JP6731748B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

本発明は表示装置に関し、特に、有機ＥＬ等の発光素子を画素に用いた表示装置に関する。

有機ＥＬ表示装置には、発光層から出る光の波長に合わせて反射層と半透明反射層との距離が設定されたマイクロキャビティ構造を有しているものがある。多くの場合、反射層と半透明反射層は電極を構成し、反射層と半透明反射層との間に発光層が形成されている。発光層から出た光は半透明反射層と反射層との間で反射を繰り返す。そして、光路長に合致した波長を有する光が強調されて、半透明反射層を透過する。このようなマイクロキャビティ構造によると、色純度や発光効率を向上できる。

また、有機ＥＬ表示装置には、赤画素、緑画素、及び青画素などの有彩色画素に加えて、白画素を有するものがある。白画素を利用することにより、画像の輝度を向上でき、また消費電力を低減できる。

マイクロキャビティ構造によると特定の波長の光だけが強調される。そのため、白画素においてマイクロキャビティ構造を利用すると、白画素から適切な白色光が得られなくなるので、マイクロキャビティ構造は白画素には適さない。この点、特許文献１の表示装置では、有彩色の画素にマイクロキャビティ構造が設けられ、白画素には半透明反射層が設けられない（すなわち、白画素にはマイクロキャビティ構造が設けられていない）。このような表示装置によれば、白画素によるメリットと、有彩色の画素に設けられたマイクロキャビティ構造によるメリットの双方を得ることができる。

特開２０１１−１６５６６４号公報

ところが、特許文献１の構造を実現するためには、白画素に半透明反射層が形成されないように、半透明反射層を白画素の配置に合わせてパターニングする必要が生じる。このことは、表示装置の製造コストの増大につながる。

本発明の目的の一つは、製造コストの増大を抑えながら、マイクロキャビティ構造のメリットを得ることができ、且つ白画素のメリットの双方を得ることのできる表示装置を提供することにある。

（１）本発明に係る表示装置は、白色で発光する白画素と、互いに異なる複数の有彩色でそれぞれ発光する複数の有彩色画素と、前記白画素と前記複数の有彩色画素とに設けられている第１反射層と、前記白画素と前記複数の有彩色画素とに設けられ、前記第１反射層と向き合っている第２反射層とを有している。第１の色で発光する前記有彩色画素と、第２の色で発光する前記有彩色画素とでは、前記第１反射層と前記第２反射層との間の距離が異なっている。前記白画素における前記第１反射層と前記第２反射層との間の距離は、前記複数の有彩色画素における前記第１反射層と前記第２反射層との間の距離の最大よりも大きい。

この表示装置によれば、白画素における第１反射層と第２反射層との間の距離が、複数の有彩色画素における第１反射層と第２反射層との間の距離の最大よりも大きい。そのため、白画素において光の干渉が生じることを抑えることができ、その結果、白画素の発光色を適切化でき、白画素のメリットを得ることができる。また、第１の色で発光する有彩色画素と、第２の色で発光する有彩色画素とでは、第１反射層と第２反射層との間の距離が異なっているので、マイクロキャビティ構造を実現でき、マイクロキャビティ構造のメリットを得ることができる。さらに、第２反射層は有彩色画素と白画素の双方に形成されているので、白画素の配置に合わせて第２反射層をパターニングする必要がなくなる。その結果、製造コストの増大を抑えることができる。

（２）（１）の表示装置において、前記白画素と前記複数の有彩色画素は、前記発光層と前記第２反射層との間に、電極を構成する透明導電層を有し、前記白画素は前記透明導電層と前記第２反射層との間に光路長調整層を有してもよい。このような光路長調整層によれば、例えば透明導電層の厚さを大きくすることで第１反射層と第２反射層との距離を確保することに比べて、第１反射層と第２反射層との距離の確保が容易となる。

（３）（２）の表示装置において、前記光路長調整層は樹脂で形成されてもよい。これによれば、光路長調整層の形成を容易化できる。例えば、光路長調整層をインクジェット法によって形成できるので、光路長調整層の形成を容易化できる。

（４）（２）の表示装置において、前記光路長調整層の厚さは２μｍ以上でもよい。こうすることによって、白画素において光の干渉が生じることを、効果的に抑えることができる。

（５）（２）の表示装置において、前記光路長調整層は前記複数の有彩色画素と前記白画素のうち前記白画素にだけ設けられてもよい。

（６）（２）の表示装置において、前記光路長調整層は前記複数の有彩色画素と前記白画素とに設けられてもよい。そして、前記白画素における前記光路長調整層の厚さは、前記複数の有彩色画素における前記光路長調整層の厚さの最大よりも大きくてもよい。これによれば、有彩色画素においては、発光層から第２反射層までの距離を光路長調整層によって最適化できる。また、白画素において光の干渉が生じることを、白画素の光路長調整層によって抑えることができる。

（７）（２）の表示装置において、前記第２反射層は半透明反射層であり、前記光路長調整層は前記透明導電層と前記半透明反射層との間に形成されてもよい。

本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の一例を示す平面図である。 図１のＩＩ−ＩＩ線で示される切断面で得られる断面図である。 光路長調整層の厚さと発光効率との関係を表すグラフである。 表示パネルの回路層に形成されている回路の一例を説明するための図である。 本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の他の例を示す断面図である。

以下、本発明の一実施形態について説明する。本明細書では表示装置の一例として、有機ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）を発光素子として有する有機ＥＬ表示装置について説明する。

図１は本発明の実施形態の一例である有機ＥＬ表示装置１を示す平面図である。図２は図１のＩＩ−ＩＩ線で示される切断面で得られる断面図である。以下の説明において「上方向」は表示パネル３から対向基板２０に向かう方向である。反対に、以下の説明において「下方向」は対向基板２０から表示パネル３に向かう方向である。

本明細書での開示は本発明に係る実施形態の一例に過ぎず、発明の主旨を保った範囲での適宜の変更は、本発明の範囲に含まれる。また、図面において示されている各部の幅、厚さ、形状等は一例であり、図面に表れている各部の幅や厚さ、形状等は本発明の範囲を限定するものではない。

また、本明細書において、「構造体Ａが構造体Ｂの上に配置されている」と記載した場合、特に断りの無い限り、その記載は、構造体Ａに接するように構造体Ａの直上に構造体Ｂが配置される形態と、構造体Ａの上方に、別の構造体を介して、構造体Ｂが配置される形態の両方を含む。例えば、後述する「基板３０上に形成されている回路層３１」との記載は、基板３０に接するように基板３０の直上に配置されている回路層と、基板３０上に配置されている１又は複数の別の層の上に配置されている回路層の双方を含む。

図１及び図２に示すように、有機ＥＬ表示装置１は白色で発光する白画素ＰＷと、互いに異なる複数の有彩色でそれぞれ発光する複数の有彩色画素とを有している。表示装置１の例では、有彩色画素として赤画素ＰＲと、緑画素ＰＧと、青画素ＰＢとが設けられている。有彩色画素の色はここで説明する例に限られない。また、図１及び図２の例では白画素と有彩色画素は横方向に並んでいるが、画素の配置はこれらの図に示す例に限られない。

図２に示すように、表示装置１は表示パネル３を有している。表示パネル３の基板３０には積層構造Ａが形成されている。基板３０はガラス基板でもよいし、アクリルなどの樹脂基板でもよい。積層構造Ａは基板３０上に形成されている回路層３１を有している。回路層３１には各画素の発光を制御する回路が形成されている。回路層３１に形成されている回路の例については後において説明する。

図２に示すように、積層構造Ａは複数の画素のそれぞれに形成されている画素電極３２を有している。表示装置１の例では、画素電極３２は透明導電層３２ａと、透明導電層３２ａ上に形成されている反射層３２ｂと、反射層３２ｂ上に形成されている透明導電層３２ｃとを有している（反射層３２ｂは請求項の「第１反射層」に対応している）。透明導電層３２ａ、３２ｃは例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）や、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電材料によって形成される。反射層３２ｂは例えばＡｇなどの金属によって形成される。反射層３２ｂは後述する半透明反射層よりも光透過性の低い、言い換えれば不透明な反射層である。画素電極３２は必ずしも透明導電層３１ａを有していなくてもよい。

図２に示すように、画素電極３２上にはバンク層３３が形成されている。バンク層３３は隣接する２つの画素を区画するバンク３３ａを含んでいる。バンク３３ａは各画素電極３２の外周部に重なっている。バンク３３ａの内側の開口を通して画素電極３２は露出している。

図２に示すように、バンク３３ａと画素電極３２とを覆うように有機層３４が形成されている。有機層３４は発光層を有している。また、有機層３４は電荷注入層（ホール注入層、電子注入層）と、電荷輸送層（ホール輸送層、電子輸送層）とを有してもよい。表示装置１の例では、有機層３４の発光層は表示パネル３の表示領域の全体に亘って共通に設けられ、白色光を発するように構成される。例えば、赤色光を出す発光層と、緑色光を出す発光層と、青色光を出す発光層とを積層して構成してもよい。他の例では、有機層３４の発光層は、各画素の色で発光するように構成されてもよい。例えば、赤画素ＰＲの発光層は赤色光を発するように構成され、緑画素ＰＧの発光層は緑色光を発するように構成され、青画素ＰＢの発光層は青色光を発するように構成されてもよい。この場合、有機層３４の他の層（すなわち電荷注入層や電荷輸送層）は表示領域の全体に亘って共通に設けられてもよい。

図２に示すように、有機層３４上には共通電極３５が形成されている。共通電極３５は透明導電層３５ａと半透明反射層３５ｂとを有している（半透明反射層３５ｂは請求項の「第２反射層」に対応している）。共通電極３５は複数の画素に亘って共通に設けられている。すなわち、透明導電層３５ａと半透明反射層３５ｂのそれぞれは、複数の画素（例えば、表示領域の全画素）に亘って連続的に形成されている。透明導電層３５ａは例えばＩＴＯやＩＺＯなどの透明導電材料によって形成される。半透明反射層３５ｂは、半透明反射層３５ｂに入射する光の一部を透過し、残りを反射層３２ｂに向けて反射する。半透明反射層３５ｂの材料は例えばＭｇとＡｇの合金である。共通電極３５は、水分が有機層３４に浸透するのを防ぐためのバリア層によって覆われてもよい。

図２に示すように、白画素ＰＷにおいては、半透明反射層３５ｂと透明導電層３５ａとの間に、後において詳説する光路長調整層３５Ｗが設けられている。有彩色画素（表示装置１の例では、画素ＰＲ、ＰＧ、ＰＢ）には光路長調整層３５Ｗは設けられておらず、有彩色画素では半透明反射層３５ｂは透明導電層３５ａに接している。半透明反射層３５ｂは好ましくは導電性を有する材料で形成される。このことによって、共通電極３５の抵抗を下げることができる。

図２に示すように、表示装置１は表示パネル３と向き合うように配置される対向基板２０を有している。表示装置１の例では、対向基板２０にはカラーフィルタ２１が形成されている。カラーフィルタ２１の位置と色は各画素の位置及び色にそれぞれ対応している。白画素ＰＷにはカラーフィルタ２１が設けられていなくてもよい。白画素ＰＷには、着色されていないカラーフィルタ２１が設けられてもよい。また、有機層３４の発光層が各画素の色で発光するように形成されている構造においては、対向基板２０にカラーフィルタ２１は形成されていなくてもよい。表示パネル３と対向基板２０との間には充填材３６が配置されている。

上述したように、複数の有彩色画素のそれぞれは画素電極３２に反射層３２ｂを有している。また、これらの画素には反射層３２ｂに向き合う半透明反射層３５ｂが形成されている。有機層３４の発光層は反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの間に形成されている。したがって、発光層から出た光は反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとで反射を繰り返す。そして、その光は半透明反射層３５ｂを透過し、さらにカラーフィルタ２１を透過して外部に出る。

半透明反射層３５ｂと反射層３２ｂは、有彩色画素においてはマイクロキャビティ構造を構成している。すなわち、半透明反射層３５ｂと反射層３２ｂとの間の距離は各有彩色画素の色の光の波長に応じて設定されている。そのことによって、有機層３４の発光層から出る光が半透明反射層３５ｂと反射層３２ｂとで反射を繰り返し、干渉を生じる。したがって、第１の色で発光する有彩色画素と、第２の色で発光する有彩色画素とでは、半透明反射層３５ｂと反射層３２ｂとの間の距離が互いに異なっている。表示装置１の例では、赤画素ＰＲでの半透明反射層３５ｂと反射層３２ｂとの間の距離と、緑画素ＰＧでの半透明反射層３５ｂと反射層３２ｂとの間の距離と、青画素ＰＢでの半透明反射層３５ｂと反射層３２ｂとの間の距離は互いに異なっている。表示装置１の例では、図２に示すように画素電極３２の透明導電層３２ｃの厚さが、各有彩色画素の色の光の波長に応じて調整されている。赤画素ＰＲの透明導電層３２ｃの厚さｔｒと、緑画素ＰＧの透明導電層３２ｃの厚さｔｇと、青画素ＰＢの透明導電層３２ｃの厚さｔｂは各画素の色に応じて設定され、ｔｒ＞ｔｇ＞ｔｂの関係を有している。

図２に示すように、半透明反射層３５ｂは白画素ＰＷにも形成されている。半透明反射層３５ｂは白画素ＰＷと有彩色画素に亘って連続的に設けられている。そのため、画素の配置に合わせて半透明反射層３５ｂをパターニングする必要がなく、半透明反射層３５ｂの形成にファインマスクを利用する必要がない。その結果、表示装置１の製造コストの増大を抑えることができる。

白画素ＰＷでは、反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの間の距離がマイクロキャビティ効果を生じないように設定されている。より具体的には、白画素ＰＷにおける反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの間の距離は、有彩色画素における反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの間の距離の最大よりもさらに大きい。表示装置１の例では、有彩色画素として、赤画素ＰＲと、緑画素ＰＧと、青画素ＰＢとが形成されている。赤画素ＰＲにおける反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの距離が、３色の画素における反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの距離において最大となっている。したがって、白画素ＰＷにおける反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの間の距離は、白画素ＰＷにおいて光の干渉が生じないように、赤画素ＰＲにおける反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの間の距離よりも大きくなっている。

図２に示すように、表示装置１の例では、白画素ＰＷは、共通電極３５を構成している透明導電層３５ａと半透明反射層３５ｂとの間に、光路長調整層３５Ｗを有している。光路長調整層３５Ｗは透明な材料で形成され、白画素ＰＷを取り囲むバンク３３ａの内側に位置している。光路長調整層３５Ｗは、有機層３４の発光層からでる光の全成分（表示装置１の例では、赤色光成分、緑色光成分、青色光成分）について光の干渉が生じないように、反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂとの間に十分な距離を確保している。こうすることによって、白画素ＰＷを適切な白色で発光させることができる。

光路長調整層３５Ｗの厚さは、例えば２．０μｍ以上であり、好ましくは２．５μｍ以上である。光路長調整層３５Ｗの厚さは、さらに好ましくは３．０μｍ以上である。このような厚さの光路長調整層３５Ｗによれば、有機層３４の発光層から出る光の全成分について光の干渉が生じることを抑えることができ、適切な白色光で白画素を発光させることができる。表示装置１は、有機層３４の発光層は赤色光と、緑色光と、青色光とが出るように構成され、それらが混ざることによって白色光を形成している。上述したような厚さの光路長調整層３５Ｗによれば、赤色光と、緑色光と、青色光とのいずれについても、光の干渉が生じることを抑えることができ、その結果、白画素ＰＷを適切な白色で発光させることができる。

図３は赤色光と、緑色光と、青色光とについて、光路長調整層３５Ｗの厚さと発光効率との関係を表すグラフである。この図において、横軸は光路長調整層３５Ｗの厚さを示し、縦軸は発光効率を示している。発光効率は光路長調整層３５Ｗの厚さを０とした場合の発光効率を１とし、規格化している。破線Ａは赤色光についての線であり、実線Ｂは緑色光についての線であり、一点鎖線Ｃは青色光についての線である。

図３に示すように、光路長調整層３５Ｗの厚さが１．０μｍ以下の領域では、いずれの色についても発光効率は大きな振幅を有している。また、各色の発光効率の変化の周期は互いに異なっている。したがって、光路長調整層３５Ｗの厚さが１．０μｍ以下の領域では、全ての色を一様に強調する膜厚、すなわち、白色光が実現するように各色の強度を強調する膜厚を選ぶことは難しい。言い換えれば、光路長調整層３５Ｗをある厚さに設定したとき、一部の色の強度が他の色の強度に比べて極端に強くなるという状態が生じ易い。一方、光路長調整層３５Ｗの厚さが２．０μｍ以上の領域では、可視光領域の光の波長に比べて、光路長調整層３５Ｗの厚さが十分に厚いため、いずれの色についても発光効率の振幅は小さい。全ての色について光の干渉を生じないようにすることが容易となる。すなわち、白色光が実現するように各色の強度を適切化することが容易となる。したがって、光路長調整層３５Ｗの厚さは例えば２．０μｍ以上とすることが好ましい。図４に示すように、光路長調整層３５Ｗの厚さが２．５μｍ以上の領域では、いずれの色についても発光効率の振幅はさらに小さくなる。光路長調整層３５Ｗの厚さが３．０μｍ以上の領域では、発光効率の振幅はさらに小さくなる。したがって、光路長調整層３５Ｗの厚さは好ましくは２．５μｍ以上であり、さらに好ましくは３．０μｍ以上である。光路長調整層３５Ｗの厚さをこのように設定する場合、図２に示すように、光路長調整層３５Ｗの上面の高さは、バンク３３ａの上面の高さと同じか、バンク３３ａの上面の高さよりも高くてもよい。

表示装置１の例では、図２に示すように、光路長調整層３５Ｗは白画素ＰＷにだけ設けられ、有彩色画素には設けられていない。このような光路長調整層３５Ｗは、例えばインクジェット法によって形成され得る。こうすることによって、大きな厚さを有する光路長調整層３５Ｗを白画素にだけ形成することが、比較的容易となる。

表示装置１の例では、光路長調整層３５Ｗは樹脂などの絶縁材料によって形成される。例えば、光路長調整層３５Ｗはアクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂によって形成される。光路長調整層３５Ｗは、膜厚を厚くしても十分な透過率が得られるよう、透明度の高い材料が好ましい。光路長調整層３５Ｗは透明な導電材料によって形成されてもよい。例えば、光路長調整層３５Ｗは溶液型ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）によって形成されてもよい。この場合でも、インクジェット法によって溶液型ＩＴＯを白画素にだけ設けることができる。

図４は回路層３１に形成される回路の例を示す図である。図４に示すように、回路層３１は、各画素に形成されている画素回路３１Ａを有している。画素回路３１Ａは複数のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）３１ａ，３１ｂや、キャパシタ３１ｃを有している。また、回路層３１には、Ｘ方向に伸びている走査信号線３１Ｂと、Ｙ方向に伸びている映像信号線３１Ｃと、Ｙ方向に伸びている駆動電源線３１Ｄとが形成されている。走査信号線３１ＢはＹ方向に並んでいる複数の画素行のそれぞれに設けられている。映像信号線３１ＣはＸ方向に並んでいる複数の画素列のそれぞれに設けられている。走査信号線３１Ｂは走査線駆動回路（不図示）によって順番に選択される。選択された走査信号線３１ＢにはスイッチングＴＦＴ３１ａをオンする電圧が印加される。映像信号線３１Ｃには、選択された走査信号線３１Ｂに接続された画素の映像信号に応じた電圧が加えられる。この電圧はスイッチングＴＦＴ３１ａを介してキャパシタ３１ｃに加えられる。駆動ＴＦＴ３１ｂはキャパシタ３１ｃに加えられた電圧に応じた電流をＯＬＥＤ３ａに供給する。これにより、選択された走査信号線３１Ｂに対応する画素のＯＬＥＤ３ａが発光する。ＯＬＥＤ３ａは上述した画素電極３２、有機層３４、及び共通電極３５によって構成される。駆動電源線３１Ｄ及び駆動ＴＦＴ３１ｂを介してＯＬＥＤ３ａに電流が供給される。ＯＬＥＤ３ａの陽極（表示装置１の例では画素電極３２）は駆動ＴＦＴ３１ｂに接続される。一方、各ＯＬＥＤ３ａの陰極（表示装置１の例では共通電極３５）は接地電位に接続されている。

図５は有機ＥＬ表示装置１の変形例を示す図である。この図では、変形例として、有機ＥＬ表示装置１００の断面が示されている。図５では、これまで説明した箇所と同一の箇所には同一符合を付している。表示装置１００について説明のない事項は、表示装置１と同様である。

表示装置１００では、白画素だけでなく、有彩色画素にも光路長調整層が設けられている。具体的には、赤画素ＰＲと緑画素ＰＧと青画素ＰＢには、光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂがそれぞれ設けられている。光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂは、白画素ＰＷの光路長調整層３５Ｗと同様に、透明導電層３５ａと半透明反射層３５ｂとの間に形成されている。光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂは各画素のバンク３３ａの内側に形成され、バンク３３ａの上側には形成されていない。そのため、バンク３３ａの上側では、透明導電層３５ａと半透明反射層３５ｂは互いに接触している。これによって、共通電極３５の抵抗を下げることができる。

表示装置１００においても、半透明反射層３５ｂと反射層３２ｂは、有彩色画素においてはマイクロキャビティ構造を構成している。表示装置１００の例では、光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂの厚さは、各有彩色画素の発光色の波長に応じて調整されている。すなわち、赤画素ＰＲの光路長調整層３５Ｒの厚さは有機層３４の発光層から出る赤色光成分の波長に応じて設定されている。緑画素ＰＧの光路長調整層３５Ｇの厚さは、有機層３４の発光層から出る緑色光成分の波長に応じて設定され、青画素ＰＢの光路長調整層３５Ｂの厚さは、青色光成分の波長に応じて設定されている。光路長調整層３５Ｒの厚さをＴｒとし、光路長調整層３５Ｇの厚さをＴｇとし、光路長調整層３５Ｂの厚さをＴｂとしたとき、これらはＴｒ＞Ｔｇ＞Ｔｂの関係を有している。この構造によると、表示装置１の構造に比べて、有機層３４の発光層から半透明反射層３５ｂまでの距離を適切化できる。表示装置１００においては、図５に示すように有彩色画素の透明導電層３２ｃの厚さは均等でもよいし、図２の例と同様に、各有彩色画素の発光色の波長に応じて調整されてもよい。

光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂは、白画素ＰＷの光路長調整層３５Ｗと同様に、例えばインクジェット法によって形成され得る。こうすることによって、厚さの異なる光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂを各画素に形成することが、比較的容易となる。

光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂは、白画素ＰＷの光路長調整層３５Ｗと同様に、樹脂などの絶縁材料によって形成される。例えば、光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂはアクリル樹脂などの樹脂によって形成される。

表示装置１００においても、白画素ＰＷには光路長調整層３５Ｗが設けられている。そして、光路長調整層３５Ｗの厚さは、有機層３４の発光層からでる光の全成分（表示装置１の例では、赤色光成分、緑色光成分、青色光成分）について光の干渉が生じないように、設定されている。具体的には、光路長調整層３５Ｗの厚さは、有彩色画素の光路長調整層３５Ｒ、３５Ｇ、３５Ｂの厚さの最大よりも大きい。表示装置１００の例では、光路長調整層３５Ｗの厚さは、赤画素ＰＲの光路長調整層３５Ｒの厚さＴｒよりも大きい。

本発明は以上説明した実施形態に限られず、種々の変更が可能である。

例えば、本明細書ではトップエミッション方式の表示装置１、１００が説明されていた。しかしながら、本発明はボトムエミッション方式の表示装置に適用されてもよい。この場合、画素電極３２に半透明反射層が設けられ、共通電極３５に反射層（不透明な反射層）が設けられてもよい。この場合でも、白画素ＰＷの光路長調整層３５Ｗは例えば共通電極に設けられる。すなわち、白画素ＰＷの光路長調整層３５Ｗは共通電極の反射層と透明導電層との間に形成される。

また、反射層３２ｂと半透明反射層３５ｂは必ずしも電極を構成していなくてもよい。例えば、共通電極３５を構成している透明導電層３５ａの上側の全体に絶縁層が形成され、その絶縁層の上側に半透明反射層３５ｂが形成されてもよい。また、反射層３２ｂの上側に絶縁層が形成され、その絶縁層の上側に、画素電極３２を構成する透明導電層３２ｃが形成されてもよい。

また、本発明は有機ＥＬ表示装置以外の表示装置に適用されてもよい。例えば、本発明は、有機層３４の発光層に替えて、量子ドットによって形成される発光層を有する表示装置に適用されてもよい。

１，１００ 有機ＥＬ表示装置、 １ 表示装置、３０ 基板、３１ 回路層、３２ 画素電極、３２ａ 透明導電層、３２ｂ 反射層、３２ｃ 透明導電層、３３ バンク層、３３ａ バンク、３４ 有機層、３５ 共通電極、３５ａ 透明導電層、３５ｂ 半透明反射層、３５Ｂ，３５Ｇ，３５Ｒ，３５Ｗ 光路長調整層、３６ 充填材。

Claims (4)

1. 白色で発光する白画素と、
   互いに異なる複数の有彩色でそれぞれ発光する複数の有彩色画素と、
   前記白画素と前記複数の有彩色画素とに設けられている第１反射層と、
   前記白画素と前記複数の有彩色画素とに設けられ、前記第１反射層と向き合っている第２反射層と、
   前記白画素と前記複数の有彩色画素とにおいて、前記第１反射層と前記第２反射層との間に設けられ、発光層を含む有機層と、
   前記白画素と前記複数の有彩色画素とにおいて、前記有機層と前記第２反射層との間に設けられる透明導電層と、
   前記白画素のみにおいて、前記透明導電層と前記第２反射層との間に設けられた光路長調整層と、を有し、
   前記第２反射層は半透明反射層であり、
   前記発光層からの光は前記第２反射層を透過して取り出され、
   第１の色で発光する前記有彩色画素と、第２の色で発光する前記有彩色画素とでは、前記第１反射層と前記第２反射層との間の距離が異なり、
   前記白画素における前記第１反射層と前記第２反射層との間の距離は、前記複数の有彩色画素における前記第１反射層と前記第２反射層との間の距離の最大よりも大きい
   ことを特徴とする表示装置。
2. 前記光路長調整層は樹脂で形成されている
   ことを特徴とする請求項１に記載される表示装置。
3. 前記光路長調整層の厚さは２μｍ以上である
   ことを特徴とする請求項１に記載される表示装置。
4. 前記第１反射層と前記有機層との間に設けられた第２透明導電層をさらに有し、
   前記第２透明導電層の下面と、前記第１反射層の上面とが接する
   ことを特徴とする請求項１に記載される表示装置。

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