JP2021516220A - ジアルキルジスルフィドからs,s’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する方法 - Google Patents

ジアルキルジスルフィドからs,s’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、一酸化炭素の存在下で、ジアルキルジスルフィド及び特定の金属触媒からS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する方法に関する。本発明はまた、ポリカーボネート又は尿素及び/又はイソシアネートタイプの化合物、又は少なくとも1つのチオアルキル官能基を含む化合物の調製のための試薬としての、少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートの使用に関する。

Description

本発明は、一酸化炭素の存在下で、ジアルキルジスルフィド及び特定の金属触媒からS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する方法に関する。
本発明はまた、ポリカーボネート、尿素及び/又はイソシアネートタイプの化合物、又は少なくとも1つのチオアルキル官能基を含む化合物の調製のための試薬としての少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートの使用に関する。
二塩化カルボニル、又はホスゲンは、特にイソシアネート及びポリカーボネートの合成のために、化学工業によって一般的に使用される化合物である。
有利な化学的特性にもかかわらず、ホスゲンの使用は、その高い毒性のために制限されたままである。低用量であっても、周囲温度でのガス状及び致死性のために、その使用は今日では高度に規制されている。したがって、多くの研究は、ホスゲンを、毒性がより低く、工業的方法で使用しやすい他の化合物に置き換えようとしている。
近年、S,S’−ジアルキルジチオカーボネートは、尿素誘導体を調製する方法においてホスゲンを置換する能力について研究されてきた。実際、この化合物はホスゲンより毒性が低く、揮発性が低いという利点がある。しかし、S,S’−ジアルキルジチオカーボネートの合成は特に複雑である。
いくつかの日本の科学文献、特にArisawaら、Tetrahedron Letters、(2008)、49(12)、1975〜78は、ジアルキルジスルフィド及びセレン又はロジウムベースの触媒からS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを合成する方法を特に記載している。
しかし、セレンは非常に毒性の強い触媒であり、ロジウムベースの触媒は非常に高価である。
Arisawaら、Tetrahedron Letters、(2008)、49(12)、1975〜78
したがって、ロジウムを用いる方法と比較して、ヒト及び環境に対する毒性がより低く、工業化が容易で、任意選択的により安価なS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する方法を開発することが本当に必要である。
これらの目的は、本発明によって完全に又は少なくとも部分的に達成され、その主題は、特に、少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する方法であり、以下のステップ(a)、即ち
(a) 一酸化炭素の存在下で、
− 少なくとも1種のジアルキルジスルフィド、
− ニッケル、パラジウム及び白金から選択される少なくとも1種の金属を含む少なくとも1種の触媒
を、
− 任意選択的に溶媒又は溶媒の混合物の存在下で
反応させるステップを含む。
特に、出願人は、本発明による方法によって、少なくとも1種のジアルキルジスルフィドのカルボニル化により、S,S’−ジアルキルジチオカーボネートを得ることが可能となり、先行技術の方法よりも収率が良好であることに注目している。
また、本発明による方法は、先行技術の方法で使用されるものよりも毒性が低く、また安価である場合がある触媒を使用することも注目されている。
本発明の他の特徴、態様、主題及び利点は、以下に続く説明及び実施例を読むことによりさらに明確に現れるであろう。
さらに、「a〜bの間」という表現で表される値の範囲はいずれも、aからbに及ぶ値の範囲を表す(即ち、a及びbの厳格な限界を含む)。
本文全体を通して、圧力は絶対メガパスカル(MPa)で表される。
<ジアルキルジスルフィド>
本発明による調製方法のステップ(a)は、少なくとも1種のジアルキルジスルフィドを反応させる。
本発明によれば、ジアルキルジスルフィド(複数可)は対称性であっても非対称性であってもよい。換言すれば、ジアルキルジスルフィドの2つのアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。
好ましくは、ジアルキルジスルフィドは、下記式(I)のジアルキルジスルフィド、及びそれらの混合物から選択される。
−S−S−R
式中、
及びRは、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状で飽和のC〜C12、より優先的にはC〜C、さらに優先的にはC〜Cの炭化水素ベースの鎖であって、同一でも異なっていてもよい、好ましくはO、N及び/又はSから選択される1個以上のヘテロ原子を任意選択的に含む炭化水素ベースの鎖を表す。
及びRは同一であることが好ましい。
より好ましくは、R及びRは同一であり、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル又はtert−ブチル基などのC〜C炭化水素ベースの鎖を表す。
「同一」という用語は、同数の炭素原子を有し、かつ同一の立体化学配置を有することを意味するものとする。
さらにより優先的には、R及びRは各々メチル基を表す。
本発明の好ましい一実施形態によれば、ジアルキルジスルフィド(複数可)は、ジメチルジスルフィド、ジエチルジスルフィド、ジプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、及びそれらの混合物から、より優先的にジメチルジスルフィドから選択される。
一例として、本発明による方法で使用できるジアルキルジスルフィド(複数可)は、特にガス又は石油抽出場に由来する有機ジスルフィド又はDSO(ジスルフィド油)の混合物であってもよい。
より具体的には、DSO(ジスルフィド油)は、「メロックス」タイプの方法による石油画分又は液化ガスに含まれるメルカプタンの処理中に生成される有機ジスルフィドの混合物である(例えば、Catal.Review−Sci.Eng.、35(4)、(1993)、571−609参照)。
<触媒>
本発明による調製方法のステップ(a)は、ニッケル、パラジウム及び白金から選択される少なくとも1種の遷移金属を含む少なくとも1種の触媒を反応させる。
本発明によれば、触媒(複数可)は純粋な金属の形態又は有機金属錯体の形態である。
好適には、触媒(複数可)は有機金属錯体の形態である。
触媒(複数可)が有機金属錯体の形態である場合、遷移金属(複数可)は1種以上の配位子と共有結合する。
好適には、前記配位子(複数可)は、トリフェニルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン(即ち、dppe)、1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(即ち、dpppentane)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(即ち、dppf)、1,3−ジイソプロピルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(即ち、IiPr.BF )、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(即ち、dppb)、一酸化炭素、及びそれらの混合物から選択される。
任意に、本発明により使用できるホスフィンタイプの前記配位子、特にトリフェニルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン(即ち、dppe)、1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(即ち、dpppentane)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(即ち、dppf)及び1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(即ち、dppb)から選択されるものは、スルホン化反応を受ける。スルホン化によって処理されたホスフィンタイプの前記配位子は、少なくとも1つのスルホン酸官能基を含む。
本発明による方法で使用できる触媒は、使用するジアルキルジスルフィド(複数可)に可溶性であっても不溶性であってもよい。
本発明による方法で用いることができる触媒は、SiO、Al、TiO、Al/SiO、ZrO、ゼオライト、炭素ベースの材料、及びそれらの混合物から選択される多孔性支持体によって担持された固体形態でもよい。
好適には、本発明の方法で使用できる触媒は、使用するジアルキルジスルフィド(複数可)に可溶性である。
好適には、少なくとも1個のニッケル原子を含む触媒はニッケルテトラカルボニルである。
好適には、少なくとも1個のパラジウム原子を含む触媒は、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。
好適には、少なくとも1個の白金原子を含む触媒(複数可)は、純粋な金属の形態の白金、テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金、及びそれらの混合物から選択される。
本発明の好ましい一実施形態によれば、本発明による方法で使用することができる触媒(複数可)は、ニッケルテトラカルボニル、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、純粋な金属の形態の白金、テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金、及びそれらの混合物から選択される。
本発明の特に好ましい一実施形態によれば触媒はパラジウムを含み、より優先的には触媒はテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。
好適には、本発明の方法で使用できる触媒(複数可)は、酸化状態0、又は酸化状態+2又は(II)を有する。
好適には、ステップ(a)の反応に導入される触媒(複数可)のモル数は、ステップ(a)の反応に導入されるジアルキルジスルフィド(複数可)の総モル数に対して、0.1〜3モル%、より優先的には0.5〜2.5モル%、さらにより優先的には0.5〜2モル%である。
触媒のモル数は、秤量によって測定された触媒の重量を触媒のモル質量で割ることによって計算される。
<一酸化炭素>
本発明による調製方法のステップ(a)は、一酸化炭素の存在下で実施される。
好適には、本発明の方法のステップ(a)による反応は、1〜20MPa、より優先的には3〜15MPa、さらにより優先的には4〜8MPaの一酸化炭素全圧下で行われる。
<追加の配位子>
本発明による製造方法のステップ(a)は、反応媒体への、少なくとも1種の追加の配位子の付加を任意選択的に含んでもよい。
本発明の目的のために、追加の配位子は、ステップ(a)の反応の反応媒体に一旦導入されると、任意選択的に金属又は有機金属錯体に共有結合することができる有機分子である。
本発明の目的のために、追加の配位子(複数可)の化学構造は、触媒(複数可)の配位子(複数可)の化学構造と同一であってもよいことが理解される。本発明の目的のために、追加の配位子(複数可)は、触媒とは異なり、試薬として反応媒体に添加されることも理解される。
好適には、追加の配位子(複数可)は、トリフェニルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン(即ち、dppe)、1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(即ち、dpppentane)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(即ち、dppf)、1,3−ジイソプロピルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(即ち、IiPr.BF )、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(即ち、dppb)、一酸化炭素、及びそれらの混合物から選択される。
好適には、本発明の方法のステップ(a)において追加の配位子(複数可)を反応させる場合、導入される追加の配位子(複数可)のモル数は、ステップ(a)の反応に導入されるジアルキルジスルフィドの総モル数に対して、0.1〜6モル%、より優先的には0.3〜5モル%、さらにより優先的には0.5〜4モル%である。
<溶媒>
ステップ(a)による反応では、溶媒又は溶媒の混合物を任意に使用することができる。
本発明の特定の一実施形態によれば、ステップ(a)による反応は、ジメチルジスルフィド(DMDS)のようなジアルキルジスルフィド(複数可)中で行うことができ、ジアルキルジスルフィドは反応溶媒としても試薬としても作用する。
一例として、溶媒(複数可)は、非プロトン性溶媒及び/又はプロトン性溶媒から選択することができる。
本発明の別の特定の実施形態によれば、本発明による方法のステップ(a)は、反応溶媒としてトルエン又は酢酸2−エチルヘキシルを使用する。
<反応条件>
本発明によるステップ(a)は、70〜200℃、好ましくは90〜180℃、より優先的には100〜170℃、さらにより優先的には100〜160℃の範囲の温度で実施することができる。
好適には、ステップ(a)の持続時間は、数分〜数時間の範囲であり、優先的には5分〜72時間であり、より優先的には10分〜60時間であり、さらにより優先的には10分〜45時間である。
一例として、反応は、固定床管状、多管状、触媒壁微小チャネル又は流動床反応器で行うことができる。
本発明の主題はまた、ポリカーボネート又は少なくとも1つの尿素及び/又はイソシアネート官能基を含む化合物の調製のための試薬としての、上記の方法により得られた少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートの使用である。
好適には、本発明は、ポリカーボネート又は少なくとも1つの尿素及び/又はイソシアネート官能基を含む化合物の調製のための試薬としての、上記の方法により得られた少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートの使用に関する。
本発明の主題はまた、少なくとも1つのチオアルキル官能基(即ち、−S−アルキル、好ましくはC〜Cアルキル官能基)、より優先的にチオメチル官能基(即ち、−S−CH官能基)を含む化合物の調製のための試薬としての、上記の方法により得られた少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートの使用である。
本発明による、ポリカーボネート又は少なくとも1つの尿素及び/又はイソシアネート官能基を含む化合物の調製は、
1) 上記の本発明の方法に従って少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する第1のステップ、及び
2) 調製ステップ1)により得られたS,S’−ジアルキルジチオカーボネートから、ポリカーボネート又は少なくとも1つの尿素及び/又はイソシアネート官能基を含む化合物を調製する第2のステップ
を含む。
例として、S,S’−ジアルキルジチオカーボネートから少なくとも1つの尿素官能基を含む化合物を調製するための上記の第2のステップは、特許出願ITMI20042402号、JP2007/191471号及びWO2006/004200号に記載された調製と同一であってもよいが、これらの先行の調製は、本発明による方法とは異なる方法によって得られるS,S’−ジアルキルジチオカーボネートから出発して実施されるという相違がある。
本発明による、少なくとも1つのチオアルキル、好ましくはチオメチル官能基を含む化合物の調製は、
1) 上記の本発明の方法に従って少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する第1のステップ、及び
2) 調製ステップ1)によって得られたS,S’−ジアルキルジチオカーボネートから、少なくとも1つのチオアルキル、好ましくはチオメチル基を含む化合物を調製する第2のステップ
を含む。
一例として、S,S’−ジアルキルジチオカーボネートから少なくとも1つのチオアルキル官能基を含む化合物を調製するための上記の第2のステップは、特許出願EP0063327号に記載されている調製と同一であってもよいが、この先行の調製が、本発明による方法とは異なる方法によって得られるS,S’−ジアルキルジチオカーボネートから出発して実施されるという相違がある。したがって、例えば除草剤、殺虫剤として、塗料において、医薬中間体、酸化阻害剤又は潤滑剤の添加剤として使用されるメルカプトトリアジンを得ることができる。
試薬として用いられる前記S,S’−ジアルキルジチオカーボネートは、上記のように少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する方法に従って調製することができる。
本発明は、以下の実施例において説明され、そのような実施例は、純粋に例示的で、明らかに非限定的な目的のために与えられる。
<触媒評価>
反応器中で以下の条件下でジメチルジスルフィドからジメチルジチオカーボネートを調製する反応において、少なくとも1種の遷移金属を含む触媒を評価する。
− 温度:160℃、
− 一酸化炭素圧:4MPa。
[例1]
ジメチルジスルフィド溶液(22.43ml、250mmol)を無水トルエン(500ml)で希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を200rpmで撹拌し、160℃にし、40時間一酸化炭素圧(4MPa)下に置いた。
[例2]
酸化状態(I)のクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(即ち、RhCl(PPh)(2.813g、3.0mmol)及びトリフェニルホスフィン(1.732g、6.6mmol)を、無水トルエン(500ml)に希釈したジメチルジスルフィド(22.43ml、250mmol)溶液に希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を200rpmで撹拌し、160℃にし、40時間一酸化炭素圧(4MPa)下に置いた。
[例3]
酸化状態(I)のクロロトリス(トリフェニルホスフィン)コバルト(即ち、CoCl(PPh)(3.689g、4.2mmol)及びトリフェニルホスフィン(1.732g、6.6mmol)を、無水トルエン(500ml)に希釈したジメチルジスルフィド(22.43ml、250mmol)溶液に希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を200rpmで撹拌し、160℃にし、40時間一酸化炭素圧(4MPa)下に置いた。
[実施例4]
酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(即ち、Pd(PPh)(3.513g、3.0mmol)及びトリフェニルホスフィン(1.732g、6.6mmol)を、無水トルエン(500ml)に希釈したジメチルジスルフィド(22.43ml、250mmol)溶液に希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を200rpmで撹拌し、160℃にし、40時間一酸化炭素圧(4MPa)下に置いた。
Agilent DB1−ms 0.32mm×60m×5μmのカラムを用いるガスクロマトグラフィーにより、反応の3時間後、20時間後及び40時間後の各試料について、生成されたジメチルジチオカーボネートの収率を決定した。適用される温度勾配は、50℃で3分間、その後10℃/分で240℃まで、及び240℃で8分間である。検出は熱伝導度検出器(TCD)で行った。
得られた結果を以下の表1に示す。
Figure 2021516220
表1に示した結果は、触媒が酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである場合、ジメチルジスルフィドカルボニル化反応の収率が改善されることを示している。
<追加の配位子の評価>
ジメチルジスルフィド及び酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムからジメチルジチオカーボネートを調製する反応と次の条件下、即ち、
− 温度:160℃、
− 一酸化炭素圧:4MPa
で、追加の配位子1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン(即ち、dppe)、1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(即ち、dpppentane)及び1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(即ち、dppf)を評価した。
[実施例5]
酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(3.513g、3.0mmol)及び1,2−(ジフェニルホスフィノ)エタン(3.076g、7.0mmol)を、無水トルエン(500ml)に希釈したジメチルジスルフィド(22.43ml、250mmol)溶液に希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を200rpmで撹拌し、160℃にし、40時間一酸化炭素圧(4MPa)下に置いた。
[実施例6]
酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(3.513g、3.0mmol)及び1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(2.782g、7.0mmol)を、無水トルエン(500ml)に希釈したジメチルジスルフィド(22.43ml、250mmol)溶液に希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を200rpmで撹拌し、160℃にし、40時間一酸化炭素圧(4MPa)下に置いた。
[実施例7]
酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(3.513g、3.0mmol)及び1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(3.871g、7.0mmol)を、無水トルエン(500ml)に希釈したジメチルジスルフィド(22.43ml、250mmol)溶液に希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を200rpmで撹拌し、160℃にし、40時間一酸化炭素圧(4MPa)下に置いた。
Agilent DB1−ms 0.32mm×60m×5μmのカラムを用いるガスクロマトグラフィーにより、反応の3時間後、20時間後及び40時間後の各試料について、生成されたジメチルジチオカーボネートの収率を決定した。適用される温度勾配は、50℃で3分間、その後10℃/分で240℃まで、及び240℃で8分間である。検出は熱伝導度検出器(TCD)で行った。
得られた結果を以下の表2に示す。
Figure 2021516220
<ジメチルジスルフィドの初期濃度の評価>
ジメチルジスルフィドの初期濃度を、ジメチルジチオカーボネートを調製する反応において無水トルエン中で酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム及び1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセンの存在下で評価する。反応は反応器内で、次の条件下で行う。
− 温度:130℃、
− 一酸化炭素圧:15MPa。
[実施例8]
酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(即ち、Pd(PPh)(0.35g、0.31mmol)及び1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(0.5g、0.90mmol)を、無水トルエン(60mlまでにする)に希釈したジメチルジスルフィド(26.7ml、300mmol)溶液に希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を1200rpmで撹拌し、130℃にし、70時間一酸化炭素圧(15MPa)下に置いた。
[実施例9]
酸化状態(0)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(即ち、Pd(PPh)(0.35g、0.31mmol)及び1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(0.5g、0.90mmol)を、無水トルエン(60mlまでにする)に希釈したジメチルジスルフィド(2.67ml、30mmol)溶液に希釈した。真空ポンプを用いて空気を除去した後、混合物を1200rpmで撹拌し、130℃にし、70時間一酸化炭素圧(15MPa)下に置いた。
これらの実施例8及び9について、Agilent DB1−ms 0.32mm×60m×5μmのカラムを用いるガスクロマトグラフィーにより、24時間後、42時間後及び70時間後に、ジメチルジチオカーボネートの収率を決定した。適用される温度勾配は、50℃で3分間、その後10℃/分で240℃まで、及び240℃で8分間である。検出は熱伝導度検出器(TCD)で行った。
得られた結果を以下の表3に示す。
Figure 2021516220

Claims (10)

  1. 少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートを調製する方法であって、以下のステップ(a)、即ち、
    (a) 一酸化炭素の存在下で、
    − 少なくとも1種のジアルキルジスルフィド、
    − ニッケル、パラジウム及び白金から選択される少なくとも1種の金属を含む少なくとも1種の触媒
    を、
    − 任意選択的に溶媒又は溶媒の混合物の存在下で
    反応させるステップを含む方法。
  2. 前記ジアルキルジスルフィドが、下記式(I)のジアルキルジスルフィド、及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
    −S−S−R
    [式中、
    及びRは、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状で飽和のC〜C12、好ましくはC〜C、より優先的にはC〜Cの炭化水素ベースの鎖であって、同一でも異なっていてもよい、好ましくはO、N及び/又はSから選択される1個以上のヘテロ原子を任意選択的に含む炭化水素ベースの鎖を表す。]
  3. 及びRが同一であり、C〜C炭化水素ベースの鎖を表し、好ましくはR及びRが各々メチル基を表すことを特徴とする、請求項2に記載の方法。
  4. 前記触媒がパラジウムを含み、好ましくは前記触媒がテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. ステップ(a)の反応に導入される触媒のモル数が、ステップ(a)の反応に導入されるジアルキルジスルフィドの総モル数に対して、0.1〜3モル%、好ましくは0.5〜2.5モル%、より優先的には0.5〜2モル%であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. ステップ(a)による反応が、1〜20MPa、好ましくは3〜15MPa、より優先的には4〜8MPaの一酸化炭素全圧下で行われることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記ステップ(a)が、反応媒体への少なくとも1つの追加の配位子の添加を含むことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記追加の配位子が、トリフェニルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、1,3−ジイソプロピルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、一酸化炭素、及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
  9. 前記ステップ(a)の反応に導入されるジアルキルジスルフィドの総モル数に対して、追加の配位子のモル数が、0.1〜6モル%、好ましくは0.3〜5モル%、より優先的には0.5〜4モル%であることを特徴とする、請求項7又は8に記載の方法。
  10. ポリカーボネート、少なくとも1つの尿素及び/又はイソシアネート官能基を含む化合物、又は少なくとも1つのチオアルキル官能基を含む化合物の調製のための試薬としての、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法により得られた少なくとも1種のS,S’−ジアルキルジチオカーボネートの使用。
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