JP2021173914A5 - - Google Patents
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上記目的を達成するために、本発明の一側面としての情報処理装置は、基板処理装置による基板処理の処理条件である第１のレシピと、前記第１のレシピが適用された基板処理に関する第１の処理データと、基板処理装置による基板処理の処理条件であり、前記第１のレシピとは異なる第２のレシピと、前記第２のレシピが適用された基板処理に関する第２の処理データとを含む処理情報を取得する取得部と、前記取得部で取得した前記処理情報に基づいて、表示装置への表示を制御する表示制御部を有し、前記表示制御部は、前記第１の処理データと、前記第２の処理データとを、それぞれ別の領域に表示する第１画面を、前記表示装置に表示することを特徴とする。
Claims (16)
- 基板処理装置による基板処理の処理条件である第１のレシピと、前記第１のレシピが適用された基板処理に関する第１の処理データと、基板処理装置による基板処理の処理条件であり、前記第１のレシピとは異なる第２のレシピと、前記第２のレシピが適用された基板処理に関する第２の処理データとを含む処理情報を取得する取得部と、
前記取得部で取得した前記処理情報に基づいて、表示装置への表示を制御する表示制御部を有し、
前記表示制御部は、前記第１の処理データと、前記第２の処理データとを、それぞれ別の領域に表示する第１画面を、前記表示装置に表示することを特徴とする情報処理装置。 - 前記表示制御部は、前記第１画面と、前記第１の処理データ及び前記第２の処理データを同じ領域に表示する第２画面とを、前記表示装置に選択的に表示することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
- 前記表示制御部は、前記第１画面と共に、前記第１の処理データ及び前記第２の処理データを同じ領域に表示する第２画面を、前記表示装置に表示することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
- 前記表示制御部は、前記第１の処理データ及び前記第２の処理データを同じ時系列に重ねて表示する第２画面を、前記表示装置に表示することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
- 前記表示制御部は、前記第１の処理データと、前記第２の処理データとを、それぞれ時系列に表示する第１画面を、前記表示装置に表示することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
- 前記第１の処理データ及び前記第２の処理データは、基板処理を行う処理装置の動作結果、及び基板処理が行われた基板の状態を含む情報であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
- 前記表示制御部は、処理条件を変更した変更履歴情報を前記表示装置に表示することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理装置。
- 前記取得部で取得した基板単位の処理データに基づいて、ロット単位の処理データを算出する算出部を更に有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の情報処理装置。
- 前記算出部は、前記取得部で取得した基板単位の処理データの最大値、最小値、平均値、中央値、標準偏差のいずれか１つの統計処理に基づいて、ロット単位の処理データを算出することを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
- 前記表示制御部は、ユーザによって指定されたロットの処理条件を前記表示装置に表示することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の情報処理装置。
- 基板処理装置による基板処理の処理条件である第１のレシピと、前記第１のレシピが適用された基板処理に関する第１の処理データと、基板処理装置による基板処理の処理条件であり、前記第１のレシピとは異なる第２のレシピと、前記第２のレシピが適用された基板処理に関する第２の処理データとを含む処理情報を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記処理情報に基づいて、表示装置への表示を制御する表示制御工程を有し、
前記表示制御工程は、前記第１の処理データと、前記第２の処理データとを、それぞれ別の領域に表示する第１画面を、前記表示装置に表示することを特徴とする情報処理方法。 - 前記表示制御工程は、前記第１画面と、前記第１の処理データ及び前記第２の処理データを同じ領域に表示する第２画面とを、前記表示装置に選択的に表示することを特徴とする請求項１１に記載の情報処理方法。
- 前記表示制御工程は、前記第１画面と共に、前記第１の処理データ及び前記第２の処理データを同じ領域に表示する第２画面を、前記表示装置に表示することを特徴とする請求項１１に記載の情報処理方法。
- 請求項１１に記載の情報処理方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
- 請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の情報処理装置と、
基板上にパターンを形成するパターン形成装置と、を含み、
前記情報処理装置は、前記パターン形成装置を含む複数の装置を管理することを特徴とする物品の製造システム。 - 請求項１５に記載の製造システムを用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングの内、少なくとも１つの処理を行う工程と、を含み、
前記処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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