JP2021193725A - Electronic part protection sheet - Google Patents

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JP2021193725A JP2020214948A JP2020214948A JP2021193725A JP 2021193725 A JP2021193725 A JP 2021193725A JP 2020214948 A JP2020214948 A JP 2020214948A JP 2020214948 A JP2020214948 A JP 2020214948A JP 2021193725 A JP2021193725 A JP 2021193725A
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和規 松戸
Kazunori Matsudo
光晴 日野
Mitsuharu Hino
健次 安東
Kenji Ando
努 早坂
Tsutomu Hayasaka
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Artience Co Ltd
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Abstract

To provide an electronic part protection sheet which is excellent in temporary sticking properties, releasability and migration resistance, and which can be applied also to an electronic part group mounting board having electronic parts with different heights by further good embeddability.SOLUTION: There is provided an electronic part protection sheet for coating and protecting a plurality of electronic parts that are mounted on a board and have different heights. The electronic part protection sheet has a plurality of insulating resin layers with different Young's modulus at 23°C. In the electronic part protection sheet, the adhesive force of a surface in contact with an electronic part group, the adhesive force being measured by a probe tack test, is 0.3-5 N; the adhesive force of an opposite surface, the adhesive force being measured by a probe tack test, is 1 N or less; and the adhesive force of a surface in contact with the electronic part group, the adhesive force being measured by a probe tack test, is greater than a probe tack on the opposite surface.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、基板の表面に搭載された高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群を、基板の少なくとも一部の表面ごと被覆し、保護するための電子部品保護シートに関する。 The present invention relates to an electronic component protective sheet for covering and protecting at least a part of the surface of an electronic component mounted on the surface of a substrate and composed of a plurality of electronic components having different heights.

基板に搭載されたICチップ等の電子部品を、基板に対する折り曲げや衝撃から保護したり、温度変化による熱衝撃から保護したりするため、電子部品を基板の一部ないし全面ごと樹脂によって被覆保護することが行われている。近年では、保護される電子部品や基板回路の著しい性能の向上や小型化に伴い、被覆保護する材料に求められる保護機能の要求水準が高まっている。
電子部品を被覆保護する手法としては、従来より行われてきたコンフォーマルコーティングに置き換わる手段として、溶剤を含まないシート状に成形された熱溶融性の電子部品保護シートが提案されている。
例えば、特許文献1には、芳香族ビニル−共役ジエン系ブロック共重合体を主成分とする形成材料からなる防湿層を備えてなることを特徴とする電子機器部品用防湿シートが開示されている。
特許文献2には、オレフィン系単量体、エチレン性不飽和カルボン酸、および芳香族エチレン性不飽和単量体のグラフト共重合体からなる、基板保護用シートが開示されている。
特許文献3および特許文献4にはエポキシ樹脂、無機フィラー、難燃剤からなるシート状樹脂組成物が開示されている。
特許文献5には、電子部品搭載基板を封止するための封止用フィルムとして、絶縁層と電磁波シールド層とを備える封止用フィルムが開示されている。
特許文献6には、第1の熱伝導層と第2の熱伝導層とを備える積層シートで、実装部品と基板とを覆う実装構造体の製造方法開示されており、図3(b)には実装部品と実装部品との間を前記積層シートの硬化物で隙間なく埋め尽くす製造方法が開示されている。
In order to protect electronic components such as IC chips mounted on the board from bending and impact on the board and from thermal impact due to temperature changes, the electronic components are covered and protected with resin on a part or the entire surface of the board. Is being done. In recent years, with the remarkable improvement and miniaturization of the performance of protected electronic components and board circuits, the required level of protective functions required for covering and protecting materials has increased.
As a method for covering and protecting electronic components, a heat-meltable electronic component protective sheet molded into a solvent-free sheet has been proposed as a means to replace the conventional conformal coating.
For example, Patent Document 1 discloses a moisture-proof sheet for electronic equipment parts, which comprises a moisture-proof layer made of a forming material containing an aromatic vinyl-conjugated diene-based block copolymer as a main component. ..
Patent Document 2 discloses a substrate protective sheet composed of a graft copolymer of an olefin-based monomer, an ethylenically unsaturated carboxylic acid, and an aromatic ethylenically unsaturated monomer.
Patent Document 3 and Patent Document 4 disclose a sheet-like resin composition composed of an epoxy resin, an inorganic filler, and a flame retardant.
Patent Document 5 discloses a sealing film provided with an insulating layer and an electromagnetic wave shielding layer as a sealing film for sealing an electronic component mounting substrate.
Patent Document 6 discloses a method for manufacturing a mounting structure that covers a mounting component and a substrate with a laminated sheet including a first heat conductive layer and a second heat conductive layer, and is shown in FIG. 3 (b). Discloses a manufacturing method in which a space between a mounted component and a mounted component is completely filled with a cured product of the laminated sheet.

特開2003−145687号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-145678 特開2010−06954号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-06954 特開2011−246596号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-246596 特開2012−054363号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-054363 特開2019−021757号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-021757 WO2019/065976WO2019 / 065976

しかし、図2(a)、図3(a)に示すように、搭載された電子部品の高さが一定ではない電子部品搭載基板を従来の保護シートで被覆保護する場合、図2(b)に示すように保護シートが水平方向にずれたり、図3(b)に示すように高さのある電子部品によって保護シートが傾むいたりして、その結果目的とは異なる箇所に被覆保護膜を形成してしまう問題があった。つまり、保護シートには目的の電子部品に張り付き、ずれや傾きを生じないこと(以下、仮張り性という)が求められる。
また、保護シートを電子部品搭載基板上に載置する際に使用するピックアップ装置に、保護シートの載置予定面とは反対側の面が張り付いてしまい、電子部品搭載基板上への速やかな載置が損なわれ、生産性が低下する問題があった。つまり、保護シートにはピックアップ装置からの速やかなリリースが求められる(以下、リリース性という)。
また、従来の保護シートは、被覆保護膜を形成後、長期の使用によって、電子部品間の導通部(例えば半田バンプ)でマイグレーションが発生してしまう問題があった(以下、マイグレーション耐性という)。
さらに、従来の保護シートは、電子部品間の隙間や電子部品の凹凸への埋め込み性も不足していた(以下、埋め込み性という)。
However, as shown in FIGS. 2 (a) and 3 (a), when the electronic component mounting substrate whose height of the mounted electronic component is not constant is covered and protected by a conventional protective sheet, FIG. 2 (b) is used. As shown in, the protective sheet is displaced in the horizontal direction, and as shown in FIG. 3 (b), the protective sheet is tilted by a tall electronic component. There was a problem of forming. That is, it is required that the protective sheet does not stick to the target electronic component and does not shift or tilt (hereinafter referred to as temporary tension).
In addition, the surface opposite to the planned mounting surface of the protective sheet sticks to the pickup device used when mounting the protective sheet on the electronic component mounting board, so that the protective sheet can be quickly mounted on the electronic component mounting board. There was a problem that the placement was impaired and the productivity was lowered. In other words, the protective sheet is required to be released promptly from the pickup device (hereinafter referred to as release property).
Further, the conventional protective sheet has a problem that migration occurs at a conductive portion (for example, a solder bump) between electronic components due to long-term use after forming a covering protective film (hereinafter referred to as migration resistance).
Further, the conventional protective sheet has insufficient embedding property in gaps between electronic components and unevenness of electronic components (hereinafter referred to as embedding property).

本発明は、仮張り性、リリース性、マイグレーション耐性に優れ、さらに良好な埋め込み性によって高さの異なる電子部品を有する電子部品群搭載基板にも適用が可能な電子部品保護シートを提供する。 The present invention provides an electronic component protective sheet that is excellent in temporary tensioning property, release property, migration resistance, and can be applied to an electronic component group mounting substrate having electronic components having different heights due to good embedding property.

本発明者らは、鋭意検討の結果、基板上に実装された電子部品群を、加熱加圧によって被覆保護するための電子部品保護シートであって、前記電子部品保護シートが、熱硬化性樹脂を含む絶縁性樹脂層を有し、電子部品群と接する面と反対の面のプローブタック試験による粘着力がそれぞれ所定の範囲にあって、電子部品群と接する面の前記粘着力が反対の面の前記粘着力よりも大きいことを特徴とする電子部品保護シートを用いることにより、前記課題を解決することを見出し、本発を完成させるに至った。 As a result of diligent studies, the present inventors have obtained an electronic component protective sheet for covering and protecting an electronic component group mounted on a substrate by heating and pressurizing, and the electronic component protective sheet is a thermosetting resin. It has an insulating resin layer containing, and the adhesive force of the surface opposite to the surface in contact with the electronic component group is within a predetermined range, respectively, and the adhesive force of the surface in contact with the electronic component group is opposite. By using an electronic component protective sheet characterized by having a greater adhesive strength than that of the above, it was found that the above-mentioned problems could be solved, and the present invention was completed.

即ち、本発明は、基板上に実装された高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群を、被覆保護するための電子部品保護シートであって、
電子部品保護シートが、熱硬化性樹脂を含む絶縁性樹脂層を有し、
電子部品群と接する面のプローブタック試験による粘着力が0.3〜5Nであり、
反対の面のプローブタック試験による粘着力が1N以下であって、電子部品群と接する面のプローブタック試験による粘着力が反対の面のプローブタック試験による粘着力よりも大きい電子部品保護シートに関する。
That is, the present invention is an electronic component protection sheet for covering and protecting a group of electronic components composed of a plurality of electronic components having different heights mounted on a substrate.
The electronic component protective sheet has an insulating resin layer containing a thermosetting resin, and has an insulating resin layer.
The adhesive strength of the surface in contact with the electronic component group by the probe tack test is 0.3 to 5N.
The present invention relates to an electronic component protective sheet having an adhesive force of 1 N or less in the probe tack test on the opposite surface and a larger adhesive force in the probe tack test on the surface in contact with the electronic component group than the adhesive force in the probe tack test on the opposite surface.

さらに、本発明は、高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群を基板上に実装する工程、
前記本発明に記載の電子部品保護シートを用意する工程、
電子部品群のうち、最も高さの高い電子部品と、電子部品保護シートにおける第1の絶縁性樹脂層とが接するように電子部品保護シートを載置する工程、
加熱加圧により電子部品保護シートを個々の電子部品の形状に沿うように変形させ、電子部品群および基板の少なくとも一部を被覆する工程、
および
変形した電子部品保護シートを変形した状態で熱硬化させ被覆保護層を形成する工程を含む、
電子部品群搭載基板の被覆保護方法に関する。
Further, the present invention is a process of mounting an electronic component group composed of a plurality of electronic components having different heights on a substrate.
The step of preparing the electronic component protection sheet according to the present invention,
A process of placing an electronic component protective sheet so that the tallest electronic component in the electronic component group and the first insulating resin layer in the electronic component protective sheet are in contact with each other.
A process of deforming an electronic component protective sheet to follow the shape of each electronic component by heating and pressurizing, and covering at least a part of the electronic component group and the substrate.
And, including the step of thermally curing the deformed electronic component protective sheet in a deformed state to form a covering protective layer.
The present invention relates to a coating protection method for a board on which an electronic component group is mounted.

さらにまた、本発明は、高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群を基板上に実装する工程、
前記本発明に記載の電子部品保護シートを用意する工程、
電子部品群のうち、最も高さの高い電子部品と、電子部品保護シートにおける第1の絶縁性樹脂層とが接するように電子部品保護シートを載置する工程、
加熱加圧により電子部品保護シートを個々の電子部品の形状に沿うように変形させ、電子部品群および基板の少なくとも一部を被覆する工程、
および
変形した電子部品保護シートを変形した状態で熱硬化させ被覆保護層を形成する工程を含む、
被覆保護層付き電子部品群搭載基板の製造方法に関する。
Furthermore, the present invention is a process of mounting an electronic component group composed of a plurality of electronic components having different heights on a substrate.
The step of preparing the electronic component protection sheet according to the present invention,
A process of placing an electronic component protective sheet so that the tallest electronic component in the electronic component group and the first insulating resin layer in the electronic component protective sheet are in contact with each other.
A process of deforming an electronic component protective sheet to follow the shape of each electronic component by heating and pressurizing, and covering at least a part of the electronic component group and the substrate.
And, including the step of thermally curing the deformed electronic component protective sheet in a deformed state to form a covering protective layer.
The present invention relates to a method of manufacturing a substrate for mounting an electronic component group with a covering protective layer.

本発明により、仮張り性、リリース性に優れ、さらに良好なマイグレーション耐性、および埋め込み性に優れた電子部品保護シートを提供することが出来る。これにより信頼性の高い電子部品搭載基板を高い歩留で提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide an electronic component protective sheet which is excellent in temporary tensioning property and release property, and further excellent in migration resistance and embedding property. As a result, it is possible to provide a highly reliable electronic component mounting board with a high yield.

本発明における電子部品保護シートを用いた電子部品の被覆保護方法の説明図である。It is explanatory drawing of the coating protection method of the electronic component using the electronic component protection sheet in this invention. 従来の電子部品保護シートの載置時の説明図である。It is explanatory drawing at the time of placing the conventional electronic component protection sheet. 従来の電子部品保護シートの載置時の説明図である。It is explanatory drawing at the time of placing the conventional electronic component protection sheet. 実施例におけるマイグレーション耐性試験を説明するための模式的面図である。It is a schematic side view for demonstrating the migration resistance test in an Example. 実施例における埋め込み性試験を説明するための模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view for demonstrating the embedding property test in an Example.

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。尚、以降の図における各部材のサイズや比率は、説明の便宜上のものであり、これに限定されるものではない。また、本明細書において「任意の数A〜任意の数B」なる記載は、当該範囲に数Aが下限値として、数Bが上限値として含まれる。また、本明細書における「シート」とは、JISにおいて定義される「シート」のみならず、「フィルム」も含むものとする。また、本明細書において特定する数値は、実施形態または実施例に開示した方法により求められる値である。
また、プローブタック試験による粘着力をプローブタック粘着力、粘着力と略すことがある。
Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described. The sizes and ratios of the members in the following figures are for convenience of explanation and are not limited thereto. Further, in the present specification, the description "arbitrary number A to arbitrary number B" includes the number A as the lower limit value and the number B as the upper limit value in the range. Further, the "sheet" in the present specification includes not only the "sheet" defined in JIS but also the "film". In addition, the numerical value specified in the present specification is a value obtained by the method disclosed in the embodiment or the embodiment.
In addition, the adhesive force obtained by the probe tack test may be abbreviated as probe tack adhesive force or adhesive force.

<電子部品群搭載基板の被覆保護方法>
まず本発明の電子部品保護シートを用いる電子部品群搭載基板の被覆保護方法(以下、被覆保護方法、被覆方法、保護方法と略すことがある)について説明する。
本発明の電子部品群搭載基板の被覆保護方法は、高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群を基板上に実装する工程(工程i)、後述する本発明の電子部品保護シートを用意する工程(工程ii)、前記電子部品群のうち、最も高さの高い電子部品と、電子部品保護シートにおける第1の絶縁性樹脂層とが接するように電子部品保護シートを載置する工程(工程iii、仮張り工程ともいう)、加熱加圧により前記電子部品保護シートを個々の電子部品の形状に沿うように変形させ、前記電子部品群および基板の少なくとも一部を被覆する工程(工程iv)、変形した電子部品保護シートを変形した状態で熱硬化させ被覆保護層を形成する工程(工程v)により、電子部品群搭載基板を本発明の電子部品保護シートから形成される被覆保護層により被覆保護することができる。(工程iv)と(工程v)とは一連の工程とすることもできる。
<How to protect the coating of the board on which the electronic component group is mounted>
First, a coating protection method (hereinafter, may be abbreviated as a coating protection method, a coating method, or a protection method) of an electronic component group mounting substrate using the electronic component protection sheet of the present invention will be described.
As the method for protecting the coating of the electronic component group mounting substrate of the present invention, a step (step i) of mounting an electronic component group composed of a plurality of electronic components having different heights on the substrate, and a electronic component protection sheet of the present invention described later are prepared. Step (step ii), a step of placing the electronic component protective sheet so that the tallest electronic component in the electronic component group and the first insulating resin layer in the electronic component protective sheet are in contact with each other (step ii). Step iii, also referred to as temporary tensioning step), a step of deforming the electronic component protective sheet so as to follow the shape of each electronic component by heating and pressurizing, and covering at least a part of the electronic component group and the substrate (step iv). ), By the step (step v) of thermally curing the deformed electronic component protective sheet in a deformed state to form a covering protective layer, the electronic component group mounting substrate is formed by the covering protective layer formed from the electronic component protective sheet of the present invention. The coating can be protected. (Step iv) and (Step v) can also be a series of steps.

以下、工程iii〜工程vについて図1を用いて、電子部品保護シートを用いた加熱加圧による電子部品群搭載基板の被覆保護方法を説明する。 Hereinafter, a method for protecting the coating of the substrate on which the electronic component group is mounted by heating and pressurizing using the electronic component protection sheet will be described with reference to FIGS. 1 for steps iii to v.

(工程iii;電子部品保護シート載置工程)
基板1に電子部品2a及び電子部品2bが半田バンプ3によって実装された電子部品搭載基板4を用意する。電子部品2は半導体チップ、コンデンサ、トランジスタ、インダクタ、サーミスタ等であり基板1に半田バンプ3を介して実装されており、電子部品2a、2bと基板1に間隙が存在する。また電子部品2aは電子部品2bよりも高く設計されている。
次いで電子部品2a、2bの実装面上に、所定のサイズにカットした電子部品保護シート10の第1の絶縁性樹脂層11が電子部品2aと接するように載置する。電子部品2aの高さ故、第1の絶縁性樹脂層11は電子部品2aと接触し仮貼りされる。なお、電子部品保護シート10がしなり、電子部品2bと接触することもある(図1では図示せず)。第1の絶縁性樹脂層11は、23℃のヤング率が5MPa〜200MPaであって、且つタック性を有するため載置後は位置ズレが起こりにくい。
(Process iii; Electronic component protection sheet mounting process)
An electronic component mounting board 4 on which an electronic component 2a and an electronic component 2b are mounted by a solder bump 3 is prepared on the substrate 1. The electronic component 2 is a semiconductor chip, a capacitor, a transistor, an inductor, a thermistor, etc., and is mounted on the substrate 1 via a solder bump 3, and there is a gap between the electronic components 2a and 2b and the substrate 1. Further, the electronic component 2a is designed to be higher than the electronic component 2b.
Next, the first insulating resin layer 11 of the electronic component protective sheet 10 cut to a predetermined size is placed on the mounting surface of the electronic components 2a and 2b so as to be in contact with the electronic components 2a. Due to the height of the electronic component 2a, the first insulating resin layer 11 comes into contact with the electronic component 2a and is temporarily attached. The electronic component protection sheet 10 may bend and come into contact with the electronic component 2b (not shown in FIG. 1). The first insulating resin layer 11 has a Young's modulus of 5 MPa to 200 MPa at 23 ° C. and has a tack property, so that misalignment is unlikely to occur after mounting.

尚、最も遠くに位置する絶縁性樹脂層のさらに外側にはクッション材13を積層しても良く、図1はクッション材を使用した例を示す。クッション材13は電子部品保護シート10を載置した後に積層しても良く、あらかじめ電子部品保護シート10とクッション材13とを重ねた積層体を載置しても良い。上記クッション材13とは加熱加圧時に軟化もしくは溶融する材料であり、電子部品保護シート10の電子部品2a、2bへの、そして電子部品同士の隙間への追随性を促す機能を有する。
クッション材13は、例えば熱可塑性を有する素材であれば特に限定されないが、加圧時の温度よりも低い溶融温度及びガラス転移点(Tg)であることが好ましい。好適な例として、ポリオレフィン系フィルム、塩化ビニルフィルム、PVAフィルムが例示できる。溝の深さによるが通常、100μm〜1mm程度である。クッション材13を複数積層する場合には、合計の厚みがこの範囲にあることが好ましい。
The cushion material 13 may be laminated on the outer side of the insulating resin layer located farthest, and FIG. 1 shows an example in which the cushion material is used. The cushion material 13 may be laminated after the electronic component protection sheet 10 is placed, or a laminated body in which the electronic component protection sheet 10 and the cushion material 13 are stacked in advance may be placed. The cushion material 13 is a material that softens or melts when heated and pressed, and has a function of promoting followability of the electronic component protective sheet 10 to the electronic components 2a and 2b and to the gaps between the electronic components.
The cushion material 13 is not particularly limited as long as it is a material having thermoplasticity, for example, but preferably has a melting temperature lower than the temperature at the time of pressurization and a glass transition point (Tg). As a suitable example, a polyolefin-based film, a vinyl chloride film, and a PVA film can be exemplified. It depends on the depth of the groove, but is usually about 100 μm to 1 mm. When a plurality of cushioning materials 13 are laminated, it is preferable that the total thickness is within this range.

電子部品保護シート10の厚みは保護する電子部品のうち最も高い電子部品の高さに対し、0.05倍〜2倍の厚みに設定することが好ましい。
尚、本願に示した電子部品搭載基板は一例であって、電子部品と基板の構造は特に限定されるものではなく、電子部品2a、2bと基板1との間には隙間があってもなくともよい。実装する電子部品の配置位置は限定されず、電子部品の個数は2個以上である。
The thickness of the electronic component protection sheet 10 is preferably set to be 0.05 to 2 times the height of the highest electronic component among the electronic components to be protected.
The electronic component mounting substrate shown in the present application is an example, and the structure of the electronic component and the substrate is not particularly limited, and there is no gap between the electronic components 2a and 2b and the substrate 1. It is also good. The arrangement position of the electronic components to be mounted is not limited, and the number of electronic components is two or more.

(工程iv;電子部品保護シートによる被覆工程)
次いで、加熱加圧機20により加熱加圧を行うことで、前記電子部品保護シート10が変形し、個々の電子部品の形状に沿うように、即ち電子部品2a、2bの上面と側面に沿うように変形させ、電子部品群および基板1の少なくとも一部に追従させる。クッション材20は熱によって軟化もしくは溶融し電子部品保護シート10の電子部品搭載基板4の電子部品間の凹凸への追随を促す。
加熱加圧時において加熱加圧機20とクッション材13との間に、剥離性シートを介する方法も好ましい。剥離性シートは、紙やプラスチック等の基材に公知の剥離処理を行ったシートである。また、テフロン(登録商標)等の極性が低いプラスチックシートを用いることもできる。
(Process iv; Covering process with electronic component protection sheet)
Next, by heating and pressurizing with the heating and pressurizing machine 20, the electronic component protective sheet 10 is deformed so as to follow the shape of each electronic component, that is, along the upper surfaces and side surfaces of the electronic components 2a and 2b. It is deformed to follow at least a part of the electronic component group and the substrate 1. The cushion material 20 is softened or melted by heat to promote the follow-up to the unevenness between the electronic components of the electronic component mounting substrate 4 of the electronic component protective sheet 10.
A method in which a peelable sheet is interposed between the heating and pressurizing machine 20 and the cushioning material 13 at the time of heating and pressurizing is also preferable. The peelable sheet is a sheet obtained by performing a known peeling treatment on a base material such as paper or plastic. Further, a plastic sheet having a low polarity such as Teflon (registered trademark) can also be used.

加熱温度は、電子部品保護シートが適度に軟化し、個々の電子部品の形状に沿い、変形し、個々の電子部品同士の間隙に入り込める温度であればよく、100〜260℃であることが好ましく、120〜240℃であることがより好ましい。温度が低すぎると搭載された個々の電子部品同士の間隙への電子部品保護シート10の入り込み性が低下する。一方で、温度が高すぎると、電子部品保護シート10の熱硬化性樹脂の熱硬化反応が急速に進み、搭載された電子部品間への電子部品保護シートの入り込み性が低下する。
加熱加圧する場合の圧力は、0.01〜10MPaが好ましく、0.1〜6.0MPaがより好ましい。上記の圧力で加熱加圧することで、電子部品を破損することなく、埋め込み性がより向上する。
加熱時間は、通常0.5〜30分であり、1〜20分の範囲が好ましい。加熱時間が短すぎると搭載された電子部品間への電子部品保護シートの入り込み性が低下する。一方で時間が長すぎると、熱硬化性樹脂の熱分解や酸化が起こりやすくなり、反応生成物などによる接着部位の信頼性低下の可能性が増す。上記加熱加圧工程は真空状態で行うことが好ましい。
加熱加圧の方法として、加熱加圧機を用いる他に、所定の圧力になるよう適度な重量の金属板を積層し、この積層物をオーブンに投入する方法も好ましい。
一方、加熱加圧機以外の加熱加圧方法としては、真空成形法または真空圧空成形も好ましい。
The heating temperature may be any temperature as long as the electronic component protective sheet is appropriately softened, deformed along the shape of each electronic component, and can enter the gap between the individual electronic components, and is preferably 100 to 260 ° C. , 120-240 ° C., more preferably. If the temperature is too low, the penetration of the electronic component protective sheet 10 into the gap between the mounted electronic components is reduced. On the other hand, if the temperature is too high, the thermosetting reaction of the thermosetting resin of the electronic component protective sheet 10 proceeds rapidly, and the penetration of the electronic component protective sheet between the mounted electronic components decreases.
The pressure in the case of heating and pressurizing is preferably 0.01 to 10 MPa, more preferably 0.1 to 6.0 MPa. By heating and pressurizing with the above pressure, the embedding property is further improved without damaging the electronic components.
The heating time is usually 0.5 to 30 minutes, preferably in the range of 1 to 20 minutes. If the heating time is too short, the penetration of the electronic component protective sheet between the mounted electronic components is reduced. On the other hand, if the time is too long, thermal decomposition and oxidation of the thermosetting resin are likely to occur, and the possibility of deterioration of the reliability of the bonded portion due to the reaction product or the like increases. The heating and pressurizing step is preferably performed in a vacuum state.
As a method of heating and pressurizing, in addition to using a heating and pressurizing machine, a method of laminating a metal plate having an appropriate weight so as to have a predetermined pressure and putting this laminate into an oven is also preferable.
On the other hand, as a heating and pressurizing method other than the heating and pressurizing machine, a vacuum forming method or a vacuum pressure pneumatic molding is also preferable.

(工程v;変形した電子部品保護シートの硬化工程)
加熱加圧後、変形した電子部品保護シートを変形した状態で、さらに150℃〜230℃の温度で10分から60分加熱することにより、最も遠くに位置する絶縁性樹脂層中及び第1の絶縁性樹脂層中の熱硬化性樹脂を熱硬化し、被覆保護層を形成する。被覆保護層は電子部品および基板と強固に接着し、外部の衝撃や擦傷から電子部品の破損を防止、保護するための保護層として機能する。尚、(工程iv)の段階で加熱加圧の温度を150℃以上、時間を30分以上とすることで、熱硬化を完了させ被覆保護層を形成することもできる。被覆保護層は電子部品間のショートを防ぐため絶縁体であることが必須であり、表面抵抗値は1+E10Ω以上が求められる。
(Step v; Hardening step of deformed electronic component protective sheet)
After heating and pressurizing, the deformed electronic component protective sheet is further heated at a temperature of 150 ° C. to 230 ° C. for 10 to 60 minutes to insulate the most distant insulating resin layer and the first insulation. The thermosetting resin in the sex resin layer is thermoset to form a coating protective layer. The coating protective layer firmly adheres to the electronic component and the substrate, and functions as a protective layer for preventing and protecting the electronic component from damage from external impacts and scratches. By setting the heating and pressurizing temperature to 150 ° C. or higher and the time to 30 minutes or longer in the step (step iv), the thermosetting can be completed and the coating protective layer can be formed. The covering protective layer is indispensable to be an insulator in order to prevent short circuits between electronic components, and the surface resistance value is required to be 1 + E10Ω or more.

<電子部品保護シート>
次いで本発明の電子部品保護シートについて説明する。電子部品保護シートは、上述の通り基板上に実装された電子部品群を被覆保護するためのものであり、熱硬化性樹脂を含む絶縁性樹脂層を有する。
絶縁性樹脂層は、電子部品群と接する面のプローブタック試験による粘着力が0.3〜5Nであって、反対の面のプローブタック試験による粘着力が1N以下であって、電子部品群と接する面のプローブタック試験による粘着力が反対の面の粘着力よりも大きい。電子部品群と接する面の粘着力は0.5〜4Nがより好ましく、1〜3.5Nがさらに好ましい。電子部品群と接する面の粘着力を0.5N以上とすることで、仮張り性が向上する。電子部品群と接する面の粘着力を5N以下とすることでリワーク性を付与できる。
反対の面のプローブタック試験による粘着力は、1N以下であることが好ましく、0.5N以下がより好ましく、0.3N以下がさらに好ましい。反対の面の粘着力を1N以下とすることで、リリース性が向上する。また電子部品群と接する面のプローブタック試験による粘着力が反対の面の粘着力よりも大きいことによって、リワーク性及びリリース性が向上する。
電子部品群と接する面のプローブタック試験による粘着力と反対の面のプローブタック試験による粘着力との差は0.3N以上が好ましく0.5N以上がより好ましく0.7がさらに好ましい。上記範囲とする事でリリース性と仮張り性をいずれも高度に両立できる。
<Electronic component protective sheet>
Next, the electronic component protection sheet of the present invention will be described. The electronic component protection sheet is for covering and protecting the electronic component group mounted on the substrate as described above, and has an insulating resin layer containing a thermosetting resin.
The insulating resin layer has an adhesive strength of 0.3 to 5 N in the probe tack test on the surface in contact with the electronic component group, and an adhesive strength of 1 N or less in the probe tack test on the opposite surface, and is different from the electronic component group. The adhesive strength of the contact surface according to the probe tack test is greater than the adhesive strength of the opposite surface. The adhesive strength of the surface in contact with the electronic component group is more preferably 0.5 to 4N, further preferably 1 to 3.5N. By setting the adhesive strength of the surface in contact with the electronic component group to 0.5 N or more, the temporary tension property is improved. Reworkability can be imparted by setting the adhesive strength of the surface in contact with the electronic component group to 5 N or less.
The adhesive strength of the opposite surface by the probe tack test is preferably 1N or less, more preferably 0.5N or less, still more preferably 0.3N or less. By setting the adhesive strength on the opposite surface to 1N or less, the release property is improved. Further, since the adhesive force of the surface in contact with the electronic component group by the probe tack test is larger than the adhesive force of the opposite surface, the reworkability and the release property are improved.
The difference between the adhesive force obtained by the probe tack test on the surface in contact with the electronic component group and the adhesive force obtained by the probe tack test on the opposite surface is preferably 0.3 N or more, more preferably 0.5 N or more, and further preferably 0.7. Within the above range, both release and temporary tension can be achieved at a high level.

本願におけるプローブタック試験による粘着力とは、測定対象である絶縁性樹脂層の表面に対して直径5mmφのステンレス製プローブ(重りを入れて200g)を1秒間接触させた後、プローブを10mm/秒の速度で絶縁性樹脂層の表面から離す際、検出される力(剥離力)をいう。
電子部品保護シートを単層で構成する場合、一方面をUV硬化する方法や、後述する無機フィラーの層中の含有量を一方の面に配向させることでプローブタックを制御できる。
The adhesive strength according to the probe tack test in the present application is that a stainless steel probe (200 g including a weight) having a diameter of 5 mmφ is brought into contact with the surface of the insulating resin layer to be measured for 1 second, and then the probe is 10 mm / sec. The force (peeling force) that is detected when the insulating resin layer is separated from the surface at the speed of.
When the electronic component protection sheet is composed of a single layer, the probe tack can be controlled by a method of UV curing one surface or by orienting the content in the layer of the inorganic filler described later to one surface.

電子部品保護シートが複数の絶縁性樹脂層から形成される態様もプローブタックを制御する観点から好ましい。この場合、絶縁性樹脂層は少なくとも電子部品群と接する第1の絶縁性樹脂層と、電子部品群から最も遠くに位置する第2の絶縁性樹脂層から構成される。この時、第1の絶縁性樹脂層のプローブタック試験による粘着力が0.3〜5Nとなり、第2の絶縁性樹脂層のプローブタック試験による粘着力が1N以下となる。 An embodiment in which the electronic component protective sheet is formed of a plurality of insulating resin layers is also preferable from the viewpoint of controlling probe tack. In this case, the insulating resin layer is composed of at least a first insulating resin layer in contact with the electronic component group and a second insulating resin layer located farthest from the electronic component group. At this time, the adhesive strength of the first insulating resin layer by the probe tack test is 0.3 to 5N, and the adhesive strength of the second insulating resin layer by the probe tack test is 1N or less.

さらに上述した第1の絶縁性樹脂層の23℃におけるヤング率は5MPa〜200MPaであることが好ましく、第2の絶縁性樹脂層の23℃のヤング率は、第1の絶縁性樹脂層の23℃におけるヤング率よりも8MPa以上高いことが好ましく、20MPa以上高いことがより好ましく、50MPa以上高いことがさらに好ましい。
第2の絶縁性樹脂層の23℃のヤング率が、第1の絶縁性樹脂層の23℃におけるヤング率よりも高いことによって、仮張り性、リリース性、マイグレーション耐性、および埋め込み性に優れた電子部品保護シートとすることができる。
Further, the Young's modulus of the first insulating resin layer at 23 ° C. described above is preferably 5 MPa to 200 MPa, and the Young's modulus of the second insulating resin layer at 23 ° C. is 23 of the first insulating resin layer. It is preferably 8 MPa or more higher than the Young's modulus at ° C., more preferably 20 MPa or more, and even more preferably 50 MPa or more.
Since the Young's modulus of the second insulating resin layer at 23 ° C. is higher than the Young's modulus of the first insulating resin layer at 23 ° C., the temporary tension property, release property, migration resistance, and embedding property are excellent. It can be an electronic component protection sheet.

<第1の絶縁性樹脂層>
第1の絶縁性樹脂層の23℃のヤング率(以下、ヤング率(1)と省略する)は5MPa〜200MPaが好ましく、20MPa〜150MPaがより好ましく、30MPa〜100MPaがさらに好ましい。ヤング率(1)を5MPa以上とすることで、電子部品間の溝への追従性が向上し、200MPa以下とすることで、仮張り性が向上する。
尚、本発明における「23℃におけるヤング率」とは以下のようにして求めることができる。試料を23℃、相対湿度50%の環境下に24時間静置した後、同環境下で測定を行う。具体的には、チャック間距離25mmの試料を、引張り速度50mm/minの条件で引張試験機により引っ張り、応力−ひずみ曲線を測定し、ひずみ(伸び)が0.1〜1%の領域の線形回帰(傾き)を23℃におけるヤング率とする。
ヤング率(1)は、後述する熱硬化性樹脂や熱硬化剤や無機フィラーのそれぞれの種類や量を調整したり、粘着付与樹脂や熱可塑性樹脂を併用したりすることにより制御することができる。
<First insulating resin layer>
The Young's modulus of the first insulating resin layer at 23 ° C. (hereinafter abbreviated as Young's modulus (1)) is preferably 5 MPa to 200 MPa, more preferably 20 MPa to 150 MPa, and even more preferably 30 MPa to 100 MPa. By setting the Young's modulus (1) to 5 MPa or more, the followability to the groove between the electronic components is improved, and by setting it to 200 MPa or less, the temporary tension property is improved.
The "Young's modulus at 23 ° C." in the present invention can be obtained as follows. The sample is allowed to stand in an environment of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 24 hours, and then the measurement is performed in the same environment. Specifically, a sample with a chuck distance of 25 mm is pulled by a tensile tester under the condition of a tensile speed of 50 mm / min, the stress-strain curve is measured, and the strain (elongation) is linear in the region of 0.1 to 1%. Let the regression (slope) be the Young's modulus at 23 ° C.
Young's modulus (1) can be controlled by adjusting the types and amounts of thermosetting resins, thermosetting agents, and inorganic fillers, which will be described later, or by using a tackifier resin and a thermoplastic resin in combination. ..

また、第1の絶縁性樹脂層は、23℃の貯蔵弾性率(以下、貯蔵弾性率(1)と省略する)が1.0+E04Pa〜1.0+E07Paであることが好ましい。貯蔵弾性率(1)を1.0+E04Pa以上とすることで、埋め込み性が向上し、1.0+E07Pa以下とすることで、マイグレーション耐性が向上する。
本発明における貯蔵弾性率とは、動的弾性率測定装置DVA−200(アイティー計測制御社製)を用いて、測定試料に対して変形様式「引張り」、周波数10Hz、昇温速度10℃/分、測定温度範囲−50〜300℃の条件で測定した23℃における貯蔵弾性率の値である。
Further, the first insulating resin layer preferably has a storage elastic modulus at 23 ° C. (hereinafter, abbreviated as the storage elastic modulus (1)) of 1.0 + E04Pa to 1.0 + E07Pa. By setting the storage elastic modulus (1) to 1.0 + E04Pa or more, the embedding property is improved, and by setting it to 1.0 + E07Pa or less, the migration resistance is improved.
The storage elastic modulus in the present invention is a deformation mode "tensile", a frequency of 10 Hz, and a temperature rise rate of 10 ° C./ It is a value of the storage elastic modulus at 23 ° C. measured under the condition of -50 to 300 ° C. in the measurement temperature range.

第1の絶縁性樹脂層は、熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物により形成することができる。第1の絶縁性樹脂層はプローブタック試験による粘着力が0.3〜5Nであるため仮張りの際、第1の絶縁性樹脂層が電子部品に強固に付き位置ズレを防止できる。さらに仮貼り位置を修正する際に一度剥がして再配置可能であることからリワーク性にも優れる。
また、熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化剤、無機フィラー、難燃剤等を含むことが好ましい。これらを用いることにより、上述した23℃のヤング率及、貯蔵弾性率及びプローブタックを好適な範囲に調整できる。
[熱硬化性樹脂]
熱硬化性樹脂の好適な例は、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエステルアミド樹脂、ポリエーテルエステル樹脂、およびポリイミド樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂は、自己架橋可能な官能基を有していてもよい。例えば、リフロー時における過酷な条件で使用する場合の熱硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、ポリカーボネート系樹脂およびポリアミドのうちの少なくとも1つを含んでいることが好ましい。また、埋め込み性に耐え得る範囲であれば、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂を併用できる。
The first insulating resin layer can be formed by a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin. Since the first insulating resin layer has an adhesive strength of 0.3 to 5 N in the probe tack test, the first insulating resin layer is firmly attached to the electronic component at the time of temporary tensioning to prevent misalignment. Furthermore, it is also excellent in reworkability because it can be peeled off and rearranged once when the temporary pasting position is corrected.
Further, the thermosetting resin composition preferably contains a thermosetting agent, an inorganic filler, a flame retardant and the like. By using these, the Young's modulus at 23 ° C., the storage elastic modulus and the probe tack described above can be adjusted in a suitable range.
[Thermosetting resin]
Suitable examples of thermosetting resins are polyurethane resins, polyurethane urea resins, acrylic resins, polyester resins, polyamide resins, epoxy resins, polystyrenes, polycarbonate resins, polyamideimide resins, polyesteramide resins, polyether ester resins, and Examples include polyimide resin. The thermosetting resin may have a self-crosslinkable functional group. For example, the thermosetting resin when used under harsh conditions during reflow may contain at least one of an epoxy resin, a urethane resin, a urethane urea resin, a polycarbonate resin, and a polyamide. preferable. Further, the thermosetting resin and the thermoplastic resin can be used in combination as long as they can withstand the embedding property.

熱硬化性樹脂の反応性官能基としては、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基等がある。カルボキシル基を有する場合、工程ivにおける埋め込み性と硬化後のマイグレーション耐性の点から熱硬化性樹脂の酸価は、3〜30(mgKOH/g)であることが好ましく、4〜20(mgKOH/g)であることがより好ましく、5〜15(mgKOH/g)であることがより好ましい。
熱硬化性樹脂の酸価が上記範囲内にあることによって、工程ivにおける硬化速度を適度に遅くできるので、埋め込み性を損ない難く、十分な架橋密度を確保できるので良好なマイグレーション耐性を発現できる。
Examples of the reactive functional group of the thermosetting resin include a carboxyl group, a hydroxyl group, and an epoxy group. When having a carboxyl group, the acid value of the thermosetting resin is preferably 3 to 30 (mgKOH / g), preferably 4 to 20 (mgKOH / g), from the viewpoint of embedding property in step iv and migration resistance after curing. ), More preferably 5 to 15 (mgKOH / g).
When the acid value of the thermosetting resin is within the above range, the curing rate in the step iv can be moderately slowed down, so that the embedding property is not impaired and a sufficient cross-linking density can be secured, so that good migration resistance can be exhibited.

熱硬化性樹脂の重量平均分子量Mwは、20,000〜200,000であることが好ましい。20,000以上とすることにより、リリース性と仮張り性を効果的に高めることができる。また、200,000以下とすることにより埋め込み性が向上するという効果が得られる。 The weight average molecular weight Mw of the thermosetting resin is preferably 20,000 to 200,000. By setting the value to 20,000 or more, the release property and the temporary tension property can be effectively enhanced. Further, when the content is 200,000 or less, the effect of improving the embedding property can be obtained.

[硬化剤]
熱硬化性樹脂の硬化を促進するため、硬化剤を用いることが好ましい。硬化剤は電子部品保護シートが熱溶融変形し、基材および電子部品と接触した後、熱硬化性樹脂の反応性官能基と熱架橋することで基材および電子部品への接着性をより強固にし、マイグレーション耐性が向上する。
硬化剤は、熱硬化性樹脂の官能基と反応可能な官能基を複数有している。硬化剤は、例えばエポキシ化合物、酸無水物基含有化合物、イミダゾール化合物、イソシアネート化合物、アジリジン化合物、アミン化合物、またはフェノール化合物等の公知の化合物が挙げられ、エポキシ化合物、アジリジン化合物が好ましく、両者を併用することが特に好ましい。
[Curing agent]
In order to accelerate the curing of the thermosetting resin, it is preferable to use a curing agent. The curing agent heat-melts and deforms the electronic component protective sheet, comes into contact with the base material and the electronic component, and then thermally crosslinks with the reactive functional group of the thermosetting resin to further strengthen the adhesiveness to the substrate and the electronic component. And migration resistance is improved.
The curing agent has a plurality of functional groups capable of reacting with the functional groups of the thermosetting resin. Examples of the curing agent include known compounds such as epoxy compounds, acid anhydride group-containing compounds, imidazole compounds, isocyanate compounds, aziridine compounds, amine compounds, and phenol compounds, and epoxy compounds and aziridine compounds are preferable, and both are used in combination. It is particularly preferable to do so.

上記エポキシ化合物は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物の性状としては、液状を用いることでヤング率を低下させることができる。一方、固形状を用いることでヤング率を高めることができる。第1の絶縁性樹脂層には23℃で液状のエポキシ化合物を用いることによってヤング率を低下させタック性を付与することが好ましい。
エポキシ化合物としては、例えば、グリジシルエーテル型エポキシ化合物、グリジシルアミン型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、環状脂肪族(脂環型)エポキシ化合物等が好ましい。
The epoxy compound is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. As for the properties of the epoxy compound, the Young's modulus can be lowered by using a liquid. On the other hand, Young's modulus can be increased by using the solid state. It is preferable to use an epoxy compound liquid at 23 ° C. for the first insulating resin layer to reduce Young's modulus and impart tackiness.
As the epoxy compound, for example, a glycisyl ether type epoxy compound, a glycisylamine type epoxy compound, a glycidyl ester type epoxy compound, a cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy compound and the like are preferable.

グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、ビスフェノールAD型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、α−ナフトールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ化合物、臭素化フェノールノボラック型エポキシ化合物、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。 Examples of the glycidyl ether type epoxy compound include bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, bisphenol S type epoxy compound, bisphenol AD type epoxy compound, cresol novolac type epoxy compound, phenol novolac type epoxy compound, and α-naphthol novolac. Type epoxy compound, bisphenol A type novolak type epoxy compound, dicyclopentadiene type epoxy compound, tetrabrom bisphenol A type epoxy compound, brominated phenol novolac type epoxy compound, tris (glycidyloxyphenyl) methane, tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane And so on.

グリシジルアミン型エポキシ化合物としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。 Examples of the glycidylamine type epoxy compound include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, triglycidylmethaminophenol, tetraglycidylmethoxylylenediamine and the like.

グリシジルエステル型エポキシ化合物としては、例えば、ジグリシジルフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。 Examples of the glycidyl ester type epoxy compound include diglycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, and diglycidyl tetrahydrophthalate.

環状脂肪族(脂環型)エポキシ化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられる。 Examples of the cyclic aliphatic (alicyclic) epoxy compound include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate and bis (epoxycyclohexyl) adipate.

アジリジン化合物としては、例えば、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N’−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)等が挙げられる。 Examples of the aziridine compound include trimethylolpropane-tri-β-aziridinyl propionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, and N, N'-diphenylmethane-4,4'-bis. (1-Aziridinecarboxyamide), N, N'-hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxyamide) and the like can be mentioned.

イミダゾール化合物は、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物が挙げられ、更にはイミダゾール化合物とエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化したタイプ、またはイミダゾール化合物をマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化促進剤が挙げられる。 Examples of the imidazole compound include imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, and 2-phenylimidazole, and further, imidazole compounds. Examples thereof include a latent curing accelerator having improved storage stability, such as a type in which an epoxy resin is reacted with an epoxy resin and insolubilized in a solvent, or a type in which an imidazole compound is encapsulated in microcapsules.

硬化剤の配合量は、熱硬化性樹脂合計100質量部に対して、3〜100質量部であることが好ましく、5〜60質量部であることがより好ましく、5〜40質量部であることがさらに好ましい。上記配合量とすることで粘着力、23℃のヤング率及び貯蔵弾性率を好適な値に調整できる。 The blending amount of the curing agent is preferably 3 to 100 parts by mass, more preferably 5 to 60 parts by mass, and 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total thermosetting resin. Is more preferable. With the above blending amount, the adhesive strength, Young's modulus at 23 ° C., and storage elastic modulus can be adjusted to suitable values.

また第1の絶縁性樹脂層は熱硬化性樹脂に加えて、粘着付与樹脂や熱可塑性樹脂を用いることが粘着力を向上させる観点から好ましい。
粘着付与樹脂としては、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、脂環式系石油樹脂、および芳香族系石油樹脂等が例示できる。熱可塑性樹脂の好適な例は、ポリオレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン・アクリル系樹脂、ジエン系樹脂、テルペン系樹脂、石油系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。
Further, it is preferable to use a tackifier resin or a thermoplastic resin for the first insulating resin layer in addition to the thermosetting resin from the viewpoint of improving the adhesive strength.
Examples of the tackifier resin include rosin-based resin, terpene-based resin, alicyclic petroleum resin, and aromatic petroleum resin. Suitable examples of thermoplastic resins are polyolefin resins, vinyl resins, styrene / acrylic resins, diene resins, terpene resins, petroleum resins, cellulose resins, polyamide resins, polyurethane resins, polyester resins. , Polycarbonate resin, fluororesin and the like.

[無機フィラー]
第1の絶縁性樹脂層は、さらに無機フィラーを含むことが好ましい。無機フィラーを含むことで、粘着力、23℃におけるヤング率及び貯蔵弾性率を適度に高くすることができマイグレーション耐性、埋め込み性及びリリース性が向上する。
[Inorganic filler]
The first insulating resin layer preferably further contains an inorganic filler. By containing the inorganic filler, the adhesive strength, Young's modulus at 23 ° C. and storage elastic modulus can be appropriately increased, and migration resistance, embedding property and release property are improved.

無機フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、タルク、カオリナイト、マイカ、塩基炭酸マグネシウム、セリサイト、モンモロリナイト、カオリナイト、ベントナイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化マグネシウム等の無機化合物(以下、狭義の無機フィラーという)や後述するイオン捕集剤が挙げられる。
これらの中でも、マイグレーション耐性、埋め込み性をより向上する観点から、シリカ、タルク、マイカ、カオリナイト、またはモンモリロナイトが好ましく、シリカ、タルクがより好ましい。
Examples of the inorganic filler include silica, alumina, magnesium hydroxide, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, magnesium oxide, talc, kaolinite, mica, basic magnesium carbonate, sericite, and montmoroli. Examples thereof include inorganic compounds such as knight, kaolinite, bentonite, boron nitride, aluminum nitride and magnesium oxide (hereinafter referred to as inorganic filler in a narrow sense) and an ion collecting agent described later.
Among these, silica, talc, mica, kaolinite, or montmorillonite is preferable, and silica and talc are more preferable, from the viewpoint of further improving migration resistance and embedding property.

狭義の無機フィラーの形状は、鱗片状(フレーク状)であることが好ましい。無機フィラーの形状を鱗片状とすることで、冷熱時の電子部品保護シートの反りを抑制し、埋め込み性をより高めることができる。ここで鱗片状とは、薄片状、板状も含む。無機フィラーは粒子全体として鱗片状であればよく、楕円状、円状または微粒子の周囲に切れ込み等が存在しても良い。 The shape of the inorganic filler in the narrow sense is preferably scaly (flakes). By making the shape of the inorganic filler scaly, it is possible to suppress the warp of the electronic component protective sheet at the time of cooling and further improve the embedding property. Here, the scaly shape includes a flaky shape and a plate shape. The inorganic filler may be scaly as a whole particle, and may have an elliptical shape, a circular shape, or a notch or the like around the fine particles.

狭義の無機フィラーの平均粒子径D50は、0.5〜10μmであることが好ましく、0.7〜7μmであることがより好ましい。平均粒子径を0.5以上にすることで埋め込み性が向上する。平均粒子径D50を10μm以下にすることで、マイグレーション耐性をより向上できる。
なお、平均粒子径とは、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置LS 13320(ベックマン・コールター社製)を使用し、トルネードドライパウダーサンプルモジュールにて、狭義の無機フィラーを測定して得たD50平均粒子径であり、粒子径累積分布における累積値が50%の粒子径である。なお、測定の際、狭義の無機フィラーの屈折率の設定は1.6とした。
The average particle size D50 of the inorganic filler in the narrow sense is preferably 0.5 to 10 μm, and more preferably 0.7 to 7 μm. Embedding property is improved by setting the average particle size to 0.5 or more. By setting the average particle diameter D50 to 10 μm or less, migration resistance can be further improved.
The average particle size is a D50 average obtained by measuring an inorganic filler in a narrow sense with a tornado dry powder sample module using a laser diffraction / scattering method particle size distribution measuring device LS 13320 (manufactured by Beckman Coulter). It is a particle size, and the cumulative value in the particle size cumulative distribution is 50%. At the time of measurement, the refractive index of the inorganic filler in the narrow sense was set to 1.6.

第1の絶縁性樹脂層における狭義の無機フィラーの含有量は、熱硬化性樹脂100質量部に対して1〜50質量部が好ましく、5〜40質量部がより好ましく、10〜35質量部がさらに好ましい。狭義の無機フィラーの含有量を上記範囲にすることで、ヤング率を好適な範囲に調整しマイグレーション耐性及び埋め込み性が向上する。 The content of the inorganic filler in the narrow sense of the first insulating resin layer is preferably 1 to 50 parts by mass, more preferably 5 to 40 parts by mass, and 10 to 35 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin. More preferred. By setting the content of the inorganic filler in the narrow sense to the above range, the Young's modulus is adjusted to a suitable range and migration resistance and embedding property are improved.

[イオン捕集剤]
無機フィラーとしてはイオン捕集剤も好ましい。イオン捕集剤は、陽イオン捕集剤、陰イオン捕集剤、および両イオン捕集剤を含む。イオン捕集剤は、これらを単独または2種類以上併用できる。これらのなかでも、マイグレーション耐性が向上する点で、陽イオン捕集剤及び両イオン捕集剤を用いることが好ましい。特に好ましくは、陽イオン捕集剤である。
イオン捕集剤は、第1の絶縁性樹脂層が含むこともできるし、後述する第2の絶縁性樹脂層も含むことができ、両層が含むこともできる。
[Ion collector]
As the inorganic filler, an ion collecting agent is also preferable. Ion scavengers include cation scavengers, anion scavengers, and both ion scavengers. The ion collecting agents may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use a cation collecting agent and a biion collecting agent in terms of improving migration resistance. Particularly preferred is a cation collector.
The ion collecting agent can be contained in the first insulating resin layer, can also include a second insulating resin layer described later, and can be contained in both layers.

陽イオン捕集剤は、例えばマンガン化合物(含水二酸化マンガン等)、アンチモン化合物(結晶性アンチモン酸、含水五酸化アンチモン等)、ジルコニウム化合物(水酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、モリブデン酸ジルコニウム、タングステン酸ジルコニウム等)、ケイ酸塩化合物(アルミノケイ酸塩、合成アルミノケイ酸塩等)、リン酸塩化合物(リン酸チタン、リン酸スズ等)、シュウ酸セリウム(III)、モリブドリン酸アンモニウム、ヘキサシアノ鉄(III)コバルト(II)カリウム、天然グリーンサンド、安定化グリーンサンド、Mn2+型にしたグリーンサンド等が挙げられ、単独または2種類以上併用できる。これらの中でもアンチモン化合物、ジルコニウム化合物は、陽イオンを捕集する能力が高いので、マイグレーション耐性を高めることができる。
陽イオン捕集剤は、例えばIXE−100、IXE−300(東亜合成社製)等の公知の製品を使用できる。
The cation collector includes, for example, manganese compounds (hydrous manganese dioxide, etc.), antimony compounds (crystalline antimonic acid, hydrous antimonium pentoxide, etc.), zirconium compounds (zirconium hydroxide, zirconium phosphate, zirconium molybdate, zirconium tungstate, etc.). Etc.), silicate compounds (aluminosilicates, synthetic aluminosilicates, etc.), phosphate compounds (titanium phosphate, tin phosphate, etc.), cerium oxalate (III), ammonium molybdrinate, iron hexacyanoferrate (III). Examples thereof include cobalt (II) potassium, natural green sand, stabilized green sand, and Mn2 + type green sand, which can be used alone or in combination of two or more. Among these, antimony compounds and zirconium compounds have a high ability to collect cations, so that migration resistance can be enhanced.
As the cation collecting agent, known products such as IXE-100 and IXE-300 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be used.

さらに陰イオン捕集剤を用いることもできる。陰イオン捕集剤は、例えばビスマス化合物(含水酸化ビスマス、水和硝酸ビスマス等)、マグネシウム・アルミニウム複合酸化物(マグネシウムアルミニウムハイドロタルサイト等)、リン酸塩化合物(水酸化リン酸鉛等)等が挙げられ、単独または2種類以上併用できる。これらの中でもマグネシウム・アルミニウム複合酸化物は、陰イオンを捕集する能力が高いので好ましい。
陰イオン捕集剤は、例えばIXE−500、IXE−530、IXE−550、IXE−700F、IXE−700D、IXE−800(東亜合成社製)等の公知の製品を使用できる。
Further, an anion collecting agent can also be used. Examples of the anion collecting agent include bismuth compounds (bismuth-containing hydroxide, bismuth hydrated nitrate, etc.), magnesium-aluminum composite oxides (magnesium-aluminum hydrotalcite, etc.), phosphate compounds (lead hydroxide phosphate, etc.), etc. Can be used alone or in combination of two or more. Among these, magnesium-aluminum composite oxide is preferable because it has a high ability to collect anions.
As the anion collecting agent, known products such as IXE-500, IXE-530, IXE-550, IXE-700F, IXE-700D, and IXE-800 (manufactured by Toagosei) can be used.

両イオン捕集剤とは、陽イオン捕集剤および陰イオン捕集剤を含むものである。両イオン捕集剤は、例えば既に説明したジルコニウム化合物、アンチモン化合物、リン酸塩化合物等から適宜選択した陽イオン捕集剤と、ビスマス化合物、マグネシウム・アルミニウム化合物等から適宜選択した陰イオン捕集剤との混合物が好ましい。 The amphoteric collecting agent includes a cation collecting agent and an anion collecting agent. The two ion collecting agents are, for example, a cation collecting agent appropriately selected from the zirconium compound, an antimony compound, a phosphate compound and the like already described, and an anion collecting agent appropriately selected from a bismuth compound, a magnesium / aluminum compound and the like. A mixture with and is preferred.

両イオン捕集剤は、例えばIXEPLAS−A1、IXEPLAS−A2、IXEPLAS−B1、IXE−600、IXE−633、IXE−6107、IXE−6136(東亜合成社製)等の公知の製品を使用できる。 As the amphoteric agent, known products such as IXEPLAS-A1, IXEPLAS-A2, IXEPLAS-B1, IXE-600, IXE-633, IXE-6107, and IXE-6136 (manufactured by Toagosei) can be used.

イオン捕集剤の平均粒子径D50は、0.1〜10μmであることが好ましく、0.1〜3μmであることがより好ましい。平均粒子径を0.1以上にすることで埋め込み性が向上する。平均粒子径D50を10μm以下にすることで、マイグレーション耐性をより向上できる。
なお、平均粒子径は、前述の狭義の無機フィラーと同様にして求める。
The average particle size D50 of the ion collecting agent is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.1 to 3 μm. Embedding property is improved by setting the average particle size to 0.1 or more. By setting the average particle diameter D50 to 10 μm or less, migration resistance can be further improved.
The average particle size is obtained in the same manner as the above-mentioned inorganic filler in the narrow sense.

イオン捕集剤は、熱硬化性樹脂100質量部に対して、0.1〜20質量部配合することが好ましく、0.3〜10質量部がより好ましい。0.1〜20質量部配合することでマイグレーション耐性がより向上した被覆保護層付き電子部品群搭載基板を得易くなる。 The ion collecting agent is preferably blended in an amount of 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.3 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the thermosetting resin. By blending 0.1 to 20 parts by mass, it becomes easy to obtain a substrate for mounting an electronic component group with a coating protective layer having further improved migration resistance.

本発明の保護シートにおける第1の絶縁性樹脂層の厚みは10〜150μmが好ましく、50〜130μmがより好ましい。上記の厚みとすることで仮張り性と埋め込み性を両立できる。 The thickness of the first insulating resin layer in the protective sheet of the present invention is preferably 10 to 150 μm, more preferably 50 to 130 μm. By setting the thickness as described above, both temporary tensioning property and embedding property can be achieved.

<第2の絶縁性樹脂層>
本発明の電子部品保護シートにおいて、第2の絶縁性樹脂層は電子部品群から最も遠くに位置し、プローブタック試験による粘着力が1N以下である。加えて、23℃のヤング率(以下、ヤング率(2)と省略する)が30MPa〜1000MPaであることが好ましく、50MPa〜800MPaがより好ましく、70MPa〜500MPaがさらに好ましい。粘着力を1N以下とすることで、リリース性が向上する。さらにヤング率(2)を30MPa以上とすることで、電子部品の角部における電子部品保護シートの破断(以下クラック耐性)を抑制し、1000MPa以下とすることで電子部品間の溝への追従性が向上する。
尚、ヤング率(2)の求め方は前述の第1の絶縁性樹脂層の場合と同様である。
<Second insulating resin layer>
In the electronic component protective sheet of the present invention, the second insulating resin layer is located farthest from the electronic component group, and the adhesive strength by the probe tack test is 1N or less. In addition, the Young's modulus at 23 ° C. (hereinafter abbreviated as Young's modulus (2)) is preferably 30 MPa to 1000 MPa, more preferably 50 MPa to 800 MPa, and even more preferably 70 MPa to 500 MPa. By setting the adhesive strength to 1N or less, the release property is improved. Furthermore, by setting the Young's modulus (2) to 30 MPa or more, breakage of the electronic component protective sheet (hereinafter referred to as crack resistance) at the corners of the electronic component is suppressed, and by setting it to 1000 MPa or less, the followability to the groove between the electronic components is suppressed. Is improved.
The method of obtaining Young's modulus (2) is the same as that of the above-mentioned first insulating resin layer.

また、第2の絶縁性樹脂層は、23℃の貯蔵弾性率(以下、貯蔵弾性率(2)と省略する)が1.0+E06Pa〜1.0+E10Paであることが好ましい。貯蔵弾性率(2)を1.0+E06Pa以上とすることで、リリース性が向上し、1.0+E10Pa以下とすることでマイグレーション耐性が向上する。
尚、貯蔵弾性率(2)の求め方は前述の第1の絶縁性樹脂層の場合と同様である。
The second insulating resin layer preferably has a storage elastic modulus at 23 ° C. (hereinafter abbreviated as the storage elastic modulus (2)) of 1.0 + E06Pa to 1.0 + E10Pa. When the storage elastic modulus (2) is 1.0 + E06Pa or more, the release property is improved, and when it is 1.0 + E10Pa or less, the migration resistance is improved.
The method of obtaining the storage elastic modulus (2) is the same as that of the above-mentioned first insulating resin layer.

第2の絶縁性樹脂層は、第1の絶縁性樹脂層と同様に、熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物により形成することができる。
また、熱硬化性樹脂組成物は、硬化剤、狭義の無機フィラー、及びイオン捕集剤、難燃剤等を含むことが好ましい。これらを用いることにより、上述した23℃のヤング率及び貯蔵弾性率を好適範囲に調整できるためリリース性、または埋め込み性等を向上することができる。
The second insulating resin layer can be formed of a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin, similarly to the first insulating resin layer.
Further, the thermosetting resin composition preferably contains a curing agent, an inorganic filler in a narrow sense, an ion collecting agent, a flame retardant and the like. By using these, the Young's modulus and the storage elastic modulus at 23 ° C. described above can be adjusted in a suitable range, so that the release property, the implantability, and the like can be improved.

熱硬化性樹脂については前述の第1の絶縁性樹脂層の場合と同様のものが例示でき、酸価、重量平均分子量等についても同様である。 As the thermosetting resin, the same as in the case of the above-mentioned first insulating resin layer can be exemplified, and the same applies to the acid value, weight average molecular weight and the like.

硬化剤についても前述の第1の絶縁性樹脂層の場合と同様のものが例示でき、エポキシ化合物とアジリジン化合物とを併用することが好ましく、エポキシ化合物としては23℃で固体のエポキシ化合物を用いることによってヤング率を高めることができる。
硬化剤の配合量は、熱硬化性樹脂合計100質量部に対して、3〜100質量部であることが好ましく、5〜60質量部であることがより好ましく、5〜40質量部であることがさらに好ましい。上記配合量とすることで23℃のヤング率及び貯蔵弾性率を好適な値に調整できる。
As the curing agent, the same as in the case of the first insulating resin layer described above can be exemplified, and it is preferable to use the epoxy compound and the aziridine compound in combination, and the epoxy compound is a solid epoxy compound at 23 ° C. Can increase the young rate.
The blending amount of the curing agent is preferably 3 to 100 parts by mass, more preferably 5 to 60 parts by mass, and 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total thermosetting resin. Is more preferable. By setting the blending amount as described above, Young's modulus and storage elastic modulus at 23 ° C. can be adjusted to suitable values.

狭義の無機フィラー、イオン捕集剤ついても前述の第1の絶縁性樹脂層の場合と同様のものが例示できる。
狭義の無機フィラーの配合量は、リリース性向上の観点から、熱硬化性樹脂合計100質量部に対して、5〜70質量部であることが好ましく、7〜55質量部であることがより好ましく、10〜35質量部であることがさらに好ましい。
イオン捕集剤の配合量は、マイグレーション耐性向上の観点から、熱硬化性樹脂合計100質量部に対して、5〜40質量部であることが好ましく、7〜30質量部であることがより好ましく、10〜25質量部であることがさらに好ましい。
Examples of the inorganic filler and the ion collecting agent in the narrow sense are the same as in the case of the above-mentioned first insulating resin layer.
From the viewpoint of improving releaseability, the blending amount of the inorganic filler in a narrow sense is preferably 5 to 70 parts by mass, and more preferably 7 to 55 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total thermosetting resin. , 10 to 35 parts by mass, more preferably.
From the viewpoint of improving migration resistance, the blending amount of the ion collecting agent is preferably 5 to 40 parts by mass, and more preferably 7 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total thermosetting resin. , 10 to 25 parts by mass is more preferable.

第2の絶縁性樹脂層には、さらに、必要に応じて着色剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、レベリング調整剤等を含むことができる。 The second insulating resin layer may further contain a colorant, a silane coupling agent, an antioxidant, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a leveling adjuster and the like, if necessary.

本発明の保護シートにおける第2の絶縁性樹脂層の厚みは1〜75μmが好ましく、5〜50μmがより好ましい。上記の厚みとすることで電子部品同士の間への埋め込み性を向上できる。 The thickness of the second insulating resin layer in the protective sheet of the present invention is preferably 1 to 75 μm, more preferably 5 to 50 μm. By setting the thickness as described above, the embedding property between electronic components can be improved.

<中間層>
本発明の保護シートは、第1の絶縁性樹脂層と第2の絶縁性樹脂層との間に、中間層として熱硬化性樹脂を含む絶縁性樹脂層をさらに有することができる。中間層の23℃におけるヤング率(以下、ヤング率(3)ともいう)は、下記式を満たすことが好ましい。下記式を満たすことによって仮張り性とマイグレーション耐性が向上し、中間層が熱プレス工程の圧力を緩和しクラックの生じにくい被覆保護膜が得られる。
ヤング率(2)>ヤング率(3)>ヤング率(1)・・・(式1)
<Middle layer>
The protective sheet of the present invention may further have an insulating resin layer containing a thermosetting resin as an intermediate layer between the first insulating resin layer and the second insulating resin layer. The Young's modulus of the intermediate layer at 23 ° C. (hereinafter, also referred to as Young's modulus (3)) preferably satisfies the following formula. By satisfying the following formula, the temporary tension and migration resistance are improved, the intermediate layer relaxes the pressure in the hot pressing process, and a coating protective film in which cracks are less likely to occur can be obtained.
Young's modulus (2)>Young's modulus (3)>Young's modulus (1) ... (Equation 1)

本発明の保護シートを構成する、第1の絶縁性樹脂層、第2の絶縁性樹脂層、および必要に応じて設け得る中間層それぞれの23℃における破断伸び率は、50〜1500%が好ましく、100〜1400%より好ましい。上記の範囲とすることにより、工程ivにおける凹凸形状への追従性を高め、異なる高さの複数の電子部品を適切に被覆保護することができる。
なお、本発明では100mmの長さの試料を伸ばし、200mmで破断する場合の伸び率を100%とする。伸び率の測定方法については実施例で詳細を説明する。
The breaking elongation at 23 ° C. of each of the first insulating resin layer, the second insulating resin layer, and the intermediate layer that can be provided as needed, which constitute the protective sheet of the present invention, is preferably 50 to 1500%. , 100-1400%, more preferred. By setting the above range, it is possible to improve the followability to the uneven shape in the process iv and appropriately cover and protect a plurality of electronic components having different heights.
In the present invention, the elongation rate when a sample having a length of 100 mm is stretched and broken at 200 mm is set to 100%. The method of measuring the elongation rate will be described in detail in Examples.

また、本発明の電子部品保護シートには、第2の絶縁性樹脂層のさらに外側に保護性を向上する観点からにハードコート層や繊維層を積層することができる。 Further, on the electronic component protective sheet of the present invention, a hard coat layer or a fiber layer can be laminated on the outer side of the second insulating resin layer from the viewpoint of improving the protective property.

<電子部品保護シートの製造方法>
電子部品保護シートの製造方法は、剥離性シート上に第1の絶縁性樹脂層用の絶縁性樹脂組成物を塗工、乾燥して第1の絶縁性樹脂層を形成する。同様に別途、剥離性シート上に電子部品群から最も遠くに位置する予定の絶縁性樹脂層用の絶縁性樹脂組成物を塗工、乾燥し、電子部品群から最も遠くに位置する予定の絶縁性樹脂層を形成する。次いで、両絶縁性樹脂層を重ね合わせることで形成できる。
また、剥離性シート上に、いずれか一方の絶縁性樹脂組成物を塗工、乾燥して、いずれか一方の絶縁性樹脂層を形成し、その樹脂層上に他方の絶縁性樹脂組成物を直接塗工、乾燥して形成しても良い。
クッション材を有する態様の場合には、電子部品群から最も遠くに位置する予定の絶縁性樹脂層側の剥離性シートを剥がし、その上にクッション材をラミネートすることによってクッション材を設けることができる。または、クッション材に直接熱硬化性樹脂組成物を塗工して、電子部品群から最も遠くに位置する予定の絶縁性樹脂層を形成し、その後第1の絶縁性樹脂層を形成しても良い。
<Manufacturing method of electronic component protective sheet>
In the method of manufacturing an electronic component protective sheet, an insulating resin composition for a first insulating resin layer is applied onto a peelable sheet and dried to form a first insulating resin layer. Similarly, separately, the insulating resin composition for the insulating resin layer to be located farthest from the electronic component group is coated and dried on the peelable sheet, and the insulation to be located farthest from the electronic component group is applied. Form a sex resin layer. Next, it can be formed by superimposing both insulating resin layers.
Further, one of the insulating resin compositions is coated and dried on the peelable sheet to form one of the insulating resin layers, and the other insulating resin composition is placed on the resin layer. It may be formed by direct coating and drying.
In the case of the embodiment having the cushion material, the cushion material can be provided by peeling off the peelable sheet on the insulating resin layer side to be located farthest from the electronic component group and laminating the cushion material on the peelable sheet. .. Alternatively, the cushion material may be directly coated with the thermosetting resin composition to form an insulating resin layer to be located farthest from the electronic component group, and then a first insulating resin layer may be formed. good.

<電子部品保護シートの用途>
本発明の電子部品保護シートは、基板が、金属、樹脂、繊維、セラミック、ガラス、および導電性シリコンのいずれである場合にも、実用上十分な密着力を示す。金属としては、アルミニウム、銅、真鍮、ステンレス、鉄、クロムなどに使用できる。樹脂としてはエポキシ樹脂、ポリエチレンテレフタラート、ポリイミド、ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリオレフィン系グラフトポリマー、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルなどに使用できる。それゆえに本電子部品保護シートは極性の異なる異種材料間の密着にも好適に用いることができる。
本発明の電子部品保護シートは、各種基板、すなわち、リジッド基板、FPC基板など各種基板の保護に好適に用いることができる。
<Use of electronic component protective sheet>
The electronic component protective sheet of the present invention exhibits practically sufficient adhesion regardless of whether the substrate is metal, resin, fiber, ceramic, glass, or conductive silicon. As the metal, it can be used for aluminum, copper, brass, stainless steel, iron, chrome and the like. As the resin, it can be used for epoxy resin, polyethylene terephthalate, polyimide, polyamide, polyethylene, polypropylene, polyolefin-based graft polymer, polystyrene, polyvinyl chloride and the like. Therefore, the present electronic component protective sheet can be suitably used for adhesion between different materials having different polarities.
The electronic component protection sheet of the present invention can be suitably used for protecting various substrates, that is, various substrates such as a rigid substrate and an FPC substrate.

本発明の電子部品保護用シートを使用した電子部品は、液晶ディスプレイ、タッチパネル等のほか、ノートPC、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等の電子機器に備えることが好ましい。 It is preferable that the electronic component using the electronic component protection sheet of the present invention is provided in an electronic device such as a notebook PC, a mobile phone, a smartphone, a tablet terminal, etc., in addition to a liquid crystal display, a touch panel, and the like.

以下、実施例、比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の「部」及び「%」は、それぞれ「質量部」及び「質量%」に基づく値である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. The following "parts" and "%" are values based on "parts by mass" and "% by mass", respectively.

実施例で使用した原料を以下に示す。
<熱硬化性樹脂>
[熱硬化性樹脂1の合成]
攪拌機、温度計、還流冷却器、窒素導入管、減圧設備を備えたガラス製フラスコにテレフタル酸166部、アジピン酸146部および3−メチル−1,5−ペンタンジオール212部、エチレングリコール25部を仕込み、窒素ガスを通じながら攪拌し、常圧下徐々に昇温し、200〜230℃にて約8時間反応させ酸価43の液状物を得た。次いでテトラ−n−ブトキシチタン0.01部を仕込み、窒素置換後密閉下180℃にて30分間攪拌した。次いで230℃、5mmHgにて2時間反応させ、酸価1.1、水酸基価114.2、分子量982、色相10(APHA法、以下同様)のポリエステルジオールを得た。
次いで、攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、窒素導入管を備えた反応容器に、前記ポリエステルジオールを734部、ジメチロールプロピオン酸23.9部、トルエンジイソシアネート219部、及びトルエン242部を仕込み、窒素雰囲気下50℃で8時間反応させた。これに、トルエン1200部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。
次に得られたプレポリマーの溶液を70℃に加温しその温度を保ちながら、1,3−ジアミノプロパン20.0部、ベンジルアミン3.1部、2−プロノール600部、及びトルエン961部を混合した溶液を1時間で滴下した。滴下終了後70℃にて更に6時間反応させることで、分子量(Mw)が130000、酸価は10mgKOH/g、Tgは20℃、固形分が25%であるポリウレタン系樹脂(A−1)を得た。
The raw materials used in the examples are shown below.
<Thermosetting resin>
[Synthesis of thermosetting resin 1]
166 parts of terephthalic acid, 146 parts of adipic acid and 212 parts of 3-methyl-1,5-pentanediol and 25 parts of ethylene glycol were placed in a glass flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, nitrogen introduction tube, and decompression equipment. The mixture was charged, stirred while passing through nitrogen gas, gradually heated under normal pressure, and reacted at 200 to 230 ° C. for about 8 hours to obtain a liquid substance having an acid value of 43. Next, 0.01 part of tetra-n-butoxytitanium was charged, and after nitrogen substitution, the mixture was stirred at 180 ° C. for 30 minutes under sealing. Then, the reaction was carried out at 230 ° C. and 5 mmHg for 2 hours to obtain a polyester diol having an acid value of 1.1, a hydroxyl value of 114.2, a molecular weight of 982 and a hue of 10 (APHA method, the same applies hereinafter).
Next, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device, and a nitrogen introduction tube, 734 parts of the polyester diol, 23.9 parts of dimethylol propionic acid, 219 parts of toluene diisocyanate, and 242 parts of toluene were placed. It was charged and reacted at 50 ° C. for 8 hours under a nitrogen atmosphere. To this, 1200 parts of toluene was added to obtain a solution of urethane prepolymer having an isocyanate group at the terminal.
Next, while heating the obtained prepolymer solution to 70 ° C. and maintaining the temperature, 20.0 parts of 1,3-diaminopropane, 3.1 parts of benzylamine, 600 parts of 2-pronol, and 961 parts of toluene were used. Was added dropwise over 1 hour. By further reacting at 70 ° C. for 6 hours after the completion of the dropping, a polyurethane resin (A-1) having a molecular weight (Mw) of 130000, an acid value of 10 mgKOH / g, a Tg of 20 ° C. and a solid content of 25% was obtained. Obtained.

[熱硬化性樹脂2の合成]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、窒素導入管を備えた反応容器に、アジピン酸、テレフタル酸および3−メチル−1,5−ペンタンジオールを使用してエステル化したジオール(数平均分子量(以下、「Mn」という)=1006)414部、ジメチロールブタン酸8部、イソホロンジイソシアネート145部、ならびにトルエン40部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で3時間反応させた。次いで、トルエン300部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。
次に、別途イソホロンジアミン27部、ジ−n−ブチルアミン3部、2−プロパノール342部、及びトルエン576部を混合した溶液に、得られたウレタンプレポリマーの溶液816部を添加し、70℃で3時間反応させた後、冷却を行った。さらにトルエン144部、2−プロパノール72部を加えて混合することで不揮発分30%のポリウレタン系樹脂(A−2)溶液を得た。なお樹脂(A−2)は、Mw=54,000、酸価5mgKOH/gであった。
[Synthesis of thermosetting resin 2]
A diol esterified with adipic acid, terephthalic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol in a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping device, and nitrogen introduction tube (number average molecular weight). (Hereinafter referred to as "Mn") = 1006) 414 parts, 8 parts of dimethylolbutanoic acid, 145 parts of isophorone diisocyanate, and 40 parts of toluene were charged and reacted at 90 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. Then, 300 parts of toluene was added to obtain a solution of urethane prepolymer having an isocyanate group at the terminal.
Next, 816 parts of the obtained urethane prepolymer solution was added to a solution in which 27 parts of isophorone diamine, 3 parts of di-n-butylamine, 342 parts of 2-propanol, and 576 parts of toluene were separately mixed, and at 70 ° C. After reacting for 3 hours, cooling was performed. Further, 144 parts of toluene and 72 parts of 2-propanol were added and mixed to obtain a polyurethane resin (A-2) solution having a non-volatile content of 30%. The resin (A-2) had Mw = 54,000 and an acid value of 5 mgKOH / g.

<硬化剤>
硬化剤1:ビスフェノールA型エポキシ化合物「jER828」(エポキシ当量=189g/eq)三菱ケミカル株式会社製
硬化剤2:テトラフェノールエタン型エポキシ樹脂「jER1031s」(4官能、エポキシ当量=200g/eq)三菱ケミカル株式会社製
硬化剤3:ビニルエーテル変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂「EXA4850−150」(エポキシ当量450、分子量900)DIC社製
硬化剤4:アジリジン化合物、「ケミタイト PZ−33」日本触媒社製
硬化剤5:ヘキサメチレンジイソシアネート−ビュウレット体、「デュラネート24A−100」(固形分100%、NCO23.5質量%)旭化成社製
硬化剤6:多価カルボジイミド「カルボジライトV−03」日清紡ケミカル社製
<Curing agent>
Curing agent 1: Bisphenol A type epoxy compound "jER828" (epoxy equivalent = 189g / eq) Curing agent 2: Tetraphenol ethane type epoxy resin "jER1031s" (4 functional, epoxy equivalent = 200g / eq) Mitsubishi Chemical Co., Ltd. Hardener 3: Vinyl ether-modified bisphenol A type epoxy resin "EXA4850-150" (epoxy equivalent 450, molecular weight 900) DIC hardener 4: Aziridine compound, "Chemitite PZ-33" Japanese catalyst hardener 5: Hexamethylene diisocyanate-bullet body, "Duranate 24A-100" (solid content 100%, NCO 23.5% by mass) Hardener manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd. 6: Polyvalent carbodiimide "Carbodilite V-03" manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.

<無機フィラー>
無機フィラー1:ミクロエースP−2(タルク、平均粒子経D50が5.0μm(日本タルク社製)
無機フィラー2:IXE PLUS−A1(ジルコニア系無機陽イオン捕集剤とハイドロタルサイト系無機陰イオン捕集剤の混合物の両イオン捕集剤、平均粒子経D50が0.5μm(東亞合成社製))
無機フィラー3:IXE300(アンチモン系無機陽イオン捕集剤、平均粒子経D50が0.5μm(東亞合成社製))
無機フィラー4:SS50(シリカ、平均粒子径D50が4.5μm(東ソー・シリカ株式会社))
<Inorganic filler>
Inorganic filler 1: Microace P-2 (talc, average particle diameter D50 is 5.0 μm (manufactured by Japan Talc)
Inorganic filler 2: IXE PLUS-A1 (both ion collecting agent of a mixture of zirconia-based inorganic cation collecting agent and hydrotalcite-based inorganic anion collecting agent, average particle diameter D50 is 0.5 μm (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) )))
Inorganic filler 3: IXE300 (antimony-based inorganic cation collector, average particle diameter D50 is 0.5 μm (manufactured by Toagosei Co., Ltd.))
Inorganic filler 4: SS50 (silica, average particle size D50 is 4.5 μm (Tosoh Silica Co., Ltd.))

<無機フィラーの平均粒子径D50>
平均粒子径D50は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置LS13320(ベックマン・コールター社製)を使用し、トルネードドライパウダーサンプルモジュールにて、導電性微粒子を測定して得たD50平均粒子径の数値であり、粒子径累積分布における累積値が50%の粒子径である。なお、屈折率の設定は1.6とした。
<Average particle size D50 of inorganic filler>
The average particle size D50 is a numerical value of the D50 average particle size obtained by measuring conductive fine particles with a tornado dry powder sample module using a laser diffraction / scattering method particle size distribution measuring device LS13320 (manufactured by Beckman Coulter). The cumulative value in the cumulative particle size distribution is 50%. The refractive index was set to 1.6.

[絶縁性樹脂層1の作成]
熱硬化性樹脂1(固形分)100部と、硬化剤3を20部と、熱硬化性剤4を0.5部と、無機フィラー1を11.4部と、を容器に仕込み、不揮発分濃度が45質量%になるようトルエン:イソプロピルアルコール(質量比2:1)の混合溶剤を加えディスパーで10分攪拌することで熱硬化性樹脂組成物を得た。この熱硬化性樹脂組成物を乾燥厚みが40μmになるようにドクターブレードを使用して離型性基材に塗工した。そして、100℃で2分間乾燥することで離型性基材と樹脂層1とが積層された積層シートを得た。
[Creation of insulating resin layer 1]
100 parts of the thermosetting resin 1 (solid content), 20 parts of the curing agent 3, 0.5 part of the thermosetting agent 4 and 11.4 parts of the inorganic filler 1 are charged in a container, and the non-volatile content is charged. A thermosetting resin composition was obtained by adding a mixed solvent of toluene: isopropyl alcohol (mass ratio 2: 1) so as to have a concentration of 45% by mass and stirring with a disper for 10 minutes. This thermosetting resin composition was applied to a releasable substrate using a doctor blade so that the dry thickness was 40 μm. Then, it was dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a laminated sheet in which the releasable base material and the resin layer 1 were laminated.

[絶縁性樹脂層2〜22、101〜102の作成]
表1の配合量を変更した以外は絶縁性樹脂層−1と同様の所作によって、剥離性基材上に絶縁性樹脂層2〜22、101〜102が積層された積層シートをそれぞれ得た。
[Preparation of Insulating Resin Layers 2-22, 101-102]
Laminated sheets in which the insulating resin layers 2 to 22 and 101 to 102 were laminated on the peelable substrate were obtained by the same actions as those of the insulating resin layer-1 except that the blending amount in Table 1 was changed.

得られた絶縁性樹脂層について以下の物性値を測定した。結果を表1に合わせて示す。 The following physical property values were measured for the obtained insulating resin layer. The results are shown in Table 1.

<プローブタック試験による粘着力の測定>
離型性基材と絶縁性樹脂層とが積層された積層シートの絶縁性樹脂層の表面に対して直径5mmφのステンレス製プローブ(重りを入れて200g)を1秒間接触させた後、プローブを10mm/秒の速度で粘着層の表面から離す際、検出される力を測定した。測定は5回実施し、その平均値を求めた。
<Measurement of adhesive strength by probe tack test>
A stainless steel probe (200 g including a weight) having a diameter of 5 mmφ is brought into contact with the surface of the insulating resin layer of the laminated sheet in which the releasable base material and the insulating resin layer are laminated for 1 second, and then the probe is placed. The detected force was measured as the adhesive layer was separated from the surface at a rate of 10 mm / sec. The measurement was carried out 5 times, and the average value was calculated.

<23℃のヤング率の測定>
離型性基材と絶縁性樹脂層とが積層された積層シートを23℃、相対湿度50%で24時間静置した。その後離型性基材を剥がした絶縁性樹脂層を23℃、相対湿度50%の恒温湿室内において、引張り速度50mm/分および標線間25mmの条件で引張試験機「EZテスター」(島津製作所社製)により応力−ひずみ曲線を測定し、ひずみ(伸び)が0.1〜0.3%の領域の線形回帰(傾き)を23℃におけるヤング率とした。
<Measurement of Young's modulus at 23 ° C>
A laminated sheet in which a releasable substrate and an insulating resin layer were laminated was allowed to stand at 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 24 hours. After that, the insulating resin layer from which the releasable substrate was peeled off was placed in a constant temperature and humidity chamber at 23 ° C. and a relative humidity of 50% under the conditions of a tensile speed of 50 mm / min and a marked line spacing of 25 mm, and a tensile tester "EZ Tester" (Shimadzu Corporation). The stress-strain curve was measured by (manufactured by Shimadzu Corporation), and the linear regression (slope) in the region where the strain (elongation) was 0.1 to 0.3% was defined as the Young's modulus at 23 ° C.

<23℃の貯蔵弾性率>
離型性基材と絶縁性樹脂層とが積層された積層シートを23℃、相対湿度50%で24時間静置した。その後離型性基材を剥がした絶縁性樹脂層を動的弾性率測定装置DVA−200(アイティー計測制御社製)を用いて、絶縁性樹脂層に対して変形様式「引張り」、周波数10Hz、昇温速度10℃/分、測定温度範囲−50℃〜300℃の条件での測定を行い、23℃における貯蔵弾性率を求めた。加えて120℃、170℃における貯蔵弾性率も測定した。
<Storage modulus at 23 ° C>
A laminated sheet in which a releasable substrate and an insulating resin layer were laminated was allowed to stand at 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 24 hours. After that, the insulating resin layer from which the releasable substrate was peeled off was deformed with respect to the insulating resin layer using a dynamic elastic modulus measuring device DVA-200 (manufactured by IT Measurement Control Co., Ltd.), and the frequency was 10 Hz. The temperature rise rate was 10 ° C./min, and the measurement was performed under the conditions of a measurement temperature range of −50 ° C. to 300 ° C. to determine the storage elastic modulus at 23 ° C. In addition, the storage elastic modulus at 120 ° C. and 170 ° C. was also measured.

<伸び率の測定>
離型性基材と絶縁性樹脂層とが積層された積層シートを幅200mm×長さ600mmの大きさに切断しその後離型性基材から絶縁性樹脂層を剥離し測定試料とした。測定試料について小型卓上試験機EZ−TEST(島津製作所社製)を用いて、温度25℃、相対湿度50%の条件下、有効引っ張りサイズ200×230mmで引っ張り試験(試験速度50mm/min)を実施し、破断時の伸び率を求めた。
<Measurement of elongation rate>
A laminated sheet in which a releasable base material and an insulating resin layer were laminated was cut into a size of 200 mm in width × 600 mm in length, and then the insulating resin layer was peeled off from the releasable base material to prepare a measurement sample. About the measurement sample Using a small tabletop tester EZ-TEST (manufactured by Shimadzu Corporation), a tensile test (test speed 50 mm / min) was conducted with an effective tensile size of 200 x 230 mm under the conditions of a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 50%. Then, the elongation rate at the time of breakage was obtained.

Figure 2021193725
Figure 2021193725

[実施例1]
絶縁性樹脂層8および絶縁性樹脂層1を熱ロールラミネーターによって張り合わせることで、離型性基材/第2の絶縁性樹脂層(樹脂層8)/第1の絶縁性樹脂層(樹脂層1)/離型性基材の順に積層してなる剥離性基材付きの電子部品保護シートを得た。張り合わせる条件は70℃、3kgf/cmとした。
以下、第2の絶縁性樹脂層」を「外側の絶縁性樹脂層」と略し、「外側の絶縁性樹脂層」を覆っている「離型性基材」を「外側の離型性基材」と略すことがある。
[Example 1]
By laminating the insulating resin layer 8 and the insulating resin layer 1 with a thermal roll laminator, a releasable base material / a second insulating resin layer (resin layer 8) / a first insulating resin layer (resin layer). 1) / An electronic component protective sheet with a peelable base material, which was laminated in the order of a releasable base material, was obtained. The conditions for bonding were 70 ° C. and 3 kgf / cm 2 .
Hereinafter, the "second insulating resin layer" is abbreviated as "outer insulating resin layer", and the "releaseable base material" covering the "outer insulating resin layer" is referred to as "outer releasable base material". May be abbreviated.

[実施例2〜22、比較例1〜2]
表2に示すように絶縁性樹脂層の組み合わせを変更した以外は実施例1と同様の所作によって、実施例2〜22、比較例1〜2の剥離性基材付きの電子部品保護シートをそれぞれ得た。
[Examples 2 to 22, Comparative Examples 1 to 2]
According to the same behavior as in Example 1 except that the combination of the insulating resin layers was changed as shown in Table 2, the electronic component protective sheets with the peelable substrate of Examples 2 to 22 and Comparative Examples 1 and 2 were used, respectively. Obtained.

[実施例23]
絶縁性樹脂層1および絶縁性樹脂層14を熱ロールラミネーターによって張り合わせることで、離型性基材/中間の絶縁性樹脂層(樹脂層14)/第1の絶縁性樹脂層(樹脂層1)/離型性基材の順に積層した。
次いで絶縁性樹脂層14側の離型性基材を剥離し、露出面に、絶縁性樹脂層12を熱ロールラミネーターによって張り合わせることで、外側の離型性基材/絶縁性樹脂層12/絶縁性樹脂層14/絶縁性樹脂層1/離型性基材の順に積層してなる剥離性基材付きの電子部品保護シートを得た。張り合わせる条件は70℃、3kgf/cmとした。
[Example 23]
By laminating the insulating resin layer 1 and the insulating resin layer 14 with a thermal roll laminator, a releasable base material / an intermediate insulating resin layer (resin layer 14) / a first insulating resin layer (resin layer 1). ) / Releasable substrate was laminated in this order.
Next, the releasable base material on the insulating resin layer 14 side is peeled off, and the insulating resin layer 12 is attached to the exposed surface by a thermal roll laminator, whereby the outer releasable base material / insulating resin layer 12 / An electronic component protection sheet with a peelable base material was obtained by laminating the insulating resin layer 14 / insulating resin layer 1 / releasable base material in this order. The conditions for bonding were 70 ° C. and 3 kgf / cm 2 .

[実施例24]
表3の絶縁性樹脂層の組み合わせを変更した以外は実施例23と同様の所作によって、実施例24の剥離性基材付きの電子部品保護シートを得た。
[Example 24]
An electronic component protective sheet with a peelable base material of Example 24 was obtained by the same operation as in Example 23 except that the combination of the insulating resin layers in Table 3 was changed.

[実施例25〜30]
表4に示すように絶縁性樹脂層の組み合わせを変更した以外は実施例1と同様の所作によって、実施例25〜30の剥離性基材付きの電子部品保護シートをそれぞれ得た。
[Examples 25 to 30]
The electronic component protective sheets with the peelable substrate of Examples 25 to 30 were obtained by the same actions as in Example 1 except that the combination of the insulating resin layers was changed as shown in Table 4.

各実施例、比較例で得られた電子部品保護シートについて、仮張り性、リリース性、マイグレーション耐性及び埋め込み性の評価を行った。結果を表2、3に示す。 The electronic component protection sheets obtained in each Example and Comparative Example were evaluated for temporary tension, release, migration resistance, and embedding. The results are shown in Tables 2 and 3.

<仮張り性>
剥離性基材付きの電子部品保護シートを幅25mm・長さ100mmにカットし、第1の絶縁性樹脂層側の離型性基材を剥がして露出した第1の絶縁性樹脂層を幅30mm・長さ150mmの、厚み125μmのポリイミドフィルムに23℃、3kgf/cmの条件でロールラミネートして貼り付けた。
次いで外側の離型性基材を剥離し、露出した外側の絶縁性樹脂層面に、トーヨーケム(株)製の両面アクリル系粘着テープ「DF715」(各面のアクリル粘着層の厚み:35μm)を介して25μmPETフィルムを貼り付けたものを測定試料とした。
引張試験機を使用して引っ張り速度50mm/minでTピール剥離試験を行い、第1の絶縁性樹脂層とポリイミドフィルムとの間の接着強度を測定した。
◎:接着強度が0.5N以上。非常に良好な結果である。
〇:接着強度が0.25以上0.5未満。良好な結果である。
△:接着強度が0.1以上0.25未満。実用上問題ない。
×:接着強度が0.1未満。実用不可。
<Temporary tension>
The electronic component protection sheet with a peelable substrate is cut to a width of 25 mm and a length of 100 mm, and the releasable substrate on the first insulating resin layer side is peeled off to expose the exposed first insulating resin layer to a width of 30 mm. -It was roll-laminated and attached to a polyimide film having a length of 150 mm and a thickness of 125 μm at 23 ° C. and 3 kgf / cm 2.
Next, the outer releasable base material was peeled off, and the exposed outer insulating resin layer surface was mediated by a double-sided acrylic adhesive tape "DF715" manufactured by Toyochem Co., Ltd. (thickness of the acrylic adhesive layer on each surface: 35 μm). A sample to which a 25 μm PET film was attached was used as a measurement sample.
A T-peel peeling test was performed at a tensile speed of 50 mm / min using a tensile tester, and the adhesive strength between the first insulating resin layer and the polyimide film was measured.
⊚: Adhesive strength is 0.5N or more. Very good result.
〇: Adhesive strength is 0.25 or more and less than 0.5. Good result.
Δ: Adhesive strength is 0.1 or more and less than 0.25. There is no problem in practical use.
X: Adhesive strength is less than 0.1. Not practical.

<リリース性>
剥離性基材付きの電子部品保護シートを幅25mm・長さ100mmにカットし、外側の離型性基材を剥離し、露出した外側の絶縁性樹脂層面を、幅30mm・長さ150mmを厚み125μmのポリイミドフィルムに23℃、3kgf/cmの条件でロールラミネートして貼り付けた。
次いで第1の絶縁性樹脂層側の離型性基材を剥離し、露出した第1の絶縁性樹脂層面に、トーヨーケム(株)製の両面アクリル系粘着テープ「DF715」(各面のアクリル粘着層の厚み:35μm)を介して25μmPETフィルムを貼り付けたものを測定試料とした。
引張試験機を使用して引っ張り速度50mm/minでTピール剥離試験を行い、外側の絶縁性樹脂層とポリイミドフィルムとの間の接着強度を測定した。
◎:接着強度が0.1以下。非常に良好な結果である。
〇:接着強度が0.1超え、0.25以下。良好な結果である。
△:接着強度が0.25超え、0.5以下。実用上問題ない。
×:接着強度が0.5N超え。実用不可。
<Release>
The electronic component protection sheet with a peelable substrate is cut to a width of 25 mm and a length of 100 mm, the outer releasable substrate is peeled off, and the exposed outer insulating resin layer surface is 30 mm wide and 150 mm long. It was roll-laminated and attached to a 125 μm polyimide film under the conditions of 23 ° C. and 3 kgf / cm 2.
Next, the releasable base material on the first insulating resin layer side was peeled off, and the double-sided acrylic adhesive tape "DF715" manufactured by Toyochem Co., Ltd. (acrylic adhesive on each surface) was applied to the exposed first insulating resin layer surface. A 25 μm PET film attached via a layer thickness (35 μm) was used as a measurement sample.
A T-peel peeling test was performed at a tensile speed of 50 mm / min using a tensile tester, and the adhesive strength between the outer insulating resin layer and the polyimide film was measured.
⊚: Adhesive strength is 0.1 or less. Very good result.
〇: Adhesive strength exceeds 0.1 and is 0.25 or less. Good result.
Δ: Adhesive strength exceeds 0.25 and is 0.5 or less. There is no problem in practical use.
X: Adhesive strength exceeds 0.5N. Not practical.

<マイグレーション耐性試験>
図4を参照してマイグレーション試験を説明する。厚さ18μmの銅箔と厚さ25μmポリイミドフィルムの積層体をエッチング処理することで図4(1)の平面図に示した通り、ポリイミドフィルム1上に、ライン/スペース=0.1mm/0.1mmの櫛型導体パターン200、300と、両櫛型導体パターンと連続する電極200’、300’とを形成した。
剥離性基材付きの電子部品保護シートから第1の絶縁性樹脂層側の剥離性基材を剥がし、図4(2)の平面図に示した通り、両櫛型導体パターン200、300を覆い、両電極200’、300’が露出する程度の大きさに、露出した第1の絶縁性樹脂層を重ね、150℃、2.0MPa、3min.の条件で熱プレスし、外側の剥離性基材を剥がした後、さらに常圧にて160℃の電気オーブンで60min.加熱処理し、第1の絶縁性樹脂層および外側の絶縁性樹脂層を硬化し、図4(3)、(4)に示すように、電子部品保護シートの硬化物10’によって両櫛型導体パターンを被覆し、評価用試料とした。
評価用試料を、85℃85%RH(相対湿度)の雰囲気下で、櫛型導体間に電圧50V印加し、1000時間連続的に抵抗値の変化を測定した。尚、下記「リークタッチ」とは、短絡による絶縁破壊があり、瞬間的に抵抗が低下し電流が流れることをいう。リークタッチがない場合は絶縁性が低下しない。評価基準は以下の通りである。
◎:1000時間後の抵抗値が10Ω以上、リークタッチ無し。良好な結果である。
○:1000時間後の抵抗値が10Ω以上、リークタッチ無し。良好な結果である。
△:1000時間後の抵抗値が10Ω以上、リークタッチ1回有り。実用上問題ない。
×:1000時間後の抵抗値が10未満、リークタッチ2回以上有り。実用不可。
<Migration resistance test>
The migration test will be described with reference to FIG. By etching a laminate of a copper foil having a thickness of 18 μm and a polyimide film having a thickness of 25 μm, as shown in the plan view of FIG. 4 (1), a line / space = 0.1 mm / 0. A 1 mm comb-shaped conductor patterns 200 and 300 and electrodes 200'and 300' continuous with both comb-shaped conductor patterns were formed.
The peelable base material on the first insulating resin layer side is peeled off from the electronic component protective sheet with the peelable base material, and both comb-shaped conductor patterns 200 and 300 are covered as shown in the plan view of FIG. 4 (2). The exposed first insulating resin layer is laminated on a size such that both electrodes 200'and 300'are exposed, and the temperature is 150 ° C., 2.0 MPa, 3 min. After hot pressing under the conditions of (1) to peel off the outer peelable substrate, the mixture was further heated in an electric oven at 160 ° C. at normal pressure for 60 min. Heat treatment is performed to cure the first insulating resin layer and the outer insulating resin layer, and as shown in FIGS. 4 (3) and 4 (4), both comb-shaped conductors are formed by the cured product 10'of the electronic component protective sheet. The pattern was coated and used as an evaluation sample.
A voltage of 50 V was applied between the comb-shaped conductors of the evaluation sample in an atmosphere of 85 ° C. and 85% RH (relative humidity), and the change in resistance value was continuously measured for 1000 hours. The following "leak touch" means that there is dielectric breakdown due to a short circuit, the resistance drops momentarily, and a current flows. If there is no leak touch, the insulation does not decrease. The evaluation criteria are as follows.
◎: resistance value after 1000 hours is 10 8 Ω or more, no leak touch. Good result.
○: resistance after 1000 hours 10 7 Omega above, no leakage touch. Good result.
△: resistance value after 1000 hours is 10 7 Ω or more, there is a single leak touch. There is no problem in practical use.
×: There resistance after 1000 hours is less than 10 7, more leakage touch twice. Not practical.

<埋め込み性>
[試験基板の作製]
ガラスエポキシからなる基板上に、2種類の電子部品2a、2bを0.5mm間隔で交互に格子状に搭載した試験基板を用意した。基板の厚みは0.3mmであり、電子部品2aの高さは2mm、電子部品2bの高さは1mm、電子部品2a、2bの平面視の大きさは2cm×2cmである。試験基板の模式的断面図を図5に示す。
<Embedability>
[Preparation of test board]
A test substrate was prepared in which two types of electronic components 2a and 2b were alternately mounted in a grid pattern at intervals of 0.5 mm on a substrate made of glass epoxy. The thickness of the substrate is 0.3 mm, the height of the electronic component 2a is 2 mm, the height of the electronic component 2b is 1 mm, and the size of the electronic components 2a and 2b in a plan view is 2 cm × 2 cm. A schematic cross-sectional view of the test substrate is shown in FIG.

剥離性基材付きの電子部品保護シートを10cm×10cmにカットし、第1の絶縁性樹脂層側の離型性基材を剥離して、第1の絶縁性樹脂層が電子部品2aに接するように試験基板に載置した。その後、第2の絶縁性樹脂層側の剥離性基材を剥離して露出した表面に、クッション材として2種類のフィルム(厚さ0.05mmのTPX(品名:オピュランX−44B メーカー:三井化学東セロ株式会社)、2.0mmの塩ビフィルム(品名:セレブT メーカー:オカモト))の順に積層し、さらに張り付き防止のためボール紙を積層した。この上方から基板面に対し5MPa、160℃の条件で20分熱プレスした。熱プレス後、冷却し、クッション材とボール紙を剥離し、測定用試料とした。
測定用試料の厚み方向を研磨し、観察用の断面を形成し、電子部品間の溝10か所を電子顕微鏡で観察することにより、埋め込み性を評価した。評価基準は以下の通りである。
◎:すべての溝が埋め込まれている。非常に良好な結果である。
〇:9か所の溝が埋め込まれている。良好な結果である。
△:8か所の溝が埋め込まれている。実用上問題ない。
×:すべての溝が埋め込まれていない。実用不可。
The electronic component protective sheet with the peelable substrate is cut into a size of 10 cm × 10 cm, the releasable substrate on the first insulating resin layer side is peeled off, and the first insulating resin layer comes into contact with the electronic component 2a. It was placed on the test board as described above. After that, two types of films (TPX with a thickness of 0.05 mm (product name: Opulan X-44B) manufacturer: Mitsui Chemicals) were used as cushioning materials on the surface exposed by peeling off the peelable base material on the second insulating resin layer side. Tohcello Co., Ltd.), 2.0 mm PVC film (product name: Celebrity T maker: Okamoto)) were laminated in this order, and cardboard was further laminated to prevent sticking. From above, the substrate surface was heat-pressed at 5 MPa and 160 ° C. for 20 minutes. After hot pressing, it was cooled and the cushion material and cardboard were peeled off to prepare a sample for measurement.
The embedding property was evaluated by polishing the thickness direction of the sample for measurement, forming a cross section for observation, and observing 10 grooves between electronic components with an electron microscope. The evaluation criteria are as follows.
⊚: All grooves are embedded. Very good result.
〇: Nine grooves are embedded. Good result.
Δ: Eight grooves are embedded. There is no problem in practical use.
×: Not all grooves are embedded. Not practical.

Figure 2021193725
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Figure 2021193725
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Figure 2021193725
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表2〜4の結果において、本発明の電子部品保護シートは、仮張り性、リリース性、マイグレーション耐性、および埋め込み性のいずれも優れていた。
これにより、複雑な形状凹凸を有する小型の基板にも適用が可能な電子部品保護シートであることが確認できた。
In the results shown in Tables 2 to 4, the electronic component protective sheet of the present invention was excellent in all of temporary tensioning property, release property, migration resistance, and embedding property.
As a result, it was confirmed that the electronic component protection sheet can be applied to a small substrate having complicated shape irregularities.

1 基板
2 電子部品
3 半田
4 電子部品搭載基板
10 電子部品保護シート
10’ 電子部品保護シートの硬化物
11 第1の絶縁性樹脂層
12 第2の絶縁性樹脂層
13 クッション材
14 従来の電子部品保護シート
15 被覆保護層
20 加熱圧着装置
100 ポリイミドフィルム
200、300 櫛型導体パターン
200’、300’ 電極
1 Board 2 Electronic components 3 Solder 4 Electronic component mounting board 10 Electronic component protective sheet 10'Cured product of electronic component protective sheet 11 First insulating resin layer 12 Second insulating resin layer 13 Cushion material 14 Conventional electronic components Protective sheet 15 Covering protective layer 20 Heat crimping device 100 Polyimide film 200, 300 Comb-shaped conductor pattern 200', 300' Electrodes

Claims (10)

基板上に実装された高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群を、被覆保護するための電子部品保護シートであって、
電子部品保護シートが、熱硬化性樹脂を含む絶縁性樹脂層を有し、
電子部品群と接する面のプローブタック試験による粘着力が0.3〜5Nであり、
反対の面のプローブタック試験による粘着力が1N以下であって、
電子部品群と接する面のプローブタック試験による粘着力が反対の面のプローブタックよりも大きいことを特徴とする電子部品保護シート。
An electronic component protection sheet for covering and protecting a group of electronic components composed of a plurality of electronic components having different heights mounted on a substrate.
The electronic component protective sheet has an insulating resin layer containing a thermosetting resin, and has an insulating resin layer.
The adhesive strength of the surface in contact with the electronic component group by the probe tack test is 0.3 to 5N.
Adhesive strength by probe tack test on the opposite side is 1N or less,
An electronic component protection sheet characterized in that the adhesive force of the surface in contact with the electronic component group in the probe tack test is larger than that of the probe tack on the opposite surface.
前記電子部品保護シートが、
電子部品群と接する第1の絶縁性樹脂層と、
電子部品群から最も遠くに位置する第2の絶縁性樹脂層とを有し、
第1の絶縁性樹脂層の23℃におけるヤング率が5MPa〜200MPaであり、
第2の絶縁性樹脂層の23℃におけるヤング率が30MPa〜1000MPaであり、
第2の絶縁性樹脂層の23℃におけるヤング率が、第1の絶縁性樹脂層の23℃におけるヤング率よりも8MPa以上高いことを特徴とする電子部品保護シート。
The electronic component protection sheet
The first insulating resin layer in contact with the electronic component group,
It has a second insulating resin layer located farthest from the electronic component group, and has.
The Young's modulus of the first insulating resin layer at 23 ° C. is 5 MPa to 200 MPa.
The Young's modulus of the second insulating resin layer at 23 ° C. is 30 MPa to 1000 MPa.
An electronic component protective sheet characterized in that the Young's modulus of the second insulating resin layer at 23 ° C. is higher than the Young's modulus of the first insulating resin layer at 23 ° C. by 8 MPa or more.
第1の絶縁性樹脂層は、23℃の貯蔵弾性率が1.0+E04Pa〜5.0+E08Paであり、
第2の絶縁性樹脂層は、23℃の貯蔵弾性率が1.0+E06Pa〜5.0+E09Paであり、
23℃の貯蔵弾性率は第1の絶縁性樹脂層よりも第2の絶縁性樹脂層が高いことを特徴とする請求項1記載の電子部品保護シート。
The first insulating resin layer has a storage elastic modulus of 1.0 + E04Pa to 5.0 + E08Pa at 23 ° C.
The second insulating resin layer has a storage elastic modulus of 1.0 + E06Pa to 5.0 + E09Pa at 23 ° C.
The electronic component protective sheet according to claim 1, wherein the second insulating resin layer has a higher storage elastic modulus at 23 ° C. than the first insulating resin layer.
第1の絶縁性樹脂層、および第2の絶縁性樹脂層が、それぞれ無機フィラーを含むことを特徴とする請求項1から2に記載の電子部品保護シート。 The electronic component protection sheet according to claim 1 or 2, wherein the first insulating resin layer and the second insulating resin layer each contain an inorganic filler. 前記無機フィラーが、シリカ、タルクおよびイオン捕集剤からなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項4記載の電子部品保護シート。 The electronic component protection sheet according to claim 4, wherein the inorganic filler is at least one selected from the group consisting of silica, talc, and an ion collecting agent. 第1の絶縁性樹脂層はシリカを5〜20質量%含み、第2の絶縁性樹脂層はシリカを5〜40質量%含むことを特徴とする請求項5記載の電子部品保護シート。 The electronic component protection sheet according to claim 5, wherein the first insulating resin layer contains 5 to 20% by mass of silica, and the second insulating resin layer contains 5 to 40% by mass of silica. 第1の絶縁性樹脂層、および第2の絶縁性樹脂層が、それぞれシリカ又はタルクを含み、第1の絶縁性樹脂層、または前記第2の絶縁性樹脂層の少なくともいずれか一方がイオン捕集剤を含むことを特徴とする請求項5記載の電子部品保護シート。 The first insulating resin layer and the second insulating resin layer each contain silica or talc, and at least one of the first insulating resin layer and the second insulating resin layer captures ions. The electronic component protection sheet according to claim 5, which comprises a collecting agent. 基板上に実装された高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群が、請求項1〜7いずれか1項に記載の電子部品保護シートの硬化物で被覆された電子部品搭載基板。 An electronic component mounting substrate in which an electronic component group composed of a plurality of electronic components having different heights mounted on a substrate is covered with a cured product of the electronic component protective sheet according to any one of claims 1 to 7. 高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群を基板上に実装する工程、
請求項1〜7記載の電子部品保護シートを用意する工程、
電子部品群のうち、最も高さの高い電子部品と、電子部品保護シートにおける第1の絶縁性樹脂層とが接するように電子部品保護シートを載置する工程、
加熱加圧により電子部品保護シートを個々の電子部品の形状に沿うように変形させ、電子部品群および基板の少なくとも一部を被覆する工程、
および
変形した電子部品保護シートを変形した状態で熱硬化させ被覆保護層を形成する工程を含む、
電子部品群搭載基板の被覆保護方法。
The process of mounting an electronic component group consisting of multiple electronic components with different heights on a board,
The process of preparing the electronic component protection sheet according to claims 1 to 7.
A process of placing an electronic component protective sheet so that the tallest electronic component in the electronic component group and the first insulating resin layer in the electronic component protective sheet are in contact with each other.
A process of deforming an electronic component protective sheet to follow the shape of each electronic component by heating and pressurizing, and covering at least a part of the electronic component group and the substrate.
And, including the step of thermally curing the deformed electronic component protective sheet in a deformed state to form a covering protective layer.
How to protect the coating of the electronic component group mounting board.
高さの異なる複数の電子部品からなる電子部品群を基板上に実装する工程、
請求項1〜7記載の電子部品保護シートを用意する工程、
電子部品群のうち、最も高さの高い電子部品と、電子部品保護シートにおける第1の絶縁性樹脂層とが接するように電子部品保護シートを載置する工程、
加熱加圧により前記電子部品保護シートを個々の電子部品の形状に沿うように変形させ、電子部品群および基板の少なくとも一部を被覆する工程、
および
変形した電子部品保護シートを変形した状態で熱硬化させ被覆保護層を形成する工程を含む、
被覆保護層付き電子部品群搭載基板の製造方法。
The process of mounting an electronic component group consisting of multiple electronic components with different heights on a board,
The process of preparing the electronic component protection sheet according to claims 1 to 7.
A process of placing an electronic component protective sheet so that the tallest electronic component in the electronic component group and the first insulating resin layer in the electronic component protective sheet are in contact with each other.
A step of deforming the electronic component protective sheet so as to follow the shape of each electronic component by heating and pressurizing, and covering at least a part of the electronic component group and the substrate.
And, including the step of thermally curing the deformed electronic component protective sheet in a deformed state to form a covering protective layer.
A method for manufacturing a board for mounting an electronic component group with a protective layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2024032931A1 (en) * 2022-08-10 2024-02-15 H. K. Wentworth Limited Method of forming an electronic assembly having a conformal coating, electronic assembly and film precursor to conformal coating
JP7460013B1 (en) 2023-11-30 2024-04-02 artience株式会社 Electronic component mounting boards and electronic devices

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