JP2021500747A - 窒化ホウ素合金中間層を有する高電子移動度トランジスタ及び製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
105 III族窒化物バッファ層
107 二次元電子ガス(2DEG)チャネル
110 窒化ホウ素合金中間層
115 III族窒化物障壁層
120 III族窒化物キャップ層
300 半導体デバイス
305 III族窒化物バッファ層
307 二次元電子ガス(2DEG)チャネル
310 III族窒化物中間層
315 窒化ホウ素合金中間層
320 III族窒化物障壁層
325 III族窒化物キャップ層
Claims (20)
- III族窒化物バッファ層(105、305)であって、その一部が、二次元電子ガス(2DEG)チャネル(107、307)を含む、III族窒化物バッファ層(105、305)と、
III族窒化物障壁層(115、320)と、
前記III族窒化物バッファ層(105、305)と前記III族窒化物障壁層(115、320)との間に挿入された窒化ホウ素合金中間層(110、315)であって、前記2DEGチャネル(107、307)を含む前記III族窒化物バッファ層(105、305)の一部が、前記窒化ホウ素合金中間層(110、315)に隣接する前記III族窒化物バッファ層(105、305)の側にある、窒化ホウ素合金中間層(110、315)と、
を備える、半導体デバイス(100、300)。 - 前記III族窒化物障壁層に配置されたIII族窒化物キャップ層をさらに備える、請求項1に記載の半導体デバイス。
- 前記窒化ホウ素合金中間層が、
ホウ素、アルミニウム及び窒素、
ホウ素、ガリウム及び窒素、
ホウ素、インジウム及び窒素、
ホウ素、アルミニウム、ガリウム及び窒素、
ホウ素、インジウム、ガリウム及び窒素、
ホウ素、アルミニウム、インジウム及び窒素、並びに、
ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム及び窒素
のうちの1つを含む、請求項1に記載の半導体デバイス。 - 前記窒化ホウ素合金中間層が、ヘテロ接合の一部であり、
それが、前記窒化ホウ素合金中間層と前記III族窒化物バッファ層との間に挿入された窒化ホウ素合金中間層をさらに備える、請求項1に記載の半導体デバイス。 - 前記窒化ホウ素合金中間層が、前記III族窒化物バッファ層と前記III族窒化物障壁層との間に挿入されたヘテロ接合の一部であり、
前記ヘテロ接合が、窒化アルミニウム中間層をさらに備える、請求項1に記載の半導体デバイス。 - 前記III族窒化物障壁層の伝導帯の最小値が、前記III族窒化物バッファ層の伝導帯の最小値よりも大きく、前記窒化ホウ素合金中間層の伝導帯の最小値が、前記III族窒化物バッファ層の前記伝導帯の最小値よりも大きく、前記窒化ホウ素合金中間層と前記III族窒化物バッファ層との間に分極差がある、請求項1に記載の半導体デバイス。
- 前記窒化ホウ素合金中間層が、窒化ホウ素アルミニウム中間層である、請求項1に記載の半導体デバイス。
- 前記III族窒化物障壁層が、窒化アルミニウムガリウム障壁層であり、前記III族窒化物バッファ層が、窒化ガリウムバッファ層である、請求項7に記載の半導体デバイス。
- 前記窒化ホウ素合金中間層の一部及び/又は前記III族窒化物障壁層が、前記2DEGチャネルの部分を含む、請求項1に記載の半導体デバイス。
- 前記III族窒化物バッファ層が、窒化ガリウムを含み、前記窒化ホウ素中間層が、B0.14Al0.86Nを含み、及び、前記III族窒化物障壁層が、Al0.30Ga0.70Nを含み、
前記III族窒化物バッファ層が、窒化ガリウムを含み、前記窒化ホウ素中間層が、B0.13Al0.87Nを含み、及び、前記III族窒化物障壁層が、窒化アルミニウムを含み、又は、
前記III族窒化物バッファ層が、In0.15Ga0.85Nを含み、前記窒化ホウ素中間層が、B0.15Al0.85Nを含み、及び、前記III族窒化物障壁層が、窒化ガリウムを含む、
請求項1に記載の半導体デバイス。 - III族窒化物バッファ層(305)を形成する段階(405)と、
前記III族窒化物バッファ層(305)に第1の中間層(310、315)を形成する段階(410)と、
前記第1の中間層(310、315)に第2の中間層(310、315)を形成する段階(415)であって、前記第1の中間層(310、315)が、III族窒化物中間層(310)及び窒化ホウ素合金中間層(315)の一方であり、前記第2の中間層(310、315)が、前記III族窒化物中間層(310)及び前記窒化ホウ素合金中間層(315)の他方である、第2の中間層(310、315)を形成する段階(415)と、
前記第2の中間層(315)にIII族窒化物障壁層(320)を形成する段階(420)と、
を含み、
前記III族窒化物バッファ層(305)の一部が、前記第1のIII族窒化物中間層(310、315)に隣接する二次元電子ガス(2DEG)チャネル(307)を含む、
半導体デバイス(300)を形成する方法。 - 前記III族窒化物障壁層にIII族窒化物キャップ層を形成する段階をさらに含む、請求項11に記載の方法。
- 前記窒化ホウ素合金中間層が、
ホウ素、アルミニウム及び窒素、
ホウ素、ガリウム及び窒素、
ホウ素、インジウム及び窒素、
ホウ素、アルミニウム、ガリウム及び窒素、
ホウ素、インジウム、ガリウム及び窒素、
ホウ素、アルミニウム、インジウム及び窒素、並びに、
ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム及び窒素
のうちの1つを使用して形成される、請求項11に記載の方法。 - 前記III族窒化物中間層が、窒化ホウ素又は窒化アルミニウムを使用して形成される、請求項11に記載の方法。
- 前記III族窒化物障壁層の伝導帯の最小値が、前記III族窒化物バッファ層の伝導帯の最小値より大きく、前記第1及び第2の中間層の伝導帯の最小値が、前記III族窒化物の前記伝導帯の最小値より大きく、前記第1の中間層と前記III族窒化物バッファ層との間に分極差がある、請求項11に記載の方法。
- III族窒化物バッファ層(305)であって、その一部が、二次元電子ガス(2DEG)チャネル(307)を含む、III族窒化物バッファ層(305)と、
前記III族窒化物バッファ層(305)に配置された第1の中間層(310、315)と、
前記第1の中間層(310、315)に配置された第2の中間層(310、315)であって、前記第1の中間層(310、315)が、III族窒化物中間層(310)及び窒化ホウ素合金中間層(315)の一方であり、前記第2の中間層(310、315)が、前記III族窒化物中間層(310)及び前記窒化ホウ素合金中間層(315)の他方である、第2の中間層(310、315)と、
前記第2の中間層(315)に配置されたIII族窒化物障壁層(320)であって、前記2DEGチャネル(307)を含む前記III族窒化物バッファ層(305)の一部が、前記第1の中間層(310)に隣接する前記III族窒化物バッファ層(305)の側面にある、III族窒化物障壁層(320)と、
を備える、半導体デバイス(300)。 - 前記III族窒化物障壁層に配置されたIII族窒化物キャップ層をさらに備える、請求項16に記載の半導体デバイス。
- 前記窒化ホウ素合金中間層が、
ホウ素、アルミニウム及び窒素、
ホウ素、ガリウム及び窒素、
ホウ素、インジウム及び窒素、
ホウ素、アルミニウム、ガリウム及び窒素、
ホウ素、インジウム、ガリウム及び窒素、
ホウ素、アルミニウム、インジウム及び窒素、並びに、
ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム及び窒素
のうちの1つを含む、請求項16に記載の半導体デバイス。 - 前記III族窒化物中間層が、窒化ホウ素又は窒化アルミニウムを含む、請求項16に記載の半導体デバイス。
- 前記III族窒化物障壁層の伝導帯の最小値が、前記III族窒化物バッファ層の伝導帯の最小値より大きく、前記第1及び第2の中間層の伝導帯の最小値が、前記III族窒化物バッファ層の前記伝導帯の最小値より大きく、前記第1の中間層と前記III族窒化物バッファ層との間に分極差がある、請求項16に記載の半導体デバイス。
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