JP2022017024A - ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
2.電子デバイスの製造装置の説明
3.比較例の極端紫外光生成装置の説明
3.1 構成
3.2 動作
3.3 課題
4.実施形態1のターゲット供給装置の説明
4.1 構成
4.2 作用・効果
5.実施形態2のターゲット供給装置の説明
5.1 構成
5.2 作用・効果
6.実施形態3のターゲット供給装置の説明
6.1 構成
6.2 作用・効果
7.実施形態4のターゲット供給装置の説明
7.1 構成
7.2 作用・効果
以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
本開示の実施形態は、極端紫外(EUV)と呼ばれる波長の光を生成する極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造装置に関するものである。なお、以下では、極端紫外光をEUV光という場合がある。
図1に示すように、電子デバイス製造装置は、EUV光生成装置100及び露光装置200を含む。露光装置200は、複数のミラー211,212を含むマスク照射部210と、複数のミラー221,222を含むワークピース照射部220とを含む。マスク照射部210は、EUV光生成装置100から入射したEUV光101によって、反射光学系を介してマスクテーブルMTのマスクパターンを照明する。ワークピース照射部220は、マスクテーブルMTによって反射されたEUV光101を、反射光学系を介してワークピーステーブルWT上に配置された不図示のワークピース上に結像させる。ワークピースはフォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置200は、マスクテーブルMTとワークピーステーブルWTとを同期して平行移動させることにより、マスクパターンを反映したEUV光101をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで半導体デバイスを製造することができる。
3.1 構成
比較例のEUV光生成装置100について説明する。なお、本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。
次に、比較例のEUV光生成装置100の動作について説明する。EUV光生成装置100では、例えば、新規導入時やメンテナンス時等において、チャンバ装置10の内部空間の大気が排気される。その際、大気成分の排気のために、チャンバ装置10の内部空間のパージと排気とを繰り返してもよい。パージガスには、例えば、窒素やアルゴンなどの不活性ガスが用いられることが好ましい。その後、チャンバ装置10の内部空間の圧力が所定の圧力以下になると、プロセッサ120は、ガス供給装置から中心側ガス供給部81を介してチャンバ装置10の内部空間へのエッチングガスの導入を開始させる。このときプロセッサ120は、チャンバ装置10の内部空間の圧力が所定の圧力に維持されるように、不図示の供給ガス流量調節部や排気ポンプ60を制御してもよい。その後、プロセッサ120は、エッチングガスの導入開始から所定時間が経過するまで待機する。
タンク41内の圧力が所定値よりも高くなると、ターゲット物質であるスズは、タンク流路414とノズル流路424との連通部から底面410a及び上面42aの間の微小な隙間を介して封止部材500に向かって漏れ出てしまい、封止部材500に接触してしまうことがある。封止部材500の材質は、タンク本体410及びノズル42のそれぞれの材質とは異なっている。この場合、ターゲット物質に接触する封止部材500は、タンク本体410及びノズル42に比べてターゲット物質との反応性が高くなることがあり、タンク本体410及びノズル42よりも先にターゲット物質によって侵食及び腐食されてしまう懸念がある。侵食及び腐食によって、封止部材500はタンク本体410及びノズル42よりも早く劣化してしまい、タンク本体410及びノズル42への封止部材500の密着が弱まる。密着が弱まると、封止部材500とタンク本体410及びノズル42とのそれぞれの間に隙間が生じ、隙間からターゲット供給装置40の外部にターゲット物質が漏れる懸念がある。従って、ターゲット供給装置40の使用可能期間が予め想定した想定期間よりも短くなる懸念がある。
次に、実施形態1のターゲット供給装置40の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
図4は、本実施形態におけるターゲット供給装置40を含む一部の概略構成例を示す模式図である。図4では、図3と同様に、圧力調節器43、ヒータ44、及び温度センサ45といったターゲット供給装置40の構成の一部が省略されている。
P=Pi(1+α)。
本実施形態のターゲット供給装置40では、第1内包部材はタンク本体410であり、第2内包部材はノズル42である。封止部510は、タンク本体410に一体に形成されており、底面410aから上面42aに向かって延在し、上面42aに密着する。締結部材600は、封止部510を上面42aに押圧する。封止部510は、締結部材600による上面42aへの押圧によって塑性変形し、塑性変形によって連通部440の周囲における底面410a及び上面42aの間の空間を封止する。
次に、実施形態2のターゲット供給装置40の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
図5は、本実施形態におけるターゲット供給装置40を含む一部の概略構成例を示す模式図である。図5では、図3と同様に、圧力調節器43、ヒータ44、及び温度センサ45といったターゲット供給装置40の構成の一部が省略されている。
本実施形態のターゲット供給装置40では、第1内包部材はタンク本体410であり、第2内包部材はノズル42である。封止部510は、ノズル42に一体に形成されており、上面42aから底面410aに向かって延在し、底面410aに密着する。締結部材600は、封止部510を底面410aに押圧する。封止部510は、締結部材600による底面410aへの押圧によって塑性変形し、塑性変形によって連通部440の周囲における底面410a及び上面42aの間の空間を封止する。
次に、実施形態3のターゲット供給装置40の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
図6は、本実施形態におけるターゲット供給装置40を含む一部の概略構成例を示す模式図である。図6では、図3と同様に、圧力調節器43、ヒータ44、及び温度センサ45といったターゲット供給装置40の構成の一部が省略されている。
本実施形態のターゲット供給装置40では、延在部700は、タンク本体410の一部であり、底面410aから上面42aに向かって延在している。延在部700は、タンク本体410及びノズル42の締結によって封止部510よりも後にノズル42の上面42aと当接する。
次に、実施形態4のターゲット供給装置40の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
図8は、本実施形態におけるターゲット供給装置40を含む一部の概略構成例を示す模式図である。図8では、図3と同様に、圧力調節器43、ヒータ44、及び温度センサ45といったターゲット供給装置40の構成の一部が省略されている。
本実施形態のターゲット供給装置40では、タンク本体410及びフィルタケース800において、第1内包部材はタンク本体410であり、第2内包部材はフィルタケース800である。封止部510は、タンク本体410に一体に形成されており、底面410aから上面810aに向かって延在し、上面810aに密着する。締結部材600aは、上面810aを封止部510に押圧する。封止部510は、締結部材600aによる上面810aへの押圧によって塑性変形し、塑性変形によって連通部440aの周囲における底面410a及び上面810aの間の空間を封止する。
本明細書及び特許請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。たとえば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、不定冠詞「1つの」は、「少なくとも1つ」又は「1又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「A、B及びCの少なくとも1つ」という用語は、「A」「B」「C」「A+B」「A+C」「B+C」又は「A+B+C」と解釈されるべきである。さらに、それらと「A」「B」「C」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。
Claims (15)
- ターゲット物質を内包する第1内包部材と、
前記第1内包部材から流れ込む前記ターゲット物質を内包する第2内包部材と、
前記第1内包部材及び前記第2内包部材の一方に一体に形成されており、前記一方の内包部材から他方の内包部材に向かって延在し、前記第1内包部材及び前記第2内包部材の間の連通部を全周に渡って囲い、前記他方の内包部材に密着するリング状の封止部と、
前記第1内包部材が前記連通部を介して前記第2内包部材と連通するように前記第1内包部材及び前記第2内包部材を互いに締結し、締結によって前記他方の内包部材に前記封止部を押圧する締結部材と、
を備え、
前記封止部は、前記締結部材による前記他方の内包部材への押圧によって塑性変形し、塑性変形によって前記連通部の周囲における前記第1内包部材及び前記第2内包部材の間の空間を封止する
ターゲット供給装置。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記他方の内包部材に密着する前記封止部の密着面の面圧をPとし、前記封止部によって封止される前記空間の内圧をPiとし、安全係数をαとすると、前記面圧Pは、以下の式から算出される
P=Pi(1+α)。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記封止部の外径は、前記一方の内包部材から前記他方の内包部材に向かって徐々に小さくされ、
前記封止部の内径は、前記一方の内包部材から前記他方の内包部材に向かって徐々に大きくされる。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記封止部の内周面は、前記一方の内包部材の内周面と連続する。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記一方の内包部材のうちの前記封止部が連続する面は、平面であり、前記他方の内包部材に密着する前記封止部の密着面よりも前記他方の内包部材から離間している。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記他方の内包部材に密着する前記封止部の密着面及び前記他方の内包部材のうちの前記密着面が密着する面は、平面である。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記第1内包部材、前記第2内包部材、及び前記締結部材のそれぞれの熱膨張係数は、互いに同じである。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記締結部材は、前記封止部の径方向において前記封止部よりも外側に配置される。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記一方の内包部材に一体に形成され、前記一方の内包部材から前記他方の内包部材に向かって延在する延在部をさらに備え、
前記延在部は、前記一方の内包部材及び前記他方の内包部材の締結前において前記封止部よりも前記他方の内包部材から離間しており、前記一方の内包部材及び前記他方の内包部材の締結によって前記封止部よりも後に前記他方の内包部材と当接する。 - 請求項9に記載のターゲット供給装置であって、
前記締結部材は、前記封止部の径方向において前記封止部よりも外側に配置され、
前記延在部は、リング状であり、前記封止部の径方向において前記締結部材よりも外側に位置し、前記封止部と前記締結部材とを全周に渡って囲う。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記第1内包部材は、前記ターゲット物質を内部空間に貯蔵するタンク本体であり、
前記第2内包部材は、前記タンク本体に締結されて、前記タンク本体から流れ込む前記ターゲット物質を吐出するノズルである。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記第1内包部材は、前記ターゲット物質を内部空間に貯蔵するタンク本体であり、
前記第2内包部材は、前記タンク本体及び前記ターゲット物質を吐出するノズルの間に配置され、前記タンク本体に締結されるフィルタケースである。 - 請求項1に記載のターゲット供給装置であって、
前記第1内包部材は、前記ターゲット物質を内部空間に貯蔵するタンク本体から前記ターゲット物質が流れ込むフィルタケースであり、
前記第2内包部材は、前記フィルタケースに締結されて、前記フィルタケースから流れ込む前記ターゲット物質を吐出するノズルである。 - プラズマ生成領域を含むチャンバ装置と、
前記プラズマ生成領域にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、
前記プラズマ生成領域において前記ターゲット物質からプラズマが生成されるように前記ターゲット物質にレーザ光を照射するレーザ装置と、
を備え、
前記ターゲット供給装置は、
前記ターゲット物質を内包する第1内包部材と、
前記第1内包部材から流れ込む前記ターゲット物質を内包する第2内包部材と、
前記第1内包部材及び前記第2内包部材の一方に一体に形成されており、前記一方の内包部材から他方の内包部材に向かって延在し、前記第1内包部材及び前記第2内包部材の間の連通部を全周に渡って囲い、前記他方の内包部材に密着するリング状の封止部と、
前記第1内包部材が前記連通部を介して前記第2内包部材と連通するように前記第1内包部材及び前記第2内包部材を互いに締結し、締結によって前記他方の内包部材に前記封止部を押圧する締結部材と、
を備え、
前記封止部は、前記締結部材による前記他方の内包部材への押圧によって塑性変形し、塑性変形によって前記連通部の周囲における前記第1内包部材及び前記第2内包部材の間の空間を封止する
極端紫外光生成装置。 - プラズマ生成領域を含むチャンバ装置と、
前記プラズマ生成領域にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、
前記プラズマ生成領域において前記ターゲット物質からプラズマが生成されるように前記ターゲット物質にレーザ光を照射するレーザ装置と、
を備え、
前記ターゲット供給装置は、
前記ターゲット物質を内包する第1内包部材と、
前記第1内包部材から流れ込む前記ターゲット物質を内包する第2内包部材と、
前記第1内包部材及び前記第2内包部材の一方に一体に形成されており、前記一方の内包部材から他方の内包部材に向かって延在し、前記第1内包部材及び前記第2内包部材の間の連通部を全周に渡って囲い、前記他方の内包部材に密着するリング状の封止部と、
前記第1内包部材が前記連通部を介して前記第2内包部材と連通するように前記第1内包部材及び前記第2内包部材を互いに締結し、締結によって前記他方の内包部材に前記封止部を押圧する締結部材と、
を備え、
前記封止部は、前記締結部材による前記他方の内包部材への押圧によって塑性変形し、塑性変形によって前記連通部の周囲における前記第1内包部材及び前記第2内包部材の間の空間を封止する極端紫外光生成装置によって、前記ターゲット物質に前記レーザ光を照射することによって前記プラズマを生成し、前記プラズマから生成される極端紫外光を露光装置に出射し、
電子デバイスを製造するために、前記露光装置によって感光基板上に前記極端紫外光を露光すること
を含む電子デバイスの製造方法。
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