JP2020115582A - Electronic component mounting substrate and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

To provide: an electronic component mounting substrate having a highly reliable electromagnetic wave shield member that is capable of suppressing the occurrence of burr and has excellent PCT resistance; and an electronic apparatus.SOLUTION: An electronic component mounting substrate 51 includes: a substrate 20; an electronic component 30 mounted on at least one surface of the substrate 20; and an electromagnetic wave shield member 1 which is covered from the upper surface of the electronic component 30 to the substrate 20, and covers at least a part of the substrate 20 and the side surface of a stepped portion formed by mounting the electronic component 30. The electromagnetic wave shield member 1 has an electromagnetic wave shield layer 5 containing a binder resin and a conductive filler, and has an indentation elastic modulus of 1-10 GPa.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、電磁波シールド部材を有する電子部品搭載基板に関する。また、前記電子部品搭載基板が搭載された電子機器に関する。 The present invention relates to an electronic component mounting board having an electromagnetic wave shield member. The present invention also relates to an electronic device on which the electronic component mounting board is mounted.

ICチップ等を搭載した電子部品は、外部からの磁場や電波による誤動作を防止するために、通常、電磁波シールド構造が設けられている。例えば、等方導電性接着剤と異方導電性接着剤からなる導電性接着フィルムを、電子部品が搭載された基板に被覆する方法が開示されている(特許文献1)。また、導電性接着剤層および特定の貯蔵弾性率をもつ基材層を有する電磁波シールド用フィルムを、電子部品が搭載された基板に被覆する方法(特許文献2)や、等方導電性を示す鱗片状粒子含有層を有する、特定の引張破断歪を有する電磁波シールド部材を、電子部品が搭載された基板に被覆する方法(特許文献3)が開示されている。 An electronic component equipped with an IC chip or the like is usually provided with an electromagnetic wave shield structure in order to prevent malfunction due to a magnetic field or radio waves from the outside. For example, a method is disclosed in which a conductive adhesive film made of an isotropic conductive adhesive and an anisotropic conductive adhesive is coated on a substrate on which electronic components are mounted (Patent Document 1). Further, a method of coating an electromagnetic wave shielding film having a conductive adhesive layer and a base material layer having a specific storage elastic modulus on a substrate on which an electronic component is mounted (Patent Document 2), and showing isotropic conductivity. A method (Patent Document 3) is disclosed in which an electromagnetic wave shield member having a specific tensile breaking strain and having a scale-like particle-containing layer is coated on a substrate on which electronic components are mounted.

国際公開第2015/186624号International Publication No. 2015/186624 特開2014−57041号公報JP, 2014-57041, A 国際公開第2018/147355号International Publication No. 2018/147355

電子部品が搭載された基板に対して、例えば以下の方法により電磁波シールド部材が被覆され、電子部品搭載基板が製造される。まず、図20に示すように、基板120に搭載された複数の電子部品130の天面に、電磁波シールド用部材102と離形性クッション部材103の積層体である電磁波シールド用積層体104を載置する。次いで、図21に示すように、電磁波シールド用積層体104を熱圧着させ、電子部品130および基板120の一部を電磁波シールド部材101により被覆する。その後、図22に示すように離形性クッション部材103を剥離し、続いて図23に示すように、基板120を製品単位に個片化する工程を行う。この個片化工程は、例えば、電磁波シールド部材101をダイシング台141に当接させ、この当接状態を維持しながら基板120側から電子部品130の間隙である溝125に対向する位置に対して切断工具142により、基板120および電磁波シールド部材101を切断することにより行われる。 An electronic component mounting substrate is manufactured by coating the substrate on which the electronic component is mounted with an electromagnetic wave shield member by the following method, for example. First, as shown in FIG. 20, the electromagnetic wave shielding laminate 104, which is a laminated body of the electromagnetic wave shielding member 102 and the releasable cushion member 103, is mounted on the top surfaces of the plurality of electronic components 130 mounted on the substrate 120. Place. Next, as shown in FIG. 21, the electromagnetic wave shielding laminate 104 is thermocompression bonded to partially cover the electronic component 130 and the substrate 120 with the electromagnetic wave shielding member 101. After that, as shown in FIG. 22, the releasable cushion member 103 is peeled off, and subsequently, as shown in FIG. 23, a step of dividing the substrate 120 into individual products is performed. In this individualizing step, for example, the electromagnetic wave shield member 101 is brought into contact with the dicing table 141, and while maintaining this contact state, the position facing the groove 125 which is the gap of the electronic component 130 from the substrate 120 side is set. The cutting is performed by cutting the substrate 120 and the electromagnetic wave shield member 101 with the cutting tool 142.

ところが、個片化工程において、電磁波シールド部材101の切断面を基点とした電磁波シールド部材101の捲れであるバリが発生しやすいという問題がある(図23の部分拡大図(i)参照)。電磁波シールド部材101のバリの主たる原因は、個片化工程のダイシング時の高圧水洗等である。また、製造後の電子部品搭載基板は、高湿熱条件下において電磁波シールド部材101と基板120等との密着性が低下してしまう場合がある。このような電磁波シールド部材101のバリの発生および密着性低下は、電子機器の電磁波シールド性の信頼性低下を招来し、回路基板に実装する際の障害となる。 However, in the individualizing step, there is a problem that burrs, which are curling of the electromagnetic wave shield member 101 from the cut surface of the electromagnetic wave shield member 101, are likely to occur (see a partially enlarged view (i) in FIG. 23 ). The main cause of burrs on the electromagnetic wave shield member 101 is high-pressure water washing during dicing in the individualizing step. Further, in the manufactured electronic component mounting substrate, the adhesion between the electromagnetic wave shield member 101 and the substrate 120 or the like may be deteriorated under high humidity and heat conditions. The occurrence of burrs and the decrease in adhesion of the electromagnetic wave shield member 101 cause a decrease in reliability of the electromagnetic wave shield property of the electronic device, which becomes an obstacle when mounting on the circuit board.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、バリの発生を抑制でき、且つプレッシャークッカーテスト(PCT)耐性に優れる信頼性の高い電磁波シールド部材を有する電子部品搭載基板並びに電子機器を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and provides an electronic component mounting substrate and an electronic device that have a highly reliable electromagnetic wave shield member that can suppress the occurrence of burrs and that is excellent in pressure cooker test (PCT) resistance. The purpose is to do.

本発明者らが鋭意検討を重ねたところ、以下の態様において、本発明の課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
[1]: 基板と、
前記基板の少なくとも一方の面に搭載された電子部品と、
前記電子部品上面から前記基板に亘って被覆され、前記電子部品の搭載によって形成された段差部の側面および前記基板の少なくとも一部を被覆する電磁波シールド部材と 、を備え、
前記電磁波シールド部材は、バインダー樹脂と導電性フィラーを含む電磁波シールド層を有し、且つ押込み弾性率が1〜10GPaである電子部品搭載基板。
[2]: 前記電磁波シールド部材の表層の水接触角が70〜110°である[1]に記載の電子部品搭載基板。
[3]: 前記電磁波シールド部材のJIS K5600に基づくプレッシャークッカー試験後のテープ密着試験において、前記電子部品上の前記電磁波シールド部材が23/25以上のクロスカット残存率を示す[1]又は[2]に記載の電子部品搭載基板。
[4]: 前記電磁波シールド部材の表層のJISB0601;2001に準拠して測定したクルトシスが1〜8となる[1]〜[4]のいずれかに記載の電子部品搭載基板。
[5]: [1]〜[4]のいずれかに記載の電子部品搭載基板が搭載された、電子機器。
The inventors of the present invention have made extensive studies, and have found that the problems of the present invention can be solved in the following aspects, and have completed the present invention.
[1]: Substrate,
An electronic component mounted on at least one surface of the substrate,
An electromagnetic wave shield member that covers from the upper surface of the electronic component to the substrate and that covers at least a part of the side surface of the step portion formed by mounting the electronic component and the substrate,
The electromagnetic wave shield member has an electromagnetic wave shield layer containing a binder resin and a conductive filler, and has an indentation elastic modulus of 1 to 10 GPa.
[2]: The electronic component mounting board according to [1], wherein the surface layer of the electromagnetic wave shield member has a water contact angle of 70 to 110°.
[3]: In the tape adhesion test after the pressure cooker test based on JIS K5600 of the electromagnetic wave shield member, the electromagnetic wave shield member on the electronic component shows a crosscut residual ratio of 23/25 or more [1] or [2]. ] Electronic component mounting substrate described in.
[4]: The electronic component mounting board according to any one of [1] to [4], which has a kurtosis of 1 to 8 measured according to JIS B0601; 2001 on the surface layer of the electromagnetic wave shield member.
[5]: An electronic device on which the electronic component mounting board according to any one of [1] to [4] is mounted.

本発明によれば、バリの発生を抑制でき、且つPCT耐性が優れる信頼性の高い電磁波シールド部材を有する電子部品搭載基板並びに電子機器を提供できるという優れた効果を奏する。 According to the present invention, it is possible to provide an electronic component mounting board and an electronic device having a highly reliable electromagnetic wave shield member that can suppress the generation of burrs and that has excellent PCT resistance.

第1実施形態に係る電子部品搭載基板の一例を示す模式的斜視図。The typical perspective view which shows an example of the electronic component mounting board which concerns on 1st Embodiment. 図1のII−II切断部断面図。II-II cutting part sectional drawing of FIG. 第1実施形態に係る電子部品搭載基板の別の一例を示す模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing another example of the electronic component mounting board according to the first embodiment. 第1実施形態に係る電磁波シールド用積層体の一例を示す模式的断面図。The typical sectional view showing an example of the layered product for electromagnetic waves concerning a 1st embodiment. 第1実施形態に係る電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of the electronic component mounting board according to the first embodiment. 第1実施形態に係る電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of the electronic component mounting board according to the first embodiment. 第1実施形態に係る電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of the electronic component mounting board according to the first embodiment. 第1実施形態に係る電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of the electronic component mounting board according to the first embodiment. 電磁波シールド部材のクルトシスの変動要因を説明するための模式的説明図。FIG. 4 is a schematic explanatory view for explaining a factor of fluctuation of kurtosis of the electromagnetic wave shield member. 電磁波シールド部材のクルトシスの変動要因を説明するための模式的説明図。FIG. 4 is a schematic explanatory view for explaining a factor of fluctuation of kurtosis of the electromagnetic wave shield member. 第2実施形態に係る電磁波シールド用積層体の一例を示す模式的断面図。The typical sectional view showing an example of the layered product for electromagnetic waves concerning a 2nd embodiment. 第3実施形態に係る電磁波シールド用積層体の一例を示す模式的断面図。The typical sectional view showing an example of the layered product for electromagnetic wave shields concerning a 3rd embodiment. 第4実施形態に係る電磁波シールド用積層体の一例を示す模式的断面図。The schematic cross section which shows an example of the laminated body for electromagnetic wave shields concerning 4th Embodiment. 第4実施形態に係る電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。The schematic cross section which shows an example of the manufacturing process of the electronic component mounting board which concerns on 4th Embodiment. 第5実施形態に係る電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。The schematic cross section which shows an example of the manufacturing process of the electronic component mounting board which concerns on 5th Embodiment. 変形例に係る電子部品搭載基板の製造工程の一例を示す模式的断面図。FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing process of an electronic component mounting board according to a modification. 本実施例に係る電子部品搭載基板の一例を示す模式的断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of an electronic component mounting board according to the present embodiment. 本実施例3に係る電子部品搭載基板の側面の電子顕微鏡写真。5 is an electron micrograph of a side surface of the electronic component mounting board according to the third embodiment. 本比較例1に係る電子部品搭載基板の側面の電子顕微鏡写真。5 is an electron micrograph of a side surface of the electronic component mounting board according to Comparative Example 1. 電子部品等に電磁波シールド部材を被覆する工程を説明する模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating a step of coating an electronic component or the like with an electromagnetic wave shield member. 電子部品等に電磁波シールド部材を被覆する工程を説明する模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating a step of coating an electronic component or the like with an electromagnetic wave shield member. 電子部品等に電磁波シールド部材を被覆する工程を説明する模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating a step of coating an electronic component or the like with an electromagnetic wave shield member. 電子部品等に電磁波シールド部材を被覆する工程を説明する模式的断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating a step of coating an electronic component or the like with an electromagnetic wave shield member.

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。なお、本明細書において特定する数値は、実施形態または実施例に開示した方法により求められる値である。また、本明細書で特定する数値「A〜B」は、数値Aと数値Aより大きい値および数値Bと数値Bより小さい値を満たす範囲をいう。また、本明細書におけるシートとは、JISにおいて定義されるシートのみならず、フィルムも含むものとする。説明を明確にするため、以下の記載および図面は、適宜、簡略化されている。本明細書中に出てくる各種成分は特に注釈しない限り、それぞれ独立に一種単独でも二種以上を併用してもよい。 Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described. The numerical values specified in this specification are values obtained by the method disclosed in the embodiment or the example. Further, the numerical values “A to B” specified in this specification refer to ranges satisfying the numerical values A and the values larger than the numerical value A and the numerical values B and the values smaller than the numerical value B. In addition, the sheet in this specification includes not only a sheet defined by JIS but also a film. For clarity of explanation, the following description and drawings are simplified as appropriate. Unless otherwise noted, the various components appearing in this specification may be used alone or in combination of two or more.

[第1実施形態]
<電子部品搭載基板>
図1に第1実施形態に係る電子部品搭載基板の一例を示す模式的斜視図を、図2に図1のII−II切断部断面図を示す。電子部品搭載基板51は、基板20、電子部品30および電磁波シールド部材1等を有する。
[First Embodiment]
<Electronic component mounting board>
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of the electronic component mounting board according to the first embodiment, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II of FIG. The electronic component mounting board 51 includes the substrate 20, the electronic component 30, the electromagnetic wave shield member 1, and the like.

基板20は、電子部品30を搭載可能であり、且つ後述する熱圧着工程に耐え得る基板であればよく、任意に選択できる。例えば銅箔等からなる導電パターンが表面又は内部に形成されたワークボード、実装モジュール基板、プリント配線板またはビルドアップ法等により形成されたビルドアップ基板が挙げられる。また、フィルムやシート状のフレキシブル基板を用いてもよい。前記導電パターンは、例えば、電子部品30と電気的に接続するための電極・配線パターン(不図示)、電磁波シールド部材1と電気的に接続するためのグランドパターン22である。基板20内部には電極・配線パターン、ビア(不図示)等を任意に設けることができる。基板20はリジッド基板のみならず、フレキシブル基板であってもよい。 The substrate 20 may be any substrate as long as it can mount the electronic component 30 and can withstand the thermocompression bonding process described later, and can be arbitrarily selected. For example, a work board having a conductive pattern made of copper foil or the like formed on the surface or inside thereof, a mounted module board, a printed wiring board, or a build-up board formed by a build-up method or the like can be mentioned. Alternatively, a film or sheet-shaped flexible substrate may be used. The conductive pattern is, for example, an electrode/wiring pattern (not shown) for electrically connecting to the electronic component 30, and a ground pattern 22 for electrically connecting to the electromagnetic wave shield member 1. Electrodes/wiring patterns, vias (not shown) and the like can be arbitrarily provided inside the substrate 20. The substrate 20 may be not only a rigid substrate but also a flexible substrate.

電子部品30は、図1の例においては基板20上に5×4個アレイ状に配置されている。そして、基板20および電子部品30の露出面を被覆するように電磁波シールド部材1が設けられている。即ち、電磁波シールド部材1は、電子部品30により形成される凹凸に追従するように被覆されている。電磁波シールド部材1により、電子部品30および/または基板20に内蔵された信号配線等から発生する不要輻射を遮蔽し、また、外部からの磁場や電波による誤動作を防止できる。 In the example of FIG. 1, the electronic components 30 are arranged in a 5×4 array on the substrate 20. The electromagnetic wave shield member 1 is provided so as to cover the exposed surfaces of the substrate 20 and the electronic component 30. That is, the electromagnetic wave shield member 1 is coated so as to follow the irregularities formed by the electronic component 30. The electromagnetic wave shield member 1 shields unnecessary radiation generated from the signal wiring and the like built in the electronic component 30 and/or the substrate 20, and can prevent malfunction due to a magnetic field or radio waves from the outside.

電子部品30の個数、配置、形状および種類は任意である。アレイ状に電子部品30を配置する態様に代えて、電子部品30を任意の位置に配置してもよい。電子部品搭載基板51を単位モジュールに個片化する場合、図2に示すように、基板上面から基板の厚み方向に単位モジュールを区画するようにハーフダイシング溝25を設けてもよい。なお、第1実施形態に係る電子部品搭載基板は、単位モジュールに個片化する前の基板、および単位モジュールに個片化した後の基板の両方を含む。即ち、図1、図2のような複数の単位モジュール(電子部品30)が搭載された電子部品搭載基板51の他、図3のような単位モジュールに個片化した後の電子部品搭載基板52も含む。無論、個片化工程を経ずに、基板20上に1つの電子部品30を搭載し、電磁波シールド部材で被覆した電子部品搭載基板も含まれる。即ち、第1実施形態に係る電子部品搭載基板は、基板上に少なくとも1つの電子部品が搭載されており、電子部品の搭載により形成された段差部の少なくとも一部に電磁波シールド部材が被覆された構造を包括する。 The number, arrangement, shape and type of electronic components 30 are arbitrary. Instead of arranging the electronic components 30 in an array, the electronic components 30 may be arranged at arbitrary positions. When the electronic component mounting substrate 51 is divided into unit modules, as shown in FIG. 2, the half dicing groove 25 may be provided so as to partition the unit modules in the thickness direction of the substrate from the upper surface of the substrate. The electronic component mounting board according to the first embodiment includes both a board before being divided into unit modules and a board after being divided into unit modules. That is, in addition to the electronic component mounting substrate 51 on which a plurality of unit modules (electronic components 30) are mounted as shown in FIGS. 1 and 2, the electronic component mounting substrate 52 after being divided into unit modules as shown in FIG. Also includes. Of course, an electronic component mounting substrate in which one electronic component 30 is mounted on the substrate 20 and covered with an electromagnetic wave shield member without undergoing the individualizing step is also included. That is, in the electronic component mounting board according to the first embodiment, at least one electronic component is mounted on the substrate, and at least a part of the step portion formed by mounting the electronic component is covered with the electromagnetic wave shield member. Comprehensive structure.

電子部品30は、半導体集積回路等の電子素子が絶縁体により一体的に被覆された部品全般を含む。例えば、集積回路(不図示)が形成された半導体チップ31(図3参照)が封止材(モールド樹脂32)によりモールド成型されている態様がある。基板20と半導体チップ31は、これらの当接領域を介して、又はボンディングワイヤ33、はんだボール(不図示)等を介して基板20に形成された配線又は電極21と電気的に接続される。電子部品は、半導体チップの他、インダクタ、サーミスタ、キャパシタおよび抵抗等が例示できる。 The electronic component 30 includes all components in which electronic elements such as a semiconductor integrated circuit are integrally covered with an insulator. For example, there is a mode in which a semiconductor chip 31 (see FIG. 3) on which an integrated circuit (not shown) is formed is molded with a sealing material (mold resin 32). The substrate 20 and the semiconductor chip 31 are electrically connected to the wiring or the electrode 21 formed on the substrate 20 via these contact areas, or via the bonding wires 33, solder balls (not shown) and the like. Examples of electronic components include semiconductor chips, inductors, thermistors, capacitors and resistors.

第1実施形態に係る電子部品30および基板20は、公知の態様に対して広く適用できる。図3の例においては、半導体チップ31は、インナービア23を介して基板20の裏面にはんだボール24が接続されている。また、基板20内には、電磁波シールド部材1と電気的に接続するためのグランドパターン22が形成されている。また、後述する第4実施形態のように、個片化後の電子部品搭載基板もしくは個片化しない電子部品搭載基板に、複数の電子部品30が搭載されていてもよい(図14(c)参照)。また、電子部品30内には、単数又は複数の電子素子等を搭載できる。 The electronic component 30 and the substrate 20 according to the first embodiment can be widely applied to known aspects. In the example of FIG. 3, the semiconductor chip 31 has solder balls 24 connected to the back surface of the substrate 20 via inner vias 23. In addition, a ground pattern 22 for electrically connecting to the electromagnetic wave shield member 1 is formed in the substrate 20. Further, as in a fourth embodiment described later, a plurality of electronic components 30 may be mounted on the electronic component mounting substrate after being singulated or the electronic component mounting substrate that is not singulated (FIG. 14C). reference). In addition, a single or a plurality of electronic elements or the like can be mounted in the electronic component 30.

<電磁波シールド部材>
電磁波シールド部材1は、基板20上に搭載された電子部品30の天面に電磁波シールド用積層体を載置して熱圧着により電子部品30および基板20を被覆することにより得られる。電磁波シールド部材1は、電子部品30上面から基板20に亘って被覆され、電子部品30の搭載によって形成された段差部の側面および基板20の少なくとも一部を被覆する。電子部品30が搭載された面全体を被覆していることは必須ではない。電磁波シールド部材1は、シールド効果を充分に発揮させるために、基板20の側面または上面に露出するグランドパターン22または/および電子部品30の接続用配線等のグランドパターン(不図示)に接続する構成が好ましい。
<Electromagnetic wave shield member>
The electromagnetic wave shield member 1 is obtained by placing the electromagnetic wave shielding laminate on the top surface of the electronic component 30 mounted on the substrate 20 and coating the electronic component 30 and the substrate 20 by thermocompression bonding. The electromagnetic wave shield member 1 is covered from the upper surface of the electronic component 30 to the substrate 20, and covers the side surface of the step portion formed by mounting the electronic component 30 and at least a part of the substrate 20. It is not essential to cover the entire surface on which the electronic component 30 is mounted. The electromagnetic wave shield member 1 is connected to a ground pattern 22 exposed on the side surface or the upper surface of the substrate 20 and/or a ground pattern (not shown) such as a connection wiring of the electronic component 30 in order to sufficiently exert the shielding effect. Is preferred.

電磁波シールド部材1は、電磁波シールド用積層体を用いて形成することができる。図4に、電磁波シールド用積層体の模式的断面図を示す。第1実施形態に係る電磁波シールド用積層体4は、電磁波シールド用部材2と離形性クッション部材3からなる。この電磁波シールド用部材2は、第1実施形態においては導電性接着剤層6の単層からなる。導電性接着剤層6は熱圧着により電子部品30および基板20に接合されて電磁波シールド層5が形成される。第1実施形態においては、この電磁波シールド層5が電磁波シールド部材1として機能する。 The electromagnetic wave shield member 1 can be formed by using an electromagnetic wave shield laminate. FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view of the electromagnetic wave shielding laminate. The electromagnetic wave shield laminate 4 according to the first embodiment includes an electromagnetic wave shield member 2 and a releasable cushion member 3. The electromagnetic wave shielding member 2 is composed of a single layer of the conductive adhesive layer 6 in the first embodiment. The conductive adhesive layer 6 is bonded to the electronic component 30 and the substrate 20 by thermocompression bonding to form the electromagnetic wave shield layer 5. In the first embodiment, the electromagnetic wave shield layer 5 functions as the electromagnetic wave shield member 1.

電磁波シールド用部材2は、後述する第2実施形態のように2層以上の導電性接着剤層の積層体から形成したり、第3実施形態のように導電性接着剤層とハードコート層の積層体から形成したり、第4実施形態のように絶縁性接着剤層と導電性接着剤層の積層体から形成したりする等、他の層の積層体から形成してもよい。電磁波シールド用部材2を熱圧着して得られる電磁波シールド部材1は、第2実施形態では2層以上の電磁波シールド層の積層体から構成され、第3実施形態では電磁波シールド層とハードコート層の積層体から構成され、第4実施形態では絶縁被覆層と電磁波シールド層の積層体から構成されている。このように電磁波シールド部材は、電磁波シールド層と他の層との積層体から構成してもよい。 The electromagnetic wave shield member 2 is formed of a laminate of two or more conductive adhesive layers as in the second embodiment described later, or is formed of a conductive adhesive layer and a hard coat layer as in the third embodiment. It may be formed of a laminated body of other layers such as a laminated body or a laminated body of an insulating adhesive layer and a conductive adhesive layer as in the fourth embodiment. The electromagnetic wave shield member 1 obtained by thermocompression bonding the electromagnetic wave shield member 2 is composed of a laminated body of two or more electromagnetic wave shield layers in the second embodiment, and is composed of an electromagnetic wave shield layer and a hard coat layer in the third embodiment. It is composed of a laminated body, and in the fourth embodiment, it is composed of a laminated body of an insulating coating layer and an electromagnetic wave shielding layer. Thus, the electromagnetic wave shield member may be composed of a laminate of the electromagnetic wave shield layer and other layers.

電磁波シールド層5には、バインダー樹脂と導電性フィラーが含まれる。電磁波シールド層5中の導電性フィラーは連続的に接触されており導電性を示す。電磁波シールド性を高める観点から電磁波シールド層5のシート抵抗値は1Ω/□以下が好ましい。 The electromagnetic wave shield layer 5 contains a binder resin and a conductive filler. The conductive filler in the electromagnetic wave shield layer 5 is in continuous contact with the conductive filler and exhibits conductivity. From the viewpoint of enhancing the electromagnetic wave shielding property, the sheet resistance value of the electromagnetic wave shielding layer 5 is preferably 1Ω/□ or less.

電磁波シールド部材1は、その押込み弾性率を1〜10GPaとする。押し込み弾性率をこの範囲にすることにより、電磁波シールド部材1の応力に対する局所的な微小変形を抑制することが可能となり、その結果として電磁波シールド部材1のバリ発生による損傷を効果的に抑制できる。更に、PCT耐性に優れるので、リフロー工程後の密着性低下を効果的に抑制できる。このため、品質の高い電子部品搭載基板を提供できる。 The electromagnetic wave shield member 1 has an indentation elastic modulus of 1 to 10 GPa. By setting the indentation elastic modulus within this range, it is possible to suppress local minute deformation of the electromagnetic wave shield member 1 due to stress, and as a result, it is possible to effectively suppress damage due to the occurrence of burrs on the electromagnetic wave shield member 1. Furthermore, since the PCT resistance is excellent, it is possible to effectively suppress the decrease in adhesion after the reflow process. Therefore, a high-quality electronic component mounting board can be provided.

電磁波シールド部材1の押込み弾性率を1GPa以上とすることにより、切断工程におけるダイシングブレード等の切削工具から受ける応力に対して電磁波シールド部材1の変形を抑制し、製造工程により生じる電磁波シールド部材1のバリ(図23の(i)参照)を効果的に抑制できる。なお、本明細書でいうバリとは、電磁波シールド部材1の切断面を基点とした電磁波シールド部材の捲れをいう。 By setting the indentation elastic modulus of the electromagnetic wave shield member 1 to 1 GPa or more, the deformation of the electromagnetic wave shield member 1 against the stress received from the cutting tool such as the dicing blade in the cutting process is suppressed, and the electromagnetic wave shield member 1 produced in the manufacturing process is suppressed. Burrs (see (i) in FIG. 23) can be effectively suppressed. In addition, the burr mentioned in the present specification refers to turning of the electromagnetic wave shield member based on the cut surface of the electromagnetic wave shield member 1.

電磁波シールド部材1の押込み弾性率は、熱圧着前の後述する電磁波シールド用積層体4中の電磁波シールド用部材2の組成物により調整することができる。より具体的には電磁波シールド部材1を形成するための、熱圧着前の電磁波シールド用部材2の組成物中のバインダー樹脂前駆体の種類、各成分の配合量等によって調整できる。具体的には、押込み弾性率は、フィラーの含有量が多くなる程大きくなる傾向がある。また、バインダー樹脂前駆体として用いる樹脂の官能基数や硬化性化合物の含有量を増やすことによっても押込み弾性率が大きくなる傾向にある。また、バインダー樹脂の硬さが高いほど押込み弾性率が大きくなる傾向にある。従って、バインダー樹脂を形成するためのバインダー樹脂前駆体の種類、或いはバインダー樹脂の架橋密度を適切にすることが好適である。架橋密度は、樹脂および硬化性化合物の種類や官能基数によって容易に調整できる。 The indentation elastic modulus of the electromagnetic wave shield member 1 can be adjusted by the composition of the electromagnetic wave shield member 2 in the electromagnetic wave shield laminate 4 to be described later before thermocompression bonding. More specifically, it can be adjusted by the kind of the binder resin precursor in the composition of the electromagnetic wave shielding member 2 before thermocompression bonding for forming the electromagnetic wave shielding member 1, the blending amount of each component, and the like. Specifically, the indentation elastic modulus tends to increase as the filler content increases. In addition, the indentation elastic modulus tends to increase by increasing the number of functional groups of the resin used as the binder resin precursor or the content of the curable compound. Further, the higher the hardness of the binder resin, the larger the indentation elastic modulus tends to be. Therefore, it is preferable to make the kind of the binder resin precursor for forming the binder resin or the crosslink density of the binder resin appropriate. The crosslink density can be easily adjusted by the types of resins and curable compounds and the number of functional groups.

なお、押込み弾性率は外部応力による材料の変形に対する性質を表しているヤング率と考えることもできる。本明細書の「押込み弾性率」は、後述する実施例で記載した測定方法および測定条件によって得られる値をいう。 The indentation elastic modulus can also be considered as the Young's modulus which represents the property of the material to be deformed by external stress. The “indentation elastic modulus” in the present specification refers to a value obtained by the measuring method and the measuring condition described in Examples described later.

電磁波シールド部材1の押込み弾性率のより好ましい範囲は1.5GPa越え、8GPa以下であり、更に好ましい範囲は2GPa以上、7.4GPa以下である。 A more preferable range of the indentation elastic modulus of the electromagnetic wave shield member 1 is more than 1.5 GPa and 8 GPa or less, and a more preferable range is 2 GPa or more and 7.4 GPa or less.

電磁波シールド部材1の膜厚は、用途により適宜選定できる。薄型化が求められている用途には、電子部品の上面を被覆する電磁波シールド部材1の厚みT1及びT2は、例えば10〜200μm程度にすることができる。 The film thickness of the electromagnetic wave shield member 1 can be appropriately selected depending on the application. For applications where thinning is required, the thickness T1 and T2 of the electromagnetic wave shield member 1 that covers the upper surface of the electronic component can be set to, for example, about 10 to 200 μm.

電子部品30上に製品情報が刻印されることがある。その場合、電子部品30に刻印した後に電磁波シールド部材1を形成する方法、電子部品30に電磁波シールド部材1を形成した後に電磁波シールド部材に刻印する方法がある。いずれの場合にも、高いシールド性を保ちながらその刻印の良好な視認性が求められる。両特性を満足させる観点から、電磁波シールド部材の膜厚T1は10μm以上が好ましく、20μm以上がより好ましい。後者の刻印方法、即ち、電磁波シールド部材上に刻印する場合、電磁波シールド部材の膜厚の上限はない。一方、前者の刻印方法、即ち、電子部品に直接刻印する場合、刻印の視認性を保つために電磁波シールド部材の膜厚T1の上限は50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましい。 Product information may be stamped on the electronic component 30. In that case, there are a method of forming the electromagnetic wave shield member 1 after marking on the electronic component 30 and a method of forming the electromagnetic wave shield member 1 on the electronic component 30 and then marking on the electromagnetic wave shield member. In any case, good visibility of the marking is required while maintaining high shielding property. From the viewpoint of satisfying both characteristics, the film thickness T1 of the electromagnetic wave shield member is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more. In the latter marking method, that is, in the case of marking on the electromagnetic wave shield member, there is no upper limit of the film thickness of the electromagnetic wave shield member. On the other hand, in the former marking method, that is, when directly marking on an electronic component, the upper limit of the film thickness T1 of the electromagnetic wave shield member is preferably 50 μm or less, and more preferably 30 μm or less in order to maintain the visibility of the marking.

電磁波シールド部材1の表層の水接触角は70〜110°とすることが好ましい。この範囲とすることにより、製造工程時の電磁波シールド層の損傷をより効果的に抑制することができる。また、電子部品30のハーフダイシング溝25に形成された溝状の凹部に充填された離形性クッション部材を電磁波シールド部材1から剥がす際にバリの発生を抑制できる。電磁波シールド部材の水接触角のより好ましい範囲は75〜105°であり、更に好ましい範囲は80〜100°である。電磁波シールド部材の水接触角は、電磁波シールド部材を形成する組成物において表面調整剤の添加量によりその数値を調整することができる。電磁波シールド部材1における表面調整剤の添加量が増えるにつれて水接触角の値が大きくなる傾向にある。 The water contact angle of the surface layer of the electromagnetic wave shield member 1 is preferably 70 to 110°. By setting this range, it is possible to more effectively suppress damage to the electromagnetic wave shield layer during the manufacturing process. Further, when the releasable cushion member filled in the groove-shaped recess formed in the half dicing groove 25 of the electronic component 30 is peeled from the electromagnetic wave shield member 1, it is possible to suppress the occurrence of burrs. The more preferable range of the water contact angle of the electromagnetic wave shield member is 75 to 105°, and the more preferable range is 80 to 100°. The water contact angle of the electromagnetic wave shield member can be adjusted by adjusting the amount of the surface conditioner added to the composition forming the electromagnetic wave shield member. The value of the water contact angle tends to increase as the amount of the surface conditioner added to the electromagnetic wave shield member 1 increases.

プレッシャークッカー(以下、PCTともいう)試験耐性をより優れたものとするためには、電磁波シールド部材1のマルテンス硬さを50N/mm以上の範囲とすることが好ましい。電磁波シールド部材1の押込み弾性率を1〜10GPaの範囲とし、更にマルテンス硬さ50N/mm以上を組み合わせることにより、プレッシャークッカー試験後の密着性がより優れたものとなる。その結果、リフロー後においても密着性に優れた電磁波シールド部材1を提供できる。マルテンス硬さは60N/mm以上がより好ましく、70N/mm以上が更に好ましい。 In order to make the pressure cooker (hereinafter, also referred to as PCT) test resistance more excellent, it is preferable that the electromagnetic shield member 1 has a Martens hardness of 50 N/mm 2 or more. When the indentation elastic modulus of the electromagnetic wave shield member 1 is set in the range of 1 to 10 GPa and the Martens hardness of 50 N/mm 2 or more is combined, the adhesion after the pressure cooker test becomes more excellent. As a result, it is possible to provide the electromagnetic wave shield member 1 having excellent adhesion even after reflow. Martens hardness is more preferably 60N / mm 2 or more, 70N / mm 2 or more is more preferable.

マルテンス硬さは、導電性フィラーおよびバインダー成分の硬さにより調整できる。バインダー成分の硬さは、主として熱硬化性樹脂と硬化性化合物の硬化物の硬さによる。具体的には、鱗片状粒子の添加によりマルテンス硬さが大きくなる傾向にあり、球状、デンドライト状粒子の添加によりマルテンス硬さが低くなる傾向にある。また、導電性フィラー量が多くなるとマルテンス硬さは大きくなる傾向にある。また、硬化後の樹脂の硬さが高いほど、マルテンス硬さも硬くなる。 The Martens hardness can be adjusted by the hardness of the conductive filler and the binder component. The hardness of the binder component mainly depends on the hardness of the cured product of the thermosetting resin and the curable compound. Specifically, the addition of scale-like particles tends to increase the Martens hardness, and the addition of spherical or dendrite-like particles tends to decrease the Martens hardness. Further, as the amount of conductive filler increases, the Martens hardness tends to increase. Further, the higher the hardness of the cured resin, the harder the Martens hardness.

製造方法については後述するが、電子部品30を搭載した基板20に電磁波シールド用積層体4を熱圧着後、電磁波シールド部材1から離形性クッション部材を剥離する際の離形性を高める観点からは、電磁波シールド部材1の表層のJISB0601;2001に準拠して測定したクルトシスを8以下とすることが好ましい。8以下にすることにより、電磁波シールド部材1の表面形状の尖り度が適切なものとなり、離形性クッション部材3と電磁波シールド部材1との剥離が容易となると考えられる。その結果、電子部品同士の間隙のハーフダイシング溝25に離形性クッション部材3が千切れて残渣として残存する現象を効果的に抑制できる。なお、本明細書で千切れとは、離形性クッション部材を剥離する際に千切れて、電子部品の間隙である溝に残存してしまった離形性クッション部材をいう。 Although a manufacturing method will be described later, from the viewpoint of enhancing releasability when the releasable cushion member is peeled from the electromagnetic wave shield member 1 after the electromagnetic wave shield laminate 4 is thermocompression bonded to the substrate 20 on which the electronic component 30 is mounted. It is preferable that the kurtosis of the surface layer of the electromagnetic wave shield member 1 measured according to JIS B0601; 2001 is 8 or less. It is considered that when it is 8 or less, the sharpness of the surface shape of the electromagnetic wave shield member 1 becomes appropriate, and the release cushion member 3 and the electromagnetic wave shield member 1 are easily separated. As a result, it is possible to effectively suppress the phenomenon that the releasable cushion member 3 is torn in the half dicing groove 25 in the gap between the electronic components and remains as a residue. In the present specification, the “removable” cushion member is a releasable cushion member that is torn when the releasable cushion member is peeled and remains in a groove that is a gap between electronic components.

また、耐擦傷性を高める観点からは、電磁波シールド部材1のクルトシスを1以上にすることが好ましい。1以上にすることにより、スチールウール耐性を向上させることができる。電磁波シールド部材のクルトシスのより好ましい範囲は1.5〜6.5であり、更に好ましい範囲は2〜4である。 Further, from the viewpoint of enhancing the scratch resistance, it is preferable that the electromagnetic wave shield member 1 has a kurtosis of 1 or more. By setting it to 1 or more, the resistance to steel wool can be improved. The more preferable range of the kurtosis of the electromagnetic wave shield member is 1.5 to 6.5, and the more preferable range thereof is 2 to 4.

電磁波シールド部材1は、その表層のJISB0601;2001に準拠して測定したクルトシスが1〜8の範囲であることが好ましい。ここで、クルトシスは、数式(1)で表される表面凹凸の粗さ曲線を示す指標であり、高さ分布の平坦度、尖り度を表す。
ここで、Lは基準長さである。また、Rqは二乗平均平方根高さであり、一つの軸(x軸)に沿った表面の高さ変化をZ(x)として以下の数式(2)で表される。
The electromagnetic wave shield member 1 preferably has a kurtosis of 1 to 8 measured on the surface layer according to JIS B0601; 2001. Here, the kurtosis is an index showing the roughness curve of the surface unevenness expressed by the mathematical expression (1), and represents the flatness and the sharpness of the height distribution.
Here, L is a reference length. Further, Rq is a root mean square height, and is represented by the following mathematical expression (2), where Z(x) is a surface height change along one axis (x axis).

クルトシスは、二乗平均平方根高さRqの四乗によって無次元化した基準長さにおいて、Z(x)の四乗平均を示す。クルトシスが3のときは、凸部(または凹部)の尖りの分布が正規分布に近いことを示す。クルトシスが3より大きくなるにつれて、基準高さRqに対して急峻な尖った凸部(または凹部)の数が増加し、クルトシスが3よりも小さくなるにつれて、急峻な尖った凸部(または凹部)の数が少なくなることを表す。 Kurtosis shows the quartic mean of Z(x) in the standard length made dimensionless by the quadratic of the root mean square height Rq. When the kurtosis is 3, it indicates that the distribution of the sharpness of the convex portion (or the concave portion) is close to the normal distribution. The number of sharp pointed protrusions (or recesses) with respect to the reference height Rq increases as the kurtosis becomes larger than 3, and the steep pointed protrusions (or recesses) becomes smaller as the kurtosis becomes smaller than 3. Indicates that the number of

製造方法については後述するが、電子部品30を搭載した基板に電磁波シールド用積層体4を熱圧着後、電磁波シールド部材1から離形性クッション部材3を剥離する際に、ハーフダイシング溝25の離形性クッション部材3はほぼ垂直に摺りながら引き剥がされることになる。投錨効果によって離形性クッション部材3は破断しやすいため、これを抑制する技術が求められている。本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、電磁波シールド部材1の接触界面の形状コントロールが重要であり、この形状として上記のクルトシスの範囲が好適であることを見出した。 Although the manufacturing method will be described later, when the electromagnetic wave shielding laminate 4 is thermocompression bonded to the substrate on which the electronic component 30 is mounted, the half dicing groove 25 is separated when the releasable cushion member 3 is separated from the electromagnetic wave shielding member 1. The shape cushion member 3 is peeled off while sliding almost vertically. Since the releasable cushion member 3 easily breaks due to the anchoring effect, a technique for suppressing this is required. As a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that the shape control of the contact interface of the electromagnetic wave shield member 1 is important, and the above range of kurtosis is suitable as this shape.

電磁波シールド部材1の表面の二乗平均平方根高さは0.4〜1.6μmの範囲とすることが好ましく、0.5〜1.5μmとすることがより好ましく、0.7〜1.2μmとすることが更に好ましい。本明細書において、クルトシスと二乗平均平方根高さは、後述する実施例に記載の方法により求めた値をいう。 The root mean square height of the surface of the electromagnetic wave shield member 1 is preferably in the range of 0.4 to 1.6 μm, more preferably 0.5 to 1.5 μm, and 0.7 to 1.2 μm. More preferably. In the present specification, the kurtosis and the root mean square height refer to values obtained by the method described in Examples below.

電磁波シールド部材1の表面のクルトシスは、電磁波シールド用積層体4中の電磁波シールド用部材2の製造工程により調整することができる。また、電磁波シールド部材1を形成するための、熱圧着前の電磁波シールド用部材2の組成物中の各成分の種類やその配合量によって調整できる。詳細は後述する。なお、本発明者らが検討を重ねたところ、電磁波シールド層として機能し得る量の導電性フィラーを配合することにより、リフロー処理前後においてクルトシスの値は実質的に変動しないか、変動してもその変化量は小さいことを確認した。 The kurtosis on the surface of the electromagnetic wave shield member 1 can be adjusted by the manufacturing process of the electromagnetic wave shield member 2 in the electromagnetic wave shield laminate 4. Further, it can be adjusted by the kind of each component in the composition of the electromagnetic wave shielding member 2 before thermocompression bonding for forming the electromagnetic wave shielding member 1 and the compounding amount thereof. Details will be described later. Note that the inventors of the present invention have made extensive studies, and by adding an amount of a conductive filler that can function as an electromagnetic wave shield layer, the value of kurtosis does not substantially change before or after the reflow treatment, or even if it changes. It was confirmed that the amount of change was small.

<電子部品搭載基板の製造方法>
以下、第1実施形態の電子部品搭載基板の製造方法の一例について図5〜図8を用いて説明する。但し、本発明の電子部品搭載基板の製造方法は、以下の製造方法に限定されるものではない。
<Method for manufacturing electronic component mounting board>
Hereinafter, an example of a method of manufacturing the electronic component mounting board of the first embodiment will be described with reference to FIGS. However, the manufacturing method of the electronic component mounting board of the present invention is not limited to the following manufacturing method.

第1実施形態に係る電子部品搭載基板の製造方法は、[a]基板20に電子部品30を搭載する工程と、[b]電子部品30が搭載された基板20上に電磁波シールド用積層体4を載置する工程と、[c]電子部品30の搭載により形成された段差部の側面および基板20の露出面の少なくとも一部に追従するように熱圧着によって電磁波シールド部材1を接合する工程と、[d]離形性クッション部材3を剥離する工程と、[e]電子部品搭載基板51を個片化する工程を備える。以下、各工程について説明する。 The method of manufacturing an electronic component mounting board according to the first embodiment includes [a] a step of mounting the electronic component 30 on the substrate 20, and [b] a laminated body 4 for electromagnetic wave shielding on the substrate 20 on which the electronic component 30 is mounted. And [c] joining the electromagnetic wave shield member 1 by thermocompression bonding so as to follow at least part of the side surface of the step formed by mounting the electronic component 30 and the exposed surface of the substrate 20. , [D] a step of peeling the releasable cushion member 3, and [e] a step of dividing the electronic component mounting board 51 into individual pieces. Hereinafter, each step will be described.

[a]基板に電子部品を搭載する工程:
まず、基板20に電子部品30を搭載する。例えば、基板20上に半導体チップ(不図示)を搭載し、半導体チップが形成されている基板20上を封止樹脂によりモールド成形し、電子部品30間の上方から基板20内部まで到達するように、モールド樹脂および基板20をダイシング等によりハーフカットする。予めハーフカットされた基板20上に電子部品30をアレイ状に配置する方法でもよい。これらの工程を経て、例えば、図5に示すような電子部品30が搭載された基板20が得られる。なお、電子部品30とは、図5の例においては半導体チップをモールド成形した一体物をいい、絶縁体により保護された電子素子全般をいう。ハーフカットは、基板20内部まで到達させる態様の他、基板20の表面までカットする態様がある。また、基板20全体をこの段階でカットしてもよい。この場合には、粘着テープ付き基体上に基板20を載置して位置ずれが生じないようにしておくことが好ましい。モールド成形する場合の封止樹脂の材料は特に限定されないが、熱硬化性樹脂が通常用いられる。封止樹脂の形成方法は特に限定されず、印刷、ラミネート、トランスファー成形、コンプレッション、注型等が挙げられる。モールド成形は任意であり、電子部品30の搭載方法も任意に変更できる。
[A] Step of mounting electronic components on the substrate:
First, the electronic component 30 is mounted on the substrate 20. For example, a semiconductor chip (not shown) is mounted on the substrate 20, and the substrate 20 on which the semiconductor chip is formed is molded with a sealing resin so that the inside of the substrate 20 is reached from above the electronic components 30. The mold resin and the substrate 20 are half-cut by dicing or the like. A method of arranging the electronic components 30 in an array on the substrate 20 that is half-cut in advance may be used. Through these steps, for example, the substrate 20 on which the electronic component 30 is mounted as shown in FIG. 5 is obtained. In the example of FIG. 5, the electronic component 30 refers to an integrated body obtained by molding a semiconductor chip, and refers to all electronic elements protected by an insulator. The half-cut includes a mode of reaching the inside of the substrate 20 and a mode of cutting to the surface of the substrate 20. Also, the entire substrate 20 may be cut at this stage. In this case, it is preferable that the substrate 20 is placed on the adhesive tape-attached substrate so as not to cause positional deviation. The material of the sealing resin for molding is not particularly limited, but a thermosetting resin is usually used. The method for forming the sealing resin is not particularly limited, and examples thereof include printing, laminating, transfer molding, compression, casting and the like. Molding is arbitrary, and the mounting method of the electronic component 30 can be changed arbitrarily.

[b]基板上に電磁波シールド用積層体を載置する工程:
次いで、電子部品30が搭載された基板20を熱圧着により溶融させて被覆させる、電磁波シールド用積層体4を用意する(図4参照)。電磁波シールド用積層体4の導電性接着剤層6が電子部品30側になるように電子部品30の天面上に電磁波シールド用積層体4を載置する。このとき、電磁波シールド用積層体4を電子部品30の一部または全面に仮貼付してもよい。仮貼付とは、電子部品30の少なくとも一部の上面と接触するように仮接合するものであり、導電性接着剤層6がBステージで被着体に固定されている状態をいう。剥離力としては、90°ピール試験で、カプトン200に対する剥離力が1〜5N/cm程度が好ましい。仮貼りする手法として、電子部品30を搭載した基板20上に電磁波シールド用積層体4を載せ、アイロン等の熱源で軽く全面または端部を熱圧着して仮貼りする方法が例示できる。製造設備あるいは基板20のサイズ等に応じて、基板20の領域毎に複数の電磁波シールド用積層体4を用いてもよい。また、電子部品30毎に電磁波シールド用積層体4を用いてもよい。製造工程の簡略化の観点からは、基板20上に搭載された複数の電子部品30全体に1枚の電磁波シールド用積層体4を用いることが好ましい。
[B] Step of placing the electromagnetic wave shielding laminate on the substrate:
Next, the electromagnetic wave shielding laminate 4 is prepared in which the substrate 20 on which the electronic component 30 is mounted is melted by thermocompression bonding and coated (see FIG. 4 ). The electromagnetic wave shielding laminate 4 is placed on the top surface of the electronic component 30 so that the conductive adhesive layer 6 of the electromagnetic wave shielding laminate 4 is on the electronic component 30 side. At this time, the electromagnetic wave shielding laminate 4 may be temporarily attached to a part or the whole surface of the electronic component 30. The term "temporary attachment" refers to a state in which the conductive adhesive layer 6 is fixed to an adherend at the B stage, which is temporarily joined so as to come into contact with the upper surface of at least a part of the electronic component 30. As the peeling force, in the 90° peel test, the peeling force with respect to Kapton 200 is preferably about 1 to 5 N/cm. An example of the temporary attachment method is a method of placing the electromagnetic wave shielding laminate 4 on the substrate 20 on which the electronic component 30 is mounted and lightly thermocompressing the entire surface or the end portion with a heat source such as an iron to temporarily attach. A plurality of electromagnetic wave shielding laminates 4 may be used for each region of the substrate 20 depending on the manufacturing equipment or the size of the substrate 20. Further, the electromagnetic wave shielding laminate 4 may be used for each electronic component 30. From the viewpoint of simplifying the manufacturing process, it is preferable to use one electromagnetic wave shielding laminate 4 for the entire plurality of electronic components 30 mounted on the substrate 20.

[c]電磁波シールド部材を形成する工程:
続いて、電子部品30が搭載された基板20上に電磁波シールド用積層体4を一対のプレス基板40間に挟持し、熱圧着する(図6参照)。電磁波シールド用積層体4は、導電性接着剤層6および離形性クッション部材3が熱により溶融され、押圧によって製造基板に設けられたハーフカット溝に沿うように延伸され、電子部品30および基板20に追従して被覆される。導電性接着剤層6が電子部品30や基板20と接合されると共に熱圧着により電磁波シールド層5として機能する。第1実施形態においては、電磁波シールド部材1は電磁波シールド層5の単層からなるので、導電性接着剤層6を熱圧着したものが電磁波シールド部材1たる電磁波シールド層5となる。熱圧着後に、熱硬化を促すこと等を目的として別途加熱処理を行うこともできる。
[C] Step of forming electromagnetic wave shield member:
Subsequently, the electromagnetic wave shielding laminate 4 is sandwiched between the pair of press substrates 40 on the substrate 20 on which the electronic component 30 is mounted and thermocompression bonded (see FIG. 6 ). In the electromagnetic wave shielding laminate 4, the conductive adhesive layer 6 and the releasable cushion member 3 are melted by heat and stretched along the half-cut groove provided in the production substrate by pressing, and the electronic component 30 and the substrate are obtained. It is coated following 20. The conductive adhesive layer 6 is bonded to the electronic component 30 and the substrate 20 and also functions as the electromagnetic wave shield layer 5 by thermocompression bonding. In the first embodiment, the electromagnetic wave shield member 1 is composed of a single layer of the electromagnetic wave shield layer 5, so that the electromagnetic wave shield member 1 is obtained by thermocompression bonding the conductive adhesive layer 6. After thermocompression bonding, a separate heat treatment may be performed for the purpose of promoting heat curing.

電磁波シールド用積層体4を加熱プレスする際に、この電磁波シールド用積層体4とプレス基板40との間に、必要に応じて、熱軟化性部材やクッション紙等を用いてもよい。 When the electromagnetic wave shielding laminate 4 is heated and pressed, a heat softening member, cushion paper or the like may be used between the electromagnetic wave shielding laminate 4 and the press substrate 40, if necessary.

熱圧着工程の温度および圧力は、電子部品30の耐熱性、耐久性、製造設備あるいはニーズに応じて、導電性接着剤層6の被覆性が確保できる範囲においてそれぞれ独立に任意に設定できる。圧力範囲としては限定されないが、0.1〜5.0MPa程度が好ましく、0.5〜2.0MPaの範囲がより好ましい。プレス基板40をリリースすることにより図7に示すような製造基板が得られる。このようにして、電磁波シールド部材1により電子部品の天面および側面と基板の露出面とが被覆される。 The temperature and pressure in the thermocompression bonding process can be arbitrarily set independently within the range in which the coverage of the conductive adhesive layer 6 can be secured, depending on the heat resistance and durability of the electronic component 30, the manufacturing equipment or needs. The pressure range is not limited, but is preferably about 0.1 to 5.0 MPa, more preferably 0.5 to 2.0 MPa. By releasing the press board 40, a production board as shown in FIG. 7 is obtained. In this way, the electromagnetic shield member 1 covers the top and side surfaces of the electronic component and the exposed surface of the substrate.

熱圧着工程の加熱温度は100℃以上であることが好ましく、より好ましくは110℃以上、さらに好ましくは120℃以上である。また、上限値としては、電子部品30の耐熱性に依存するが、220℃であることが好ましく、200℃であることがより好ましく、180℃であることがさらに好ましい。 The heating temperature in the thermocompression bonding step is preferably 100° C. or higher, more preferably 110° C. or higher, even more preferably 120° C. or higher. Although the upper limit value depends on the heat resistance of the electronic component 30, it is preferably 220° C., more preferably 200° C., and further preferably 180° C.

熱圧着時間は電子部品30の耐熱性、電磁波シールド部材1に用いるバインダー樹脂、および生産工程等に応じて設定できる。バインダー樹脂前駆体として熱硬化性樹脂を用いる場合には、1分〜2時間程度の範囲が好適である。なお、熱圧着時間は1分〜1時間程度がより好ましい。この熱圧着により熱硬化性樹脂は、硬化する。但し、熱硬化性樹脂は、流動が可能であれば熱圧着前に部分的に硬化あるいは実質的に硬化が完了していてもよい。 The thermocompression bonding time can be set according to the heat resistance of the electronic component 30, the binder resin used for the electromagnetic wave shield member 1, the production process, and the like. When a thermosetting resin is used as the binder resin precursor, the range of about 1 minute to 2 hours is suitable. The thermocompression bonding time is more preferably about 1 minute to 1 hour. The thermosetting resin is cured by this thermocompression bonding. However, the thermosetting resin may be partially or substantially completely cured before thermocompression bonding as long as it can flow.

導電性接着剤層6の厚みは、電子部品30の天面および側面および基板20の露出面に被覆して、電磁波シールド層5を形成することが可能な厚みとする。用いるバインダー樹脂前駆体の流動性や、電子部品30間の距離およびサイズにより変動し得るが、通常、10〜200μm程度が好ましく、15〜100μm程度がより好ましく、20〜70μm程度がさらに好ましい。これにより、封止樹脂への被覆性を良好にしつつ、電磁波シールド性を効果的に発揮することができる。 The thickness of the conductive adhesive layer 6 is such that the electromagnetic wave shield layer 5 can be formed by covering the top and side surfaces of the electronic component 30 and the exposed surface of the substrate 20. Although it may vary depending on the fluidity of the binder resin precursor used and the distance and size between the electronic components 30, it is usually preferably about 10 to 200 μm, more preferably about 15 to 100 μm, still more preferably about 20 to 70 μm. This makes it possible to effectively exhibit the electromagnetic wave shielding property while improving the coverage with the sealing resin.

離形性クッション部材3は、軟化して導電性接着剤層6の被覆を促し、電子部品30の天面および側面並びに基板20の露出面を被覆する機能を有すると共に、剥離工程において離形性に優れる材料を用いることができる。離形性クッション部材3の上層に、必要に応じて、クッション材として機能する熱軟化性部材を用いてもよい。電磁波シールド部材1の被覆により、第1実施形態の例においては、基板20内に形成されたグランドパターン22と電磁波シールド部材1とが電気的に接続される(図7参照)。 The releasable cushion member 3 has a function of softening to promote the coating of the conductive adhesive layer 6 to cover the top and side surfaces of the electronic component 30 and the exposed surface of the substrate 20, and the releasability in the peeling step. It is possible to use a material having excellent properties. As an upper layer of the releasable cushion member 3, a heat softening member functioning as a cushion material may be used, if necessary. In the example of the first embodiment, the coating of the electromagnetic wave shield member 1 electrically connects the ground pattern 22 formed in the substrate 20 and the electromagnetic wave shield member 1 (see FIG. 7).

導電性接着剤層6は、バインダー樹脂前駆体と導電性フィラーを含有する。バインダー樹脂前駆体としては、熱可塑性樹脂、自己架橋性樹脂、複数種の反応性樹脂および硬化性樹脂と架橋剤の混合物を例示できる。これらは組み合わせて用いてもよい。バインダー樹脂前駆体として専ら熱可塑性樹脂を用いる場合には、架橋構造を有していないという意味において、バインダー樹脂前駆体とバインダー樹脂が実質的に同じといえる。PCT後のテープ密着性を高める観点からは、電磁波シールド層5を構成するバインダー樹脂は3次元架橋構造が構築されていることが好ましい。 The conductive adhesive layer 6 contains a binder resin precursor and a conductive filler. Examples of the binder resin precursor include a thermoplastic resin, a self-crosslinking resin, a plurality of types of reactive resins, and a mixture of a curable resin and a crosslinking agent. You may use these in combination. When a thermoplastic resin is exclusively used as the binder resin precursor, it can be said that the binder resin precursor and the binder resin are substantially the same in the sense that they do not have a crosslinked structure. From the viewpoint of enhancing tape adhesion after PCT, it is preferable that the binder resin forming the electromagnetic wave shield layer 5 has a three-dimensional crosslinked structure.

[d]離形性クッション部材を剥離する工程:
電磁波シールド部材1の上層に被覆されている離形性クッション部材3を剥離する。これにより、電子部品30を被覆する電磁波シールド部材1を有する電子部品搭載基板51を得る(図1、図2参照)。例えば、離形性クッション部材3の剥離は端部から人力で剥がしてもよく、離形性クッション部材3の外面を吸引して電磁波シールド部材1から引き剥がしてもよい。自動化による歩留まり向上の観点から吸引による剥離が好ましい。
[D] Step of peeling the releasable cushion member:
The releasable cushion member 3 covering the upper layer of the electromagnetic wave shield member 1 is peeled off. Thus, the electronic component mounting board 51 having the electromagnetic wave shield member 1 that covers the electronic component 30 is obtained (see FIGS. 1 and 2). For example, peeling of the releasable cushion member 3 may be manually peeled from the end portion, or the outer surface of the releasable cushion member 3 may be sucked and peeled from the electromagnetic wave shield member 1. Peeling by suction is preferable from the viewpoint of improving the yield by automation.

[e]個片化する工程:
ダイシングブレード等の切削工具を用いて、電子部品搭載基板51の個品の製品エリアに対応する位置でX方向、Y方向にダイシングする(図2参照)。これらの工程を経て、電子部品30が電磁波シールド部材1で被覆され、且つ基板20に形成されたグランドパターン22と電磁波シールド部材1が電気的に接続された、個片化された電子部品搭載基板51が得られる。ダイシングの方法は、個片化できればよく特に限定されない。ダイシングは基板20側若しくは電磁波シールド用積層体4側から行われる。ダイシングの際、摩擦熱を冷却し、且つダイシングによって発生するダイシング屑を洗い流すために高圧水洗することがあるが、本実施形態に係る電子部品搭載基板51においては、押込み弾性率を1〜10GPaにすることにより高圧水洗の衝撃による電磁波シールド部材1の剥離を著しく改善することができる。
[E] Process of dividing into individual pieces:
Using a cutting tool such as a dicing blade, dicing is performed in the X direction and the Y direction at a position corresponding to the product area of the individual product of the electronic component mounting board 51 (see FIG. 2). Through these steps, the electronic component 30 is covered with the electromagnetic wave shield member 1, and the ground pattern 22 formed on the substrate 20 and the electromagnetic wave shield member 1 are electrically connected to each other. 51 is obtained. The dicing method is not particularly limited as long as it can be separated into individual pieces. Dicing is performed from the substrate 20 side or the electromagnetic wave shielding laminate 4 side. At the time of dicing, high pressure water washing may be performed in order to cool friction heat and wash away dicing dust generated by dicing. In the electronic component mounting board 51 according to the present embodiment, the indentation elastic modulus is set to 1 to 10 GPa. By doing so, peeling of the electromagnetic wave shield member 1 due to the impact of high-pressure water washing can be significantly improved.

<電磁波シールド用積層体>
第1実施形態の電磁波シールド用積層体4は、図4において説明したように、電磁波シールド用部材2と離形性クッション部材3の2層からなる。第1実施形態においては、電磁波シールド用部材2は単層の導電性接着剤層6からなる。導電性接着剤層6は熱圧着工程を経て電子部品30や基板20と接合され、電磁波シールド層5として機能する。
<Laminate for electromagnetic wave shield>
The electromagnetic wave shielding laminate 4 of the first embodiment is composed of two layers, that is, the electromagnetic wave shielding member 2 and the releasable cushion member 3, as described in FIG. In the first embodiment, the electromagnetic wave shielding member 2 is composed of a single-layer conductive adhesive layer 6. The conductive adhesive layer 6 is bonded to the electronic component 30 and the substrate 20 through a thermocompression bonding process, and functions as the electromagnetic wave shield layer 5.

(導電性接着剤層)
導電性接着剤層6は、バインダー樹脂前駆体と導電性フィラーとを含有する樹脂組成物から形成された層である。バインダー樹脂前駆体は、少なくとも熱軟化性樹脂を含む。熱軟化性樹脂は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂および活性光線硬化性樹脂が例示できる。熱硬化性樹脂および活性光線硬化性樹脂は、通常、反応性官能基を有する。熱硬化性樹脂を用いる場合は、硬化性化合物や熱硬化助剤を併用できる。また、活性光線硬化性樹脂を用いる場合は光重合開始剤、増感剤等を併用できる。製造工程の簡便性からは、熱圧着時に硬化する熱硬化タイプが好ましい。
また、自己架橋性樹脂や互いに架橋する複数の樹脂を用いてもよい。また、これらの樹脂に加えて熱可塑性樹脂を混合させてもよい。樹脂および硬化性化合物等の配合成分は、それぞれ独立に単独または複数の併用とすることができる。
なお、導電性接着剤層6の段階で架橋が一部形成されてBステージ(半硬化した状態)となっていてもよい。例えば、熱硬化性樹脂と硬化性化合物の一部が反応して半硬化した状態が含まれていてもよい。
(Conductive adhesive layer)
The conductive adhesive layer 6 is a layer formed from a resin composition containing a binder resin precursor and a conductive filler. The binder resin precursor contains at least a thermosoftening resin. Examples of the thermosoftening resin include a thermoplastic resin, a thermosetting resin and an actinic ray curable resin. The thermosetting resin and the actinic ray curable resin usually have a reactive functional group. When a thermosetting resin is used, a curable compound and a thermosetting auxiliary can be used together. When an actinic ray curable resin is used, a photopolymerization initiator, a sensitizer and the like can be used in combination. A thermosetting type that cures at the time of thermocompression bonding is preferable from the viewpoint of simplicity of the manufacturing process.
Alternatively, a self-crosslinking resin or a plurality of resins that crosslink each other may be used. In addition to these resins, a thermoplastic resin may be mixed. The compounding components such as the resin and the curable compound may be used alone or in combination of two or more.
Incidentally, a part of the crosslinks may be formed at the stage of the conductive adhesive layer 6 to be in the B stage (semi-cured state). For example, a state in which the thermosetting resin and a part of the curable compound are reacted and semi-cured may be included.

熱軟化性樹脂の好適な例は、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレンエラストマー樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネートイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン、ポリエステルアミド樹脂およびポリエーテルエステル樹脂が挙げられる。リフロー時における過酷な条件で使用する場合の熱硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、エポキシエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、およびポリアミドのうちの少なくとも1つを含んでいることが好ましい。 Suitable examples of the heat softening resin, polyurethane resin, polycarbonate resin, styrene elastomer resin, phenoxy resin, polyurethane urea resin, polyimide resin, polyamide resin, polycarbonate imide resin, polyamide imide resin, epoxy resin, epoxy ester resin, Acrylic resins, polyester resins, polystyrene, polyesteramide resins and polyetherester resins can be mentioned. The thermosetting resin when used under severe conditions during reflow should contain at least one of an epoxy resin, an epoxy ester resin, a urethane resin, a urethane urea resin, and a polyamide. preferable.

これらの中でも、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレンエラストマー樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂が好ましい。また、樹脂中に一般式(1)で表されるポリカーボネート骨格を有する樹脂が好ましい。
−R-O-CO-O− ・・・一般式(1)
式中、Rは2価の有機基である。
ポリカーボネート骨格を有する樹脂を用いることにより、製造工程により生じる電磁波シールド層のバリを効果的に抑制することができる。熱軟化性樹脂は、1種単独または任意の比率で2種以上を混合して用いることができる。
Among these, polyurethane resin, polycarbonate resin, styrene elastomer resin, phenoxy resin, polyamide resin, and polyimide resin are preferable. Further, a resin having a polycarbonate skeleton represented by the general formula (1) in the resin is preferable.
-RO-CO-O-... General formula (1)
In the formula, R is a divalent organic group.
By using the resin having the polycarbonate skeleton, it is possible to effectively suppress the burr of the electromagnetic wave shield layer caused by the manufacturing process. The heat softening resin can be used alone or in combination of two or more at an arbitrary ratio.

ポリカーボネート骨格を有する樹脂としては、ポリカーボネート樹脂の他、ポリカーボネート骨格を有するポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂およびポリイミド樹脂が例示できる。例えば、ポリカーボネートイミド樹脂によれば、ポリイミド骨格を有することにより、耐熱性、絶縁性および耐薬品性を高めることができる。一方、ポリカーボネート骨格を有することにより、柔軟性、密着性を効果的に高めることができる 。 Examples of the resin having a polycarbonate skeleton include a polycarbonate resin, a polyurethane resin having a polycarbonate skeleton, a polyamide resin, and a polyimide resin. For example, according to the polycarbonate imide resin, having a polyimide skeleton makes it possible to enhance heat resistance, insulating properties and chemical resistance. On the other hand, by having a polycarbonate skeleton, flexibility and adhesion can be effectively enhanced.

ポリカーボネートウレタン樹脂としては、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、又は2−メチル−1,8−オクタンジオール等のジオール1種又は2種以上とをベースにしたポリカーボネートポリオールをポリオール成分として用いることができる。 Examples of the polycarbonate urethane resin include 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, and 2-methyl-1,8-octanediol. Polycarbonate polyols based on one or more diols such as the above can be used as the polyol component.

上記熱軟化性樹脂は、熱硬化性樹脂として、加熱による架橋反応に利用できる官能基を複数有していてもよい。官能基は、例えば、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリン基、オキサジン基、アジリジン基、チオール基、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、シラノール基等が挙げられる。 The thermosoftening resin, as a thermosetting resin, may have a plurality of functional groups that can be used for a crosslinking reaction by heating. Functional groups include, for example, hydroxyl group, phenolic hydroxyl group, carboxyl group, amino group, epoxy group, oxetanyl group, oxazoline group, oxazine group, aziridine group, thiol group, isocyanate group, blocked isocyanate group, silanol group and the like. ..

硬化性化合物は、熱硬化性樹脂の反応性官能基と架橋可能な官能基を有している。架橋することで密着性をより強固にし、耐水性も向上させることができる。硬化性化合物は、エポキシ化合物、酸無水物基含有化合物、イソシアネート化合物、ポリカルボジイミド化合物、アジリジン化合物、ジシアンジアミド化合物、芳香族ジアミン化合物等のアミン化合物、フェノールノボラック樹脂等のフェノール化合物、有機金属化合物等が好ましい。硬化性化合物は、樹脂であってもよい。この場合、熱硬化性樹脂と硬化性化合物の区別は、含有量の多い方を熱硬化性樹脂とし、含有量の少ない方を硬化性化合物として区別する。 The curable compound has a functional group capable of crosslinking with the reactive functional group of the thermosetting resin. By crosslinking, the adhesion can be made stronger and the water resistance can be improved. Curable compounds include epoxy compounds, acid anhydride group-containing compounds, isocyanate compounds, polycarbodiimide compounds, aziridine compounds, dicyandiamide compounds, amine compounds such as aromatic diamine compounds, phenol compounds such as phenol novolac resins, and organometallic compounds. preferable. The curable compound may be a resin. In this case, the thermosetting resin and the curable compound are distinguished from each other such that one having a larger content is a thermosetting resin and one having a smaller content is a curable compound.

上記エポキシ化合物は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物の性状としては、液状および固形状を問わない。エポキシ化合物としては、例えば、グリジシルエーテル型エポキシ化合物、グリジシルアミン型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、環状脂肪族(脂環型)エポキシ化合物等が好ましい。 The epoxy compound is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. The properties of the epoxy compound may be liquid or solid. As the epoxy compound, for example, a glycidyl ether type epoxy compound, a glycidyl amine type epoxy compound, a glycidyl ester type epoxy compound, a cycloaliphatic (alicyclic) epoxy compound and the like are preferable.

グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、ビスフェノールAD型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、α−ナフトールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ化合物、臭素化フェノールノボラック型エポキシ化合物、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。 Examples of the glycidyl ether type epoxy compound include a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a bisphenol S type epoxy compound, a bisphenol AD type epoxy compound, a cresol novolac type epoxy compound, a phenol novolac type epoxy compound, and α-naphthol novolak. Type epoxy compound, bisphenol A type novolac type epoxy compound, dicyclopentadiene type epoxy compound, tetrabromobisphenol A type epoxy compound, brominated phenol novolac type epoxy compound, tris(glycidyloxyphenyl)methane, tetrakis(glycidyloxyphenyl)ethane Etc.

グリシジルアミン型エポキシ化合物としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。 Examples of the glycidyl amine type epoxy compound include tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl paraaminophenol, triglycidyl metaaminophenol, and tetraglycidyl metaxylylenediamine.

グリシジルエステル型エポキシ化合物としては、例えば、ジグリシジルフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。 Examples of the glycidyl ester type epoxy compound include diglycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl tetrahydrophthalate, and the like.

環状脂肪族(脂環型)エポキシ化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられる。また、液状のエポキシ化合物を好適に用いることができる。 Examples of the cycloaliphatic (alicyclic) epoxy compound include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate and bis(epoxycyclohexyl)adipate. Further, a liquid epoxy compound can be preferably used.

イミダゾール化合物は、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物が挙げられ、更にはイミダゾール化合物とエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化したタイプ、またはイミダゾール化合物をマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化促進剤が挙げられるが、これらの中でも、導電性接着剤層の熱溶融後に硬化を開始させる観点から潜在性硬化促進剤が好ましい。 Examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, and other imidazole compounds, and further imidazole compounds. There are latent curing accelerators having improved storage stability, such as a type in which an epoxy resin is reacted with a solvent to make it insoluble in a solvent, or a type in which an imidazole compound is encapsulated in microcapsules. Among these, a conductive adhesive layer The latent curing accelerator is preferable from the viewpoint of initiating the curing after the heat melting.

硬化性化合物の構造、分子量は用途に応じて適宜設計できる。押込み弾性率を1〜10GPaの範囲に調整して、バリを効果的に抑制する観点からは、分子量の異なる2種類以上の硬化性化合物を用いることが好ましい。第一硬化性化合物と第二硬化性化合物を用いることにより、電磁波シールド層の引張破断歪を高める効果もある。 The structure and molecular weight of the curable compound can be appropriately designed depending on the application. From the viewpoint of effectively suppressing burrs by adjusting the indentation elastic modulus in the range of 1 to 10 GPa, it is preferable to use two or more curable compounds having different molecular weights. The use of the first curable compound and the second curable compound also has the effect of increasing the tensile breaking strain of the electromagnetic wave shield layer.

硬化性化合物は、熱硬化性樹脂100質量部に対して1〜70質量部含むことが好ましく、3〜65質量部がより好ましく、3〜60質量部が更に好ましい。第一硬化性化合物と第二硬化性化合物を併用する場合には、第一硬化性化合物を熱硬化性樹脂100質量部に対して5〜50質量部含むことが好ましく、10〜40質量部含むことがより好ましく、20〜30質量部含むことが更に好ましい。一方、第二硬化性化合物を熱硬化性樹脂100質量部に対して0〜40質量部含むことが好ましく、5〜30質量部含むことがより好ましく、10〜20質量部含むことが更に好ましい。 The curable compound is preferably contained in an amount of 1 to 70 parts by mass, more preferably 3 to 65 parts by mass, still more preferably 3 to 60 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the thermosetting resin. When the first curable compound and the second curable compound are used in combination, the first curable compound is preferably contained in an amount of 5 to 50 parts by mass, and preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin. More preferably, it is more preferable to contain 20 to 30 parts by mass. On the other hand, the second curable compound is preferably contained in an amount of 0 to 40 parts by mass, more preferably 5 to 30 parts by mass, and further preferably 10 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the thermosetting resin.

熱可塑性樹脂の好適な例は、ポリエステル、アクリル系樹脂、ポリエーテル、ウレタン系樹脂、スチレンエラストマー、ポリカーボネート、ブタジエンゴム、ポリアミド、エステルアミド系樹脂、ポリイソプレン、およびセルロースが例示できる。粘着付与樹脂としては、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、脂環式系石油樹脂、および芳香族系石油樹脂等が例示できる。また、導電性ポリマーを用いることができる。導電性ポリマーとしては、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリンが例示できる。熱可塑性樹脂の好適な例は、ポリエステル、アクリル系樹脂、ポリエーテル、ウレタン系樹脂、スチレンエラストマー、ポリカーボネート、ブタジエンゴム、ポリアミド、エステルアミド系樹脂、ポリイソプレン、およびセルロースが例示できる。 Preferable examples of the thermoplastic resin include polyester, acrylic resin, polyether, urethane resin, styrene elastomer, polycarbonate, butadiene rubber, polyamide, ester amide resin, polyisoprene, and cellulose. Examples of the tackifying resin include rosin-based resins, terpene-based resins, alicyclic petroleum resins, and aromatic petroleum resins. In addition, a conductive polymer can be used. Examples of the conductive polymer include polyethylenedioxythiophene, polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and polyaniline. Preferable examples of the thermoplastic resin include polyester, acrylic resin, polyether, urethane resin, styrene elastomer, polycarbonate, butadiene rubber, polyamide, ester amide resin, polyisoprene, and cellulose.

導電性フィラーは、金属フィラー、導電性セラミックス粒子およびそれらの混合物が例示できる。金属フィラーは、金、銀、銅、ニッケル等の金属粉、ハンダ等の合金粉、銀コート銅粉、金コート銅粉、銀コートニッケル粉、金コートニッケル粉のコアシェル型粒子が例示できる。優れた導電特性を得る観点から、銀を含有する導電性フィラーが好ましい。コストの観点からは、銅粉を銀で被覆した銀コート銅粉が特に好ましい。 Examples of the conductive filler include metal filler, conductive ceramic particles and a mixture thereof. Examples of the metal filler include core powders of metal powder such as gold, silver, copper and nickel, alloy powder such as solder, silver coated copper powder, gold coated copper powder, silver coated nickel powder and gold coated nickel powder. From the viewpoint of obtaining excellent conductive properties, a conductive filler containing silver is preferable. From the viewpoint of cost, silver-coated copper powder obtained by coating copper powder with silver is particularly preferable.

銀コート銅における銀の含有量は、銀および銅の合計100質量%中、3〜20質量%が好ましく、より好ましくは8〜17質量%であり、更に好ましくは10〜15質量%である。コアシェル型粒子の場合、コア部に対するコート層の被覆率は、平均で60%以上が好ましく、70%以上がより好ましく、80%以上がさらに好ましい。コア部は非金属でもよいが、導電性の観点からは導電性物質が好ましく、金属粒子がより好ましい。 The silver content in the silver-coated copper is preferably 3 to 20% by mass, more preferably 8 to 17% by mass, and further preferably 10 to 15% by mass, based on 100% by mass of the total amount of silver and copper. In the case of core-shell type particles, the coverage of the coating layer on the core portion is preferably 60% or more on average, more preferably 70% or more, and further preferably 80% or more. The core portion may be non-metal, but from the viewpoint of conductivity, a conductive substance is preferable, and metal particles are more preferable.

導電性フィラーとして、電磁波吸収フィラーを用いてもよい。例えば、鉄、Fe−Ni合金、Fe−Co合金、Fe−Cr合金、Fe−Si合金、Fe−Al合金、Fe−Cr−Si合金、Fe−Cr−Al合金、Fe−Si−Al合金等の鉄合金、Mg−Znフェライト、Mn−Znフェライト、Mn−Mgフェライト、Cu−Znフェライト、Mg−Mn−Srフェライト、Ni−Znフェライト等のフェライト系物質並びに、カーボンフィラーなどが挙げられる。カーボンフィラーは、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、ファーネスブラック、カーボンブラック、カーボンファイバー、カーボンナノナノチューブからなる粒子、グラフェン粒子、グラファイト粒子およびカーボンナノウォールが例示できる。 An electromagnetic wave absorbing filler may be used as the conductive filler. For example, iron, Fe-Ni alloy, Fe-Co alloy, Fe-Cr alloy, Fe-Si alloy, Fe-Al alloy, Fe-Cr-Si alloy, Fe-Cr-Al alloy, Fe-Si-Al alloy, etc. Examples include iron-based alloys, Mg-Zn ferrite, Mn-Zn ferrite, Mn-Mg ferrite, Cu-Zn ferrite, Mg-Mn-Sr ferrite, Ni-Zn ferrite, and other ferrite-based materials, and carbon filler. Examples of the carbon filler include acetylene black, Ketjen black, furnace black, carbon black, carbon fiber, particles composed of carbon nano-nanotubes, graphene particles, graphite particles and carbon nanowalls.

導電性接着剤層に用いる導電性フィラーの形状は、鱗片状粒子、デンドライト(樹枝)状粒子、針状粒子、プレート状粒子、ブドウ状粒子、繊維状粒子、球状粒子が例示できる。クルトシスの数値を調整する観点からは、針状粒子または/およびデンドライト状粒子の導電性フィラーを含有させることが好ましい。ここで、針状とは長径が短径の3倍以上のものをいい、いわゆる針形状の他、紡錘形状、円柱形状等も含む。また、デンドライト状とは、電子顕微鏡(500〜20、000倍)で観察した際に、棒状の主軸から複数の分岐枝が2次元的または3次元的に延在した形状をいう。デンドライト状には、前記分岐枝が折れ曲がったり、分岐枝から更に分岐枝が延在していてもよい。 Examples of the shape of the conductive filler used in the conductive adhesive layer include scale particles, dendrite (dendritic) particles, needle particles, plate particles, grape particles, fibrous particles, and spherical particles. From the viewpoint of adjusting the numerical value of the kurtosis, it is preferable to include a conductive filler of needle-shaped particles and/or dendrite-shaped particles. Here, the acicular shape means that the major axis is three times or more the minor axis, and includes a so-called needle shape, a spindle shape, a columnar shape and the like. Further, the dendrite shape means a shape in which a plurality of branched branches extend two-dimensionally or three-dimensionally from a rod-shaped main axis when observed with an electron microscope (500 to 20,000 times). In the dendrite shape, the branched branch may be bent, or the branched branch may further extend from the branched branch.

また、導電性フィラーとして鱗片状粒子を含有させることで、被覆性に優れた電磁波シールド部材を提供することができる。ここで鱗片状とは、薄片状、板状も含む。導電性フィラーは粒子全体として鱗片状であればよく、楕円状、円状または微粒子の周囲に切れ込み等が存在してもよい。鱗片状粒子はマルテンス硬さが大きくなる傾向にあり、球状、樹枝状粒子はマルテンス硬さが低くなる傾向にある。また、導電性フィラー量が多くなるとマルテンス硬さは大きくなる傾向にある。また、硬化後の樹脂の硬さが高いほど、マルテンス硬さも硬くなる。 Further, by containing the scale-like particles as the conductive filler, it is possible to provide an electromagnetic wave shield member having excellent coverage. Here, the scaly shape includes a thin shape and a plate shape. The conductive filler may have a scaly shape as a whole particle, and may have an elliptical shape, a circular shape, or a cut around the fine particle. The scale-like particles tend to have a high Martens hardness, and the spherical and dendritic particles tend to have a low Martens hardness. Further, as the amount of conductive filler increases, the Martens hardness tends to increase. Further, the higher the hardness of the cured resin, the harder the Martens hardness.

導電性フィラーは、単独または混合して用いられる。例えば、鱗片状粒子と球状粒子の組み合わせ、鱗片状粒子とデンドライト状粒子の組み合わせ、鱗片状粒子と針状粒子の組み合わせ、鱗片状粒子、デンドライト状粒子および針状粒子の組み合わせが例示できる。これらに更にナノサイズの球状粒子を併用してもよい。 The conductive filler may be used alone or as a mixture. For example, a combination of scaly particles and spherical particles, a combination of scaly particles and dendrite particles, a combination of scaly particles and acicular particles, a combination of scaly particles, dendrite particles and acicular particles can be exemplified. These may also be used in combination with nano-sized spherical particles.

また、デンドライト状粒子または/および針状粒子を併用することによって、導電性フィラー同士の接触点を多くし、シールド特性を向上させることができる。また、デンドライト状粒子または/および針状粒子の併用によって、バインダー成分との接触面積を増加させることができるので高品質の電磁波シールド部材を提供できる。 Further, by using the dendrite-shaped particles and/or the acicular particles in combination, the number of contact points between the conductive fillers can be increased, and the shield characteristics can be improved. In addition, the combined use of dendrite particles and/or acicular particles can increase the contact area with the binder component, so that a high-quality electromagnetic wave shield member can be provided.

導電性フィラーの含有量は、熱軟化性樹脂組成物層の固形分(100質量%)中、40〜85質量%であることが好ましく、50〜80質量%がより好ましい。 The content of the conductive filler is preferably 40 to 85% by mass, and more preferably 50 to 80% by mass in the solid content (100% by mass) of the thermosoftening resin composition layer.

導電性接着剤層中の導電性フィラー100質量%に対して、針状粒子または/およびデンドライト状粒子は50質量%以下含有させることが好ましい。より好ましくは0.5〜40質量%、更に好ましくは1〜35質量%、特に好ましくは1〜30質量%である。50質量%以下含有させることで、耐擦傷性のより優れた電磁波シールド部材を提供することができる。 It is preferable that the acicular particles and/or dendrite particles are contained in an amount of 50% by mass or less with respect to 100% by mass of the conductive filler in the conductive adhesive layer. It is more preferably 0.5 to 40% by mass, further preferably 1 to 35% by mass, and particularly preferably 1 to 30% by mass. By containing 50% by mass or less, it is possible to provide an electromagnetic wave shield member having more excellent scratch resistance.

鱗片状粒子の平均粒子径D50は、2〜100μmが好ましい。鱗片状粒子に、ナノサイズの導電性フィラーを混合してもよい。 The average particle diameter D50 of the scaly particles is preferably 2 to 100 μm. A nano-sized conductive filler may be mixed with the scaly particles.

針状粒子の平均粒子径D50は2〜100μmが好ましく、2〜80μmがより好ましい。更に好ましくは3〜50μmであり、特に好ましくは5〜20μmである。デンドライト状粒子の平均粒子径D50の好ましい範囲も同様に、2〜100μmが好ましく、2〜80μmがより好ましい。更に好ましくは3〜50μmであり、特に好ましくは5〜20μmである。鱗片状粒子の平均粒子径D50は2〜100μmが好ましく、2〜80μmがより好ましい。更に好ましくは3〜50μmであり、特に好ましくは5〜20μmである。 The average particle diameter D50 of the acicular particles is preferably 2 to 100 μm, more preferably 2 to 80 μm. The thickness is more preferably 3 to 50 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm. Similarly, the preferable range of the average particle diameter D50 of the dendrite-shaped particles is preferably 2 to 100 μm, more preferably 2 to 80 μm. The thickness is more preferably 3 to 50 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm. The average particle diameter D50 of the scaly particles is preferably 2 to 100 μm, more preferably 2 to 80 μm. The thickness is more preferably 3 to 50 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm.

デンドライト状粒子の平均粒子径D50は2〜100μmが好ましく、2〜80μmがより好ましい。更に好ましくは3〜50μmであり、特に好ましくは5〜20μmである。鱗片状粒子とデンドライト状粒子を併用することにより、表面光沢度を最適化し、電磁波シールド層に文字を直接印刷した場合に、印字視認性を高めることができる。 The average particle diameter D50 of the dendrite-shaped particles is preferably 2 to 100 μm, more preferably 2 to 80 μm. The thickness is more preferably 3 to 50 μm, and particularly preferably 5 to 20 μm. By using the scale-like particles and the dendrite-like particles together, the surface glossiness can be optimized and the print visibility can be improved when the characters are directly printed on the electromagnetic wave shield layer.

平均粒子径D50は、レーザー回折・散乱法により測定できる。具体的には、例えば、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置LS 13320(ベックマン・コールター社製)を使用し、トルネードドライパウダーサンプルモジュールにて、各導電性微粒子を測定して得た数値であり、粒子の積算値が50%である粒度の直径の平均粒径である。なお、屈折率の設定は1.6として測定する。電磁波シールド部材1中の各粒子の平均粒子径D50は、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて100個の粒径を測定し、度数分布を求めることができる。針状粒子およびデンドライト状粒子の場合、粒径は各粒子の最長の長さを用いる。 The average particle diameter D50 can be measured by a laser diffraction/scattering method. Specifically, for example, it is a numerical value obtained by measuring each conductive fine particle with a tornado dry powder sample module using a laser diffraction/scattering particle size distribution analyzer LS 13320 (manufactured by Beckman Coulter, Inc.). , The average particle diameter of the diameter of the particle diameter for which the integrated value of the particles is 50%. The refractive index is set to 1.6 for measurement. The average particle diameter D50 of each particle in the electromagnetic wave shield member 1 can be obtained by measuring the particle diameter of 100 particles using a scanning electron microscope (SEM) and determining the frequency distribution. In the case of needle-shaped particles and dendrite-shaped particles, the longest length of each particle is used as the particle size.

導電性接着剤層を構成する組成物には、さらに着色剤、難燃剤、無機添加剤、滑剤、ブロッキング防止剤等を含んでいてもよい。
着色剤としては、例えば、有機顔料、カーボンブラック、群青、弁柄、亜鉛華、酸化チタン、黒鉛等が挙げられる。この中でも黒色系の着色剤を含むことでシールド層の印字視認性が向上する。
難燃剤としては、例えば、ハロゲン含有難燃剤、りん含有難燃剤、窒素含有難燃剤、無機難燃剤等が挙げられる。
無機添加剤としては、例えば、ガラス繊維、シリカ、タルク、セラミック等が挙げられる。
滑剤としては、例えば、脂肪酸エステル、炭化水素樹脂、パラフィン、高級脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪族アルコール、金属石鹸、変性シリコーン等が挙げられる。
ブロッキング防止剤としては、例えば、炭酸カルシウム、シリカ、ポリメチルシルセスキオサン、ケイ酸アルミニウム塩等が挙げられる。
The composition forming the conductive adhesive layer may further contain a colorant, a flame retardant, an inorganic additive, a lubricant, an antiblocking agent and the like.
Examples of the colorant include organic pigments, carbon black, ultramarine blue, red iron oxide, zinc white, titanium oxide, graphite and the like. Among these, the inclusion of the black colorant improves the print visibility of the shield layer.
Examples of the flame retardant include halogen-containing flame retardants, phosphorus-containing flame retardants, nitrogen-containing flame retardants, inorganic flame retardants, and the like.
Examples of the inorganic additive include glass fiber, silica, talc, ceramics and the like.
Examples of the lubricant include fatty acid ester, hydrocarbon resin, paraffin, higher fatty acid, fatty acid amide, aliphatic alcohol, metal soap, modified silicone and the like.
Examples of antiblocking agents include calcium carbonate, silica, polymethylsilsesquiosan, and aluminum silicate salts.

導電性接着剤層は、熱圧着により導電性フィラーが連続的に接触して導電性を有する層であればよく、熱圧着前の段階で必ずしも導電性を有していなくてもよい。導電性接着剤層は、上述した導電性フィラーと、バインダー樹脂前駆体を含有する組成物を混合攪拌し、離形性基材上に塗工後乾燥することで形成することができる。また離形性クッション部材3に直接塗工し乾燥する方法でも形成することができる。 The conductive adhesive layer may be any layer as long as it has conductivity due to continuous contact of the conductive filler by thermocompression bonding, and does not necessarily have conductivity at the stage before thermocompression bonding. The conductive adhesive layer can be formed by mixing and stirring the above-described conductive filler and a composition containing a binder resin precursor, coating the composition on a releasable substrate, and then drying. Alternatively, the releasable cushion member 3 may be directly applied and dried.

導電性接着剤層の塗液を塗工後、乾燥して離形性基材上に導電性接着剤層を形成する。乾燥工程は、加熱(例えば、80〜120℃)を行うことが好ましい。電磁波シールド部材のクルトシスを調整する観点からは、塗液を塗工後、加熱乾燥前に25℃(室温)・常圧で乾燥を1〜10分行うことが好ましい。より好ましい加熱乾燥前の25℃(室温)での乾燥時間は2〜6分である。加熱乾燥前に室温で乾燥するプロセスを設けることにより、クルトシスの値を調整することができる。 After applying the coating liquid for the conductive adhesive layer, it is dried to form the conductive adhesive layer on the releasable substrate. It is preferable to perform heating (for example, 80 to 120° C.) in the drying step. From the viewpoint of adjusting the kurtosis of the electromagnetic wave shield member, it is preferable to perform drying at 25° C. (room temperature) and normal pressure for 1 to 10 minutes after applying the coating liquid and before heating and drying. More preferable drying time at 25° C. (room temperature) before heat drying is 2 to 6 minutes. The kurtosis value can be adjusted by providing a process of drying at room temperature before heat drying.

塗液の粘度と加熱乾燥前の25℃での乾燥時間が電磁波シールド部材1のクルトシスに与える影響について、図9の模式図を用いて説明する。同図に示すように、離形性基材15上に導電性接着剤層6を形成するために塗液を塗布する。溶剤が含まれている乾燥途上の導電性接着剤層6Pが得られる。 The influence of the viscosity of the coating liquid and the drying time at 25° C. before heating and drying on the kurtosis of the electromagnetic wave shield member 1 will be described with reference to the schematic diagram of FIG. 9. As shown in the figure, a coating liquid is applied on the releasable substrate 15 to form the conductive adhesive layer 6. A conductive adhesive layer 6P that is in the process of drying and contains a solvent is obtained.

加熱途上の導電性接着剤層6Pに対し、25℃での乾燥時間を長く設定することにより、図9に示すように、溶剤の蒸発速度が遅い状態を意図的に長くし、それによってバインダー樹脂前駆体10の下方への沈み込みを促すことができる。一方、25℃での乾燥時間を短く設定することにより、図9に示すようにバインダー樹脂前駆体10の下方への沈み込みを抑え、その段階で加熱乾燥することによって導電性フィラー11が立ち上がり易くなる。また、溶剤の蒸発に伴う発泡が生じやすくなり、表面が荒れる傾向となる。 By setting a longer drying time at 25° C. for the conductive adhesive layer 6P in the process of heating, as shown in FIG. 9, the state in which the evaporation rate of the solvent is slow is intentionally lengthened, thereby making the binder resin The subduction of the precursor 10 can be promoted. On the other hand, by setting the drying time at 25° C. short, the sinking of the binder resin precursor 10 to the lower side is suppressed as shown in FIG. 9, and the conductive filler 11 easily rises by heating and drying at that stage. Become. Moreover, foaming easily occurs due to evaporation of the solvent, and the surface tends to be rough.

前記塗液の固形分は、電磁波シールド部材1のクルトシスの値を1〜8とするために20〜50%とすることが好ましい。また、電磁波シールド部材のクルトシスを調整するために、前記塗液のB型粘度計で測定した塗液粘度を200〜5000mPa・sの範囲とすることが好ましい。更に、電磁波シールド部材のクルトシスを調整するために、前記塗液のチキソトロピーインデックスを1.2〜2.0とすることが好ましい。なお、図9および後述する図10の導電性フィラー11は鱗片状粒子であり、図は主面に対する平面視ではなく、厚み方向の切断部断面図を示している。 The solid content of the coating liquid is preferably 20 to 50% in order to set the kurtosis value of the electromagnetic wave shield member 1 to 1 to 8. Further, in order to adjust the kurtosis of the electromagnetic wave shield member, it is preferable that the coating liquid viscosity of the coating liquid measured with a B-type viscometer is in the range of 200 to 5000 mPa·s. Further, in order to adjust the kurtosis of the electromagnetic wave shield member, it is preferable that the thixotropy index of the coating liquid is 1.2 to 2.0. In addition, the conductive filler 11 of FIG. 9 and FIG. 10 described later is a scaly particle, and the figure is not a plan view of the main surface but a sectional view of a section in the thickness direction.

クルトシスの値は、導電性接着剤層を形成するための塗液の粘度によっても変わる。塗液の粘度が高い方が導電性フィラーの流動性が抑えられる傾向にある。このため、粘度が高い場合、導電性フィラー11は配向せずランダムとなる傾向がある。一方、粘度が低い場合、鱗片状粒子は基板面に対して、主面が凡そ対向するように配向する傾向がある。また、25℃での乾燥時間を短くして加熱乾燥を行うと、粘度が高いと発泡による表面荒れが大きくなる傾向にあり、粘度が低いと導電性フィラーが縦方向に移動しやすい傾向となる。
このように、塗液の粘度および25℃での乾燥時間を調整することにより、クルトシスを調整することができる。
The value of kurtosis also changes depending on the viscosity of the coating liquid for forming the conductive adhesive layer. The higher the viscosity of the coating liquid, the more the fluidity of the conductive filler tends to be suppressed. Therefore, when the viscosity is high, the conductive fillers 11 tend not to be oriented and become random. On the other hand, when the viscosity is low, the scale-like particles tend to be oriented so that the main surface thereof faces the substrate surface. Further, when the drying time at 25° C. is shortened to perform heat drying, when the viscosity is high, the surface roughness due to foaming tends to increase, and when the viscosity is low, the conductive filler tends to move in the vertical direction. ..
In this way, the kurtosis can be adjusted by adjusting the viscosity of the coating liquid and the drying time at 25°C.

また、電磁波シールド部材1のクルトシスは、デンドライト状粒子および/または針状粒子の粒子径によっても調整することができる。デンドライト状粒子または/および針状粒子の粒子径が電磁波シールド部材1のクルトシスに与える影響について、図10の模式的説明図を用いて説明する。図9と同様に、離形性基材15上に導電性接着剤層6を形成するために塗液を塗布することにより、乾燥途上の導電性接着剤層6Pが得られる。図10において、図9と共通する成分や部材は同一の符号を付す。図10に示すように、導電性フィラーの一種であるデンドライト状粒子12の平均粒子径D50が小さいとクルトシスの値が低下する傾向にあり、逆に、デンドライト状粒子12の平均粒子径D50が大きいとクルトシスの値が大きくなる傾向にある。導電性接着剤層6の厚みによるが、クルトシスの値を小さくしたい場合には、例えば平均粒子径D50を2〜5μm、クルトシスの値を大きくしたい場合には、例えば、平均粒子径D50を20〜50μm、これらの中間値に設定したい場合には、平均粒子径D50を5μm越え、20μm未満に設定することができる。 The kurtosis of the electromagnetic wave shield member 1 can also be adjusted by the particle diameter of the dendrite-shaped particles and/or the acicular particles. The effect of the particle size of the dendrite-shaped particles and/or the acicular particles on the kurtosis of the electromagnetic wave shield member 1 will be described with reference to the schematic explanatory view of FIG. 10. Similar to FIG. 9, by applying a coating liquid to form the conductive adhesive layer 6 on the releasable base material 15, the conductive adhesive layer 6P in the process of being dried can be obtained. 10, components and members common to those in FIG. 9 are designated by the same reference numerals. As shown in FIG. 10, when the average particle diameter D50 of the dendrite-like particles 12 which is a kind of conductive filler is small, the value of the kurtosis tends to decrease, and conversely, the average particle diameter D50 of the dendrite-like particles 12 is large. And the value of Kurtosis tends to increase. Depending on the thickness of the conductive adhesive layer 6, when it is desired to reduce the value of kurtosis, for example, the average particle diameter D50 is 2 to 5 μm, and when the value of kurtosis is desired to be increased, the average particle diameter D50 is, for example, 20 to When it is desired to set 50 μm, or an intermediate value between them, the average particle diameter D50 can be set to more than 5 μm and less than 20 μm.

また、電磁波シールド部材1のクルトシスを調整するために、電磁波シールド用部材2の最表層である導電性接着剤層6を形成するための導電性接着剤組成物を塗工・乾燥した後に、コロナ処理やプラズマ処理を行うことが好ましい。コロナ処理は、コロナ放電電子の照射量が1〜1,000W/m2/minであることが好ましく、10〜100W/m2/minとすることがより好ましい。 In addition, in order to adjust the kurtosis of the electromagnetic wave shield member 1, after coating and drying the conductive adhesive composition for forming the conductive adhesive layer 6 which is the outermost layer of the electromagnetic wave shield member 2, the corona is applied. It is preferable to perform treatment or plasma treatment. Corona treatment is preferably irradiated amount of corona discharge electron is 1~1,000W / m 2 / min, and more preferably in the 10~100W / m 2 / min.

電磁波シールド部材1のクルトシスは、熱圧着前の電磁波シールド用部材2を形成する組成物において針状またはデンドライト状の導電性フィラーの添加量を多くすることによりその数値を調整することができる。また、電磁波シールド部材1のクルトシスは、導電性フィラーの平均粒子径D50およびD90によっても調整することができる。 The kurtosis of the electromagnetic wave shield member 1 can be adjusted by increasing the amount of needle-like or dendrite-like conductive filler added to the composition forming the electromagnetic wave shield member 2 before thermocompression bonding. The kurtosis of the electromagnetic wave shield member 1 can also be adjusted by the average particle diameters D50 and D90 of the conductive filler.

離形性基材は、片面あるいは両面が離形性のある基材であり、150℃における引張破断歪が50%未満のシートである。離形性基材は例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、硬質ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリイミド、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン・ビニルアルコール共重合体、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリブテン、軟質ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル等のプラスチックシート等、グラシン紙、上質紙、クラフト紙、コート紙等の紙類、各種の不織布、合成紙、金属箔や、これらを組み合わせた複合フィルムなどが挙げられる。 The releasable substrate is a substrate having releasability on one side or both sides, and is a sheet having a tensile breaking strain at 150° C. of less than 50%. Examples of the releasable base material include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, rigid polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, nylon, polyimide, polystyrene, polyvinyl alcohol, ethylene/vinyl alcohol copolymer, and polycarbonate. , Polyacrylonitrile, polybutene, soft polyvinyl chloride, polyvinylidene fluoride, polyethylene, polypropylene, polyurethane resin, ethylene vinyl acetate copolymer, plastic sheets such as polyvinyl acetate, glassine paper, fine paper, kraft paper, coated paper, etc. Papers, various non-woven fabrics, synthetic papers, metal foils, and composite films combining these.

(離形性クッション部材)
離形性クッション部材3は、導電性接着剤層6の電子部品30への追従性を促すクッション材として機能し、且つ離形性があるシートである。つまり、熱圧着工程後に電磁波シールド部材1から剥離可能な層である。また、150℃における引張破断歪が50%以上で、熱圧着時に溶融する層であることが好ましい。
(Releasable cushion member)
The releasable cushion member 3 is a sheet that functions as a cushioning material that promotes followability of the conductive adhesive layer 6 to the electronic component 30 and that has releasability. That is, it is a layer that can be separated from the electromagnetic wave shield member 1 after the thermocompression bonding process. Further, it is preferable that the layer has a tensile breaking strain at 150° C. of 50% or more and melts during thermocompression bonding.

なお、離形性基材および離形性クッション部材の引張破断歪は以下の方法によって求めた値である。離形性基材および離形性クッション部材を幅200mm×長さ600mmの大きさに切断し測定試料とした。測定試料について小型卓上試験機EZ−TEST(島津製作所社製)を用いて、温度25℃、相対湿度50%の条件下で引っ張り試験(試験速度50mm/min)を実施した。得られたS−S曲線(Stress−Strain曲線)から引張破断歪(%)を算出した。 The tensile breaking strain of the releasable base material and the releasable cushion member is a value obtained by the following method. The releasable base material and the releasable cushion member were cut into a size of width 200 mm×length 600 mm to obtain a measurement sample. A tensile test (test speed 50 mm/min) was carried out on the measurement sample using a small bench tester EZ-TEST (manufactured by Shimadzu Corporation) under the conditions of a temperature of 25° C. and a relative humidity of 50%. The tensile breaking strain (%) was calculated from the obtained SS curve (Stress-Strain curve).

離形性クッション部材としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリスチレン、ポリメチルペンテン、ポリブチレンテレフタレート、環状オレフィンポリマー、シリコーンが好ましい。この中でも埋め込み性と剥離性を両立する観点から、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリブチレンテレフタレート、シリコーンがさらに好ましい。離形性クッション部材は、単層で用いても複層で用いてもよい。複層とする場合、同一または異なる種類のシートを積層できる。 As the releasable cushion member, polyethylene, polypropylene, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polystyrene, polymethylpentene, polybutylene terephthalate, cyclic olefin polymer and silicone are preferable. Of these, polypropylene, polymethylpentene, polybutylene terephthalate, and silicone are more preferable from the viewpoint of achieving both embedding properties and releasability. The releasable cushion member may be used in a single layer or multiple layers. In the case of multiple layers, sheets of the same type or different types can be laminated.

離形性クッション部材3と導電性接着剤層6の積層方法は特に限定されないが、これらのシートをラミネートする方法が挙げられる。離形性クッション部材3は最終的には剥離するので、離形性の優れた材料が好ましい。離形性クッション部材の厚みは、例えば50μm〜3mm程度であり、100μm〜1mm程度がより好ましい。 The method of laminating the releasable cushion member 3 and the conductive adhesive layer 6 is not particularly limited, but a method of laminating these sheets can be mentioned. Since the releasable cushion member 3 is finally peeled off, a material having excellent releasability is preferable. The thickness of the releasable cushion member is, for example, about 50 μm to 3 mm, more preferably about 100 μm to 1 mm.

[第2実施形態]
次に、第1実施形態とは異なる電子部品搭載基板の例について説明する。第2実施形態に係る電子部品搭載基板は、電磁波シールド部材が2層の電磁波シールド層からなっている点において、単層の電磁波シールド層からなる電磁波シールド部材を用いた第1実施形態と相違するが、その他の基本的な構成および製造方法は同様である。なお、第1実施形態と重複する記載は適宜省略する。
[Second Embodiment]
Next, an example of an electronic component mounting board different from that of the first embodiment will be described. The electronic component mounting board according to the second embodiment is different from the first embodiment using the electromagnetic wave shield member including a single electromagnetic wave shield layer in that the electromagnetic wave shield member includes two electromagnetic wave shield layers. However, other basic configurations and manufacturing methods are the same. Note that descriptions that overlap with those of the first embodiment are omitted as appropriate.

第2実施形態の電磁波シールド部材は、図11に示すように、第1導電性接着剤層6a1および第2導電性接着剤層6a2の2層からなる導電性接着剤層6aである電磁波シールド用部材2aと、離形性クッション部材3aからなる電磁波シールド用積層体4aを用いて形成される。この電磁波シールド用積層体4aを熱圧着することにより、電子部品30が搭載された基板20上に第1電磁波シールド層と第2電磁波シールド層からなる電磁波シールド部材が被覆される。この2層の電磁波シールド層の積層体である電磁波シールド部材において、表層側から測定したときの押込み弾性率を1〜10GPaとする。2層の電磁波シールド層により構成することで、電磁波シールド部材の設計自由度を高めることができる。例えば、電磁波反射層と電磁波吸収層の積層体とする態様が例示できる。電磁波シールド層を3層以上積層してもよい。 The electromagnetic wave shield member of the second embodiment is, as shown in FIG. 11, an electromagnetic wave shield that is a conductive adhesive layer 6a composed of two layers of a first conductive adhesive layer 6a1 and a second conductive adhesive layer 6a2. It is formed using the member 2a and the electromagnetic wave shielding laminate 4a including the releasable cushion member 3a. By thermocompression-bonding the electromagnetic wave shielding laminate 4a, the electromagnetic wave shielding member including the first electromagnetic wave shielding layer and the second electromagnetic wave shielding layer is coated on the substrate 20 on which the electronic component 30 is mounted. In the electromagnetic wave shield member that is a laminate of the two electromagnetic wave shield layers, the indentation elastic modulus measured from the surface layer side is 1 to 10 GPa. By comprising two electromagnetic wave shield layers, the degree of freedom in designing the electromagnetic wave shield member can be increased. For example, a mode in which a laminate of an electromagnetic wave reflection layer and an electromagnetic wave absorption layer is used can be exemplified. You may laminate|stack three or more electromagnetic wave shield layers.

第2実施形態に係る電子部品搭載基板によれば、2層の電磁波シールド層からなる電磁波シールド部材を用いることにより、第1実施形態と同様の効果が得られる。また、電磁波シールド層を2層積層したことにより各層の設計自由度を高められるので、ニーズに応じた電磁波シールド部材を提供しやすいというメリットがある。 According to the electronic component mounting board of the second embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained by using the electromagnetic wave shield member including the two electromagnetic wave shield layers. Further, by laminating two electromagnetic wave shield layers, the degree of freedom in designing each layer can be increased, which is advantageous in that it is easy to provide an electromagnetic wave shield member according to needs.

[第3実施形態]
第3実施形態に係る電子部品搭載基板は、電磁波シールド部材が電磁波シールド層とハードコート層の積層体からなる点において、単層の電磁波シールド層からなる電磁波シールド部材を用いた第1実施形態と相違するが、その他の基本的な構成および製造方法は同様である。
[Third Embodiment]
The electronic component mounting board according to the third embodiment is different from the first embodiment in which the electromagnetic wave shield member is composed of a single electromagnetic wave shield layer in that the electromagnetic wave shield member is a laminate of an electromagnetic wave shield layer and a hard coat layer. Although different, the other basic structure and manufacturing method are the same.

第3実施形態に係る電磁波シールド部材は、図12に示すように、1層の導電性接着剤層6bと絶縁性樹脂層7bの積層体である電磁波シールド用部材2bおよび離形性クッション部材3bからなる電磁波シールド用積層体4bを用いて形成される。この電磁波シールド用積層体4bを熱圧着することにより、電子部品が搭載された基板上に、導電性接着剤層6bから形成された電磁波シールド層と絶縁性樹脂層7bから形成されたハードコート層とからなる電磁波シールド部材が得られる。第3実施形態に係る電磁波シールド部材は、ハードコート層側から測定したときの押込み弾性率を1〜10GPaとする。 The electromagnetic wave shielding member according to the third embodiment is, as shown in FIG. 12, an electromagnetic wave shielding member 2b and a releasable cushion member 3b which are a laminated body of one conductive adhesive layer 6b and an insulating resin layer 7b. It is formed by using the electromagnetic wave shielding laminate 4b. By thermocompression-bonding this electromagnetic wave shield laminate 4b, a hard coat layer formed of an electromagnetic wave shield layer formed of a conductive adhesive layer 6b and an insulating resin layer 7b is formed on a substrate on which electronic components are mounted. An electromagnetic wave shield member composed of The electromagnetic wave shield member according to the third embodiment has an indentation elastic modulus of 1 to 10 GPa when measured from the hard coat layer side.

絶縁性樹脂層7bはバインダー樹脂前駆体と無機フィラーを含有する樹脂組成物から形成された層である。バインダー樹脂前駆体は、少なくとも熱軟化性樹脂を含む。バインダー樹脂前駆体の例示および好適例は、第1実施形態で述べた電磁波シールド用部材の導電性接着剤層と同じである。導電性接着剤層と絶縁性樹脂層のバインダー樹脂前駆体は同一であっても異なっていてもよい。 The insulating resin layer 7b is a layer formed from a resin composition containing a binder resin precursor and an inorganic filler. The binder resin precursor contains at least a thermosoftening resin. Examples and preferred examples of the binder resin precursor are the same as those of the conductive adhesive layer of the electromagnetic wave shielding member described in the first embodiment. The binder resin precursors of the conductive adhesive layer and the insulating resin layer may be the same or different.

無機フィラーは、第1実施形態の導電性接着剤層と異なり導電性を有していないが、好ましい無機フィラーの特性、例えば形状・配合量・D50・D90等は導電性フィラーで挙げた例と同じである。無機フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、タルク、カオリナイト、マイカ、塩基炭酸マグネシウム、セリサイト、モンモロリナイト、カオリナイト、ベントナイト等の無機化合物が挙げられる。 The inorganic filler does not have conductivity unlike the conductive adhesive layer of the first embodiment, but the characteristics of the preferable inorganic filler, for example, the shape, blending amount, D50, D90, etc., are the same as those of the conductive filler. Is the same. Examples of the inorganic filler include silica, alumina, magnesium hydroxide, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, magnesium oxide, talc, kaolinite, mica, basic magnesium carbonate, sericite, montmoroli. Inorganic compounds such as knight, kaolinite and bentonite can be mentioned.

絶縁性樹脂層に用いるバインダー樹脂前駆体の好ましい配合成分および配合量の好適な例は第1実施形態の導電性接着剤層と同じである。また、絶縁性樹脂層に用いる無機フィラーの好ましい形状、好ましい平均粒子径D50等は、第1実施形態の導電性フィラーと同じである。 Suitable examples of the preferable blending component and the blending amount of the binder resin precursor used for the insulating resin layer are the same as those of the conductive adhesive layer of the first embodiment. Further, the preferable shape of the inorganic filler used for the insulating resin layer, the preferable average particle diameter D50 and the like are the same as those of the conductive filler of the first embodiment.

熱軟化性樹脂組成物、および熱軟化性樹脂組成物層は、必要に応じて着色剤、シランカップリング剤、イオン捕集剤、酸化防止剤、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、レベリング調整剤、難燃剤等を含むことができる。 The heat-softenable resin composition, and the heat-softenable resin composition layer, if necessary, a colorant, a silane coupling agent, an ion scavenger, an antioxidant, a tackifying resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a leveling agent. Modifiers, flame retardants and the like can be included.

第3実施形態に係る電子部品搭載基板によれば、ハードコート層を有する電磁波シールド部材を用いることにより、第1実施形態で述べた効果に加え、電磁波シールド層をハードコート層で被覆することにより、より優れた耐久性を有する電磁波シールド部材を提供できる。 According to the electronic component mounting board of the third embodiment, by using the electromagnetic wave shielding member having the hard coat layer, in addition to the effect described in the first embodiment, the electromagnetic wave shielding layer is covered with the hard coat layer. It is possible to provide an electromagnetic wave shield member having more excellent durability.

[第4実施形態]
第4実施形態に係る電子部品搭載基板は、電磁波シールド部材が電磁波シールド層と絶縁被覆層の積層体からなる点において、単層の電磁波シールド層からなる電磁波シールド部材を用いた第1実施形態と相違するが、その他の基本的な構成および製造方法は第1実施形態と同様である。
[Fourth Embodiment]
The electronic component mounting board according to the fourth embodiment is the same as the first embodiment using the electromagnetic wave shield member including a single electromagnetic wave shield layer in that the electromagnetic wave shield member is a laminate of an electromagnetic wave shield layer and an insulating coating layer. Although different, the other basic configuration and manufacturing method are the same as those in the first embodiment.

第4実施形態に係る電磁波シールド部材は、図13に示すように、絶縁性接着剤層8cと導電性接着剤層6cの積層体である電磁波シールド用部材2cおよび離形性クッション部材3cからなる電磁波シールド用積層体4cを用いて形成される。 As shown in FIG. 13, the electromagnetic wave shield member according to the fourth embodiment includes an electromagnetic wave shield member 2c, which is a laminate of an insulating adhesive layer 8c and a conductive adhesive layer 6c, and a releasable cushion member 3c. It is formed using the electromagnetic wave shielding laminate 4c.

第4実施形態においては、個片化工程を行わない若しくは個片化済みの、複数の電子部品(例えば半導体パッケージ)が形成された基板上に、電磁波シールド部材を被覆する例について説明する。図14(a)に示すように、基板20との接続端子として機能するはんだボール24を有する電子部品30が搭載された基板20の上方に、電磁波シールド用積層体4cを配置し、離形性クッション部材3c側から電子部品30が搭載された基板20に熱圧着を行う(図14(b))。その後、離形性クッション部材3cを剥離することにより、図14(c)の電磁波シールド部材1cが積層された電子部品搭載基板53が得られる。第4実施形態に係る電磁波シールド部材1cは、電磁波シールド層5c側から測定したときの押込み弾性率を1〜10GPaとする。 In the fourth embodiment, an example will be described in which the electromagnetic wave shield member is coated on a substrate on which a plurality of electronic components (for example, semiconductor packages) on which the individualizing step has not been performed or which have been individualized have been formed. As shown in FIG. 14( a ), the electromagnetic wave shielding laminate 4 c is arranged above the substrate 20 on which the electronic component 30 having the solder balls 24 functioning as connection terminals with the substrate 20 is mounted, and the releasability is improved. Thermocompression bonding is performed from the cushion member 3c side to the substrate 20 on which the electronic component 30 is mounted (FIG. 14B). Then, the releasable cushion member 3c is peeled off to obtain the electronic component mounting substrate 53 in which the electromagnetic wave shield member 1c of FIG. 14(c) is laminated. The electromagnetic wave shield member 1c according to the fourth embodiment has an indentation elastic modulus of 1 to 10 GPa when measured from the electromagnetic wave shield layer 5c side.

得られた電子部品搭載基板53は、電磁波シールド層5cの上面からGNDを取ることが可能である。この方法に代えて、基板20上にグランドパターンを設け、このグランドパターンと電磁波シールド層5cを導通させるために、グランドパターン上に、絶縁被覆層9cを突き破り、電磁波シールド層5cと導通する導電性のコネクタ部を設けてもよい。 The obtained electronic component mounting substrate 53 can take GND from the upper surface of the electromagnetic wave shield layer 5c. In place of this method, a ground pattern is provided on the substrate 20, and in order to make the ground pattern and the electromagnetic wave shield layer 5c electrically conductive, the conductive pattern is penetrated through the insulating coating layer 9c on the ground pattern and electrically connected to the electromagnetic wave shield layer 5c. The connector part may be provided.

第4実施形態では、個片化工程が不要の電子部品搭載基板の製造方法の一例について説明したが、マザー基板上に、図14(c)の製品単位のユニットをアレイ状に形成し、電磁波シールド用積層体4cを載置して熱圧着して電磁波シールド層を形成し、その後、個片化工程を行うことにより、図14(c)に示す電子部品搭載基板を得ることもできる。 In the fourth embodiment, an example of a method of manufacturing an electronic component mounting board that does not require an individualizing step has been described. However, on the mother board, the unit of the product unit of FIG. It is also possible to obtain the electronic component mounting substrate shown in FIG. 14C by placing the shield laminate 4c and thermocompressing it to form an electromagnetic wave shield layer, and then performing an individualizing step.

絶縁性接着剤層8cは、バインダー樹脂前駆体を含有する樹脂組成物から形成された層である。バインダー樹脂前駆体は、少なくとも熱軟化性樹脂を含む。バインダー樹脂前駆体の例示および好適例は、第1実施形態で述べた導電性接着剤層のバインダー樹脂前駆体が挙げられる。絶縁性接着剤層8cと導電性接着剤層6cのバインダー樹脂前駆体は同一であっても異なっていてもよい。 The insulating adhesive layer 8c is a layer formed from a resin composition containing a binder resin precursor. The binder resin precursor contains at least a thermosoftening resin. Examples and preferred examples of the binder resin precursor include the binder resin precursor of the conductive adhesive layer described in the first embodiment. The binder resin precursors of the insulating adhesive layer 8c and the conductive adhesive layer 6c may be the same or different.

熱軟化性樹脂組成物および熱軟化性樹脂組成物層は、必要に応じて着色剤、シランカップリング剤、イオン捕集剤、酸化防止剤、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、レベリング調整剤、難燃剤、無機フィラー等を含むことができる。 The heat-softenable resin composition and the heat-softenable resin composition layer are, if necessary, a colorant, a silane coupling agent, an ion scavenger, an antioxidant, a tackifier resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a leveling adjustment. Agents, flame retardants, inorganic fillers, etc. may be included.

第4実施形態に係る電子部品搭載基板によれば、絶縁被覆層9cを有する電磁波シールド部材1cを用いることにより、第1実施形態で述べた効果に加え、グランドパターン以外の回路または電極パターン等の導体部と電磁波シールド部材との短絡を防ぎ、電子部品と電磁波シールド層の接合信頼性を高めることができる。また、電子部品の絶縁信頼性を高めることができる。従って、優れた耐久性を有する電磁波シールド部材を提供できる。その結果、優れた電磁波シールド性を有する電子部品搭載基板を提供できる。また、基板全体に一括でシールド層を形成できるので、製造工程が簡便であり、シールド缶等に比べて顕著に厚みを縮小できるというメリットがある。 According to the electronic component mounting board according to the fourth embodiment, by using the electromagnetic wave shield member 1c having the insulating coating layer 9c, in addition to the effect described in the first embodiment, a circuit other than the ground pattern, an electrode pattern, or the like can be obtained. It is possible to prevent a short circuit between the conductor portion and the electromagnetic wave shield member, and enhance the joint reliability between the electronic component and the electromagnetic wave shield layer. Also, the insulation reliability of the electronic component can be improved. Therefore, the electromagnetic wave shield member having excellent durability can be provided. As a result, it is possible to provide an electronic component mounting board having excellent electromagnetic wave shielding properties. Further, since the shield layer can be formed all over the substrate at once, the manufacturing process is simple and the thickness can be remarkably reduced as compared with a shield can or the like.

なお、第4実施形態において、絶縁被覆層9cは主として電子部品と電磁波シールド部材との接合を強化するために用いる例を挙げたが、絶縁被覆層9cを封止材に適用することもできる。絶縁被覆層9cを封止材に適用する場合、半導体チップ等の封止工程と電磁波シールド部材の被覆を同一工程で行うことができるというメリットがある。即ち、第4実施形態に係る電磁波シールド部材は、絶縁体におり一体的に被覆されていない電子部品に対して適用し、絶縁性接着剤層から封止材(モールド樹脂)に対応する絶縁被覆層を得ることもできる。この場合、電子部品の側面に電磁波シールド部材を被覆するために、電子部品に対応する凹部がアレイ状に形成されたプレス板(電子部品の間隙に電磁波シールド部材を埋め込む凸部が形成されたプレス板)を用いてもよい。 In the fourth embodiment, the insulating coating layer 9c is mainly used for strengthening the bonding between the electronic component and the electromagnetic wave shield member, but the insulating coating layer 9c can be applied to a sealing material. When the insulating coating layer 9c is applied to the sealing material, there is an advantage that the step of sealing the semiconductor chip and the like and the coating of the electromagnetic wave shield member can be performed in the same step. That is, the electromagnetic wave shield member according to the fourth embodiment is applied to an electronic component which is an insulator and is not integrally covered, and an insulating coating corresponding to the sealing material (mold resin) from the insulating adhesive layer. You can also get layers. In this case, in order to cover the electromagnetic wave shielding member on the side surface of the electronic component, a press plate in which concave portions corresponding to the electronic component are formed in an array (a press plate having a convex portion for embedding the electromagnetic wave shielding member in a gap between the electronic components is formed). A plate) may be used.

[第5実施形態]
第5実施形態に係る電子部品搭載基板は、電磁波シールド層とグランドパターンが直接接触して導通しており、電磁波シールド用積層体の内部層に位置する導電性接着剤層が、当該積層体の段階で露出している領域を有する電磁波シールド用積層体を用いる。この露出領域は、基板等に形成されたグランドパターン等の導電パターンと電磁波シールド層が接触して導通するために設けられている。第5実施形態は、これらの点において第4実施形態と相違するが、その他の基本的な構成および製造方法は同様である。
[Fifth Embodiment]
In the electronic component mounting board according to the fifth embodiment, the electromagnetic wave shield layer and the ground pattern are in direct contact with each other for electrical conduction, and the conductive adhesive layer located in the inner layer of the electromagnetic wave shield laminate is the same as that of the laminate body. An electromagnetic wave shielding laminate having an exposed region at a stage is used. The exposed region is provided so that a conductive pattern such as a ground pattern formed on the substrate or the like and the electromagnetic wave shield layer come into contact with each other to establish electrical conduction. The fifth embodiment is different from the fourth embodiment in these points, but the other basic configuration and manufacturing method are the same.

第5実施形態に係る電磁波シールド用積層体は、積層構成は第4実施形態と同様であるが、図15(a)に示すように、基板20上に形成されたグランドパターン22を被覆する領域に対応する位置の電磁波シールド用積層体4dにおいて導電性接着剤層6dが露出している。具体的には、絶縁性接着剤層8d側からの上面視において、導電性接着剤層6dの露出領域が設けられている。図15(a)の電磁波シールド用積層体4dの例では、絶縁性接着剤層8dのサイズを電磁波シールド用積層体4dのサイズよりも一回り小さくし、電磁波シールド用積層体4dの額縁領域において導電性接着剤層6dが露出するようにする。係る構成により、図15(b)、図15(c)に示すように、熱圧着によりグランドパターン22と電磁波シールド層5dとが接触して導通した電子部品搭載基板54が得られる。電磁波シールド用積層体4dにおける導電性接着剤層6dの露出部の位置は、図15(a)の例に限定されず、露出部を開口パターンとして形成してもよい。 The electromagnetic wave shielding laminate according to the fifth embodiment has the same laminated structure as that of the fourth embodiment, but as shown in FIG. 15A, a region that covers the ground pattern 22 formed on the substrate 20. The conductive adhesive layer 6d is exposed in the electromagnetic wave shielding laminate 4d at a position corresponding to. Specifically, the exposed region of the conductive adhesive layer 6d is provided in a top view from the insulating adhesive layer 8d side. In the example of the electromagnetic wave shielding laminate 4d of FIG. 15(a), the size of the insulating adhesive layer 8d is made one size smaller than the size of the electromagnetic wave shielding laminate 4d, so that the frame region of the electromagnetic wave shielding laminate 4d is reduced. The conductive adhesive layer 6d is exposed. With such a configuration, as shown in FIGS. 15B and 15C, the electronic component mounting substrate 54 in which the ground pattern 22 and the electromagnetic wave shield layer 5d are brought into contact with each other by thermocompression to be conductive is obtained. The position of the exposed portion of the conductive adhesive layer 6d in the electromagnetic wave shielding laminate 4d is not limited to the example of FIG. 15A, and the exposed portion may be formed as an opening pattern.

<変形例>
次に、本実施形態に係る電子部品搭載基板等の変形例について説明する。但し、本発明は、上記実施形態および変形例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得る。また、各実施形態および変形例は、互いに好適に組み合わせられる。
<Modification>
Next, modifications of the electronic component mounting board and the like according to the present embodiment will be described. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and other embodiments may be included in the scope of the present invention as long as they match the gist of the present invention. Further, the respective embodiments and modified examples are preferably combined with each other.

第4、5実施形態においては、絶縁性接着剤層、導電性接着剤層および離形性クッション部材の積層体からなる電磁波シールド用積層体を用いた例を説明したが、以下のように製造することも可能である。即ち、図16(a)に示すように、複数の電子部品30が搭載された基板20上に、まず、図16(b)に示すように、絶縁被覆層9eを形成する。この絶縁被覆層9eは、絶縁性接着剤層を含むシートを熱プレスすることにより得られる。その後、導電性接着剤層6eおよび離形性クッション部材3eの積層体からなる電磁波シールド用積層体4eを用いることにより電磁波シールド層5eを形成する(図16(c)、(d))。これらの工程を経て、電磁波シールド部材が形成された電子部品搭載基板55が得られる。なお、絶縁被覆層9eは、シートを熱プレスする方法に代えて、溶液樹脂を塗布する方法および溶液樹脂をスプレーする方法を例示できる。 In the fourth and fifth embodiments, an example in which an electromagnetic wave shield laminate including a laminate of an insulating adhesive layer, a conductive adhesive layer, and a releasable cushion member is used has been described. It is also possible to do so. That is, as shown in FIG. 16A, the insulating coating layer 9e is first formed on the substrate 20 on which the plurality of electronic components 30 are mounted, as shown in FIG. 16B. The insulating coating layer 9e is obtained by hot pressing a sheet containing an insulating adhesive layer. Then, the electromagnetic wave shield layer 5e is formed by using the electromagnetic wave shield laminate 4e, which is a laminate of the conductive adhesive layer 6e and the releasable cushion member 3e (FIGS. 16C and 16D). Through these steps, the electronic component mounting board 55 on which the electromagnetic wave shield member is formed is obtained. The insulating coating layer 9e can be exemplified by a method of applying a solution resin and a method of spraying a solution resin, instead of the method of hot pressing the sheet.

上記実施形態においては、部品の一例として電子部品を例として説明したが、電磁波から遮蔽したい部品全般に対して本発明を適用できる。また、部品の形状は矩形状に限定されず、角部がR形状である部品、部品の上面と側面の成す角度が鋭角の部品、鈍角の部品も含む。また、上面に凹凸形状がある部品、電子部品の外面が球状等の曲面になっている場合も含む。また、上記実施形態においては、基板20にハーフダイシング溝25(図2参照)が形成されていたが、ハーフダイシング溝25は必須ではなくフラットな基板に電磁波シールド部材を載置して被覆させてもよい。加えて、本発明の電子部品搭載基板には、例えば基板20をオールダイシングして個片化した電子部品が搭載された部品搭載基板が別の保持基材等に載置されている場合も含む。 In the above embodiment, an electronic component has been described as an example of the component, but the present invention can be applied to all components desired to be shielded from electromagnetic waves. The shape of the component is not limited to a rectangular shape, and includes a component having an R-shaped corner, a component having an acute angle between the upper surface and the side surface of the component, and a component having an obtuse angle. It also includes a case where the top surface is uneven, and the case where the outer surface of the electronic part is a curved surface such as a sphere. Further, in the above-described embodiment, the half dicing groove 25 (see FIG. 2) is formed on the substrate 20, but the half dicing groove 25 is not essential, and the electromagnetic wave shield member may be placed and covered on a flat substrate. Good. In addition, the electronic component mounting board of the present invention includes a case where the component mounting board on which the electronic component obtained by, for example, all-dicing the substrate 20 is mounted is mounted on another holding base material or the like. ..

また、電磁波シールド用積層体は上記実施形態の積層形態に限定されない。例えば、離形性クッション部材上に、支持基板が積層されていてもよい。支持基板を積層することにより、熱圧着時の装置の汚れを簡易に防止することができる。また、支持基板により、電磁波シールド用積層体の貼付工程が容易になるというメリットがある。また、電子部品は基板の片面のみならず両面に搭載し、各電子部品に電磁波シールド部材を形成することもできる。 Further, the electromagnetic wave shield laminate is not limited to the laminate form of the above embodiment. For example, a support substrate may be laminated on the releasable cushion member. By stacking the support substrates, it is possible to easily prevent the device from being soiled during thermocompression bonding. In addition, the support substrate has an advantage that the step of attaching the electromagnetic wave shielding laminate is facilitated. Further, the electronic components can be mounted not only on one side of the substrate but also on both sides, and the electromagnetic wave shield member can be formed on each electronic component.

本実施形態に係る電子部品搭載基板によれば、凹凸構造に対する被覆性に優れることから、パーソナルコンピュータ、モバイル機器或いはデジタルカメラ等の各種電子機器に好適に適用できる。 The electronic component mounting board according to the present embodiment is excellent in covering property with respect to the concavo-convex structure, and thus can be suitably applied to various electronic devices such as personal computers, mobile devices, and digital cameras.

≪実施例≫
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。また、実施例中の「部」とあるのは「質量部」を、「%」とあるのは「質量%」をそれぞれ表すものとする。また、本発明に記載の値は、以下の方法により求めた。なお、請求項1に係る発明と整合させるために、後述する実施例1〜3,5、6をそれぞれ参考例1〜3、5、6と読み替えるものとする。
<<Example>>
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. In addition, "part" in the examples means "part by mass", and "%" means "% by mass". The values described in the present invention were determined by the following method. In addition, in order to make it consistent with the invention according to claim 1, Examples 1 to 3, 5, and 6 described later are to be read as Reference Examples 1, 3, 5, and 6, respectively.

(試験基板の作製)
ガラスエポキシからなる基板上に、モールド封止された電子部品(1cm×1cm)を5×5個アレイ状に搭載した基板を用意した。基板の厚みは0.3mmであり、モールド封止厚、即ち基板上面からモールド封止材の頂面までの高さ(部品高さ)Hは0.7mmである。その後、部品同士の間隙である溝に添ってハーフダイシングを行い、試験基板を得た(図17参照)。ハーフカット溝深さは0.8mm(基板20のカット溝深さは0.1mm)、ハーフカット溝幅は200μmとした。
(Preparation of test board)
A substrate was prepared in which 5×5 array of mold-sealed electronic components (1 cm×1 cm) were mounted on the substrate made of glass epoxy. The thickness of the substrate is 0.3 mm, and the mold sealing thickness, that is, the height (component height) H from the upper surface of the substrate to the top surface of the mold sealing material is 0.7 mm. After that, half dicing was performed along the groove that is a gap between the components to obtain a test board (see FIG. 17). The half cut groove depth was 0.8 mm (the cut groove depth of the substrate 20 was 0.1 mm), and the half cut groove width was 200 μm.

以下、実施例で使用した材料を示す。
・バインダー樹脂前駆体
樹脂1:ウレタン樹脂、
樹脂2:ポリカーボネート樹脂、
樹脂3:スチレンエラストマー樹脂、
樹脂4:フェノキシ樹脂、
硬化性化合物1:デコナールEX830
硬化性化合物2:jERYX8000、
硬化性化合物3:jER157S70、
・硬化促進剤:PZ−33
・導電性フィラー
導電性フィラー1:フレーク状Ag(平均粒子径D50:11μm)
導電性フィラー2:針状銀コート銅(平均粒子径D50:7.5μm)
・添加剤
添加剤1:BYK322、
添加剤2:BYK337
The materials used in the examples are shown below.
・Binder resin precursor Resin 1: Urethane resin,
Resin 2: Polycarbonate resin,
Resin 3: Styrene elastomer resin,
Resin 4: Phenoxy resin,
Curable compound 1: Deconal EX830
Curable compound 2: jERYX8000,
Curable compound 3: jER157S70,
-Curing accelerator: PZ-33
Conductive filler Conductive filler 1: Flake Ag (average particle diameter D50: 11 μm)
Conductive filler 2: acicular silver-coated copper (average particle diameter D50: 7.5 μm)
・Additive Additive 1: BYK322,
Additive 2: BYK337

[実施例1]
(導電性接着剤層の樹脂組成物の調製)
表1に示すように、バインダー樹脂前駆体として樹脂1(ウレタン樹脂)を70部(固形分)と、樹脂2(ポリカーボネート樹脂)を30部(固形分)と、硬化性化合物1(エポキシ樹脂)を30部と、硬化性化合物2(エポキシ樹脂)を15部と、導電性フィラー1(フレーク状Ag)を280部と、導電性フィラー2(針状AgコートCu)を50部と、硬化促進剤を1部と、添加剤1を0.4部とを容器に仕込み、不揮発分濃度が35質量%になるようトルエン:イソプロピルアルコール(質量比2:1)の混合溶剤を加えディスパーで10分攪拌することで導電性接着剤層を形成するための樹脂組成物を得た。
[Example 1]
(Preparation of Resin Composition of Conductive Adhesive Layer)
As shown in Table 1, 70 parts (solid content) of resin 1 (urethane resin), 30 parts (solid content) of resin 2 (polycarbonate resin), and curable compound 1 (epoxy resin) as binder resin precursors 30 parts, 15 parts of curable compound 2 (epoxy resin), 280 parts of conductive filler 1 (flake-like Ag), 50 parts of conductive filler 2 (acicular Ag coat Cu), and curing acceleration. 1 part of the agent and 0.4 part of the additive 1 were charged into a container, a mixed solvent of toluene:isopropyl alcohol (mass ratio 2:1) was added so that the nonvolatile content concentration was 35% by mass, and the mixture was mixed with a disper for 10 minutes. A resin composition for forming a conductive adhesive layer was obtained by stirring.

(電磁波シールド用積層体の作製)
この樹脂組成物を乾燥厚みが50μmになるようにドクターブレードを使用して離形性基材に塗工した。そして、25℃で12分間常温乾燥した後、100℃で2分間乾燥することで電磁波シールド用部材(導電性接着剤層)を得た。その後、離形性クッション部材CR1020、軟質樹脂層の両面をポリメチルペンテンで挟み込んだ層構成(厚み150μm)、三井化学東セロ社製)を用意し、電磁波シールド用部材とラミネートすることにより離形性基材上に実施例1に係る電磁波シールド用積層体を得た。
(Preparation of laminate for electromagnetic wave shield)
This resin composition was applied to a releasable substrate using a doctor blade so that the dry thickness would be 50 μm. Then, after being dried at 25° C. for 12 minutes at room temperature, it was dried at 100° C. for 2 minutes to obtain an electromagnetic wave shielding member (conductive adhesive layer). After that, a releasable cushion member CR1020, a layer structure (thickness 150 μm) in which both surfaces of the soft resin layer are sandwiched by polymethylpentene, manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello Co., Ltd. are prepared and laminated with an electromagnetic wave shielding member to provide releasability. An electromagnetic wave shielding laminate according to Example 1 was obtained on the base material.

(電子部品搭載基板の試験片の作製)
次に、この離形性基材上の電磁波シールド用積層体を10×10cmにカットし、離形性基材を剥離した後、前記試験基板(図17参照)に対して、電磁波シールド用積層体の導電性接着剤層面側が接するように載置し仮貼付した。そして、この電磁波シールド用積層体の上方から基板面に対し2MPa、180℃の条件で2時間熱圧着した。熱圧着後、離形性クッション部材を剥離することで、電磁波シールド部材が被覆された実施例1に係る電子部品搭載基板(試験片)を得た。
(Preparation of test pieces for electronic component mounting boards)
Next, the laminate for electromagnetic wave shielding on the releasable substrate was cut into 10×10 cm, the releasable substrate was peeled off, and then the laminate for electromagnetic wave shielding was placed on the test substrate (see FIG. 17). It was placed and temporarily attached so that the conductive adhesive layer surface side of the body was in contact. Then, thermocompression bonding was performed on the substrate surface from above the electromagnetic wave shielding laminate at 2 MPa and 180° C. for 2 hours. After the thermocompression bonding, the releasable cushion member was peeled off to obtain an electronic component mounting substrate (test piece) according to Example 1 covered with the electromagnetic wave shield member.

[実施例2〜19、比較例1,2]
表1,表2の記載の組成に変更した以外は、実施例1と同様にして、各実施例および比較例の導電性接着剤層の樹脂組成物、電磁波シールド用積層体および電子部品搭載基板の試験片を得た。
[Examples 2 to 19, Comparative Examples 1 and 2]
In the same manner as in Example 1 except that the compositions shown in Tables 1 and 2 were changed, the resin composition of the conductive adhesive layer of each Example and Comparative Example, the electromagnetic wave shielding laminate, and the electronic component mounting substrate. The test piece of was obtained.

<押込み弾性率>
実施例1〜19、比較例1,2の電磁波シールド用積層体を用意し、厚み300μmのFR4基板に載置し、離形性クッション部材側から面方向に2MPaの条件で180℃2時間の加熱を行った。その後、離形性クッション部材を剥離して電磁波シールド部材を形成したFR4基板の試験片を得た。そして、離形性クッション部材が積層されていた側から以下の方法により押込み弾性率を測定した。
即ち、フィッシャースコープH100C(フィッシャー・インストルメンツ社製)型硬度計を使用し、ビッカース圧子(100φの先端が球形のダイアモンド圧子)を用い、25℃の恒温室にて試験力0.3N、試験力の保持時間20秒、試験力の付加所要時間5秒で行った。電磁波シールド部材の同一膜面をランダムに5箇所繰り返し測定して得た値を平均して押込み弾性率を求めた。
<Indentation elastic modulus>
The electromagnetic wave shield laminates of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared, placed on a FR4 substrate having a thickness of 300 μm, and 180° C. for 2 hours under the condition of 2 MPa in the surface direction from the releasable cushion member side. Heating was performed. Then, the releasable cushion member was peeled off to obtain a test piece of FR4 substrate on which the electromagnetic wave shield member was formed. Then, the indentation elastic modulus was measured from the side where the releasable cushion member was laminated by the following method.
That is, using a Fischer Scope H100C (manufactured by Fischer Instruments Co., Ltd.) type hardness meter, using a Vickers indenter (diamond indenter with a 100φ tip having a spherical tip), a test force of 0.3N and a test force at 25° C. The holding time was 20 seconds, and the test force addition time was 5 seconds. The indentation elastic modulus was determined by averaging the values obtained by repeatedly measuring the same film surface of the electromagnetic wave shield member at five locations.

なお、電磁波シールド部材の押込み弾性率の測定において、電子部品搭載基板上に実際に被覆されている電磁波シールド部材を測定することもできる。この場合には、電子部品基板上に被覆された電磁波シールド部材に直接ビッカース圧子を接触させ測定する。後述するクルトシスおよび水接触角においても、同様の要領で電子部品搭載基板上に実際に被覆されている電磁波シールド部材の測定を行うことができる。 In the measurement of the indentation elastic modulus of the electromagnetic wave shield member, the electromagnetic wave shield member actually coated on the electronic component mounting board can be measured. In this case, the Vickers indenter is brought into direct contact with the electromagnetic wave shield member coated on the electronic component substrate for measurement. Also with respect to the kurtosis and the water contact angle, which will be described later, the electromagnetic wave shield member actually coated on the electronic component mounting board can be measured in the same manner.

<クルトシス>
各実施例および比較例の電磁波シールド用積層体を用意し、厚み300μmのFR4基板に載置し、離形性クッション部材側から面方向に8MPaの条件で170℃5分加熱圧着を行った。その後離形性クッション部材を剥がし180℃2時間の加熱を行った。その後、離形性クッション部材を剥離して電磁波シールド部材を形成したFR4基板の試験片を得た。この試験片において、離形性クッション部材を剥離した電磁波シールド部材の表面に金属スパッタ処理を施した。金属スパッタ処理条件は、日本電子株式会社製スパッタ装置「Smart Coater」を使用し、ターゲットとして金を用い、ターゲットとサンプル表面との離間距離を2cmとし、0.5分間スパッタした。得られた試料の金属スパッタ処理面に対し、JIS B 0601:2001に準拠し、レーザー顕微鏡((株)キーエンス社製(VK−X100))を用いてクルトシスを求めた。測定条件は、形状測定モードで測定倍率を1000倍とし表面形状を取得した。得られた表面形状画像を解析アプリケーションの表面粗さ測定にて、全領域を選択しλs輪郭曲線フィルタを2.5μm、λc輪郭曲線フィルタを0.8mmとし、クルトシスを測定した。上記測定を異なる5箇所で行い測定値の平均値をクルトシスの値とした。
なお、電磁波シールド部材のクルトシスの測定において、電子部品搭載基板上に実際に被覆されている電磁波シールド部材を測定する場合には、電子部品基板上に被覆された電磁波シールド部材を直接測定すればよい。
<Kurtosis>
The electromagnetic wave shielding laminates of Examples and Comparative Examples were prepared, placed on a FR4 substrate having a thickness of 300 μm, and heated and pressed at 170° C. for 5 minutes under the condition of 8 MPa in the surface direction from the releasable cushion member side. Thereafter, the releasable cushion member was peeled off, and heating was performed at 180° C. for 2 hours. Then, the releasable cushion member was peeled off to obtain a test piece of FR4 substrate on which the electromagnetic wave shield member was formed. In this test piece, the surface of the electromagnetic wave shield member from which the releasable cushion member was peeled off was subjected to metal sputtering treatment. The conditions for the metal sputtering treatment were that a sputtering device “Smart Coater” manufactured by JEOL Ltd. was used, gold was used as a target, and the separation distance between the target and the sample surface was 2 cm, and sputtering was performed for 0.5 minutes. For the metal sputtered surface of the obtained sample, the kurtosis was determined using a laser microscope (VK-X100, manufactured by Keyence Corp.) according to JIS B 0601:2001. The measurement conditions were such that the measurement magnification was 1000 times in the shape measurement mode and the surface shape was acquired. The obtained surface shape image was subjected to surface roughness measurement of an analysis application, and the entire area was selected, and the λs contour curve filter was set to 2.5 μm and the λc contour curve filter was set to 0.8 mm, and kurtosis was measured. The above measurement was carried out at five different points, and the average value of the measured values was used as the kurtosis value.
In the measurement of the kurtosis of the electromagnetic wave shield member, when measuring the electromagnetic wave shield member actually coated on the electronic component mounting substrate, the electromagnetic wave shield member coated on the electronic component substrate may be directly measured. ..

<水接触角>
押込み弾性率の測定試料と同様にして作製したFR4基板の試験片に対し、電磁波シールド層の表面に対して、協和界面科学(株)製「自動接触角計DM‐501/解析ソフトウェアFAMAS」を用いて電磁波シールド部材の水接触角を測定した。測定は液適法により行った。
<Water contact angle>
For the test piece of FR4 substrate prepared in the same way as the sample for measuring the indentation elastic modulus, "Automatic contact angle meter DM-501/Analysis software FAMAS" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used for the surface of the electromagnetic wave shield layer. Then, the water contact angle of the electromagnetic wave shield member was measured. The measurement was performed by a liquid method.

<マルテンス硬さの測定>
各実施例および比較例の電子部品搭載基板の試験片を用意し、ISO14577−1に準拠して、フィッシャースコープH100C(フィッシャー・インストルメンツ社製)型硬度計にてマルテンス硬さを測定した。測定は、電子部品30上の上面に対して、ビッカース圧子(100φの先端が球形のダイアモンド圧子)を用い、25℃の恒温室にて試験力0.3N、試験力の保持時間20秒、試験力の付加所要時間5秒の条件で行った。同一硬化膜面をランダムに10箇所繰り返し測定して得た値の平均値をマルテンス硬さとした。なお、試験力は電磁波シールド層の厚みに応じて調整する。具体的には最大押し込み深さが電磁波シールド部材の厚みの10分の1程度になるように試験力を調整した。
<Measurement of Martens hardness>
The test pieces of the electronic component mounting boards of the respective examples and comparative examples were prepared, and the Martens hardness was measured by a Fischer Scope H100C (manufactured by Fischer Instruments Co., Ltd.) type hardness meter in accordance with ISO14577-1. For the measurement, a Vickers indenter (diamond indenter with a 100φ tip having a spherical tip) is used on the upper surface of the electronic component 30, and a test force of 0.3 N, a test force holding time of 20 seconds, and a test in a thermostatic chamber at 25° C. It was carried out under the condition that the time required to apply force was 5 seconds. The average value of the values obtained by repeatedly measuring 10 times the same cured film surface at random was defined as Martens hardness. The test force is adjusted according to the thickness of the electromagnetic wave shield layer. Specifically, the test force was adjusted so that the maximum indentation depth was about 1/10 of the thickness of the electromagnetic wave shield member.

<塗液の粘度およびチキソトロピーインデックス>
得られた導電性樹脂組成物を25℃のウォーターバスに30分静置した後に「B型粘度計」(東機産業株式会社製)にて、回転数6rpmの粘度(v1)および回転数60rpmの粘度(v2)を測定した。(v1)を(v2)で除した値をチキソトロピーインデックスとした。
<Viscosity of coating liquid and thixotropic index>
The obtained conductive resin composition was allowed to stand in a water bath at 25° C. for 30 minutes, and then, with a “B type viscometer” (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.), a viscosity (v1) at a rotation speed of 6 rpm and a rotation speed of 60 rpm. The viscosity (v2) of was measured. The value obtained by dividing (v1) by (v2) was used as a thixotropic index.

<フルダイシング時のバリ>
上記試験基板(5×5個アレイ状に電子部品が搭載された基板)に、各実施例および比較例の電磁波シールド用積層体を8MPa、170℃の条件で5分間熱圧着し、離形性クッション部材を手で剥離した。その後、180℃2時間キュアすることにより電磁波シールド部材を被覆した試験サンプルを得た。得られた試験サンプルに対し、個片化工程(フルダイシング)を行ったときのバリの発生状況を、レーザー顕微鏡を用いて以下の基準で評価した。
+++:バリが確認されない。
++:バリの発生が個片化した電子部品25個中2個未満。
+:バリの発生が個片化した電子部品25個中2個以上、5個未満。
NG:バリの発生が個片化した電子部品25個中5個以上。
<Burr during full dicing>
The electromagnetic wave shielding laminates of Examples and Comparative Examples were thermocompression-bonded to the above-mentioned test substrate (a substrate on which electronic components were mounted in an array of 5×5 pieces) under conditions of 8 MPa and 170° C. for 5 minutes, and releasability was improved. The cushion member was peeled off by hand. Then, it was cured at 180° C. for 2 hours to obtain a test sample coated with the electromagnetic wave shield member. With respect to the obtained test sample, the occurrence state of burrs when an individualizing step (full dicing) was performed was evaluated by the following criteria using a laser microscope.
+++: No burr is confirmed.
++: Less than 2 out of 25 electronic components in which burrs are generated.
+: 2 or more and less than 5 out of 25 electronic components in which burrs are generated.
NG: 5 or more out of 25 electronic components in which burrs are singulated.

<テープ密着性>
厚み300μmのFR4基板に、5×5cmにカットした各実施例および比較例の電磁波シールド用積層体をそれぞれ載置し、170℃で8MPaの条件で5分熱プレスを行い、180℃で2時間キュアすることで試験基板を得た。次いで、離形性クッション部材を剥離した。その後、得られた試験基板を130℃、湿度85%、0.23MPaのプレッシャークッカー試験を実施した。試験時間は96時間とし、粘着テープは、幅18mmのニチバン製粘着テープを用いた。そして、JISK5600に準じてクロスカットガイドを使用し、間隔が1mmの碁盤目を電磁波シールド部材に25個作製した。その後、電磁波シールド部材の碁盤目部に粘着テープを圧着させ、テープの端を45°の角度で一気に引き剥がしてテープ密着試験を行った。電磁波シールド部材の碁盤目の状態(クロスカット残存率)を下記の基準で判断した。
+++:25/25の残存率を示す。
++:24/25の残存率を示す。
+:23/25の残存率を示す。
NG:23/25の残存率未満である。
<Tape adhesion>
On the FR4 substrate having a thickness of 300 μm, the electromagnetic wave shielding laminates of Examples and Comparative Examples cut into 5×5 cm were placed, respectively, and hot pressed at 170° C. for 8 minutes under the condition of 8 MPa, and then at 180° C. for 2 hours. A test substrate was obtained by curing. Then, the releasable cushion member was peeled off. Then, the obtained test substrate was subjected to a pressure cooker test at 130° C., a humidity of 85%, and a pressure of 0.23 MPa. The test time was 96 hours, and an Nichiban adhesive tape having a width of 18 mm was used as the adhesive tape. Then, using a cross-cut guide according to JIS K5600, 25 grids having an interval of 1 mm were produced on the electromagnetic wave shield member. After that, an adhesive tape was pressure-bonded to the cross-cut portion of the electromagnetic wave shield member, the end of the tape was peeled off at an angle of 45°, and a tape adhesion test was conducted. The cross-cut state (crosscut residual rate) of the electromagnetic wave shield member was judged according to the following criteria.
+++: Shows the residual rate of 25/25.
++: Shows the residual rate of 24/25.
+: The residual rate of 23/25 is shown.
NG: less than 23/25 residual rate.

<熱圧着後の離形性クッション部材のハーフダイシング溝の剥離性評価>
上記試験基板(ハーフダイシング溝深さ800μm、溝幅200μm)に対して、各実施例および比較例の電磁波シールド用積層体それぞれを8MPa、170℃の条件で5分間熱圧着し、離形性クッション部材を手で剥離した。そして、電子部品同士の間隙の溝に千切れて残った離形性クッション部材の個数を目視で確認した。評価基準は以下の通りとした。
+++:残渣が認められない。
++:残渣が1個以上、3個未満。
+:残渣が3個以上、5個未満。
NG:残渣が5個以上、或いは溝全体に残渣が残った状態。
<Peelability evaluation of the half dicing groove of the releasable cushion member after thermocompression bonding>
The electromagnetic wave shielding laminates of Examples and Comparative Examples were thermocompression bonded to the test substrate (half dicing groove depth 800 μm, groove width 200 μm) under conditions of 8 MPa and 170° C. for 5 minutes to form a releasable cushion. The member was peeled off by hand. Then, the number of releasable cushion members torn and left in the groove in the gap between the electronic components was visually confirmed. The evaluation criteria are as follows.
+++: No residue is observed.
++: 1 or more residue and less than 3 residue.
+: 3 or more residues and less than 5 residues.
NG: 5 or more residues, or the residue remains in the entire groove.

<スチールウール耐性>
厚さ125μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製「カプトン500H」)に、5×15cmにカットした各実施例および比較例の電磁波シールド用積層体をそれぞれ載置し、180℃で2MPaの条件で10分熱プレスを行った後、180℃で2時間キュアすることで試験基板を得た。その後、離形性クッション部材を剥離した。次いで、電磁波シールド部材に対して学振式磨耗試験機(テスター産業社製)にセットして荷重200gf、ストローク120mm、往復速度30回/minの条件で、電磁波シールド部材が摩耗してポリイミドフィルムが露出するまでの学振回数を求めた。評価基準は以下の通りである。
+++:20,000回以上。
++:10,000回以上、20,000回未満。
+:5,000回以上、10,000回未満(実用レベル)。
NG:5,000回未満。
<Steel wool resistance>
The electromagnetic wave shielding laminates of Examples and Comparative Examples cut into 5×15 cm were placed on a 125 μm-thick polyimide film (“Kapton 500H” manufactured by Toray-Dupont Co., Ltd.), respectively, and the conditions were 180° C. and 2 MPa. After hot pressing for 10 minutes, a test substrate was obtained by curing at 180° C. for 2 hours. Then, the releasable cushion member was peeled off. Then, the electromagnetic wave shield member was set on a Gakushin abrasion tester (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.), and the electromagnetic wave shield member was abraded and the polyimide film was formed under the conditions of a load of 200 gf, a stroke of 120 mm, and a reciprocating speed of 30 times/min. The number of academic achievements until exposure was calculated. The evaluation criteria are as follows.
+++: 20,000 times or more.
++: 10,000 times or more and less than 20,000 times.
+: 5,000 times or more and less than 10,000 times (practical level).
NG: less than 5,000 times.

表1,表2に、実施例1〜19および比較例1,2の上記評価結果を示す。 Tables 1 and 2 show the evaluation results of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 and 2.

表1、表2の例に示すように、押込み弾性率が1未満の比較例1の電磁波シールド部材を用いた電子部品搭載基板は、フルダイシング時のバリが合格レベルに達しなかった。これに対し、本発明の電子部品搭載基板の電磁波シールド性部材はいずれも合格レベルに達しており、バリの発生を抑制できることが確認できた。また、押込み弾性率が10を超える比較例2の電磁波シールド部材を用いた電子部品搭載基板は、PCT試験後のテープ密着性が合格レベルに達しなかった。これに対し、本発明の電子部品搭載基板の電磁波シールド性部材はいずれもPCT試験後のテープ密着性が合格レベルであり、PCT耐性に優れていることを確認した。 As shown in the examples of Table 1 and Table 2, the electronic component mounting board using the electromagnetic wave shielding member of Comparative Example 1 having the indentation elastic modulus of less than 1 did not reach the pass level in the burr at the time of full dicing. On the other hand, all the electromagnetic wave shielding members of the electronic component mounting board of the present invention have reached the pass level, and it has been confirmed that the occurrence of burrs can be suppressed. In addition, the electronic component mounting board using the electromagnetic wave shield member of Comparative Example 2 having the indentation elastic modulus of more than 10, the tape adhesion after the PCT test did not reach the pass level. On the other hand, it was confirmed that all the electromagnetic wave shielding members of the electronic component mounting board of the present invention had a tape adhesion level after the PCT test at an acceptable level and excellent PCT resistance.

図18に、実施例3の個片化後の電子部品搭載基板の側面を顕微鏡で観察した画像を示す。同図に示すように、バリは認められなかった。一方、図19に、比較例1の個片化後の電子部品搭載基板の側面を顕微鏡で観察した画像を示す。同図に示すように、バリの発生が認められた。 FIG. 18 shows an image obtained by observing the side surface of the electronic component mounting substrate after being diced in Example 3 with a microscope. As shown in the figure, no burr was observed. On the other hand, FIG. 19 shows an image obtained by observing the side surface of the electronic component mounting substrate of Comparative Example 1 after singulation with a microscope. As shown in the figure, the occurrence of burrs was observed.

[付記]
本明細書は、上記実施形態から把握される以下に示す技術思想の発明も開示する。
(付記1)
バインダー樹脂前駆体と導電性フィラーを含む導電性接着剤層を有する電磁波シールド用部材と、
前記電磁波シールド用部材上に積層された離形性クッション部材とを有し、
前記離形性クッション部材側から面方向に2MPaの条件で180℃2時間の加熱を行った後に前記離形性クッション部材を剥離して電磁波シールド部材を得た場合に、前記離形性クッション部材が積層されていた側から測定したときの当該電磁波シールド部材の押込み弾性率が1〜10GPaの範囲となる、電磁波シールド用積層体。
(付記2)
前記離形性クッション部材側から面方向に2MPaの条件で180℃2時間の加熱を行った後、前記離形性クッション部材を剥離して前記電磁波シールド部材を得た場合に、前記離形性クッション部材が積層されていた側の表層の水接触角が70〜100°となる付記1に記載の電磁波シールド用積層体。
(付記3)
前記離形性クッション部材側から面方向に2MPaの条件で180℃2時間の加熱を行った後に前記離形性クッション部材を剥離して前記電磁波シールド部材を得た場合に、前記離形性クッション部材が積層されていた側からJISB0601;2001に準拠して測定したときのクルトシスが1〜8となる付記1又は付記2に記載の電磁波シールド用積層体。
[Note]
The present specification also discloses inventions of the following technical ideas that are grasped from the above-described embodiments.
(Appendix 1)
An electromagnetic wave shielding member having a conductive adhesive layer containing a binder resin precursor and a conductive filler,
Having a releasable cushion member laminated on the electromagnetic wave shielding member,
When the electromagnetic wave shield member is obtained by peeling the releasable cushion member after heating at 180° C. for 2 hours under the condition of 2 MPa in the surface direction from the releasable cushion member side, the releasable cushion member The laminated body for electromagnetic wave shielding, wherein the indentation elastic modulus of the electromagnetic wave shielding member is in the range of 1 to 10 GPa when measured from the side where was laminated.
(Appendix 2)
When the electromagnetic wave shielding member is obtained by peeling the releasable cushion member after heating at 180° C. for 2 hours in the surface direction from the releasable cushion member side at 2 MPa, the releasability is 2. The electromagnetic wave shield laminate according to appendix 1, wherein the surface layer on the side where the cushion member is laminated has a water contact angle of 70 to 100°.
(Appendix 3)
When the electromagnetic wave shielding member is obtained by peeling the releasable cushion member after heating at 180° C. for 2 hours under the condition of 2 MPa in the surface direction from the releasable cushion member side, the releasable cushion The laminate for electromagnetic wave shielding according to Supplementary Note 1 or Supplementary Note 2, which has a kurtosis of 1 to 8 when measured according to JIS B0601; 2001 from the side where the members are laminated.

1 電磁波シールド部材
2 電磁波シールド用部材
3 離形性クッション部材
4 電磁波シールド用積層体
5 電磁波シールド層
6 導電性接着剤層
6P 乾燥途上の導電性接着剤層
7b 絶縁性樹脂層
8c 絶縁性接着剤層
9c 絶縁被覆層
10 バインダー樹脂前駆体
11 導電性フィラー
12 デンドライト状粒子
15 離形性基材
20 基板
21 電極
22 グランドパターン
23 インナービア
24 はんだボール
25 ハーフダイシング溝
30 電子部品
31 半導体チップ
32 モールド樹脂
33 ボンディングワイヤ
40 プレス基板
51、52 電子部品搭載基板
1 Electromagnetic Wave Shielding Member 2 Electromagnetic Wave Shielding Member 3 Releasable Cushion Member 4 Electromagnetic Wave Shielding Laminate 5 Electromagnetic Wave Shielding Layer 6 Conductive Adhesive Layer 6P Conductive Adhesive Layer 7b Insulating Resin Layer 8c Insulating Adhesive Layer 9c Insulating coating layer 10 Binder resin precursor 11 Conductive filler
12 dendrite particles 15 releasable substrate 20 substrate 21 electrode 22 ground pattern 23 inner via 24 solder ball 25 half dicing groove 30 electronic component 31 semiconductor chip 32 mold resin 33 bonding wire 40 press substrate 51, 52 electronic component mounting substrate

Claims (8)

基板と、
前記基板の少なくとも一方の面に搭載された電子部品と、
前記電子部品上面から前記基板に亘って被覆され、前記電子部品の搭載によって形成された段差部の側面および前記基板の少なくとも一部を被覆する電磁波シールド部材と、を備え、
前記電磁波シールド部材は、バインダー樹脂と導電性フィラーを含む電磁波シールド層を有し、且つ押込み弾性率が1〜10GPaであり、マルテンス硬さが114〜312N/mmである電子部品搭載基板。
Board,
An electronic component mounted on at least one surface of the substrate,
An electromagnetic wave shield member that covers from the upper surface of the electronic component to the substrate, covers the side surface of the step formed by mounting the electronic component and at least a part of the substrate,
The electromagnetic wave shield member has an electromagnetic wave shield layer containing a binder resin and a conductive filler, and has an indentation elastic modulus of 1 to 10 GPa and a Martens hardness of 114 to 312 N/mm 2 .
前記電磁波シールド部材の表層の水接触角が70〜110°である請求項1に記載の電子部品搭載基板。 The electronic component mounting board according to claim 1, wherein a water contact angle of a surface layer of the electromagnetic wave shield member is 70 to 110°. 前記電磁波シールド部材のJIS K5600に基づくプレッシャークッカー試験後のテープ密着試験において、前記電子部品上の前記電磁波シールド部材が23/25以上のクロスカット残存率を示す請求項1又は2に記載の電子部品搭載基板。 The electronic component according to claim 1 or 2, wherein the electromagnetic shield member on the electronic component exhibits a crosscut residual ratio of 23/25 or more in a tape adhesion test after a pressure cooker test based on JIS K5600 of the electromagnetic shield member. Mounting board. 前記電磁波シールド部材の表層のJISB0601;2001に準拠して測定したクルトシスが1〜8となる請求項1〜3のいずれかに記載の電子部品搭載基板。 The electronic component mounting board according to any one of claims 1 to 3, wherein the surface layer of the electromagnetic wave shield member has a kurtosis of 1 to 8 measured according to JIS B0601; 2001. 前記バインダー樹脂は、熱硬化性樹脂と、前記熱硬化性樹脂の反応性官能基と架橋可能な官能基を有している硬化性化合物と、を含有するバインダー樹脂前駆体を熱圧着して得られることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の電子部品搭載基板。 The binder resin is obtained by thermocompression bonding a binder resin precursor containing a thermosetting resin and a curable compound having a functional group capable of crosslinking with the reactive functional group of the thermosetting resin. The electronic component mounting board according to claim 1, wherein the electronic component mounting board is provided. 前記電磁波シールド部材の膜厚が10〜200μmである請求項1〜5のいずれかに記載の電子部品搭載基板。 The electronic component mounting board according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shield member has a film thickness of 10 to 200 μm. 前記導電性フィラー100質量%中、針状粒子または/およびデンドライト状粒子を50質量%以下含有する請求項1〜6のいずれかに記載の電子部品搭載基板。 The electronic component mounting board according to claim 1, wherein acicular particles and/or dendrite particles are contained in an amount of 50% by mass or less in 100% by mass of the conductive filler. 請求項1〜7のいずれかに記載の電子部品搭載基板が搭載された、電子機器。 An electronic device on which the electronic component mounting board according to claim 1 is mounted.
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