JP2022007538A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230153052A (ko) * 2022-04-28 2023-11-06 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막장치, 성막방법, 전자 디바이스의 제조방법 및 컴퓨터 프로그램 기록매체
JP2024024464A (ja) 2022-08-09 2024-02-22 キヤノントッキ株式会社 アライメント装置、成膜装置、制御方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体
CN115874148B (zh) * 2022-09-19 2024-11-08 京东方科技集团股份有限公司 一种整理装置和蒸镀设备
JP2025087461A (ja) * 2023-11-29 2025-06-10 キヤノントッキ株式会社 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4499661B2 (ja) * 2003-04-11 2010-07-07 富士機械製造株式会社 基板搬送方法および装置
CN101844864B (zh) * 2009-03-24 2013-08-28 北京京东方光电科技有限公司 玻璃基板及玻璃基板的切割方法
JP6370148B2 (ja) * 2014-07-30 2018-08-08 株式会社ディスコ 保持治具生成装置
JP6455176B2 (ja) 2015-01-23 2019-01-23 コニカミノルタ株式会社 光書き込み装置、画像形成装置及び光書き込み装置の製造方法
JP6212507B2 (ja) * 2015-02-05 2017-10-11 Towa株式会社 切断装置及び切断方法
JP2018072541A (ja) * 2016-10-28 2018-05-10 キヤノン株式会社 パターン形成方法、基板の位置決め方法、位置決め装置、パターン形成装置、及び、物品の製造方法
KR101966133B1 (ko) * 2017-06-14 2019-08-13 주식회사 에스에프에이 기판과 마스크의 정밀 얼라인 시스템 및 정밀 얼라인 방법
KR101893309B1 (ko) * 2017-10-31 2018-08-29 캐논 톡키 가부시키가이샤 얼라인먼트 장치, 얼라인먼트 방법, 성막장치, 성막방법, 및 전자 디스바이스 제조방법
KR20190124610A (ko) * 2018-04-26 2019-11-05 캐논 톡키 가부시키가이샤 기판 반송 시스템, 전자 디바이스 제조장치 및 전자 디바이스 제조방법
KR102405438B1 (ko) * 2018-06-25 2022-06-03 캐논 톡키 가부시키가이샤 마스크 위치조정장치, 성막장치, 마스크 위치조정방법, 성막방법, 및 전자디바이스의 제조방법
KR102374037B1 (ko) 2018-06-29 2022-03-11 캐논 톡키 가부시키가이샤 기판 검사 시스템, 전자 디바이스 제조 시스템, 기판 검사 방법, 및 전자 디바이스 제조 방법
JP7170524B2 (ja) 2018-12-14 2022-11-14 キヤノントッキ株式会社 基板載置方法、成膜方法、成膜装置、有機elパネルの製造システム
KR102128888B1 (ko) * 2019-02-19 2020-07-01 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스 제조방법

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