KR20170017719A - Method of producing heat-radiation insulating sheet, heat-radiation insulating sheet and heat spreader - Google Patents

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KR20170017719A
KR20170017719A KR1020160089663A KR20160089663A KR20170017719A KR 20170017719 A KR20170017719 A KR 20170017719A KR 1020160089663 A KR1020160089663 A KR 1020160089663A KR 20160089663 A KR20160089663 A KR 20160089663A KR 20170017719 A KR20170017719 A KR 20170017719A
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insulating
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KR1020160089663A
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겐이치 나카니시
다츠히로 이케야
요시카즈 아라이
Original Assignee
쇼와 덴코 가부시키가이샤
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Abstract

According to an embodiment of the present invention, a method for producing a heat-radiation insulating sheet comprises: a first process of preparing a laminate in which a heat-radiation layer containing a heat-radiation filler and a binder is formed on a first principal plane of a metal layer; a second process of applying a curable resin composition on the surface of the heat-radiation layer of the laminate, curing the same and forming an insulating layer; and a third process of forming an adhesive layer on a second principal plane facing the first principal plane of the metal layer. According to the present invention, heat generated from electronic components or the like can be effectively diffused and radiated.

Description

절연 방열 시트의 제조 방법, 절연 방열 시트 및 히트 스프레더{METHOD OF PRODUCING HEAT-RADIATION INSULATING SHEET, HEAT-RADIATION INSULATING SHEET AND HEAT SPREADER}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a heat-dissipating sheet, a heat-dissipating sheet, and a heat spreader,

본 발명은 절연 방열 시트의 제조 방법, 절연 방열 시트 및 히트 스프레더에 관한 것이다. 본원은, 2015년 8월 7일에, 일본에 출원된 일본 특허 출원 제2015-157203에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.The present invention relates to a method of manufacturing an insulating sheet, an insulating sheet and a heat spreader. The present application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2015-157203 filed on August 7, 2015, the contents of which are incorporated herein by reference.

최근 들어, 반도체 칩, 트랜지스터, 콘덴서, 커패시터 등의 전자 부품, 전지(배터리) 등의 전기 부품의 더욱 고성능화가 진행되고 있다. 그것에 수반하여, 전자 부품이나 전기 부품의 발열량이 증대하고 있다. 전자 부품이나 전기 부품이 고온이 되면, 수명이 짧아지거나, 신뢰성이 저하되거나 하는 경우가 있다.2. Description of the Related Art In recent years, electronic components such as semiconductor chips, transistors, capacitors, and capacitors, and electric components such as batteries (batteries) have been made more sophisticated. Along with this, the amount of heat generated by electronic parts and electric parts is increasing. When the temperature of an electronic part or an electric part becomes high, the life may be shortened or the reliability may be deteriorated.

이 때문에, 종래, 전자 부품이나 전기 부품에는, 이것들이 발생하는 열을 방산시키는 히트 싱크나 히트 스프레더가 설치되고 있다. 히트 스프레더로서는, 알루미늄박이나 구리박 등의 열전도성을 갖는 금속박에 점착 테이프를 붙인 것 등이 많이 사용되고 있다.For this reason, conventionally, electronic parts and electric parts are provided with a heat sink or a heat spreader for dissipating the heat generated by these parts. As the heat spreader, an adhesive tape is attached to a metal foil having thermal conductivity such as an aluminum foil or a copper foil.

예를 들어, 특허문헌 1에는, 점착제층과, 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 층 상에 열방사층을 형성한 열방사 시트를 적층한 제열용 방열 시트가 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a heat-releasing sheet for heat treatment in which a pressure-sensitive adhesive layer and a heat-radiation sheet having a heat radiation layer formed on a layer containing aluminum or an aluminum alloy are laminated.

일본 특허 공개 제2005-101025호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-101025

그러나, 특허문헌 1에 개시되어 있는 열방사층은, 알루미늄 또는 알루미늄 합금에 알루미나를 도장한 것이기 때문에, 충격이나 변형에 의해 알루미나층에 결손이 발생하는 경우가 있다. 이 알루미나층의 결손 등에 수반하여, 충분한 절연성을 확보할 수 없어, 절연성을 필요로 하는 장소에의 사용은 곤란하였다.However, since the heat radiation layer disclosed in Patent Document 1 is made of aluminum or an aluminum alloy coated with alumina, defects may be generated in the alumina layer due to impact or deformation. As the alumina layer is deficient, sufficient insulating property can not be ensured and it is difficult to use in places where insulation is required.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 전자 부품 등의 발열체에 용이하게 접합되고, 또한 전자 부품 등에서 발생하는 열을 효율적으로 확산, 방열할 수 있는 절연 방열 시트의 제조 방법을 제공하는 것, 특히, 각종 전자 부품의 소형 경량화 및 박형화에도 대응할 수 있는 절연 방열 시트를 제공하는 것을 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an insulating sheet which can be easily bonded to a heating element such as an electronic part, Heat insulating sheet capable of coping with miniaturization and weight reduction and thinning of various electronic parts.

열방사층 상에 수지를 포함하는 절연층을 형성하는 것은, 열방사를 저해할 우려가 있어, 당업자의 통상 기술 상식으로는 행하여지지 않는 것이다. 그로 인해, 당업자 사이에서는, 열방사층 상에 층을 형성하는 것은 기피되고 있었다.Formation of an insulating layer containing a resin on the heat radiation layer may inhibit heat radiation and is not performed in the ordinary skill of the art. As a result, among those skilled in the art, the formation of a layer on the heat radiation layer has been avoided.

그러나 발명자들은, 예의 검토한 결과, 열방사층 상에 도포에 의해 균일한 얇은 절연층을 형성함으로써, 박막의 열확산성을 크게 저하시키지 않고 절연성을 확보할 수 있다는 것을 알아냈다.However, as a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that insulating properties can be secured without significantly lowering the thermal diffusibility of the thin film by forming a thin insulating layer uniform on the heat radiation layer by coating.

또한 소정의 점착층을 더 구비함으로써 발열체에의 접합성과, 열방사층에의 열전도성을 모두 구비할 수 있음을 알아냈다.Further, it has been found that it is possible to provide both a bonding property to a heating element and a thermal conductivity to a heat radiation layer by further providing a predetermined adhesive layer.

즉, 본 발명은 이하에 나타내는 구성을 구비하는 것이다.That is, the present invention has the following constitution.

(1) 본 발명의 일 형태에 관한 절연 방열 시트의 제조 방법은, 열방사 필러 및 바인더를 함유하는 열방사층을 금속층의 제1 주면측에 구비한 적층체를 준비하는 제1 공정과, 상기 적층체의 상기 열방사층측의 면에 경화성 수지 조성물을 도포, 경화하여, 절연층을 형성하는 제2 공정과, 상기 금속층의 상기 제1 주면과 반대인 제2 주면에 점착층을 형성하는 제3 공정을 갖는다.(1) A method of manufacturing an insulating sheet according to an aspect of the present invention includes a first step of preparing a laminate having a heat radiation layer containing a heat radiation filler and a binder on a first main surface side of a metal layer, A second step of coating and curing a curable resin composition on the side of the heat radiation layer side of the sieve to form an insulating layer and a third step of forming an adhesive layer on a second main surface opposite to the first main surface of the metal layer Respectively.

(2) 상기 (1)에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서, 상기 경화성 수지 조성물이, 복수의 수산기를 함유하는 수지와 폴리이소시아네이트 화합물을 포함하는 경화성 수지 조성물, 불포화기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물, 및 가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물로 이루어지는 군 중 어느 하나여도 된다.(2) The method for producing an insulating sheet according to (1), wherein the curable resin composition comprises a curable resin composition comprising a resin containing a plurality of hydroxyl groups and a polyisocyanate compound, and a resin containing an unsaturated group A curable resin composition, and a curable resin composition comprising a resin containing a hydrolyzable silyl group and an isocyanato group.

(3) 상기 (2)에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서, 상기 수산기를 함유하는 수지가, 수산기를 함유하는 아크릴 수지, 수산기를 함유하는 폴리에스테르 수지, 및 수산기를 함유하는 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이어도 된다.(3) The method for producing an insulating sheet according to (2), wherein the resin containing a hydroxyl group is selected from the group consisting of an acrylic resin containing a hydroxyl group, a polyester resin containing a hydroxyl group, and a polyurethane resin containing a hydroxyl group Or one or more selected from the group consisting of

(4) 상기 (2)에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서, 상기 불포화기를 함유하는 수지가, 불포화기를 갖는 아크릴 수지, 불포화기를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지, 및 불포화기를 갖는 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이어도 된다.(4) The method for producing an insulating sheet according to (2), wherein the unsaturated group-containing resin is an acrylic resin having an unsaturated group, an epoxy (meth) acrylate resin having an unsaturated group, and a polyurethane resin having an unsaturated group May be at least one selected from the group consisting of

(5) 상기 (2)에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서, 상기 가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 수지가, 가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 아크릴 수지여도 된다.(5) In the method for producing an insulating sheet according to (2), the resin containing the hydrolyzable silyl group and the isocyanato group may be an acrylic resin containing a hydrolyzable silyl group and an isocyanato group.

(6) 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서의 상기 제2 공정에 있어서, 상기 절연층의 평균 두께를 0.1 내지 10㎛로 해도 된다.(6) In the second step of the method for producing an insulating sheet according to any one of (1) to (5), the average thickness of the insulating layer may be 0.1 to 10 탆.

(7) 상기 (6)에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서의 상기 제2 공정에 있어서, 상기 절연층의 평균 두께를 0.1㎛ 이상 5㎛ 미만으로 해도 된다.(7) In the second step of the method for producing an insulating sheet according to (6), the average thickness of the insulating layer may be 0.1 m or more and less than 5 m.

(8) 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서의 상기 제3 공정에 있어서, 상기 점착층의 평균 두께를 5 내지 50㎛로 해도 된다.(8) In the third step of the method for producing an insulating sheet according to any one of (1) to (5), the average thickness of the adhesive layer may be 5 to 50 탆.

(9) 상기 (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서의 상기 제1 공정에 있어서, 상기 열방사층의 평균 두께를 0.1 내지 5㎛로 해도 된다.(9) In the first step of the method for producing an insulating sheet according to any one of (1) to (8), the average thickness of the heat radiation layer may be 0.1 to 5 탆.

(10) 상기 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서의 상기 제1 공정에 있어서, 상기 금속층의 평균 두께를 3 내지 100㎛로 해도 된다.(10) In the first step of the method for producing an insulating sheet according to any one of (1) to (9), the metal layer may have an average thickness of 3 to 100 탆.

(11) 상기 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 절연 방열 시트의 제조 방법에 있어서, 상기 점착층의 금속층과 반대측의 면에 박리 시트를 더 적층하는 제4 공정을 포함해도 된다.(11) The method for producing an insulating sheet according to any one of (1) to (10), may further comprise a fourth step of further laminating a release sheet on a surface of the adhesive layer opposite to the metal layer.

(12) 본 발명의 일 형태에 관한 절연 방열 시트는, 평균 두께가 0.1㎛ 이상 5㎛ 미만이고, 경화성 수지 조성물이 경화물을 포함하는 절연층, 열방사 필러 및 바인더를 함유하는 열방사층, 금속층, 및 점착층이, 이 순서로 적층되어 있다.(12) The heat-insulating sheet according to one aspect of the present invention is characterized in that the heat-insulating sheet has an average thickness of at least 0.1 m and less than 5 m and the curable resin composition comprises an insulating layer containing a cured product, a heat radiation layer containing a heat radiation filler and a binder, , And an adhesive layer are stacked in this order.

(13) 상기 (12)에 기재된 절연 방열 시트에 있어서, 상기 절연층의 표면 저항률이 1.0×109Ω/□ 이상이어도 된다.(13) In the heat-radiating sheet according to (12), the surface resistivity of the insulating layer may be 1.0 × 10 9 Ω / □ or higher.

(14) 본 발명의 일 형태에 관한 히트 스프레더는, 상기 (12) 또는 (13) 중 어느 하나에 기재된 절연 방열 시트를 포함한다.(14) A heat spreader according to one aspect of the present invention includes the heat-radiating sheet according to any one of (12) and (13).

본 발명의 일 형태에 따른 제조 방법에 의해 제조된 절연 방열 시트는, 양호한 전기 절연성을 가짐과 함께, 전자 부품 등의 발열체에 용이하게 접합되고, 또한 전자 부품 등에서 발생하는 열을 효율적으로 확산, 방열할 수 있다.The heat-radiating sheet produced by the manufacturing method according to an embodiment of the present invention has good electrical insulation and is easily bonded to a heat-generating body such as an electronic part and is capable of efficiently diffusing heat generated in electronic parts, can do.

도 1은 본 발명의 일 형태에 따른 절연 방열 시트의 단면을 모식적으로 도시한 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross section of an insulating sheet according to an embodiment of the present invention; FIG.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서, 도면을 사용하여 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지 및 그 범위로부터 일탈하지 않고, 그 형태 및 상세를 다양하게 변경할 수 있는 것은 당업자라면 용이하게 이해된다. 따라서, 본 발명은 이하에 기재하는 실시 형태의 기재 내용에 한정하여 해석되는 것은 아니다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and it is easily understood by those skilled in the art that various changes can be made in form and details without departing from the spirit and scope of the present invention. Accordingly, the present invention is not construed as being limited to the description of the embodiments described below.

도 1은, 본 발명의 일 형태에 따른 절연 방열 시트의 단면을 모식적으로 도시한 도면이다. 도 1에 도시하는 절연 방열 시트(10)는, 절연층(1)과, 열방사 필러 및 바인더를 함유하는 열방사층(2)과, 금속층(3)과, 점착층(4)을 순서대로 갖는다. 절연 방열 시트(10)의 사용 전에는 필요에 따라서 또한 점착층(4)의 노출면에 박리 시트(5)를 적층해도 된다. 또한 각 층의 사이에는, 기타의 층을 갖고 있어도 된다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross section of an insulating sheet according to an embodiment of the present invention; FIG. The insulating sheet 10 shown in Fig. 1 has an insulating layer 1, a heat radiation layer 2 containing a heat radiation filler and a binder, a metal layer 3 and an adhesive layer 4 in this order . Prior to use of the heat-radiating sheet 10, the release sheet 5 may be laminated on the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer 4, if necessary. In addition, another layer may be provided between the layers.

이하, 절연 방열 시트(10)를 기초로, 절연 방열 시트의 제조 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the heat-radiating sheet based on the heat-radiating sheet 10 will be described.

본 발명의 일 형태에 관한 절연 방열 시트의 제조 방법은, 열방사 필러 및 바인더를 함유하는 열방사층을 금속층의 제1 주면측에 구비한 적층체를 준비하는 제1 공정과, 적층체의 열방사층측의 면에 경화성 수지 조성물을 도포하여, 절연층을 형성하는 제2 공정과, 금속층의 제1 주면과 반대인 제2 주면에 점착층을 형성하는 제3 공정을 갖는다.A method of manufacturing an insulating sheet according to an aspect of the present invention includes a first step of preparing a laminate having a heat radiation layer containing a heat radiation filler and a binder on a first main surface side of a metal layer, A second step of applying a curable resin composition on the layer side surface to form an insulating layer and a third step of forming an adhesive layer on a second main surface opposite to the first main surface of the metal layer.

<제1 공정><First Step>

먼저, 금속층(3)의 제1 주면에 열방사층(2)을 구비한 적층체를 준비한다.First, a laminate having a heat radiation layer (2) on a first main surface of a metal layer (3) is prepared.

예를 들어, 열방사층(2)을 구성하는 열방사 필러 및 바인더를 포함하는 조성물을, 금속층(3)의 제1 주면에 도포, 경화한다. 이에 의해, 금속층(3)의 제1 주면에 열방사층(2)을 구비한 적층체가 형성된다.For example, a composition including a heat radiation filler and a binder constituting the heat radiation layer 2 is applied to the first main surface of the metal layer 3 and cured. Thus, a laminate having the heat radiation layer 2 is formed on the first main surface of the metal layer 3.

열방사 필러 및 바인더의 조성물은, 필요에 따라 용제로 희석하고 나서 도포, 건조, 또한 경화시켜서 열방사층(2)을 형성해도 된다.The composition of the heat radiation filler and the binder may be diluted with a solvent as required and then coated, dried and cured to form the heat radiation layer (2).

열방사 필러 및 바인더를 포함하는 조성물의 도포 방법으로서는, 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있는 도포 방법이 바람직하다.As a coating method of the composition including the heat radiation filler and the binder, a coating method capable of forming a thin film having a uniform thickness is preferable.

열방사층의 평균 두께로서는, 0.1 내지 5㎛인 것이 바람직하고, 0.5 내지 3㎛인 것이 보다 바람직하다. 열방사층의 평균 두께가 0.1 내지 5㎛라면, 열방사층 내의 열방사 필러량을 충분히 확보할 수 있어, 충분한 방열성을 얻을 수 있다.The average thickness of the heat radiation layer is preferably 0.1 to 5 占 퐉, more preferably 0.5 to 3 占 퐉. If the average thickness of the heat radiation layer is 0.1 to 5 占 퐉, the amount of heat radiation filler in the heat radiation layer can be sufficiently secured, and sufficient heat radiation property can be obtained.

여기서, 「평균 두께」란, 절연 방열 시트(10)의 단면을 관찰하여, 무작위로 선택한 10군데의 두께를 측정하고, 그 산술 평균값으로서 얻어진 값을 가리킨다. 두께의 측정은, 예를 들어 전자 마이크로미터(가부시키가이샤 세이코 EM사 제조의 밀리트론 1240)에 의해 행할 수 있다. 이하, 절연 방열 시트를 구성하는 각 층의 평균 두께에 대해서도 동일한 수단으로 측정할 수 있다.Here, the &quot; average thickness &quot; refers to a value obtained as an arithmetic mean value by measuring the thickness of 10 randomly selected sheets by observing the cross section of the insulating sheet 10. The thickness can be measured by, for example, an electron micrometer (Millitron 1240 manufactured by Seiko EM Limited). Hereinafter, the average thickness of each layer constituting the heat-radiating sheet can be measured by the same means.

상기 적층체는, 상술한 바와 같이 도포에 의해 열방사층을 형성하는 방법 이외의 방법으로 준비해도 된다. 예를 들어, 미리 열방사 필러 및 바인더를 함유하는 조성물 시트를 형성해 두고, 그 조성물 시트를 금속층의 제1 주면에 접합, 경화해도 된다. 또한, 열방사 필러 및 바인더를 함유하는 열방사층이 금속층의 편면에 형성되어 있는 시판품을 그대로 사용해도 된다.The laminate may be prepared by a method other than the method of forming a heat radiation layer by coating as described above. For example, a composition sheet containing a heat radiation filler and a binder may be formed in advance, and the composition sheet may be bonded to the first main surface of the metal layer and cured. A commercially available product in which a heat radiation layer containing a heat radiation filler and a binder is formed on one side of the metal layer may be used as it is.

금속층(3)으로서는, 금, 은, 구리, 철, 니켈, 알루미늄 및 그들 금속을 포함하는 합금 등을 사용할 수 있다. 열전도율이 높은 금속인 것이 바람직하고, 저가격이나 가공 용이성의 관점에서는, 금속층(3)으로서 구리, 알루미늄 및 그들 금속을 포함하는 합금을 사용하는 것이 바람직하다.As the metal layer 3, gold, silver, copper, iron, nickel, aluminum, an alloy including those metals, or the like can be used. It is preferable that the metal is a metal having a high thermal conductivity. From the viewpoints of low cost and easiness of processing, it is preferable to use copper, aluminum, and alloys containing those metals as the metal layer 3.

금속층(3)의 평균 두께는, 3 내지 100㎛인 것이 바람직하고, 5 내지 80㎛인 것이 보다 바람직하다. 금속층(3)의 평균 두께가 3㎛ 이상이면 열방사성이 우수한 절연 방열 시트(10)가 얻어짐과 함께, 절연 방열 시트(10)를 제조하는 공정에서의 금속층(3)의 왜곡이나 변형이 적은 것이 된다. 금속층(3)의 평균 두께가 100㎛ 이하이면, 발열체에 절연 방열 시트(10)를 접합할 때의, 절연 방열 시트(10)의 발열체에 대한 형상 추종성을 충분히 확보할 수 있다. 따라서, 발열체의 표면이 곡면일 경우에도, 발열체와 절연 방열 시트(10)의 접촉 면적을 충분히 확보할 수 있기 때문에, 발열체의 열을 효율적으로 방열할 수 있다.The average thickness of the metal layer 3 is preferably 3 to 100 占 퐉, more preferably 5 to 80 占 퐉. When the average thickness of the metal layer 3 is 3 탆 or more, the heat-radiating sheet 10 having excellent heat radiation properties can be obtained and the metal layer 3 can be prevented from being distorted or deformed in the step of producing the heat- . When the average thickness of the metal layer 3 is 100 탆 or less, the shape conformability of the heat-radiating sheet 10 to the heat-generating body 10 when the heat-radiating sheet 10 is bonded to the heat-generating body can be sufficiently secured. Therefore, even when the surface of the heat generating element is a curved surface, the contact area between the heat generating element and the insulating sheet 10 can be sufficiently secured, so that the heat of the heat generating element can be efficiently dissipated.

열방사층(2)은, 열방사 필러 및 바인더를 함유한다.The heat radiation layer (2) contains a heat radiation filler and a binder.

열방사층(2)에 사용되는 열방사 필러는, 방사율 0.8 이상이라면 금속, 비금속에 관계 없이 특별히 한정되지 않는다. 고열방사율 및 저비용의 관점에서는, 탄소질 재료가 바람직하다. 탄소질 재료로서는, 아세틸렌 블랙, 케첸 블랙 등의 카본 블랙, 흑연, 기상법 탄소 섬유 등을 들 수 있고, 이들 중에서 1종 또는 2종 이상을 선택하여 사용해도 된다. 열방사 필러의 입자 직경은, 누적 질량 50% 입자 직경(D50)이 0.1 내지 2.0㎛인 것이 바람직하고, 0.2 내지 1㎛인 것이 보다 바람직하다. 누적 질량 50% 입자 직경(D50)이 0.1 내지 2.0㎛이면 평활성이 높은 열방사층을 얻을 수 있다.The heat radiation filler used for the heat radiation layer 2 is not particularly limited, irrespective of the metal and the base metal, if the emissivity is 0.8 or more. From the viewpoint of high heat emissivity and low cost, a carbonaceous material is preferable. Examples of the carbonaceous material include carbon black such as acetylene black and ketjen black, graphite, vapor-grown carbon fiber and the like, and one or more of these may be selected and used. The particle diameter of the heat radiation filler preferably has a cumulative mass 50% particle diameter (D50) of 0.1 to 2.0 탆, more preferably 0.2 to 1 탆. When the cumulative mass 50% particle diameter (D50) is in the range of 0.1 to 2.0 占 퐉, a highly smooth heat radiation layer can be obtained.

열방사층(2)에 사용되는 바인더로서는, 열방사 필러를 결착할 수 있는 재료이기만 하면 특별히 한정되지 않는다. 열방사 필러의 결착성, 열방사 필러 및 바인더의 조성물 도포 시공성, 및 열방사층(2)으로서의 피막 성능의 관점에서, 바인더로서는, 열경화성, 또는 광경화성의 수지가 바람직하다. 열경화성 수지로서는, 예를 들어, 에폭시계 수지, 옥세탄계 수지, 폴리실록산계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 비닐에스테르계 수지, 페놀계 수지, 노볼락계 수지, 아미노계 수지, 및 가교성 관능기를 갖는 (메트)아크릴계 수지, 고분자 다당류 등을 사용할 수 있다. 광경화성 수지로서는, 예를 들어, 에폭시계 수지, 옥세탄계 수지, 비닐에테르계 수지, 폴리실록산계 수지, 비닐에스테르계 수지 및 (메트)아크릴계 수지 등을 사용할 수 있다.The binder used for the heat radiation layer 2 is not particularly limited as long as it is a material capable of binding a heat radiation filler. From the viewpoint of the binding property of the heat radiation filler, the coating composition performance of the heat radiation filler and the binder, and the coating performance as the heat radiation layer (2), the binder is preferably a thermosetting or photocurable resin. As the thermosetting resin, for example, an epoxy resin, an oxetane resin, a polysiloxane resin, an unsaturated polyester resin, a vinyl ester resin, a phenol resin, a novolak resin, an amino resin, (Meth) acrylic resins, and polymeric polysaccharides. As the photo-curable resin, for example, an epoxy resin, an oxetane resin, a vinyl ether resin, a polysiloxane resin, a vinyl ester resin and a (meth) acrylic resin can be used.

바인더로서 사용되는 경화성 수지로서는, 내구성, 밀착성의 점에서 열경화의 에폭시계 수지, 또는 고분자 다당류가 바람직하고, 이들을 산 가교제로 가교하고 경화하여 사용하는 것이 바람직하다.As the curable resin to be used as the binder, an epoxy resin or a thermosetting epoxy resin or a high-molecular polysaccharide is preferable from the viewpoints of durability and adhesiveness, and it is preferable to use them by crosslinking and curing them with an acid crosslinking agent.

에폭시계 수지로서는, 비스페놀 A의 디글리시딜에테르, 비스페놀 F의 디글리시딜에테르, 비페놀의 디글리시딜에테르 등을 예시할 수 있고, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 고분자 다당류로서는, 키토산, 키틴 및 그의 유도체로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin include diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol F, diglycidyl ether of biphenol, and the like, and one or more of them can be used. As the polymer polysaccharide, there may be mentioned one kind or two or more kinds selected from chitosan, chitin and derivatives thereof.

산 가교제로서는, 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 테트라히드로 무수 프탈산, 무수 피로멜리트산, 무수 도데실숙신산, 무수 메틸나드산, 무수 벤조페논테트라카르복실산, 무수 부탄테트라카르복실산 등의 산 무수물을 들 수 있고, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.Examples of the acid crosslinking agent include phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, dodecylsuccinic anhydride, methylnadic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride , And anhydrous butane tetracarboxylic acid, and one or more of them can be used.

열방사층(2)에 있어서의 열방사 필러의 함유량은, 바람직하게는 20 내지 50질량%, 보다 바람직하게는 30 내지 40질량%이다. 이 범위 내인 것에 의해 열방사 필러 단체의 열방사율에 근접하여, 방열성을 향상시키는 장점이 있다. 열방사층(2)에 있어서의 바인더의 함유량은, 바람직하게는 50 내지 80질량%, 보다 바람직하게는 60 내지 70질량%이다. 이 범위 내인 것에 의해 열방사 필러를 기재 상에 담지하는 장점이 있다.The content of the heat radiation filler in the heat radiation layer (2) is preferably 20 to 50 mass%, more preferably 30 to 40 mass%. Within this range, there is an advantage in that the heat radiation property is improved by being close to the thermal emissivity of the heat radiating filler. The content of the binder in the heat radiation layer (2) is preferably 50 to 80 mass%, more preferably 60 to 70 mass%. Within this range, there is an advantage that the heat radiation filler is supported on the substrate.

<제2 공정>&Lt; Second Step &

제2 공정에서는, 적층체의 열방사층(2)측의 면에 경화성 수지 조성물을 도포, 경화하여, 절연층(1)을 형성한다. 절연층(1)은, 도포에 의해 형성됨으로써, 얇은 막이어도 충분히 적용 가능한 레벨의 절연성을 나타낼 수 있다. 절연성의 관점에서는 절연층의 두께는 두꺼운 쪽이 양호하지만, 방열성의 관점에서는 절연층의 두께는 얇은 편이 바람직하다. 두께가 얇은 균일한 절연층을 형성하기 위해서는 경화성 수지 조성물을 도포함으로써 형성하는 것이 최적이다.In the second step, the curable resin composition is applied to the surface of the laminate on the side of the heat radiation layer (2) and cured to form the insulating layer (1). The insulating layer 1 is formed by coating so that even a thin film can exhibit a sufficient level of insulating property. From the viewpoint of insulation, the thickness of the insulating layer is preferably good, but the thickness of the insulating layer is preferably thin from the viewpoint of heat dissipation. In order to form a uniform insulating layer having a small thickness, it is optimal to form the insulating layer by applying a curable resin composition.

시판하고 있는 절연 필름에는 두께가 10㎛ 이하인 얇은 것도 있지만, 이러한 절연 필름을 열방사층(2)에 부착하기 위해서는 접착층이 필요해지고, 그만큼 두께가 두꺼워진다. 또한, 두께가 얇은 절연 필름을 균일하게 주름의 발생이나 기포의 혼입 등 없이 열방사층(2)의 표면에 부착하는 것은 어렵다. 즉, 도포 이외의 방법으로 균일한 평균 두께가 10㎛ 이하인 얇은 절연층을 형성하는 것은 극히 곤란해서, 균일한 평균 두께가 5㎛ 미만인 얇은 절연층을 형성할 수는 없다.Some commercially available insulating films have a thickness of 10 탆 or less. However, in order to adhere such insulating films to the heat radiation layer 2, an adhesive layer is required and the thickness becomes thicker. Further, it is difficult to adhere the thin insulating film uniformly to the surface of the heat radiation layer 2 without occurrence of wrinkles or mixing of bubbles. That is, it is extremely difficult to form a thin insulating layer having a uniform average thickness of 10 탆 or less by a method other than the application, and a thin insulating layer having a uniform average thickness of less than 5 탆 can not be formed.

제2 공정에 있어서 형성되는 절연층(1)의 평균 두께는, 0.1㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.5㎛ 이상인 것이 보다 바람직하고, 1㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한 절연층(1)의 평균 두께는, 10㎛ 이하인 것이 바람직하고, 8㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 5㎛ 미만인 것이 더욱 바람직하고, 4㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다.The average thickness of the insulating layer 1 formed in the second step is preferably 0.1 mu m or more, more preferably 0.5 mu m or more, and further preferably 1 mu m or more. The average thickness of the insulating layer 1 is preferably 10 占 퐉 or less, more preferably 8 占 퐉 or less, even more preferably less than 5 占 퐉, and particularly preferably 4 占 퐉 or less.

절연층(1)의 평균 두께는, 상기와 같이 방열성의 관점에서는 얇은 것이 바람직하고, 절연성의 관점에서는 두꺼운 것이 바람직하다. 절연층(1)의 평균 두께가 0.1 내지 10㎛이라면, 충분한 절연성과 높은 방열성을 유지할 수 있다. 또한 평균 두께가 5㎛ 미만인 절연층은, 도포법에 의해 비로서 얻을 수 있었던 것이며, 이 평균 두께로도 충분한 절연성을 얻을 수 있다는 것은, 본 발명자들의 검토에 의해 처음으로 알게 된 것이다.The average thickness of the insulating layer 1 is preferably thin from the viewpoint of heat dissipation as described above, and thick from the viewpoint of insulation. When the average thickness of the insulating layer 1 is 0.1 to 10 占 퐉, sufficient insulating property and high heat radiation property can be maintained. It has been found for the first time by the inventors of the present invention that an insulating layer having an average thickness of less than 5 占 퐉 can be obtained as a ratio by a coating method and that sufficient insulating property can be obtained even with this average thickness.

여기서, 충분한 절연성이란, 절연층(1)의 표면 저항값으로서, 1.0×109Ω/□ 이상임을 의미한다. 표면 저항값이 1.0×109Ω/□ 이상이면, 그 두께 방향으로도 충분한 절연성을 나타내고, 절연층(1)을 통하여 열방사층(2) 및 금속층(3)이 외부와 도통하는 것을 피할 수 있다.Here, the sufficient insulating property means that the surface resistance value of the insulating layer 1 is 1.0 x 10 9 ? /? Or more. When the surface resistance value is 1.0 x 10 &lt; 9 &gt; [Omega] / square or more, sufficient insulating property is exhibited also in the thickness direction thereof and the heat radiation layer 2 and the metal layer 3 can be prevented from being electrically conducted to the outside through the insulating layer 1 .

절연층(1)이 충분한 절연성을 가짐으로써, 전자 부품 등 중의 전기 절연성을 필요로 하는 장소에서도 사용 가능하게 된다.Since the insulating layer 1 has a sufficient insulating property, the insulating layer 1 can be used in places where electrical insulation is required in electronic parts and the like.

경화성 수지 조성물로서는, 전기 절연성을 갖고 있기만 하면 특별히 한정되지 않고 공지된 경화성 수지 조성물을 사용할 수 있다.As the curable resin composition, any known curable resin composition can be used without particular limitation as long as it has electrical insulation.

구체적으로는, 경화성의 관점에서는, 복수의 수산기를 함유하는 수지와 폴리이소시아네이트 화합물을 포함하는 경화성 수지 조성물, 불포화기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물, 및 가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물로 이루어지는 군 중 어느 하나인 것이 바람직하다.Specifically, from the viewpoint of curability, a curable resin composition comprising a resin containing a plurality of hydroxyl groups and a polyisocyanate compound, a curable resin composition containing a resin containing an unsaturated group, and a curable resin composition containing a hydrolyzable silyl group and an isocyanato group And a curable resin composition containing a resin which is capable of reacting with a curing agent.

경화성의 관점이란, 열경화나 광경화와 같은 공지된 방법으로 단시간의 경화가 가능한 것을 의미한다.The viewpoint of the curability means that it is possible to cure in a short time by a known method such as thermal curing or light curing.

이하, 이 경화성 수지 조성물에 대해서 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, this curable resin composition will be described in more detail.

(복수의 수산기를 함유하는 수지와 폴리이소시아네이트 화합물을 포함하는 경화성 수지 조성물) <수산기를 함유하는 수지>(Curable resin composition comprising a resin containing a plurality of hydroxyl groups and a polyisocyanate compound) < Resin containing a hydroxyl group >

복수의 수산기를 함유하는 수지의 베이스 수지로서는, 예를 들어, 페놀 수지, 요소 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라민 수지, 구아나민 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노 알키드 수지, 실리콘 수지, 등을 사용할 수 있고, 이들에 복수의 수산기를 도입한다.Examples of the base resin of a resin containing a plurality of hydroxyl groups include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, acrylic resin, polyester resin, polyether resin, Urethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicone resin, and the like, and a plurality of hydroxyl groups are introduced into these.

수산기를 함유하는 수지는, 수산기를 함유하는 아크릴 수지, 수산기를 함유하는 폴리에스테르 수지, 및 수산기를 함유하는 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 수지인 것이 바람직하다. 이 수지는, 경화성의 면에서 우수하다.The resin containing a hydroxyl group is preferably at least one resin selected from the group consisting of an acrylic resin containing a hydroxyl group, a polyester resin containing a hydroxyl group, and a polyurethane resin containing a hydroxyl group. This resin is excellent in curability.

또한 절연 방열 시트의 절연층(1)이 우수한 경화성을 갖고 있으면, 단시간에의 경화가 가능하게 되어 생산성이 우수한 절연 방열 시트가 된다.If the insulating layer 1 of the insulating sheet 1 has excellent curability, it is possible to cure in a short time, and an insulating sheet with excellent productivity can be obtained.

수산기를 함유하는 아크릴 수지는, 아크릴산에스테르 및/또는 메타크릴산에스테르와, 수산기를 함유하는 단량체를 공중합함으로써 얻을 수 있다. 이하, 본 명세서에 있어서 아크릴과 메타크릴을 합쳐서 (메트)아크릴, 아크릴레이트와 메타크릴레이트를 합쳐서 (메트)아크릴레이트, 아크릴로일과 메타크릴로일을 합쳐서 (메트)아크릴로일로 칭하는 경우가 있다.The acrylic resin containing a hydroxyl group can be obtained by copolymerizing an acrylic acid ester and / or a methacrylic acid ester with a monomer containing a hydroxyl group. Hereinafter, in the present specification, there is a case where acrylic acid and methacrylic acid are combined to form a (meth) acrylate by combining (meth) acrylate, acrylate and methacrylate together to form (meth) acrylate, acryloyl and methacryloyl .

수산기를 함유하는 아크릴 수지의 주골격이 되는 아크릴 수지 성분은, 아크릴산에스테르 및/또는 메타크릴산에스테르를 공중합하여 얻어지는 수지를 사용할 수 있다.As the acrylic resin component that becomes the main skeleton of the acrylic resin containing a hydroxyl group, a resin obtained by copolymerizing an acrylic acid ester and / or a methacrylic acid ester can be used.

(메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로도데실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylic esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) Acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl Hexyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and the like.

수산기를 함유하는 아크릴 수지의 공중합 성분 중에 포함되는 수산기를 함유한 단량체로서는, 예를 들어, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.Examples of the hydroxyl group-containing monomer contained in the copolymerizable component of the acrylic resin containing a hydroxyl group include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) Can be used.

수산기를 함유하는 폴리에스테르 수지로서는, 글리콜과 이염기산, 글리콜과 이염기산 무수물, 또는 글리콜과 이염기산 저급 알킬에스테르를 반응시켜서 얻어지는 폴리에스테르 수지를 예로서 들 수 있다. 반응은, 중축합, 부가 반응, 에스테르 교환 반응 중의 어느 것이어도 된다.Examples of the polyester resin containing a hydroxyl group include a polyester resin obtained by reacting glycol with dibasic acid, glycol and dibasic acid anhydride, or glycol with dibasic acid lower alkyl ester. The reaction may be any of polycondensation, addition reaction, and transesterification reaction.

이때, 글리콜의 수산기가 이염기산의 카르복실기에 대하여 과잉으로 되는 비율로 반응시킴으로써, 분자쇄 말단에 수산기를 함유하는 폴리에스테르 수지가 얻어진다.At this time, a polyester resin containing a hydroxyl group at the molecular chain end is obtained by reacting the glycol at a ratio in which the hydroxyl group of the glycol is excessive relative to the carboxyl group of the dibasic acid.

보다 구체적인 폴리에스테르 수지로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 펜탄디올, 헥산디올, 헵탄디올, 데칸디올, 시클로헥산디메탄올 등의 지방족 글리콜과, 예를 들어 숙신산, 아디프산, 세바스산, 푸마르산, 수베르산, 아젤라산, 1,10-데카메틸렌디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 헥사히드로이소프탈산, 헥사히드로테레프탈산, 헥사히드로프탈산, 테트라히드로프탈산 등의 지방족 이염기산 및 그의 무수물을 반응시킨 지방족 폴리에스테르 수지, 및 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올 등의 지방족 글리콜과, 예를 들어 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 4,4'-비페닐디카르복실산, 디페닐메탄-4,4'-디카르복실산 및 그의 무수물 등의 방향족 이염기산을 반응시킨 방향족 폴리에스테르 수지를 들 수 있다.More specific examples of the polyester resin include aliphatic glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, pentanediol, hexanediol, heptanediol, decanediol, cyclohexanedimethanol and the like, and aliphatic glycols such as succinic acid, adipic acid, Aliphatic dibasic acids such as succinic acid, fumaric acid, suberic acid, azelaic acid, 1,10-decamethylene dicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, hexahydroterephthalic acid, hexahydroterephthalic acid, hexahydrophthalic acid and tetrahydrophthalic acid And an aliphatic polyester resin obtained by reacting an aliphatic polyester resin and an anhydride thereof with an aliphatic glycol such as ethylene glycol, propylene glycol and butanediol, and aliphatic glycols such as terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid, 4,4'- An aromatic polyester resin obtained by reacting an aromatic dibasic acid such as a carboxylic acid, a diphenylmethane-4,4'-dicarboxylic acid and an anhydride thereof, .

글리콜이나 이염기산에, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 트리멜리트산, 피로멜리트산 등 및 그의 무수물의, 수산기나 카르복실기 등의 활성 수소기를 분자 내에 3 내지 4개 함유하는 화합물을 소량 병용하여 얻은 폴리에스테르 수지여도 된다.A polyester obtained by adding a small amount of a compound containing 3 to 4 active hydrogen groups such as a hydroxyl group and a carboxyl group in the molecule such as trimethylolpropane, pentaerythritol, trimellitic acid, pyromellitic acid and the like, and anhydrides thereof to glycols or dibasic acids Resin.

수산기를 함유하는 폴리우레탄 수지로서는, 폴리이소시아네이트 화합물과 1분자 중에 적어도 2개의 수산기를 함유하는 화합물을, 수산기가 이소시아나토기에 대하여 과잉으로 되는 비율로 반응시켜서 얻어진다. 그 때에 사용되는 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등을 들 수 있다. 또한, 1분자 중에 적어도 2개의 수산기를 함유하는 화합물로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜 등의 폴리에테르디올; 폴리부타디엔디올, 폴리이소프렌디올, 수소 첨가 폴리부타디엔디올, 수소 첨가 폴리이소프렌디올 등의 폴리올레핀디올; 폴리에스테르디올, 폴리카르보네이트디올, 폴리카프로락톤디올, 실리콘디올, 디에틸렌글리콜 등을 들 수 있다.The polyurethane resin containing a hydroxyl group can be obtained by reacting a polyisocyanate compound and a compound containing at least two hydroxyl groups in one molecule at a ratio in which the hydroxyl group is excess to the isocyanato group. Examples of the polyisocyanate compound to be used at this time include hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and the like. Examples of the compound containing at least two hydroxyl groups in one molecule include polyether diols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polytetramethylene glycol; Polyolefin diols such as polybutadiene diol, polyisoprene diol, hydrogenated polybutadiene diol and hydrogenated polyisoprene diol; Polyester diols, polycarbonate diols, polycaprolactone diols, silicone diols, diethylene glycol, and the like.

<폴리이소시아네이트 화합물><Polyisocyanate compound>

또한 경화성 수지 조성물을 구성하는 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어, 톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트 및 이들의 수소 첨가 화합물, 이소포론디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 1분자에 2개의 이소시아나토기를 갖는 화합물, 및 이들로부터 선택되는 1종류 이상의 화합물을 공지된 기술에 의해 합성한 삼량체 타입, 트리메틸올프로판(TMP) 어덕트 타입, 뷰렛 타입 등을 들 수 있다.Examples of the polyisocyanate compound constituting the curable resin composition include tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and hydrogenated compounds thereof, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate Trimethylol propane (TMP) adduct type, buret type, etc., synthesized by a known technique, and compounds having two isocyanato groups in one molecule such as isocyanate, and one or more compounds selected therefrom .

바람직하게는, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트로부터 선택되는 1종류 이상의 화합물을 공지된 기술에 의해 합성한 삼량체 타입, TMP 어덕트 타입, 뷰렛 타입으로부터 선택되는 1종 이상 폴리이소시아네이트 화합물이다. 이들을 선택함으로써, 강도, 인성이 우수한 절연층이 얻어진다.Preferably, at least one compound selected from tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate is selected from a trimeric type, a TMP adduct type, and a buret type synthesized by a known technique Is at least one polyisocyanate compound. By selecting these, an insulating layer having excellent strength and toughness can be obtained.

경화성 수지 조성물 중의 폴리이소시아네이트 화합물의 함유량은, 임의로 설정할 수 있지만, 바람직하게는, 수산기를 함유하는 수지의 수산기와 폴리이소시아네이트 화합물의 이소시아네이트기와의 당량비(수산기를 함유하는 수지의 수산기/폴리이소시아네이트 화합물의 이소시아나토기)가 1/0.5 내지 1/3이다. 이 배합비로 함으로써 경화성, 강도, 인성, 열방사층에의 밀착성, 전기 절연성이 우수한 절연층이 얻어진다. 경화 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온 내지 150℃에서 10분 내지 12시간에 경화시키는 것이 바람직하다.The content of the polyisocyanate compound in the curable resin composition may be optionally determined, but preferably the equivalent ratio of the hydroxyl group of the resin containing a hydroxyl group to the isocyanate group of the polyisocyanate compound (the hydroxyl value of the resin containing a hydroxyl group / the isocyanate group of the polyisocyanate compound Cyanobacteria) is 1 / 0.5 to 1/3. With this blending ratio, an insulating layer excellent in hardenability, strength, toughness, adhesion to a heat radiation layer, and electrical insulation can be obtained. The curing conditions are not particularly limited, but it is preferable to cure at room temperature to 150 ° C for 10 minutes to 12 hours.

(불포화기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물)(A curable resin composition containing a resin containing an unsaturated group)

불포화기를 함유하는 수지로서는, 열 또는 광으로 경화시킬 수 있는 것이라면 특별히 제한은 없다. 여기서 「불포화기」란, 에틸렌성 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 기를 의미한다. 구체적으로는, 비닐기, 알릴기, (메트)아크릴로일옥시기 등을 들 수 있다. 투명성, 취급 용이함의 관점에서, 불포화기를 함유하는 (메트)아크릴 수지, 불포화기를 함유하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지, 및 불포화기를 함유하는 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다.The unsaturated group-containing resin is not particularly limited as long as it can be cured by heat or light. Herein, the term "unsaturated group" means a group having an ethylenic carbon-carbon double bond. Specific examples thereof include a vinyl group, an allyl group, and a (meth) acryloyloxy group. (Meth) acrylic resin containing an unsaturated group, an epoxy (meth) acrylate resin containing an unsaturated group, and a polyurethane resin containing an unsaturated group, from the viewpoint of transparency and ease of handling .

불포화기를 함유하는 아크릴 수지로서는, (메트)아크릴산에스테르를 중합하여 얻어진 수지에 불포화기를 도입한 것을 예시할 수 있다. 즉, 공중합 성분 중에 불포화기를 도입하기 위한 관능기로서 카르복실기, 또는 수산기를 가진 단량체를 공중합하고, 나중에 카르복실기, 또는 수산기와 반응하는 관능기와 불포화기를 가진 단량체를 부가한 것을 예시할 수 있다.As the unsaturated group-containing acrylic resin, an unsaturated group is introduced into a resin obtained by polymerizing a (meth) acrylic acid ester. That is, it is possible to exemplify copolymerization of a carboxyl group or a monomer having a hydroxyl group as a functional group for introducing an unsaturated group into a copolymerization component, followed by addition of a carboxyl group or a monomer having a functional group and an unsaturated group reacting with a hydroxyl group.

불포화기 함유 (메트)아크릴 수지에 사용되는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로도데실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylic ester used in the unsaturated group-containing (meth) acrylic resin include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate.

공중합 성분 중에 불포화기를 도입하기 위한 관능기로서 카르복실기를 가진 단량체로서는, (메트)아크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있다. 또, 수산기를 가진 단량체로서는, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the monomer having a carboxyl group as a functional group for introducing an unsaturated group in the copolymerization component include (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and crotonic acid. Examples of the monomer having a hydroxyl group include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate.

아크릴 수지에 불포화기를 도입하기 위하여 사용되는 카르복실기, 또는 수산기와 반응하는 관능기와 불포화기를 가진 단량체로서는, 예를 들어, 에폭시기 함유 단량체, 또는 이소시아나토기 함유 단량체를 예시할 수 있다. 에폭시기 함유 단량체로서는, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜알릴에테르 등을 들 수 있다. 또한, 이소시아나토기 함유 단량체로서는, 2-이소시아네이토에틸(메트)아크릴레이트, 1,1-비스(아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the monomer having a functional group and an unsaturated group which react with a carboxyl group or a hydroxyl group used for introducing an unsaturated group into an acrylic resin include an epoxy group-containing monomer or an isocyanato group-containing monomer. Examples of the epoxy group-containing monomer include glycidyl (meth) acrylate and glycidyl allyl ether. Examples of the isocyanato group-containing monomer include 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate and 1,1-bis (acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate.

불포화기를 함유하는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지로서는, 예를 들어, 비스페놀형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 1,6-나프탈렌형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지의 1종 또는 2종 이상과 (메트)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 것을 사용할 수 있다.Examples of the unsaturated group-containing epoxy (meth) acrylate resin include one or two or more kinds of epoxy resins such as bisphenol epoxy resin, novolac epoxy resin, and 1,6-naphthalene epoxy resin, ) Acrylic acid may be used.

비스페놀형 에폭시 수지로서는, 예를 들어, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 A 에틸렌옥시드 부가형 에폭시 수지, 비스페놀 A 프로필렌옥시드 부가형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 1,6-나프탈렌형 에폭시 수지 등을 제시할 수 있다. 노볼락형 에폭시 수지로서는, 예를 들어, 페놀노볼락 또는 크레졸노볼락과, 에피클로로히드린 또는 메틸에피클로로히드린과의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지를 들 수 있다. 이 에폭시 수지는, 평균 에폭시 당량 150 내지 450의 것이 바람직하다. 이 범위의 평균 에폭시 당량의 에폭시 수지를 사용함으로써 취급이 용이하고, 경화성, 강도, 인성, 열방사층에의 밀착성, 전기 절연성이 우수한 절연층을 형성하는 에폭시(메트)아크릴레이트가 얻어진다.Examples of the bisphenol type epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A ethylene oxide addition type epoxy resin, bisphenol A propylene oxide addition type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, Naphthalene type epoxy resin, and the like. Examples of the novolak-type epoxy resin include epoxy resins obtained by reaction of phenol novolak or cresol novolac with epichlorohydrin or methyl epichlorohydrin. The epoxy resin preferably has an average epoxy equivalent of 150 to 450. By using an epoxy resin having an average epoxy equivalent in this range, it is possible to obtain an epoxy (meth) acrylate which is easy to handle and forms an insulating layer excellent in hardenability, strength, toughness, adhesion to a heat radiation layer and electric insulation.

에폭시 수지와 (메트)아크릴산의 반응은, 바람직하게는, 60 내지 140℃, 보다 바람직하게는, 80 내지 120℃의 온도에서, 에스테르화 촉매를 사용하여 행하여진다. 반응 온도가 60℃ 미만이면 반응 시간이 너무 길어진다. 한편, 140℃를 초과하면 겔화의 리스크가 높아진다.The reaction of the epoxy resin with (meth) acrylic acid is preferably carried out at a temperature of 60 to 140 캜, more preferably 80 to 120 캜, using an esterification catalyst. If the reaction temperature is less than 60 ° C, the reaction time becomes too long. On the other hand, if it exceeds 140 ° C, the risk of gelation increases.

에스테르화 촉매로서는, 공지 관용의 것을 사용할 수 있는데, 예를 들어, 트리에틸아민, N,N-디메틸벤질아민, N,N-디메틸아닐린, 디아자비시클로옥탄 등의 3급 아민류; 또는 디에틸아민 염산염 등을 사용할 수 있다.As the esterification catalyst, known catalysts can be used, and examples thereof include tertiary amines such as triethylamine, N, N-dimethylbenzylamine, N, N-dimethylaniline and diazabicyclooctane; Or diethylamine hydrochloride may be used.

에폭시(메트)아크릴레이트의 수 평균 분자량은, 바람직하게는, 450 내지 2500이다. 분자량이 450 내지 2500이면, 취급하기 쉽고, 경화 반응이 원활하게 진행된다.The number average molecular weight of the epoxy (meth) acrylate is preferably 450 to 2500. If the molecular weight is from 450 to 2500, it is easy to handle and the curing reaction proceeds smoothly.

불포화기를 함유하는 폴리우레탄 수지는, 이하의 수순으로 얻을 수 있다. 예를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과 1분자 중에 적어도 2개 이상의 수산기를 함유하는 폴리올을, 이소시아나토기량이 수산기량보다 많아지는 비율로 반응시켜서, 이소시아나토기를 갖는 폴리우레탄을 합성한다. 계속해서, 수산기 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물과, 이소시아나토기를 갖는 폴리우레탄을 반응시킴으로써, 불포화기를 함유하는 폴리우레탄을 합성할 수 있다.The unsaturated group-containing polyurethane resin can be obtained by the following procedure. For example, a polyisocyanate compound and a polyol having at least two hydroxyl groups in a molecule are reacted at a ratio such that the amount of isocyanato group becomes larger than the amount of hydroxyl group, thereby synthesizing a polyurethane having an isocyanato group. Subsequently, by reacting a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group with a polyurethane having an isocyanato group, a polyurethane containing an unsaturated group can be synthesized.

또한 이하의 방법으로 불포화기를 함유하는 폴리우레탄 수지를 얻어도 된다. 먼저 2개 이상의 수산기를 함유하는 폴리올과 폴리이소시아네이트를, 수산기량이 이소시아나토기량보다 많아지는 비율로 반응시켜서, 수산기를 갖는 폴리우레탄을 합성한다. 계속해서, 이소시아나토기 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, 또는, (메트)아크릴로일기를 갖는 모노카르복실산과, 수산기를 갖는 폴리우레탄을 반응시켜서, 불포화기를 함유하는 폴리우레탄을 합성할 수 있다.In addition, a polyurethane resin containing an unsaturated group may be obtained by the following method. First, a polyurethane having two or more hydroxyl groups and a polyisocyanate are reacted in such a ratio that the amount of hydroxyl groups is larger than the amount of isocyanate groups, thereby synthesizing a polyurethane having a hydroxyl group. Subsequently, by reacting a compound having an isocyanato group and a (meth) acryloyl group or a monocarboxylic acid having a (meth) acryloyl group with a polyurethane having a hydroxyl group, a polyurethane containing an unsaturated group is synthesized can do.

불포화기를 함유하는 폴리우레탄 수지를 합성하기 위한 폴리올로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜 등의 폴리에테르디올; 폴리부타디엔디올, 폴리이소프렌디올, 수소 첨가 폴리부타디엔디올, 수소 첨가 폴리이소프렌디올 등의 폴리올레핀디올; 폴리에스테르디올, 폴리카프로락톤디올, 실리콘디올, 디에틸렌글리콜 등을 들 수 있다.Examples of the polyol for synthesizing the unsaturated group-containing polyurethane resin include polyether diols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polytetramethylene glycol; Polyolefin diols such as polybutadiene diol, polyisoprene diol, hydrogenated polybutadiene diol and hydrogenated polyisoprene diol; Polyester diol, polycaprolactone diol, silicone diol, diethylene glycol, and the like.

불포화기를 함유하는 폴리우레탄 수지를 합성하기 위한 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyisocyanate compound for synthesizing a polyurethane resin containing an unsaturated group include hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and the like.

불포화기를 함유하는 폴리우레탄 수지를 합성하기 위한 수산기 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물로서는, 예를 들어, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은, 2종 이상 병용해도 된다.Examples of the compound having a hydroxyl group and (meth) acryloyl group for synthesizing an unsaturated group-containing polyurethane resin include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl Methacrylate, and the like. These may be used in combination of two or more.

불포화기를 함유하는 폴리우레탄 수지를 합성하기 위한 이소시아나토기 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물로서는, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 1,1-비스(아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트 등을 사용할 수 있다. 이들은, 2종 이상 병용해도 된다.The compound having an isocyanato group and a (meth) acryloyl group for synthesizing a polyurethane resin containing an unsaturated group is not particularly limited. For example, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 1,1-bis (acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate and the like can be used. These may be used in combination of two or more.

불포화기를 함유하는 폴리우레탄 수지를 합성하기 위한, (메트)아크릴로일기를 갖는 모노카르복실산으로서는, (메트)아크릴산, β-CEA(β-카르복시에틸아크릴레이트) 등을 들 수 있다. 이들은, 2종 이상 병용해도 된다.Examples of the monocarboxylic acid having a (meth) acryloyl group for synthesizing a polyurethane resin containing an unsaturated group include (meth) acrylic acid and? -CEA (? -Carboxyethyl acrylate). These may be used in combination of two or more.

불포화기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물에는, 라디칼 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가진 단량체를 반응성 희석제로서 포함해도 된다.The curable resin composition containing the unsaturated group-containing resin may contain a monomer having a radically polymerizable carbon-carbon double bond as a reactive diluent.

라디칼 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 가진 단량체의 예로서는, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 디비닐벤젠 등의 방향족 불포화 단량체; (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산 부틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산에스테르; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르; (메트)아크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 이타콘산 하프에스테르, 말레산 하프에스테르 등의 카르복실기 함유 불포화 단량체; 스티렌술폰산, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, 스티렌술폰산 나트륨 등의 술폰산기 함유 불포화 단량체; 메타크릴산 히드록시에틸 등의 수산기 함유 불포화 단량체; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 불포화 단량체; (메트)아크릴산 글리시딜, 글리시딜알릴에테르 등의 에폭시기 함유 불포화 단량체; (메트)아크릴아미드, 디아세톤 (메트)아크릴아미드 등의 아미드기 함유 단량체; 실리콘 변성 불포화 단량체; (메트)아크릴산 N,N-디메틸아미노에틸 등의 아미노기 함유 불포화 단량체 등을 들 수 있다. 또한 이들을 2종 이상 병용해도 된다.Examples of the monomer having a radically polymerizable carbon-carbon double bond include aromatic unsaturated monomers such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, and divinylbenzene; (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethyleneglycol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (Meth) acrylate such as polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (Meth) acrylic acid esters; Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Carboxyl group-containing unsaturated monomers such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, itaconic acid half ester and maleic acid half ester; Sulfonic acid group-containing unsaturated monomers such as styrenesulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and sodium styrenesulfonate; Hydroxyl group-containing unsaturated monomers such as hydroxyethyl methacrylate; Cyano group-containing unsaturated monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Epoxy group-containing unsaturated monomers such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl allyl ether; Amide group-containing monomers such as (meth) acrylamide and diacetone (meth) acrylamide; Silicone modified unsaturated monomers; And amino group-containing unsaturated monomers such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate. These may be used in combination of two or more.

불포화기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물을 경화하기 위하여 사용되는 개시제로서는, 열 중합 개시제, 광중합 개시제 중의 어느 것이든 사용할 수 있다.As the initiator used for curing the curable resin composition containing the unsaturated group-containing resin, any of a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator may be used.

열 중합 개시제로서는, 특별히 한정되지 않고 공지된 것 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4,4-트리메틸펜탄), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 아조계 열 중합 개시제; 벤조일퍼옥사이드, t-부틸히드로퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 디쿠밀퍼옥사이드, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시) 3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로도데칸 등의 과산화물계 열 중합 개시제 등이 예시된다.The thermal polymerization initiator is not particularly limited and may be appropriately selected from known ones. For example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis Azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis 4,4-trimethylpentane), and dimethyl-2,2'-azobis (2-methylpropionate); Butyl peroxybenzoate, t-butyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, dicumyl peroxide, 1,1-bis (t- And peroxide type thermal polymerization initiators such as cyclohexane and 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane.

광중합 개시제로서는, 예를 들어, 카르보닐계 광중합 개시제, 술피드계 광중합 개시제, 퀴논계 광중합 개시제, 아조계 광중합 개시제, 술포클로라이드계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제, 과산화물계 광중합 개시제 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include a photopolymerization initiator such as a carbonyl photopolymerization initiator, a sulfide photopolymerization initiator, a quinone photopolymerization initiator, an azo photopolymerization initiator, a sulfochloride photopolymerization initiator, a thioxanthone photopolymerization initiator, .

카르보닐계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 벤조페논, 벤질, 벤조인, ω-브로모아세토페논, 클로로아세톤, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, p-디메틸아미노 아세토페논, p-디메틸아미노 프로피오페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-디클로로벤조페논, p,p'-비스디에틸아미노벤조페논, 미힐러 케톤, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤질메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 메틸벤조일포르메이트, 2,2-디에톡시아세토페논, 4-N,N'-디메틸아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the carbonyl photopolymerization initiator include benzophenone, benzyl, benzoin, omega -bromoacetophenone, chloroacetone, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy- P, p'-dichlorobenzophenone, p, p'-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-chlorobenzophenone, Benzoin isobutyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzyl methyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl- 2-methylpropane-1-one, methylbenzoylformate, 2,2-diethoxyacetophenone, 4-N, N'- 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one.

술피드계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 디페닐디술피드, 디벤질 디술피드, 테트라에틸티우람디술피드, 테트라메틸암모늄모노술피드 등을 들 수 있다. 퀴논계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 벤조퀴논, 안트라퀴논 등을 들 수 있다. 아조계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스프로판, 히드라진 등을 들 수 있다.The sulfide-based photopolymerization initiator includes, for example, diphenyl disulfide, dibenzyl disulfide, tetraethyl thiuram disulfide, tetramethyl ammonium monosulfide and the like. Examples of the quinone-based photopolymerization initiator include benzoquinone, anthraquinone, and the like. Examples of the azo-based photopolymerization initiator include azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobispropane, hydrazine, and the like.

티오크산톤계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤 등을 들 수 있다. 과산화물계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 과산화벤조일, 디-t-부틸퍼옥시드 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthene photopolymerization initiator include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, and the like. Examples of the peroxide-based photopolymerization initiator include benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, and the like.

중합 개시제는, 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 중합 개시제의 사용량은, 통상의 사용량이라면 되고, 예를 들어, 경화성 수지 조성물 100질량부에 대하여 0.01 내지 5질량부 정도의 범위인 것이 바람직하다.The polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The amount of the polymerization initiator to be used may be an ordinary amount, for example, it is preferably in the range of about 0.01 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the curable resin composition.

(가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 수지)(A resin containing a hydrolyzable silyl group and an isocyanato group)

가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 수지는, 이 기를 갖기만 하면 특별히 제한은 없지만, 투명성, 취급 용이함의 면에서, 아크릴계의 수지인 것이 바람직하다.The resin containing a hydrolyzable silyl group and an isocyanato group is not particularly limited so long as it has this group, but from the viewpoints of transparency and ease of handling, it is preferable that the resin is an acrylic resin.

가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 아크릴 수지는, 아크릴산에스테르 또는/및 메타크릴산에스테르와 이소시아나토기 함유 단량체와, 가수분해성 실릴기를 함유하는 단량체를 공중합함으로써 얻을 수 있다. 이하, 아크릴과 메타크릴을 합쳐서 (메트)아크릴이라고 칭한다.The acrylic resin containing a hydrolyzable silyl group and an isocyanato group can be obtained by copolymerizing an acrylic ester or / and a methacrylate ester with an isocyanato group-containing monomer and a monomer containing a hydrolyzable silyl group. Hereinafter, acrylic and methacrylic are collectively referred to as (meth) acryl.

(메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로도데실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylic esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) Acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl Hexyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and the like.

공중합시킬 가수분해성 실릴기를 함유하는 단량체로서는, 비닐트리에톡시실란, γ-(메트)아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 사용할 수 있는 이소시아나토기 함유 단량체로서는, 2-이소시아네이토에틸(메트)아크릴레이트, 3-이소시아네이트 프로필(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 경화 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온 내지 150℃에서 10분 내지 12시간에 경화시키는 것이 바람직하다.Examples of the monomer containing a hydrolyzable silyl group to be copolymerized include vinyltriethoxysilane and? - (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane. Examples of the isocyanato group-containing monomer that can be used include 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate and 3-isocyanate propyl (meth) acrylate. The curing conditions are not particularly limited, but it is preferable to cure at room temperature to 150 ° C for 10 minutes to 12 hours.

이들 경화성 수지 조성물을 적층체의 열방사층(2)측의 면에 도포할 때는, 점도, 및 막 두께 조정을 위하여 공지된 용제를 포함해도 된다.When these curable resin compositions are applied to the surface of the laminate on the side of the heat radiation layer 2, a known solvent may be contained for adjusting the viscosity and the film thickness.

경화성 수지 조성물을 열방사층(2) 상에 도포, 경화하여, 절연층(1)을 형성하는 제2 공정을 실시하는 방법으로서는, 특별히 한정되지 않는다. 도포 방법으로서는, 예를 들어, 그라비아 롤 코터, 리버스 롤 코터, 키스 롤 코터, 딥 롤 코터, 바 코터, 나이프 코터, 스프레이 코터, 콤마 코터, 다이렉트 코터 등을 사용하는 방법을 들 수 있다. 경화 방법은, 조성물의 조성에 따라서 공지된 열경화, 광경화 조건으로 행할 수 있다. 경화성 수지 조성물을 도포하고, 필요에 따라 용매를 건조 후, 경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써 절연층(1)을 형성한다. 절연층(1)의 두께는, 미리 경화성 수지 조성물의 점도나 경화성 수지 조성물 중의 고형분 농도와 도포법에 의해 형성되는 절연막의 두께 상관을 구해 두고, 소정의 두께가 얻어지도록 경화성 수지 조성물을 1회 도포 또는 복수회 도포를 반복함으로써 소정의 두께로 조정할 수 있다.The method of applying the curable resin composition onto the heat radiation layer 2 and curing it to form the insulating layer 1 is not particularly limited. Examples of the application method include a method using a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater, a comma coater, a direct coater and the like. The curing method can be carried out under known heat curing or photo curing conditions according to the composition of the composition. The insulating layer 1 is formed by coating the curable resin composition, drying the solvent if necessary, and then curing the curable resin composition. The thickness of the insulating layer 1 is determined by previously obtaining the viscosity of the curable resin composition or the correlation between the solid content concentration in the curable resin composition and the thickness of the insulating film formed by the coating method and applying the curable resin composition once to obtain a predetermined thickness Or by repeating the application a plurality of times.

<제3 공정><Third Step>

제3 공정에서는, 금속층(3)의 제1 주면과 반대인 제2 주면에 점착층(4)을 형성한다. 점착층(4)은, 절연 방열 시트(10)를 전자 기기 등의 발열체와 접합하기 위한 층이다.In the third step, the adhesive layer 4 is formed on the second main surface opposite to the first main surface of the metal layer 3. The adhesive layer 4 is a layer for bonding the insulating sheet 10 to a heating element such as an electronic apparatus.

점착층(4)의 형성 방법은 특별히 불문한다. 예를 들어, 금속층(3) 또는 후술하는 박리 시트(5)의 한쪽 면에, 용제로 희석된 점착제를 도포하고, 건조시켜서 열경화시킴으로써 형성해도 된다. 또한 미리 점착제를 시트형으로 형성해 두고, 그 점착제 시트를 금속층의 제2 주면에 접합해도 된다. 도포법에 의해 점착층을 형성하는 경우에는, 예를 들어, 그라비아 롤 코터, 리버스 롤 코터, 키스 롤 코터, 딥 롤 코터, 바 코터, 나이프 코터, 스프레이 코터, 콤마 코터, 다이렉트 코터 등을 사용할 수 있다.The method of forming the adhesive layer 4 is not particularly limited. For example, the adhesive layer may be formed by applying a pressure-sensitive adhesive diluted with a solvent to one side of the metal layer 3 or the release sheet 5 described later, followed by drying and thermosetting. Alternatively, the pressure-sensitive adhesive sheet may be formed in a sheet form in advance, and the pressure-sensitive adhesive sheet may be bonded to the second main surface of the metal layer. When an adhesive layer is formed by a coating method, a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater, a comma coater and a direct coater can be used have.

제3 공정에 있어서 형성되는 점착층(4)의 평균 두께는, 5 내지 50㎛인 것이 바람직하고, 8 내지 20㎛인 것이 보다 바람직하다. 점착층(4)의 평균 두께가 5㎛ 이상이면 점착층(4)와, 발열체 및 금속층(3)의 접합 강도가 충분히 높고, 절연성도 만족할 수 있는 절연 방열 시트(10)가 된다. 점착층(4)의 평균 두께가 50㎛ 이하이면, 발열체의 열을, 점착층(4)을 통하여 금속층(3)에 효율적으로 전도할 수 있다.The average thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 4 formed in the third step is preferably 5 to 50 占 퐉, more preferably 8 to 20 占 퐉. When the average thickness of the adhesive layer 4 is 5 占 퐉 or more, the insulating sheet 10 is sufficiently high in bonding strength between the adhesive layer 4 and the heating element and the metal layer 3, If the average thickness of the adhesive layer 4 is 50 m or less, the heat of the heating element can be efficiently conducted to the metal layer 3 through the adhesive layer 4. [

점착층(4)에 사용되는 점착제로서는, 특별히 한정되지 않는다. 절연성과 점착력이 충분하면 되고, 실리콘계 점착제, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 점착력의 점에서 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive used for the pressure-sensitive adhesive layer 4 is not particularly limited. A silicone-based pressure-sensitive adhesive, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, or the like can be used. Among them, it is preferable to use an acrylic pressure-sensitive adhesive in terms of adhesive strength.

점착제는, 용제를 포함한 것, 무용제의 것, 모두 사용할 수 있다. 점착제의 응집력을 높일 목적으로, 점착제에 따른 경화제를 포함해도 된다. 경화제로서는, 예를 들어, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 멜라민계 화합물 등을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive may be a solvent-containing or solvent-free adhesive. For the purpose of enhancing the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive, a curing agent according to the pressure-sensitive adhesive may be included. As the curing agent, for example, an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, a melamine compound and the like can be used.

점착층(4)의 점착력은, 후술하는 측정 방법을 사용하여 측정한 SUS304에 대한 점착력이 5N/25mm 이상의 것인 것이 바람직하고, 8N/25mm 이상인 것이 보다 바람직하고, 10N/25mm 이상인 것이 더욱 바람직하다. 점착층(4)의 점착력이 5N/25mm 이상이면 점착층(4)와, 발열체 및 금속층(3)의 접합 강도가 충분히 높은 절연 방열 시트(10)가 된다.The adhesive strength of the adhesive layer 4 is preferably not less than 5 N / 25 mm, more preferably not less than 8 N / 25 mm, and even more preferably not less than 10 N / 25 mm, as measured by a measuring method described later . If the adhesive strength of the adhesive layer 4 is 5 N / 25 mm or more, the insulating sheet 10 having a sufficiently high bonding strength between the adhesive layer 4 and the heating element and the metal layer 3 is obtained.

「점착력의 시험 방법」&Quot; Test method of adhesion &quot;

점착층(4)의 점착력은, 이하에 나타내는 방법에 의해 구한다.The adhesive force of the adhesive layer 4 is obtained by the following method.

두께 50㎛의 PET 필름(도레이 가부시끼가이샤 제조, 「루미러(등록 상표) S-10」)을 기재로 하여, 기재 상에 점착층(4)을 형성하여, 시험용 적층 시트로 한다. 이어서, 시험용 적층 시트를 세로 25mm, 가로 100mm의 크기로 잘라내어, 직사각형 시트편으로 한다. 계속해서, SUS304를 포함하는 시험판 상에, 점착층을 시험판으로 향하여 직사각형 시트를 적층한다. 그 후, 직사각형 시트 상을, 2kg의 고무 롤러(폭: 약 50mm)를 1 왕복시켜서 시험판과 직사각형 시트를 붙인다.A pressure-sensitive adhesive layer 4 is formed on a substrate using a PET film having a thickness of 50 占 퐉 ("Mirror (registered trademark) S-10" manufactured by Toray Industries, Inc.) as a base material to obtain a test laminate sheet. Subsequently, the test laminated sheet was cut into a size of 25 mm in length and 100 mm in width to obtain a rectangular sheet piece. Subsequently, a rectangular sheet is laminated on a test plate including SUS304, with the adhesive layer facing the test plate. Thereafter, a rectangular sheet was passed through a 2-kg rubber roller (width: about 50 mm) one time, and a test sheet and a rectangular sheet were stuck.

접합된 시험판 및 직사각형 시트를, 23℃, 습도 50% RH의 환경 하에서 24시간 방치한다. 그 후, JIS Z0237에 준하여, 박리 속도 300mm/분으로 180° 방향의 인장 시험을 행하여, 직사각형 시트의 시험판에 대한 점착력(N/25mm)을 측정한다.The bonded test plates and rectangular sheets were allowed to stand for 24 hours under an environment of 23 ° C and 50% RH. Thereafter, a tensile test in the direction of 180 DEG is carried out at a peeling speed of 300 mm / min in accordance with JIS Z0237, and the adhesive force (N / 25 mm) of the rectangular sheet to the test plate is measured.

점착층(4)은, 점착제에 절연성의 열전도성 필러를 함유시켜도 된다. 열전도성 필러로서는, 절연성이며 열전도성을 갖는 것이면 된다. 예를 들어, 금속 산화물, 금속 질화물 및 금속 수화물 등으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 입자를 들 수 있다. 금속 산화물로서는, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 산화아연, 이산화티타늄 등을 들 수 있다. 금속 질화물로서는, 질화알루미늄, 질화붕소, 질화규소 등을 들 수 있다. 금속 수화물로서는, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄 등을 들 수 있다.The adhesive layer (4) may contain an insulating thermally conductive filler in the adhesive. The thermally conductive filler may be any material that is insulating and has thermal conductivity. For example, one or two or more kinds of particles selected from metal oxides, metal nitrides and metal hydrates can be mentioned. Examples of the metal oxide include aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, titanium dioxide and the like. Examples of the metal nitride include aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride and the like. Examples of the metal hydrate include magnesium hydroxide, aluminum hydroxide and the like.

열전도성 필러는, 분체인 것이 점착층(4)에 균일하게 분산시키는 관점에서 바람직하다. 열전도성 필러의 입자 직경은, 누적 질량 50% 입자 직경(D50)이 1 내지 50㎛인 것이 바람직하고, 3 내지 30㎛인 것이 보다 바람직하다. 열전도성 필러의 입자 직경은, 점착층(4)의 두께에 맞춰서 적절히 설정하는 것이 바람직하다. 누적 질량 50% 입자 직경(D50)이 1 내지 50㎛이면, 점착층(4)에 포함되는 열전도성 필러와, 발열체 및 금속층(3)의 접촉 면적이 충분히 얻어져서, 발열체의 열을, 점착층(4)을 통하여 금속층(3)에 효율적으로 전도할 수 있다.The thermally conductive filler is preferable from the viewpoint that the powder is uniformly dispersed in the adhesive layer 4. The particle diameter of the thermally conductive filler preferably has a cumulative mass of 50% particle diameter (D50) of 1 to 50 mu m, more preferably 3 to 30 mu m. The particle diameter of the thermally conductive filler is preferably set appropriately in accordance with the thickness of the adhesive layer 4. When the cumulative mass 50% particle diameter (D50) is 1 to 50 占 퐉, the contact area between the heat conductive filler contained in the adhesive layer 4 and the heating element and the metal layer 3 is sufficiently obtained, Can efficiently conduct to the metal layer (3) through the metal layer (4).

「누적 질량 50% 입자 직경(D50)」은, 예를 들어, 가부시키가이샤 시마즈 세이사꾸쇼 제조의 상품명 「SALD-200V ER」의 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치를 사용하는 레이저 회절식 입도 분포 측정에 의해 얻어진다.The &quot; cumulative mass 50% particle diameter (D50) &quot; can be measured using, for example, a laser diffraction particle size distribution measurement using a laser diffraction particle size distribution measuring device of "SALD-200V ER" manufactured by Shimadzu Seisakusho Lt; / RTI &gt;

<제4 공정>&Lt; Fourth step &

제4 공정에서는, 점착층(4)의 금속층(3)과 반대측의 면에 박리 시트(5)를 더 적층한다. 박리 시트는, 절연 열전 시트(10)에 있어서 필수는 아니지만, 운반 등의 취급의 용이함을 높일 목적으로 형성하는 편이 바람직하다.In the fourth step, the release sheet 5 is further laminated on the surface of the adhesive layer 4 opposite to the metal layer 3. The peeling sheet is not essential for the insulating thermoelectric sheet 10, but is preferably formed for the purpose of facilitating handling such as transportation.

박리 시트(5)의 적층 방법으로서는 특별히 불문한다. 예를 들어, 시판하고 있는 박리 시트를 점착층(4)에 라미네이트함으로써 적층할 수 있다.The method of laminating the release sheet 5 is not particularly limited. For example, a laminated sheet can be laminated by laminating a commercially available release sheet to the adhesive layer 4.

박리 시트(5)로서는, 예를 들어, 박리 처리제에 의해 표면이 처리된 플라스틱 필름을 들 수 있다.As the release sheet 5, for example, a plastic film whose surface has been treated with a release agent can be given.

박리 처리제로서는, 실리콘계, 장쇄 알킬계, 불소계 등의 것을 사용할 수 있다. 플라스틱 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 등을 들 수 있다.As the peeling treatment agent, a silicone type, a long chain alkyl type, a fluorine type and the like can be used. Examples of the plastic film include a polyethylene terephthalate (PET) film and the like.

「절연 방열 시트」"Insulation sheet"

본 발명의 일 형태에 관한 절연 방열 시트(10)는, 도 1에 도시한 바와 같이, 절연층(1)과, 열방사 필러 및 바인더를 함유하는 열방사층(2)과, 금속층(3)과, 점착층(4)을 순서대로 갖는다. 점착층(4)의 금속층(3)과 반대측의 면에는, 박리 시트(5)가 형성되어 있어도 된다.1, an insulating sheet 10 according to an embodiment of the present invention includes an insulating layer 1, a heat radiation layer 2 containing a heat radiation filler and a binder, a metal layer 3, , And an adhesive layer (4) in this order. The release sheet 5 may be formed on the surface of the adhesive layer 4 opposite to the metal layer 3. [

절연 방열 시트(10)는, 열방사율이 0.8 내지 1인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.9 내지 1이다. 열방사율이 0.8 내지 1이라면, 충분한 열방사성이 얻어진다.The heat-radiating sheet 10 preferably has a thermal emissivity of 0.8 to 1, more preferably 0.9 to 1. When the thermal emissivity is 0.8 to 1, sufficient heat radiation is obtained.

절연층(1)은 도포에 의해 형성된다. 전술한 경화성 수지 조성물을 적당한 용매로 원하는 농도로 희석하여 도포함으로써 두께가 얇은 절연층(1)을 형성할 수 있다. 구체적으로는 절연층(1)의 평균 두께는, 0.1㎛ 이상이며, 1㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다.The insulating layer 1 is formed by application. The insulating layer 1 having a small thickness can be formed by diluting and applying the above-mentioned curable resin composition to a desired concentration with an appropriate solvent. Specifically, the insulating layer 1 preferably has an average thickness of 0.1 탆 or more, more preferably 1 탆 or more.

또한, 절연층(1)의 평균 두께는, 5㎛ 미만이고, 4㎛ 이하인 것이 바람직하다.The average thickness of the insulating layer 1 is preferably less than 5 占 퐉 and preferably 4 占 퐉 or less.

절연층(1)은, 전자 부품 등의 발열체에 절연 방열 시트(10)를 붙인 때에, 최외층으로 되는 층이다. 즉, 열방사층(2)부터 외부로 방사되는 열의 통과점에 존재한다. 원래라면, 절연 방열 시트의 방열성을 저해할 우려가 있다. 그러나, 본 발명의 일 형태에 관한 절연 방열 시트는 층 두께가 매우 얇기 때문에, 절연 방열 시트(10) 전체로서 상술한 열방사율을 얻을 수 있다. 또한 절연층(1)은 도포에 의해 형성되기 때문에, 극히 얇은 절연층을 얻을 수 있다. 막 두께를 0.1㎛ 이상으로 함으로써 1.0×109Ω/□ 이상의 표면 저항률을 갖는 절연층(1)이 얻어진다. 그 결과, 전자 부품들 안의 전기 절연성을 필요로 하는 장소에서도 사용 가능하게 된다.The insulating layer 1 is an outermost layer when the heat-radiating sheet 10 is attached to a heat generating element such as an electronic component. That is, at the passing point of heat radiated from the heat radiation layer 2 to the outside. If it is originally, there is a fear that the heat radiation property of the heat radiation sheet is deteriorated. However, since the insulating heat-radiating sheet according to one embodiment of the present invention has a very thin layer thickness, the above-described thermal radiation rate can be obtained as the whole of the heat-insulating sheet 10. Since the insulating layer 1 is formed by coating, an extremely thin insulating layer can be obtained. When the film thickness is 0.1 mu m or more, the insulating layer 1 having a surface resistivity of 1.0 x 10 &lt; 9 &gt; As a result, it can be used in places where electrical insulation in electronic parts is required.

절연층(1)을 구성하는 재료로서는, 상술한 재료를 사용할 수 있다. 이들 재료를 사용함으로써 방열성을 대폭으로 저해하지 않고 높은 절연성을 실현할 수 있다.As the material constituting the insulating layer 1, the above-described materials can be used. By using these materials, it is possible to realize high insulation without significantly deteriorating the heat radiation property.

열방사층(2), 금속층(3), 점착층(4) 및 박리 시트(5)로서는, 상술한 것과 동일한 재료, 동일한 구성을 적용할 수 있다.As the heat radiation layer 2, the metal layer 3, the adhesive layer 4 and the release sheet 5, the same materials and the same constitution as those described above can be applied.

절연 방열 시트(10)는, 상술한 바와 같이 절연층(1)을 가짐으로써, 외부와의 높은 절연성을 유지할 수 있고, 전자 부품 등 중의 절연성을 필요로 하는 장소에서도 사용도 가능하게 된다.By having the insulating layer 1 as described above, the insulating sheet 10 can maintain high insulation with the outside, and can be used in places where the insulating properties of electronic parts and the like are required.

또한 절연층(1)이, 그 아래에 형성되는 열방사층(2) 등을 보호하기 때문에, 내마모성도 향상시킬 수 있다. 즉, 절연 방열 시트(10)에 충격이나 변형이 가해져도, 방열성 및 절연성을 유지할 수 있다.In addition, since the insulating layer 1 protects the heat radiation layer 2 and the like formed thereunder, the abrasion resistance can also be improved. That is, even if impact or deformation is applied to the heat-radiating sheet 10, the heat radiation property and the insulation property can be maintained.

절연 방열 시트(10)는, 발열체에 용이하게 접합할 수 있고, 또한, 발열체의 열을 효율적으로 방열할 수 있는 것이다. 따라서, 절연 방열 시트(10)는, 발열체에서 발생한 열을 열방산하기 위한 히트 스프레더로서 적절하게 사용할 수 있다. 발열체로서는, 예를 들어, 반도체 칩, 트랜지스터, 콘덴서, 커패시터 등의 전자 부품, 전자 회로 기판, 태양 전지 패널, 조명기구, 디스플레이 백라이트, 프로젝터, LED 라이트, 신호, 휴대 전화, 스마트폰, 퍼스널 컴퓨터, 태블릿 PC, 서버, 소형 게임기, 태양 전지 패널 메모리 모듈, 증폭기, 각종 전지(배터리), 카메라 모듈 등의 전기 부품을 들 수 있다. The heat-radiating sheet 10 can be easily bonded to the heat-generating body and can efficiently dissipate the heat of the heat-generating body. Therefore, the heat-radiating sheet 10 can be suitably used as a heat spreader for heat-dissipating heat generated in the heat-generating body. Examples of the heating element include a semiconductor chip, an electronic component such as a transistor, a capacitor, and a capacitor, an electronic circuit board, a solar battery panel, a lighting device, a display backlight, a projector, an LED light, a signal, A tablet PC, a server, a small game machine, a solar panel memory module, an amplifier, various batteries (battery), and a camera module.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이 예에 의해 전혀 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited at all by this example.

<합성예 1(수산기를 함유하는 수지 A-1)>&Lt; Synthesis Example 1 (Resin A-1 containing a hydroxyl group) >

온도계, 교반기, 냉각관, 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 아세트산에틸 1350g, 부틸아크릴레이트 234g(1.82mol), 에틸아크릴레이트 621g(6.20mol), 2-히드록시에틸아크릴레이트 39g(0.33mol), 아크릴산 7g(0.10mol), 2,2-아조이소부틸니트릴 0.45g을 넣고, 질소 가스 기류 중에서 80℃에서 8시간 중합 처리를 하여, 중량 평균 분자량 620000의 수산기를 함유하는 아크릴 수지 (A-1)을 얻었다.(1.82 mol) of butyl acrylate, 621 g (6.20 mol) of ethyl acrylate and 39 g (0.33 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate were placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a stirrer, ), 7 g (0.10 mol) of acrylic acid and 0.45 g of 2,2-azoisobutylnitrile were placed and polymerization was carried out at 80 DEG C for 8 hours in a nitrogen gas stream to obtain an acrylic resin (A- 1).

<합성예 2(수산기를 함유하는 수지 A-2)>&Lt; Synthesis Example 2 (Resin A-2 containing a hydroxyl group) >

온도계, 교반기, 냉각관, 수분리기를 구비한 반응 용기에, 헥사히드로 무수 프탈산 404g(2.61mol), 1,6-헥산디올 259g(2.19mol), 및 이소시아누르산트리스(2-히드록시에틸) 214g(0.81mol)을 투입하고, 질소 가스 분위기 하에서 2시간에 걸쳐 200℃까지 승온하고, 크실렌과 물을 공비하여 물을 증류 제거하면서 8시간, 환류 하에서 반응시켰다. 그 후, 냉각하고, 계속하여 아세트산에틸 1000g로 희석하여 수산기를 함유하는 폴리에스테르 수지 (A-2) 용액을 얻었다. 이 수산기를 함유하는 폴리에스테르 수지 (A-2)의 중량 평균 분자량은 5500이었다.(2.61 mol) of hexahydrophthalic anhydride, 259 g (2.19 mol) of 1,6-hexanediol and 2.19 mol of isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl) phthalate were added to a reaction vessel equipped with a stirrer, ), And the temperature was elevated to 200 DEG C over 2 hours in a nitrogen gas atmosphere. The reaction was carried out under reflux for 8 hours while distilling off water by azeotropic distillation of xylene and water. Thereafter, the mixture was cooled and subsequently diluted with 1000 g of ethyl acetate to obtain a polyester resin (A-2) solution containing a hydroxyl group. The weight average molecular weight of the polyester resin (A-2) containing the hydroxyl group was 5500.

<합성예 3(수산기를 함유하는 수지 A-3)>&Lt; Synthesis Example 3 (Resin A-3 Containing a Hydroxyl Group) >

온도계, 교반기, 적하 깔때기, 건조관 딸린 냉각관을 구비한 반응 용기에, 이소포론디이소시아네이트 311g(1.40mol) 및 수산기값이 56mgKOH/g인 히드록시기를 말단에 갖는 폴리카르보네이트디올인 듀라놀(등록 상표) T5652(아사히 가세이 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조, 수 평균 분자량 2000) 3000g(1.50mol)과, 디옥틸주석디라우레이트 0.33g을 추가하고, 60℃까지 승온하여 4시간 반응시키고, 그 후, 냉각하고, 계속하여 아세트산에틸 1500g로 희석하여, 중량 평균 분자량이 68000인 수산기를 말단에 함유하는 우레탄 수지 (A-3)을 얻었다. 이때, IR에 의해, 이소시아나토기 유래의 피크가 소실된 것을 확인한 후, 반응을 종료하였다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a condenser equipped with a drying tube, 311 g (1.40 mol) of isophorone diisocyanate and a polycarbonate diol, polycarbonate diol having a hydroxyl group having a hydroxyl value of 56 mgKOH / 3000 g (1.50 moles) of T5652 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., number average molecular weight 2000) and 0.33 g of dioctyltin dilaurate were added, and the temperature was raised to 60 ° C and the reaction was carried out for 4 hours. , Cooled, and subsequently diluted with 1500 g of ethyl acetate to obtain a urethane resin (A-3) containing a hydroxyl group having a weight average molecular weight of 68,000 at the terminal. At this time, after confirming that the peak derived from the isocyanato group disappeared by IR, the reaction was terminated.

<합성예 4(불포화기를 함유하는 수지 A-4)>&Lt; Synthetic Example 4 (Resin A-4 containing unsaturated group) >

온도계, 교반기, 냉각관, 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 아세트산에틸 1350g, 부틸아크릴레이트 234g(1.82mol), 에틸아크릴레이트 621g(6.20mol), 2-히드록시에틸아크릴레이트 39g(0.33mol), 아크릴산 7g(0.10mol), 2,2-아조이소부틸니트릴 0.45g을 넣고, 질소 가스 기류 중에서 80℃에서 8시간 중합 처리를 행하였다. 계속해서, 2-이소시아네이토에틸메타크릴레이트 51g(0.33mol)과 디옥틸주석디라우레이트 0.01g을 추가하고, 4시간 반응시켜, 중량 평균 분자량 630000의 불포화기를 함유하는 아크릴 수지 (A-4)를 얻었다.(1.82 mol) of butyl acrylate, 621 g (6.20 mol) of ethyl acrylate and 39 g (0.33 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate were placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a stirrer, 7 g (0.10 mol) of acrylic acid and 0.45 g of 2,2-azoisobutylnitrile were placed, and polymerization was carried out at 80 DEG C for 8 hours in a nitrogen gas stream. Subsequently, 51 g (0.33 mol) of 2-isocyanatoethyl methacrylate and 0.01 g of dioctyltin dilaurate were added and the mixture was reacted for 4 hours to obtain an acrylic resin having an unsaturated group having a weight average molecular weight of 630,000 (A- 4).

<합성예 5(불포화기를 함유하는 수지 A-5)>&Lt; Synthesis Example 5 (Resin A-5 containing unsaturated group) >

온도계, 교반기, 냉각관, 6% 산소 도입관을 구비한 반응 용기에, 페놀노볼락형 에폭시 수지(에피클론 N-740, 다이닛본 잉크 가가꾸 고교(주) 제조, 에폭시 당량 180) 180g(1.0mol), 아크릴산 72.0g(1.0mol), 트리페닐포스핀 0.8g, 메틸하이드로퀴논 0.2g을 투입하고, 6% 산소-94% 질소 혼합 가스를 불어 넣으면서, 120℃에서 8시간 반응시켜, 수 평균 분자량 2800, 산가 1.5mgKOH/g의 불포화기를 함유하는 에폭시아크릴레이트 수지 (A-5)를 얻었다.180 g (1.0) of phenol novolak type epoxy resin (Epiclon N-740, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., epoxy equivalent 180) was added to a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a stirrer, (1.0 mol) of acrylic acid, 0.8 g of triphenylphosphine and 0.2 g of methylhydroquinone were charged and reacted at 120 DEG C for 8 hours while blowing a 6% oxygen-94% nitrogen gas mixture, An epoxy acrylate resin (A-5) containing an unsaturated group having a molecular weight of 2800 and an acid value of 1.5 mgKOH / g was obtained.

<합성예 6(불포화기를 함유하는 수지 A-6)>&Lt; Synthesis Example 6 (Resin A-6 containing unsaturated group) >

온도계, 교반기, 적하 깔때기, 건조관 딸린 냉각관을 구비한 반응 용기에, 이소포론디이소시아네이트 333g(1.50mol) 및 수산기값이 56mgKOH/g인 히드록실기를 말단에 갖는 폴리프로필렌글리콜인 D-2000(미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조, 수 평균 분자량 2000) 2800g(1.40mol)과, 디옥틸주석디라우레이트 0.31g을 추가하고, 60℃까지 승온하여 4시간 반응시켜, 이소시아나토기를 말단에 갖는 폴리우레탄을 얻었다. 이어서, 2-히드록시에틸아크릴레이트 23g(0.2mol)을 첨가한 후, 70℃까지 승온하여 2시간 반응시켜, 중량 평균 분자량이 70000인 불포화기를 말단에 함유하는 우레탄 수지 (A-6)을 얻었다. 이때, IR에 의해, 이소시아나토기 유래의 피크가 소실된 것을 확인한 후, 반응을 종료하였다.A reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a condenser equipped with a drying tube was charged with 333 g (1.50 mol) of isophorone diisocyanate and D-2000, which is a polypropylene glycol having a hydroxyl group at a hydroxyl value of 56 mgKOH / 2800 g (1.40 mol) of polyoxyethylene (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., number average molecular weight: 2000) and 0.31 g of dioctyltin dilaurate were added, and the mixture was heated to 60 ° C and reacted for 4 hours to give an isocyanato group at the terminal To obtain a polyurethane. Subsequently, 23 g (0.2 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate was added, and the mixture was heated to 70 ° C. and reacted for 2 hours to obtain a urethane resin (A-6) containing an unsaturated group having a weight average molecular weight of 70,000 at the terminal . At this time, after confirming that the peak derived from the isocyanato group disappeared by IR, the reaction was terminated.

<합성예 7(가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 수지 A-7)>&Lt; Synthetic Example 7 (Resin A-7 containing hydrolysable silyl group and isocyanato group) >

온도계, 교반기, 건조관 딸린 냉각관, 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 톨루엔 650g, 메틸메타크릴레이트 387g(4.50mol), 부틸아크릴레이트 181g(1.41mol), γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 31g(0.13mol), 2-이소시아네이토에틸메타크릴레이트 31g(0.20mol) 2,2-아조이소부틸니트릴 2.65g을 넣고, 질소 가스 기류 중에서 80℃에서 8시간 중합 처리를 하여, 중량 평균 분자량 10000의 가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 아크릴 수지 (A-7)을 얻었다.A reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a condenser equipped with a drying tube and a nitrogen inlet tube was charged with 650 g of toluene, 387 g (4.50 mol) of methyl methacrylate, 181 g (1.41 mol) of butyl acrylate, (0.20 mol) of 2-isocyanatoethyl methacrylate and 2.65 g of 2,2-azoisobutylnitrile were charged and polymerization was carried out at 80 DEG C for 8 hours in a nitrogen gas stream, To obtain an acrylic resin (A-7) containing a hydrolyzable silyl group having a weight average molecular weight of 10,000 and an isocyanato group.

(점착층의 제작)(Production of adhesive layer)

아크릴계 점착제(쇼와 덴꼬 가부시끼가이샤 제조 비니롤(등록 상표) PSA SV-6805 고형분 47질량%) 100질량부, 이소시아네이트계 가교제(도소 가부시끼가이샤 제조 코로네이트 HX 고형분 100%) 1질량부, 및 희석용 용제인 아세트산에틸 100질량부를 혼합하여 점착제 조성물을 제작하였다. 계속해서, 박리 처리된 PET 필름(도요보 가부시끼가이샤 제조, 상품명: E7006, 두께 25㎛) 상에 닥터 블레이드에 의해 도포 시공하고 용제를 건조시켜, 두께 10㎛의 점착층을 형성하였다. 계속하여 박리 PET를 씌워서 점착 시트를 얻었다. 이 점착 시트는, 후술하는 금속층과 접착시킴으로써 점착층이 된다., 1 part by mass of an isocyanate-based crosslinking agent (CORONATE HX solid content 100%, manufactured by TOSOH CORPORATION) of 100 parts by mass of an acrylic pressure-sensitive adhesive (Visile (registered trademark) PSA SV-6805 solid content 47% by mass, manufactured by Showa Denko K.K.) And 100 parts by mass of ethyl acetate as a diluting solvent were mixed to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. Subsequently, a peeling-treated PET film (trade name: E7006, thickness: 25 mu m, manufactured by TOYOBO CO., LTD.) Was coated with a doctor blade and the solvent was dried to form a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 10 mu m. Subsequently, peeling PET was covered to obtain a pressure-sensitive adhesive sheet. This pressure sensitive adhesive sheet becomes a pressure sensitive adhesive layer by adhering to a metal layer to be described later.

<절연 방열 시트의 제조>&Lt; Preparation of Insulation Heat-Release Sheet &

(실시예 1)(Example 1)

합성예 1에서 얻어진 아크릴 수지 (A-1)을 100질량부와 폴리이소시아네이트 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI)의 이소시아누레이트체, 도소 가부시끼가이샤 제조; 코로네이트(등록 상표) HX, 고형분 100%) 2.9질량부를 배합하고, 추가로 톨루엔을 배합하여 불휘발분 30질량%로 조제한 경화성 수지 조성물을 제작하였다. 이 경화성 수지 조성물을 열방사층(카본 코팅층)과 금속층(알루미늄 시트)을 갖는 카본 코팅 알루미늄 금속 시트(쇼와 덴꼬제: 카본 코팅 알루미늄박, SDX(등록 상표))의 카본 코팅층 상에 바 코터를 사용하여 20㎛ 두께로 코팅하고 150℃, 10분간 건조시켜 절연층을 형성하였다. 이때의 절연층의 평균 두께는 4㎛였다.100 parts by mass of the acrylic resin (A-1) obtained in Synthesis Example 1 and 100 parts by mass of a polyisocyanate compound (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate (HDI), Coronate (registered trademark) HX manufactured by Tosoh Corporation, solid content 100%), and toluene was further blended to prepare a curable resin composition having a nonvolatile content of 30% by mass. This curable resin composition was applied on a carbon coating layer of a carbon-coated aluminum metal sheet (Showa Denko KK: carbon coated aluminum foil, SDX (registered trademark)) having a heat radiation layer (carbon coating layer) and a metal layer To a thickness of 20 탆, and dried at 150 캜 for 10 minutes to form an insulating layer. The average thickness of the insulating layer at this time was 4 占 퐉.

열방사층은, 열방사 필러로서 카본 블랙, 바인더로서 키토산 유도체를 피로멜리트산에 의해 가교시킨 것이다. 열방사층의 평균 두께는 1㎛이며, 금속층은, 평균 두께 50㎛의 알루미늄박이다. 절연층 및 열방사층의 두께는 전자 마이크로미터((주) 세이코 EM사 제조의 밀리트론 1240)로 각각 10점 측정하고, 그 평균값을 구하였다.The heat radiation layer is obtained by crosslinking carbon black as a heat radiation filler and chitosan derivative as a binder with pyromellitic acid. The average thickness of the heat radiation layer is 1 mu m, and the metal layer is an aluminum foil having an average thickness of 50 mu m. The thicknesses of the insulating layer and the heat radiation layer were measured with an electron micrometer (Millitron 1240, manufactured by Seiko EM Corporation) at 10 points, and the average value thereof was determined.

이어서, 한쪽 박리 PET 필름을 제거한 10㎛ 두께의 상기 점착 시트를, 적층 시트의 금속층면에 접합함으로써 실시예 1의 절연 방열 시트 B-1을 얻었다.Then, the heat-sensitive insulating sheet B-1 of Example 1 was obtained by bonding the pressure-sensitive adhesive sheet having a thickness of 10 mu m from which the peel-off PET film was removed to the metal layer surface of the laminated sheet.

(실시예 2)(Example 2)

절연층을 형성하기 위한 경화성 수지 조성물을 변경한 점 이외에는, 실시예 1의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 실시예 2의 절연 방열 시트 B-2를 얻었다.Heat-insulating sheet B-2 of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the curable resin composition for forming the insulating layer was changed.

실시예 2에 있어서 경화성 수지 조성물은, 합성예 2에서 얻어진 폴리에스테르 수지 (A-2)를 100질량부와 폴리이소시아네이트 화합물(도소 가부시끼가이샤 제조; 코로네이트(등록 상표) HX, 고형분 100%) 11.0질량부를 배합하고, 추가로 톨루엔으로 불휘발분 30%로 조정하여 제작하였다.The curable resin composition of Example 2 was obtained by mixing 100 parts by mass of the polyester resin (A-2) obtained in Synthesis Example 2 and 100 parts by mass of a polyisocyanate compound (Coronate (registered trademark) HX, solid content 100% 11.0 parts by mass were mixed, and the content of non-volatile components was adjusted to 30% with toluene.

(실시예 3)(Example 3)

절연층을 형성하기 위한 경화성 수지 조성물을 변경한 점 이외에는, 실시예 1의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 실시예 3의 절연 방열 시트 B-3을 얻었다.Heat-insulating sheet B-3 of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the curable resin composition for forming the insulating layer was changed.

실시예 3에 있어서 경화성 수지 조성물은, 합성예 3에서 얻어진 우레탄 수지 (A-3) 100질량부와 폴리이소시아네이트 화합물(도소 가부시끼가이샤 제조; 코로네이트(등록 상표) HX, 고형분 100%) 2.0질량부를 배합하고, 추가로 톨루엔을 배합하여 불휘발분 30%로 조정하여 제작하였다.The curable resin composition of Example 3 was obtained by mixing 100 parts by mass of the urethane resin (A-3) obtained in Synthesis Example 3 and 2.0 parts by mass of a polyisocyanate compound (CORONATE (registered trademark) HX, solid content 100% And toluene was added thereto to adjust the non-volatile content to 30%.

(실시예 4)(Example 4)

합성예 4에서 얻어진 아크릴 수지 (A-4) 100질량부와 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF사 제조, 이르가큐어(등록 상표) 907) 0.5질량부를 배합하고, 추가로 톨루엔을 배합하여 불휘발분 30질량%로 조제한 경화성 수지 조성물을 제작하였다. 제작한 경화성 수지 조성물을 열방사층과 금속층을 갖는 카본 코팅 알루미늄 금속 시트(쇼와 덴꼬 제조: 카본 코팅 알루미늄박 SDX(등록 상표))의 카본 코팅층 상에 바 코터를 사용하여 20㎛ 두께로 코팅하고 110℃, 5분 건조시켰다. 계속해서, 상면을 50㎛ 두께의 박리 PET 필름으로 덮은 후, 자외선 조사 장치(닛폰 덴치 가부시끼가이샤 제조, UV 조사 장치 4kw×1, 출력: 160W/cm, 메탈 할라이드 램프)를 사용하고, 조사 거리 12cm, 램프 이동 속도 20m/min, 조사량 약 1000mJ/㎠의 조건에서 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 평균 두께 4㎛의 절연층을 형성하였다.100 parts by mass of the acrylic resin (A-4) obtained in Synthetic Example 4 and 0.5 parts by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure (registered trademark) 907, manufactured by BASF) were further blended with toluene And a nonvolatile matter content of 30 mass% was prepared. The curable resin composition thus prepared was coated on a carbon coating layer of a carbon-coated aluminum metal sheet (manufactured by Showa Denko K.K., carbon coated aluminum foil SDX (registered trademark)) having a heat radiation layer and a metal layer to a thickness of 20 μm using a bar coater, Lt; 0 &gt; C for 5 minutes. Subsequently, the upper surface was covered with a peelable PET film having a thickness of 50 mu m, and then an ultraviolet ray irradiator (UV irradiator: 4 kw x 1, output: 160 W / cm, metal halide lamp, manufactured by Nippon Denshi K.K.) A lamp moving speed of 20 m / min, and an irradiation dose of about 1000 mJ / cm 2 to form an insulating layer having an average thickness of 4 탆.

열방사층은, 열방사 필러로서 카본 블랙, 바인더로서 키토산 유도체를 피로멜리트산에 의해 가교시킨 것이다. 열방사층의 평균 두께는 1㎛이며, 금속층은, 평균 두께 50㎛의 알루미늄박이다.The heat radiation layer is obtained by crosslinking carbon black as a heat radiation filler and chitosan derivative as a binder with pyromellitic acid. The average thickness of the heat radiation layer is 1 mu m, and the metal layer is an aluminum foil having an average thickness of 50 mu m.

이어서, 한쪽 박리 PET 필름을 제거한 10㎛ 두께의 점착 시트를, 적층 시트의 금속층면에 접합함으로써 실시예 4의 절연 방열 시트 B-4를 얻었다.Next, an adhesive sheet of 10 mu m in thickness with one of the peelable PET films removed was bonded to the metal layer surface of the laminated sheet to obtain an insulating sheet B-4 of Example 4. [

(실시예 5)(Example 5)

절연층을 형성하기 위한 경화성 수지 조성물을 변경한 점 이외에는, 실시예 4의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 실시예 5의 절연 방열 시트 B-5를 얻었다.Heat-insulating sheet B-5 of Example 5 was obtained in the same manner as in Example 4 except that the curable resin composition for forming the insulating layer was changed.

실시예 5에 있어서 경화성 수지 조성물은, 합성예 5에서 얻어진 에폭시아크릴레이트 수지 (A-5) 100질량부와 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF사 제조, 상품명 이르가큐어(등록 상표) 907) 0.5질량부를 배합하고, 추가로 톨루엔을 배합하여 불휘발분 30%로 조정하여 제작하였다.The curable resin composition of Example 5 was obtained by mixing 100 parts by mass of the epoxy acrylate resin (A-5) obtained in Synthesis Example 5 and 1 part by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name: Irgacure (registered trademark) 907 ), And further toluene was added to adjust the nonvolatile content to 30%.

(실시예 6)(Example 6)

절연층을 형성하기 위한 경화성 수지 조성물을 변경한 점 이외에는, 실시예 4의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 실시예 6의 절연 방열 시트 B-6을 얻었다.Heat-insulating sheet B-6 of Example 6 was obtained in the same manner as in Example 4 except that the curable resin composition for forming the insulating layer was changed.

실시예 6에 있어서 경화성 수지 조성물은, 합성예 6에서 얻어진 수지 A-6 100질량부와 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF사 제조, 상품명 이르가큐어(등록 상표) 907) 0.5질량부를 배합하고, 추가로 톨루엔을 배합하여 불휘발분 30%로 조정하여 제작하였다.The curable resin composition in Example 6 was prepared by mixing 100 parts by mass of Resin A-6 obtained in Synthesis Example 6 and 0.5 parts by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name: Irgacure (registered trademark) 907, And further toluene was added to adjust the nonvolatile content to 30%.

(실시예 7)(Example 7)

합성예 7에서 얻어진 아크릴 수지 (A-7)에 톨루엔을 배합하여 불휘발분을 30질량%로 조제한 경화성 수지 조성물을 열방사층과 금속층을 갖는 카본 코팅 알루미늄 금속 시트(쇼와 덴꼬제: 카본 코팅 알루미늄박 SDX(등록 상표))의 카본 코팅층 상에 바 코터를 사용하여 20㎛ 두께로 코팅하고 실온에서 3시간 건조시킴으로써 절연층을 형성하였다.Toluene was blended with the acrylic resin (A-7) obtained in Synthesis Example 7 to prepare a curable resin composition having a nonvolatile content of 30 mass%, and a carbon-coated aluminum metal sheet having a heat radiation layer and a metal layer (Showa Denko KK: SDX (registered trademark)) to a thickness of 20 mu m using a bar coater, and dried at room temperature for 3 hours to form an insulating layer.

열방사층은, 열방사 필러로서 카본 블랙, 바인더로서 키토산 유도체를 피로멜리트산에 의해 가교시킨 것이다. 열방사층의 평균 두께는 1㎛이며, 금속층은, 평균 두께 50㎛의 알루미늄박이다.The heat radiation layer is obtained by crosslinking carbon black as a heat radiation filler and chitosan derivative as a binder with pyromellitic acid. The average thickness of the heat radiation layer is 1 mu m, and the metal layer is an aluminum foil having an average thickness of 50 mu m.

이어서, 한쪽 박리 PET 필름을 제거한 10㎛ 두께의 점착 시트를, 적층 시트의 금속층면에 접합함으로써 실시예 7의 절연 방열 시트 B-7을 얻었다.Next, an adhesive sheet of 10 mu m in thickness, from which the peel-off PET film was removed, was bonded to the surface of the metal layer of the laminated sheet to obtain an insulating sheet B-7 of Example 7. [

(실시예 8)(Example 8)

실시예 1의 점착 시트의 두께를 3㎛로 변경한 것 이외에는, 실시예 1의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 실시예 8의 방열 시트 B-8을 얻었다.Heat-radiating sheet B-8 of Example 8 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive sheet of Example 1 was changed to 3 占 퐉.

(실시예 9)(Example 9)

배합하는 톨루엔을 증량하여 수지액의 불휘발분을 5%로 변경한 것 이외에는, 실시예 1의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 실시예 9의 방열 시트 B-9를 얻었다.The heat radiation sheet B-9 of Example 9 was obtained in the same manner as the insulation heat radiation sheet of Example 1 except that the amount of toluene to be compounded was increased to change the non-volatile content of the resin solution to 5%.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1의 절연층(1)을 제외한 구성으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 비교예 1의 방열 시트 C-1을 얻었다.Heat-radiating sheet C-1 of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the insulating layer 1 of Example 1 was omitted.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 1의 열방사층(2)을 제외한 구성으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 비교예 2의 절연 방열 시트 C-2를 얻었다.Heat-insulating sheet C-2 of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the heat radiation layer (2) of Example 1 was excluded.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 1의 점착층(4)을 제외한 구성으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 비교예 3의 절연 방열 시트 C-3을 얻었다.Heat-insulating sheet C-3 of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer (4) of Example 1 was excluded.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

실시예 1의 절연층을, 접착제(쇼와 덴꼬 가부시끼가이샤 제조 아크릴계의 접착제, EX-2022)를 1㎛ 두께가 되도록 도포 시공 건조한 두께 50㎛의 PET 필름(도레이 가부시끼가이샤 제조, 「루미러(등록 상표)S-10」)으로 변경하고, 접착제 형성면을 열방사층(2)에 붙인 이외에는, 실시예 1의 절연 방열 시트와 동일하게 하여, 비교예 4의 절연 방열 시트 C-4를 얻었다.The insulating layer of Example 1 was coated with a 50 mu m thick PET film (manufactured by Toray Industries, Inc., &quot; Lumirror &quot;, manufactured by Toray Industries, Inc.) Heat-resistant sheet C-4 of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in the case of the heat-radiating sheet of Example 1, except that the surface of the heat-radiating sheet 2 was changed to " .

(전기 절연성의 평가)(Evaluation of electric insulation)

실시예 1 내지 9, 비교예 1 내지 2의 절연 방열 시트 각각에 대해서, 표면 저항률을 측정하고, 얻어진 결과에 대해서, 이하와 같이 평가하였다.The surface resistivity of each of the heat-dissipating sheets of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2 was measured, and the obtained results were evaluated as follows.

전기 절연성 ◎: 1.0×1014Ω/□ 이상Electrical Insulation ⊚: 1.0 × 10 14 Ω / □ or more

전기 절연성 ○: 1.0×109 내지 1.0×1014Ω/□Electrical Insulation ◯: 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 14 Ω / □

전기 절연성 ×: 1.0×109Ω/□ 미만Electrical insulation x: Less than 1.0 x 10 9 ? /?

실시예 1 내지 9, 비교예 1 내지 2의 절연 방열 시트 각각에 대해서, 다음의 방법을 사용하여, 점착력을 구하였다.For each of the heat-radiating sheets of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2, the adhesive strength was determined by the following method.

「점착력의 시험 방법」&Quot; Test method of adhesion &quot;

절연 방열 시트를 세로 25mm, 가로 100mm의 크기로 잘라내어, 직사각형 시트편으로 한다. 계속해서, SUS304를 포함하는 시험판 상에 점착층을 시험판을 향하여 직사각형 시트를 적층한다. 그 후, 직사각형 시트상을, 2kg의 고무 롤러(폭: 약 50mm)를 1왕복시켜서 시험판과 직사각형 시트를 붙인다. 계속해서, 접합된 시험판 및 직사각형 시트를, 23℃, 습도 50% RH의 환경 하에서 24시간 방치한다. 그 후, JIS Z0237에 준하여, 박리 속도 300mm/분으로 180° 방향의 인장 시험을 행하고, 직사각형 시트의 시험판에 대한 점착력(N/25mm)을 측정한다.The heat-radiating sheet is cut to a size of 25 mm in length and 100 mm in width to form a rectangular sheet. Subsequently, a rectangular sheet is laminated on the test plate including SUS304 with the adhesive layer facing the test plate. Thereafter, a rectangular sheet was passed through a 2-kg rubber roller (width: about 50 mm) one time, and a test sheet and a rectangular sheet were stuck. Subsequently, the bonded test plates and the rectangular sheet are left for 24 hours in an environment of 23 ° C and a humidity of 50% RH. Thereafter, according to JIS Z0237, a tensile test in the direction of 180 占 is carried out at a peeling speed of 300 mm / min, and the adhesive force (N / 25 mm) of the rectangular sheet to the test plate is measured.

실시예 1 내지 9, 비교예 1 내지 2의 절연 방열 시트 각각에 대해서, 다음의 방법을 사용하여, 방열성을 평가하였다.Heat dissipation properties of each of the insulating heat-dissipating sheets of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated by the following methods.

「방열성의 평가 방법」&Quot; Evaluation method of heat dissipation &quot;

박리 PET 필름을 박리한 세로 60mm, 가로 60mm의 정사각형의 절연 방열 시트를, 세로 60mm, 가로 60mm의 정사각형의 세라믹 히터(사카구치 덴네츠사 제조 WALN-1)의 양면에, 세라믹 히터에 점착 시트의 점착층을 대향시켜서 적층하였다. 그리고, 세라믹 히터를 5W로 발열시켰을 때의 히터 온도(60분 후)를 측정하고, 방열성을 평가하였다. 평가는, 실온 25℃, 습도 50% RH의 환경에서 행하였다.A heat-insulating sheet with a square of 60 mm in length and 60 mm in width was peeled from both sides of a square ceramic heater (WALN-1, manufactured by Sakaguchi Dentetsu Co., Ltd.) having a length of 60 mm and a width of 60 mm, Layers were stacked facing each other. Then, the heater temperature (after 60 minutes) when the ceramic heater was heated to 5 W was measured, and the heat radiation performance was evaluated. The evaluation was carried out in an environment of a room temperature of 25 DEG C and a humidity of 50% RH.

또한, 절연 방열 시트를 부착하지 않는 상태의 세라믹 히터를 5W로 발열시켰을 때의 히터 온도는 150℃였다.Further, when the ceramic heater in a state in which the insulating sheet was not attached was heated to 5 W, the heater temperature was 150 캜.

Figure pat00001
Figure pat00001

1: 절연층
2: 열방사층
3: 금속층
4: 점착층
5: 박리 시트
10: 절연 방열 시트
1: insulating layer
2:
3: metal layer
4: Adhesive layer
5: peeling sheet
10: Insulation sheet

Claims (14)

열방사 필러 및 바인더를 함유하는 열방사층을 금속층의 제1 주면측에 구비한 적층체를 준비하는 제1 공정과,
상기 적층체의 상기 열방사층측의 면에 경화성 수지 조성물을 도포, 경화하여, 절연층을 형성하는 제2 공정과,
상기 금속층의 상기 제1 주면과 반대인 제2 주면에 점착층을 형성하는 제3 공정을 갖는 절연 방열 시트의 제조 방법.
A first step of preparing a laminate having a heat radiation layer containing a heat radiation filler and a binder on a first main surface side of a metal layer;
A second step of applying and curing a curable resin composition on the side of the heat radiation layer of the laminate to form an insulating layer,
And a third step of forming an adhesive layer on a second main surface opposite to the first main surface of the metal layer.
제1항에 있어서, 상기 경화성 수지 조성물이, 복수의 수산기를 함유하는 수지와 폴리이소시아네이트 화합물을 포함하는 경화성 수지 조성물, 불포화기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물, 및 가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물로 이루어지는 군 중 어느 하나인 절연 방열 시트의 제조 방법.The curable resin composition according to claim 1, wherein the curable resin composition comprises a curable resin composition comprising a resin containing a plurality of hydroxyl groups and a polyisocyanate compound, a curable resin composition comprising a resin containing an unsaturated group, and a curable resin composition comprising a hydrolyzable silyl group and isocyanate Wherein the curable resin composition comprises a curable resin composition containing a resin containing earthenware. 제2항에 있어서, 상기 수산기를 함유하는 수지가, 수산기를 함유하는 아크릴 수지, 수산기를 함유하는 폴리에스테르 수지, 및 수산기를 함유하는 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 절연 방열 시트의 제조 방법.The heat-insulating sheet according to claim 2, wherein the resin containing a hydroxyl group is at least one selected from the group consisting of an acrylic resin containing a hydroxyl group, a polyester resin containing a hydroxyl group, and a polyurethane resin containing a hydroxyl group Gt; 제2항에 있어서, 상기 불포화기를 함유하는 수지가, 불포화기를 갖는 아크릴 수지, 불포화기를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지, 및 불포화기를 갖는 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 절연 방열 시트의 제조 방법.The heat-resistant sheet according to claim 2, wherein the resin containing the unsaturated group is at least one selected from the group consisting of an acrylic resin having an unsaturated group, an epoxy (meth) acrylate resin having an unsaturated group, and a polyurethane resin having an unsaturated group &Lt; / RTI &gt; 제2항에 있어서, 상기 가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 수지가, 가수분해성 실릴기와 이소시아나토기를 함유하는 아크릴 수지인 절연 방열 시트의 제조 방법.3. The method of producing an insulation sheet according to claim 2, wherein the resin containing the hydrolyzable silyl group and the isocyanato group is an acrylic resin containing a hydrolyzable silyl group and an isocyanato group. 제1항에 있어서, 상기 제2 공정에 있어서, 상기 절연층의 평균 두께를 0.1 내지 10㎛로 하는 절연 방열 시트의 제조 방법.The method of manufacturing an insulating sheet according to claim 1, wherein the insulating layer has an average thickness of 0.1 to 10 탆 in the second step. 제6항에 있어서, 상기 제2 공정에 있어서, 상기 절연층의 평균 두께를 0.1㎛ 이상 5㎛ 미만으로 하는 절연 방열 시트의 제조 방법.The method of manufacturing an insulating sheet according to claim 6, wherein the average thickness of the insulating layer in the second step is 0.1 탆 or more and less than 5 탆. 제1항에 있어서, 상기 제3 공정에 있어서, 상기 점착층의 평균 두께를 5 내지 50㎛로 하는 절연 방열 시트의 제조 방법.The method of manufacturing an insulating sheet according to claim 1, wherein the adhesive layer has an average thickness of 5 to 50 탆 in the third step. 제1항에 있어서, 상기 제1 공정에 있어서, 상기 열방사층의 평균 두께를 0.1 내지 5㎛로 하는 절연 방열 시트의 제조 방법.The method of manufacturing an insulating sheet according to claim 1, wherein in the first step, the average thickness of the heat radiation layer is 0.1 to 5 占 퐉. 제1항에 있어서, 상기 제1 공정에 있어서, 상기 금속층의 평균 두께를 3 내지 100㎛로 하는 절연 방열 시트의 제조 방법.The method of manufacturing an insulating sheet according to claim 1, wherein the metal layer has an average thickness of 3 to 100 占 퐉 in the first step. 제1항에 있어서, 상기 점착층의 금속층과 반대측의 면에 박리 시트를 더 적층하는 제4 공정을 포함하는 절연 방열 시트의 제조 방법.The method of manufacturing an insulating sheet according to claim 1, further comprising a fourth step of further laminating a release sheet on a surface of the adhesive layer opposite to the metal layer. 평균 두께가 0.1㎛ 이상 5㎛ 미만이고, 경화성 수지 조성물이 경화물을 포함하는 절연층과, 열방사 필러 및 바인더를 함유하는 열방사층과, 금속층과, 점착층이, 이 순서로 적층된 절연 방열 시트.Wherein the curable resin composition has an average thickness of 0.1 占 퐉 or more and less than 5 占 퐉, an insulating layer containing a cured product, a heat radiation layer containing a heat radiation filler and a binder, a metal layer, and an adhesive layer, Sheet. 제12항에 있어서, 상기 절연층의 표면 저항률이 1.0×109Ω/□ 이상인 절연 방열 시트.13. The heat-insulating sheet according to claim 12, wherein the insulating layer has a surface resistivity of 1.0 x 10 &lt; 9 &gt; 제12항에 기재된 절연 방열 시트를 포함하는 히트 스프레더.A heat spreader comprising the heat-radiating sheet according to claim 12.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102367391B1 (en) * 2021-11-02 2022-02-24 퓨어만 주식회사 Method for cooling semiconductor components and film dissipating heat for semiconductor components
KR102493712B1 (en) * 2021-11-09 2023-01-31 퓨어만 주식회사 Graphite sheets for dissipating heat
KR102493723B1 (en) * 2021-11-02 2023-01-31 퓨어만 주식회사 Adhesive sheets for dissipating heat and shielding emi
KR102493729B1 (en) * 2021-11-02 2023-02-01 퓨어만 주식회사 Adhesive sheets for heat dissipation

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102180205B1 (en) * 2019-05-29 2020-11-18 동의대학교 산학협력단 Thermal conductive polymer composites comprising alumina and carbon material and their application of heat dissipation products
KR102180206B1 (en) * 2019-05-29 2020-11-18 동의대학교 산학협력단 Thermal conductive polymer composites comprising aluminum and carbon material and their application of heat dissipation products
KR102186635B1 (en) * 2019-05-29 2020-12-03 동의대학교 산학협력단 Thermal conductive polymer composites comprising alumina and calcined carbon material and their application of heat dissipation products
JPWO2022201513A1 (en) * 2021-03-26 2022-09-29
WO2023157636A1 (en) * 2022-02-17 2023-08-24 富士フイルム株式会社 Piezoelectric film and laminated piezoelectric element
WO2024053089A1 (en) * 2022-09-09 2024-03-14 三菱電機株式会社 Thermal-conductive resin composition and cured product of same, and thermal-conductive sheet and method for manufacturing same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005101025A (en) 2003-09-22 2005-04-14 Denki Kagaku Kogyo Kk Heat dissipating

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58165391A (en) * 1982-03-26 1983-09-30 昭和電工株式会社 Substrate for printed circuit board
JP2001315244A (en) * 2000-05-01 2001-11-13 Jsr Corp Heat conductive sheet, method for manufacturing same and radiation structure using heat conductive sheet
JP2004200199A (en) * 2002-12-16 2004-07-15 Oki Electric Ind Co Ltd Heat sink sheet
JP2006245523A (en) * 2005-02-04 2006-09-14 Dainippon Printing Co Ltd Heat dissipating sheet
JP2008049607A (en) * 2006-08-25 2008-03-06 Teijin Ltd Heat-conductive laminate with bonded thin film of electrical insulation
CN104093761A (en) * 2012-02-07 2014-10-08 昭和电工株式会社 Urethane (meth)acrylate and moisture-proof insulating coating material
CN103547121A (en) * 2012-07-09 2014-01-29 华宏新技股份有限公司 Radiation compound and application thereof
JP6241643B2 (en) * 2013-06-03 2017-12-06 Dic株式会社 Adhesive sheet and electronic device
JP6314797B2 (en) * 2013-11-15 2018-04-25 信越化学工業株式会社 Thermally conductive composite sheet

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005101025A (en) 2003-09-22 2005-04-14 Denki Kagaku Kogyo Kk Heat dissipating

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102367391B1 (en) * 2021-11-02 2022-02-24 퓨어만 주식회사 Method for cooling semiconductor components and film dissipating heat for semiconductor components
KR102493723B1 (en) * 2021-11-02 2023-01-31 퓨어만 주식회사 Adhesive sheets for dissipating heat and shielding emi
KR102493729B1 (en) * 2021-11-02 2023-02-01 퓨어만 주식회사 Adhesive sheets for heat dissipation
WO2023080350A1 (en) * 2021-11-02 2023-05-11 퓨어만 주식회사 Method for cooling semiconductor component, and heat dissipation film for semiconductor component
KR102493712B1 (en) * 2021-11-09 2023-01-31 퓨어만 주식회사 Graphite sheets for dissipating heat

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