JP2021144128A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示領域の輪郭が視認されにくい表示装置を提供する。【解決手段】表示装置１においては、表示領域Ａ１を囲む反射膜３６が、表示領域Ａ１を覆う発光表示部１２の金属電極層１６Ｂと同じように、素子基板２０の下面２０ｂ側からの外光を反射させる。このように、表示領域Ａ１の輪郭の内側と外側とにおいて同じように反射させることで、表示領域Ａ１の輪郭が視認されにくくなっている。【選択図】図３

Description

本発明は、表示装置に関する。

従来、車載向けの小型ディスプレイに有機ＥＬディスプレイが採用されている。有機ＥＬディスプレイ等の表示装置では、透明電極層と金属電極層との間に有機ＥＬ発光層を挟んだ積層構造の表示領域が設けられる。

特開２０１９−９６４２９号公報

上記表示装置においては、金属電極層が比較的高い反射率を有するために、表示領域の輪郭が目立ち、それにより意匠性の低下が招かれ得る。そのため、表示領域の輪郭が肉眼では見えない状態が望まれている。

本発明は、表示領域の輪郭が視認されにくい表示装置を提供することを目的とする。

本発明の一態様に係る表示装置は、透光性を有し、表示領域を有する基板と、基板に対して平行に延在するとともに発光層を介して互いに重ね合わされた透明電極層および金属電極層を有し、透明電極層が金属電極層よりも基板に近い側に位置し、かつ、基板の一方面側から表示領域の全体を覆う発光表示部と、基板の表示領域の外縁に沿って表示領域を囲み、かつ、基板の他方面側からの光を反射する反射膜とを備える。

上記表示装置においては、表示領域を囲む反射膜が、表示領域を覆う発光表示部の金属電極層と同じように、基板の他方面側からの光を反射させる。このように、表示領域の内側と外側とにおいて同じように反射させることで、表示領域の輪郭が視認されにくくなる。

他の態様に係る表示装置では、基板の他方面を覆う反射光除去フィルタをさらに備える。この場合、反射膜および金属電極層の反射光を除去することができる。

他の態様に係る表示装置では、基板の他方面を覆う減光フィルタをさらに備える。この場合、表示領域の輪郭をさらに視認しにくくすることができる。

他の態様に係る表示装置では、反射膜が金属電極層と同じ反射率を有する。この場合、表示領域の輪郭をさらに視認しにくくすることができる。

他の態様に係る表示装置では、反射膜が、金属電極層と同じ金属材料で構成されている。この場合、表示領域の輪郭をさらに視認しにくくすることができる。

他の態様に係る表示装置では、反射膜の内縁において、反射膜と発光表示部とが重畳する重畳領域を有し、反射膜の発光表示部側の面のうちの少なくとも重畳領域が、発光表示部の光の反射を抑制する反射抑止面である。この場合、反射膜の発光表示部側の面において発光表示部の発光が反射する事態を抑止することができる。

本発明の様々な態様によれば、表示領域の輪郭が視認されにくい表示装置が提供される。

図１は、第１実施形態に係る表示装置を示した概略断面図である。 図２は、第１実施形態に係る表示装置の積層構造における一部の層を示した分解斜視図である。 図３は、第１実施形態に係る表示装置の表示領域を示した図である。 図４は、第２実施形態に係る表示装置を示した断面図である。 図５は、第３実施形態に係る表示装置を示した断面図である。 図６は、第４実施形態に係る表示装置を示した断面図である。 図７は、第５実施形態に係る表示装置を示した断面図である。 図８は、第５実施形態に係る表示装置の積層構造の一部を示した分解斜視図である。 図９は、光学キャビティ構造を有する反射抑止面を示した断面図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。

（第１実施形態）
第１実施形態に係る表示装置１は、図１に示すように、表示パネル１０と、マスク部３０とを備えて構成されている。図１に示した表示装置１は、ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置であり、図１の紙面下向きに光を出射する。

表示パネル１０は、発光表示部１２と、素子基板２０と、封止基板２２とを有する。

素子基板２０（基板）は、発光表示部１２を形成する際に用いられる基板である。素子基板２０は、平板状の外形を有し、上面２０ａ（一方面）および下面２０ｂ（他方面）を有する。素子基板２０は、透光性を有する基板であり、ガラス、樹脂フィルム等で構成することができる。素子基板２０は、本実施形態では透明ガラスで構成されている。素子基板２０の中央には、矩形状の表示領域Ａ１が設けられている。

封止基板２２は、素子基板２０の上面２０ａ側に位置しており、素子基板２０に対して平行に延在するとともに素子基板２０から所定距離だけ離間している。封止基板２２は、たとえばガラス、樹脂等で構成されている。封止基板２２は、透光性を有していてもよく、透光性を有していなくてもよい。素子基板２０と封止基板２２との間は、空隙であってもよく、公知の封止材料で充たされていてもよい。

発光表示部１２は、素子基板２０の上面２０ａに設けられており、素子基板２０と封止基板２２との間に位置している。発光表示部１２は、具体的には、素子基板２０の上面２０ａの表示領域Ａ１の全体を覆うように設けられている。本実施形態では、発光表示部１２の形成領域と素子基板２０の表示領域Ａ１とが一致するように設計されている。なお、素子基板２０の上面２０ａにおける表示領域Ａ１の周辺領域Ａ２には、発光表示部１２に対して駆動電力を供給する配線や駆動回路等が設けられるが、図示は省略している。発光表示部１２は、素子基板２０と封止基板２２との対面方向に複数の層が積層された積層構造を有しており、有機ＥＬ発光層１４、一対の電極層１６Ａ、１６Ｂ、および封止層１８を含んでいる。

有機ＥＬ発光層１４は、電子および正孔が注入されることによって発光する有機化合物（発光材料）を少なくとも含む層である。有機化合物は、低分子化合物でもよく、高分子化合物でもよい。有機ＥＬ発光層１４は、上記発光材料を含んだ発光層に加えて、電子注入層、電子輸送層、正孔注入層、正孔輸送層等を有してもよい。また、有機ＥＬ発光層１４の発光材料は、蛍光材料でもよく、燐光材料でもよく、蛍光および燐光とは異なるタイプの発光材料でもよい。

一対の電極層１６Ａ、１６Ｂは、いずれも素子基板２０に対して平行に延在しており、有機ＥＬ発光層１４を介して互いに重ね合わされるように設けられている。一対の電極層１６Ａ、１６Ｂのうち、素子基板２０に近い方が陽極として機能する透明電極層１６Ａであり、透明電極層１６Ａは上面２０ａ上に直接設けられている。透明電極層１６Ａの構成材料（陽極材料）は、たとえばＩＴＯ、ＩＺＯ等である。一対の電極層１６Ａ、１６Ｂのうち、素子基板２０から遠い方が陰極として機能する金属電極層１６Ｂである。金属電極層１６Ｂの構成材料（陰極材料）は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｍｏ等の金属、または、これらの合金である。本実施形態では、金属電極層１６ＢはＡｌで構成されている。本実施形態では、透明電極層１６Ａおよび金属電極層１６Ｂは並行して延びる複数の配線でそれぞれ構成され、メッシュ状に並ぶ透明電極層１６Ａの配線と金属電極層１６Ｂの配線との交点それぞれが発光表示部１２の画素を構成している。

封止層１８は、封止基板２２との間に封止空間を画成することで、有機ＥＬ発光層１４等が水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有する。

封止層１８は、金属電極層１６Ｂ上に形成されており、発光表示部１２の最上層を構成している。封止層１８は、たとえば、ＳｉＯ、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＣ、ＳｉＯＣ、ＡｌＮ、Ａｌ_２Ｏ_３等の材料で形成されている。

上述した表示パネル１０においては、発光表示部１２の一対の電極層１６Ａ、１６Ｂ間に電圧が印加されると、有機ＥＬ発光層１４が発光し、その光が透明電極層１６Ａを介して素子基板２０の下面２０ｂ側から図１の紙面下向きに出射される。有機ＥＬ発光層１４の発光は、たとえば単色の白色光である。

マスク部３０は、素子基板２０の下面２０ｂの全体を覆うように設けられている。マスク部３０は、積層構造を有し、素子基板２０の下面２０ｂから遠い順に、減光フィルタ３１、反射光除去フィルタ３２、成膜用基板３４、反射膜３６および接着材層３８が並んでいる。

減光フィルタ３１は、通過する光（すなわち、図１の紙面下方から入射する外光および発光表示部１２の発光）を弱める機能を有する。減光フィルタ３１は、一例として、ＮＤフィルタ（ＮｅｕｔｒａｌＤｅｎｓｉｔｙ Ｆｉｌｔｅｒ）である。

反射光除去フィルタ３２は、図１の紙面下方から入射した外光が発光表示部１２の発光表示部１２において反射した際に、その反射光を選択的に除去する機能を有する。本実施形態において、反射光除去フィルタ３２は円偏光フィルタであり、外光を偏光させることで、発光表示部１２の発光および反射光のうちの反射光のみを選択的に除去する。

成膜用基板３４は、反射膜３６を成膜するための平板状の基板である。成膜用基板３４は、透光性を有し、本実施形態では透明ガラスで構成されている。

反射膜３６は、成膜用基板３４の上面（すなわち、発光表示部１２側の面）に成膜されている。反射膜３６は、所定の反射率を有する材料で構成されており、金属、合金、樹脂等で構成することができる。反射膜３６は、金属電極層１６Ｂの構成材料と同じ材料（すなわち、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｍｏ等の金属、または、これらの合金）で構成することができる。本実施形態では、反射膜３６はＡｌで構成されている。

反射膜３６は、図２および図３に示すように、矩形環状の膜である。反射膜３６は、その中央部分に矩形状の孔３７を有する。本実施形態では、反射膜３６の孔３７の形成領域と素子基板２０の表示領域Ａ１とが一致するように設計されている。すなわち、反射膜３６は、素子基板２０の周辺領域Ａ２に対応する領域に設けられている。換言すると、反射膜３６は、素子基板２０の表示領域Ａ１の外縁に沿って表示領域Ａ１を囲んでいる。

反射膜３６は、図１の紙面下方から入射した外光を、その下面３６ｂにおいて全反射させる。反射膜３６における反射光は、発光表示部１２における反射光と同様、反射光除去フィルタ３２によって除去される。反射膜３６の厚さは、上述した外光を全反射することができる厚さであればよく、一例として１００ｎｍである。

接着材層３８は、上述した減光フィルタ３１、反射光除去フィルタ３２、成膜用基板３４および反射膜３６を、表示パネル１０の素子基板２０の下面２０ｂに接着する接着材で構成された層である。接着材層３８は、透光性を有する層であり、たとえば光学用透明粘着剤を塗布成形した層であってもよく、光学用透明粘着シートであってもよい。

第１実施形態に係る表示装置１は、表示領域Ａ１を有する素子基板２０と、有機ＥＬ発光層１４を介して互いに重ね合わされた透明電極層１６Ａおよび金属電極層１６Ｂを有するとともに素子基板２０の上面２０ａ側から素子基板２０の表示領域Ａ１の全体を覆う発光表示部１２と、素子基板２０の表示領域Ａ１の外縁に沿って表示領域Ａ１を囲み、かつ、素子基板２０の下面２０ｂ側からの光を反射する反射膜３６とを備えている。

表示装置１においては、表示領域Ａ１を囲む反射膜３６が、表示領域Ａ１を覆う発光表示部１２の金属電極層１６Ｂと同じように、素子基板２０の下面２０ｂ側からの外光を反射させる。このように、表示領域Ａ１の輪郭の内側（すなわち、表示領域Ａ１）と外側（すなわち、周辺領域Ａ２）とにおいて同じように反射させることで、表示領域Ａ１の輪郭が視認されにくくなっている。

特に、表示装置１では、反射膜３６と金属電極層１６Ｂとが、同じ金属材料（すなわち、Ａｌ）で構成されており、同じ反射率を有するため、表示領域Ａ１と周辺領域Ａ２とが全く同じように外光を反射させる。そのため、表示領域Ａ１の輪郭がさらに視認しにくくなっている。なお、反射膜３６の反射率は、金属電極層１６Ｂ単体の反射率ではなく、外光に対する発光表示部１２全体の反射率に合わせてもよい。この場合、反射膜３６の反射率と発光表示部１２全体の反射率とを近づけるために、発光表示部１２にダミーの有機層やエッジカバー、セパレータ等を設けてもよい。反射膜３６は、金属電極層１６Ｂとは異なる金属材料で構成されていてもよく、金属電極層１６Ｂとは異なる反射率を有していてもよい。反射膜３６は、自立可能な厚さ（たとえば５μｍ以上）を有してもよく、この場合には成膜用基板３４を適宜省略することができる。

表示装置１では、反射光除去フィルタ３２が素子基板２０の下面２０ｂを覆うように設けられている。そのため、反射光除去フィルタ３２を介して表示装置１に入射した外光が発光表示部１２および反射膜３６において反射した際に、それらの反射光が反射光除去フィルタ３２によって除去される。それにより、コントラストの減少が抑制される。また、表示領域Ａ１における反射率と周辺領域Ａ２における反射率とが異なる場合であっても、反射光を抑制することにより表示領域Ａ１と周辺領域Ａ２とが同じような見え方となるため、表示領域Ａ１の輪郭が視認しにくくなる。

また、表示装置１では、反射光除去フィルタ３２を、素子基板２０側とは反対の側から覆う減光フィルタ３１を備えている。そのため、表示領域Ａ１の輪郭をさらに視認しにくくすることができる。減光フィルタ３１の減光率が高いと（すなわち、濃度が高いと）、表示領域Ａ１の輪郭が目立ちにくくなるが、発光表示部１２の発光取出し効率が低下する。表示装置１では、上述した反射膜３６により表示領域Ａ１の輪郭が視認されにくくなっているため、減光フィルタ３１の濃度を下げることができる、または減光フィルタ３１を省略することができる。したがって、発光表示部１２の発光取出し効率を高めることができ、発光表示部１２の負荷を抑えつつ十分な発光を得ることができる。

（第２実施形態）
第１実施形態としてボトムエミッション型の表示装置１を示したが、図４に示すようなトップエミッション型の表示装置１Ａであってもよい。第２実施形態に係る表示装置１Ａは、図４に示すように、第１実施形態に係る表示装置１と同じ有機ＥＬ表示装置であるが、図４の紙面上向きに光を出射する。

表示装置１Ａは、表示パネル１０Ａと、マスク部３０Ａとを備えて構成されている。

表示パネル１０Ａは、発光表示部１２と、素子基板２０と、封止基板２２とを有する。

素子基板２０は、発光表示部１２を形成する際に用いられる基板である。第２実施形態に係る素子基板２０は、たとえばガラス、樹脂等で構成されている。素子基板２０は、透光性を有していてもよく、透光性を有していなくてもよい。

封止基板２２（基板）は、素子基板２０の上面２０ａ側に位置しており、素子基板２０に対して平行に延在するとともに素子基板２０から所定距離だけ離間している。封止基板２２は、平板状の外形を有し、上面２２ａ（他方面）および下面２２ｂ（一方面）を有する。封止基板２２は、透光性を有する基板であり、本実施形態では透明ガラスで構成されている。封止基板２２には、第１実施形態で示した素子基板２０の表示領域Ａ１と同様の表示領域Ａ１が設けられている。素子基板２０と封止基板２２との間は、公知の封止材料２４で充たされていてもよく、封止基板２２に発光表示部１２の封止層１８が接していてもよい。

第２実施形態に係る発光表示部１２は、第１実施形態に係る発光表示部１２と同様に、素子基板２０の上面２０ａに設けられており、素子基板２０と封止基板２２との間に位置している。発光表示部１２は、具体的には、封止基板２２の表示領域Ａ１の全体を覆うように設けられている。本実施形態では、発光表示部１２の形成領域と封止基板２２の表示領域Ａ１とが一致するように設計されている。なお、第２実施形態においても、素子基板２０の上面２０ａには、発光表示部１２に対して駆動電力を供給する配線や駆動回路等が設けられるが、図示は省略している。発光表示部１２は、素子基板２０と封止基板２２との対面方向に複数の層が積層された積層構造を有しており、有機ＥＬ発光層１４、一対の電極層１６Ａ、１６Ｂ、および封止層１８を含んでいる。

第２実施形態において、一対の電極層１６Ａ、１６Ｂは、いずれも封止基板２２に対して平行に延在しており、有機ＥＬ発光層１４を介して互いに重ね合わされるように設けられている。一対の電極層１６Ａ、１６Ｂのうち、封止基板２２に近い方が陽極として機能する透明電極層１６Ａである。一対の電極層１６Ａ、１６Ｂのうち、封止基板２２から遠い方が陰極として機能する金属電極層１６Ｂであり、金属電極層１６Ｂは素子基板２０の上面２０ａ上に直接設けられている。封止層１８は、透明電極層１６Ａ上に形成されており、発光表示部１２の最上層を構成している。

第２実施形態に係る表示パネル１０Ａにおいては、発光表示部１２の一対の電極層１６Ａ、１６Ｂ間に電圧が印加されると、有機ＥＬ発光層１４が発光し、その光が透明電極層１６Ａを介して封止基板２２の上面２２ａ側から図４の紙面上向きに出射される。

マスク部３０Ａは、封止基板２２の上面２２ａの全体を覆うように設けられている。マスク部３０Ａは、積層構造を有し、封止基板２２の上面２２ａから遠い順に、減光フィルタ３１、反射光除去フィルタ３２、成膜用基板３４、反射膜３６および接着材層３８が並んでいる。すなわち、第２実施形態に係るマスク部３０Ａの並び順は、第１実施形態に係るマスク部３０の並び順と同じである。

第２実施形態において、反射光除去フィルタ３２は、図４の紙面上方から入射した外光が表示パネル１０Ａの発光表示部１２において反射した際に、その反射光を選択的に除去する。反射膜３６は、成膜用基板３４の下面（すなわち、発光表示部１２側の面）に成膜されている。第２実施形態に係る反射膜３６は、第１実施形態に係る反射膜３６と同様に、矩形環状の膜であり、かつ、その中央部分に矩形状の孔３７を有する。本実施形態では、反射膜３６の孔３７の形成領域と封止基板２２の表示領域Ａ１とが一致するように設計されている。すなわち、反射膜３６は、封止基板２２の周辺領域Ａ２に対応する領域に設けられている。換言すると、反射膜３６は、封止基板２２の表示領域Ａ１の外縁に沿って表示領域Ａ１を囲んでいる。反射膜３６は、図４の紙面上方から入射した外光を、その上面３６ａにおいて全反射させる。反射膜３６における反射光は、表示パネル１０Ａにおける反射光と同様、反射光除去フィルタ３２によって除去される。

第２実施形態に係る表示装置１Ａは、表示領域Ａ１を有する封止基板２２と、有機ＥＬ発光層１４を介して互いに重ね合わされた透明電極層１６Ａおよび金属電極層１６Ｂを有するとともに封止基板２２の下面２２ｂ側から封止基板２２の表示領域Ａ１の全体を覆う発光表示部１２と、封止基板２２の表示領域Ａ１の外縁に沿って表示領域Ａ１を囲み、かつ、封止基板２２の上面２２ａ側からの光を反射する反射膜３６とを備えている。

トップエミッション型の表示装置１Ａにおいても、ボトムエミッション型の表示装置１と同様に、表示領域Ａ１を囲む反射膜３６が、表示領域Ａ１を覆う発光表示部１２の金属電極層１６Ｂと同じように、封止基板２２の上面２２ａ側からの外光を反射させる。表示装置１Ａは、表示領域Ａ１の輪郭の内側（すなわち、表示領域Ａ１）と外側（すなわち、周辺領域Ａ２）とにおいて同じように反射させることで、表示領域Ａ１の輪郭が視認されにくくなっている。

（第３実施形態）
第２実施形態に係る表示装置１Ａの構成において、封止基板２２を省略することができる。第３実施形態に係る表示装置１Ｂは、図５に示すように、第２実施形態に係る表示装置１Ａとは封止基板２２および接着材層３８が除かれた点のみ相異する。

表示装置１Ｂは、表示パネル１０Ｂと、マスク部３０Ｂとを備えて構成されている。表示パネル１０Ｂは、発光表示部１２と、素子基板２０とを有しており、封止基板２２を有しない。

第３実施形態においては、第２実施形態の封止基板２２を、マスク部３０Ｂの成膜用基板３４で代用している。

マスク部３０Ｂの成膜用基板３４（基板）は、素子基板２０の上面２０ａ側に位置しており、素子基板２０に対して平行に延在するとともに素子基板２０から所定距離だけ離間している。成膜用基板３４は、平板状の外形を有し、上面３４ａ（他方面）および下面３４ｂ（一方面）を有する。成膜用基板３４は、透光性を有し、本実施形態では透明ガラスで構成されている。成膜用基板３４には、第１実施形態で示した素子基板２０の表示領域Ａ１と同様の表示領域Ａ１が設けられている。素子基板２０と成膜用基板３４との間は、公知の封止材料２４で充たされていてもよく、成膜用基板３４に発光表示部１２の封止層１８が接していてもよい。

第３実施形態において、一対の電極層１６Ａ、１６Ｂは、いずれも成膜用基板３４に対して平行に延在しており、有機ＥＬ発光層１４を介して互いに重ね合わされるように設けられている。一対の電極層１６Ａ、１６Ｂのうち、成膜用基板３４に近い方が陽極として機能する透明電極層１６Ａである。一対の電極層１６Ａ、１６Ｂのうち、成膜用基板３４から遠い方が陰極として機能する金属電極層１６Ｂであり、金属電極層１６Ｂは素子基板２０の上面２０ａ上に直接設けられている。封止層１８は、透明電極層１６Ａ上に形成されており、発光表示部１２の最上層を構成している。

第３実施形態に係る表示パネル１０Ｂにおいては、発光表示部１２の一対の電極層１６Ａ、１６Ｂ間に電圧が印加されると、有機ＥＬ発光層１４が発光し、その光が透明電極層１６Ａを介して成膜用基板３４の上面３４ａ側から図５の紙面上向きに出射される。

第３実施形態に係る表示装置１Ｂは、表示領域Ａ１を有する成膜用基板３４と、有機ＥＬ発光層１４を介して互いに重ね合わされた透明電極層１６Ａおよび金属電極層１６Ｂを有するとともに成膜用基板３４の下面３４ｂ側から成膜用基板３４の表示領域Ａ１の全体を覆う発光表示部１２と、成膜用基板３４の表示領域Ａ１の外縁に沿って表示領域Ａ１を囲み、かつ、成膜用基板３４の上面３４ａ側からの光を反射する反射膜３６とを備えている。

なお、封止基板２２を有しない表示装置１Ｂにおいても、封止基板２２を有する表示装置１Ａと同様に、表示領域Ａ１を囲む反射膜３６が、表示領域Ａ１を覆う発光表示部１２の金属電極層１６Ｂと同じように、成膜用基板３４の上面３４ａ側からの外光を反射させる。表示装置１Ｂは、表示領域Ａ１の輪郭の内側（すなわち、表示領域Ａ１）と外側（すなわち、周辺領域Ａ２）とにおいて同じように反射させることで、表示領域Ａ１の輪郭が視認されにくくなっている。

また、表示装置１Ｂでは、封止基板２２を有しないことで、表示領域Ａ１の反射面（金属電極層１６の反射面）と周辺領域Ａ２の反射面（すなわち、反射膜３６の反射面）が上下方向において近くなっているため、表示装置１Ａに比べて表示領域Ａ１の輪郭がより視認されにくくなっている。

また、表示装置１Ｂにおいては、封止基板２２を有しないため、部品点数の削減が図られており、それに伴い、表示装置の小型化（薄化）および製造コストの低減が図られている。

（第４実施形態）
第２実施形態に係る表示装置１Ａの構成において、成膜用基板３４を省略することができる。第４実施形態に係る表示装置１Ｃは、図６に示すように、第２実施形態に係る表示装置１Ａとは成膜用基板３４および接着材層３８が除かれた点のみ相異する。

表示装置１Ｃは、表示パネル１０Ｃと、マスク部３０Ｃとを備えて構成されている。表示パネル１０Ｃは、第２実施形態に係る表示パネル１０Ａと同じ構成を有する。マスク部３０Ｃは、減光フィルタ３１と、反射光除去フィルタ３２と、反射膜３６とを有しており、成膜用基板３４および接着材層３８を有しない。第４実施形態においては、反射膜３６は、封止基板２２の上面２２ａに直接成膜されている。すなわち、第２実施形態の成膜用基板３４を、封止基板２２で代用している。

第４実施形態に係る表示装置１Ｃは、表示領域Ａ１を有する封止基板２２と、有機ＥＬ発光層１４を介して互いに重ね合わされた透明電極層１６Ａおよび金属電極層１６Ｂを有するとともに封止基板２２の下面２２ｂ側から封止基板２２の表示領域Ａ１の全体を覆う発光表示部１２と、封止基板２２の表示領域Ａ１の外縁に沿って表示領域Ａ１を囲み、かつ、封止基板２２の上面２２ａ側からの光を反射する反射膜３６とを備えている。

成膜用基板３４を有しない表示装置１Ｃにおいても、成膜用基板３４を有する表示装置１Ａと同様に、表示領域Ａ１を囲む反射膜３６が、表示領域Ａ１を覆う発光表示部１２の金属電極層１６Ｂと同じように、封止基板２２の上面２２ａ側からの外光を反射させる。表示装置１Ｃは、表示領域Ａ１の輪郭の内側（すなわち、表示領域Ａ１）と外側（すなわち、周辺領域Ａ２）とにおいて同じように反射させることで、表示領域Ａ１の輪郭が視認されにくくなっている。

なお、表示装置１Ｂでは、成膜用基板３４を有しないことで、表示領域Ａ１の反射面（金属電極層１６の反射面）と周辺領域Ａ２の反射面（すなわち、反射膜３６の反射面）が上下方向において近くなっているため、表示装置１Ａに比べて表示領域Ａ１の輪郭がより視認されにくくなっている。

また、表示装置１Ｃにおいては、成膜用基板３４を有しないため、部品点数の削減が図られており、それに伴い、表示装置の小型化（薄化）および製造コストの低減が図られている。

（第５実施形態）
上述した第１実施形態〜第４実施形態はいずれも、発光表示部１２の形成領域が表示領域Ａ１と一致している態様であったが、発光表示部１２の形成領域が表示領域Ａ１より大きい態様であってもよい。

第５実施形態に係る表示装置１Ｄは、図７、８に示すように、反射膜３６と発光表示部１２とが重畳する重畳領域Ａ３を有する。重畳領域Ａ３は、より詳しくは、反射膜３６の内縁と発光表示部の外縁とが重なった矩形環状の領域である。そして、反射膜３６の上面３６ａにおける重畳領域Ａ３は、図８に示すように、反射抑止面４０となっている。反射抑止面４０は、反射膜３６における発光表示部１２側の面（すなわち、上面３６ａ）に設けられており、発光表示部１２の発光が反射膜３６において反射するのを抑制する。

反射抑止面４０は、一例として、反射膜３６の上面３６ａにおける重畳領域Ａ３に、油性マーカー等を用いて顔料インクを塗布して着色することで形成することができる。顔料インクの色は、黒色であってもよく、黒色以外であってもよい。反射抑止面４０は、他の一例として、反射膜３６の上面３６ａに形成された有色の薄膜等であってもよい。

発光表示部１２の形成領域が表示領域Ａ１よりわずかでも小さい場合には、発光表示部１２の形成領域と表示領域Ａ１との間の隙間により、表示領域Ａ１の輪郭が目立ち、意匠性の低下が招かれ得る。そのような意匠性の低下を回避するため、発光表示部１２の形成領域と表示領域Ａ１とは一致するように設計される、または、発光表示部１２の形成領域が表示領域Ａ１より大きくなるように設計される。発光表示部１２の形成領域と表示領域Ａ１とが一致した表示装置は、その製造時に高い位置決め精度が求められるため、発光表示部１２の形成領域を表示領域Ａ１より大きくした表示装置のほうが、製造が容易である。発光表示部１２の形成領域が表示領域Ａ１より大きい表示装置１Ｄにおいて、もし仮に反射抑止面４０が存在しない場合には、重畳領域Ａ３において、発光表示部１２の発光が反射膜３６の上面３６ａで反射する。この場合、反射膜３６における反射光により発光表示部１２上に光点が生じ、発光表示部１２に実際に発光表示されるイメージ（文字、図形等）とは別に、相似する反射イメージ（鏡像）が表示されてしまう。

表示装置１Ｄでは、反射抑止面４０により、反射膜３６の上面３６ａにおいて発光表示部１２の発光が反射する事態が抑止されており、反射イメージが表示されにくくなっている。

なお、反射膜３６は、上面３６ａにおける重畳領域Ａ３のみが反射抑止面４０であってもよく、上面３６ａの全体が反射抑止面４０であってもよい。

また、反射抑止面４０は、光学キャビティ構造によって実現してもよい。図９は、反射膜３６の反射抑止面４０が光学キャビティ構造である態様を示している。図９に示した光学キャビティ構造は、反射膜３６の上面３６ａに設けられた導光層４２および半反射膜４４を有し、半反射膜４４側から取り込んだ光を反射膜３６と半反射膜４４との間に閉じ込める。

半反射膜４４は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｍｏ、Ｃｒ等の金属、または、これらの合金で構成することができる。半反射膜４４は、半反射（すなわち、光の一部が反射し、一部が透過する）が生じ得る厚さに設計されており、たとえばＡｌで構成されている場合には約３０〜７０Åである。導光層４２は、たとえば有機材料で構成された有機材料層である。導光層４２は、その厚さｔを調整することで、発光表示部１２の発光スペクトルの全てを光学キャビティ構造に閉じ込めることができる。ここで、光学キャビティ構造においては、２×ｔ×ｎ（ｔ：導光層４２の厚さ、ｎ：導光層４２の屈折率）の整数倍の波長の光のみが共振されて外部に出力される。したがって、発光表示部１２の有機ＥＬ発光層１４の発光が単色の白色光である場合には、導光層４２の厚さｔが７０ｎｍ以上となるように設計することで、発光表示部１２の発光スペクトルの全てを光学キャビティ構造に閉じ込めることができる。

なお、本発明は、上述した実施形態に限らず、様々に変形することができる。たとえば、表示領域の平面形状は、矩形状に限らず、円形状、楕円形状、多角形状であってもよい。

１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ…表示装置、１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ…表示パネル、１２…発光表示部、１４…有機ＥＬ発光層、１６Ａ…透明電極層、１６Ｂ…金属電極層、２０…素子基板、２２…封止基板、３０、３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ…マスク部、３２…反射光除去フィルタ、３４…成膜用基板、３６…反射膜、４０…反射抑止面、Ａ１…表示領域、Ａ２…周辺領域、Ａ３…重畳領域。

Claims (6)

1. 透光性を有し、表示領域を有する基板と、
   前記基板に対して平行に延在するとともに発光層を介して互いに重ね合わされた透明電極層および金属電極層を有し、前記透明電極層が前記金属電極層よりも前記基板に近い側に位置し、かつ、前記基板の一方面側から前記表示領域の全体を覆う発光表示部と、
   前記基板の前記表示領域の外縁に沿って前記表示領域を囲み、かつ、前記基板の他方面側からの光を反射する反射膜と
   を備える、表示装置。
2. 前記基板の他方面を覆う反射光除去フィルタをさらに備える、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記基板の他方面を覆う減光フィルタをさらに備える、請求項２に記載の表示装置。
4. 前記反射膜が、前記金属電極層と同じ反射率を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の表示装置。
5. 前記反射膜が、前記金属電極層と同じ金属材料で構成されている、請求項４に記載の表示装置。
6. 前記反射膜の内縁において、前記反射膜と前記発光表示部とが重畳する重畳領域を有し、
   前記反射膜の前記発光表示部側の面のうちの少なくとも前記重畳領域が、前記発光表示部の光の反射を抑制する反射抑止面である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の表示装置。

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