JP2021530876A - 改良されたイオンブロッカを備えた遠隔容量結合プラズマ源 - Google Patents
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- フェースプレートを有する遠隔プラズマ源、
前記フェースプレートに面する背面および前面であって、厚さを規定する背面および前面を有するイオンブロッカであって、前記イオンブロッカの前記背面が、前記フェースプレートからある距離を空けて配置されて、間隙を形成し、前記イオンブロッカが、前記厚さを通って延びる複数の開口部を備える、イオンブロッカ、
背面および前面を有するシャワーヘッドであって、前記シャワーヘッドの前記背面が、前記イオンブロッカの前記前面に面し、前記イオンブロッカの前記前面から離れて配置されており、前記シャワーヘッドが、前記遠隔プラズマ源からのラジカルが前記シャワーヘッドを通って流れることを可能にする複数の開孔を備える、シャワーヘッド、ならびに
前記イオンブロッカおよび前記シャワーヘッドに接続され、前記シャワーヘッドに対して前記イオンブロッカに極性を与える電圧レギュレータ、
を備えるガス分配装置。 - 前記シャワーヘッドを通過するプラズマガスイオンが実質的に存在しないように、前記イオンブロッカが、前記シャワーヘッドに対して極性を与えられている、請求項1に記載のガス分配装置。
- 前記シャワーヘッドが、第1のガスチャネルおよび第2のガスチャネルを有するデュアルチャネルシャワーヘッドである、請求項1に記載のガス分配装置。
- 前記デュアルチャネルシャワーヘッドの前記第1のガスチャネルが、前記イオンブロッカと前記フェースプレートとの間の前記間隙と流体連結しており、前記シャワーヘッドの前記複数の開孔が、前記シャワーヘッドの前記前面から前記背面へ延びる第1の複数の開孔を含む、請求項3に記載のガス分配装置。
- 前記デュアルチャネルシャワーヘッドの前記第2のガスチャネルが、前記シャワーヘッドの前記前面の第2の複数の開孔と流体連結しており、前記第2の複数の開孔のいずれも、前記第2のガスチャネルを前記シャワーヘッドの前記背面と直接接続していない、請求項4に記載のガス分配装置。
- 前記イオンブロッカの前記開口部の少なくともいくつかが、前記シャワーヘッドの前記第1の複数の開孔の少なくともいくつかと整列している、請求項4に記載のガス分配装置。
- 前記イオンブロッカの前記開口部のそれぞれが、前記シャワーヘッドの前記第1の複数の開孔の1つと整列している、請求項4に記載のガス分配装置。
- 電圧レギュレータが、約±2Vから約±100Vの範囲で、前記シャワーヘッドに対する前記イオンブロッカの直流(DC)極性を提供するように構成されている、請求項1に記載のガス分配装置。
- 前記電圧レギュレータが、約±5Vから約±50Vの範囲で、前記シャワーヘッドに対する前記イオンブロッカの直流(DC)極性を提供するように構成されている、請求項1に記載のガス分配装置。
- 前記イオンブロッカの前記開口部が、約1/8インチから約1/2インチの範囲の直径を有する、請求項1に記載のガス分配装置。
- 請求項1から10のいずれか一項に記載のガス分配装置を備える処理チャンバ。
- ラジカルを処理チャンバに提供する方法であって、
第1の量のイオンおよびラジカルを含むプラズマを、イオンブロッカによって仕切られたプラズマ空洞内で生成することと、
前記イオンブロッカの開口部を通過するイオンを前記第1の量のイオンから第2の量に減少させ、ラジカルの流れを生成するように、前記イオンブロッカに極性を与えることと、
前記ラジカルの流れに、前記イオンブロッカに隣接し前記イオンブロッカから離れて配置されたシャワーヘッドであって、前記ラジカルが前記シャワーヘッドを通過できるようにするための複数の開孔を備えるシャワーヘッドを通過させることと、
を含み、
前記イオンブロッカが、前記シャワーヘッドに対して極性を与えられている、方法。 - プラズマガスが、酸素(O2)およびアルゴン(Ar)のうちの1つ以上を含む、請求項12に記載の方法。
- 前記シャワーヘッドを通過するプラズマガスイオンが実質的に存在しないように、前記イオンブロッカが、前記シャワーヘッドに対して極性を与えられている、請求項12に記載の方法。
- 命令であって、処理チャンバのコントローラによって実行されると、前記処理チャンバに、
第1の量のイオンおよびラジカルを含むプラズマを、プラズマ空洞内で生成する工程、
シャワーヘッドに対してイオンブロッカに極性を与える工程、ならびに
イオンブロッカによって仕切られたプラズマ空洞内へ、プラズマガスの流れを提供する工程、
を実行させる命令を含む、非一時的なコンピュータ可読媒体。
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