JP2021183676A - ジブロック型共重合体、ジブロック型共重合体の製造方法及びジブロック型共重合体の使用 - Google Patents

Abstract

【課題】分散性、流動性及び経時安定性に優れた分散体を与える粉体用表面処理剤及び該粉体用表面処理剤により処理された粉体を含む分散体の提供。【解決手段】式［Ｉ］で示されるシリコーングラフト共重合体ブロック及び式［ＩＩ］で示される極性共重合体ブロックで主鎖を構成し、主鎖の一方の末端構造が式［ＩＩＩ］であって、他方の末端構造が式［ＩＶ］であるジブロック型共重合体。（Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ａはオルガノポリシロキサンを含む基を示し、ｎ1は１≦ｎ1≦５０を示し、Ｂは極性基を有する炭素数１〜２０の一価炭化水素基、アミノ基又は水酸基を示し、ｎ2は１≦ｎ2≦５０を示し、Ｒ6は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ7は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｘは式［Ｉ］中のＡ又は式［ＩＩ］中のＢで示されるものを示す。）【選択図】なし

Description

本発明は、分散性、流動性、及び保存安定性に優れた粉体用表面処理剤に関し、特に（メタ）アクリルシリコーン系ジブロック型共重合体の粉体用表面処理剤に関する。

一般に、微粒子粉体を液体中に安定かつ高濃度に分散させることは難しく、粉体の持つ電荷や極性、微量の不純物による凝集が起こり、これが分散性や安定性を阻害する。例えば、微細な粒子からなる顔料を含む分散体は、経時での高粘度化が顕著であり、製品の輸送等が困難になるばかりでなく、ゲル化を起こし使用困難となる場合もある。

微粒子粉体の分散安定性を向上させるための手法としては、ホモミキサー、ミル、ニーダー、ローラー等の機械力による混合が挙げられるが、機械力のみによる分散には限界があり、一度は均一に分散しても経時で凝集が起こるケースが多い。そこで、粉体の分散性や安定性を向上させるために、粉体の表面を種々の重合体材料で処理することが提案されている。前記重合体材料は、粉体に吸着する部位と、分散媒である溶剤に親和性の高い部位との構造を併せ持ち、この２つの機能部位のバランスで重合体材料の性能が決まる。

溶剤中粉体を分散させるために有効である重合体材料は、典型的にはＡＢ又はＢＡＢ型のものであり、これらを使用して様々な組成物において使用する粉体の分散液を与える。粉体顔料の表面に結び付く酸又はアミンなどの極性基を有するＡＢブロックポリマーがしばしば用いられ、特許文献１では、カルボキシル基を有するアクリル樹脂をブロック共重合させた例が示されている。
また、粉体顔料をインク中に分散させるためのＡＢ、ＢＡＢ又はＡＢＣブロックポリマー等も知られている。

しかしながら、これらのブロック共重合体は、いずれも粉体の沈降や凝集の改良に効果があるもののその効果は未だ十分なものではなかった。また、処理法や処理剤によっては、経時での分散体の増粘や、粉体の凝集や沈降が起こり、製品の品質を損ねるという欠点があった。

特開２００５−１９４４８７号公報

従って、本発明は、分散性、流動性、及び経時安定性に優れた分散体を与える粉体用表面処理剤に有用な共重合体を提供することを目的とする。更に、該粉体用表面処理剤を用いて高度に分散された分散体を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意研究を行った結果、疎水的なシリコーングラフト共重合体ブロックと、特定の極性基を官能基として有する極性共重合体ブロックとを構成成分として含むジブロック型共重合体が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成した。

従って、本発明は、下記式［Ｉ］で示されるシリコーングラフト共重合体ブロック（セグメント［Ｉ］）及び下記式［ＩＩ］で示される（メタ）アクリル共重合体ブロック（セグメント［ＩＩ］）からなり、主鎖の末端構造の一方が下記式［ＩＩＩ］で表されるものであり、もう一方の末端構造が下記式［ＩＶ］で表されるものであるジブロック型共重合体を提供するものである。

＜１＞
下記式［Ｉ］で示されるシリコーングラフト共重合体ブロック及び下記式［ＩＩ］で示される極性共重合体ブロックで主鎖を構成し、
主鎖の一方の末端構造が式［ＩＩＩ］で表されるものであり、他方の末端構造が式［ＩＶ］で表されるものであるジブロック型共重合体。

（式［Ｉ］中、
Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
Ａは下記一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基又は下記一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基を示し、
ｎ¹は繰り返し単位の数を示し、１≦ｎ¹≦５０である。）

（一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、繰り返し単位数ｍが０〜１００の直鎖状オルガノポリシロキサン構造を有し、
一般式（１）中、
Ｚは２価の有機基を示し、
Ｒ²はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基を示し、
Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、
ｍは０〜１００の数を示す。）

（一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、階層数ｃが１〜１０の樹枝状オルガノポリシロキサン構造を有し、
一般式（２）及び一般式（３）中、ｉは樹枝状構造の各階層の番号を表し、１からｃまでの各整数であり、
一般式（２）中、
Ｌⁱは一般式（３）で表されるシリルオルガノ基であり、ｉは１である。
一般式（３）中、
Ｚは２価の有機基を示し、
Ｒ⁴は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基を示し、
Ｒ⁵は炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｌⁱ⁺¹は、階層ｉがｃ未満（最上階層未満）のとき、一般式（３）で表されるシリルオルガノ基Ｌⁱであり、階層ｉ＝ｃ（最上階層）のとき、水素原子、炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基であり、
ａⁱは階層ｉにおけるＯＲ⁴基の数を示し、０〜３の範囲の数である。）

（式［ＩＩ］中、
Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示し、
Ｂは−ＯＢ'、−ＮＨ₂及び−ＯＨから選ばれるいずれかの基（Ｂ'は炭素数１〜２０のポリオキシアルキレン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、及び−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す）から選ばれる１種又は２種以上の２価の基を有する、炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す。）を示し、
ｎ²は繰り返し単位の数を示し、１≦ｎ²≦５０である。）

（式［ＩＩＩ］中、
Ｒ⁶は炭素数１〜４のアルキル基を示し、
Ｒ⁷は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）

（式［ＩＶ］中、
Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
Ｘは上記式［Ｉ］中のＡ又は式［ＩＩ］中のＢで示されるものを示す。）
＜２＞
式［ＩＩ］中のＢが、一般式（８’）又は（９’）で表される基である＜１＞に記載のジブロック型共重合体。

（式（８’）中、Ｒ⁷は互いに独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、
式（９’）中、Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、ｎ³は繰り返し単位の数を表し、１≦ｎ³≦１０である。）
＜３＞
一般式（２）及び一般式（３）中のＺで表される２価の有機基が炭素数２〜１２の飽和炭化水素基である＜１＞又は＜２＞に記載のジブロック型共重合体。
＜４＞
ｎ²／ｎ¹が０．０２〜１０である＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のジブロック型共重合体。
＜５＞
一般式（４）で表される化合物を開始剤として、
一般式（５）で表されるモノマーをグループ移動重合する工程、及び
一般式（６）で表される極性モノマーをグループ移動重合する工程、
を有する、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のジブロック型共重合体の製造方法。

（一般式（４）中、
Ｒ⁶はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を示し、
Ｒ⁷は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）

（一般式（５）中、
Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
Ａは一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基又は一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基を示す。）

（一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、繰り返し単位数ｍが０〜１００の直鎖状オルガノポリシロキサン構造を有し、
一般式（１）中、
Ｚは２価の有機基を示し、
Ｒ²はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の飽和炭化水素基またはフェニル基を示し、
Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、
ｍは０〜１００の数を示す。）

（一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、階層数ｃが１〜１０の樹枝状オルガノポリシロキサン構造を有し、
一般式（２）及び一般式（３）中、ｉは樹枝状構造の各階層の番号を表し、１からｃまでの各整数であり、
一般式（２）中、
Ｌⁱは一般式（３）で表されるシリルオルガノ基であり、ｉは１である。
一般式（３）中、
Ｚは２価の有機基を示し、
Ｒ⁴は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基を示し、
Ｒ⁵は炭素数１〜８のアルキル基またはフェニル基を示し、
Ｌⁱ⁺¹は、階層ｉがｃ未満（最上階層未満）のとき、一般式（３）で表されるシリルオルガノ基Ｌⁱであり、階層ｉ＝ｃ（最上階層）のとき、水素原子、炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基であり、
ａⁱは階層ｉにおけるＯＲ⁴基の数を示し、０〜３の範囲の数である。）

（一般式（６）中、
Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｂは−ＯＢ'、−ＮＨ₂及び−ＯＨから選ばれるいずれかの基（Ｂ'は炭素数１〜２０のポリオキシアルキレン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、及び−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す）から選ばれる１種又は２種以上の２価の基を有する、炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す。）である。）
＜６＞
一般式（６）で表される極性モノマーが、以下の一般式（８）又は一般式（９）で表される極性モノマーである＜５＞に記載のジブロック型共重合体の製造方法。

（一般式（８）中、
Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
Ｒ⁷は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）

（一般式（９）中、
Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、
ｎ³は繰り返し単位の数を表し、１≦ｎ³≦１０である。）
＜７＞
一般式（８）で表される極性モノマーが以下の式（８−１）で表される極性モノマーである＜６＞に記載のジブロック型共重合体の製造方法。

＜８＞
＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のジブロック型共重合体からなる粉体用表面処理剤。
＜９＞
＜８＞に記載の粉体用表面処理剤により処理された粉体及び油剤を含有する分散体。
＜１０＞
＜９＞に記載の分散体を含有する化粧料組成物、塗料組成物、又はインキ組成物。

本発明のジブロック型共重合体は、疎水的なシリコーングラフト共重合体ブロック（セグメント［Ｉ］）と、特定の極性基を官能基として有する極性共重合体ブロック（セグメント［ＩＩ］）とを構成成分として含む。本発明のジブロック型共重合体は、粉体を油剤中に分散させる際に用いられ、粉体を効果的に均一に油剤中へと分散させることができる粉体用表面処理剤として使用できる。すなわち、該ジブロック型共重合体を粉体用表面処理剤として使用する場合、該極性基が粉体表面と相互作用し、シリコーン部分が油剤に対する相溶性向上や粉体の凝集を防止するため、分散性、流動性、及び経時安定性に優れた分散体を得ることができる。

以下に、本発明を詳細に説明する。また、本明細書で用いる用語「（メタ）アクリル」とは、メタクリル及びアクリルのことをいう。同様に、本明細書で用いる用語「（メタ）アクリレート」とは、メタクリル酸エステル及びアクリル酸エステルのことをいう。

［ジブロック型共重合体］
本発明のジブロック型共重合体は、下記式［Ｉ］で表されるシリコーングラフト共重合体ブロック単位（セグメント［Ｉ］）及び下記式［ＩＩ］で表される極性共重合体ブロック単位（セグメント［ＩＩ］）を主鎖に有し、主鎖の一方の末端構造が下記式［ＩＩＩ］で表される構造であり、もう一方の末端構造が下記式［ＩＶ］で表される構造である。

セグメント［Ｉ］

式［Ｉ］中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基である。Ａは下記一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基又は下記一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基である。ｎ¹は繰り返し単位の数を表し、１〜５０であり、好ましくは１〜２０であり、より好ましくは３〜１０である。

一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、ジオルガノシロキシ基の繰り返し単位数ｍが０〜１００の直鎖状オルガノポリシロキサン構造を有する基である。

一般式（１）中、Ｚは２価の有機基であり、炭素数２〜１２の飽和炭化水素基が好ましく、さらに好ましくはプロピレン基である。Ｒ²はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基であり、好ましくは炭素数１〜５の飽和炭化水素基、さらに好ましくはメチル基である。Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基であり、好ましくは炭素数１〜５の飽和炭化水素基、さらに好ましくはメチル基である。ｍは０〜１００の数で、好ましくは１〜６０の数、更に好ましくは５〜３０の数である。

一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、樹枝状の枝分かれ構造を有する基であり、その枝分かれ構造の数（階層数ｃ）は１〜１０の整数であり、好ましくは１〜６の整数であり、更に好ましくは１〜４の整数である。

一般式（２）及び一般式（３）中、ｉは樹枝状構造の各階層の番号を表し、１からｃまでの各整数である。
一般式（２）中、Ｌⁱは一般式（３）で表されるシリルオルガノ基であり、一般式（２）における階層ｉは１である。
一般式（３）中、Ｚは２価の有機基であり、炭素数２〜１２の飽和炭化水素基が好ましく、さらに好ましくはプロピレン基である。Ｒ⁴は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基であり、好ましくは炭素数１〜５の飽和炭化水素基、さらに好ましくはメチル基である。Ｒ⁵は炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基であり、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。Ｌⁱ⁺¹は、階層ｉがｃ未満（最上階層未満）のとき、一般式（３）で表されるシリルオルガノ基Ｌⁱであり、階層ｉ＝ｃ（最上階層）のとき、水素原子、炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基である。ｉ＝ｃ（最上階層）のときのＬⁱとしては、炭素数１〜８の飽和炭化水素基が好ましく、炭素数１〜４の飽和炭化水素基が更に好ましい。ａⁱは階層ｉにおけるＯＲ⁴基の数を示し、０〜３の範囲の数である。

階層数１（ｃ＝１）の樹枝状オルガノポリシロキサンは下記一般式（３−１）で表され、式中のＬ²は水素原子、炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基である。

階層数２（ｃ＝２）の樹枝状オルガノポリシロキサンは下記一般式（３−２）で表され、式中のＬ³は水素原子、炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基である。

階層数３（ｃ＝３）の樹枝状オルガノポリシロキサンは下記一般式（３−３）で表され、式中のＬ³は水素原子、炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基である。

一般式（３−１）〜（３−３）において、Ｚ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ上述したものと同じであり、ａ¹、ａ²及びａ³はそれぞれ０〜３の範囲の数である。

セグメント［ＩＩ］

式［ＩＩ］中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基である。Ｂは−ＯＢ'、−ＮＨ₂及び−ＯＨから選ばれるいずれかの基（Ｂ'は炭素数１〜２０のポリオキシアルキレン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、及び−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す）から選ばれる１種又は２種以上の２価の基を有する、炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す。）であり、好ましくは一般式（８’）又は（９’）で表される基である。また、ｎ²は繰り返し単位の数を表し、１〜５０であり、好ましくは１〜２０であり、より好ましくは３〜１０である。

（式（８’）中、Ｒ⁷は互いに独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、式（９’）中、Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、ｎ³は繰り返し単位の数を表し、１≦ｎ³≦１０である。）

末端構造［ＩＩＩ］

式［ＩＩＩ］中、Ｒ⁶は炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはメチル基である。Ｒ⁷は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはメチル基である。

末端構造［ＩＶ］

式［ＩＶ］中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基である。Ｘは上記式［Ｉ］中のＡ又は式［ＩＩ］中のＢで示されるものを示す。

前記セグメント［Ｉ］、及びセグメント［ＩＩ］は、それぞれ少なくとも１種類の式［Ｉ］で表される単位又は式［ＩＩ］で表される単位から構成されていればよく、複数種の式［Ｉ］で表される単位又は式［ＩＩ］で表される単位から構成されていてもよい。また、上記末端構造［ＩＩＩ］及び［ＩＶ］に挟まれるセグメント［Ｉ］及びセグメント［ＩＩ］は順不同である。
本発明において、ジブロック型共重合体とは、極性、水溶性、粉体への親和性の有無といった物理的性質の異なる２つのセグメント［Ｉ］及びセグメント［ＩＩ］が連結した共重合体を指す。すなわち、本発明のジブロック型共重合体は、式［Ｉ］で表される単位が連続してセグメント［Ｉ］を構成し、式［ＩＩ］で表される単位が連続してセグメント［ＩＩ］を構成し、それらが連結した共重合体である。式［Ｉ］で表される複数種の単位からセグメント［Ｉ］が構成される場合、セグメント［Ｉ］は同種の式［Ｉ］で表される単位が連続したブロック構造を有していても、異種の式［Ｉ］で表される単位が秩序なく配列したランダム構造を有していてもよい。同様に、式［ＩＩ］で表される複数種の単位からセグメント［ＩＩ］が構成される場合、セグメント［ＩＩ］は同種の式［ＩＩ］で表される単位が連続したブロック構造を有していても、異種の式［ＩＩ］で表される単位が秩序なく配列したランダム構造を有していてもよい。

本発明のジブロック型共重合体の分子量は１，０００〜１００，０００であることが好ましく、２，０００〜１０，０００であることがより好ましい。また、本発明のジブロック型共重合体の多分散度は１．００〜３．００であることが好ましく、１．００〜２．００であることがより好ましく、１．０５〜１．６０がさらに好ましい。分子量及び多分散度がこの範囲内であれば、本発明のジブロック型共重合体を分散剤として用いた場合、親水性のセグメント［ＩＩ］が粉体表面への高い吸着能を有し、同時に疎水性のセグメント［Ｉ］が油剤と良好に相溶することができ、粉体を効率よく分散することができるため好ましい。
また、セグメント［Ｉ］およびセグメント［ＩＩ］のそれぞれの繰り返し単位数は１〜５０であり、１〜２０であることが好ましく、３〜１０であることがより好ましい。
セグメント［Ｉ］の繰り返し単位数及びセグメント［ＩＩ］の繰り返し単位数の比、すなわち、セグメント［Ｉ］の重合度ｎ¹とセグメント［ＩＩ］の重合度ｎ²の比は、ｎ²／ｎ¹が０．０２〜１０が好ましく、０．０５〜５がより好ましい。
なお、本発明において分子量は、ポリスチレンを標準物質としたゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記条件で測定した数平均分子量である。
［測定条件］
測定器：ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー製）
展開溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
流量：０．６００ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：示差屈折率検出器（ＲＩ）
カラム：ＴＳＫ Ｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨ−Ｈ
（４．６ｍｍＩ．Ｄ．×３５ｍｍ）
ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ Ｈ２５００
（充填材粒径：３．０μｍ，６ｍｍＩ．Ｄ．×１５０ｍｍ）
ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＭ−Ｎ
（充填材粒径：３．０μｍ，６ｍｍＩ．Ｄ．×１５０ｍｍ）
（いずれも東ソー社製）
カラム温度：４０℃
試料注入量：５０μＬ（濃度０．３質量％のＴＨＦ溶液）

［ジブロック型共重合体の製造方法］
本発明のジブロック型共重合体は、下記一般式（４）で表される化合物を開始剤として、一般式（５）で表されるモノマーをグループ移動重合する工程、及び一般式（６）で表される極性モノマーをグループ移動重合する工程を有する方法により製造することができる。すなわち、本発明の一般式（１）で表されるジブロック型共重合体は、一般式（４）で表される化合物を開始剤として、一般式（５）で表されるモノマーと、一般式（６）で表される極性モノマーとを、順次グループ移動重合することで合成することができ、一般式（５）で表されるモノマーと一般式（６）で表される極性モノマーとのグループ移動重合の順番を問わないものである。

一般式（４）中、Ｒ⁶はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ⁷は互いに独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

一般式（５）中、Ｒ¹及びＡは上記式［Ｉ］の通りである。

一般式（６）中、Ｒ¹及びＢは上記式［ＩＩ］の通りである。

一般式（４）で表される開始剤としては、例えば、以下の化合物を用いることができる。本発明のジブロック型共重合体の製造方法で用いることのできる開始剤が、以下に例示する開始剤に限られるわけではない。

式中Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｎＰｒはｎ−プロピル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｎＢｕはｎ−ブチル基を表す。

一般式（５）で表されるモノマー（単量体）としては、例えば、次のようなものを用いることができる。本発明のジブロック型共重合体の製造方法で用いることのできるモノマーが、以下に例示するモノマーに限られるわけではない。

一般式（５）中のＡが一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基の場合

一般式（５）中のＡが一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基の場合

一般式（６）で表される極性モノマー（単量体）としては、例えば、次のようなものを用いることができる。本発明のジブロック型共重合体の製造方法で用いることのできる極性モノマーが、以下に例示する極性モノマーに限られるわけではない。
具体的には、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジ（エチレングリコール）モノメチルエーテル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、アリルオキシエチル（メタ）アクリレート、１エトキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ−４Ｈ−ピラニル−２（メタ）アクリレート、エチルトリグリコール（メタ）アクリレート、ブチルジグリコール（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール）ジメチルエーテル（メタ）アクリレート及びポリ（エチレングリコール）アルキルエーテル（メタ）アクリレートなどのオキシアルキレン置換（メタ）アクリレート；
ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートなどのアミノアルキル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリルアミド、４−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ドデシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

一般式（６）で表される極性モノマーとしては、以下の一般式（８）又は一般式（９）で表される極性モノマーが好ましい。

一般式（８）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、好ましくはメチル基である。Ｒ⁷は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはメチル基及びエチル基である。

一般式（９）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、好ましくはメチル基である。Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基であり、好ましくは炭素数１〜５の飽和炭化水素基、さらに好ましくはメチル基である。ｎ³は繰り返し単位の数を表し、１≦ｎ³≦１０であり、好ましくは２≦ｎ³≦８である。

一般式（６）で表される極性モノマーとしては、特には、式（８−１）で表される２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートが好ましい。

本発明のジブロック型共重合体の製造方法において、グループ移動重合は、次の２段階により行なう。第１の段階では、一般式（５）で表されるモノマー又は一般式（６）で表される極性モノマーのいずれか（以下、第１の段階で重合を行なうモノマーを第１のモノマーという）の重合を行ない、続いて第２の段階では、一般式（５）で表されるモノマー及び一般式（６）で表される極性モノマーのうち、第１の段階で重合を行なっていない、もう一方のモノマー（以下、第２の段階で重合を行なうモノマーを第２のモノマーという）の重合を行なう。
第１の段階では、開始剤である一般式（４）で表される化合物と、触媒と、第１のモノマーとの３成分のうち、予め２成分を混合しておき、残りの１成分を添加・混合することで、まず、第１のモノマーの重合が開始する。
次に、第１のモノマーの重合反応の停止を確認した後、第２のモノマーを反応系に添加することで、第２のモノマーの重合が開始する。
第２のモノマーの重合反応の停止を確認した後、反応停止剤を加え、反応を終了する。
反応終了後は、溶媒や未反応のモノマーを減圧留去する等、常法により精製することで目的物であるジブロック型共重合体を得ることができる。
上記の第１の段階及び第２の段階のグループ移動重合反応において、溶媒を用いることが好ましい。

より具体的な製造方法の一例として、次の方法が挙げられる。
十分乾燥した三口フラスコに触媒を入れ、溶媒を加える。さらに、上記一般式（４）で表される開始剤を加え混合した後、滴下漏斗を用いて第１のモノマーを滴下し、撹拌する。発熱の程度に応じて、反応溶液を冷却し、適温に保つ。第１のモノマーの滴下後、第１のモノマーが消費されるまで撹拌し、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析等で、開始剤と第１のモノマーの仕込み比に応じた分子量の増加を確認することにより、第１のモノマーの重合反応の停止を確認する。次に、この反応系に第２のモノマーを滴下し、撹拌する。発熱の程度に応じて、反応溶液を冷却し、適温に保つ。第２のモノマーの滴下後、滴下した第２のモノマーが消費されるまで撹拌し、最後に反応停止剤を加え、反応を終了する。反応後、溶媒及び未反応のモノマーを減圧留去する等、常法により精製することで目的物であるジブロック型共重合体を得る。

反応溶媒としては、非プロトン性の有機溶媒を用いることができる。例えば、酢酸エチル、プロピオニトリル、トルエン、キシレン、ブロモベンゼン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、ジエチルエーテル、テトラメチレンスルホン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アニソール、２−ブトキシエトキシトリメチルシラン、セロソルブアセテート、クラウンエーテル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）があげられる。反応効率の観点から、好ましくは、ジクロロメタン、トルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフランであり、さらに好ましくはテトラヒドロフランである。

グループ移動重合反応の反応温度は−１００℃〜１５０℃であり、好ましくは０℃〜５０℃、さらに好ましくは１０℃〜３０℃である。

溶媒及び未反応の単量体を減圧留去する際の温度は、８０℃〜３００℃であり、好ましくは１００℃〜２００℃、さらに好ましくは１２０℃〜１８０℃である。また、ストリップ時の圧力は１ａｔｍ以下であり、好ましくは０．１ａｔｍ以下、さらに好ましくは０．００７ａｔｍ以下である。

触媒としては、一般的に、グループ移動重合の触媒として知られている、アニオン系触媒、ルイス酸触媒、有機分子触媒の中から選択し、用いることができる。

アニオン系触媒としては、例えば、トリス（ジメチルアミノ）スルホニウムジフルオロトリメチルシリケート、トリス（ジメチルアミノ）スルホニウムシアニド、テトラフェニルアルソニウムシアニド、トリス（ジメチルアミノ）スルホニウムアジド、テトラエチルアンモニウムアジド、ビス（ジアルキルアルミニウム）オキサイド、ボロントリフルオライドエーテレート、アルカリ金属フルオライド、アルカリ金属シアニド、アルカリ金属アジド、トリス（ジメチルアミノ）スルホニウムジフルオロトリフェニルスタネート、テトラブチルアンモニウムフルオライド、テトラメチルアンモニウムフルオライド、テトラエチルアンモニウムシアニド、テトラブチルアンモニウムベンゾエート、テトラブチルアンモニウムビベンゾエート、テトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートが挙げられる。

ルイス酸触媒としては、例えば、ヨウ化亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、モノ及びジアルキルアルミニウムハライド、ジアルキルアルミニウムオキサイドが挙げられる。

有機分子触媒としては、例えば、１，３−ジイソプロピル−４，５−ジメチルイミダゾール−２−イリデン、１，３−ジイソプロピルイミダゾール−２−イリデン、１，３−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルイミダゾール−２−イリデン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、２，８，９−トリメチル−２，５，８，９−テトラアザ−１−ホスファビシクロ［３．３．３］ウンデカン、２，８，９−トリイソブチル−２，５，８，９−テトラアザ−１−ホスファビシクロ［３．３．３］ウンデカン、１−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，４，４，４−ペンタキス（ジメチルアミノ）−２λ⁵，４λ⁵−カテナジ（ホスファゼン）、１−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４，４−トリス（ジメチルアミノ）−２，２−ビス［トリス（ジメチルアミノ）−ホスホラニリデンアミノ］−２λ⁵，４λ⁵−カテナジ（ホスファゼン）、トリス（２，４，６−トリメトキシフェニル）ホスフィン、トリス−（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリル、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート、トリフルオロメタンスルホンイミド、１−［ビス（トリフルオロメタンスルホニル）メチル］−２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンがある。

反応停止剤としては、プロトンを供与できる化合物が用いられる。例えば、メタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水が挙げられる。

［粉体用表面処理剤］
本発明のジブロック型共重合体は、粉体を油剤中に分散させる際に用いられ、粉体を効果的に均一に油剤中へと分散させることができる粉体用表面処理剤として好適に使用できる。その粉体は特に限定されず、一般に使用される無機粉体、有機粉体、界面活性剤金属塩粉体、有色顔料、パール顔料、金属粉末顔料、タール色素及び天然色素などが挙げられる。

無機粉体の具体例としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、タルク、マイカ、カオリン、セリサイト、白雲母、合成雲母、金雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、ケイ酸、無水ケイ酸、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、ヒドロキシアパタイト、バーミキュライト、ハイジライト、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、ゼオライト、セラミックスパウダー、第二リン酸カルシウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ボロン、シリカ、疎水化シリカ、シリル化シリカ等が挙げられる。

有機粉体の例としては、ポリアミドパウダー、ポリアクリル酸・アクリル酸エステルパウダー、ポリエステルパウダー、ポリエチレンパウダー、ポリプロピレンパウダー、ポリスチレンパウダー、ポリウレタンパウダー、ベンゾグアナミンパウダー、ポリメチルベンゾグアナミンパウダー、テトラフルオロエチレンパウダー、ポリメチルメタクリレートパウダー、セルロースパウダー、シルクパウダー、１２ナイロンパウダー、６ナイロンパウダー；ジメチルポリシロキサンを架橋した構造を持つ架橋型球状ジメチルポリシロキサン微粉末、架橋型球状ポリメチルシルセスキオキサン微粉末、架橋型球状オルガノポリシロキサンゴム表面をポリメチルシルセスキオキサン粒子で被覆してなる微粉末；スチレン・アクリル酸共重合体、ジビニルベンゼン・スチレン共重合体、ビニル樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ケイ素樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂及びポリカーボネイト樹脂等の各種樹脂の粉末；微結晶繊維粉体、デンプン末、脂肪酸デンプン誘導体末、ラウロイルリジンの粉末等が挙げられる。

界面活性剤金属塩粉体（金属石鹸）の例としては、ウンデシレン酸亜鉛、イソステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ミリスチン酸亜鉛、ミリスチン酸マグネシウム、セチルリン酸亜鉛、セチルリン酸カルシウム、セチルリン酸亜鉛ナトリウム、パルミチン酸亜鉛、パルミチン酸アルミニウム、ラウリン酸亜鉛等が挙げられる。

有色顔料の具体例としては、酸化鉄、水酸化鉄、チタン酸鉄の無機赤色系顔料、γ−酸化鉄等の無機褐色系顔料、黄酸化鉄、黄土等の無機黄色系顔料、黒酸化鉄、カーボンブラック等の無機黒色系顔料、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット等の無機紫色系顔料、水酸化クロム、酸化クロム、酸化コバルト、チタン酸コバルト等の無機緑色系顔料、紺青、群青等の無機青色系顔料、タール色素をレーキ化したもの、天然色素をレーキ化したもの、及びこれらの粉体を複合化した合成樹脂粉体等が挙げられる。

パール顔料の具体例としては、酸化チタン被覆雲母、酸化チタン被覆マイカ、オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆タルク、魚鱗箔、酸化チタン被覆着色雲母等；金属粉末顔料としては、アルミニウムパウダー、カッパーパウダー、ステンレスパウダー等が挙げられる。

タール色素としては、赤色３号、赤色１０４号、赤色１０６号、赤色２０１号、赤色２０２号、赤色２０４号、赤色２０５号、赤色２２０号、赤色２２６号、赤色２２７号、赤色２２８号、赤色２３０号、赤色４０１号、赤色５０５号、黄色４号、黄色５号、黄色２０２号、黄色２０３号、黄色２０４号、黄色４０１号、青色１号、青色２号、青色２０１号、青色４０４号、緑色３号、緑色２０１号、緑色２０４号、緑色２０５号、橙色２０１号、橙色２０３号、橙色２０４号、橙色２０６号、橙色２０７号等；天然色素としては、カルミン酸、ラッカイン酸、カルサミン、ブラジリン、クロシン等が挙げられる。

これらの粉体のうち、本発明のジブロック型共重合体をその表面処理用として用いる粉体としては、少なくとも一部がジメチルポリシロキサンを架橋した構造を持つ架橋型球状ジメチルポリシロキサン微粉末、架橋型球状ポリメチルシルセスキオキサン微粉末、架橋型球状ポリシロキサンゴム表面をポリメチルシルセスキオキサン粒子で被覆してなる微粉末、架橋型球状ジフェニルポリシロキサンゴム表面をポリメチルシルセスキオキサン粒子で被覆してなる微粉末、疎水化シリカが好ましく、また、フッ素樹脂、顔料も用いられる。
これら好ましい粉体の市販品としては、ＫＭＰ−５９０、ＫＳＰ−１００、ＫＳＰ−１０１、ＫＳＰ−１０２、ＫＳＰ−１０５、ＫＳＰ−３００（何れも信越化学工業（株）製）等がある。

これらの粉体は本発明の効果を妨げない範囲で、粉体の複合化や一般油剤、シリコーン油、フッ素化合物、界面活性剤等で処理したものも使用することができる。例えば、フッ素化合物処理、シリコーン樹脂処理、ペンダント処理、シランカップリング剤処理、チタンカップリング剤処理、油剤処理、Ｎ−アシル化リジン処理、ポリアクリル酸処理、金属石鹸処理、アミノ酸処理、無機化合物処理、プラズマ処理、メカノケミカル処理などによって事前に表面処理されていてもよい。必要に応じて一種、又は二種以上用いることができる。

表面処理方法
粉体に、粉体用表面処理剤として本発明のジブロック型共重合体を適用する方法は、特に制限されず、従来の粉体の表面処理方法と同様に行なうことができる。

［分散体並びに該分散体を含有する化粧料組成物、塗料組成物及びインキ組成物］
本発明の分散体は、前記粉体用表面処理剤であるジブロック型共重合体により表面処理された粉体及び油剤を含有するものである。このような分散体は、化粧料、塗料又はインキ等に好適に使用することができ、分散体の用途に応じて、粉体及び油剤の種類は適宜選択することができる。
本発明の分散体に含まれる粉体としては上述した粉体を挙げることができる。
また、分散体に含まれる油剤も特に限定されず、何れの油剤も使用することができ、例えば、１種または２種以上のシリコーン油、炭化水素油、高級脂肪酸、エステル油や天然動植物油等の極性油、半合成油、及び／又はフッ素系油等を挙げることができ、極性油、シリコーン油が好ましい。さらに、油剤は１種または２種以上のエステル油、天然動植物油と１種または２種以上のシリコーン油からなるものとすることもできる。このように、油剤が比較的高極性のエステル油、天然動植物油と比較的低極性のシリコーン油からなるものであったとしても、本発明のジブロック型共重合体であれば、いずれとも相溶性を有するので、分散性、流動性、及び経時安定性に優れた分散体を提供することができる。

シリコーン油としては、ジメチルポリシロキサン、カプリリルメチコン、フェニルトリメチコン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルヘキシルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等の低粘度から高粘度の直鎖或いは分岐状のオルガノポリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、テトラメチルテトラハイドロジェンシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラフェニルシクロテトラシロキサン等の環状オルガノポリシロキサン、トリストリメチルシロキシメチルシラン、テトラキストリメチルシロキシシラン等の分岐状オルガノポリシロキサン、アミノ変性オルガノポリシロキサン、高重合度のガム状ジメチルポリシロキサン、ガム状アミノ変性オルガノポリシロキサン、ガム状のジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等のシリコーンゴム、及びシリコーンガムやゴムの環状シロキサン溶液、トリメチルシロキシケイ酸、トリメチルシロキシケイ酸の環状オルガノポリシロキサン溶液、ステアロキシシリコーン等の高級アルコキシ変性オルガノポリシロキサン、高級脂肪酸変性オルガノポリシロキサン、アルキル変性オルガノポリシロキサン、長鎖アルキル変性オルガノポリシロキサン、フッ素変性オルガノポリシロキサン、シリコーン樹脂及びシリコーンレジンの溶解物等が挙げられる。

炭化水素油としては、直鎖状、分岐状、さらに揮発性の炭化水素油等が挙げられ、具体的には、オゾケライト、α−オレフィンオリゴマー、軽質イソパラフィン、イソドデカン、軽質流動イソパラフィン、スクワラン、合成スクワラン、植物性スクワラン、スクワレン、セレシン、パラフィン、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、ポリエチレン・ポリピロピレンワックス、（エチレン／プロピレン／スチレン）コポリマー、（ブチレン／プロピレン／スチレン）コポリマー、流動パラフィン、流動イソパラフィン、プリスタン、ポリイソブチレン、水添ポリイソブテン、マイクロクリスタリンワックス、ワセリン等が挙げられる。

高級脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸（ＥＰＡ）、ドコサヘキサエン酸（ＤＨＡ）、イソステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸等が挙げられ、高級アルコールとしては、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オレイルアルコール、イソステアリルアルコール、ヘキシルドデカノール、オクチルドデカノール、セトステアリルアルコール、２−デシルテトラデシノール、コレステロール、フィトステロール、ＰＯＥコレステロールエーテル、モノステアリルグリセリンエーテル（バチルアルコール）、モノオレイルグリセリルエーテル（セラキルアルコール）等が挙げられる。

エステル油としては、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸２−ヘキシルデシル、アジピン酸ジ−２−ヘプチルウンデシル、モノイソステアリン酸Ｎ−アルキルグリコール、イソステアリン酸イソセチル、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、ジ−２−エチルヘキサン酸エチレングリコール、２−エチルヘキサン酸セチル、トリ−２−エチルヘキサン酸トリメチロールプロパン、テトラ−２−エチルヘキサン酸ペンタエリスリトール、オクタン酸セチル、オクチルドデシルガムエステル、オレイン酸オレイル、オレイン酸オクチルドデシル、オレイン酸デシル、ジオクタン酸ネオペンチルグリコール、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、クエン酸トリエチル、コハク酸２−エチルヘキシル、酢酸アミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸ブチル、セバシン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、乳酸セチル、乳酸ミリスチル、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、パルミチン酸２−ヘキシルデシル、パルミチン酸２−ヘプチルウンデシル、１２−ヒドロキシステアリル酸コレステリル、ジペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸オクチルドデシル、ミリスチン酸２−ヘキシルデシル、ミリスチン酸ミリスチル、ジメチルオクタン酸ヘキシルデシル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ヘキシル、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸−２−オクチルドデシルエステル、ラウロイルサルコシンイソプロピルエステル、リンゴ酸ジイソステアリル等が挙げられる。グリセライド油としては、アセトグリセリル、トリイソオクタン酸グリセリル、トリイソステアリン酸グリセリル、トリイソパルミチン酸グリセリル、モノステアリン酸グリセリル、ジ−２−ヘプチルウンデカン酸グリセリル、トリミリスチン酸グリセリル、ミリスチン酸イソステアリン酸ジグリセリル等が挙げられる。

また、天然動植物油類及び半合成油として、アボガド油、アマニ油、アーモンド油、イボタロウ、エノ油、オリーブ油、カカオ脂、カポックロウ、カヤ油、カルナウバロウ、肝油、キャンデリラロウ、精製キャンデリラロウ、牛脂、牛脚脂、牛骨脂、硬化牛脂、キョウニン油、鯨ロウ、硬化油、小麦胚芽油、ゴマ油、コメ胚芽油、コメヌカ油、サトウキビロウ、サザンカ油、サフラワー油、シアバター、シナギリ油、シナモン油、ジョジョバロウ、スクワラン、スクワレン、セラックロウ、タートル油、大豆油、茶実油、ツバキ油、月見草油、トウモロコシ油、豚脂、ナタネ油、日本キリ油、ヌカロウ、胚芽油、馬脂、パーシック油、パーム油、パーム核油、ヒマシ油、硬化ヒマシ油、ヒマシ油脂肪酸メチルエステル、ヒマワリ油、ブドウ油、ベイベリーロウ、ホホバ油、水添ホホバ油、マカデミアナッツ油、ミツロウ、ミンク油、メドウフォーム油、綿実油、綿ロウ、モクロウ、モクロウ核油、モンタンロウ、ヤシ油、硬化ヤシ油、トリヤシ油脂肪酸グリセライド、羊脂、落花生油、ラノリン、液状ラノリン、還元ラノリン、ラノリンアルコール、硬質ラノリン、酢酸ラノリン、酢酸ラノリンアルコール、ラノリン脂肪酸イソプロピル、ＰＯＥラノリンアルコールエーテル、ＰＯＥラノリンアルコールアセテート、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール、ＰＯＥ水素添加ラノリンアルコールエーテル、卵黄油等が挙げられる。但し、ＰＯＥはポリオキシエチレンを意味する。

フッ素系油としては、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロデカリン、パーフルオロオクタン等が挙げられる。

本発明の分散体は、本発明の粉体用表面処理剤により処理された粉体及び油剤を公知の方法で混合することにより製造することができる。また、分散体を、化粧料、塗料又はインキに用いる場合、各分野における公知公用の各種成分を混合することによって、化粧料組成物、塗料組成物、又はインキ組成物をそれぞれ得ることができる。これらの組成物も、本発明の実施態様の一つである。

以下に、本発明を実施例によって更に詳述するが本発明はこれによって限定されるものではない。なお、下記の例において特に明記のない場合は、組成の「％」は質量％である。

［合成例１］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン８７２．０ｍｇを加え、下記シリコーンマクロマー（ａ）２２．５ｇを１時間かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を２時間攪拌した。その後、この反応液に、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート３．９３ｇを５分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール１０ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
なお、シリコーンマクロマー（ａ）のグループ移動重合が完結した時点、及び反応停止後の２点においてゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析を行ったところ、各段階において、開始剤とモノマーの仕込み比に応じた分子量の増加が確認され、目的のジブロック型共重合体が得られていることを確認した。
合成例１のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝４１２６、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．２４、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝１．００

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝３．９であり、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの平均重合度ｐ＝３．９である。）

［合成例２］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン８７２．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）２２．５ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、２−（ジエチルアミノ）エチルメタクリレート４．６ｇを３０分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール１０ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。合成例２のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝４１８７、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．１８、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝１．００

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは２−（ジエチルアミノ）エチルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝３．８であり、２−（ジエチルアミノ）エチルメタクリレートの平均重合度ｐ＝３．８である。）

［合成例３］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート１９．９ｍｇをＴＨＦ２５ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン４３６．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）７．５ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート７．５ｇを３０分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール５ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。合成例３のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝１０５６８、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．１０、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝０．１８

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは２−エトキシエチル（メタ）アクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝３２．８であり、２−エトキシエチル（メタ）アクリレートの平均重合度ｐ＝６．０である。）

［合成例４］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート１９．９ｍｇをＴＨＦ２５ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン４３６．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）７．３ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、２−（メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート７．７ｇを３０分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール５ｍＬを添加して反応を停止した。停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。合成例４のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝７９８５、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．１１、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝０．２３

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは２−（メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝２０．２であり、２−（メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートの平均重合度ｐ＝４．６である。）

［合成例５］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート１９．９ｍｇをＴＨＦ２５ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン４３６．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）７．５ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、下記単量体（ｂ）６．９ｇを１５分かけて滴下し、室温で２時間攪拌した後、メタノール５ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。合成例５のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。数平均分子量（Ｍｎ）＝８１５０、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．１３、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝１．００

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは単量体（ｂ）の残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝６．９であり、単量体（ｂ）の平均重合度ｐ＝６．９である。）

［合成例６］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン８７２．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）２２．５ｇを１時間かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を２時間攪拌した。その後、この反応液に、下記単量体（ｃ）１２．４ｇを３０分かけて滴下し、室温で５時間攪拌した後、メタノール１０ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。合成例６のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。数平均分子量（Ｍｎ）＝９２９４、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．１３、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝１．００

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは単量体（ｃ）の残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝６．７であり、単量体（ｃ）の平均重合度ｐ＝６．７である。）

［合成例７］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン８７２．０ｍｇを加え、下記シリコーンマクロマー（ｂ）５７．５ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート３．９３ｇを３０分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール１０ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。合成例７のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝７０７０、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．９４、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝１．００

（Ａはシリコーンマクロマー（ｂ）の残基であり、Ｂは２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ｂ）の平均重合度ｑ＝２．９であり、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの平均重合度ｐ＝２．９である。）

［合成例８］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート１９．９ｍｇをＴＨＦ２５ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン４３６．０ｍｇを加え、下記シリコーンマクロマー（ｃ）６．４ｇを１０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、２−（ジエチルアミノ）エチルメタクリレート０．９４ｇを１分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール５ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。合成例８のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝２５４５、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．１７、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝０．３６

（Ａはシリコーンマクロマー（ｃ）の残基であり、Ｂは２−（ジエチルアミノ）エチルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ｃ）の平均重合度ｑ＝５．０であり、２−（ジエチルアミノ）エチルメタクリレートの平均重合度ｐ＝１．８である。）

［比較合成例１］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン８７２．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）２２．５ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を２時間攪拌した。その後、この反応液に、イソブチルメタクリレート３．６ｇを５分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール１０ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。比較合成例１のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝５３０２、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．３２、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝１．００

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂはイソブチルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝５．１であり、イソブチルメタクリレートの平均重合度ｐ＝５．１である。）

［比較合成例２］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート１９．９ｍｇをＴＨＦ２５ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン４３６．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）１３．９９ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、２−（トリメチルシリルオキシ）エチルメタクリレート１．５７ｇを３０分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール５ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。比較合成例２のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝９４１８、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．１１、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝２．００

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは２−（トリメチルシリルオキシ）エチルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝３．１であり、２−（トリメチルシリルオキシ）エチルメタクリレートの平均重合度ｐ＝６．２である。）

［比較合成例３］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン４３６．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）２２．５ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、シクロへキシルメタクリレート４．２ｇを３０分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した後、メタノール５ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のジブロック型共重合体を得た。
合成例１と同様にして、ジブロック型共重合体であることを確認した。比較合成例３のジブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝１５０４６、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．１０、重合度比（ｎ²／ｎ¹）＝１．００

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂはシクロへキシルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝１４．１であり、シクロへキシルメタクリレートの平均重合度ｐ＝１４．１である。）

［比較合成例４］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン８７３．０ｍｇを加え、シリコーンマクロマー（ａ）１１．３ｇを３０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を２時間攪拌した。その後、この反応液に、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート３．９３ｇを１５分かけて滴下し、室温で１時間攪拌した。続けて、シリコーンマクロマー（ａ）１１．３ｇを３０分かけて滴下し、室温でさらに２時間攪拌した後、メタノール１０ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のトリブロック共重合体を得た。
シリコーンマクロマー（ａ）の１回目のグループ移動重合が完結した時点、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートのグループ移動重合が完結した時点、及び反応停止後の３点において合成例１と同様にしてＧＰＣ分析を行ったところ、各段階において、開始剤とモノマーの仕込み比に応じた分子量の増加が確認され、トリブロック型共重合体であることを確認した。比較合成例４のトリブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝４６９０、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．６１

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ１＝ｑ２＝２．２であり、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの平均重合度ｐ＝４．４である。）

［比較合成例５］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン８７３ｍｇを加え、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート１．９７ｇを１０分かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を１時間攪拌した。その後、この反応液に、シリコーンマクロマー（ａ）２２．５ｇを１時間かけて滴下し、室温で２時間攪拌した。続けて、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート１．９７ｇを１０分かけて滴下し、室温でさらに１時間攪拌した後、メタノール１０ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、目的のトリブロック共重合体を得た。
２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの１回目のグループ移動重合が完結した時点、シリコーンマクロマー（ａ）のグループ移動重合が完結した時点、及び反応停止後の３点において合成例１と同様にしてＧＰＣ分析を行ったところ、各段階において、開始剤とモノマーの仕込み比に応じた分子量の増加が確認され、トリブロック型共重合体であることを確認した。比較合成例５のトリブロック型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝４５７０、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．５０

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの残基である。２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの平均重合度ｑ１＝ｑ２＝２．２であり、シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｐ＝４．４である。）

［比較合成例６］
減圧乾燥したテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエート３９．８ｍｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶かした。このテトラブチルアンモニウムｍ−クロロベンゾエートのＴＨＦ溶液に、窒素雰囲気下で、開始剤として１−メトキシ−１−（トリメチルシロキシ）−２−メチル−１−プロペン８７２．０ｍｇを加え、モノマー混合物（シリコーンマクロマー（ａ）２２．５ｇ、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート３．９３ｇ）を１時間かけて滴下し、反応液を調製した。室温でさらにこの反応液を２時間攪拌した後、メタノール１０ｍＬを添加して反応を停止した。反応停止後の反応液を、１０５℃で１時間、０．００７ａｔｍ未満で減圧ストリップを行い、ランダム型共重合体を得た。比較合成例６のランダム型共重合体の数平均分子量及び分子量の多分散度は次の通りであった。
数平均分子量（Ｍｎ）＝４０５９、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．８０

（Ａはシリコーンマクロマー（ａ）の残基であり、Ｂは２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの残基である。シリコーンマクロマー（ａ）の平均重合度ｑ＝３．８であり、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの平均重合度ｐ＝３．８である。また、Ｘはシリコーンマクロマー（ａ）又は２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの残基であり、Ｘを有する単位の重合度１つ分は、Ｘがシリコーンマクロマー（ａ）の残基である場合にはｑで表される平均重合度（すなわち、３．８）に、Ｘが２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレートの残基である場合にはｐで表される平均重合度（すなわち、３．８）に、に含まれるものである。）

［分散性評価］
表１〜３に示す処方によってビーズミルを用いてスラリーを調製後、粘度を測定した。単位はｍＰａ・ｓである。
なお、粘度はＪＩＳ Ｋ ７１１７−１：１９９９記載の方法により、Ｂ型粘度計（ＴＶＢ−１０型、東機産業製）を用いて測定した２５℃の値である。

（＊１）ＭＴＲ０７（テイカ（株）製）
（＊２）ＭＺ５０６Ｘ（テイカ（株）製）

（＊１）ＭＴＲ０７（テイカ（株）製）
（＊２）ＭＺ５０６Ｘ（テイカ（株）製）
※１カ月後の粘度として×とあるのは、流動性を失い測定不能となったもの

上記の表１及び表２の結果より明らかな如く、本発明のジブロック型共重合体は、トリブロック型共重合体やランダム型共重合体に比べて高い分散性を有しており、より保存安定性に優れた低粘度の分散体を調製できることが分かった。

また、ジブロック型共重合体を粉体用表面処理剤として用いることで、分散体調製直後の粘度が低粘度の分散体を調製できることがわかった。非極性モノマーを構成単位とする表面処理剤を用いた比較例７〜９および比較例１０〜１２は、調製後１カ月で流動性がなくなる一方で、極性モノマーを構成単位に持つ表面処理剤を用いた実施例１〜１０では低粘度の分散体を調製することができ、特に、なかでも極性の大きいモノマーを構成単位にもつ表面処理剤を用いた実施例１および１０では特に低粘度の分散体が調製できることが分かった。
以上の結果から、極性モノマーを構成単位とするジブロック型共重合体は、粉体用表面処理剤として特に有用であることが明らかになった。

［ジブロック型共重合体の製造方法］
本発明のジブロック型共重合体は、下記一般式（４）で表される化合物を開始剤として、一般式（５）で表されるモノマーをグループ移動重合する工程、及び一般式（６）で表される極性モノマーをグループ移動重合する工程を有する方法により製造することができる。すなわち、本発明のジブロック型共重合体は、一般式（４）で表される化合物を開始剤として、一般式（５）で表されるモノマーと、一般式（６）で表される極性モノマーとを、順次グループ移動重合することで合成することができ、一般式（５）で表されるモノマーと一般式（６）で表される極性モノマーとのグループ移動重合の順番を問わないものである。

一般式（４）中、Ｒ⁶はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ⁷は互いに独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

一般式（５）中、Ｒ¹及びＡは上記式［Ｉ］の通りである。

一般式（６）中、Ｒ¹及びＢは上記式［ＩＩ］の通りである。

［分散性評価］
表１〜２に示す処方によってビーズミルを用いてスラリーを調製後、粘度を測定した。単位はｍＰａ・ｓである。
なお、粘度はＪＩＳ Ｋ ７１１７−１：１９９９記載の方法により、Ｂ型粘度計（ＴＶＢ−１０型、東機産業製）を用いて測定した２５℃の値である。

Claims (10)

1. 下記式［Ｉ］で示されるシリコーングラフト共重合体ブロック及び下記式［ＩＩ］で示される極性共重合体ブロックで主鎖を構成し、
   主鎖の一方の末端構造が式［ＩＩＩ］で表されるものであり、他方の末端構造が式［ＩＶ］で表されるものであるジブロック型共重合体。
   
   

   

   （式［Ｉ］中、
   Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
   Ａは下記一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基又は下記一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基を示し、
   ｎ¹は繰り返し単位の数を示し、１≦ｎ¹≦５０である。）
   

   

   （一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、繰り返し単位数ｍが０〜１００の直鎖状オルガノポリシロキサン構造を有し、
   一般式（１）中、
   Ｚは２価の有機基を示し、
   Ｒ²はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基を示し、
   Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、
   ｍは０〜１００の数を示す。）
   

   

   

   （一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、階層数ｃが１〜１０の樹枝状オルガノポリシロキサン構造を有し、
   一般式（２）及び一般式（３）中、ｉは樹枝状構造の各階層の番号を表し、１からｃまでの各整数であり、
   一般式（２）中、
   Ｌⁱは一般式（３）で表されるシリルオルガノ基であり、ｉは１である。
   一般式（３）中、
   Ｚは２価の有機基を示し、
   Ｒ⁴は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基を示し、
   Ｒ⁵は炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基を示し、
   Ｌⁱ⁺¹は、階層ｉがｃ未満（最上階層未満）のとき、一般式（３）で表されるシリルオルガノ基Ｌⁱであり、階層ｉ＝ｃ（最上階層）のとき、水素原子、炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基であり、
   ａⁱは階層ｉにおけるＯＲ⁴基の数を示し、０〜３の範囲の数である。）
   

   

   （式［ＩＩ］中、
   Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示し、
   Ｂは−ＯＢ'、−ＮＨ₂及び−ＯＨから選ばれるいずれかの基（Ｂ'は炭素数１〜２０のポリオキシアルキレン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、及び−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す）から選ばれる１種又は２種以上の２価の基を有する、炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す。）を示し、
   ｎ²は繰り返し単位の数を示し、１≦ｎ²≦５０である。）
   

   

   （式［ＩＩＩ］中、
   Ｒ⁶は炭素数１〜４のアルキル基を示し、
   Ｒ⁷は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
   

   

   （式［ＩＶ］中、
   Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
   Ｘは上記式［Ｉ］中のＡ又は式［ＩＩ］中のＢで示されるものを示す。）
2. 式［ＩＩ］中のＢが、一般式（８’）又は（９’）で表される基である請求項１に記載のジブロック型共重合体。
   

   

   （式（８’）中、Ｒ⁷は互いに独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、式（９’）中、Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、ｎ³は繰り返し単位の数を表し、１≦ｎ³≦１０である。）
3. 一般式（２）及び一般式（３）中のＺで表される２価の有機基が炭素数２〜１２の飽和炭化水素基である請求項１又は２に記載のジブロック型共重合体。
4. ｎ²／ｎ¹が０．０２〜１０である請求項１〜３のいずれか１項に記載のジブロック型共重合体。
5. 一般式（４）で表される化合物を開始剤として、
   一般式（５）で表されるモノマーをグループ移動重合する工程、及び
   一般式（６）で表される極性モノマーをグループ移動重合する工程、
   を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載のジブロック型共重合体の製造方法。
   

   

   （一般式（４）中、
   Ｒ⁶はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を示し、
   Ｒ⁷は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
   

   

   （一般式（５）中、
   Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
   Ａは一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基又は一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基を示す。）
   

   

   （一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、繰り返し単位数ｍが０〜１００の直鎖状オルガノポリシロキサン構造を有し、
   一般式（１）中、
   Ｚは２価の有機基を示し、
   Ｒ²はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の飽和炭化水素基またはフェニル基を示し、
   Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、
   ｍは０〜１００の数を示す。）
   

   

   

   （一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサン含有基は、階層数ｃが１〜１０の樹枝状オルガノポリシロキサン構造を有し、
   一般式（２）及び一般式（３）中、ｉは樹枝状構造の各階層の番号を表し、１からｃまでの各整数であり、
   一般式（２）中、
   Ｌⁱは一般式（３）で表されるシリルオルガノ基であり、ｉは１である。
   一般式（３）中、
   Ｚは２価の有機基を示し、
   Ｒ⁴は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基を示し、
   Ｒ⁵は炭素数１〜８のアルキル基またはフェニル基を示し、
   Ｌⁱ⁺¹は、階層ｉがｃ未満（最上階層未満）のとき、一般式（３）で表されるシリルオルガノ基Ｌⁱであり、階層ｉ＝ｃ（最上階層）のとき、水素原子、炭素数１〜１０の飽和炭化水素基又はフェニル基であり、
   ａⁱは階層ｉにおけるＯＲ⁴基の数を示し、０〜３の範囲の数である。）
   

   

   （一般式（６）中、
   Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｂは−ＯＢ'、−ＮＨ₂及び−ＯＨから選ばれるいずれかの基（Ｂ'は炭素数１〜２０のポリオキシアルキレン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、及び−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す）から選ばれる１種又は２種以上の２価の基を有する、炭素数１〜２０の一価炭化水素基を示す。）である。）
6. 一般式（６）で表される極性モノマーが、以下の一般式（８）又は一般式（９）で表される極性モノマーである請求項５に記載のジブロック型共重合体の製造方法。
   

   

   （一般式（８）中、
   Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
   Ｒ⁷は互いに独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
   

   

   （一般式（９）中、
   Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、
   Ｒ³は炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を示し、
   ｎ³は繰り返し単位の数を表し、１≦ｎ³≦１０である。）
7. 一般式（８）で表される極性モノマーが以下の式（８−１）で表される極性モノマーである請求項６に記載のジブロック型共重合体の製造方法。
   

   
8. 請求項１〜４のいずれか１項に記載のジブロック型共重合体からなる粉体用表面処理剤。
9. 請求項８に記載の粉体用表面処理剤により処理された粉体及び油剤を含有する分散体。
10. 請求項９に記載の分散体を含有する化粧料組成物、塗料組成物、又はインキ組成物。