JP2022001382A - Process table for laser processing and laser processing device with the same - Google Patents

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Abstract

To provide a process table for laser processing that can have a connection plate and a suction plate replaced according to the size of cells into which a substrate is divided, and a laser processing device with the same.SOLUTION: The present invention relates to a process table for laser processing which is easy to assemble and detach, and a laser processing device with the same. The process table for laser processing may comprise: a base plate which has a vacuum part having a vacuum hole connecting with a vacuum line and an exhaust part for discharging a process byproduct through an exhaust hole connected to an exhaust line; a connection plate which has a first communication hole communicated with the vacuum hole and extending along a thickness and a second communication hole communicated with the exhaust hole and extending along the thickness direction; and a suction plate which has a suction hole communicated with the first communication hole and sucking a substrate and a sucking hole communicated with the second communication hole and extending along the thickness direction.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、レーザー加工用の工程テーブル及びこれを備えるレーザー加工装置に係り、さらに詳しくは、組立てと取り外しが行いやすいレーザー加工用の工程テーブル及びこれを備えるレーザー加工装置に関する。 The present invention relates to a process table for laser processing and a laser processing device including the process table for laser processing, and more particularly to a process table for laser processing which is easy to assemble and disassemble and a laser processing device including the process table.

ディスプレイ装置(display device)は、スマートフォン、タブレットパソコン、ラップトップコンピューター、デジタルカメラ、ビデオ付きカメラ、携帯情報端末などのモバイル装置や、スリム型テレビ、展示用ディスプレイ、広告板などの電子製品に用いられている。 Display devices (display devices) are used in mobile devices such as smartphones, tablet PCs, laptop computers, digital cameras, cameras with videos, and personal digital assistants, and electronic products such as slim TVs, display displays, and billboards. ing.

このようなディスプレイ装置に用いられるフィルム(Film)は、原反シート(sheet)をモバイル(mobile)、ノート型パソコン(Note−book)、ウォッチ(Watch)などの製品に用いるためにユーザーが希望する大きさ(size)及び形状のセル(cell)単位でカット(cutting)して用いる。 The film used for such a display device is desired by the user to use the original sheet for products such as mobile, notebook personal computer (Note-book), and watch (Watch). It is used by cutting in units of size and shape cells.

従来には、所望の大きさ及び形状のセル単位でカットできるように工程テーブル(process table)を設計及び製作し、レーザー(laser)カットの際に生じるヒューム(fume)、パーティクル(particle)及び汚染物質などの工程副産物を取り除いていた。 Conventionally, a process table has been designed and manufactured so that it can be cut in cell units of a desired size and shape, and smoke, particles and contamination generated during laser cutting have been performed. Process by-products such as substances were removed.

従来の工程テーブルには、基板の載置領域とセルの大きさ及び形状に合わせてレーザー加工を行うために、レーザーカットライン(laser cutting line)に沿ってカットライン溝(cutting line groove)が形成されていた。これにより、色々な製品の大きさ及び形状に対応するために、セルの大きさ及び形状に応じて複数の工程テーブルを別途に製作することを余儀なくされ、加工しようとするセルの大きさ及び形状に合わせて作業者が自ら工程テーブルを取り替えることを余儀なくされていた。 In the conventional process table, a cutting line groove is formed along the laser cutting line in order to perform laser processing according to the mounting area of the substrate and the size and shape of the cell. It had been. This forces us to separately manufacture multiple process tables according to the size and shape of the cell in order to accommodate the size and shape of various products, and the size and shape of the cell to be processed. Workers were forced to replace the process table by themselves.

大韓民国公開特許公報第10−2017−0051598号Republic of Korea Published Patent Gazette No. 10-2017-0051598

本発明は、基板を分割するセルの大きさに応じて、連結プレート及び吸着プレートを取り替え可能なレーザー加工用の工程テーブル及びこれを備えるレーザー加工装置を提供する。 The present invention provides a process table for laser processing in which the connecting plate and the suction plate can be replaced according to the size of the cell that divides the substrate, and a laser processing apparatus including the process table.

本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルは、真空ラインにつながる真空孔を有する真空部と、排気ラインにつながる排気孔を介して工程副産物を排出する排気部と、を有するベースプレートと、前記真空孔に連通されて厚さ方向に延びる第1の連通孔及び前記排気孔と連通されて厚さ方向に延びる第2の連通孔を有する連結プレートと、前記第1の連通孔と連通されて基板を吸着する吸着孔及び前記第2の連通孔と連通されて厚さ方向に延びる吸込み孔を有する吸着プレートと、を備えていてもよい。 A process table for laser processing according to an embodiment of the present invention includes a base plate having a vacuum portion having a vacuum hole connected to a vacuum line and an exhaust portion having a process by-product discharged through the exhaust hole connected to the exhaust line. , A connecting plate having a first communication hole communicated with the vacuum hole and extending in the thickness direction and a second communication hole communicated with the exhaust hole and extending in the thickness direction, and communication with the first communication hole. It may be provided with a suction plate having a suction hole for sucking the substrate and a suction hole which is communicated with the second communication hole and extends in the thickness direction.

前記吸着プレートと前記連結プレートは、前記ベースプレートから分離可能であってもよい。 The adsorption plate and the connecting plate may be separable from the base plate.

前記連結プレートは、前記排気孔と前記第2の連通孔との間、又は前記第2の連通孔と前記吸込み孔との間に形成されて、前記工程副産物が流動する排気連通部をさらに備え、前記吸着プレートは、前記第1の連通孔と前記吸着孔との間に形成されて、前記第1の連通孔及び前記吸着孔と連通される真空チャンバー部をさらに備えていてもよい。 The connecting plate is further provided with an exhaust communication portion formed between the exhaust hole and the second communication hole, or between the second communication hole and the suction hole, through which the process by-products flow. The suction plate may further include a vacuum chamber portion formed between the first communication hole and the suction hole and communicated with the first communication hole and the suction hole.

前記レーザー加工用の工程テーブルは、前記真空孔と前記第1の連通孔とを連通させる第3の連通孔及び前記排気孔と前記排気連通部とを連通させる第4の連通孔を有し、前記ベースプレートと前記連結プレートとの間に介在するシールプレートをさらに備えていてもよい。 The process table for laser machining has a third communication hole for communicating the vacuum hole and the first communication hole, and a fourth communication hole for communicating the exhaust hole and the exhaust communication portion. A seal plate interposed between the base plate and the connecting plate may be further provided.

前記シールプレートは、前記排気連通部に対応して配設され、前記第4の連通孔は、前記排気孔と対応して配設されてもよい。 The seal plate may be arranged corresponding to the exhaust communication portion, and the fourth communication hole may be arranged corresponding to the exhaust hole.

前記排気連通部は、前記第1の連通孔及び前記第3の連通孔と画成されて配設されてもよい。 The exhaust communication portion may be arranged so as to be defined as the first communication hole and the third communication hole.

前記レーザー加工用の工程テーブルは、前記排気孔の周りに配設されて、前記シールプレートに密着される第1の密着パッドをさらに備えていてもよい。 The process table for laser processing may further include a first contact pad that is disposed around the exhaust hole and is brought into close contact with the seal plate.

前記レーザー加工用の工程テーブルは、前記真空孔の周りに配設されて、前記連結プレートに密着される第2の密着パッドをさらに備えていてもよい。 The process table for laser processing may further include a second contact pad that is disposed around the vacuum hole and is brought into close contact with the connecting plate.

前記真空部は、前記ベースプレートの中央部に位置し、前記排気部は、前記ベースプレートの周縁部に前記真空部を中心として対称となるように位置してもよい。 The vacuum portion may be located at the center of the base plate, and the exhaust portion may be located at the peripheral edge of the base plate so as to be symmetrical with respect to the vacuum portion.

前記ベースプレートは、前記連結プレートに面する面に形成される第1の位置合わせ結合部をさらに備え、前記連結プレートは、前記ベースプレートに面する面に前記第1の位置合わせ結合部と対応して形成される第2の位置合わせ結合部をさらに備えていてもよい。 The base plate further comprises a first alignment joint formed on a surface facing the base plate, the connecting plate corresponding to the first alignment joint on a surface facing the base plate. It may further include a second alignment joint to be formed.

前記吸着プレートの吸着面には、前記吸込み孔と連通されるカットライン溝が形成されてもよい。 A cut line groove communicating with the suction hole may be formed on the suction surface of the suction plate.

前記カットライン溝の底面は、内側方向に傾斜するか、あるいは、屈曲されてもよい。 The bottom surface of the cut line groove may be inclined inward or bent.

前記カットライン溝は、前記基板のセルの分割のためのセルの大きさに応じて配設され、前記吸着プレートは、前記セルの大きさに対応するカットライン溝に沿って取り替え可能であり、前記連結プレートは、前記対応するカットライン溝の吸込み孔に対応する第2の連通孔に沿って取り替え可能であってもよい。 The cut line groove is arranged according to the size of the cell for dividing the cell of the substrate, and the suction plate can be replaced along the cut line groove corresponding to the size of the cell. The connecting plate may be replaceable along a second communication hole corresponding to the suction hole of the corresponding cut line groove.

本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルと、前記工程テーブルの上に支持された基板の上に前記吸込み孔の配列に従ってレーザーを照射するレーザー部と、を備えていてもよい。 The laser processing apparatus according to another embodiment of the present invention is a process table for laser processing according to one embodiment of the present invention, and a laser on a substrate supported on the process table according to an arrangement of suction holes. It may be provided with a laser unit for irradiating.

前記レーザー加工装置は、前記吸着プレートの上に配置されて前記基板の上に浮遊する工程副産物を吸い込むサクションフード部をさらに備えていてもよい。 The laser processing apparatus may further include a suction hood portion that is arranged on the suction plate and sucks process by-products floating on the substrate.

前記サクションフード部は、前記レーザー部の周りに配置されてもよい。 The suction hood portion may be arranged around the laser portion.

本発明の実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルは、真空孔、第1の連通孔及び吸着孔が連通され、排気孔、第2の連通孔及び吸込み孔が連通されるベースプレート、連結プレート及び吸着プレートから構成されて、外部の真空ライン及び排気ラインにつながっているベースプレートは固定された状態で、分割されるセル(cell)の大きさ及び形状に応じて、基板が支持される吸着プレート及び/又は連結プレートを取り替えることができる。これにより、全体的な工程テーブルの取り替えなしに、吸着プレート及び/又は連結プレートのみを取り替えて簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供することができる。 The process table for laser machining according to the embodiment of the present invention includes a base plate, a connecting plate and a base plate through which a vacuum hole, a first communication hole and a suction hole are communicated, and an exhaust hole, a second communication hole and a suction hole are communicated with each other. The suction plate and the substrate are supported according to the size and shape of the cell to be divided, while the base plate composed of the suction plates and connected to the external vacuum line and the exhaust line is fixed. / Or the connecting plate can be replaced. This makes it possible to easily provide a process table corresponding to a desired cell size and shape by replacing only the adsorption plate and / or the connecting plate without replacing the entire process table.

これを通じて、セルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供するために、従来のように工程テーブルを全体的に解体し、多数のボルトを締め付けて結合する作業を繰り返し行わなくても、便利に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供することができる。また、工程テーブルを全体的に取り替えることなく、ベースプレートは固定されて真空ライン及び排気ラインの分離及び結合が不要になるので、真空ライン及び排気ラインを工程テーブルに結合及び分離する時間を短縮することができ、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルの準備時間を短縮することができる。 Through this, in order to provide a process table corresponding to the size and shape of the cell, it is convenient without repeating the work of disassembling the process table as a whole and tightening and joining a large number of bolts as in the conventional case. Can provide a process table corresponding to the desired cell size and shape. In addition, since the base plate is fixed and the separation and connection of the vacuum line and the exhaust line are not required without replacing the process table as a whole, the time for connecting and separating the vacuum line and the exhaust line to the process table can be shortened. This makes it possible to shorten the preparation time of the process table corresponding to the desired cell size and shape.

因みに、第1の位置合わせ結合部と第2の位置合わせ結合部を介してベースプレートと連結プレートとを結合するだけでも、ベースプレートと連結プレートとを位置合わせすることができる。これにより、工程テーブルに対する平坦化作業及びベースプレート、連結プレート及び吸着プレートの間の位置合わせ作業を行う必要なしに、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルの準備作業を完了することができ、さらに速やかに且つ便利に工程テーブルの準備作業を行うことが可能である。 Incidentally, the base plate and the connecting plate can be aligned only by connecting the base plate and the connecting plate via the first positioning joint portion and the second positioning joint portion. This makes it possible to complete the process table preparation work corresponding to the desired cell size and shape without the need to perform flattening work on the process table and alignment work between the base plate, the connecting plate and the suction plate. It is possible to prepare the process table more quickly and conveniently.

また、カットライン溝の底面を内側方向に傾斜させるか、あるいは、屈曲させることにより、吸込み孔の周りの外郭に気流(又は、排気の流れ)の影響が及ばないために残ってしまう工程副産物なしに、工程副産物を効果的に排気することができる。 In addition, by inclining or bending the bottom surface of the cut line groove inward, there are no process by-products that remain because the airflow (or exhaust flow) does not affect the outer shell around the suction hole. In addition, process by-products can be effectively exhausted.

一方、このようなレーザー加工用の工程テーブルを備えるレーザー加工装置は、吸着プレート上のレーザー部の周りにサクションフード部を付設してレーザー加工の際に基板の上に生じるヒューム(fume)及びパーティクル(particle)などの工程副産物もまた効果的に取り除くことができる。 On the other hand, in a laser processing apparatus provided with such a process table for laser processing, a suction hood portion is attached around the laser portion on the adsorption plate to generate fume and particles on the substrate during laser processing. Process by-products such as (particle) can also be effectively removed.

本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルを示す斜視図。The perspective view which shows the process table for laser processing which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルの断面図。Sectional drawing of the process table for laser processing which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る排気連通部と真空チャンバー部を説明するための概念図。The conceptual diagram for demonstrating the exhaust communication part and the vacuum chamber part which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るカットライン溝を説明するための概念図。The conceptual diagram for demonstrating the cut line groove which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置を示す図。The figure which shows the laser processing apparatus which concerns on other embodiment of this invention.

以下、添付図面に基づいて、本発明の実施形態をより詳しく説明する。しかしながら、本発明は以下に開示される実施形態に何ら限定されるものではなく、異なる様々な形態に具体化され、単にこれらの実施形態は本発明の開示を完全たるものにし、通常の知識を有する者に発明の範囲を完全に知らせるために提供されるものである。本発明を説明するに当たって、同じ構成要素に対しては同じ参照符号を付し、図面は、本発明の実施形態を正確に説明するために大きさが部分的に誇張されてもよく、図中、同じ符号は、同じ構成要素を指し示す。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but is embodied in various different forms, and these embodiments merely complete the disclosure of the present invention and provide ordinary knowledge. It is provided to fully inform the owner of the scope of the invention. In explaining the present invention, the same components may be designated by the same reference numerals, and the drawings may be partially exaggerated in size in order to accurately explain the embodiments of the present invention. , The same sign points to the same component.

図1は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルを示す斜視図であり、図2は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルの断面図であって、図1の組み立てられたレーザー加工用の工程テーブルをA−A’に沿って切り取った断面図である。 FIG. 1 is a perspective view showing a process table for laser processing according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a process table for laser processing according to an embodiment of the present invention. It is sectional drawing which cut out the process table for laser processing of FIG. 1 along AA'.

図1及び図2を参照すると、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブル100は、真空ラインにつながる真空孔111を有する真空部110aと、排気ラインにつながる排気孔112を介して工程副産物を排出する排気部110bと、を有するベースプレート110と、前記真空孔111に連通されて厚さ方向に延びる第1の連通孔121及び前記排気孔112と連通されて厚さ方向に延びる第2の連通孔123を有する連結プレート120と、前記第1の連通孔121と連通されて基板10を吸着する吸着孔132及び前記第2の連通孔123と連通されて厚さ方向に延びる吸込み孔133を有する吸着プレート130と、を備えていてもよい。 Referring to FIGS. 1 and 2, the process table 100 for laser processing according to the embodiment of the present invention has a vacuum portion 110a having a vacuum hole 111 connected to a vacuum line and an exhaust hole 112 connected to the exhaust line. A base plate 110 having an exhaust portion 110b for discharging process by-products, a first communication hole 121 communicating with the vacuum hole 111 and extending in the thickness direction, and a first communication hole 121 communicating with the exhaust hole 112 and extending in the thickness direction. A connecting plate 120 having two communication holes 123, a suction hole 132 communicating with the first communication hole 121 to attract the substrate 10, and a suction hole extending in the thickness direction with the second communication hole 123. A suction plate 130 having 133 may be provided.

ベースプレート110は、真空ライン(図示せず)及び排気ライン(図示せず)につながって固定されてもよく、真空ライン(図示せず)につながる少なくとも一つの真空孔111を有する真空部110a及び排気ライン(図示せず)につながる少なくとも一つの排気孔112を介して工程副産物を排出する排気部110bを備えていてもよい。真空部110aは、一つ以上の真空孔111を有していてもよく、真空孔111は、真空ライン(図示せず)につながってもよく、真空ライン(図示せず)により真空引きされてもよい。ここで、真空部110aは、真空ライン(図示せず)による真空圧により真空孔111と連通される第1の連通孔121、吸着孔132及び/又は真空チャンバー部131に真空引きをしてもよく、真空引きによる真空圧を吸着孔132に与えてもよい。 The base plate 110 may be connected and fixed to a vacuum line (not shown) and an exhaust line (not shown), and has a vacuum portion 110a having at least one vacuum hole 111 connected to the vacuum line (not shown) and an exhaust gas. It may be provided with an exhaust unit 110b that discharges process by-products through at least one exhaust hole 112 connected to a line (not shown). The vacuum portion 110a may have one or more vacuum holes 111, the vacuum holes 111 may be connected to a vacuum line (not shown), or may be evacuated by the vacuum line (not shown). May be good. Here, even if the vacuum portion 110a is evacuated to the first communication hole 121, the suction hole 132, and / or the vacuum chamber portion 131 that are communicated with the vacuum hole 111 by the vacuum pressure from the vacuum line (not shown). Often, a vacuum pressure due to evacuation may be applied to the suction holes 132.

排気部110bは、一つ以上の排気孔112を有していてもよく、排気孔112は、排気ライン(図示せず)につながってもよく、連通される吸込み孔133と第2の連通孔123及び/又は排気連通部122から引き渡される工程副産物を外部に排出してもよい。 The exhaust portion 110b may have one or more exhaust holes 112, and the exhaust holes 112 may be connected to an exhaust line (not shown), and the suction holes 133 and the second communication hole to be communicated with each other. Process by-products delivered from 123 and / or the exhaust communication unit 122 may be discharged to the outside.

連結プレート120は、ベースプレート110に結合及び分離(又は、結合解除)されてもよく、ベースプレート110と吸着プレート130とを連結してもよく、真空孔111に連通されて厚さ方向に延びる第1の連通孔121及び排気孔112と連通されて厚さ方向に延びる第2の連通孔123を備えていてもよい。第1の連通孔121は、真空孔111に連通されて厚さ方向(又は上部方向)に延びてもよく、真空孔111と吸着プレート130の吸着孔132及び/又は真空チャンバー部131を連結(又は、連通)させてもよい。これにより、吸着孔132に対して真空引きを行うことができ、基板10を吸着するための真空圧を吸着孔132に与えることができる。 The connecting plate 120 may be coupled and separated (or discoupled) from the base plate 110, or the base plate 110 and the suction plate 130 may be coupled to each other, and the first one that is communicated with the vacuum hole 111 and extends in the thickness direction. A second communication hole 123 that is communicated with the communication hole 121 and the exhaust hole 112 and extends in the thickness direction may be provided. The first communication hole 121 may be communicated with the vacuum hole 111 and extend in the thickness direction (or the upper direction), and connects the vacuum hole 111 with the suction hole 132 and / or the vacuum chamber portion 131 of the suction plate 130 ( Alternatively, it may be communicated). As a result, the suction hole 132 can be evacuated, and a vacuum pressure for sucking the substrate 10 can be applied to the suction hole 132.

第2の連通孔123は、排気孔112と連通されて厚さ方向に延びてもよく、排気孔112と吸込み孔133とを連絡してもよく、連通される吸込み孔133から引き渡される前記工程副産物を排気孔112に引き渡しても良い。 The second communication hole 123 may communicate with the exhaust hole 112 and extend in the thickness direction, may communicate the exhaust hole 112 with the suction hole 133, and may be delivered from the suction hole 133 to be communicated. By-products may be delivered to the exhaust hole 112.

吸着プレート130は、基板10を吸着して支持(又は、固定)してもよく、第1の連通孔121と連通されて基板10を吸着する吸着孔132及び第2の連通孔123と連通されて厚さ方向に延びる吸込み孔133を備えていてもよい。 The suction plate 130 may suck and support (or fix) the substrate 10, or communicate with the first communication hole 121 and communicate with the suction hole 132 and the second communication hole 123 for sucking the substrate 10. It may be provided with a suction hole 133 extending in the thickness direction.

吸着孔132は、第1の連通孔121と連通されて厚さ方向に延びてもよく、真空引きが行われてもよく、真空引きによる真空圧で基板10を吸着してもよい。すなわち、真空孔111、第1の連通孔121及び吸着孔132が連通されて形成される真空圧で基板10を吸着孔132の上に吸着固定してもよい。ここで、吸着孔132は、複数から構成されてもよく、複数の個所(又は、位置)に分散された吸着孔132を介して複数の個所において基板10を全体的に吸着してもよく、基板10を安定的に吸着して支持することができる。 The suction hole 132 may be communicated with the first communication hole 121 and extend in the thickness direction, may be evacuated, or the substrate 10 may be sucked by the vacuum pressure due to the vacuum drawing. That is, the substrate 10 may be suction-fixed on the suction hole 132 by the vacuum pressure formed by communicating the vacuum hole 111, the first communication hole 121, and the suction hole 132. Here, the suction holes 132 may be composed of a plurality of parts, or the substrate 10 may be totally sucked at a plurality of places via the suction holes 132 dispersed at a plurality of places (or positions). The substrate 10 can be stably adsorbed and supported.

吸込み孔133は、第2の連通孔123と連通されて厚さ方向に延びてもよく、レーザー(laser)加工工程において生じるヒューム(fume)、パーティクル(particle)及び汚染物質などの前記工程副産物が排気されてもよく、前記工程副産物を第2の連通孔123に引き渡してもよい。これにより、前記工程副産物が吸込み孔133、第2の連通孔123及び排気孔112を介して排出されることが可能になる。ここで、吸込み孔133は、複数から構成されてもよく、複数の吸込み孔133がライン(line)状の連通流路を介して互いに連通されてもよく、前記連通流路は、カットライン溝134に対応して配設(又は、形成)されてもよい。吸込み孔133の構造はこれに限定されるものではなく、吸込み孔133を介して排気される前記工程副産物が第2の連通孔123及び排気孔112に効果的に引き渡されて排出できればよい。 The suction hole 133 may be communicated with the second communication hole 123 and extend in the thickness direction, and the process by-products such as smoke, particles and contaminants generated in the laser processing process may be formed. It may be exhausted, or the process by-product may be delivered to the second communication hole 123. This makes it possible for the process by-products to be discharged through the suction hole 133, the second communication hole 123, and the exhaust hole 112. Here, the suction holes 133 may be composed of a plurality of suction holes 133, or the plurality of suction holes 133 may be communicated with each other via a line-shaped communication flow path, and the communication flow path is a cut line groove. It may be arranged (or formed) corresponding to 134. The structure of the suction hole 133 is not limited to this, as long as the process by-product exhausted through the suction hole 133 can be effectively delivered to the second communication hole 123 and the exhaust hole 112 and discharged.

連結プレート120は、排気孔112と第2の連通孔123との間、又は第2の連通孔123と吸込み孔133との間に形成されて、前記工程副産物が流動する排気連通部122をさらに備えていてもよく、吸着プレート130は、第1の連通孔121と吸着孔132との間に形成されて、第1の連通孔121及び吸着孔132と連通される真空チャンバー部131をさらに備えていてもよい。排気連通部122は、排気孔112と第2の連通孔123との間、又は第2の連通孔123と吸込み孔133との間に形成されてもよく、排気孔112、第2の連通孔123及び吸込み孔133と連通されてもよく、連結プレート120の長手方向(又は、水平方向)に連通されて(又は、延びて)前記工程副産物が流動してもよい。排気連通部122が排気孔112と第2の連通孔123との間に形成される場合には、排気孔112と第2の連通孔123とを連絡することにより、連通される吸込み孔133及び第2の連通孔123から引き渡される前記工程副産物が流動して排気孔112を介して排出されることが可能になる。因みに、排気連通部122が第2の連通孔123と吸込み孔133との間に形成される場合には、第2の連通孔123と吸込み孔133とを連絡することにより、連通される吸込み孔133から引き渡される前記工程副産物が流動して第2の連通孔123を介して排出されることが可能になる。このとき、第2の連通孔123は、排気連通部122に連通されて排気連通部122から厚さ方向に延びてもよい。ここで、排気連通部122は、一つ以上の排気孔112と連通されてもよい。例えば、一つの第2の連通孔123又は吸込み孔133を介して引き渡される前記工程副産物が複数の排気孔112に排出されてもよく、複数の第2の連通孔123又は吸込み孔133を介して引き渡される前記工程副産物が一つの排気孔112に排出されてもよい。一方、複数の第2の連通孔123又は吸込み孔133を介して引き渡される前記工程副産物が複数の排気孔112に排出されてもよい。ここで、排気連通部122の形状はこれに何ら限定されるものではなく、前記工程副産物の流動空間を提供して連通される排気孔112を介して前記工程副産物を効果的に排出できればよい。 The connecting plate 120 is formed between the exhaust hole 112 and the second communication hole 123, or between the second communication hole 123 and the suction hole 133, and further includes an exhaust communication portion 122 through which the process by-products flow. The suction plate 130 may be further provided with a vacuum chamber portion 131 formed between the first communication hole 121 and the suction hole 132 and communicated with the first communication hole 121 and the suction hole 132. May be. The exhaust communication portion 122 may be formed between the exhaust hole 112 and the second communication hole 123, or between the second communication hole 123 and the suction hole 133, and the exhaust hole 112 and the second communication hole may be formed. It may be communicated with 123 and the suction hole 133, or may be communicated (or extended) in the longitudinal direction (or horizontal direction) of the connecting plate 120, and the process by-product may flow. When the exhaust communication portion 122 is formed between the exhaust hole 112 and the second communication hole 123, the suction hole 133 and the suction hole 133 that communicate with each other by communicating the exhaust hole 112 and the second communication hole 123 and the second communication hole 123. The process by-product delivered from the second communication hole 123 can flow and be discharged through the exhaust hole 112. Incidentally, when the exhaust communication portion 122 is formed between the second communication hole 123 and the suction hole 133, the suction hole is communicated by communicating the second communication hole 123 and the suction hole 133. The process by-product delivered from 133 can flow and be discharged through the second communication hole 123. At this time, the second communication hole 123 may be communicated with the exhaust communication portion 122 and extend from the exhaust communication portion 122 in the thickness direction. Here, the exhaust communication portion 122 may communicate with one or more exhaust holes 112. For example, the process by-product delivered through one second communication hole 123 or suction hole 133 may be discharged to the plurality of exhaust holes 112, and may be discharged through the plurality of second communication holes 123 or suction hole 133. The process by-product delivered may be discharged into one exhaust hole 112. On the other hand, the process by-product delivered through the plurality of second communication holes 123 or the suction hole 133 may be discharged to the plurality of exhaust holes 112. Here, the shape of the exhaust communication portion 122 is not limited to this, and it is sufficient that the process by-products can be effectively discharged through the exhaust holes 112 that are communicated with each other by providing a flow space for the process by-products.

真空チャンバー部131は、第1の連通孔121と吸着孔132との間に形成されてもよく、第1の連通孔121及び吸着孔132と連通されてもよい。すなわち、真空チャンバー部131は、第1の連通孔121に連通されて真空引きが行われてもよく、第1の連通孔121と吸着孔132とを連絡して吸着孔132に真空圧を与えてもよい。ここで、真空チャンバー部131は、一つ以上の第1の連通孔121と連通されてもよく、一つの第1の連通孔121を複数の吸着孔132と連通させてもよく、複数の第1の連通孔121を複数の吸着孔132と連通させてもよい。真空チャンバー部131の形状は、これに何ら限定されるものではなく、吸着孔132を介して安定的に基板10を吸着できる真空圧を与えることができればよい。 The vacuum chamber portion 131 may be formed between the first communication hole 121 and the suction hole 132, or may be communicated with the first communication hole 121 and the suction hole 132. That is, the vacuum chamber portion 131 may be communicated with the first communication hole 121 to perform evacuation, and the first communication hole 121 and the suction hole 132 are communicated with each other to apply a vacuum pressure to the suction hole 132. You may. Here, the vacuum chamber portion 131 may be communicated with one or more first communication holes 121, or one first communication hole 121 may be communicated with a plurality of suction holes 132, or a plurality of first communication holes 132 may be communicated with each other. The communication hole 121 of 1 may be communicated with a plurality of suction holes 132. The shape of the vacuum chamber portion 131 is not limited to this, and it is sufficient that a vacuum pressure capable of stably sucking the substrate 10 can be applied through the suction holes 132.

工程テーブル100には、基板10の載置領域と所望のセルの大きさ及び形状に合わせて基板10に対してレーザーカット(laser cutting)を行うために、レーザーカットライン(laser cutting line)に沿ってカットライン溝(cutting line groove)134が形成されてもよい。前記レーザーカットラインは、セルの大きさ及び形状に応じて異なるため、セルの大きさ及び形状に応じて異なるレーザーカットラインに応じてカットライン溝134も異ならざるを得ない。 The process table 100 is provided along the laser cutting line in order to perform laser cutting on the substrate 10 according to the mounting area of the substrate 10 and the size and shape of the desired cell. A cutting line groove 134 may be formed. Since the laser cut line differs depending on the size and shape of the cell, the cut line groove 134 must also differ according to the different laser cut line according to the size and shape of the cell.

従来には、色々な製品の大きさ及び形状に対応するために、セルの大きさ及び形状に応じて複数の工程テーブルを別途に製作することを余儀なくされ、加工しようとするセルの大きさ及び形状に合わせて作業者が自ら工程テーブルの全体を取り替えることを余儀なくされていた。 In the past, in order to accommodate various product sizes and shapes, it was necessary to separately manufacture multiple process tables according to the cell size and shape, and the size and shape of the cell to be processed and Workers were forced to replace the entire process table by themselves according to the shape.

しかしながら、本発明のレーザー加工用の工程テーブル100では、吸着プレート130と連結プレート120は、ベースプレート110から分離可能である。すなわち、本発明のレーザー加工用の工程テーブル100は、ベースプレート110、連結プレート120及び吸着プレート130から構成されてベースプレート110、連結プレート120及び吸着プレート130を組立て及び取り外してもよい。これにより、工程テーブル100において、カットライン溝134が形成される吸着プレート130のみを所望のセルの大きさ及び形状に合わせて取り替えることができる。また、カットライン溝134の位置に応じて決定される吸込み孔133の位置及び/又は真空チャンバー部131の構造(又は、形状)に応じて第1の連通孔121、排気連通部122及び/又は第2の連通孔123の位置(又は、構造)が異なってくることもある。さらに、取り替えられる吸着プレート130に応じて、連結プレート120もまた、吸込み孔133の位置及び真空チャンバー部131の構造に合わせて第1の連通孔121、排気連通部122及び第2の連通孔123が形成された連結プレート120に取り替えてもよい。このとき、セルの大きさ及び形状に応じて、ペアをなしている(又は、互いに対応する)吸着プレート130と連結プレート120とを一体化させておいてもよい。これにより、一体化された吸着プレート130と連結プレート120を所望のセルの大きさ及び形状に応じて一括して取り替えるだけでも、簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供することができ、所望のセルの大きさ及び形状に合う工程テーブル100の準備時間(すなわち、前記吸着プレートと前記連結プレートの取り替え時間)を短縮することができる。 However, in the process table 100 for laser processing of the present invention, the adsorption plate 130 and the connecting plate 120 are separable from the base plate 110. That is, the process table 100 for laser processing of the present invention may be composed of a base plate 110, a connecting plate 120 and a suction plate 130, and the base plate 110, the connecting plate 120 and the suction plate 130 may be assembled and removed. Thereby, in the process table 100, only the suction plate 130 on which the cut line groove 134 is formed can be replaced according to the size and shape of the desired cell. Further, the first communication hole 121, the exhaust communication portion 122 and / or depending on the position of the suction hole 133 and / or the structure (or shape) of the vacuum chamber portion 131 determined according to the position of the cut line groove 134. The position (or structure) of the second communication hole 123 may be different. Further, depending on the suction plate 130 to be replaced, the connecting plate 120 also has a first communication hole 121, an exhaust communication part 122 and a second communication hole 123 according to the position of the suction hole 133 and the structure of the vacuum chamber portion 131. It may be replaced with the connecting plate 120 in which the is formed. At this time, depending on the size and shape of the cell, the suction plate 130 that is paired (or corresponds to each other) and the connecting plate 120 may be integrated. As a result, the process table 100 corresponding to the desired cell size and shape can be easily obtained by simply replacing the integrated suction plate 130 and the connecting plate 120 collectively according to the desired cell size and shape. It can be provided, and the preparation time of the process table 100 (that is, the replacement time of the adsorption plate and the connecting plate) suitable for the desired cell size and shape can be shortened.

換言すれば、外部の真空ライン(図示せず)及び排気ライン(図示せず)とつながっているベースプレート110は固定された状態で、分割されるセルの大きさ及び形状に応じて、基板10が支持される吸着プレート130のみを、又は吸着プレート130と連結プレート120のみを取り替えてもよい。これにより、全体的な工程テーブル100の取り替えなしに、吸着プレート130のみを、又は吸着プレート130と連結プレート120のみを取り替えて簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供することができる。これを通じて、セルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供するために、従来のように、工程テーブルを全体的に解体し、多数のボルトを締め付けて結合する作業を繰り返し行わなくても、便利に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供することができる。また、工程テーブル100を全体的に取り替えることなく、ベースプレート110は固定されて真空ライン(図示せず)及び排気ライン(図示せず)の分離及び結合が不要になるので、真空ライン(図示せず)及び排気ライン(図示せず)を工程テーブル100に結合及び分離する時間を短縮することができる。これにより、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100の準備時間を短縮することができる。 In other words, the base plate 110 connected to the external vacuum line (not shown) and the exhaust line (not shown) is fixed, and the substrate 10 is divided according to the size and shape of the cells to be divided. Only the supported suction plate 130 may be replaced, or only the suction plate 130 and the connecting plate 120 may be replaced. Thereby, the process table 100 corresponding to the desired cell size and shape can be easily provided by replacing only the suction plate 130 or only the suction plate 130 and the connecting plate 120 without replacing the entire process table 100. can do. Through this, in order to provide the process table 100 corresponding to the size and shape of the cell, it is not necessary to repeatedly disassemble the process table as a whole and tighten and connect a large number of bolts as in the conventional case. It is possible to conveniently provide a process table 100 corresponding to a desired cell size and shape. Further, since the base plate 110 is fixed and the separation and coupling of the vacuum line (not shown) and the exhaust line (not shown) become unnecessary without replacing the process table 100 as a whole, the vacuum line (not shown) is not required. ) And the exhaust line (not shown) can be combined and separated from the process table 100 in a short time. As a result, the preparation time of the process table 100 corresponding to the desired cell size and shape can be shortened.

連結プレート120は、第1の連通孔121が真空孔111と位置合わせされてベースプレート110の上に積層(又は、結合)されてもよく、吸着プレート130は、吸込み孔133が第2の連通孔123と位置合わせされて連結プレート120の上に積層(又は、結合)されてもよい。吸着孔132に真空圧を効果的に形成するためには、吸着孔132と連通される真空チャンバー部131及び第1の連通孔121に対して効果的に真空引きが行われるように前記真空ライン(図示せず)につながる真空孔111と第1の連通孔121との位置合わせ及び第1の連通孔121と真空チャンバー部131との位置合わせが重要である。なお、吸込み孔133を介して第2の連通孔123及び排気連通部122を経て排気孔112に前記工程副産物を効果的に排出するためには、吸込み孔133と第2の連通孔123との位置合わせ及び排気連通部122と排気孔112との位置合わせが重要である。 In the connecting plate 120, the first communication hole 121 may be aligned with the vacuum hole 111 and laminated (or coupled) on the base plate 110, and in the suction plate 130, the suction hole 133 has a second communication hole. It may be aligned with 123 and laminated (or bonded) on the connecting plate 120. In order to effectively form a vacuum pressure in the suction hole 132, the vacuum line is provided so that the vacuum chamber portion 131 communicating with the suction hole 132 and the first communication hole 121 are effectively evacuated. It is important to align the vacuum hole 111 connected to (not shown) with the first communication hole 121 and the position of the first communication hole 121 with the vacuum chamber portion 131. In order to effectively discharge the process by-products to the exhaust hole 112 via the second communication hole 123 and the exhaust communication portion 122 via the suction hole 133, the suction hole 133 and the second communication hole 123 are provided. Alignment and alignment of the exhaust communication portion 122 and the exhaust hole 112 are important.

連結プレート120は、ベースプレート110に結合及び分離されてもよく、ベースプレート110の上に積層されて結合されてもよく、第1の連通孔121が真空孔111に位置合わせされて結合されてもよい。真空孔111と第1の連通孔121は、大きさが互いに略同じであるため、位置合わせされない場合に互いにずれてしまうため、真空孔111と第1の連通孔121を中心として位置合わせしてもよい。大きさが略同じである真空孔111と第1の連通孔121とが位置合わせされると、排気連通部122の平面積が排気孔112の平面積よりもさらに大きいため、ほとんどの排気孔112が排気連通部122の平面積内に位置して排気孔112と排気連通部122とが位置合わせ(又は、効果的に連通)されることが可能になる。 The connecting plate 120 may be coupled and separated from the base plate 110, may be laminated and coupled on the base plate 110, or the first communication hole 121 may be aligned and coupled to the vacuum hole 111. .. Since the vacuum hole 111 and the first communication hole 121 have substantially the same size, they will be displaced from each other if they are not aligned with each other. Therefore, the vacuum hole 111 and the first communication hole 121 are aligned with each other as the center. It is also good. When the vacuum holes 111 and the first communication hole 121 having substantially the same size are aligned, most of the exhaust holes 112 because the flat area of the exhaust communication portion 122 is further larger than the flat area of the exhaust hole 112. Is located within the flat area of the exhaust communication portion 122, and the exhaust hole 112 and the exhaust communication portion 122 can be aligned (or effectively communicated).

ここで、ベースプレート110は、連結プレート120に面する面に形成される第1の位置合わせ結合部115をさらに備えていてもよく、連結プレート120は、ベースプレート110に面する面に第1の位置合わせ結合部115と対応して形成される第2の位置合わせ結合部125をさらに備えていてもよい。第1の位置合わせ結合部115は、ベースプレート110の連結プレート120に面する面(例えば、上部面)に形成されてもよい。これにより、第2の位置合わせ結合部125と相互作用(例えば、結合)をするだけでも、ベースプレート110と連結プレート120とを位置合わせすることができ、第2の位置合わせ結合部125とともに真空孔111と第1の連通孔121とを位置合わせしてベースプレート110と連結プレート120とを結合することができる。 Here, the base plate 110 may further include a first alignment joint 115 formed on a surface facing the connecting plate 120, the connecting plate 120 having a first position on a surface facing the base plate 110. A second alignment joint portion 125 formed in correspondence with the alignment joint portion 115 may be further provided. The first alignment joint portion 115 may be formed on a surface (for example, an upper surface) of the base plate 110 facing the connection plate 120. As a result, the base plate 110 and the connecting plate 120 can be aligned by simply interacting with (for example, coupling) the second alignment coupling portion 125, and the vacuum hole is formed together with the second alignment coupling portion 125. The base plate 110 and the connecting plate 120 can be joined by aligning the 111 and the first communication hole 121.

第2の位置合わせ結合部125は、連結プレート120のベースプレート110に面する面(例えば、下部面)に形成されてもよく、第1の位置合わせ結合部115と対応して形成されてもよい。ここで、第2の位置合わせ結合部125は、第1の位置合わせ結合部115と相互作用(例えば、結合)をするために第1の位置合わせ結合部115の形状(例えば、突出したピン状)に対応する形状(例えば、凹んだ溝又は孔状)に形成されてもよく、第1の位置合わせ結合部115と対応する位置に配設されてもよい。第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125は、結合などの相互作用をしながらベースプレート110と連結プレート120とを位置合わせしてもよい。これにより、第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125との結合(又は、相互作用)だけでも簡単に真空孔111と第1の連通孔121とを位置合わせしてベースプレート110と連結プレート120とを結合することができる。 The second alignment joint portion 125 may be formed on a surface (for example, a lower surface) of the connection plate 120 facing the base plate 110, or may be formed in correspondence with the first alignment joint portion 115. .. Here, the second alignment coupling portion 125 has a shape (for example, a protruding pin shape) of the first alignment coupling portion 115 in order to interact (for example, bond) with the first alignment coupling portion 115. ) May be formed in a shape (for example, a recessed groove or a hole), or may be arranged at a position corresponding to the first alignment coupling portion 115. The first alignment coupling portion 115 and the second alignment coupling portion 125 may align the base plate 110 and the connection plate 120 while interacting with each other such as coupling. As a result, the vacuum hole 111 and the first communication hole 121 can be easily aligned with each other only by the coupling (or interaction) between the first alignment coupling portion 115 and the second alignment coupling portion 125, and the base plate. The 110 and the connecting plate 120 can be coupled.

例えば、第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125は、ワンタッチ(one−touch)方式によりベースプレート110と連結プレート120とが結合及び分離されるように構成されてもよく、空圧クランプ(clamp)構造であってもよい。第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125のうちのどちらか一方は、突設される結合突起であってもよく、他方は、前記結合突起が嵌入され、嵌入された前記結合突起を空気圧により押し付けて固定する空圧クランプであってもよい。 For example, the first alignment coupling portion 115 and the second alignment coupling portion 125 may be configured so that the base plate 110 and the coupling plate 120 are coupled and separated by a one-touch (one-touch) method. It may have a pneumatic clamp structure. Either one of the first alignment coupling portion 115 and the second alignment coupling portion 125 may be a protruding coupling projection, and the other may be a coupling projection to be fitted and fitted. It may be a pneumatic clamp that presses and fixes the coupling protrusion by air pressure.

前記結合突起と前記空圧クランプは、ベースプレート110と連結プレート120にそれぞれ互いに対応する位置に配置されてもよい。例えば、ベースプレート110と連結プレート120のうちのどちらか一方には前記空圧クランプが取り付け可能なクランプ取り付け溝が形成されてもよく、前記空圧クランプに空気圧を与えるように連結フィット(fitting)部材(図示せず)を介して外部空気圧ポンプ(図示せず)につながる別途の空気圧流路(図示せず)が形成されてもよい。なお、ベースプレート110と連結プレート120のうちの他方には、前記空圧クランプに嵌合される前記結合突起が突設されてもよい。 The coupling projection and the pneumatic clamp may be arranged at positions corresponding to each other on the base plate 110 and the coupling plate 120, respectively. For example, one of the base plate 110 and the connecting plate 120 may be formed with a clamp mounting groove to which the pneumatic clamp can be mounted, and a fitting member for applying pneumatic pressure to the pneumatic clamp. A separate pneumatic flow path (not shown) may be formed that connects to an external pneumatic pump (not shown) via (not shown). The coupling protrusion fitted to the pneumatic clamp may be projected from the other of the base plate 110 and the connecting plate 120.

これらの第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125の構造に応じて、ベースプレート110と連結プレート120とが結合及び分離されることができて、連結プレート120の取り替え作業が非常に便利に且つ速やかに行われることが可能である。すなわち、連結プレート120をベースプレート110に載置して対応する第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125とを結合すると、前記結合突起が前記空圧クランプに嵌入され、この状態で前記空圧クランプに空気圧を供給して前記結合突起が前記空圧クランプに押し付けられて固定されるようにする方式を採用して、連結プレート120の取り替え作業をワンタッチ方式で便利に行うことができる。このとき、第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125とを結合するということは、前記結合突起を前記空圧クランプに嵌入することを意味する。 Depending on the structure of the first alignment joint portion 115 and the second alignment joint portion 125, the base plate 110 and the connection plate 120 can be connected and separated, and the replacement work of the connection plate 120 can be performed. It can be done very conveniently and quickly. That is, when the connecting plate 120 is placed on the base plate 110 and the corresponding first alignment coupling portion 115 and the second alignment coupling portion 125 are coupled, the coupling projection is fitted into the pneumatic clamp. By adopting a method of supplying air pressure to the pneumatic clamp in a state so that the coupling projection is pressed against the pneumatic clamp and fixed, the replacement work of the connecting plate 120 can be conveniently performed by a one-touch method. Can be done. At this time, connecting the first alignment coupling portion 115 and the second alignment coupling portion 125 means that the coupling protrusion is fitted into the pneumatic clamp.

したがって、多数のボルトの締め付け及び取り外しの作業なしにベースプレート110と連結プレート120とを結合及び分離することができ、多数のボルトの締め付け及び取り外しの作業を繰り返し行うことなく、便利に連結プレート120の取り替え作業を行うことができる。また、第1の位置合わせ結合部115と第2の位置合わせ結合部125との結合だけでも真空孔111と第1の連通孔121とを位置合わせしてベースプレート110と連結プレート120とを位置合わせすることができる。したがって、工程テーブル100に対する平坦化作業及びベースプレート110と連結プレート120との別途の位置合わせ作業を行う必要なしに、所望のセル(cell)の大きさ及び形状に対応する工程テーブル100の準備作業を完了することができ、さらに速やかにかつ便利に工程テーブル100の準備作業を行うことが可能である。 Therefore, the base plate 110 and the connecting plate 120 can be connected and separated without the work of tightening and removing a large number of bolts, and the connecting plate 120 can be conveniently connected without repeating the work of tightening and removing a large number of bolts. Replacement work can be performed. Further, the vacuum hole 111 and the first communication hole 121 are aligned and the base plate 110 and the connecting plate 120 are aligned only by the coupling between the first alignment coupling portion 115 and the second alignment coupling portion 125. can do. Therefore, the preparation work of the process table 100 corresponding to the desired cell size and shape can be performed without the need to perform the flattening work on the process table 100 and the separate alignment work of the base plate 110 and the connecting plate 120. It can be completed, and the preparation work of the process table 100 can be performed more quickly and conveniently.

吸着プレート130は、連結プレート120に結合及び分離されてもよく、連結プレート120の上に積層されて結合されてもよく、吸込み孔133が第2の連通孔123に位置合わせされて結合されてもよい。第2の連通孔123と吸込み孔133は、大きさが互いに略同じであるため、位置合わせされない場合に互いにずれてしまうため、第2の連通孔123と吸込み孔133を中心として位置合わせしてもよい。大きさが略同じである第2の連通孔123と吸込み孔133とが位置合わせされれば、真空チャンバー部131の平面積が第1の連通孔121の平面積よりもさらに大きいため、ほとんどの第1の連通孔121が真空チャンバー部131の平面積内に位置して第1の連通孔121と真空チャンバー部131とが位置合わせ(又は、効果的に連通)されることが可能になる。 The suction plate 130 may be coupled and separated from the coupling plate 120, may be laminated and coupled on the coupling plate 120, and the suction holes 133 may be aligned and coupled to the second communication hole 123. May be good. Since the second communication hole 123 and the suction hole 133 are substantially the same in size, they will be displaced from each other if they are not aligned with each other. Therefore, the second communication hole 123 and the suction hole 133 are aligned with each other as the center. It is also good. If the second communication hole 123 and the suction hole 133 having substantially the same size are aligned, the flat area of the vacuum chamber portion 131 is even larger than the flat area of the first communication hole 121, so that most of them are present. The first communication hole 121 is located within the flat area of the vacuum chamber portion 131, and the first communication hole 121 and the vacuum chamber portion 131 can be aligned (or effectively communicated).

ここで、連結プレート120は、吸着プレート130に面する面に形成される第3の位置合わせ部(図示せず)をさらに備えていてもよく、吸着プレート130は、連結プレート120に面する面に第3の位置合わせ部(図示せず)と対応して形成される第4の位置合わせ部(図示せず)をさらに備えていてもよい。第3の位置合わせ部(図示せず)は、連結プレート120の吸着プレート130に面する面(例えば、上部面)に形成されてもよい。これを通じて、第4の位置合わせ部(図示せず)と相互作用(例えば、結合)をするだけでも連結プレート120と吸着プレート130とを位置合わせすることができ、第2の連通孔123と吸込み孔133とを位置合わせすることができる。このとき、第3の位置合わせ部(図示せず)は、第4の位置合わせ部(図示せず)と結合されながら、連結プレート120と吸着プレート130とを結合してもよい。 Here, the connecting plate 120 may further include a third positioning portion (not shown) formed on a surface facing the suction plate 130, and the suction plate 130 may have a surface facing the connecting plate 120. May further include a fourth alignment portion (not shown) formed in correspondence with the third alignment portion (not shown). The third alignment portion (not shown) may be formed on a surface (for example, an upper surface) of the connecting plate 120 facing the suction plate 130. Through this, the connecting plate 120 and the suction plate 130 can be aligned by simply interacting (for example, coupling) with the fourth alignment portion (not shown), and the second communication hole 123 and the suction plate 123 can be sucked. It can be aligned with the hole 133. At this time, the third alignment portion (not shown) may be coupled to the fourth alignment portion (not shown) while the connecting plate 120 and the suction plate 130 may be coupled to each other.

第4の位置合わせ部(図示せず)は、吸着プレート130の連結プレート120に面する面(例えば、下部面)に形成されてもよく、第3の位置合わせ部(図示せず)と対応して形成されてもよい。ここで、第4の位置合わせ部(図示せず)は、第3の位置合わせ部(図示せず)と相互作用(例えば、結合)をするために第3の位置合わせ部(図示せず)の形状に対応する形状に形成されてもよく、第3の位置合わせ部(図示せず)と対応する位置に配設されてもよい。前記第3の位置合わせ部(図示せず)と前記第4の位置合わせ部(図示せず)は、結合などの相互作用をしながら連結プレート120と吸着プレート130とを位置合わせしてもよい。これにより、前記第3の位置合わせ部(図示せず)と前記第4の位置合わせ部(図示せず)との相互作用だけでも簡単に第2の連通孔123と吸込み孔133とを位置合わせすることができる。 The fourth alignment portion (not shown) may be formed on the surface (for example, the lower surface) of the suction plate 130 facing the connecting plate 120, and corresponds to the third alignment portion (not shown). May be formed. Here, the fourth alignment portion (not shown) has a third alignment portion (not shown) in order to interact (for example, combine) with the third alignment portion (not shown). It may be formed in a shape corresponding to the shape of the above, or may be arranged at a position corresponding to a third alignment portion (not shown). The third alignment portion (not shown) and the fourth alignment portion (not shown) may align the connecting plate 120 and the suction plate 130 while interacting with each other such as bonding. .. As a result, the second communication hole 123 and the suction hole 133 can be easily aligned only by the interaction between the third alignment portion (not shown) and the fourth alignment portion (not shown). can do.

例えば、前記第3の位置合わせ部(図示せず)と前記第4の位置合わせ部(図示せず)は、ワンタッチ方式により連結プレート120と吸着プレート130とが結合及び分離されるように構成されてもよく、空圧クランプ構造であってもよい。一方、連結プレート120と吸着プレート130は、第2の連通孔123と吸込み孔133とが位置合わせされた状態で螺合、貼り合わせ(bonding)などにより一体化された状態で配設されてもよい。これを通じて、連結プレート120を(すなわち、一体化された前記吸着プレートと前記連結プレートを)ベースプレート110に結合することにより、工程テーブル100を組立て(又は、準備)することができる。 For example, the third alignment portion (not shown) and the fourth alignment portion (not shown) are configured so that the connecting plate 120 and the suction plate 130 are coupled and separated by a one-touch method. It may be a pneumatic clamp structure. On the other hand, even if the connecting plate 120 and the suction plate 130 are arranged in a state where the second communication hole 123 and the suction hole 133 are aligned and integrated by screwing, bonding, or the like. good. Through this, the process table 100 can be assembled (or prepared) by connecting the connecting plate 120 (that is, the integrated suction plate and the connecting plate) to the base plate 110.

図3は、本発明の一実施形態に係る排気連通部と真空チャンバー部を説明するための概念図であって、図3の(a)は、排気連通部を示し、図3の(b)は、真空チャンバー部を示す。 3A and 3B are conceptual diagrams for explaining an exhaust communication part and a vacuum chamber part according to an embodiment of the present invention, FIG. 3A shows an exhaust communication part, and FIG. 3B shows an exhaust communication part. Indicates a vacuum chamber section.

図3を参照すると、真空部110aは、ベースプレート110の中央部に位置してもよく、排気部110bは、ベースプレート110の周縁部に真空部110aを中心として対称となるように位置してもよい。真空部110aは、一つ以上の真空孔111が集まって(又は、グループ化されて)配置される領域であってもよく、ベースプレート110の中央部に位置してもよい。レーザー加工の加工精度を高めるためには、レーザー加工の最中に基板10の安定的な支持(又は、固定)が必要である。ここで、基板10の安定的な支持とは、基板10が撓まない状態を保ちつつ、レーザー加工の最中にも揺れたり捩じれたりしないことを意味する。複数の吸着孔132を介して真空圧で基板10を吸着する場合に、複数の吸着孔132における真空圧がばらついてしまうと、ばらついた真空圧により基板10が撓む虞がある。なお、セルに分割されることに伴い、分割されたセルが真空圧の低い吸着孔132から真空圧の高い吸着孔132へと吸い込まれて前記分割されたセルが動く虞もある。このため、複数の吸着孔132に均一な真空圧を形成するために、ベースプレート110の中央部に真空部110aを配置してもよい。 Referring to FIG. 3, the vacuum portion 110a may be located at the center of the base plate 110, and the exhaust portion 110b may be located at the peripheral edge of the base plate 110 so as to be symmetrical with respect to the vacuum portion 110a. .. The vacuum portion 110a may be a region in which one or more vacuum holes 111 are gathered (or grouped) and arranged, or may be located in the central portion of the base plate 110. In order to improve the processing accuracy of laser processing, stable support (or fixing) of the substrate 10 is required during laser processing. Here, stable support of the substrate 10 means that the substrate 10 is not shaken or twisted even during laser processing while maintaining a state in which the substrate 10 does not bend. When the substrate 10 is sucked by the vacuum pressure through the plurality of suction holes 132, if the vacuum pressures in the plurality of suction holes 132 are dispersed, the substrate 10 may be bent due to the dispersed vacuum pressure. As the cells are divided, the divided cells may be sucked from the suction holes 132 having a low vacuum pressure into the suction holes 132 having a high vacuum pressure, and the divided cells may move. Therefore, in order to form a uniform vacuum pressure in the plurality of suction holes 132, the vacuum portion 110a may be arranged in the central portion of the base plate 110.

すなわち、真空部110aがベースプレート110の中央部において空気を吸い込むことにより、複数の吸着孔132に均一な真空圧が形成されることが可能になり、基板10が撓むことなく、吸着孔132の上に安定的に吸着されて支持されることが可能になる。真空部110aは、複数の真空孔111を介して複数の吸着孔132に基板10を吸着するための真空圧を与えるので、真空部110aがベースプレート110の周縁部に位置する場合には、一つの真空ポンプ(図示せず)を中心として複数の真空孔111を対称状に配置することができないか、あるいは、たとえ複数の真空孔111を対称状に配置するとしても、真空ライン(図示せず)の長さが長くなり過ぎて真空圧力(又は、真空の吸込み力)が低下する虞がある。また、複数の真空ポンプ(図示せず)を用いると、複数の真空ポンプ(図示せず)の間で真空圧力をマッチング(matching)することが困難になる。なお、複数の真空孔111から吸着プレート130の中央部の吸着孔132までの距離が長くなって、セルが主として位置する吸着プレート130の中央部の吸着(固定)力が弱くなる虞がある。これにより、分割されたセルを安定的に支持することができなくなる虞がある。 That is, the vacuum portion 110a sucks air in the central portion of the base plate 110, so that a uniform vacuum pressure can be formed in the plurality of suction holes 132, and the substrate 10 does not bend, and the suction holes 132 of the suction holes 132. It becomes possible to be stably adsorbed and supported on the top. Since the vacuum portion 110a applies a vacuum pressure for sucking the substrate 10 to the plurality of suction holes 132 through the plurality of vacuum holes 111, if the vacuum portion 110a is located on the peripheral edge of the base plate 110, one A plurality of vacuum holes 111 cannot be arranged symmetrically around a vacuum pump (not shown), or even if a plurality of vacuum holes 111 are arranged symmetrically, a vacuum line (not shown). There is a risk that the length of the vacuum will be too long and the vacuum pressure (or vacuum suction force) will decrease. Further, when a plurality of vacuum pumps (not shown) are used, it becomes difficult to match the vacuum pressure among the plurality of vacuum pumps (not shown). The distance from the plurality of vacuum holes 111 to the suction hole 132 at the center of the suction plate 130 may become long, and the suction (fixing) force at the center of the suction plate 130 in which the cell is mainly located may be weakened. As a result, there is a risk that the divided cells cannot be stably supported.

しかしながら、真空部110aがベースプレート110の中央部に位置する場合には、真空ライン(図示せず)の長さが長くなり過ぎることを防ぎつつ、一つの真空ポンプ(図示せず)を中心として複数の真空孔111を対称状に配置してもよい。これにより、複数の吸着孔132に均一な真空圧を安定的に形成することができ、一つの真空ポンプ(図示せず)を用いて、複数の真空ポンプ(図示せず)による真空圧力のマッチングを行わなくても済む。また、ベースプレート110の中央部に位置する複数の真空孔111から吸着プレート130の中央部の吸着孔132までの距離が短くなるので、セルが主として位置する基板10の中央部を安定的に吸着することができ、分割されたセルもまた安定的に吸着支持することができる。 However, when the vacuum portion 110a is located in the central portion of the base plate 110, a plurality of vacuum lines (not shown) are centered around one vacuum pump (not shown) while preventing the length of the vacuum line (not shown) from becoming too long. The vacuum holes 111 of the above may be arranged symmetrically. As a result, uniform vacuum pressure can be stably formed in the plurality of suction holes 132, and vacuum pressure matching by a plurality of vacuum pumps (not shown) is performed using one vacuum pump (not shown). You don't have to do it. Further, since the distance from the plurality of vacuum holes 111 located in the center of the base plate 110 to the suction holes 132 in the center of the suction plate 130 is shortened, the center of the substrate 10 in which the cell is mainly located is stably sucked. The divided cells can also be stably adsorbed and supported.

排気部110bは、一つ以上の排気孔112が集まって(又は、グループ化されて)配置される領域であってもよく、ベースプレート110の周縁部に真空部110aを中心として対称となるように位置してもよい。すなわち、排気部110bは、複数の領域が真空部110aを中心として対称となるように位置してもよい。ここで、排気部110bは、前記工程副産物を吸込み孔133から排気孔112へと排出さえすればよいので、たとえ複数の吸込み孔133の吸込み力(又は、吸込み圧力)がばらついていたとしても、大きな問題にならない。そこで、複数の吸込み孔133の吸込み力がばらついていてもよいので、排気部110bをベースプレート110の周縁部に配置してベースプレート110の周縁部に前記工程副産物を排出することができる。 The exhaust portion 110b may be a region in which one or more exhaust holes 112 are gathered (or grouped) and arranged so as to be symmetrical with respect to the vacuum portion 110a at the peripheral edge portion of the base plate 110. It may be located. That is, the exhaust portion 110b may be positioned so that the plurality of regions are symmetrical with respect to the vacuum portion 110a. Here, since the exhaust unit 110b only needs to discharge the process by-product from the suction hole 133 to the exhaust hole 112, even if the suction force (or suction pressure) of the plurality of suction holes 133 varies. It doesn't matter much. Therefore, since the suction forces of the plurality of suction holes 133 may vary, the exhaust unit 110b can be arranged on the peripheral edge of the base plate 110 and the process by-products can be discharged to the peripheral edge of the base plate 110.

このとき、排気部110bをベースプレート110の周縁部に真空部110aを中心として非対称状に配置すると、排気部110bの反対側の周縁部には排気孔112が配設されない虞がある。なお、吸着プレート130の前記反対側の周縁部に位置する吸込み孔133は、排気孔112からの距離が遠過ぎるため、吸込み力が正常に与えられない虞があり、前記工程副産物が円滑に排気(又は、排出)されない虞がある。 At this time, if the exhaust portion 110b is asymmetrically arranged on the peripheral edge portion of the base plate 110 with the vacuum portion 110a as the center, there is a possibility that the exhaust hole 112 is not arranged on the peripheral edge portion on the opposite side of the exhaust portion 110b. Since the suction hole 133 located on the opposite peripheral edge of the suction plate 130 is too far from the exhaust hole 112, the suction force may not be normally applied, and the process by-products are smoothly exhausted. (Or it may not be discharged).

このため、排気部110bをベースプレート110の周縁部に真空部110aを中心として対称状に配置すると、前記工程副産物が円滑に排気されずに溜まる部分なしに前記工程副産物を効果的に排出することができる。 Therefore, if the exhaust portion 110b is arranged symmetrically with respect to the vacuum portion 110a on the peripheral edge portion of the base plate 110, the process by-product can be effectively discharged without a portion where the process by-product is not smoothly exhausted and accumulates. can.

本発明に係るレーザー加工用の工程テーブル100は、真空孔111と第1の連通孔121とを連通させる第3の連通孔141及び排気孔112と排気連通部122とを連通させる第4の連通孔142を備え、ベースプレート110と連結プレート120との間に介在するシールプレート140をさらに備えていてもよい。 The process table 100 for laser machining according to the present invention has a third communication hole 141 for communicating the vacuum hole 111 and the first communication hole 121, and a fourth communication for communicating the exhaust hole 112 and the exhaust communication portion 122. A hole 142 may be provided, further including a seal plate 140 interposed between the base plate 110 and the connecting plate 120.

シールプレート140は、ベースプレート110と連結プレート120との間に介在させてもよく、着脱(又は、結合及び分離)される連結プレート120とベースプレート110との隙間(gap)をなくしても良い。連結プレート120がベースプレート110に着脱されるため、連結プレート120とベースプレート110との間に隙間が生じる虞があり、このような隙間への前記工程副産物の漏れ(leak)及び/又は真空の漏れ(leak)が生じる虞がある。このため、ベースプレート110と連結プレート120との間にシールプレート140を介在させることにより、連結プレート120とベースプレート110とが結合された状態で連結プレート120とベースプレート110との間の隙間を抑制もしくは防止することができる。これにより、連結プレート120とベースプレート110との間の隙間による前記工程副産物の漏れ及び/又は真空の漏れを抑制もしくは防止することができる。 The seal plate 140 may be interposed between the base plate 110 and the connecting plate 120, or may eliminate the gap (gap) between the connecting plate 120 and the base plate 110 to be attached / detached (or bonded and separated). Since the connecting plate 120 is attached to and detached from the base plate 110, a gap may occur between the connecting plate 120 and the base plate 110, and the process by-product leaks (leaks) and / or vacuum leaks (leaks) into such a gap. Leak) may occur. Therefore, by interposing the seal plate 140 between the base plate 110 and the connecting plate 120, the gap between the connecting plate 120 and the base plate 110 is suppressed or prevented in a state where the connecting plate 120 and the base plate 110 are coupled. can do. Thereby, it is possible to suppress or prevent the leakage of the process by-products and / or the leakage of the vacuum due to the gap between the connecting plate 120 and the base plate 110.

ここで、シールプレート140は、真空孔111と第1の連通孔121とを連通させる第3の連通孔141及び排気孔112と排気連通部122とを連通させる第4の連通孔142を備えていてもよい。第3の連通孔141は、真空孔111と第1の連通孔121とを連通させてもよく、真空ライン(図示せず)につながる真空孔111、第3の連通孔141、第1の連通孔121、真空チャンバー部131及び吸着孔132が連通されて吸着孔132に真空圧が与えられてもよい。第3の連通孔141は、真空孔111及び第1の連通孔121に対応して配設されてもよく、真空孔111及び第1の連通孔121に位置合わせされて真空孔111との間及び第1の連通孔121との間において真空の漏れが生じないようにしてもよい。一方、第3の連通孔141は、第1の連通孔121の少なくとも一部が嵌入されるように配設されてもよい。 Here, the seal plate 140 includes a third communication hole 141 that communicates the vacuum hole 111 and the first communication hole 121, and a fourth communication hole 142 that communicates the exhaust hole 112 and the exhaust communication portion 122. You may. The third communication hole 141 may allow the vacuum hole 111 and the first communication hole 121 to communicate with each other, and the vacuum hole 111 connected to the vacuum line (not shown), the third communication hole 141, and the first communication hole 141. The hole 121, the vacuum chamber portion 131, and the suction hole 132 may be communicated with each other to apply a vacuum pressure to the suction hole 132. The third communication hole 141 may be arranged corresponding to the vacuum hole 111 and the first communication hole 121, and is positioned between the vacuum hole 111 and the first communication hole 121 and between the vacuum hole 111 and the first communication hole 111. And vacuum leakage may be prevented from occurring between the first communication hole 121 and the first communication hole 121. On the other hand, the third communication hole 141 may be arranged so that at least a part of the first communication hole 121 is fitted.

第4の連通孔142は、排気孔112と排気連通部122とを連通させてもよく、排気ライン(図示せず)につながる排気孔112、第4の連通孔142、排気連通部122、第2の連通孔123及び吸込み孔133が連通されて吸込み孔133から前記工程副産物が排出されてもよい。 The fourth communication hole 142 may communicate the exhaust hole 112 and the exhaust communication portion 122, and the exhaust hole 112 connected to the exhaust line (not shown), the fourth communication hole 142, the exhaust communication portion 122, and the fourth communication hole 142. The communication hole 123 and the suction hole 133 of 2 may be communicated with each other and the process by-product may be discharged from the suction hole 133.

このとき、シールプレート140は、排気連通部122に対応して配設されてもよく、第4の連通孔142は、排気孔112と対応して配設されてもよい。シールプレート140は、排気連通部122に対応して配設されることにより、排気連通部122の底面を提供することができ、前記工程副産物が広い排気連通部122から第4の連通孔142へと溜まって排気孔112に排出され(又は、引き渡され)てもよい。連結プレート120には、前記工程副産物が流動できるように広い排気連通部122が形成されており、第1の連通孔121は、真空孔111と真空チャンバー部131とを連通させ得るように厚さ方向に貫通されるだけであるため、第1の連通孔121は、第2の密着パッド152などでも十分に真空の漏れを防ぐことができる。しかしながら、排気連通部122は面積が広いため、第1の密着パッド151だけでは前記工程副産物の漏れを防ぎ難いため、シールプレート140は、必ず排気連通部122に対応して配設される必要がある。例えば、シールプレート140は、少なくとも一部が排気連通部122の内部空間に嵌入されて排気連通部122の底面を提供するように構成されてもよい。なお、シールプレート140は、第1の連通孔121の少なくとも一部が第3の連通孔141に嵌入できるように構成されてもよい。 At this time, the seal plate 140 may be arranged corresponding to the exhaust communication portion 122, and the fourth communication hole 142 may be arranged corresponding to the exhaust hole 112. By disposing the seal plate 140 corresponding to the exhaust communication portion 122, the bottom surface of the exhaust communication portion 122 can be provided, and the process by-product is wide from the exhaust communication portion 122 to the fourth communication hole 142. It may be accumulated and discharged (or delivered) to the exhaust hole 112. The connecting plate 120 is formed with a wide exhaust communication portion 122 so that the process by-products can flow, and the first communication hole 121 is thick enough to allow the vacuum hole 111 and the vacuum chamber portion 131 to communicate with each other. Since it is only penetrated in the direction, the first communication hole 121 can sufficiently prevent the leakage of vacuum even with the second contact pad 152 or the like. However, since the exhaust communication portion 122 has a large area, it is difficult to prevent leakage of the process by-products only with the first contact pad 151. Therefore, the seal plate 140 must be arranged corresponding to the exhaust communication portion 122. be. For example, the seal plate 140 may be configured so that at least a part thereof is fitted into the internal space of the exhaust communication portion 122 to provide the bottom surface of the exhaust communication portion 122. The seal plate 140 may be configured so that at least a part of the first communication hole 121 can be fitted into the third communication hole 141.

ここで、シールプレート140は、金属材質(例えば、アルミニウム)製のものであってもよく、レーザー加工により温度が昇温しても影響(例えば、歪み)がない材料から形成されてもよい。なお、シールプレート140は、連結プレート120に結合(又は、前記連結プレートと一体化)されて配設されてもよく、接着剤(adhesive)などにより貼り合わせられて連結プレート120に結合されてもよい。一方、シールプレート140は、弾性を有する材質(例えば、ゴム)から形成されてもよく、ベースプレート110及び連結プレート120との密着力を高めることができる。 Here, the seal plate 140 may be made of a metal material (for example, aluminum), or may be formed of a material that is not affected (for example, distortion) even if the temperature is raised by laser processing. The seal plate 140 may be bonded (or integrated with the connecting plate) to the connecting plate 120, or may be bonded to the connecting plate 120 by an adhesive (adhesive) or the like. good. On the other hand, the seal plate 140 may be formed of an elastic material (for example, rubber), and can increase the adhesion to the base plate 110 and the connecting plate 120.

因みに、第4の連通孔142は、排気孔112と対応して配設されてもよく、排気孔112と排気連通部122とを連通させてもよく、排気連通部122の面積内に配設されてもよい。これにより、排気孔112及び排気連通部122に位置合わせされて排気孔112との間及び排気連通部122との間において前記工程副産物の漏れが生じないようにすることができる。 Incidentally, the fourth communication hole 142 may be arranged corresponding to the exhaust hole 112, or the exhaust hole 112 and the exhaust communication portion 122 may be communicated with each other, and may be arranged within the area of the exhaust communication portion 122. May be done. As a result, the process by-products can be prevented from leaking between the exhaust hole 112 and the exhaust communication portion 122 so as to be aligned with the exhaust hole 112 and the exhaust communication portion 122.

また、排気連通部122は、第1の連通孔121及び第3の連通孔141と画成(又は、区画)されて配設されてもよい。すなわち、前記工程副産物の排出のために、前記工程副産物が流れる空間(又は、流路)と真空引きが行われる空間とが仕切られていてもよい。これにより、効果的に前記工程副産物を排出することができ、前記真空引きが行われる空間においても円滑に真空引きが行われることが可能になる。排気連通部122は、連結プレート120に形成されて前記工程副産物が流動できる広い空間を持たせることにより、互いに連通される広い空間を介して一つの排気孔112と複数の第2の連通孔123及び吸込み孔133を連通させることができる。これにより、単一(又は、少数)の排気孔112でも複数(又は、多数)の吸込み孔133から前記工程副産物を排気(又は、排出)することができる。 Further, the exhaust communication portion 122 may be arranged so as to be defined (or partitioned) from the first communication hole 121 and the third communication hole 141. That is, the space (or flow path) through which the process by-products flow and the space where the vacuum is drawn may be partitioned for the discharge of the process by-products. As a result, the process by-products can be effectively discharged, and the evacuation can be smoothly performed even in the space where the evacuation is performed. The exhaust communication portion 122 is formed in the connecting plate 120 to have a wide space through which the process by-products can flow, so that the one exhaust hole 112 and the plurality of second communication holes 123 pass through the wide space communicated with each other. And the suction hole 133 can be communicated with each other. Thereby, even with a single (or a small number) exhaust holes 112, the process by-products can be exhausted (or discharged) from a plurality (or a large number) of suction holes 133.

一方、吸着プレート130には、吸込み孔133及び第2の連通孔123と画成(又は、区分)されて真空チャンバー部131が形成されることにより、吸着プレート130の内部の広い空間に対して真空引きが行われることが可能になる。これを通じて、吸着プレート130の広い面積(すなわち、複数の前記吸着孔)に効果的に均一な真空圧を形成することができる。 On the other hand, the suction plate 130 is defined (or separated) from the suction hole 133 and the second communication hole 123 to form the vacuum chamber portion 131, so that the suction plate 130 has a large space inside. It becomes possible to evacuate. Through this, it is possible to effectively form a uniform vacuum pressure in a wide area of the suction plate 130 (that is, the plurality of the suction holes).

本発明に係るレーザー加工用の工程テーブル100は、排気孔112の周りに配設されて、シールプレート140に密着される第1の密着パッド151をさらに備えていてもよい。 The process table 100 for laser processing according to the present invention may further include a first contact pad 151 that is disposed around the exhaust hole 112 and is brought into close contact with the seal plate 140.

第1の密着パッド151は、排気孔112の周りに配設されてもよく、シールプレート140に密着されてもよい。これにより、排気孔112と第4の連通孔142との間において前記工程副産物の漏れが生じることを防ぐことができる。すなわち、第1の密着パッド151は、連結プレート120がベースプレート110に結合されながら、ベースプレート110と連結プレート120との間に介在するシールプレート140が密着されてもよく、反対の面にはベースプレート110が密着されてもよい。これにより、ベースプレート110と第1の密着パッド151との間及び第1の密着パッド151とシールプレート140との間の隙間をなくすことができる。 The first contact pad 151 may be disposed around the exhaust hole 112 or may be in close contact with the seal plate 140. This makes it possible to prevent the process by-products from leaking between the exhaust hole 112 and the fourth communication hole 142. That is, in the first contact pad 151, the seal plate 140 interposed between the base plate 110 and the connection plate 120 may be adhered to the first contact pad 151 while the connection plate 120 is bonded to the base plate 110, and the base plate 110 may be in close contact with the opposite surface. May be in close contact. As a result, it is possible to eliminate the gap between the base plate 110 and the first contact pad 151 and between the first contact pad 151 and the seal plate 140.

ここで、第1の密着パッド151は、排気孔112及び第4の連通孔142と連通される貫通孔を有していてもよく、弾性を有して連結プレート120とベースプレート110との結合により圧着されながらシールプレート140及びベースプレート110と密着されてもよい。例えば、第1の密着パッド151は、蛇腹タイプ(bellows type)に構成されてもよく、Oリング状であってもよい。しかしながら、これに何ら限定されず、連結プレート120とベースプレート110との結合により圧着されながらシールプレート140及びベースプレート110と密着できればよい。 Here, the first contact pad 151 may have a through hole that communicates with the exhaust hole 112 and the fourth communication hole 142, and has elasticity due to the connection between the connecting plate 120 and the base plate 110. It may be brought into close contact with the seal plate 140 and the base plate 110 while being crimped. For example, the first close contact pad 151 may be configured as a bellows type or may have an O-ring shape. However, the present invention is not limited to this, and it is sufficient that the sealing plate 140 and the base plate 110 can be brought into close contact with each other while being crimped by the bonding between the connecting plate 120 and the base plate 110.

一方、シールプレート140を用いない場合には、第1の密着パッド151が連結プレート120に密着されてもよく、第1の密着パッド151が排気孔112と連通される貫通孔を有して、第1の密着パッド151の貫通孔を介して排気連通部122から排気孔112へと前記工程副産物が排出されてもよい。このとき、連結プレート120には、排気連通部122が内部の管路に形成されてもよく、排気孔112と連通される第5の連通孔(図示せず)がさらに形成されてもよい。なお、第1の密着パッド151の貫通孔は、排気孔112及び第5の連通孔(図示せず)と連通されてもよい。 On the other hand, when the seal plate 140 is not used, the first contact pad 151 may be in close contact with the connecting plate 120, and the first contact pad 151 has a through hole for communicating with the exhaust hole 112. The process by-product may be discharged from the exhaust communication portion 122 to the exhaust hole 112 through the through hole of the first close contact pad 151. At this time, the exhaust communication portion 122 may be formed in the internal pipeline, or a fifth communication hole (not shown) that communicates with the exhaust hole 112 may be further formed in the connecting plate 120. The through hole of the first contact pad 151 may be communicated with the exhaust hole 112 and the fifth communication hole (not shown).

本発明に係るレーザー加工用の工程テーブル100は、真空孔111の周りに配設されて、連結プレート120に密着される第2の密着パッド152をさらに備えていてもよい。 The process table 100 for laser processing according to the present invention may further include a second contact pad 152 that is disposed around the vacuum hole 111 and is brought into close contact with the connecting plate 120.

第2の密着パッド152は、真空孔111の周りに配設されてもよく、連結プレート120に密着されてもよい。これにより、真空孔111と第1の連通孔121との間において真空の漏れが生じることを防ぐことができる。すなわち、第2の密着パッド152は、連結プレート120がベースプレート110に結合されながら連結プレート120が密着されてもよく、反対の面にはベースプレート110が密着されてもよい。これにより、ベースプレート110と第1の密着パッド151との間及び第1の密着パッド151と連結プレート120との間の隙間をなくすことができ、真空の漏れが防がれることが可能になる。 The second contact pad 152 may be disposed around the vacuum hole 111 or may be in close contact with the connecting plate 120. This makes it possible to prevent a vacuum from leaking between the vacuum hole 111 and the first communication hole 121. That is, in the second contact pad 152, the connection plate 120 may be in close contact with the base plate 110 while the connection plate 120 is connected to the base plate 110, or the base plate 110 may be in close contact with the opposite surface. As a result, it is possible to eliminate the gap between the base plate 110 and the first contact pad 151 and between the first contact pad 151 and the connecting plate 120, and it is possible to prevent vacuum leakage.

ここで、第2の密着パッド152は、第1の密着パッド151と同じ形状(又は、構造)を有していてもよく、異なる形状を有してもよいが、これに何ら限定されず、連結プレート120とベースプレート110との結合により圧着されながら連結プレート120及びベースプレート110と密着できればよい。 Here, the second contact pad 152 may have the same shape (or structure) as the first contact pad 151, or may have a different shape, but is not limited thereto. It suffices if the connecting plate 120 and the base plate 110 can be brought into close contact with each other while being crimped by the connection between the connecting plate 120 and the base plate 110.

一方、シールプレート140を用いる場合には、第2の密着パッド152がシールプレート140に密着されてもよい。 On the other hand, when the seal plate 140 is used, the second adhesion pad 152 may be in close contact with the seal plate 140.

図4は、本発明の一実施形態に係るカットライン溝を説明するための概念図であり、図4の(a)は、カットライン溝の平面図(又は、上面図)であり、図4の(b)は、カットライン溝をB−B’に沿って切り取った断面図である。 4A and 4B are conceptual views for explaining a cutline groove according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4A is a plan view (or a top view) of the cutline groove and FIG. 4A. (B) is a cross-sectional view of a cut line groove cut along BB'.

図4を参照すると、吸着プレート130の吸着面には、吸込み孔133と連通されるカットライン溝134が形成されてもよい。カットライン溝134は、所望のセルの大きさ及び形状に合わせて基板10に対してレーザーカットを行うためのレーザーカットラインに沿って形成されてもよく、カットライン溝134に沿って(複数の)吸込み孔133が配列されて吸込み孔133と連通されてもよい。このように、カットライン溝134を形成する場合には、レーザーカットを行いながらレーザーの強いエネルギーが吸着プレート130の表面に当たることを抑制もしくは防止することができて、レーザーによる吸着プレート130及び工程テーブル100の損傷を防ぐことができる。 Referring to FIG. 4, a cut line groove 134 communicating with the suction hole 133 may be formed on the suction surface of the suction plate 130. The cut line groove 134 may be formed along a laser cut line for performing a laser cut on the substrate 10 according to a desired cell size and shape, and may be formed along the cut line groove 134 (s). ) The suction holes 133 may be arranged and communicated with the suction holes 133. In this way, when the cut line groove 134 is formed, it is possible to suppress or prevent the strong energy of the laser from hitting the surface of the suction plate 130 while performing laser cutting, and the suction plate 130 and the process table by the laser can be suppressed. 100 damage can be prevented.

カットライン溝134に沿ってレーザーカットを行うため、ほとんどの前記工程副産物がカットライン溝134に溜まることになる。これにより、カットライン溝134に吸込み孔133を配置して、前記工程副産物が多く生じる部分から集中的に前記工程副産物を排気(又は、排出)することができる。なお、分割されたセルが位置すべき他の部分には吸着孔132を配置して、基板10及び前記分割されたセルを安定的に吸着支持(又は、固定)することができる。 Since the laser cut is performed along the cut line groove 134, most of the process by-products are accumulated in the cut line groove 134. Thereby, the suction hole 133 can be arranged in the cut line groove 134, and the process by-product can be intensively exhausted (or discharged) from the portion where a large amount of the process by-product is generated. It should be noted that the adsorption holes 132 can be arranged in other portions where the divided cells should be located so that the substrate 10 and the divided cells can be stably adsorbed and supported (or fixed).

ここで、カットライン溝134の底面は、内側方向に傾斜するか、あるいは、屈曲されてもよい。カットライン溝134の底面とカットライン溝134の側壁との間に隅角部が生じてしまうと、奥側の隅角部には排気吸込み力による気流(又は、排気の流れ)の影響が及ばないために前記工程副産物が残ってしまう。すなわち、コアンダ効果(coanda effect)により排気吸込み力による気流がカットライン溝134の側壁に沿って垂直に形成され、カットライン溝134の底面とカットライン溝134の側壁との間の隅角部に溜まった前記工程副産物は吸込み孔133に導かれることができなくなる。このため、カットライン溝134の底面を内側方向に傾斜させるか、あるいは、屈曲させることにより、カットライン溝134の底面とカットライン溝134の側壁との間に隅角部が生じることを防ぐことができる。なお、コアンダ効果により排気吸込み力による気流をカットライン溝134の底面に沿って形成して、吸込み孔133の周りの外郭に排気吸込み力による気流の影響が及ばないために残ってしまう前記工程副産物なしに、前記工程副産物を効果的に排気することができる。 Here, the bottom surface of the cut line groove 134 may be inclined inward or bent. If a corner is formed between the bottom surface of the cut line groove 134 and the side wall of the cut line groove 134, the air flow (or exhaust flow) due to the exhaust suction force affects the corner on the back side. Since there is no such process by-product, the process by-product remains. That is, due to the Coanda effect, the airflow due to the exhaust suction force is formed vertically along the side wall of the cut line groove 134, and is formed at the corner portion between the bottom surface of the cut line groove 134 and the side wall of the cut line groove 134. The accumulated process by-products cannot be guided to the suction hole 133. Therefore, by inclining or bending the bottom surface of the cut line groove 134 inward, it is possible to prevent an angle portion from being generated between the bottom surface of the cut line groove 134 and the side wall of the cut line groove 134. Can be done. It should be noted that the Coanda effect forms an airflow due to the exhaust suction force along the bottom surface of the cut line groove 134, and the process by-product that remains because the influence of the airflow due to the exhaust suction force does not affect the outer shell around the suction hole 133. Without it, the process by-products can be effectively exhausted.

カットライン溝134は、基板10のセルの分割のためのセルの大きさに応じて配設されてもよい。なお、吸着プレート130は、前記セルの大きさに対応するカットライン溝134に沿って取り替え可能であり、連結プレート120は、前記対応するカットライン溝134の吸込み孔133に対応する第2の連通孔123に沿って取り替え可能である。すなわち、基板10の載置領域と所望のセルの大きさ及び形状に合わせてカットライン溝134が形成された吸着プレート130を取り替えることにより、簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブル100を提供することができる。 The cut line groove 134 may be arranged according to the size of the cell for dividing the cell of the substrate 10. The suction plate 130 can be replaced along the cut line groove 134 corresponding to the size of the cell, and the connecting plate 120 has a second communication corresponding to the suction hole 133 of the corresponding cut line groove 134. It can be replaced along the hole 123. That is, a step of easily corresponding to the desired cell size and shape by replacing the adsorption plate 130 in which the cut line groove 134 is formed according to the mounting area of the substrate 10 and the desired cell size and shape. Table 100 can be provided.

レーザーカットラインは、セルの大きさ及び形状に応じて異なるため、カットライン溝134は、基板10のセルの分割のためのセルの大きさに応じて配設されてもよく、セルの大きさ及び形状に応じて異なってくるレーザーカットラインに対応して配設されてもよい。 Since the laser cut line differs depending on the size and shape of the cell, the cut line groove 134 may be arranged according to the size of the cell for dividing the cell of the substrate 10, and the size of the cell may be arranged. And may be arranged corresponding to the laser cut line which differs depending on the shape.

カットライン溝134は、吸着プレート130の吸着面の上に形成されるため、所望のセルの大きさ及び形状に対応するカットライン溝134を配設するためには、吸着プレート130の取り替えが必要である。このため、吸着プレート130は、前記セルの大きさに対応するカットライン溝134に沿って取り替え可能なように配設されてもよい。 Since the cut line groove 134 is formed on the suction surface of the suction plate 130, it is necessary to replace the suction plate 130 in order to dispose the cut line groove 134 corresponding to the desired cell size and shape. Is. Therefore, the suction plate 130 may be arranged so as to be replaceable along the cut line groove 134 corresponding to the size of the cell.

因みに、吸着プレート130が変更されれば、カットライン溝134の位置(及び、形状)に応じて吸込み孔133の配列が変化することができるので、これにより、連結プレート120は、前記対応するカットライン溝134の吸込み孔133に対応する第2の連通孔123に応じて取り替え可能である。すなわち、カットライン溝134の位置に応じて変化した吸込み孔133の配列に合わせて、第2の連通孔123が形成された連結プレート120に吸着プレート130と同様に取り替える(又は、変更する)ことができる。 Incidentally, if the suction plate 130 is changed, the arrangement of the suction holes 133 can be changed according to the position (and shape) of the cut line groove 134, whereby the connecting plate 120 can be cut by the corresponding cut. It can be replaced according to the second communication hole 123 corresponding to the suction hole 133 of the line groove 134. That is, the connecting plate 120 in which the second communication hole 123 is formed is replaced (or changed) in the same manner as the suction plate 130 according to the arrangement of the suction holes 133 that has changed according to the position of the cut line groove 134. Can be done.

図5は、本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置を示す図であって、図5の(a)は、レーザー加工装置の斜視図であり、図5の(b)は、レーザー加工装置の側面図である。 5A and 5B are views showing a laser processing apparatus according to another embodiment of the present invention, FIG. 5A is a perspective view of the laser processing apparatus, and FIG. 5B is a laser processing apparatus. It is a side view of the apparatus.

図5に基づいて、本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置についてさらに詳しく説明するが、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブルに関して以上において説明された部分と重複する事項は省略する。 The laser processing apparatus according to another embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIG. 5, but the matters overlapping with the parts described above with respect to the process table for laser processing according to one embodiment of the present invention. Is omitted.

本発明の他の実施形態に係るレーザー加工装置200は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブル100と、前記工程テーブル100の上に支持された基板10の上に前記吸込み孔133の配列に従ってレーザーを照射するレーザー部210と、を備えていてもよい。 The laser processing apparatus 200 according to another embodiment of the present invention has the process table 100 for laser processing according to the embodiment of the present invention and the suction hole on the substrate 10 supported on the process table 100. A laser unit 210 that irradiates a laser according to the arrangement of 133 may be provided.

レーザー加工用の工程テーブル100は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工用の工程テーブル100であってもよく、基板10を安定的に吸着支持(又は、固定)することができるだけではなく、レーザー加工の最中に生じて工程テーブル100の上に溜まる前記工程副産物もまた外部に排出して除去することができる。 The process table 100 for laser processing may be the process table 100 for laser processing according to the embodiment of the present invention, and not only can the substrate 10 be stably adsorbed and supported (or fixed), but also. The process by-products generated during laser processing and accumulated on the process table 100 can also be discharged to the outside and removed.

レーザー部210は、工程テーブル100の上に支持された基板10の上に吸込み孔133の配列に従ってレーザーを照射して基板10に対してレーザーカットを行うことにより、基板10をセルとダミーとに分割することができる。ここで、吸込み孔133は、カットライン溝134に沿って配列されてもよく、レーザー部210は、カットライン溝134に沿ってレーザーを照射してもよい。 The laser unit 210 irradiates the substrate 10 supported on the process table 100 with a laser according to the arrangement of the suction holes 133 to perform laser cutting on the substrate 10, thereby forming the substrate 10 into a cell and a dummy. Can be split. Here, the suction holes 133 may be arranged along the cut line groove 134, and the laser unit 210 may irradiate the laser along the cut line groove 134.

本発明に係るレーザー加工装置200は、吸着プレート130の上に配置されて基板10の上に浮遊する工程副産物を吸い込むサクションフード部220をさらに備えていてもよい。 The laser processing apparatus 200 according to the present invention may further include a suction hood portion 220 arranged on the suction plate 130 and sucking process by-products floating on the substrate 10.

サクションフード部220は、吸着プレート130の上に配置されてもよく、基板10の上に浮遊する工程副産物を吸い込んでもよい。これを通じて、工程テーブル100の上に溜まる前記工程副産物は、吸込み孔133を介して排出することができ、前記基板10の上に浮遊する工程副産物は、サクションフード部220を介して排出することができ、これにより、レーザー加工の最中に生じる工程副産物を効果的に除去することができる。 The suction hood portion 220 may be arranged on the suction plate 130, or may suck process by-products floating on the substrate 10. Through this, the process by-products accumulated on the process table 100 can be discharged through the suction hole 133, and the process by-products floating on the substrate 10 can be discharged via the suction hood unit 220. This allows for effective removal of process by-products generated during laser processing.

例えば、サクションフード部220は、基板10の表面に沿って気体を吹き付けて基板10の上に工程副産物を浮遊させるガス噴射部(図示せず)と、前記浮遊する工程副産物を吸い込むサクション部(図示せず)と、を備えていてもよい。ガス噴射部(図示せず)は、基板10の表面に沿って気体を吹き付けて基板10の上に工程副産物を浮遊させてもよく、基板10の表面にくっついた工程副産物までも除去してパーティクルなどの工程副産物によるセルの不良を抑制もしくは防止することができる。 For example, the suction hood unit 220 has a gas injection unit (not shown) that blows gas along the surface of the substrate 10 to suspend the process by-products on the substrate 10, and a suction unit that sucks the floating process by-products (FIG. (Not shown) and may be provided. The gas injection unit (not shown) may spray gas along the surface of the substrate 10 to suspend the process by-products on the substrate 10, or remove even the process by-products attached to the surface of the substrate 10 to form particles. It is possible to suppress or prevent cell defects due to process by-products such as.

サクション部(図示せず)は、前記浮遊する工程副産物を吸い込んでもよく、レーザー加工を行いながら、自然に浮遊する工程副産物だけではなく、ガス噴射部(図示せず)により浮遊された工程副産物までも吸い込んで排出することができる。 The suction section (not shown) may suck in the floating process by-products, and while performing laser processing, not only the naturally floating process by-products but also the process by-products suspended by the gas injection section (not shown). Can also be inhaled and discharged.

因みに、サクションフード部220は、レーザー部210の周りに配置されてもよく、レーザー部210に伴って一体に移動してもよい。例えば、本発明のレーザー加工装置200は、レーザー部210とサクションフード部220とを移動させる駆動部(図示せず)をさらに備えていてもよい。 Incidentally, the suction hood portion 220 may be arranged around the laser portion 210, or may move integrally with the laser portion 210. For example, the laser processing apparatus 200 of the present invention may further include a drive unit (not shown) for moving the laser unit 210 and the suction hood unit 220.

駆動部(図示せず)は、レーザー部210とサクションフード部220とを移動させてよく、レーザー部210とサクションフード部220とを一体にかつ一括して移動させてもよい。これにより、レーザー加工を行いながら、浮遊する前記工程副産物を直ちにサクションフード部220を介して吸い込んで排出することができる。 The drive unit (not shown) may move the laser unit 210 and the suction hood unit 220, or may move the laser unit 210 and the suction hood unit 220 integrally and collectively. As a result, the floating process by-products can be immediately sucked in and discharged through the suction hood portion 220 while performing laser processing.

このように、本発明のレーザー加工装置200は、吸着プレート130の上のレーザー部210の周りにサクションフード部220を付設して、レーザー加工に際して基板10の上に生じるヒューム及びパーティクルなどの工程副産物もまた効果的に除去することができる。 As described above, in the laser processing apparatus 200 of the present invention, the suction hood portion 220 is attached around the laser portion 210 on the suction plate 130, and process by-products such as fume and particles generated on the substrate 10 during laser processing are provided. Can also be effectively removed.

このように、本発明においては、真空孔、第1の連通孔、真空チャンバー部及び吸着孔が連通され、排気孔、排気連通部、第2の連通孔及び吸込み孔が連通されるベースプレート、連結プレート及び吸着プレートから構成されて、外部の真空ライン及び排気ラインとつながっているベースプレートは固定された状態で、分割されるセルの大きさ及び形状に応じて、基板が支持される吸着プレート及び/又は連結プレートを取り替えることができる。これにより、全体的な工程テーブルの取り替えなしに吸着プレート及び/又は連結プレートのみを取り替えて、簡単に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供することができる。これを通じて、セルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供するために、従来のように、工程テーブルを全体的に解体し、多数のボルトを締め付けて結合する作業を繰り返し行わなくても、便利に所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルを提供することができる。また、工程テーブルを全体的に取り替えることなく、ベースプレートは固定されて真空ライン及び排気ラインの分離及び結合が不要になるので、真空ライン及び排気ラインを工程テーブルに結合及び分離する時間を短縮することができ、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルの準備時間を短縮することができる。さらに、第1の位置合わせ結合部と第2の位置合わせ結合部を介してベースプレートと連結プレートとを結合するだけで、ベースプレートと連結プレートとを位置合わせすることができる。これにより、工程テーブルに対する平坦化作業、並びにベースプレート、連結プレート及び吸着プレートの間の位置位置合わせ作業を行う必要なしに、所望のセルの大きさ及び形状に対応する工程テーブルの準備作業を完了することができ、さらに速やかに且つ便利に工程テーブルの準備作業を行うことが可能である。なお、カットライン溝の底面を内側方向に傾斜させるか、あるいは、屈曲させることにより、吸込み孔の周りの外郭に気流の影響が及ばないために残ってしまう工程副産物なしに、工程副産物を効果的に排気することができる。一方、このようなレーザー加工用の工程テーブルを備えるレーザー加工装置において、吸着プレートの上のレーザー部の周りにサクションフード部を付設して、レーザー加工に際して基板の上に生じるヒューム及びパーティクルなどの工程副産物もまた効果的に除去することができる。 As described above, in the present invention, the base plate through which the vacuum hole, the first communication hole, the vacuum chamber portion and the suction hole are communicated, and the exhaust hole, the exhaust communication portion, the second communication hole and the suction hole are communicated, and connected. The base plate, which is composed of a plate and a suction plate and is connected to an external vacuum line and an exhaust line, is fixed, and a suction plate and / Alternatively, the connecting plate can be replaced. This makes it possible to easily provide a process table corresponding to a desired cell size and shape by replacing only the adsorption plate and / or the connecting plate without replacing the entire process table. Through this, in order to provide a process table corresponding to the size and shape of the cell, it is not necessary to repeatedly disassemble the process table as a whole and tighten and connect a large number of bolts as in the conventional case. It is possible to conveniently provide a process table corresponding to a desired cell size and shape. In addition, since the base plate is fixed and the separation and connection of the vacuum line and the exhaust line are not required without replacing the process table as a whole, the time for connecting and separating the vacuum line and the exhaust line to the process table can be shortened. This makes it possible to shorten the preparation time of the process table corresponding to the desired cell size and shape. Further, the base plate and the connecting plate can be aligned only by connecting the base plate and the connecting plate via the first alignment joint portion and the second alignment joint portion. This completes the process table preparation work corresponding to the desired cell size and shape without the need to perform flattening work on the process table and alignment work between the base plate, connecting plate and suction plate. It is possible to prepare the process table more quickly and conveniently. By inclining or bending the bottom surface of the cut line groove inward, the process by-product is effective without the process by-product that remains because the outer shell around the suction hole is not affected by the air flow. Can be exhausted to. On the other hand, in a laser processing apparatus provided with such a process table for laser processing, a suction hood portion is attached around the laser portion on the adsorption plate, and processes such as fume and particles generated on the substrate during laser processing are performed. By-products can also be effectively removed.

前記説明において用いた「〜の上に」という意味は、直接的に接触する場合と、直接的に接触はしないものの、上部又は下部に対向して位置する場合と、を含み、上部面又は下部面の全体に対向して位置することも可能であれば、部分的に対向して位置することも可能であり、位置的に離れて対向する、あるいは、上部面又は下部面に直接的に接触するという意味で用いた。 The meaning of "on top of" used in the above description includes the case of direct contact and the case of not directly contacting but being located facing the upper part or the lower part, and includes the upper surface or the lower part. It can be located facing the entire surface, or it can be located partially opposed, facing away from the position, or in direct contact with the upper or lower surface. It was used in the sense of doing.

以上、本発明の好適な実施形態について図示して説明したが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、請求の範囲において請求する本発明の要旨を逸脱することなく、当該本発明が属する分野において通常の知識を有する者であれば、これより様々な変形が行え、且つ、均等な他の実施形態が採用可能であるということが理解できる筈である。よって、本発明の技術的な保護範囲は、次の特許請求の範囲によって定められるべきである。 Although the preferred embodiments of the present invention have been illustrated and described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and does not deviate from the gist of the claimed invention within the scope of the claims. Anyone who has ordinary knowledge in the field to which the present invention belongs should be able to understand that various modifications can be made and other uniform embodiments can be adopted. Therefore, the technical protection scope of the present invention should be defined by the following claims.

10:基板
100:工程テーブル
110:ベースプレート
110a:真空部
110b:排気部
111:真空孔
112:排気孔
115:第1の位置合わせ結合部
120:連結プレート
121:第1の連通孔
122:排気連通部
123:第2の連通孔
125:第2の位置合わせ結合部
130:吸着プレート
131:真空チャンバー部
132:吸着孔
133:吸込み孔
134:カットライン溝
140:シールプレート
141:第3の連通孔
142:第4の連通孔
151:第1の密着パッド
152:第2の密着パッド
200:レーザー加工装置
210:レーザー部
220:サクションフード部
10: Substrate 100: Process table 110: Base plate 110a: Vacuum part 110b: Exhaust part 111: Vacuum hole 112: Exhaust hole 115: First alignment joint part 120: Connecting plate 121: First communication hole 122: Exhaust communication Part 123: Second communication hole 125: Second alignment joint part 130: Suction plate 131: Vacuum chamber part 132: Suction hole 133: Suction hole 134: Cut line groove 140: Seal plate 141: Third communication hole 142: Fourth communication hole 151: First contact pad 152: Second contact pad 200: Laser processing device 210: Laser section 220: Suction hood section

Claims (16)

真空ラインにつながる真空孔を有する真空部と、排気ラインにつながる排気孔を介して工程副産物を排出する排気部と、を有するベースプレートと、
前記真空孔に連通されて厚さ方向に延びる第1の連通孔及び前記排気孔と連通されて厚さ方向に延びる第2の連通孔を有する連結プレートと、
前記第1の連通孔と連通されて基板を吸着する吸着孔及び前記第2の連通孔と連通されて厚さ方向に延びる吸込み孔を有する吸着プレートと、
を備えるレーザー加工用の工程テーブル。
A base plate having a vacuum part having a vacuum hole connected to the vacuum line and an exhaust part having an exhaust part for discharging process by-products through the exhaust hole connected to the exhaust line.
A connecting plate having a first communication hole that communicates with the vacuum hole and extends in the thickness direction and a second communication hole that communicates with the exhaust hole and extends in the thickness direction.
A suction plate having a suction hole that communicates with the first communication hole to suck the substrate and a suction hole that communicates with the second communication hole and extends in the thickness direction.
A process table for laser machining.
前記吸着プレートと前記連結プレートは、前記ベースプレートから分離可能である請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The process table for laser processing according to claim 1, wherein the adsorption plate and the connecting plate are separable from the base plate. 前記連結プレートは、前記排気孔と前記第2の連通孔との間、又は前記第2の連通孔と前記吸込み孔との間に形成されて、前記工程副産物が流動する排気連通部をさらに備え、
前記吸着プレートは、前記第1の連通孔と前記吸着孔との間に形成されて、前記第1の連通孔及び前記吸着孔と連通される真空チャンバー部をさらに備える請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。
The connecting plate is further provided with an exhaust communication portion formed between the exhaust hole and the second communication hole or between the second communication hole and the suction hole to allow the process by-products to flow. ,
The laser according to claim 1, wherein the suction plate is further provided with a vacuum chamber portion formed between the first communication hole and the suction hole and communicated with the first communication hole and the suction hole. Process table for processing.
前記真空孔と前記第1の連通孔とを連通させる第3の連通孔及び前記排気孔と前記排気連通部とを連通させる第4の連通孔を有し、前記ベースプレートと前記連結プレートとの間に介在するシールプレートをさらに備える請求項3に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 It has a third communication hole for communicating the vacuum hole and the first communication hole and a fourth communication hole for communicating the exhaust hole and the exhaust communication portion, and is between the base plate and the connection plate. The process table for laser processing according to claim 3, further comprising a seal plate interposed therein. 前記シールプレートは、前記排気連通部に対応して配設され、
前記第4の連通孔は、前記排気孔と対応して配設される請求項4に記載のレーザー加工用の工程テーブル。
The seal plate is arranged so as to correspond to the exhaust communication portion.
The process table for laser processing according to claim 4, wherein the fourth communication hole is arranged corresponding to the exhaust hole.
前記排気連通部は、前記第1の連通孔及び前記第3の連通孔と画成されて配設される請求項4に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The process table for laser processing according to claim 4, wherein the exhaust communication portion is arranged so as to be defined as the first communication hole and the third communication hole. 前記排気孔の周りに配設されて、前記シールプレートに密着される第1の密着パッドをさらに備える請求項4に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The process table for laser machining according to claim 4, further comprising a first contact pad disposed around the exhaust hole and brought into close contact with the seal plate. 前記真空孔の周りに配設されて、前記連結プレートに密着される第2の密着パッドをさらに備える請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The process table for laser machining according to claim 1, further comprising a second contact pad disposed around the vacuum hole and brought into close contact with the connecting plate. 前記真空部は、前記ベースプレートの中央部に位置し、
前記排気部は、前記ベースプレートの周縁部に前記真空部を中心として対称となるように位置する請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。
The vacuum portion is located in the central portion of the base plate.
The process table for laser processing according to claim 1, wherein the exhaust portion is located on the peripheral edge portion of the base plate so as to be symmetrical with respect to the vacuum portion.
前記ベースプレートは、前記連結プレートに面する面に形成される第1の位置合わせ結合部をさらに備え、
前記連結プレートは、前記ベースプレートに面する面に前記第1の位置合わせ結合部と対応して形成される第2の位置合わせ結合部をさらに備える請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。
The base plate further comprises a first alignment joint formed on a surface facing the connecting plate.
The process table for laser machining according to claim 1, wherein the connecting plate further includes a second aligned joint formed on a surface facing the base plate so as to correspond to the first aligned joint.
前記吸着プレートの吸着面には、前記吸込み孔と連通されるカットライン溝が形成される請求項1に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The process table for laser processing according to claim 1, wherein a cut line groove communicating with the suction hole is formed on the suction surface of the suction plate. 前記カットライン溝の底面は、内側方向に傾斜するか、あるいは、屈曲された請求項11に記載のレーザー加工用の工程テーブル。 The process table for laser machining according to claim 11, wherein the bottom surface of the cut line groove is inclined inward or bent. 前記カットライン溝は、前記基板のセルの分割のためのセルの大きさに応じて配設され、
前記吸着プレートは、前記セルの大きさに対応するカットライン溝に沿って取り替え可能であり、
前記連結プレートは、前記対応するカットライン溝の吸込み孔に対応する第2の連通孔に沿って取り替え可能である請求項11に記載のレーザー加工用の工程テーブル。
The cut line groove is arranged according to the size of the cell for dividing the cell of the substrate.
The suction plate can be replaced along a cut line groove corresponding to the size of the cell.
The process table for laser machining according to claim 11, wherein the connecting plate is replaceable along a second communication hole corresponding to the suction hole of the corresponding cut line groove.
請求項1乃至請求項13のいずれか一項に記載のレーザー加工用の工程テーブルと、
前記工程テーブルの上に支持された基板の上に前記吸込み孔の配列に従ってレーザーを照射するレーザー部と、
を備えるレーザー加工装置。
The process table for laser processing according to any one of claims 1 to 13.
A laser unit that irradiates a laser on a substrate supported on the process table according to the arrangement of the suction holes.
Laser processing equipment equipped with.
前記吸着プレートの上に配置されて前記基板の上に浮遊する工程副産物を吸い込むサクションフード部をさらに備える請求項14に記載のレーザー加工装置。 The laser processing apparatus according to claim 14, further comprising a suction hood portion that is arranged on the suction plate and sucks process by-products floating on the substrate. 前記サクションフード部は、前記レーザー部の周りに配置される請求項15に記載のレーザー加工装置。 The laser processing apparatus according to claim 15, wherein the suction hood portion is arranged around the laser portion.
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