JP2021521343A - 表盤に金属装飾を施す方法及びこの方法によって得られた表盤 - Google Patents
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Abstract
Description
− 少なくとも1つの面が導電性である基材を用意するステップ
− 基材の導電面に感光性樹脂層を塗布するステップ
− 所望の微細構造の輪郭が定められたマスクを通して樹脂層に対して照射するステップ
− いくつかの箇所において基材の導電面が見えるように感光性樹脂層の非照射領域を溶解させるステップ
− 代わりに、感光性樹脂の上面に実質的に到達し第1の金属と第2の金属の層の積み重なりによって形成されるブロックを形成するように、第1の金属及び少なくとも1つの第2の金属の層を前記導電面上に電気的に堆積させるステップ
− 樹脂層と電着されたブロックを基材から剥離して分離するステップ
− 分離された構造の感光性樹脂層を除去して、このようにして形成された微細構造を解放するステップ
a)基材を用意し、その基材上に感光性樹脂層を堆積させるステップと、
b)前記感光性樹脂層に対して、所望の装飾の輪郭が定められたマスクを通して照射するステップと、
c)装飾の位置において前記第3の接着層が見えるように前記感光性樹脂層の前記非光重合領域を溶解させるステップと、
d)蒸着を用いて第1の接着層と第2の導電層を堆積させるステップと、
e)少なくとも前記感光性樹脂の上面に到達する層を形成するように前記導電面上に金属又は金属合金の層を電気的に堆積させるステップと、
f)電気的に堆積された層の余剰分を除去するように表面仕上げと研磨を行うステップと、
g)プラズマエッチングによって残りの感光性樹脂層を除去するステップと、及び
h)湿式エッチングによって前記第1の接着層と前記第2の導電層を除去するステップと
を備える。
− 前記第1の接着層は、Ti、Ta、Cr又はThタイプの層である。
− 前記第2の導電層は、Au、Pt、Ag、Cr、Pd、TiN、CrN、ZrN、Niタイプのものである。
− 前記第1の接着層の厚みは、30nm〜80nmである。
− 前記第2の導電層の厚みは、30nm〜80nmである。
− 本方法の1つの代替形態において、ステップg)において、型の高さまで第1の金属が堆積され、ステップi)の前に、当該方法は、堆積された第1の金属を覆う第2の金属を堆積させるステップh’)を備える。
− 絶縁材料によって作られた基材は、セラミックス、サファイア、真珠母材、ガラス、石英、ダイヤモンド、無機物質(花こう岩、大理石など)、ポリマー、複合材料又はエナメルによって作られた非導電性の基材である。
− 少なくとも1つの面が導電性である基材を用意するステップ
− 基材の導電面に感光性樹脂層を塗布するステップ
− 所望の微細構造の輪郭が定められたマスクを通して樹脂層に対して照射するステップ
− いくつかの箇所において基材の導電面が見えるように感光性樹脂層の非照射領域を溶解させるステップ
− 代わりに、感光性樹脂の上面に実質的に到達し第1の金属と第2の金属の層の積み重なりによって形成されるブロックを形成するように、第1の金属及び少なくとも1つの第2の金属の層を前記導電面上に電気的に堆積させるステップ
− 樹脂層と電着されたブロックを基材から剥離して分離するステップ
− 分離された構造の感光性樹脂層を除去して、このようにして形成された微細構造を解放するステップ
a)基材を用意し、その基材上に感光性樹脂層を堆積させるステップと、
b)前記感光性樹脂層に対して、所望の装飾の輪郭が定められたマスクを通して照射するステップと、
c)装飾の位置において前記基材が見えるように前記感光性樹脂層の前記非光重合領域を溶解させるステップと、
d)蒸着を用いて第1の接着層と第2の導電層を堆積させるステップと、
e)少なくとも前記感光性樹脂の上面に到達する層を形成するように前記導電層上に金属又は金属合金の層を電気的に堆積させるステップと、
f)電気的に堆積された層の余剰分を除去するように表面仕上げと研磨を行うステップと、
g)プラズマエッチングによって残りの感光性樹脂層を除去するステップと、及び
h)湿式エッチングによって前記第1の接着層と前記第2の導電層を除去するステップと
を備える。
− 前記第1の接着層は、Ti、Ta、Cr又はThを主に含有する層である。
− 前記第2の導電層は、Au、Pt、Ag、Cr、Pd、TiN、CrN、ZrN、Niタイプのものである。
− 前記第1の接着層の厚みは、30nm〜80nmである。
− 前記第2の導電層の厚みは、30nm〜80nmである。
− 本方法の1つの代替形態において、ステップg)において、型の高さまで第1の金属が堆積され、ステップi)の前に、当該方法は、堆積された第1の金属を覆う第2の金属を堆積させるステップh’)を備える。
− 絶縁材料によって作られた基材は、セラミックス、サファイア、真珠母材、ガラス、石英、ダイヤモンド、無機物質(花こう岩、大理石など)、ポリマー、複合材料又はエナメルによって作られた非導電性の基材である。
Claims (9)
- 曲がった面があり絶縁材料によって作られた基材(1)上に少なくとも1つの金属装飾を作る方法であって、
a)基材(1)を用意し、その基材(1)上に感光性樹脂層(5)を堆積させるステップと、
b)前記感光性樹脂層(5)に対して、所望の装飾の輪郭が定められたマスク(6)を通して照射するステップと、
c)装飾の位置において前記第3の接着層(4)が見えるように前記感光性樹脂層(5)の前記非光重合領域(5b)を溶解させるステップと、
d)蒸着を用いて第1の接着層(2)と第2の導電層(3)を堆積させるステップと、
e)前記感光性樹脂(5)の上面に実質的に到達する少なくとも1つのブロック(71、72)を形成するように前記導電面上に金属又は金属合金の層(7)を電気的に堆積させるステップと、
f)電気的に堆積された層の余剰分を除去するように表面仕上げと研磨を行うステップと、
g)プラズマエッチングによって残りの感光性樹脂層(5)を除去するステップと、及び
h)湿式エッチングによって前記第1の接着層(2)と前記第2の導電層(3)を除去するステップと
を備えることを特徴とする方法。 - 前記第1の接着層は、Ti、Ta、Cr又はThタイプの層である
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記第2の導電層は、Au、Pt、Ag、Cr、Pd、TiN、CrN、ZrN、Niタイプの層である
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。 - 前記第1の接着層(2)の厚みは、30nm〜80nmである
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。 - 前記第2の導電層(3)の厚みは、30nm〜80nmである
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。 - 前記ステップg)にて、型の高さまで第1の金属が堆積され、
前記ステップi)の前に、堆積された前記第1の金属又は金属合金を覆う第2の金属を堆積させるステップh’)を備える
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。 - 絶縁材料によって作られた前記基材(1)は、セラミックス、サファイア、真珠母材、石英、ダイヤモンド、無機物質(花こう岩、大理石など)、ポリマー、複合材料、ガラス又はエナメルによって作られた基材である
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。 - 金属装飾を備える絶縁材料によって作られ、
携行型時計のケースに固定されるように意図されており、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法を用いて得られる
ことを特徴とする曲がった表盤。 - 前記装飾は、インデックス、アプリーク及び/又はロゴである
ことを特徴とする請求項8に記載の表盤。
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