JP2022008512A - 基板保持デバイス、そのようなデバイスを製造するための方法、ならびに、サンプルを処理または像形成するための装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、保持プレートと、ベースプレートと、サポートのアレイと、熱吸収材料のドロップレットのアレイとを備える基板保持デバイスに関する。保持プレートは、基板を保持するための第1の側部を備える。ベースプレートは、保持プレートから所定の距離に配置されており、第1の側部の反対側の保持プレートの側部において、ベースプレートと保持プレートとの間にギャップを提供する。サポートのアレイは、保持プレートとベースプレートとの間に配置されている。液体および/または固体のドロップレットのアレイは、保持プレートとベースプレートとの間に配置されており、ドロップレットは、ベースプレートと保持プレートの両方に接触するように配置されている。
【選択図】 図1
Description
貯蔵することによって、温度安定化を提供することが可能である。PCM材料は、ターゲットまたは基板および基板保持デバイスが安定化されることになる温度を依然としてしっかりと制御しながら、冷却剤導管なしで適用され得る。そのような熱貯蔵および安定化システムを実現するために示される材料は、パラフィンワックスおよびRubitherm(登録商標)PXを備える。PCMは、PCM粉末として、または、結合したPCMとして提供され得る。
吸収材料を備える温度安定化システムを開示している。熱吸収材料は、基板を処理する材料の所望の温度範囲の中にある固体-液体相転移温度によって特徴付けられている。米国特許第7,528,349号によれば、熱吸収材料は、キャリアの上部に配設された平坦な層として提供され得、キャリアの表面の中の1つまたは複数の陥没部を充填するように配設され得、または、熱吸収材料によって凹部を充填することによって、キャリアの中に埋め込まれ得る。熱吸収材料は、基板と直接接触して配置されるか、または、適切な熱的に伝導する層と直接接触して配置され、適切な熱的に伝導する層は、両方の基板と十分な熱的接触をしている。たとえば、荷電粒子ビームリソグラフィシステムにおいてなど、基板が局所的にのみ加熱される場合に、結果として生じる熱は、熱吸収材料によって局所的に吸収される。熱の吸収に起因して、熱吸収材料は、実質的に荷電粒子ビームが基板に衝突する場所において、少なくとも部分的に相転移を行うことになる。この局所的な相転移は、熱吸収材料の局所的な膨張または収縮を結果として生じさせる。これらの局所的な膨張または収縮は、基板の望ましくない歪みまたは変形を作り出し、それは、米国特許第7,528,349号の温度安定化システムを高分解能の荷電粒子リソグラフィには不適切なものにする。
ことである。
保持プレートと、ここにおいて、保持プレートは、基板を保持するための第1の側部を備える、
ベースプレートと、ベースプレートは、保持プレートから所定の距離に配置されており、第1の側部から離れる方に面する保持プレートの第2の側部において、ベースプレートと保持プレートとの間にギャップを提供する、
少なくとも保持プレートとベースプレートとの間に配置されているサポートのアレイと、
熱吸収材料のドロップレットのアレイと、ドロップレットは、保持プレートとベースプレートとの間のギャップの中に配置されており、ここにおいて、ドロップレットは、サポートから間隔を離して配置されており、前記ドロップレットのアレイのうちの他のドロップレットから間隔を離して配置されており、ここにおいて、ドロップレットは、ベースプレートと保持プレートの両方に接触するように配置されている、
を備える、基板保持デバイスを提供する。
な不利益なしに実現される。
、サポートは、保持プレートの実質的に固定された場所の上に配置されている。これは、適切なパターンでサポートを配置させ、保持プレートに関してリジッドのサポートを提供することを可能にし、それは、前記保持プレートのエリアにわたって実質的に均一になっている。それに加えて、これは、高度に正確で再現可能な寸法を有する、ベースプレートと保持プレートとの間のギャップを提供することを可能にする。
ットに隣接するベースプレートの表面との間の距離よりも大きくなっている。したがって、弾性的な部材は、対応するポケットの内側に配置されている。一方では、弾性的な部材は、ポケットの底部表面から間隔を離して配置されており、弾性的な部材がポケットの底部表面に向けて曲がることを可能にする。他方では、弾性的な部材は、ポケットを取り囲むベースプレートの表面の下方に配置されており、それは、ベースプレートと保持プレートとの間のギャップの中のドロップレットの場所を固定するための手段を提供する。
ープレートの上部に配置されており、前記ポケットの中のPCMのドロップレットのための閉じ込め部材として作用する。
部縁部において実質的に開口しており、好ましくは、ギャップは、基板保持デバイスの実質的に完全な周囲の側部縁部に沿って実質的に開口している。
保持プレートと、ここにおいて、保持プレートは、基板を保持するための第1の側部を備える、
ベースプレートと、ベースプレートは、保持プレートから所定の距離に配置されており、第1の側部から離れる方に面する保持プレートの第2の側部において、ベースプレートと保持プレートとの間にギャップを提供する、
少なくとも保持プレートとベースプレートとの間に配置されているサポートのアレイと、
熱吸収材料のドロップレットのアレイと、ドロップレットは、保持プレートとベースプレートとの間に配置されており、ここにおいて、ドロップレットは、保持プレートの第1の側部に対して実質的に垂直の方向に、保持プレートおよびベースプレートによって閉じ込められており、ここにおいて、ドロップレットは、少なくともベースプレートと保持プレートとの間のギャップに沿った方向への前記ドロップレットの膨張を可能にするように配置されている、
を備える、基板保持デバイスを提供する。
エネルギーを有する電磁放射線または粒子のための供給源と、
エネルギーを有する前記電磁放射線または粒子で前記サンプルを露光するための露光ユニットと、
少なくとも前記露光の間に前記サンプルを保持するための、上記に説明されているような基板保持デバイスまたはその実施形態と、
を備える、装置を提供する。
素を備えるときに、前記構成要素は、使用時に加熱される。たとえば、前記電磁放射線または荷電粒子の少なくとも一部が構成要素に衝突するときである。露光の間に基板の中に衝突する電磁放射線または荷電粒子によって発生される熱に加えて、露光ユニットの1つまたは複数の構成要素からの放射熱が、とりわけ、1つまたは複数の構成要素が基板の表面の近くに配置されているときには、基板をさらに加熱することが可能である。また、露光ユニットからのこの追加的な熱は、本発明の基板保持デバイスの中の熱吸収材料によって吸収されることになり、それは、とりわけ、熱吸収材料がPCMであるときには、熱吸収材料のより急速な枯渇を結果として生じる。したがって、露光ユニットからの追加的な熱を可能な限り低減させること、および、本発明の基板保持デバイスと、前記露光ユニットの前記少なくとも1つの構成要素を冷却するための冷却構成を備えた露光ユニットとを組み合わせることが有利である。
サポートから間隔を離して、および、保持プレートとベースプレートとの間の前記ドロップレットのアレイのうちの他のドロップレットから間隔を離して、ドロップレットを配置するステップ、ここにおいて、少なくともそれらの液相になっているドロップレットが、保持プレートとベースプレートの両方に接触するように配置されており、および/または、ここにおいて、ドロップレットは、保持プレートの第1の側部に対して実質的に垂直の方向に、保持プレートおよびベースプレートによって閉じ込められており、ここにおいて、ドロップレットは、ベースプレートと保持プレートとの間のギャップに沿った方向への前記ドロップレットの膨張を可能にするように配置されている、
を備える、方法を提供する。
保持プレートを提供するステップと、ここにおいて、保持プレートは、基板を保持するための第1の側部、および、サポートのアレイを備え、サポートのアレイは、第1の側部から離れる方に面する前記保持プレートの第2の側部に固定されており、ここにおいて、サポートは、第2の側部に対して実質的に垂直に延在するように配置されている、
サポートをその中に装着するための孔部のアレイを備えるベースプレートを提供するステップと、
ベースプレートに面する側部において保持プレートの上に、または、保持プレートに面する側部においてベースプレートの上に、サポートから間隔を離して、および、前記ドロップレットのアレイのうちの他のドロップレットから間隔を離して、熱吸収材料のドロップレットのアレイを配置するステップと、
保持プレートとベースプレートとの間の所望の距離が到達されるまで、サポートを備えた保持プレートとベースプレートとを互いに向けて移動させるステップと、ここにおいて、サポートは、孔部の中に位置決めされており、ドロップレットのアレイは、保持プレートとベースプレートとの間のギャップの中に配置されている、
前記サポートのうちの1つまたは複数を対応する孔部の中に固定するステップと、
を備える、方法に関する。
る電磁放射線または粒子のための供給源と、エネルギーを有する前記電磁放射線または荷電粒子に前記サンプルを露出させるための露光ユニットと、ここにおいて、露光ユニットは、電磁放射線または荷電粒子の少なくとも一部を少なくとも部分的におよび/または一時的に操作および/または遮断するための構成要素を備え、ここにおいて、構成要素は、導管を通して冷却流体をガイドするための導管を設けられており、ここにおいて、導管は、構成要素と熱的接触して配置されている、とを備える。
エネルギーを有する電磁放射線または粒子のための供給源と、
前記電磁放射線または粒子で前記サンプルを露光するための露光ユニットと、ここにおいて、露光ユニットは、電磁放射線または荷電粒子の少なくとも一部を少なくとも部分的におよび/または一時的に操作および/または遮断するための構成要素を備え、ここにおいて、構成要素は、冷却構成を備え、冷却構成は、所定の第1の温度に構成要素を実質的に維持するように配置されている、
少なくとも前記露光の間に前記サンプルを保持するための基板保持デバイスと、ここにおいて、基板保持デバイスは、温度安定化構成を備え、温度安定化構成は、前記基板保持デバイスの上に配置されているサンプルの温度を実質的に安定化させるように配置されており、ここにおいて、温度安定化構成は、第2の温度において相変化を有する相変化材料を備える、
を備え
冷却構成は、制御装置を備え、制御装置は、第2の温度の近くになるかまたは第2の温度に等しくなるように、第1の温度を調整するように構成されている、装置を提供する。
を備える。ある実施形態では、供給源は、複数の荷電粒子ビームを提供するように配置されており、荷電粒子光学システムは、前記複数の荷電粒子ビームのうちの1つまたは複数を前記サンプルの上に投射するように配置されており、導管の少なくとも第1のパーツは、2つの荷電粒子ビームの間のエリアに配置されている。
- 基板保持デバイスの上にウエハを設置し、前記露光ユニットの下流に前記ウエハを位置決めするステップと、
- 前記供給源からのエネルギーを有する電磁放射線または粒子によって、像またはパターンを前記ウエハの上に投射することを含む、前記ウエハを処理するステップと、
- 前記処理されたウエハによって半導体デバイスを生成するために、後続のステップを実施するステップと
を備える、方法を提供する。
- 基板保持デバイスの上に前記ターゲットを設置し、前記露光ユニットの下流に前記ウエハを位置決めするステップと、
- 前記供給源からのエネルギーを有する前記電磁放射線または粒子をターゲットの上に投射するステップと、
- 前記供給源からのエネルギーを有する前記電磁放射線または粒子がターゲットの上に入射するときに、前記ターゲットによって透過され、放出され、および/または反射される電磁放射線または荷電粒子を検出するステップと、
- 荷電粒子を検出するステップからのデータによって前記ターゲットを検査するために、後続のステップを実施するステップと
を備える、方法を提供する。
を有するドロップレット8を使用することは、前記ドロップレット間にサポート7のアレイを提供することを可能にし、そのサポート7は、保持プレート2の高度に平坦な第1の側部3を提供するために十分に互いの近くに配置されている。この特定の例では、サポート7は、おおよそ0,8mmの幅wを有するギャップ5を提供するために配置されている。
、ドロップレット18の下に空気の包含を防止するように配置されている。
ースプレート54の表面63の下方に、対応するポケット59の内側に配置されており、それは、ベースプレート54と保持プレート52との間のギャップ55の中に、ドロップレット58の場所を固定するための手段を提供している。弾性的な保持プレート60とベースプレート54との間の熱輸送を増加させるために、熱伝導ペーストが、好ましくは、弾性的な保持プレート60の円周方向の縁部とリムまたはステップ61との間に配置されている。
源を備えるモジュール201と、エネルギーを有する前記電磁放射線または粒子で前記サンプル103を露光するための露光ユニットを備えるモジュール204と、本発明による基板保持デバイス209とを備える。
- 荷電粒子ビーム供給源101およびビームコリメーティングシステム102を含む、照明光学系モジュール201と、
- アパーチャーアレイ103および集光レンズアレイ104を含む、アパーチャーアレイおよび集光レンズモジュール202と、
- ビームブランカーアレイ105を含むビームスイッチングモジュール203と、
- ビームストップアレイ108、ビームデフレクタアレイ109、および投射レンズアレイ110を含む、投射光学系モジュール204と
を備える。
れているように、2つの荷電粒子ビームの間のエリアに配置されている。導管の前記第1のパーツ307の中心軸線は、投射レンズシステム300の中心軸線または光軸OAに対して実質的に垂直の方向に延在している。
めの導管またはダクトの実質的に閉じた回路を備える。冷却構成は、第1の温度を下回る温度に冷却流体を冷却するための冷却装置450をさらに備える。冷却装置450は、熱交換回路451を備え、熱交換回路451は、使用時に、工場冷却剤回路に連結されている。
第2の温度センサT2は、冷却装置450と加熱装置470との間の導管の中に配置されており、
第3の温度センサT3は、加熱装置470とビームストップアレイ408との間の導管の中に配置されており、
第4の温度センサT4は、ビームストップアレイ408の下流の導管の中に配置されている。
好ましくは、容易に利用可能な工場冷却剤を使用して、投射レンズシステム400の温度、とりわけ、そのビームストップアレイ408の温度を、第1の温度に少なくとも実質的に維持することを可能にし、
第2の温度において相変化を有する相変化材料を使用して、基板470の温度を第2の温度に維持することを可能にする。
151:基板保持デバイスの上にウエハを設置し、前記露光ユニットの下流に前記ウエハを位置決めするステップと、
152:前記供給源からのエネルギーを有する電磁放射線または粒子によって、像またはパターンを前記ウエハの上に投射することを含む、前記ウエハを処理するステップと、
153:前記処理されたウエハによって半導体デバイスを生成するために、後続のステップを実施するステップと
を備える。
めの方法の例の概略的なフローチャート160を示しており、方法は、
161:基板保持デバイスの上に前記ターゲットを設置し、前記露光ユニットの下流に前記ウエハを位置決めするステップと、
162:前記供給源からのエネルギーを有する前記電磁放射線または粒子をターゲットの上に投射するステップと、
163:前記供給源からのエネルギーを有する前記電磁放射線または粒子がターゲットの上に入射するときに、前記ターゲットによって透過され、放出され、および/または反射される電磁放射線または荷電粒子を検出するステップと、
164:荷電粒子を検出するステップからのデータによって前記ターゲットを検査するために、後続のステップを実施するステップと
を備える。
Claims (54)
- 保持プレートと、ベースプレートと、サポートのアレイと、熱吸収材料のドロップレットのアレイと、を備える基板保持デバイスであって、
前記保持プレートは、基板を保持するための第1の側部を備え、
前記ベースプレートは、前記保持プレートから所定の距離に配置されており、前記第1の側部から離れる方に面する前記保持プレートの第2の側部において、前記ベースプレートと前記保持プレートとの間にギャップを提供し、
前記サポートのアレイは、少なくとも前記保持プレートと前記ベースプレートとの間に配置されており、
前記ドロップレットは、前記保持プレートと前記ベースプレートとの間の前記ギャップの中に配置されており、前記ドロップレットは、前記サポートから間隔を離して配置されており、前記ドロップレットのアレイのうちの他のドロップレットから間隔を離して配置されており、前記ドロップレットは、前記ベースプレートと前記保持プレートの両方に接触するように配置されている、基板保持デバイス。 - 前記ドロップレットは、前記ギャップに沿った方向への前記ドロップレットの実質的に自由な膨張を可能にするように配置されている、請求項1に記載の基板保持デバイス。
- 前記サポートのアレイは、前記保持プレートの前記第2の側部に固定して取り付けられている、請求項1または2に記載の基板保持デバイス。
- 前記サポートのアレイは、前記ベースプレートに固定して取り付けられている、請求項1、2、または3に記載の基板保持デバイス。
- 前記ベースプレートは、孔部のアレイを設けられており、前記サポートのアレイのうちのそれぞれのサポートは、前記孔部のアレイのうちの1つの孔部の中へ少なくとも部分的に延在しており、好ましくは、前記サポートは、前記孔部と前記孔部の中へ延在する前記サポートとの間の円周方向のギャップの中に接着剤接続を提供することによって、前記孔部の中に固定して配置されている、請求項4に記載の基板保持デバイス。
- 前記基板保持デバイスは、リングのアレイをさらに備え、前記リングのアレイは、前記保持プレートと前記ベースプレートとの間の前記ギャップの中に配置されており、前記リングのアレイのうちのそれぞれのリングは、前記ドロップレットのアレイのうちの1つのドロップレットを取り囲むように配置されている、請求項1から5のいずれか一項に記載の基板保持デバイス。
- 前記リングの厚さは、前記保持プレートと前記ベースプレートとの間の前記ギャップの幅よりも小さくなっている、請求項6に記載の基板保持デバイス。
- 前記リングは、可撓性のまたは弾性的な材料から作製されている、請求項6または7に記載の基板保持デバイス。
- 前記ギャップに面する前記ベースプレートの表面、および/または、前記ギャップに面する前記保持プレートの表面は、ポケットのアレイを設けられており、前記ポケットのアレイのポケットにおける前記保持プレートと前記ベースプレートとの間の前記ギャップの幅は、前記ポケットの周りにおける前記保持プレートと前記ベースプレートとの間の前記ギャップの幅よりも大きくなっており、前記ポケットのアレイのうちのそれぞれのポケットは、前記ドロップレットのアレイのうちの1つのドロップレットを保持するように配置されている、請求項1から8のいずれか一項に記載の基板保持デバイス。
- 前記ポケットのアレイのうちの少なくとも1つのポケットは、円錐、切頭円錐台、切頭球体、または球形錐台として、実質的に形状決めされている、請求項9に記載の基板保持デバイス。
- 前記ギャップに面する前記ベースプレートの表面は、ポケットのアレイを備え、前記ポケットのアレイのうちのそれぞれのポケットは、弾性的な部材を備え、前記弾性的な部材は、前記ポケットに架かっており、前記ポケットの底部表面から間隔を離して配置されており、それぞれのポケットは、前記ドロップレットのアレイからのドロップレットを備え、前記ドロップレットは、前記弾性的な部材と前記保持プレートとの間に配置されている、請求項1から8のいずれか一項に記載の基板保持デバイス。
- 前記弾性的な部材と前記保持プレートとの間の距離は、前記保持プレートと前記ポケットに隣接する前記ベースプレートの前記表面との間の距離よりも大きくなっている、請求項11に記載の基板保持デバイス。
- 前記弾性的な部材は、カバー、好ましくは、カバープレートを備える、請求項11または12に記載の基板保持デバイス。
- それぞれのポケットは、前記弾性的な部材の縁部、好ましくは、前記弾性的なカバーの円周方向の縁部の少なくとも一部を、前記ポケットの中に支持するためのサポートエレメントを備える、請求項11、12、または13に記載の基板保持デバイス。
- 前記サポートエレメントは、前記ポケットの円周方向の側壁部の中に配置されているリムまたはステップを備える、請求項14に記載の基板保持デバイス。
- それぞれのポケットは、リングまたはループを備え、前記リングまたはループは、前記保持プレートと前記弾性的な部材との間の前記ギャップの中に配置されており、前記リングまたは前記ループは、前記ポケットの中のドロップレットを取り囲むように配置されている、請求項11から15のいずれか一項に記載の基板保持デバイス。
- 前記リングまたはループの厚さは、前記保持プレートと前記弾性的な部材との間の距離よりも小さくなっている、請求項16に記載の基板保持デバイス。
- 前記リングまたはループは、可撓性のまたは弾性的な材料から作製されている、請求項16または17に記載の基板保持デバイス。
- 前記リングまたはループは、実質的に矩形の断面を備える、請求項16、17、または18に記載の基板保持デバイス。
- 前記ベースプレートは、ガス抜き用孔部を設けられており、前記ガス抜き用孔部は、前記ポケットの底部表面の中に進出しており、前記ガス抜き用孔部は、好ましくは、実質的に前記ポケットの中央に進出している、請求項9から19のいずれか一項に記載の基板保持デバイス。
- 基板処理装置または基板像形成装置の中で使用するための請求項1から20のいずれか一項に記載の基板保持デバイスであって、前記ドロップレットのアレイのうちの前記ドロップレットは、前記基板処理装置または基板像形成装置の動作温度においてまたはその近くに、溶融温度または溶融範囲を有する材料を備える、基板保持デバイス。
- 前記ギャップは、前記基板保持デバイスの外側への開いた接続を備え、好ましくは、前記ギャップは、前記基板保持デバイスの周囲の側部縁部において実質的に開口している、請求項1から21のいずれか一項に記載の基板保持デバイス。
- 保持プレートと、ベースプレートと、サポートのアレイと、熱吸収材料の液体または固体のドロップレットのアレイと、を備える基板保持デバイスであって、
前記保持プレートは、基板を保持するための第1の側部を備え、
前記ベースプレートは、前記保持プレートから所定の距離に配置されており、前記第1の側部から離れる方に面する前記保持プレートの第2の側部において、前記ベースプレートと前記保持プレートとの間にギャップを提供し、
前記サポートのアレイは、少なくとも前記保持プレートと前記ベースプレートとの間に配置されており、
前記ドロップレットは、前記保持プレートと前記ベースプレートとの間に配置されており、前記ドロップレットは、前記保持プレートの前記第1の側部に対して実質的に垂直の方向に、前記保持プレートおよび前記ベースプレートによって閉じ込められており、前記ドロップレットは、少なくとも前記ベースプレートと前記保持プレートとの間の前記ギャップに沿った方向への前記ドロップレットの膨張を可能にするように配置されている、基板保持デバイス。 - サンプルを処理または像形成するための装置であって、
エネルギーを有する電磁放射線または粒子のための供給源と、
エネルギーを有する前記電磁放射線または粒子で前記サンプルを露光するための露光ユニットと、
少なくとも前記露光の間に前記サンプルを保持するための請求項1から23のいずれか一項に記載の基板保持デバイスと、
を備える、装置。 - 基板保持デバイスを製造するための方法であって、前記基板保持デバイスは、保持プレートと、ベースプレートと、サポートのアレイと、熱吸収材料のドロップレットのアレイと、を備え、
前記保持プレートは、基板を保持するための第1の側部を備え、
前記ベースプレートは、前記保持プレートから所定の距離に配置されており、前記第1の側部から離れる方に面する前記保持プレートの第2の側部において、前記ベースプレートと前記保持プレートとの間にギャップを提供し、
サポートのアレイは、少なくとも前記保持プレートと前記ベースプレートとの間に配置されており、前記方法は、
前記サポートから間隔を離して、および、前記保持プレートと前記ベースプレートとの間の前記ドロップレットのアレイのうちの他のドロップレットから間隔を離して、前記ドロップレットを配置するステップを備え、ここで、少なくともそれらの液相になっている前記ドロップレットが、前記保持プレートと前記ベースプレートの両方に接触するように配置されている、方法。 - 基板保持デバイスを組み立てるための方法であって、
保持プレートを提供するステップと、ここで、前記保持プレートは、基板を保持するための第1の側部、および、サポートのアレイを備え、前記サポートのアレイは、前記第1の側部から離れる方に面する前記保持プレートの第2の側部に固定されており、ここで、前記サポートは、前記第2の側部に対して実質的に垂直に延在するように配置されており、
前記サポートをその中に装着するための孔部のアレイを備えるベースプレートを提供するステップと、
前記ベースプレートに面する側部において前記保持プレートの上に、または、前記保持プレートに面する側部において前記ベースプレートの上に、前記サポートから間隔を離して、および、ドロップレットのアレイのうちの他のドロップレットから間隔を離して、熱吸収材料のドロップレットのアレイを配置するステップと、
前記保持プレートと前記ベースプレートとの間の所望の距離が到達されるまで、前記サポートを備えた前記保持プレートと前記ベースプレートとを互いに向けて移動させるステップと、ここで、前記サポートは、前記孔部の中に位置決めされており、前記ドロップレットのアレイは、前記保持プレートと前記ベースプレートとの間のギャップの中に配置されており、
前記サポートのうちの1つまたは複数を対応する孔部の中に固定するステップと、
を備える、方法。 - 前記サポートは、接着剤接続を介して前記第2の側部に固定されている、請求項26に記載の方法。
- 前記1つまたは複数のサポートは、接着剤接続を介して前記対応する孔部の中に固定されており、前記接着剤接続は、前記孔部と前記孔部の中へ延在する前記サポートとの間の円周方向のギャップの中に提供されている、請求項26または27に記載の方法。
- サンプルを処理または像形成するための装置、好ましくは、リソグラフィシステム、より好ましくは、マルチビーム荷電粒子リソグラフィシステムの中での、請求項1から23のいずれか一項に記載の基板保持デバイスの使用。
- エネルギーを有する電磁放射線または粒子のための供給源と、前記電磁放射線または粒子でサンプルを露光するための露光ユニットと、少なくとも前記露光の間に前記サンプルを保持するための基板保持デバイスと、を備える、サンプルを露光するための装置であって、
前記露光ユニットは、前記電磁放射線または荷電粒子の少なくとも一部を少なくとも部分的におよび/または一時的に操作および/または遮断するための構成要素を備え、ここで、前記構成要素は、冷却構成を備え、前記冷却構成は、所定の第1の温度に前記構成要素を実質的に維持するように配置されており、
前記基板保持デバイスは、温度安定化構成を備え、前記温度安定化構成は、前記基板保持デバイスの上に配置されているサンプルの温度を実質的に安定化させるように配置されており、前記温度安定化構成は、第2の温度において相変化を有する相変化材料を備え、
前記冷却構成は、制御装置を備え、前記制御装置は、前記第2の温度の近くになるかまたは前記第2の温度に等しくなるように、前記第1の温度を調整するように構成されている、装置。 - 前記冷却構成および前記温度安定化構成は、前記第1の温度と前記第2の温度との間の差が、4℃以下、好ましくは、2℃以下になるように配置されている、請求項30に記載の装置。
- 前記第1の温度は、前記第2の温度よりも低い、請求項30または31に記載の装置。
- 前記第1の温度は、前記第2の温度に実質的に等しく、好ましくは、前記第1の温度および前記第2の温度は、室温、とりわけ、製作工場(工場)の中の室温に実質的に等しい、請求項30または31に記載の装置。
- 前記相変化材料は、共晶金属合金を備える、請求項30から33のいずれか一項に記載の装置。
- 前記冷却構成は、導管を通して冷却流体をガイドするための前記導管を備え、前記導管は、前記構成要素と熱的接触して配置されている、請求項30から34のいずれか一項に記載の装置。
- 前記冷却構成は、前記冷却流体の温度と前記第2の温度との間の差、4℃以下、好ましくは、2℃以下になるように配置されている、請求項35に記載の装置。
- 前記冷却構成は、温度制御システムを備え、前記温度制御システムは、前記基板保持デバイスの温度に対して前記冷却流体の温度を制御するように配置されている、請求項35または36に記載の装置。
- 前記装置は、前記基板保持デバイスの前記温度、および、前記露光ユニットの前記温度、とりわけ、前記基板保持デバイスに隣接して配置されている前記露光ユニットの一部の温度を測定するための温度センサを備える、請求項37に記載の装置。
- 前記冷却構成は、
前記第1の温度を下回る温度に前記冷却流体を冷却するための冷却装置と、
前記冷却流体を加熱するための加熱装置と、ここにおいて、前記加熱装置は、前記構成要素に対して上流位置において、前記導管の中に配置されている、
を備える、請求項37または38に記載の装置。 - 前記構成要素は、前記電磁放射線または粒子を前記サンプルの上に投射するための投射レンズを備える、請求項30から39のいずれか一項に記載の装置。
- 前記導管は、前記投射レンズを通してまたは前記投射レンズの周りに、前記冷却流体を輸送するように配置されている、請求項6に従属する請求項40に記載の装置。
- 前記構成要素は、前記電磁放射線または粒子を変調させるための変調デバイスを備える、請求項30から41のいずれか一項に記載の装置。
- 前記導管は、前記変調デバイスを通してまたは前記変調デバイスの周りに、前記冷却流体を輸送するように配置されている、請求項35に従属する請求項42に記載の装置。
- 前記変調デバイスは、電磁放射線または粒子のビームを偏向させるためのビームデフレクタと、電磁放射線または粒子の前記ビームを遮断するためのビームストップとを備える、ビームブランキングアセンブリを備え、前記導管は、前記ビームストップを通してまたは前記ビームストップの周りに、前記冷却流体を輸送するように配置されている、請求項43に記載の装置。
- 前記供給源は、荷電粒子のための供給源であり、前記露光ユニットは、1つまたは複数の荷電粒子ビームを前記サンプルの上に投射するための荷電粒子光学システムを備える、請求項30から44のいずれか一項に記載の装置。
- 前記供給源は、複数の荷電粒子ビームを提供するように配置されており、前記荷電粒子光学システムは、前記複数の荷電粒子ビームのうちの1つまたは複数を前記サンプルの上に投射するように配置されており、前記導管の少なくとも第1のパーツは、2つの荷電粒子ビームの間のエリアに配置されている、請求項45に記載の装置。
- 前記露光ユニットは、1つまたは複数の温度センサを備え、好ましくは、前記1つまた
は複数の温度センサのうちの1つは、前記基板保持デバイスに面する前記露光ユニットの側部に配置されている、請求項30から46のいずれか一項に記載の装置。 - 請求項30から47のいずれか一項に記載の装置を使用してサンプルを露光するための方法であって、前記温度安定化構成のコンディショニングが、前記サンプルの処理または像形成の前に実施され、前記コンディショニングは、前記温度安定化構成の液体相変化材料の少なくとも一部を固化するステップを備える、方法。
- 前記コンディショニングは、前記サンプルの前記処理または像形成の前に、前記温度安定化構成の温度を前記第2の温度に設定するステップをさらに備える、請求項48に記載の方法。
- 前記加熱装置および/または前記冷却装置は、前記基板保持デバイスと前記露光ユニットとの間の温度差、とりわけ、前記基板保持デバイスと前記基板保持デバイスに面する前記露光ユニットの一部との間の温度差を確立するように制御され、前記温度差は、4℃未満、好ましくは、2℃未満、より好ましくは、1℃未満である、請求項10に従属する請求項48または49に記載の方法。
- 動作の間の前記装置の温度は、19℃から22℃の温度範囲にあり、好ましくは、前記第1の温度および前記第2の温度は、また、19℃から22℃の前記温度範囲の中に配置されている、請求項48から50のいずれか一項に記載の方法。
- サンプルを露光するための、とりわけ、サンプルを処理または像形成するための、請求項30から47のいずれか一項に記載の装置の使用。
- 請求項24、30~47のいずれか一項に記載の装置によって半導体デバイスを製造する方法であって、
前記基板保持デバイスの上にウエハを設置し、前記露光ユニットの下流に前記ウエハを位置決めするステップと、
前記供給源からのエネルギーを有する前記電磁放射線または粒子によって、像またはパターンを前記ウエハの上に投射することを含む、前記ウエハを処理するステップと、
前記処理されたウエハによって半導体デバイスを生成するために、後続のステップを実施するステップと
を備える、方法。 - 請求項24、30~47のいずれか一項に記載の装置によってターゲットを検査するための方法であって、
前記基板保持デバイスの上に前記ターゲットを設置し、前記露光ユニットの下流にウエハを位置決めするステップと、
前記供給源からのエネルギーを有する前記電磁放射線または粒子を前記ターゲットの上に投射するステップと、
前記供給源からのエネルギーを有する前記電磁放射線または粒子が前記ターゲットの上に入射するときに、前記ターゲットによって透過され、放出され、および/または反射される電磁放射線または荷電粒子を検出するステップと、
荷電粒子を検出する前記ステップからのデータによって前記ターゲットを検査するために、後続のステップを実施するステップと
を備える、方法。
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