吸収層５０は、初期には（すなわち、紫外線照射前には）粘着性を有し、紫外線照射後に粘着力が低下して剥離性を示す層であり得る。第２の紫外線吸収層５０が形成されていれば、剥離工程の後に、第２の硬質基板２０／第２の紫外線吸収層５０／部材３０を含む積層体Ｃをさらなる移送工程に供し、レーザー光照射により積層体Ｃから容易に部材を剥離することができ、転写効率を向上させることができる。
第２の硬質基板２０上に第２の紫外線吸収層５０が形成される場合、当該第２の硬質基板２０と第２の紫外線吸収層５０との間に、粘着剤層が配置されていてもよい。１つの実施形態において、上記粘着剤層は、紫外線硬化型の粘着剤を含む。当該粘着剤層は、紫外線照射により粘着力が向上する粘着剤層であってもよく、紫外線照射により粘着力が低下する粘着剤層であってもよい。粘着剤としては、例えば、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤が用いられ得る。
Ｄ.剥離工程
剥離工程においては、上記固定工程により形成された積層体Ｂ（第１の硬質基板１０／第１の紫外線吸収層４０／部材３０／（第２の紫外線吸収層５０）／第２の硬質基板２０）の第１の紫外線吸収層４０に紫外線（好ましくは、ＵＶレーザー光）を照射して、第１の硬質基板１０から部材３０を剥離する。紫外線照射の諸条件は、第１の紫外線吸収層４０に剥離性を生じさせ得る限り、第１の紫外線吸収層４０の構成に応じて、任意の適切条件とすることができる。
１つの実施形態において、第１の紫外線吸収層が、有機物から構成される場合（好ましくは、紫外線吸収剤を含む場合）、波長２００ｎｍ～３８０ｎｍのレーザー光を任意の適切な出力（例えば、０．０１Ｗ～６Ｗ、好ましくは０．０５Ｗ～５Ｗ）で第１の紫外線吸収層に照射することにより、紫外線吸収剤が分解して発生するガス、および／または紫外線吸収剤が発熱することにより粘着剤層が分解して発生するガスにより、第１の紫外線吸収層に変形が生じ、その結果、レーザー光が照射された部分において、剥離性が発現する。
第１の紫外線吸収層が、有機物から構成される場合（好ましくは、紫外線吸収剤を含む場合）であって、当該第１の紫外線吸収層が、活性エネルギー線硬化型粘着剤を含む場合、上記のようにＵＶレーザー光を照射する前に、活性エネルギー線を第１の紫外線吸収層の全体に照射して、第１の紫外線吸収層の粘着力を低下させてもよい。活性エネルギー線としては、例えば、ガンマ線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）、ラジオ波、アルファ線、ベータ線、電子線、プラズマ流、電離線、粒子線等が挙げられる。好ましくは、紫外線である。紫外線の波長としては、好ましくは３００ｎｍ～４００ｎｍである。照射量は、例えば、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２～１５００ｍＪ／ｃｍ２である。このように、レーザー光照射の前に、活性エネルギー線を照射すれば、糊残りを防止して、部材を転写することができる。
１つの実施形態において、第１の紫外線吸収層が、無機物から構成される場合、第１の紫外線吸収層を構成する材料の吸収端波長よりも短く、第１の硬質基板の吸収端波長よりも長い波長を有するレーザー光（エキシマレーザー光）が、第１の紫外線吸収層に照射される。例えば、第１の紫外線吸収層が、ＧａＮ（窒化ガリウム）系化合物結晶層である場合、ＧａＮの吸収端波長（３６５ｎｍ）よりも短く、サファイア基板の吸収端波長（１８０ｎｍ）よりも長い波長を有する、例えば、波長２４８ｎｍのエキシマレーザーが利用される。
上記のようにして、第１の紫外線吸収層に剥離性を生じさせることにより、積層体Ｂから第１の硬質基板１０を剥離して、上記部材３０（実質的には、第１の紫外線吸収層４０と部材３０とから構成される構成体）を第２の硬質基板２０上に転写することができる。あるいは、積層体Ｂから、第１の硬質基板１０および第１の紫外線吸収層４０を剥離して、上記部材３０を第２の硬質基板２０上に転写することができる。
Ｅ．部材転写法の応用
１つの実施形態において、上記部分転写方法を複数回繰り返して、上記部材は、次々に転写され得る。この実施形態においては、上記第２の硬質基板上に第２の紫外線吸収層が形成されていることが好ましい。第２の紫外線吸収層は、上記のとおり、初期には（すなわち、紫外線照射前には）粘着性を有し、紫外線照射後に粘着力が低下して剥離性を示す層であり得る。第２の紫外線吸収層５０が形成されていれば、転写効率を向上させることができる。
具体的には、図３に示すように、上記剥離工程を経て得られた積層体Ｃ（図３（ａ）～（ｂ））を、第３の硬質基板６０上に積層し（図３（ｃ）～（ｄ））、その後、第２の紫外線吸収層５０に紫外線を照射して（図３（ｅ））、上記第２の硬質基板２０から部材３０を剥離する（図３（ｆ））。上記のとおり、積層体Ｃは、第２の硬質基板／第２の紫外線吸収層／部材、または、第２の硬質基板／第２の紫外線吸収層／部材／第１の紫外線吸収層の構成をとりうる。積層体Ｃを第３の硬質基板６０に積層する際には、積層体Ｃの第２の硬質基板２０とは反対側の面（図示例では、部材３０）が、第３の硬質基板６０側となるように、当該積層体Ｃが配置される。
第３の硬質基板としては、Ｂ－１項で説明した硬質基板が用いられ得る。
第３の硬質基板６０上には、第３の紫外線吸収層７０または粘着剤層が形成され得る。第３の紫外線吸収層７０は、部材３０と第３の硬質基板６０との間に配置され得る。第３の紫外線吸収層７０としては、有機物から構成される層であることが好ましい。このような紫外線吸収層としては、「有機物から構成される第１の紫外線吸収層」の項で説明した紫外線吸収層が挙げられ、すなわち、第３の紫外線吸収層７０は、初期には（すなわち、紫外線照射前には）粘着性を有し、紫外線照射後に粘着力が低下して剥離性を示す層であり得る。第３の紫外線吸収層７０が形成されていれば、剥離工程の後に、第３の硬質基板６０／第３の紫外線吸収層７０／部材３０を含む積層体Ｄをさらなる移送工程に供し、レーザー光照射により積層体Ｄから容易に部材３０を剥離することができ、転写効率を向上させることができる。
第３の硬質基板上に第３の紫外線吸収層が形成される場合、当該第３の硬質基板と第３の紫外線吸収層との間に、粘着剤層が配置されていてもよい。１つの実施形態において、上記粘着剤層は、紫外線硬化型の粘着剤を含む。当該粘着剤層は、紫外線照射により粘着力が向上する粘着剤層であってもよく、紫外線照射により粘着力が低下する粘着剤層であってもよい。粘着剤としては、例えば、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤が用いられ得る。
１つの実施形態においては、上記第２の紫外線吸収層が紫外線硬化型粘着剤を含む層であって、上記積層体Ｃを第３の硬質基板に積層する前に、当該第２の紫外線吸収層に紫外線を照射して、当該第２の紫外線吸収層の粘着力を低下させる。紫外線照射の条件としては、例えば、紫外線の波長３００ｎｍ～４００ｎｍで、照射量は、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２～１５００ｍＪ／ｃｍ２である。このように、第３の硬質基板に積層する前に、活性エネルギー線を照射すれば、部材を転写性を向上することができる。
上記の操作を繰り返すことに、上記部材を、次々に転写することができる。
［実施例１－１］
図２で説明されるように、エピタキシャル層４０（第１の紫外線吸収層４０）を介して表面に光半導体素子３０（部材３０）を形成したサファイア基板１０（第１の硬質基板１０）を用意した。
次いで、紫外線吸収剤を含む紫外線硬化型粘着剤層５０（第２の紫外線吸収層５０）が積層されたガラス基板２０（第２の硬質基板２０）上に、上記光半導体素子３０（部材３０）を接合した。
エピタキシャル層４０（第１の紫外線吸収層４０）に紫外線レーザー光（波長：２４８ｎｍ、照射エネルギー：１０００Ｊ／ｃｍ２）を照射して、サファイア基板１０（第１の硬質基板１０）を剥離することによって、光半導体素子３０（部材３０）をサファイア基板１０（第１硬質基板１０）から、ガラス基板２０（第２の硬質基板２０）に転写した。当該方法によれば、部材を破壊することなく、転写することが可能であった。
［実施例１－２］
実施例１と同様の工程を行い、第２の硬質基板２０上に、紫外線硬化型粘着剤層５０（第２の紫外線吸収層５０）を介して配置された光半導体素子３０（部材３０）が配置されて構成された積層体Ｃを得た。
次いで、ガラス基板２０（第２の硬質基板２０）を通して紫外線（波長：３５５ｎｍ～３６５ｎｍ、積算光量：１３８０ｍＪ／ｃｍ２）を、紫外線硬化型粘着剤層５０（第２の紫外線吸収層５０）に照射し、当該粘着剤層を硬化し、当該粘着剤層の光半導体素子３０（部材３０）に対する粘着力を低下させた（図示せず）。
次いで、図３で説明されるように、紫外線吸収剤を含む紫外線硬化型粘着剤層７０（第３の紫外線吸収層７０）が積層されたガラス基板６０（第３の硬質基板６０）上に、上記光半導体素子３０（部材３０）を接合した。
次いで、紫外線硬化型粘着剤層５０（第２の紫外線吸収層５０）に、紫外線レーザー光（波長：３５５ｎｍ、照射エネルギー：１０Ｊ／ｃｍ２）を照射して、光半導体素子３０（部材３０）を剥離することによって、光半導体素子（部材）をガラス基板（第２の硬質基板）から、ガラス基板（第３の硬質基板）に転写した。当該方法によれば、部材を破壊することなく、転写することが可能であった。
［実施例２－１、－２］
紫外線硬化型粘着剤層５０（第２の紫外線吸収層５０）を単層で構成したことに代えて、紫外線硬化型粘着剤層５０（第２の紫外線吸収層５０）とＰＥＴ基材と感圧粘着剤層とから構成される両面粘着シートを用い、紫外線硬化型粘着剤層７０（第３の紫外線吸収層７０）を単層で構成したことに代えて、紫外線硬化型粘着剤層７０（第３の紫外線吸収層７０）とＰＥＴ基材と感圧粘着剤層とから構成される両面粘着シートを用いたこと以外は、実施例１－１および１－２と同様にして、部材３０の転写を行った。当該方法によっても、部材を破壊することなく、転写することが可能であった。
１０ 第１の硬質基板
２０ 第２の硬質基板
３０ 部材
４０ 第１の紫外線吸収層
５０ 第２の紫外線吸収層
６０ 第３の硬質基板
７０ 第３の紫外線吸収層

Claims (6)

  1. 第１の硬質基板上に配置された部材を第２の硬質基板に転写する方法であって、
    第１の紫外線吸収層を介して、該第１の硬質基板と該部材とを積層して、積層体Ａを形成する工程と、その後、
    該積層体Ａを、該部材が該第２の硬質基板側となるようにして、該第２の硬質基板に固定し、積層体Ｂを形成する工程と、その後
    該第１の紫外線吸収層に紫外線を照射して、該積層体Ｂから該第１の硬質基板を剥離する工程とを含む、
    部材転写方法。
  2. 前記第１の硬質基板と、前記部材との間に、粘着剤層が配置されている、請求項１に記載の部材転写方法。
  3. 前記第１の紫外線吸収層が、有機物から構成される、請求項１または２に記載の部材転写方法。
  4. 前記第１の紫外線吸収層が、無機物から構成される、請求項１または２に記載の部材転写方法。
  5. 前記第２の硬質基板上に、第２の紫外線吸収層が形成され、
    該第２の紫外線吸収層が、前記部材と前記第２の硬質基板との間に配置されている、
    請求項１から４のいずれかに記載の部材転写方法。
  6. 第１の硬質基板と、第１の紫外線吸収層と、部材と、第２の硬質基板とをこの順に備え、
    請求項１から５のいずれかに記載の部材転写方法に用いられる、
    積層体。
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