JP2021167760A - 筒状部材、コンタクトプローブ及び半導体検査用ソケット - Google Patents
筒状部材、コンタクトプローブ及び半導体検査用ソケット Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021167760A JP2021167760A JP2020070980A JP2020070980A JP2021167760A JP 2021167760 A JP2021167760 A JP 2021167760A JP 2020070980 A JP2020070980 A JP 2020070980A JP 2020070980 A JP2020070980 A JP 2020070980A JP 2021167760 A JP2021167760 A JP 2021167760A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating layer
- base material
- barrel
- thickness
- contact probe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
Abstract
【解決手段】ベリリウム銅からなる板材の対向する辺53同士が突き合わされた部分が軸線方向に沿って延在している筒状の基材40と、基材40の内表面および外表面にそれぞれ形成され、Ni系材料からなる、基材40の補強材としての第1被覆層41と、各第1被覆層41の表面に形成され、基材40とは異なる金属系材料からなる第2被覆層42と、を備えるコンタクトプローブに用いられる筒状部材であって、第1被覆層41は、基材40よりも高硬度とされ、基材40の厚さをTB、外表面に形成された第1被覆層41の層厚さをT1OUTとしたとき、基材40は、13μm≦TB≦25μmとされ、第1被覆層41は、T1OUT≧TB×4%となるように形成されている。
【選択図】図7
Description
すなわち、本発明の一態様に係る筒状部材は、ベリリウム銅からなる板材の対向する辺同士が突き合わされた部分が軸線方向に沿って延在している筒状の基材と、前記基材の内表面および外表面にそれぞれ形成され、Ni系材料からなる、前記基材の補強材としての第1被覆層と、各前記第1被覆層の表面に形成され、前記基材とは異なる金属系材料からなる第2被覆層と、を備えるコンタクトプローブに用いられる筒状部材であって、前記第1被覆層は、前記基材よりも高硬度とされ、前記基材の厚さをTB、前記外表面に形成された前記第1被覆層の層厚さをT1OUTとしたとき、前記基材は、13μm≦TB≦25μmとされ、前記第1被覆層は、T1OUT≧TB×4%となるように形成されている。
また、Ni系材料からなる第1被覆層は基材よりも高硬度とされているので、Ni系材料からなる第1被覆層をベリリウム銅からなる基材の補強材として作用させることができる。ベリリウム銅の硬度(例えば、ビッカース硬さ)は、例えば350Hv−450Hv(時効硬化処理後)とされ、Niめっきの硬度(同じく、ビッカース硬さ)は、例えば100Hv−1000Hvとなるが、敢えて、ベリリウム銅からなる基材の硬度よりも高いNi系材料からなる第1被覆層の硬度を選択することで、第1被覆層を基材の補強材として作用させることができる。
また、基材の厚さをTB、外表面に形成された第1被覆層の層厚さをT1OUTとしたとき、基材は、13μm≦TB≦25μmとされ、第1被覆層は、T1OUT≧TB×4%となるように形成されているので、可能な限りベリリウム銅からなる基材の薄肉化を実現しつつ可能な限り薄い第1被覆層(Ni層)で最低限の強度を確保することができる。
また、第1被覆層や第2被覆層をめっき処理によって施す場合、貫通穴によってめっき液の循環を促すことができる。このため、均一なめっきを基材に対して施すことができる。
ソケット1は、例えば、テストボードとしてのプリント配線基板3(以下、単に「基板3」という。)上に配置される。ソケット1と基板3とは、図示しない締結部材等によって互いに固定されている。
図5には、本実施形態に係るバレル32が示されている。また、図6には、図5の切断線I−Iにおける横断面図が示されている。更に、図7には、図6のB部における部分拡大図が示されている。
なお、基材40の材料であるベリリウム銅の硬度(例えば、ビッカース硬さ)は、例えば350Hv−450Hv(時効硬化処理後)であり、Niめっきの硬度(同じく、ビッカース硬さ)は、例えば100Hv−1000Hvなので、Ni系材料は、常にベリリウム銅よりも高硬度になるとは限らない。本実施形態では、各材料が取り得る硬度の範囲から、被覆時において基材40を構成する銅系材料よりも高硬度となるように第1被覆層41を形成する。これにより、第1被覆層41を基材40の補強材として作用させることができる。
すなわち、図4に示されているように、ICパッケージ5(図示せず)から上部プランジャ34に流れた電流は、接触部34aを介して大径部34bに流れる。このとき、大径部34bは、導電性が良好な第2被覆層42を介してバレル32に接触しているので、大径部34bに流れた電流は、コイルバネ38ではなくバレル32に流れる。バレル32に流れた電流は、基材40を流れて下部プランジャ36の大径部36bに流れる。その後、電流は、接触部34aを介して基板3(図示せず)に流れる。
第1被覆層41は、第1被覆層41を単に第2被覆層42の下地として用いる場合に比べて厚くなるように形成されている。特に、基材40の外表面側に形成される第1被覆層41の厚さT1OUT(以下「層厚さT1OUT」ともいう。)は、厚さTBに対して、T1OUT≧TB×4.0%(条件1)とされている。例えば、TB=25μmであればT1OUT≧1μmとなり、TB=20μmであればT1OUT≧0.8μmとなる。層厚さT1OUTに係る条件1については、発明者らが実施した試験(後述)によって得られた知見に基づいて設定されている。
なお、基材40の内表面側に形成される第1被覆層41の層厚さT1IN(以下「層厚さT1IN」ともいう。)は、T1IN≦T1OUTとされることが好ましい。
なお、基材40の外表面側に形成される第2被覆層42の層厚さT2OUT(以下「層厚さT2OUT」ともいう。)は、層厚さT2INより薄くてもよい。外表面側に形成される第2被覆層42は電流を流すための被覆層ではないので、内表面側に形成される第2被覆層42のように導体抵抗を小さくする必要がないからである。つまり、外表面側に形成される第2被覆層42は、耐腐食性や耐摩耗性を確保するに必要な層厚さT2outがあれば十分である。
〔実施例1〕
実施例1では、厚さTB=15μm、層厚さT1OUT=0.6μm(厚さTBの4%)、層厚さT2IN=0.25μm(厚さTBの1.7%)とされている。なお、筒状の基材40は、プレス加工によって形成されている。
この結果、試験片60を3.5N程度で押圧したときに、バレル32の外観に潰れが生じ始めた。
実施例2では、厚さTB=18μm、層厚さT1OUT=0.8μm(厚さTBの4.4%)、層厚さT2IN=0.3μm(厚さTBの1.7%)とされている。なお、筒状の基材40は、プレス加工によって形成されている。
この結果、試験片60を4.0N程度で押圧したときに、バレル32の外観に潰れが生じ始めた。
実施例3では、厚さTB=25μm、層厚さT1OUT=1.0μm(厚さTBの4%)として、層厚さT2IN=0.5μm(厚さTBの2.0%)とされている。なお、筒状の基材40は、プレス加工によって形成されている。
この結果、試験片60を5.0N程度で押圧しても、バレル32の外観に潰れが生じなかった。
バレル32は、作業者によって、例えばピンセット等の保持具を用いて取り扱われる。このとき、ピンセットに挟まれたバレル32に作用する力は約3.5N以上である。このため、3.5N程度の力に耐え得る強度があれば強度が確保されていることになる。
以上から、13μm≦TB≦25μmとしたとき、T1OUT≧TB×4.0%(条件1)とする知見が得られた。
比較例1では、厚さTB=7.5μmとされ、第1被覆層41及び第2被覆層42は形成されていない。なお、筒状の基材40は、電気鋳造によって形成されている。
この結果、試験片60を1.5N程度で押圧したときに、バレル32の外観に潰れが生じた。
比較例2では、厚さTB=37μmとして、条件1を満たすように層厚さT1OUT=12μmとして、条件2を満たすように層厚さT2IN=0.6μmとされている。なお、筒状の基材40は、プレス加工によって形成されている。
この結果、試験片60を5.0N程度で押圧しても、バレル32の外観に潰れが生じず、条件1について確認することができた。
バレル32は、基材40を形成する工程と、第1被覆層41を形成する工程と、第2被覆層42を形成する工程とを含む。以下、それぞれの工程について詳細に説明する。
基材40は、ベリリウム銅(基材40と同材料)とされた帯状の板材50をプレス加工することによって形成されている。板材50の厚さは、基材40に要求される肉厚(厚さTB)に対応している。
なお、板材50は、耐疲労性、加工性(成形性)の観点から時効材(時効硬化処理前の材料)であることが好ましい。
第1被覆層41は、熱処理された基材40に対して、めっき処理によって施されている。このとき、外表面側の第1被覆層41の層厚さT1OUTが条件1の通りT1OUT≧TB×4.0%となるようにめっき処理される。
第2被覆層42は、第1被覆層41が形成された基材40に対して、めっき処理によって施されている。このとき、内表面側の第2被覆層42の層厚さT2INは、条件2の通りT2IN≧0.05μmとなるようにめっき処理される。
筒状の基材40はベリリウム銅からなるので、導電性を確保しつつ薄肉化を実現できる。これは、コンタクトプローブ30の狭ピッチ化に伴うバレル32の細径化に有用である。また、ベリリウム銅は、耐疲労性、加工性(成形性)に優れているので、突合せ辺53同士を中心軸線X2方向に沿って突き合わせるプレス加工に用いられる材料として好適である。すなわち、ベリリウム銅を用いることで、薄肉化した基材40の導電性の確保及び加工性の向上を実現できる。
筒状の基材40Bは、単なる筒状とされた形態の他に、図11に示されている形態としてもよい。
なお、めっき穴44の数は、1又は2であってもよいし、4以上であってもよく、バレル32の形状その他の仕様に応じて任意に変更される。このとき、少なくとも1つのめっき穴44が、中心軸線X2の方向に沿った基材40Bの中央部に形成されていることが好ましい。
図13に示されているように、めっき穴44は、第1変形例のように各突合せ辺53に切り欠き55を形成しておく方法の他、めっき穴44が予め含まれた抜き部54Cを板材50から切り落として所定形状の板材52Cとしてもよい。この所定形状の板材52Cをプレス加工によって筒状に形成することで、めっき穴44が形成された基材40となる。
図14に示されているように、切り欠き55が形成されている突合せ辺53の一部をクランク状にした所定形状の板材52Dとしてもよい。同図の場合、中央にある切り欠き55が形成されている突合せ辺53の一部を、他の切り欠き55が形成されている突合せ辺53に対してずらしている。
1a ソケット本体
1b プローブ配列基板
3 基板
5 ICパッケージ(被検査デバイス)
7 固定ボルト
9 デバイス収容部
30 コンタクトプローブ
32 バレル(筒状部材)
34 上部プランジャ
36 下部プランジャ
38 コイルバネ
40,40B,40D 基材
41 第1被覆層
42 第2被覆層
44 めっき穴(貫通孔)
50 板材
52,52B,52C,52D 所定形状の板材
53 突合せ辺
54,54B,54C 抜き部
55 切り欠き
60 試験片
62 試験台
Claims (7)
- ベリリウム銅からなる板材の対向する辺同士が突き合わされた部分が軸線方向に沿って延在している筒状の基材と、
前記基材の内表面および外表面にそれぞれ形成され、Ni系材料からなる、前記基材の補強材としての第1被覆層と、
各前記第1被覆層の表面に形成され、前記基材とは異なる金属系材料からなる第2被覆層と、
を備えるコンタクトプローブに用いられる筒状部材であって、
前記第1被覆層は、前記基材よりも高硬度とされ、
前記基材の厚さをTB、前記外表面に形成された前記第1被覆層の層厚さをT1OUTとしたとき、前記基材は、13μm≦TB≦25μmとされ、前記第1被覆層は、T1OUT≧TB×4%となるように形成されている筒状部材。 - 前記内表面側の前記第2被覆層の層厚さをT2INとしたとき、前記第2被覆層は、T2IN≧0.05μmとなるように形成されている請求項1に記載の筒状部材。
- 前記第1被覆層および/または前記第2被覆層は、めっき処理によって施されている請求項1又は2に記載の筒状部材。
- 前記基材には、貫通孔が設けられていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の筒状部材。
- 各前記対向する辺には、突き合わせることによって前記貫通孔が形成される切欠きが設けられている請求項4に記載の筒状部材。
- 請求項1から5のいずれかに記載の筒状部材を備えているコンタクトプローブ。
- 請求項6に記載のコンタクトプローブを備えている半導体検査用ソケット。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020070980A JP6751249B1 (ja) | 2020-04-10 | 2020-04-10 | 筒状部材、コンタクトプローブ及び半導体検査用ソケット |
KR1020200069586A KR102289580B1 (ko) | 2019-06-11 | 2020-06-09 | 통 형상 부재, 컨택트 프로브 및 반도체 검사용 소켓 |
US16/896,924 US11531060B2 (en) | 2019-06-11 | 2020-06-09 | Cylindrical member, contact probe and semiconductor inspection socket |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020070980A JP6751249B1 (ja) | 2020-04-10 | 2020-04-10 | 筒状部材、コンタクトプローブ及び半導体検査用ソケット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6751249B1 JP6751249B1 (ja) | 2020-09-02 |
JP2021167760A true JP2021167760A (ja) | 2021-10-21 |
Family
ID=72276776
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020070980A Active JP6751249B1 (ja) | 2019-06-11 | 2020-04-10 | 筒状部材、コンタクトプローブ及び半導体検査用ソケット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6751249B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023182023A1 (ja) * | 2022-03-25 | 2023-09-28 | 株式会社ヨコオ | プローブ |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0577772U (ja) * | 1992-03-19 | 1993-10-22 | 上松株式会社 | スプリング接続端子 |
JP2010060316A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Masashi Okuma | 異方性導電部材および異方導電性を有する測定用基板 |
JP2011117882A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Rika Denshi Co Ltd | コンタクトプローブ |
JP2013134181A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Enplas Corp | コンタクトプローブおよびその製造方法 |
JP2016217910A (ja) * | 2015-05-21 | 2016-12-22 | 山一電機株式会社 | コンタクトプローブ及びそれを備えた電気接続装置 |
JP2019108493A (ja) * | 2017-12-19 | 2019-07-04 | 株式会社Adeka | 化合物、成形体及び光学材料 |
-
2020
- 2020-04-10 JP JP2020070980A patent/JP6751249B1/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0577772U (ja) * | 1992-03-19 | 1993-10-22 | 上松株式会社 | スプリング接続端子 |
JP2010060316A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Masashi Okuma | 異方性導電部材および異方導電性を有する測定用基板 |
JP2011117882A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Rika Denshi Co Ltd | コンタクトプローブ |
JP2013134181A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Enplas Corp | コンタクトプローブおよびその製造方法 |
JP2016217910A (ja) * | 2015-05-21 | 2016-12-22 | 山一電機株式会社 | コンタクトプローブ及びそれを備えた電気接続装置 |
JP2019108493A (ja) * | 2017-12-19 | 2019-07-04 | 株式会社Adeka | 化合物、成形体及び光学材料 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023182023A1 (ja) * | 2022-03-25 | 2023-09-28 | 株式会社ヨコオ | プローブ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6751249B1 (ja) | 2020-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1285915C (zh) | 导电性接头 | |
JP5103566B2 (ja) | 電気接触子およびそれを備える検査冶具 | |
EP1136827A2 (en) | Contactor having LSI-circuit-side contact piece and test-board-side contact piece for testing semiconductor device and manufacturing method thereof | |
KR102015798B1 (ko) | 검사장치용 프로브 | |
US20110128025A1 (en) | Electrical contact member and contact probe | |
TWI677142B (zh) | 電氣接觸子及電氣零件用插座 | |
US7628616B2 (en) | Connecting unit including contactor having superior electrical conductivity and resilience, and method for producing the same | |
EP3786647A1 (en) | Cylindrical body and method for producing same | |
US10256564B2 (en) | Electric component socket and manufacturing method for the same | |
KR20080027182A (ko) | 접속 장치 | |
JP2021167760A (ja) | 筒状部材、コンタクトプローブ及び半導体検査用ソケット | |
KR20120029995A (ko) | 통전 시험용 프로브 및 프로브 조립체 | |
KR102289580B1 (ko) | 통 형상 부재, 컨택트 프로브 및 반도체 검사용 소켓 | |
KR101064852B1 (ko) | 프로브 카드용 니들 | |
KR20230049078A (ko) | 클래드 와이어 및 클래드 와이어의 제조 방법 | |
WO2015068222A1 (ja) | コンタクトプローブ | |
JP2006284297A (ja) | コンタクトプローブ構造体の製造方法 | |
JPWO2007026877A1 (ja) | 回路基板の検査装置および回路基板の検査方法 | |
KR102188379B1 (ko) | 백금베이스의 탐침이 구비되는 프로브카드의 제조방법 및 이를 이용하여 제조되는 프로브카드 | |
JP2016011925A (ja) | コンタクトプローブ及びコンタクトプローブユニット | |
CN217607066U (zh) | 导电端子 | |
JP5386127B2 (ja) | コンタクトプローブ及びその製造方法 | |
WO2024014231A1 (ja) | プローブ装置 | |
KR101164415B1 (ko) | 프로브 카드 | |
CN110178181B (zh) | 布线电路基板及其制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200513 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20200612 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20200618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20200623 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200714 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200727 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6751249 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |