JP2022001382A - Process table for laser processing and laser processing device with the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、レーザー加工用の工程テーブル及びこれを備えるレーザー加工装置に係り、さらに詳しくは、組立てと取り外しが行いやすいレーザー加工用の工程テーブル及びこれを備えるレーザー加工装置に関する。 The present invention relates to a process table for laser processing and a laser processing device including the process table for laser processing, and more particularly to a process table for laser processing which is easy to assemble and disassemble and a laser processing device including the process table.
ディスプレイ装置(display device)は、スマートフォン、タブレットパソコン、ラップトップコンピューター、デジタルカメラ、ビデオ付きカメラ、携帯情報端末などのモバイル装置や、スリム型テレビ、展示用ディスプレイ、広告板などの電子製品に用いられている。 Display devices (display devices) are used in mobile devices such as smartphones, tablet PCs, laptop computers, digital cameras, cameras with videos, and personal digital assistants, and electronic products such as slim TVs, display displays, and billboards. ing.
このようなディスプレイ装置に用いられるフィルム(Film)は、原反シート(sheet)をモバイル(mobile)、ノート型パソコン(Note−book)、ウォッチ(Watch)などの製品に用いるためにユーザーが希望する大きさ(size)及び形状のセル(cell)単位でカット(cutting)して用いる。 The film used for such a display device is desired by the user to use the original sheet for products such as mobile, notebook personal computer (Note-book), and watch (Watch). It is used by cutting in units of size and shape cells.
従来には、所望の大きさ及び形状のセル単位でカットできるように工程テーブル(process table)を設計及び製作し、レーザー(laser)カットの際に生じるヒューム(fume)、パーティクル(particle)及び汚染物質などの工程副産物を取り除いていた。 Conventionally, a process table has been designed and manufactured so that it can be cut in cell units of a desired size and shape, and smoke, particles and contamination generated during laser cutting have been performed. Process by-products such as substances were removed.
従来の工程テーブルには、基板の載置領域とセルの大きさ及び形状に合わせてレーザー加工を行うために、レーザーカットライン(laser cutting line)に沿ってカットライン溝(cutting line groove)が形成されていた。これにより、色々な製品の大きさ及び形状に対応するために、セルの大きさ及び形状に応じて複数の工程テーブルを別途に製作することを余儀なくされ、加工しようとするセルの大きさ及び形状に合わせて作業者が自ら工程テーブルを取り替えることを余儀なくされていた。 In the conventional process table, a cutting line groove is formed along the laser cutting line in order to perform laser processing according to the mounting area of the substrate and the size and shape of the cell. It had been. This forces us to separately manufacture multiple process tables according to the size and shape of the cell in order to accommodate the size and shape of various products, and the size and shape of the cell to be processed. Workers were forced to replace the process table by themselves.
本発明は、基板を分割するセルの大きさに応じて、連結プレート及び吸着プレートを取り替え可能なレーザー加工用の工程テーブル及びこれを備えるレーザー加工装置を提供する。 The present invention provides a process table for laser processing in which the connecting plate and the suction plate can be replaced according to the size of the cell that divides the substrate, and a laser processing apparatus including the process table.
本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルは、真空ラインにつながる真空孔を有する真空部と、排気ラインにつながる排気孔を介して工程副産物を排出する排気部と、を有するベースプレートと、前記真空孔に連通されて厚さ方向に延びる第1の連通孔及び前記排気孔と連通されて厚さ方向に延びる第2の連通孔を有する連結プレートと、前記第1の連通孔と連通されて基板を吸着する吸着孔及び前記第2の連通孔と連通されて厚さ方向に延びる吸込み孔を有する吸着プレートと、を備えていてもよい。 A process table for laser processing according to an embodiment of the present invention includes a base plate having a vacuum portion having a vacuum hole connected to a vacuum line and an exhaust portion having a process by-product discharged through the exhaust hole connected to the exhaust line. , A connecting plate having a first communication hole communicated with the vacuum hole and extending in the thickness direction and a second communication hole communicated with the exhaust hole and extending in the thickness direction, and communication with the first communication hole. It may be provided with a suction plate having a suction hole for sucking the substrate and a suction hole which is communicated with the second communication hole and extends in the thickness direction.
前記吸着プレートと前記連結プレートは、前記ベースプレートから分離可能であってもよい。 The adsorption plate and the connecting plate may be separable from the base plate.
前記連結プレートは、前記排気孔と前記第2の連通孔との間、又は前記第2の連通孔と前記吸込み孔との間に形成されて、前記工程副産物が流動する排気連通部をさらに備え、前記吸着プレートは、前記第1の連通孔と前記吸着孔との間に形成されて、前記第1の連通孔及び前記吸着孔と連通される真空チャンバー部をさらに備えていてもよい。 The connecting plate is further provided with an exhaust communication portion formed between the exhaust hole and the second communication hole, or between the second communication hole and the suction hole, through which the process by-products flow. The suction plate may further include a vacuum chamber portion formed between the first communication hole and the suction hole and communicated with the first communication hole and the suction hole.
前記レーザー加工用の工程テーブルは、前記真空孔と前記第1の連通孔とを連通させる第3の連通孔及び前記排気孔と前記排気連通部とを連通させる第4の連通孔を有し、前記ベースプレートと前記連結プレートとの間に介在するシールプレートをさらに備えていてもよい。 The process table for laser machining has a third communication hole for communicating the vacuum hole and the first communication hole, and a fourth communication hole for communicating the exhaust hole and the exhaust communication portion. A seal plate interposed between the base plate and the connecting plate may be further provided.
前記シールプレートは、前記排気連通部に対応して配設され、前記第4の連通孔は、前記排気孔と対応して配設されてもよい。 The seal plate may be arranged corresponding to the exhaust communication portion, and the fourth communication hole may be arranged corresponding to the exhaust hole.
前記排気連通部は、前記第1の連通孔及び前記第3の連通孔と画成されて配設されてもよい。 The exhaust communication portion may be arranged so as to be defined as the first communication hole and the third communication hole.
前記レーザー加工用の工程テーブルは、前記排気孔の周りに配設されて、前記シールプレートに密着される第1の密着パッドをさらに備えていてもよい。 The process table for laser processing may further include a first contact pad that is disposed around the exhaust hole and is brought into close contact with the seal plate.
前記レーザー加工用の工程テーブルは、前記真空孔の周りに配設されて、前記連結プレートに密着される第2の密着パッドをさらに備えていてもよい。 The process table for laser processing may further include a second contact pad that is disposed around the vacuum hole and is brought into close contact with the connecting plate.
前記真空部は、前記ベースプレートの中央部に位置し、前記排気部は、前記ベースプレートの周縁部に前記真空部を中心として対称となるように位置してもよい。 The vacuum portion may be located at the center of the base plate, and the exhaust portion may be located at the peripheral edge of the base plate so as to be symmetrical with respect to the vacuum portion.
前記ベースプレートは、前記連結プレートに面する面に形成される第1の位置合わせ結合部をさらに備え、前記連結プレートは、前記ベースプレートに面する面に前記第1の位置合わせ結合部と対応して形成される第2の位置合わせ結合部をさらに備えていてもよい。 The base plate further comprises a first alignment joint formed on a surface facing the base plate, the connecting plate corresponding to the first alignment joint on a surface facing the base plate. It may further include a second alignment joint to be formed.
前記吸着プレートの吸着面には、前記吸込み孔と連通されるカットライン溝が形成されてもよい。 A cut line groove communicating with the suction hole may be formed on the suction surface of the suction plate.
前記カットライン溝の底面は、内側方向に傾斜するか、あるいは、屈曲されてもよい。 The bottom surface of the cut line groove may be inclined inward or bent.
前記カットライン溝は、前記基板のセルの分割のためのセルの大きさに応じて配設され、前記吸着プレートは、前記セルの大きさに対応するカットライン溝に沿って取り替え可能であり、前記連結プレートは、前記対応するカットライン溝の吸込み孔に対応する第2の連通孔に沿って取り替え可能であってもよい。 The cut line groove is arranged according to the size of the cell for dividing the cell of the substrate, and the suction plate can be replaced along the cut line groove corresponding to the size of the cell. The connecting plate may be replaceable along a second communication hole corresponding to the suction hole of the corresponding cut line groove.
本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルと、前記工程テーブルの上に支持された基板の上に前記吸込み孔の配列に従ってレーザーを照射するレーザー部と、を備えていてもよい。 The laser processing apparatus according to another embodiment of the present invention is a process table for laser processing according to one embodiment of the present invention, and a laser on a substrate supported on the process table according to an arrangement of suction holes. It may be provided with a laser unit for irradiating.
前記レーザー加工装置は、前記吸着プレートの上に配置されて前記基板の上に浮遊する工程副産物を吸い込むサクションフード部をさらに備えていてもよい。 The laser processing apparatus may further include a suction hood portion that is arranged on the suction plate and sucks process by-products floating on the substrate.
前記サクションフード部は、前記レーザー部の周りに配置されてもよい。 The suction hood portion may be arranged around the laser portion.
本発明の実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルは、真空孔、第1の連通孔及び吸着孔が連通され、排気孔、第2の連通孔及び吸込み孔が連通されるベースプレート、連結プレート及び吸着プレートから構成されて、外部の真空ライン及び排気ラインにつながっているベースプレートは固定された状態で、分割されるセル(cell)の大きさ及び形状に応じて、基板が支持される吸着プレート及び/又は連結プレートを取り替えることができる。これにより、全体的な工程テーブルの取り替えなしに、吸着プレート及び/又は連結プレートのみを取り替えて簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供することができる。 The process table for laser machining according to the embodiment of the present invention includes a base plate, a connecting plate and a base plate through which a vacuum hole, a first communication hole and a suction hole are communicated, and an exhaust hole, a second communication hole and a suction hole are communicated with each other. The suction plate and the substrate are supported according to the size and shape of the cell to be divided, while the base plate composed of the suction plates and connected to the external vacuum line and the exhaust line is fixed. / Or the connecting plate can be replaced. This makes it possible to easily provide a process table corresponding to a desired cell size and shape by replacing only the adsorption plate and / or the connecting plate without replacing the entire process table.
これを通じて、セルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供するために、従来のように工程テーブルを全体的に解体し、多数のボルトを締め付けて結合する作業を繰り返し行わなくても、便利に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供することができる。また、工程テーブルを全体的に取り替えることなく、ベースプレートは固定されて真空ライン及び排気ラインの分離及び結合が不要になるので、真空ライン及び排気ラインを工程テーブルに結合及び分離する時間を短縮することができ、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルの準備時間を短縮することができる。 Through this, in order to provide a process table corresponding to the size and shape of the cell, it is convenient without repeating the work of disassembling the process table as a whole and tightening and joining a large number of bolts as in the conventional case. Can provide a process table corresponding to the desired cell size and shape. In addition, since the base plate is fixed and the separation and connection of the vacuum line and the exhaust line are not required without replacing the process table as a whole, the time for connecting and separating the vacuum line and the exhaust line to the process table can be shortened. This makes it possible to shorten the preparation time of the process table corresponding to the desired cell size and shape.
因みに、第1の位置合わせ結合部と第2の位置合わせ結合部を介してベースプレートと連結プレートとを結合するだけでも、ベースプレートと連結プレートとを位置合わせすることができる。これにより、工程テーブルに対する平坦化作業及びベースプレート、連結プレート及び吸着プレートの間の位置合わせ作業を行う必要なしに、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルの準備作業を完了することができ、さらに速やかに且つ便利に工程テーブルの準備作業を行うことが可能である。 Incidentally, the base plate and the connecting plate can be aligned only by connecting the base plate and the connecting plate via the first positioning joint portion and the second positioning joint portion. This makes it possible to complete the process table preparation work corresponding to the desired cell size and shape without the need to perform flattening work on the process table and alignment work between the base plate, the connecting plate and the suction plate. It is possible to prepare the process table more quickly and conveniently.
また、カットライン溝の底面を内側方向に傾斜させるか、あるいは、屈曲させることにより、吸込み孔の周りの外郭に気流(又は、排気の流れ)の影響が及ばないために残ってしまう工程副産物なしに、工程副産物を効果的に排気することができる。 In addition, by inclining or bending the bottom surface of the cut line groove inward, there are no process by-products that remain because the airflow (or exhaust flow) does not affect the outer shell around the suction hole. In addition, process by-products can be effectively exhausted.
一方、このようなレーザー加工用の工程テーブルを備えるレーザー加工装置は、吸着プレート上のレーザー部の周りにサクションフード部を付設してレーザー加工の際に基板の上に生じるヒューム(fume)及びパーティクル(particle)などの工程副産物もまた効果的に取り除くことができる。 On the other hand, in a laser processing apparatus provided with such a process table for laser processing, a suction hood portion is attached around the laser portion on the adsorption plate to generate fume and particles on the substrate during laser processing. Process by-products such as (particle) can also be effectively removed.
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施形態をより詳しく説明する。しかしながら、本発明は以下に開示される実施形態に何ら限定されるものではなく、異なる様々な形態に具体化され、単にこれらの実施形態は本発明の開示を完全たるものにし、通常の知識を有する者に発明の範囲を完全に知らせるために提供されるものである。本発明を説明するに当たって、同じ構成要素に対しては同じ参照符号を付し、図面は、本発明の実施形態を正確に説明するために大きさが部分的に誇張されてもよく、図中、同じ符号は、同じ構成要素を指し示す。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but is embodied in various different forms, and these embodiments merely complete the disclosure of the present invention and provide ordinary knowledge. It is provided to fully inform the owner of the scope of the invention. In explaining the present invention, the same components may be designated by the same reference numerals, and the drawings may be partially exaggerated in size in order to accurately explain the embodiments of the present invention. , The same sign points to the same component.
図1は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルを示す斜視図であり、図2は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルの断面図であって、図1の組み立てられたレーザー加工用の工程テーブルをA−A’に沿って切り取った断面図である。 FIG. 1 is a perspective view showing a process table for laser processing according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a process table for laser processing according to an embodiment of the present invention. It is sectional drawing which cut out the process table for laser processing of FIG. 1 along AA'.
図1及び図2を参照すると、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブル100は、真空ラインにつながる真空孔111を有する真空部110aと、排気ラインにつながる排気孔112を介して工程副産物を排出する排気部110bと、を有するベースプレート110と、前記真空孔111に連通されて厚さ方向に延びる第1の連通孔121及び前記排気孔112と連通されて厚さ方向に延びる第2の連通孔123を有する連結プレート120と、前記第1の連通孔121と連通されて基板10を吸着する吸着孔132及び前記第2の連通孔123と連通されて厚さ方向に延びる吸込み孔133を有する吸着プレート130と、を備えていてもよい。
Referring to FIGS. 1 and 2, the process table 100 for laser processing according to the embodiment of the present invention has a
ベースプレート110は、真空ライン(図示せず)及び排気ライン(図示せず)につながって固定されてもよく、真空ライン(図示せず)につながる少なくとも一つの真空孔111を有する真空部110a及び排気ライン(図示せず)につながる少なくとも一つの排気孔112を介して工程副産物を排出する排気部110bを備えていてもよい。真空部110aは、一つ以上の真空孔111を有していてもよく、真空孔111は、真空ライン(図示せず)につながってもよく、真空ライン(図示せず)により真空引きされてもよい。ここで、真空部110aは、真空ライン(図示せず)による真空圧により真空孔111と連通される第1の連通孔121、吸着孔132及び/又は真空チャンバー部131に真空引きをしてもよく、真空引きによる真空圧を吸着孔132に与えてもよい。
The
排気部110bは、一つ以上の排気孔112を有していてもよく、排気孔112は、排気ライン(図示せず)につながってもよく、連通される吸込み孔133と第2の連通孔123及び/又は排気連通部122から引き渡される工程副産物を外部に排出してもよい。
The
連結プレート120は、ベースプレート110に結合及び分離(又は、結合解除)されてもよく、ベースプレート110と吸着プレート130とを連結してもよく、真空孔111に連通されて厚さ方向に延びる第1の連通孔121及び排気孔112と連通されて厚さ方向に延びる第2の連通孔123を備えていてもよい。第1の連通孔121は、真空孔111に連通されて厚さ方向(又は上部方向)に延びてもよく、真空孔111と吸着プレート130の吸着孔132及び/又は真空チャンバー部131を連結(又は、連通)させてもよい。これにより、吸着孔132に対して真空引きを行うことができ、基板10を吸着するための真空圧を吸着孔132に与えることができる。
The connecting
第2の連通孔123は、排気孔112と連通されて厚さ方向に延びてもよく、排気孔112と吸込み孔133とを連絡してもよく、連通される吸込み孔133から引き渡される前記工程副産物を排気孔112に引き渡しても良い。
The
吸着プレート130は、基板10を吸着して支持(又は、固定)してもよく、第1の連通孔121と連通されて基板10を吸着する吸着孔132及び第2の連通孔123と連通されて厚さ方向に延びる吸込み孔133を備えていてもよい。
The
吸着孔132は、第1の連通孔121と連通されて厚さ方向に延びてもよく、真空引きが行われてもよく、真空引きによる真空圧で基板10を吸着してもよい。すなわち、真空孔111、第1の連通孔121及び吸着孔132が連通されて形成される真空圧で基板10を吸着孔132の上に吸着固定してもよい。ここで、吸着孔132は、複数から構成されてもよく、複数の個所(又は、位置)に分散された吸着孔132を介して複数の個所において基板10を全体的に吸着してもよく、基板10を安定的に吸着して支持することができる。
The
吸込み孔133は、第2の連通孔123と連通されて厚さ方向に延びてもよく、レーザー(laser)加工工程において生じるヒューム(fume)、パーティクル(particle)及び汚染物質などの前記工程副産物が排気されてもよく、前記工程副産物を第2の連通孔123に引き渡してもよい。これにより、前記工程副産物が吸込み孔133、第2の連通孔123及び排気孔112を介して排出されることが可能になる。ここで、吸込み孔133は、複数から構成されてもよく、複数の吸込み孔133がライン(line)状の連通流路を介して互いに連通されてもよく、前記連通流路は、カットライン溝134に対応して配設(又は、形成)されてもよい。吸込み孔133の構造はこれに限定されるものではなく、吸込み孔133を介して排気される前記工程副産物が第2の連通孔123及び排気孔112に効果的に引き渡されて排出できればよい。
The
連結プレート120は、排気孔112と第2の連通孔123との間、又は第2の連通孔123と吸込み孔133との間に形成されて、前記工程副産物が流動する排気連通部122をさらに備えていてもよく、吸着プレート130は、第1の連通孔121と吸着孔132との間に形成されて、第1の連通孔121及び吸着孔132と連通される真空チャンバー部131をさらに備えていてもよい。排気連通部122は、排気孔112と第2の連通孔123との間、又は第2の連通孔123と吸込み孔133との間に形成されてもよく、排気孔112、第2の連通孔123及び吸込み孔133と連通されてもよく、連結プレート120の長手方向(又は、水平方向)に連通されて(又は、延びて)前記工程副産物が流動してもよい。排気連通部122が排気孔112と第2の連通孔123との間に形成される場合には、排気孔112と第2の連通孔123とを連絡することにより、連通される吸込み孔133及び第2の連通孔123から引き渡される前記工程副産物が流動して排気孔112を介して排出されることが可能になる。因みに、排気連通部122が第2の連通孔123と吸込み孔133との間に形成される場合には、第2の連通孔123と吸込み孔133とを連絡することにより、連通される吸込み孔133から引き渡される前記工程副産物が流動して第2の連通孔123を介して排出されることが可能になる。このとき、第2の連通孔123は、排気連通部122に連通されて排気連通部122から厚さ方向に延びてもよい。ここで、排気連通部122は、一つ以上の排気孔112と連通されてもよい。例えば、一つの第2の連通孔123又は吸込み孔133を介して引き渡される前記工程副産物が複数の排気孔112に排出されてもよく、複数の第2の連通孔123又は吸込み孔133を介して引き渡される前記工程副産物が一つの排気孔112に排出されてもよい。一方、複数の第2の連通孔123又は吸込み孔133を介して引き渡される前記工程副産物が複数の排気孔112に排出されてもよい。ここで、排気連通部122の形状はこれに何ら限定されるものではなく、前記工程副産物の流動空間を提供して連通される排気孔112を介して前記工程副産物を効果的に排出できればよい。
The connecting
真空チャンバー部131は、第1の連通孔121と吸着孔132との間に形成されてもよく、第1の連通孔121及び吸着孔132と連通されてもよい。すなわち、真空チャンバー部131は、第1の連通孔121に連通されて真空引きが行われてもよく、第1の連通孔121と吸着孔132とを連絡して吸着孔132に真空圧を与えてもよい。ここで、真空チャンバー部131は、一つ以上の第1の連通孔121と連通されてもよく、一つの第1の連通孔121を複数の吸着孔132と連通させてもよく、複数の第1の連通孔121を複数の吸着孔132と連通させてもよい。真空チャンバー部131の形状は、これに何ら限定されるものではなく、吸着孔132を介して安定的に基板10を吸着できる真空圧を与えることができればよい。
The vacuum chamber portion 131 may be formed between the
工程テーブル100には、基板10の載置領域と所望のセルの大きさ及び形状に合わせて基板10に対してレーザーカット(laser cutting)を行うために、レーザーカットライン(laser cutting line)に沿ってカットライン溝(cutting line groove)134が形成されてもよい。前記レーザーカットラインは、セルの大きさ及び形状に応じて異なるため、セルの大きさ及び形状に応じて異なるレーザーカットラインに応じてカットライン溝134も異ならざるを得ない。
The process table 100 is provided along the laser cutting line in order to perform laser cutting on the
従来には、色々な製品の大きさ及び形状に対応するために、セルの大きさ及び形状に応じて複数の工程テーブルを別途に製作することを余儀なくされ、加工しようとするセルの大きさ及び形状に合わせて作業者が自ら工程テーブルの全体を取り替えることを余儀なくされていた。 In the past, in order to accommodate various product sizes and shapes, it was necessary to separately manufacture multiple process tables according to the cell size and shape, and the size and shape of the cell to be processed and Workers were forced to replace the entire process table by themselves according to the shape.
しかしながら、本発明のレーザー加工用の工程テーブル100では、吸着プレート130と連結プレート120は、ベースプレート110から分離可能である。すなわち、本発明のレーザー加工用の工程テーブル100は、ベースプレート110、連結プレート120及び吸着プレート130から構成されてベースプレート110、連結プレート120及び吸着プレート130を組立て及び取り外してもよい。これにより、工程テーブル100において、カットライン溝134が形成される吸着プレート130のみを所望のセルの大きさ及び形状に合わせて取り替えることができる。また、カットライン溝134の位置に応じて決定される吸込み孔133の位置及び/又は真空チャンバー部131の構造(又は、形状)に応じて第1の連通孔121、排気連通部122及び/又は第2の連通孔123の位置(又は、構造)が異なってくることもある。さらに、取り替えられる吸着プレート130に応じて、連結プレート120もまた、吸込み孔133の位置及び真空チャンバー部131の構造に合わせて第1の連通孔121、排気連通部122及び第2の連通孔123が形成された連結プレート120に取り替えてもよい。このとき、セルの大きさ及び形状に応じて、ペアをなしている(又は、互いに対応する)吸着プレート130と連結プレート120とを一体化させておいてもよい。これにより、一体化された吸着プレート130と連結プレート120を所望のセルの大きさ及び形状に応じて一括して取り替えるだけでも、簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供することができ、所望のセルの大きさ及び形状に合う工程テーブル100の準備時間(すなわち、前記吸着プレートと前記連結プレートの取り替え時間)を短縮することができる。
However, in the process table 100 for laser processing of the present invention, the
換言すれば、外部の真空ライン(図示せず)及び排気ライン(図示せず)とつながっているベースプレート110は固定された状態で、分割されるセルの大きさ及び形状に応じて、基板10が支持される吸着プレート130のみを、又は吸着プレート130と連結プレート120のみを取り替えてもよい。これにより、全体的な工程テーブル100の取り替えなしに、吸着プレート130のみを、又は吸着プレート130と連結プレート120のみを取り替えて簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供することができる。これを通じて、セルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供するために、従来のように、工程テーブルを全体的に解体し、多数のボルトを締め付けて結合する作業を繰り返し行わなくても、便利に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供することができる。また、工程テーブル100を全体的に取り替えることなく、ベースプレート110は固定されて真空ライン(図示せず)及び排気ライン(図示せず)の分離及び結合が不要になるので、真空ライン(図示せず)及び排気ライン(図示せず)を工程テーブル100に結合及び分離する時間を短縮することができる。これにより、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100の準備時間を短縮することができる。
In other words, the
連結プレート120は、第1の連通孔121が真空孔111と位置合わせされてベースプレート110の上に積層(又は、結合)されてもよく、吸着プレート130は、吸込み孔133が第2の連通孔123と位置合わせされて連結プレート120の上に積層(又は、結合)されてもよい。吸着孔132に真空圧を効果的に形成するためには、吸着孔132と連通される真空チャンバー部131及び第1の連通孔121に対して効果的に真空引きが行われるように前記真空ライン(図示せず)につながる真空孔111と第1の連通孔121との位置合わせ及び第1の連通孔121と真空チャンバー部131との位置合わせが重要である。なお、吸込み孔133を介して第2の連通孔123及び排気連通部122を経て排気孔112に前記工程副産物を効果的に排出するためには、吸込み孔133と第2の連通孔123との位置合わせ及び排気連通部122と排気孔112との位置合わせが重要である。
In the connecting
連結プレート120は、ベースプレート110に結合及び分離されてもよく、ベースプレート110の上に積層されて結合されてもよく、第1の連通孔121が真空孔111に位置合わせされて結合されてもよい。真空孔111と第1の連通孔121は、大きさが互いに略同じであるため、位置合わせされない場合に互いにずれてしまうため、真空孔111と第1の連通孔121を中心として位置合わせしてもよい。大きさが略同じである真空孔111と第1の連通孔121とが位置合わせされると、排気連通部122の平面積が排気孔112の平面積よりもさらに大きいため、ほとんどの排気孔112が排気連通部122の平面積内に位置して排気孔112と排気連通部122とが位置合わせ(又は、効果的に連通)されることが可能になる。
The connecting
ここで、ベースプレート110は、連結プレート120に面する面に形成される第1の位置合わせ結合部115をさらに備えていてもよく、連結プレート120は、ベースプレート110に面する面に第1の位置合わせ結合部115と対応して形成される第2の位置合わせ結合部125をさらに備えていてもよい。第1の位置合わせ結合部115は、ベースプレート110の連結プレート120に面する面(例えば、上部面)に形成されてもよい。これにより、第2の位置合わせ結合部125と相互作用(例えば、結合)をするだけでも、ベースプレート110と連結プレート120とを位置合わせすることができ、第2の位置合わせ結合部125とともに真空孔111と第1の連通孔121とを位置合わせしてベースプレート110と連結プレート120とを結合することができる。
Here, the
第2の位置合わせ結合部125は、連結プレート120のベースプレート110に面する面(例えば、下部面)に形成されてもよく、第1の位置合わせ結合部115と対応して形成されてもよい。ここで、第2の位置合わせ結合部125は、第1の位置合わせ結合部115と相互作用(例えば、結合)をするために第1の位置合わせ結合部115の形状(例えば、突出したピン状)に対応する形状(例えば、凹んだ溝又は孔状)に形成されてもよく、第1の位置合わせ結合部115と対応する位置に配設されてもよい。第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125は、結合などの相互作用をしながらベースプレート110と連結プレート120とを位置合わせしてもよい。これにより、第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125との結合(又は、相互作用)だけでも簡単に真空孔111と第1の連通孔121とを位置合わせしてベースプレート110と連結プレート120とを結合することができる。
The second alignment
例えば、第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125は、ワンタッチ(one−touch)方式によりベースプレート110と連結プレート120とが結合及び分離されるように構成されてもよく、空圧クランプ(clamp)構造であってもよい。第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125のうちのどちらか一方は、突設される結合突起であってもよく、他方は、前記結合突起が嵌入され、嵌入された前記結合突起を空気圧により押し付けて固定する空圧クランプであってもよい。
For example, the first
前記結合突起と前記空圧クランプは、ベースプレート110と連結プレート120にそれぞれ互いに対応する位置に配置されてもよい。例えば、ベースプレート110と連結プレート120のうちのどちらか一方には前記空圧クランプが取り付け可能なクランプ取り付け溝が形成されてもよく、前記空圧クランプに空気圧を与えるように連結フィット(fitting)部材(図示せず)を介して外部空気圧ポンプ(図示せず)につながる別途の空気圧流路(図示せず)が形成されてもよい。なお、ベースプレート110と連結プレート120のうちの他方には、前記空圧クランプに嵌合される前記結合突起が突設されてもよい。
The coupling projection and the pneumatic clamp may be arranged at positions corresponding to each other on the
これらの第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125の構造に応じて、ベースプレート110と連結プレート120とが結合及び分離されることができて、連結プレート120の取り替え作業が非常に便利に且つ速やかに行われることが可能である。すなわち、連結プレート120をベースプレート110に載置して対応する第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125とを結合すると、前記結合突起が前記空圧クランプに嵌入され、この状態で前記空圧クランプに空気圧を供給して前記結合突起が前記空圧クランプに押し付けられて固定されるようにする方式を採用して、連結プレート120の取り替え作業をワンタッチ方式で便利に行うことができる。このとき、第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125とを結合するということは、前記結合突起を前記空圧クランプに嵌入することを意味する。
Depending on the structure of the first alignment
したがって、多数のボルトの締め付け及び取り外しの作業なしにベースプレート110と連結プレート120とを結合及び分離することができ、多数のボルトの締め付け及び取り外しの作業を繰り返し行うことなく、便利に連結プレート120の取り替え作業を行うことができる。また、第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125との結合だけでも真空孔111と第1の連通孔121とを位置合わせしてベースプレート110と連結プレート120とを位置合わせすることができる。したがって、工程テーブル100に対する平坦化作業及びベースプレート110と連結プレート120との別途の位置合わせ作業を行う必要なしに、所望のセル(cell)の大きさ及び形状に対応する工程テーブル100の準備作業を完了することができ、さらに速やかにかつ便利に工程テーブル100の準備作業を行うことが可能である。
Therefore, the
吸着プレート130は、連結プレート120に結合及び分離されてもよく、連結プレート120の上に積層されて結合されてもよく、吸込み孔133が第2の連通孔123に位置合わせされて結合されてもよい。第2の連通孔123と吸込み孔133は、大きさが互いに略同じであるため、位置合わせされない場合に互いにずれてしまうため、第2の連通孔123と吸込み孔133を中心として位置合わせしてもよい。大きさが略同じである第2の連通孔123と吸込み孔133とが位置合わせされれば、真空チャンバー部131の平面積が第1の連通孔121の平面積よりもさらに大きいため、ほとんどの第1の連通孔121が真空チャンバー部131の平面積内に位置して第1の連通孔121と真空チャンバー部131とが位置合わせ(又は、効果的に連通)されることが可能になる。
The
ここで、連結プレート120は、吸着プレート130に面する面に形成される第3の位置合わせ部(図示せず)をさらに備えていてもよく、吸着プレート130は、連結プレート120に面する面に第3の位置合わせ部(図示せず)と対応して形成される第4の位置合わせ部(図示せず)をさらに備えていてもよい。第3の位置合わせ部(図示せず)は、連結プレート120の吸着プレート130に面する面(例えば、上部面)に形成されてもよい。これを通じて、第4の位置合わせ部(図示せず)と相互作用(例えば、結合)をするだけでも連結プレート120と吸着プレート130とを位置合わせすることができ、第2の連通孔123と吸込み孔133とを位置合わせすることができる。このとき、第3の位置合わせ部(図示せず)は、第4の位置合わせ部(図示せず)と結合されながら、連結プレート120と吸着プレート130とを結合してもよい。
Here, the connecting
第4の位置合わせ部(図示せず)は、吸着プレート130の連結プレート120に面する面(例えば、下部面)に形成されてもよく、第3の位置合わせ部(図示せず)と対応して形成されてもよい。ここで、第4の位置合わせ部(図示せず)は、第3の位置合わせ部(図示せず)と相互作用(例えば、結合)をするために第3の位置合わせ部(図示せず)の形状に対応する形状に形成されてもよく、第3の位置合わせ部(図示せず)と対応する位置に配設されてもよい。前記第3の位置合わせ部(図示せず)と前記第4の位置合わせ部(図示せず)は、結合などの相互作用をしながら連結プレート120と吸着プレート130とを位置合わせしてもよい。これにより、前記第3の位置合わせ部(図示せず)と前記第4の位置合わせ部(図示せず)との相互作用だけでも簡単に第2の連通孔123と吸込み孔133とを位置合わせすることができる。
The fourth alignment portion (not shown) may be formed on the surface (for example, the lower surface) of the
例えば、前記第3の位置合わせ部(図示せず)と前記第4の位置合わせ部(図示せず)は、ワンタッチ方式により連結プレート120と吸着プレート130とが結合及び分離されるように構成されてもよく、空圧クランプ構造であってもよい。一方、連結プレート120と吸着プレート130は、第2の連通孔123と吸込み孔133とが位置合わせされた状態で螺合、貼り合わせ(bonding)などにより一体化された状態で配設されてもよい。これを通じて、連結プレート120を(すなわち、一体化された前記吸着プレートと前記連結プレートを)ベースプレート110に結合することにより、工程テーブル100を組立て(又は、準備)することができる。
For example, the third alignment portion (not shown) and the fourth alignment portion (not shown) are configured so that the connecting
図3は、本発明の一実施形態に係る排気連通部と真空チャンバー部を説明するための概念図であって、図3の(a)は、排気連通部を示し、図3の(b)は、真空チャンバー部を示す。 3A and 3B are conceptual diagrams for explaining an exhaust communication part and a vacuum chamber part according to an embodiment of the present invention, FIG. 3A shows an exhaust communication part, and FIG. 3B shows an exhaust communication part. Indicates a vacuum chamber section.
図3を参照すると、真空部110aは、ベースプレート110の中央部に位置してもよく、排気部110bは、ベースプレート110の周縁部に真空部110aを中心として対称となるように位置してもよい。真空部110aは、一つ以上の真空孔111が集まって(又は、グループ化されて)配置される領域であってもよく、ベースプレート110の中央部に位置してもよい。レーザー加工の加工精度を高めるためには、レーザー加工の最中に基板10の安定的な支持(又は、固定)が必要である。ここで、基板10の安定的な支持とは、基板10が撓まない状態を保ちつつ、レーザー加工の最中にも揺れたり捩じれたりしないことを意味する。複数の吸着孔132を介して真空圧で基板10を吸着する場合に、複数の吸着孔132における真空圧がばらついてしまうと、ばらついた真空圧により基板10が撓む虞がある。なお、セルに分割されることに伴い、分割されたセルが真空圧の低い吸着孔132から真空圧の高い吸着孔132へと吸い込まれて前記分割されたセルが動く虞もある。このため、複数の吸着孔132に均一な真空圧を形成するために、ベースプレート110の中央部に真空部110aを配置してもよい。
Referring to FIG. 3, the
すなわち、真空部110aがベースプレート110の中央部において空気を吸い込むことにより、複数の吸着孔132に均一な真空圧が形成されることが可能になり、基板10が撓むことなく、吸着孔132の上に安定的に吸着されて支持されることが可能になる。真空部110aは、複数の真空孔111を介して複数の吸着孔132に基板10を吸着するための真空圧を与えるので、真空部110aがベースプレート110の周縁部に位置する場合には、一つの真空ポンプ(図示せず)を中心として複数の真空孔111を対称状に配置することができないか、あるいは、たとえ複数の真空孔111を対称状に配置するとしても、真空ライン(図示せず)の長さが長くなり過ぎて真空圧力(又は、真空の吸込み力)が低下する虞がある。また、複数の真空ポンプ(図示せず)を用いると、複数の真空ポンプ(図示せず)の間で真空圧力をマッチング(matching)することが困難になる。なお、複数の真空孔111から吸着プレート130の中央部の吸着孔132までの距離が長くなって、セルが主として位置する吸着プレート130の中央部の吸着(固定)力が弱くなる虞がある。これにより、分割されたセルを安定的に支持することができなくなる虞がある。
That is, the
しかしながら、真空部110aがベースプレート110の中央部に位置する場合には、真空ライン(図示せず)の長さが長くなり過ぎることを防ぎつつ、一つの真空ポンプ(図示せず)を中心として複数の真空孔111を対称状に配置してもよい。これにより、複数の吸着孔132に均一な真空圧を安定的に形成することができ、一つの真空ポンプ(図示せず)を用いて、複数の真空ポンプ(図示せず)による真空圧力のマッチングを行わなくても済む。また、ベースプレート110の中央部に位置する複数の真空孔111から吸着プレート130の中央部の吸着孔132までの距離が短くなるので、セルが主として位置する基板10の中央部を安定的に吸着することができ、分割されたセルもまた安定的に吸着支持することができる。
However, when the
排気部110bは、一つ以上の排気孔112が集まって(又は、グループ化されて)配置される領域であってもよく、ベースプレート110の周縁部に真空部110aを中心として対称となるように位置してもよい。すなわち、排気部110bは、複数の領域が真空部110aを中心として対称となるように位置してもよい。ここで、排気部110bは、前記工程副産物を吸込み孔133から排気孔112へと排出さえすればよいので、たとえ複数の吸込み孔133の吸込み力(又は、吸込み圧力)がばらついていたとしても、大きな問題にならない。そこで、複数の吸込み孔133の吸込み力がばらついていてもよいので、排気部110bをベースプレート110の周縁部に配置してベースプレート110の周縁部に前記工程副産物を排出することができる。
The
このとき、排気部110bをベースプレート110の周縁部に真空部110aを中心として非対称状に配置すると、排気部110bの反対側の周縁部には排気孔112が配設されない虞がある。なお、吸着プレート130の前記反対側の周縁部に位置する吸込み孔133は、排気孔112からの距離が遠過ぎるため、吸込み力が正常に与えられない虞があり、前記工程副産物が円滑に排気(又は、排出)されない虞がある。
At this time, if the
このため、排気部110bをベースプレート110の周縁部に真空部110aを中心として対称状に配置すると、前記工程副産物が円滑に排気されずに溜まる部分なしに前記工程副産物を効果的に排出することができる。
Therefore, if the
本発明に係るレーザー加工用の工程テーブル100は、真空孔111と第1の連通孔121とを連通させる第3の連通孔141及び排気孔112と排気連通部122とを連通させる第4の連通孔142を備え、ベースプレート110と連結プレート120との間に介在するシールプレート140をさらに備えていてもよい。
The process table 100 for laser machining according to the present invention has a
シールプレート140は、ベースプレート110と連結プレート120との間に介在させてもよく、着脱(又は、結合及び分離)される連結プレート120とベースプレート110との隙間(gap)をなくしても良い。連結プレート120がベースプレート110に着脱されるため、連結プレート120とベースプレート110との間に隙間が生じる虞があり、このような隙間への前記工程副産物の漏れ(leak)及び/又は真空の漏れ(leak)が生じる虞がある。このため、ベースプレート110と連結プレート120との間にシールプレート140を介在させることにより、連結プレート120とベースプレート110とが結合された状態で連結プレート120とベースプレート110との間の隙間を抑制もしくは防止することができる。これにより、連結プレート120とベースプレート110との間の隙間による前記工程副産物の漏れ及び/又は真空の漏れを抑制もしくは防止することができる。
The
ここで、シールプレート140は、真空孔111と第1の連通孔121とを連通させる第3の連通孔141及び排気孔112と排気連通部122とを連通させる第4の連通孔142を備えていてもよい。第3の連通孔141は、真空孔111と第1の連通孔121とを連通させてもよく、真空ライン(図示せず)につながる真空孔111、第3の連通孔141、第1の連通孔121、真空チャンバー部131及び吸着孔132が連通されて吸着孔132に真空圧が与えられてもよい。第3の連通孔141は、真空孔111及び第1の連通孔121に対応して配設されてもよく、真空孔111及び第1の連通孔121に位置合わせされて真空孔111との間及び第1の連通孔121との間において真空の漏れが生じないようにしてもよい。一方、第3の連通孔141は、第1の連通孔121の少なくとも一部が嵌入されるように配設されてもよい。
Here, the
第4の連通孔142は、排気孔112と排気連通部122とを連通させてもよく、排気ライン(図示せず)につながる排気孔112、第4の連通孔142、排気連通部122、第2の連通孔123及び吸込み孔133が連通されて吸込み孔133から前記工程副産物が排出されてもよい。
The
このとき、シールプレート140は、排気連通部122に対応して配設されてもよく、第4の連通孔142は、排気孔112と対応して配設されてもよい。シールプレート140は、排気連通部122に対応して配設されることにより、排気連通部122の底面を提供することができ、前記工程副産物が広い排気連通部122から第4の連通孔142へと溜まって排気孔112に排出され(又は、引き渡され)てもよい。連結プレート120には、前記工程副産物が流動できるように広い排気連通部122が形成されており、第1の連通孔121は、真空孔111と真空チャンバー部131とを連通させ得るように厚さ方向に貫通されるだけであるため、第1の連通孔121は、第2の密着パッド152などでも十分に真空の漏れを防ぐことができる。しかしながら、排気連通部122は面積が広いため、第1の密着パッド151だけでは前記工程副産物の漏れを防ぎ難いため、シールプレート140は、必ず排気連通部122に対応して配設される必要がある。例えば、シールプレート140は、少なくとも一部が排気連通部122の内部空間に嵌入されて排気連通部122の底面を提供するように構成されてもよい。なお、シールプレート140は、第1の連通孔121の少なくとも一部が第3の連通孔141に嵌入できるように構成されてもよい。
At this time, the
ここで、シールプレート140は、金属材質(例えば、アルミニウム)製のものであってもよく、レーザー加工により温度が昇温しても影響(例えば、歪み)がない材料から形成されてもよい。なお、シールプレート140は、連結プレート120に結合(又は、前記連結プレートと一体化)されて配設されてもよく、接着剤(adhesive)などにより貼り合わせられて連結プレート120に結合されてもよい。一方、シールプレート140は、弾性を有する材質(例えば、ゴム)から形成されてもよく、ベースプレート110及び連結プレート120との密着力を高めることができる。
Here, the
因みに、第4の連通孔142は、排気孔112と対応して配設されてもよく、排気孔112と排気連通部122とを連通させてもよく、排気連通部122の面積内に配設されてもよい。これにより、排気孔112及び排気連通部122に位置合わせされて排気孔112との間及び排気連通部122との間において前記工程副産物の漏れが生じないようにすることができる。
Incidentally, the
また、排気連通部122は、第1の連通孔121及び第3の連通孔141と画成(又は、区画)されて配設されてもよい。すなわち、前記工程副産物の排出のために、前記工程副産物が流れる空間(又は、流路)と真空引きが行われる空間とが仕切られていてもよい。これにより、効果的に前記工程副産物を排出することができ、前記真空引きが行われる空間においても円滑に真空引きが行われることが可能になる。排気連通部122は、連結プレート120に形成されて前記工程副産物が流動できる広い空間を持たせることにより、互いに連通される広い空間を介して一つの排気孔112と複数の第2の連通孔123及び吸込み孔133を連通させることができる。これにより、単一(又は、少数)の排気孔112でも複数(又は、多数)の吸込み孔133から前記工程副産物を排気(又は、排出)することができる。
Further, the exhaust communication portion 122 may be arranged so as to be defined (or partitioned) from the
一方、吸着プレート130には、吸込み孔133及び第2の連通孔123と画成(又は、区分)されて真空チャンバー部131が形成されることにより、吸着プレート130の内部の広い空間に対して真空引きが行われることが可能になる。これを通じて、吸着プレート130の広い面積(すなわち、複数の前記吸着孔)に効果的に均一な真空圧を形成することができる。
On the other hand, the
本発明に係るレーザー加工用の工程テーブル100は、排気孔112の周りに配設されて、シールプレート140に密着される第1の密着パッド151をさらに備えていてもよい。
The process table 100 for laser processing according to the present invention may further include a
第1の密着パッド151は、排気孔112の周りに配設されてもよく、シールプレート140に密着されてもよい。これにより、排気孔112と第4の連通孔142との間において前記工程副産物の漏れが生じることを防ぐことができる。すなわち、第1の密着パッド151は、連結プレート120がベースプレート110に結合されながら、ベースプレート110と連結プレート120との間に介在するシールプレート140が密着されてもよく、反対の面にはベースプレート110が密着されてもよい。これにより、ベースプレート110と第1の密着パッド151との間及び第1の密着パッド151とシールプレート140との間の隙間をなくすことができる。
The
ここで、第1の密着パッド151は、排気孔112及び第4の連通孔142と連通される貫通孔を有していてもよく、弾性を有して連結プレート120とベースプレート110との結合により圧着されながらシールプレート140及びベースプレート110と密着されてもよい。例えば、第1の密着パッド151は、蛇腹タイプ(bellows type)に構成されてもよく、Oリング状であってもよい。しかしながら、これに何ら限定されず、連結プレート120とベースプレート110との結合により圧着されながらシールプレート140及びベースプレート110と密着できればよい。
Here, the
一方、シールプレート140を用いない場合には、第1の密着パッド151が連結プレート120に密着されてもよく、第1の密着パッド151が排気孔112と連通される貫通孔を有して、第1の密着パッド151の貫通孔を介して排気連通部122から排気孔112へと前記工程副産物が排出されてもよい。このとき、連結プレート120には、排気連通部122が内部の管路に形成されてもよく、排気孔112と連通される第5の連通孔(図示せず)がさらに形成されてもよい。なお、第1の密着パッド151の貫通孔は、排気孔112及び第5の連通孔(図示せず)と連通されてもよい。
On the other hand, when the
本発明に係るレーザー加工用の工程テーブル100は、真空孔111の周りに配設されて、連結プレート120に密着される第2の密着パッド152をさらに備えていてもよい。
The process table 100 for laser processing according to the present invention may further include a
第2の密着パッド152は、真空孔111の周りに配設されてもよく、連結プレート120に密着されてもよい。これにより、真空孔111と第1の連通孔121との間において真空の漏れが生じることを防ぐことができる。すなわち、第2の密着パッド152は、連結プレート120がベースプレート110に結合されながら連結プレート120が密着されてもよく、反対の面にはベースプレート110が密着されてもよい。これにより、ベースプレート110と第1の密着パッド151との間及び第1の密着パッド151と連結プレート120との間の隙間をなくすことができ、真空の漏れが防がれることが可能になる。
The
ここで、第2の密着パッド152は、第1の密着パッド151と同じ形状(又は、構造)を有していてもよく、異なる形状を有してもよいが、これに何ら限定されず、連結プレート120とベースプレート110との結合により圧着されながら連結プレート120及びベースプレート110と密着できればよい。
Here, the
一方、シールプレート140を用いる場合には、第2の密着パッド152がシールプレート140に密着されてもよい。
On the other hand, when the
図4は、本発明の一実施形態に係るカットライン溝を説明するための概念図であり、図4の(a)は、カットライン溝の平面図(又は、上面図)であり、図4の(b)は、カットライン溝をB−B’に沿って切り取った断面図である。 4A and 4B are conceptual views for explaining a cutline groove according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4A is a plan view (or a top view) of the cutline groove and FIG. 4A. (B) is a cross-sectional view of a cut line groove cut along BB'.
図4を参照すると、吸着プレート130の吸着面には、吸込み孔133と連通されるカットライン溝134が形成されてもよい。カットライン溝134は、所望のセルの大きさ及び形状に合わせて基板10に対してレーザーカットを行うためのレーザーカットラインに沿って形成されてもよく、カットライン溝134に沿って(複数の)吸込み孔133が配列されて吸込み孔133と連通されてもよい。このように、カットライン溝134を形成する場合には、レーザーカットを行いながらレーザーの強いエネルギーが吸着プレート130の表面に当たることを抑制もしくは防止することができて、レーザーによる吸着プレート130及び工程テーブル100の損傷を防ぐことができる。
Referring to FIG. 4, a
カットライン溝134に沿ってレーザーカットを行うため、ほとんどの前記工程副産物がカットライン溝134に溜まることになる。これにより、カットライン溝134に吸込み孔133を配置して、前記工程副産物が多く生じる部分から集中的に前記工程副産物を排気(又は、排出)することができる。なお、分割されたセルが位置すべき他の部分には吸着孔132を配置して、基板10及び前記分割されたセルを安定的に吸着支持(又は、固定)することができる。
Since the laser cut is performed along the
ここで、カットライン溝134の底面は、内側方向に傾斜するか、あるいは、屈曲されてもよい。カットライン溝134の底面とカットライン溝134の側壁との間に隅角部が生じてしまうと、奥側の隅角部には排気吸込み力による気流(又は、排気の流れ)の影響が及ばないために前記工程副産物が残ってしまう。すなわち、コアンダ効果(coanda effect)により排気吸込み力による気流がカットライン溝134の側壁に沿って垂直に形成され、カットライン溝134の底面とカットライン溝134の側壁との間の隅角部に溜まった前記工程副産物は吸込み孔133に導かれることができなくなる。このため、カットライン溝134の底面を内側方向に傾斜させるか、あるいは、屈曲させることにより、カットライン溝134の底面とカットライン溝134の側壁との間に隅角部が生じることを防ぐことができる。なお、コアンダ効果により排気吸込み力による気流をカットライン溝134の底面に沿って形成して、吸込み孔133の周りの外郭に排気吸込み力による気流の影響が及ばないために残ってしまう前記工程副産物なしに、前記工程副産物を効果的に排気することができる。
Here, the bottom surface of the
カットライン溝134は、基板10のセルの分割のためのセルの大きさに応じて配設されてもよい。なお、吸着プレート130は、前記セルの大きさに対応するカットライン溝134に沿って取り替え可能であり、連結プレート120は、前記対応するカットライン溝134の吸込み孔133に対応する第2の連通孔123に沿って取り替え可能である。すなわち、基板10の載置領域と所望のセルの大きさ及び形状に合わせてカットライン溝134が形成された吸着プレート130を取り替えることにより、簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供することができる。
The
レーザーカットラインは、セルの大きさ及び形状に応じて異なるため、カットライン溝134は、基板10のセルの分割のためのセルの大きさに応じて配設されてもよく、セルの大きさ及び形状に応じて異なってくるレーザーカットラインに対応して配設されてもよい。
Since the laser cut line differs depending on the size and shape of the cell, the
カットライン溝134は、吸着プレート130の吸着面の上に形成されるため、所望のセルの大きさ及び形状に対応するカットライン溝134を配設するためには、吸着プレート130の取り替えが必要である。このため、吸着プレート130は、前記セルの大きさに対応するカットライン溝134に沿って取り替え可能なように配設されてもよい。
Since the
因みに、吸着プレート130が変更されれば、カットライン溝134の位置(及び、形状)に応じて吸込み孔133の配列が変化することができるので、これにより、連結プレート120は、前記対応するカットライン溝134の吸込み孔133に対応する第2の連通孔123に応じて取り替え可能である。すなわち、カットライン溝134の位置に応じて変化した吸込み孔133の配列に合わせて、第2の連通孔123が形成された連結プレート120に吸着プレート130と同様に取り替える(又は、変更する)ことができる。
Incidentally, if the
図5は、本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置を示す図であって、図5の(a)は、レーザー加工装置の斜視図であり、図5の(b)は、レーザー加工装置の側面図である。 5A and 5B are views showing a laser processing apparatus according to another embodiment of the present invention, FIG. 5A is a perspective view of the laser processing apparatus, and FIG. 5B is a laser processing apparatus. It is a side view of the apparatus.
図5に基づいて、本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置についてさらに詳しく説明するが、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルに関して以上において説明された部分と重複する事項は省略する。 The laser processing apparatus according to another embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIG. 5, but the matters overlapping with the parts described above with respect to the process table for laser processing according to one embodiment of the present invention. Is omitted.
本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置200は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブル100と、前記工程テーブル100の上に支持された基板10の上に前記吸込み孔133の配列に従ってレーザーを照射するレーザー部210と、を備えていてもよい。
The
レーザー加工用の工程テーブル100は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブル100であってもよく、基板10を安定的に吸着支持(又は、固定)することができるだけではなく、レーザー加工の最中に生じて工程テーブル100の上に溜まる前記工程副産物もまた外部に排出して除去することができる。
The process table 100 for laser processing may be the process table 100 for laser processing according to the embodiment of the present invention, and not only can the
レーザー部210は、工程テーブル100の上に支持された基板10の上に吸込み孔133の配列に従ってレーザーを照射して基板10に対してレーザーカットを行うことにより、基板10をセルとダミーとに分割することができる。ここで、吸込み孔133は、カットライン溝134に沿って配列されてもよく、レーザー部210は、カットライン溝134に沿ってレーザーを照射してもよい。
The
本発明に係るレーザー加工装置200は、吸着プレート130の上に配置されて基板10の上に浮遊する工程副産物を吸い込むサクションフード部220をさらに備えていてもよい。
The
サクションフード部220は、吸着プレート130の上に配置されてもよく、基板10の上に浮遊する工程副産物を吸い込んでもよい。これを通じて、工程テーブル100の上に溜まる前記工程副産物は、吸込み孔133を介して排出することができ、前記基板10の上に浮遊する工程副産物は、サクションフード部220を介して排出することができ、これにより、レーザー加工の最中に生じる工程副産物を効果的に除去することができる。
The
例えば、サクションフード部220は、基板10の表面に沿って気体を吹き付けて基板10の上に工程副産物を浮遊させるガス噴射部(図示せず)と、前記浮遊する工程副産物を吸い込むサクション部(図示せず)と、を備えていてもよい。ガス噴射部(図示せず)は、基板10の表面に沿って気体を吹き付けて基板10の上に工程副産物を浮遊させてもよく、基板10の表面にくっついた工程副産物までも除去してパーティクルなどの工程副産物によるセルの不良を抑制もしくは防止することができる。
For example, the
サクション部(図示せず)は、前記浮遊する工程副産物を吸い込んでもよく、レーザー加工を行いながら、自然に浮遊する工程副産物だけではなく、ガス噴射部(図示せず)により浮遊された工程副産物までも吸い込んで排出することができる。 The suction section (not shown) may suck in the floating process by-products, and while performing laser processing, not only the naturally floating process by-products but also the process by-products suspended by the gas injection section (not shown). Can also be inhaled and discharged.
因みに、サクションフード部220は、レーザー部210の周りに配置されてもよく、レーザー部210に伴って一体に移動してもよい。例えば、本発明のレーザー加工装置200は、レーザー部210とサクションフード部220とを移動させる駆動部(図示せず)をさらに備えていてもよい。
Incidentally, the
駆動部(図示せず)は、レーザー部210とサクションフード部220とを移動させてよく、レーザー部210とサクションフード部220とを一体にかつ一括して移動させてもよい。これにより、レーザー加工を行いながら、浮遊する前記工程副産物を直ちにサクションフード部220を介して吸い込んで排出することができる。
The drive unit (not shown) may move the
このように、本発明のレーザー加工装置200は、吸着プレート130の上のレーザー部210の周りにサクションフード部220を付設して、レーザー加工に際して基板10の上に生じるヒューム及びパーティクルなどの工程副産物もまた効果的に除去することができる。
As described above, in the
このように、本発明においては、真空孔、第1の連通孔、真空チャンバー部及び吸着孔が連通され、排気孔、排気連通部、第2の連通孔及び吸込み孔が連通されるベースプレート、連結プレート及び吸着プレートから構成されて、外部の真空ライン及び排気ラインとつながっているベースプレートは固定された状態で、分割されるセルの大きさ及び形状に応じて、基板が支持される吸着プレート及び/又は連結プレートを取り替えることができる。これにより、全体的な工程テーブルの取り替えなしに吸着プレート及び/又は連結プレートのみを取り替えて、簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供することができる。これを通じて、セルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供するために、従来のように、工程テーブルを全体的に解体し、多数のボルトを締め付けて結合する作業を繰り返し行わなくても、便利に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供することができる。また、工程テーブルを全体的に取り替えることなく、ベースプレートは固定されて真空ライン及び排気ラインの分離及び結合が不要になるので、真空ライン及び排気ラインを工程テーブルに結合及び分離する時間を短縮することができ、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルの準備時間を短縮することができる。さらに、第1の位置合わせ結合部と第2の位置合わせ結合部を介してベースプレートと連結プレートとを結合するだけで、ベースプレートと連結プレートとを位置合わせすることができる。これにより、工程テーブルに対する平坦化作業、並びにベースプレート、連結プレート及び吸着プレートの間の位置位置合わせ作業を行う必要なしに、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルの準備作業を完了することができ、さらに速やかに且つ便利に工程テーブルの準備作業を行うことが可能である。なお、カットライン溝の底面を内側方向に傾斜させるか、あるいは、屈曲させることにより、吸込み孔の周りの外郭に気流の影響が及ばないために残ってしまう工程副産物なしに、工程副産物を効果的に排気することができる。一方、このようなレーザー加工用の工程テーブルを備えるレーザー加工装置において、吸着プレートの上のレーザー部の周りにサクションフード部を付設して、レーザー加工に際して基板の上に生じるヒューム及びパーティクルなどの工程副産物もまた効果的に除去することができる。 As described above, in the present invention, the base plate through which the vacuum hole, the first communication hole, the vacuum chamber portion and the suction hole are communicated, and the exhaust hole, the exhaust communication portion, the second communication hole and the suction hole are communicated, and connected. The base plate, which is composed of a plate and a suction plate and is connected to an external vacuum line and an exhaust line, is fixed, and a suction plate and / Alternatively, the connecting plate can be replaced. This makes it possible to easily provide a process table corresponding to a desired cell size and shape by replacing only the adsorption plate and / or the connecting plate without replacing the entire process table. Through this, in order to provide a process table corresponding to the size and shape of the cell, it is not necessary to repeatedly disassemble the process table as a whole and tighten and connect a large number of bolts as in the conventional case. It is possible to conveniently provide a process table corresponding to a desired cell size and shape. In addition, since the base plate is fixed and the separation and connection of the vacuum line and the exhaust line are not required without replacing the process table as a whole, the time for connecting and separating the vacuum line and the exhaust line to the process table can be shortened. This makes it possible to shorten the preparation time of the process table corresponding to the desired cell size and shape. Further, the base plate and the connecting plate can be aligned only by connecting the base plate and the connecting plate via the first alignment joint portion and the second alignment joint portion. This completes the process table preparation work corresponding to the desired cell size and shape without the need to perform flattening work on the process table and alignment work between the base plate, connecting plate and suction plate. It is possible to prepare the process table more quickly and conveniently. By inclining or bending the bottom surface of the cut line groove inward, the process by-product is effective without the process by-product that remains because the outer shell around the suction hole is not affected by the air flow. Can be exhausted to. On the other hand, in a laser processing apparatus provided with such a process table for laser processing, a suction hood portion is attached around the laser portion on the adsorption plate, and processes such as fume and particles generated on the substrate during laser processing are performed. By-products can also be effectively removed.
前記説明において用いた「〜の上に」という意味は、直接的に接触する場合と、直接的に接触はしないものの、上部又は下部に対向して位置する場合と、を含み、上部面又は下部面の全体に対向して位置することも可能であれば、部分的に対向して位置することも可能であり、位置的に離れて対向する、あるいは、上部面又は下部面に直接的に接触するという意味で用いた。 The meaning of "on top of" used in the above description includes the case of direct contact and the case of not directly contacting but being located facing the upper part or the lower part, and includes the upper surface or the lower part. It can be located facing the entire surface, or it can be located partially opposed, facing away from the position, or in direct contact with the upper or lower surface. It was used in the sense of doing.
以上、本発明の好適な実施形態について図示して説明したが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、請求の範囲において請求する本発明の要旨を逸脱することなく、当該本発明が属する分野において通常の知識を有する者であれば、これより様々な変形が行え、且つ、均等な他の実施形態が採用可能であるということが理解できる筈である。よって、本発明の技術的な保護範囲は、次の特許請求の範囲によって定められるべきである。 Although the preferred embodiments of the present invention have been illustrated and described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and does not deviate from the gist of the claimed invention within the scope of the claims. Anyone who has ordinary knowledge in the field to which the present invention belongs should be able to understand that various modifications can be made and other uniform embodiments can be adopted. Therefore, the technical protection scope of the present invention should be defined by the following claims.
10:基板
100:工程テーブル
110:ベースプレート
110a:真空部
110b:排気部
111:真空孔
112:排気孔
115:第1の位置合わせ結合部
120:連結プレート
121:第1の連通孔
122:排気連通部
123:第2の連通孔
125:第2の位置合わせ結合部
130:吸着プレート
131:真空チャンバー部
132:吸着孔
133:吸込み孔
134:カットライン溝
140:シールプレート
141:第3の連通孔
142:第4の連通孔
151:第1の密着パッド
152:第2の密着パッド
200:レーザー加工装置
210:レーザー部
220:サクションフード部
10: Substrate 100: Process table 110:
Claims (16)
前記真空孔に連通されて厚さ方向に延びる第1の連通孔及び前記排気孔と連通されて厚さ方向に延びる第2の連通孔を有する連結プレートと、
前記第1の連通孔と連通されて基板を吸着する吸着孔及び前記第2の連通孔と連通されて厚さ方向に延びる吸込み孔を有する吸着プレートと、
を備えるレーザー加工用の工程テーブル。 A base plate having a vacuum part having a vacuum hole connected to the vacuum line and an exhaust part having an exhaust part for discharging process by-products through the exhaust hole connected to the exhaust line.
A connecting plate having a first communication hole that communicates with the vacuum hole and extends in the thickness direction and a second communication hole that communicates with the exhaust hole and extends in the thickness direction.
A suction plate having a suction hole that communicates with the first communication hole to suck the substrate and a suction hole that communicates with the second communication hole and extends in the thickness direction.
A process table for laser machining.
前記吸着プレートは、前記第1の連通孔と前記吸着孔との間に形成されて、前記第1の連通孔及び前記吸着孔と連通される真空チャンバー部をさらに備える請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The connecting plate is further provided with an exhaust communication portion formed between the exhaust hole and the second communication hole or between the second communication hole and the suction hole to allow the process by-products to flow. ,
The laser according to claim 1, wherein the suction plate is further provided with a vacuum chamber portion formed between the first communication hole and the suction hole and communicated with the first communication hole and the suction hole. Process table for processing.
前記第4の連通孔は、前記排気孔と対応して配設される請求項4に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The seal plate is arranged so as to correspond to the exhaust communication portion.
The process table for laser processing according to claim 4, wherein the fourth communication hole is arranged corresponding to the exhaust hole.
前記排気部は、前記ベースプレートの周縁部に前記真空部を中心として対称となるように位置する請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The vacuum portion is located in the central portion of the base plate.
The process table for laser processing according to claim 1, wherein the exhaust portion is located on the peripheral edge portion of the base plate so as to be symmetrical with respect to the vacuum portion.
前記連結プレートは、前記ベースプレートに面する面に前記第1の位置合わせ結合部と対応して形成される第2の位置合わせ結合部をさらに備える請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The base plate further comprises a first alignment joint formed on a surface facing the connecting plate.
The process table for laser machining according to claim 1, wherein the connecting plate further includes a second aligned joint formed on a surface facing the base plate so as to correspond to the first aligned joint.
前記吸着プレートは、前記セルの大きさに対応するカットライン溝に沿って取り替え可能であり、
前記連結プレートは、前記対応するカットライン溝の吸込み孔に対応する第2の連通孔に沿って取り替え可能である請求項11に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The cut line groove is arranged according to the size of the cell for dividing the cell of the substrate.
The suction plate can be replaced along a cut line groove corresponding to the size of the cell.
The process table for laser machining according to claim 11, wherein the connecting plate is replaceable along a second communication hole corresponding to the suction hole of the corresponding cut line groove.
前記工程テーブルの上に支持された基板の上に前記吸込み孔の配列に従ってレーザーを照射するレーザー部と、
を備えるレーザー加工装置。 The process table for laser processing according to any one of claims 1 to 13.
A laser unit that irradiates a laser on a substrate supported on the process table according to the arrangement of the suction holes.
Laser processing equipment equipped with.
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