JP2021133433A - Dresser board - Google Patents
Dresser board Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021133433A JP2021133433A JP2020028977A JP2020028977A JP2021133433A JP 2021133433 A JP2021133433 A JP 2021133433A JP 2020028977 A JP2020028977 A JP 2020028977A JP 2020028977 A JP2020028977 A JP 2020028977A JP 2021133433 A JP2021133433 A JP 2021133433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting blade
- dresser board
- dressing layer
- cutting
- dressing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 139
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 66
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
- B24B53/12—Dressing tools; Holders therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B3/00—Sharpening cutting edges, e.g. of tools; Accessories therefor, e.g. for holding the tools
- B24B3/36—Sharpening cutting edges, e.g. of tools; Accessories therefor, e.g. for holding the tools of cutting blades
- B24B3/46—Sharpening cutting edges, e.g. of tools; Accessories therefor, e.g. for holding the tools of cutting blades of disc blades
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B27/00—Other grinding machines or devices
- B24B27/06—Grinders for cutting-off
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D7/00—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor
- B24D7/02—Wheels in one piece
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D7/00—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor
- B24D7/18—Wheels of special form
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
本発明は、被加工物を切削する切削ブレードをドレッシングするためのドレッサーボードに関する。 The present invention relates to a dresser board for dressing a cutting blade that cuts a workpiece.
IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイスが複数形成されたウェーハを分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが製造される。また、複数のデバイスチップを所定の基板上に実装した後、実装されたデバイスチップを樹脂でなる封止材(モールド樹脂)で被覆することにより、パッケージ基板が得られる。このパッケージ基板を分割することにより、パッケージ化された複数のデバイスチップを備えるパッケージデバイスが製造される。デバイスチップやパッケージデバイスは、携帯電話、パーソナルコンピュータ等の様々な電子機器に搭載される。 By dividing a wafer in which a plurality of devices such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integration) are formed, a plurality of device chips including the devices are manufactured. Further, a package substrate can be obtained by mounting a plurality of device chips on a predetermined substrate and then coating the mounted device chips with a sealing material (mold resin) made of a resin. By dividing the package substrate, a package device including a plurality of packaged device chips is manufactured. Device chips and packaged devices are mounted on various electronic devices such as mobile phones and personal computers.
上記のウェーハ、パッケージ基板等の被加工物を分割する際には、被加工物を保持する保持テーブルと、被加工物を切削する環状の切削ブレードが装着されるスピンドル(回転軸)とを備える切削装置が用いられる。切削ブレードをスピンドルに装着して回転させ、保持テーブルによって保持された被加工物に切り込ませることにより、被加工物が切削され、分割される。 When dividing a work piece such as a wafer or a package substrate, a holding table for holding the work piece and a spindle (rotary shaft) on which an annular cutting blade for cutting the work piece is mounted are provided. A cutting device is used. The work piece is cut and divided by mounting the cutting blade on the spindle, rotating it, and cutting it into the work piece held by the holding table.
切削ブレードによって被加工物を加工する際には、切削ブレードの形状の修正や切削ブレードの切れ味の確保等を目的として、切削ブレードの先端部を意図的に摩耗させるドレッシングが実施される。例えばドレッシングは、切削ブレードをドレッシングするための部材(ドレッサーボード)を切削装置の保持テーブルによって保持し、切削ブレードをドレッサーボードに切り込ませることによって行われる(特許文献1参照)。 When machining an workpiece with a cutting blade, dressing is performed to intentionally wear the tip of the cutting blade for the purpose of correcting the shape of the cutting blade and ensuring the sharpness of the cutting blade. For example, dressing is performed by holding a member (dresser board) for dressing a cutting blade by a holding table of a cutting device and cutting the cutting blade into the dresser board (see Patent Document 1).
切削ブレードは、砥粒と、砥粒を固定する結合材とを含んで構成される。ドレッシングを実施すると、結合材がドレッサーボードと接触して摩耗し、切削ブレードの形状がスピンドルと同心状に整えられるとともに(真円出し)、砥粒が結合材から適度に露出する(目立て)。このようにドレッシングが施された切削ブレードを用いることにより、被加工物の加工の精度が向上する。 The cutting blade is composed of an abrasive grain and a binder for fixing the abrasive grain. When dressing is performed, the binder comes into contact with the dresser board and wears, the shape of the cutting blade is adjusted concentrically with the spindle (rounding), and the abrasive grains are appropriately exposed from the dressing (sharpening). By using the cutting blade dressed in this way, the processing accuracy of the workpiece is improved.
ドレッサーボードは、パーティクル(微粒子、塵等)を発生させやすい性質をもつ。具体的には、ドレッサーボードは、切削ブレードと接触して切削ブレードを摩耗させる砥粒と、砥粒を固定する結合材とを含んで構成される。そして、砥粒や結合材の一部がドレッサーボードから分離して、パーティクルとなることがある。 The dresser board has the property of easily generating particles (fine particles, dust, etc.). Specifically, the dresser board is composed of an abrasive grain that comes into contact with the cutting blade and wears the cutting blade, and a binder that fixes the abrasive grain. Then, a part of the abrasive grains and the binder may be separated from the dresser board and become particles.
例えば、ドレッサーボードの出荷の際等に、ドレッサーボードに衝撃が加わったり、ドレッサーボード同士が衝突したりすると、ドレッサーボードの表面で砥粒の脱落が生じたり、砥粒の脱落によってドレッサーボードの表面に生じた凹凸を起点として結合材の一部が剥がれたりする。この場合、ドレッサーボードから分離された砥粒や結合材の一部がパーティクルとなり、ドレッサーボードの表面に付着する。 For example, when the dresser board is shipped, if an impact is applied to the dresser board or the dresser boards collide with each other, the abrasive grains may fall off on the surface of the dresser board, or the surface of the dresser board may fall off due to the fall off of the abrasive grains. A part of the binder may be peeled off from the unevenness generated on the commode. In this case, some of the abrasive grains and binder separated from the dresser board become particles and adhere to the surface of the dresser board.
ドレッサーボードの表面にパーティクルが存在すると、切削ブレードのドレッシングを実施するためにドレッサーボードを切削装置に搬送する際に、パーティクルが飛散する。これにより、切削装置の内部や、切削装置が設置されているクリーンルームが汚染されるという問題がある。 The presence of particles on the surface of the dresser board causes the particles to scatter when the dresser board is transported to the cutting device for dressing the cutting blade. As a result, there is a problem that the inside of the cutting device and the clean room in which the cutting device is installed are contaminated.
本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、パーティクルの飛散を防止することが可能なドレッサーボードの提供を目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a dresser board capable of preventing scattering of particles.
本発明の一態様によれば、切削ブレードをドレッシングするためのドレッサーボードであって、結合材によって固定された砥粒を含み、第1面及び第2面を備えるドレッシング層と、該ドレッシング層の該第1面側及び該第2面側に設けられ、該ドレッシング層からのパーティクルの飛散を防止する飛散防止膜と、を備えるドレッサーボードが提供される。 According to one aspect of the present invention, a dressing layer for dressing a cutting blade, including abrasive grains fixed by a binder, and having first and second surfaces, and the dressing layer. A dresser board provided on the first surface side and the second surface side and provided with an anti-scattering film for preventing scattering of particles from the dressing layer is provided.
なお、好ましくは、該飛散防止膜は、非水溶性の樹脂膜である。 The shatterproof film is preferably a water-insoluble resin film.
本発明の一態様に係るドレッサーボードは、ドレッシング層の第1面側及び第2面側にそれぞれ設けられた飛散防止膜を備える。これにより、ドレッシング層からのパーティクルの飛散が防止され、切削装置、クリーンルーム等の汚染が抑制される。 The dresser board according to one aspect of the present invention includes shatterproof films provided on the first surface side and the second surface side of the dressing layer, respectively. As a result, the scattering of particles from the dressing layer is prevented, and contamination of the cutting device, clean room, etc. is suppressed.
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。まず、本実施形態に係るドレッサーボードの構成例について説明する。本実施形態に係るドレッサーボードは、被加工物を切削する切削ブレードのドレッシングに用いられる。切削ブレードは、被加工物に切り込んで被加工物を切削する加工工具であり、砥粒を結合材(ボンド材)で固定することによって形成される。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. First, a configuration example of the dresser board according to the present embodiment will be described. The dresser board according to the present embodiment is used for dressing a cutting blade that cuts a work piece. A cutting blade is a processing tool that cuts into a work piece and cuts the work piece, and is formed by fixing abrasive grains with a binder (bond material).
切削ブレードによって切削される被加工物の例としては、例えば、格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)によって区画された複数の領域にそれぞれIC、LSI等のデバイスを備えるシリコンウェーハが挙げられる。このシリコンウェーハを切削ブレードで切削して、分割予定ラインに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが製造される。 An example of a workpiece to be cut by a cutting blade is a silicon wafer in which devices such as ICs and LSIs are provided in a plurality of areas partitioned by a plurality of scheduled division lines (streets) arranged in a grid pattern. Can be mentioned. By cutting this silicon wafer with a cutting blade and dividing it along a planned division line, a plurality of device chips each including a device are manufactured.
ただし、切削ブレードによって加工される被加工物の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば、被加工物は、シリコン以外の半導体(GaAs、InP、GaN、SiC等)、ガラス、セラミックス、樹脂、金属等でなる、任意の形状及び大きさのウェーハであってもよい。また、被加工物に形成されるデバイスの種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はなく、被加工物にはデバイスが形成されていなくてもよい。さらに、被加工物は、CSP(Chip Size Package)基板、QFN(Quad Flat Non-leaded package)基板等のパッケージ基板であってもよい。 However, there are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the work piece processed by the cutting blade. For example, the workpiece may be a wafer of any shape and size made of a semiconductor other than silicon (GaAs, InP, GaN, SiC, etc.), glass, ceramics, resin, metal, or the like. Further, there are no restrictions on the type, quantity, shape, structure, size, arrangement, etc. of the device formed on the workpiece, and the device may not be formed on the workpiece. Further, the workpiece may be a package substrate such as a CSP (Chip Size Package) substrate or a QFN (Quad Flat Non-leaded package) substrate.
切削ブレードで被加工物を加工する際には、まず、切削ブレードのドレッシングが実施される。ドレッシングは、スピンドルに装着された切削ブレードを回転させ、切削ブレードの先端部をドレッサーボードに切り込ませることによって行われる。これにより、切削ブレードの先端部において結合材がドレッサーボードと接触して摩耗し、切削ブレードの形状がスピンドルと同心状に整えられるとともに(真円出し)、砥粒が結合材から適度に露出する(目立て)。 When processing a work piece with a cutting blade, first, dressing of the cutting blade is performed. Dressing is performed by rotating a cutting blade mounted on a spindle and cutting the tip of the cutting blade into a dresser board. As a result, the binder comes into contact with the dresser board at the tip of the cutting blade and wears, the shape of the cutting blade is adjusted concentrically with the spindle (rounding), and the abrasive grains are appropriately exposed from the binder. (Sharpening).
図1(A)はドレッサーボード11を示す斜視図であり、図1(B)はドレッサーボード11を示す断面図である。ドレッサーボード11は、切削ブレードをドレッシングするための板状の部材であり、ドレッシング層13を備える。
FIG. 1A is a perspective view showing the
ドレッシング層13は、例えば平面視で矩形状に形成された板状の部材であり、互いに概ね平行な表面(第1面)13a及び裏面(第2面)13bと、表面13a及び裏面13bに接続された側面(外周面)13cとを備える。ドレッシング層13は、砥粒と、砥粒を固定する結合材(ボンド材)とを含んでいる。例えばドレッシング層13は、グリーンカーボランダム(GC)、ホワイトアランダム(WA)等でなる砥粒を、レジンボンド、ビトリファイドボンド等の結合材で固定することによって形成される。
The
ただし、ドレッシング層13に含まれる砥粒及び結合材の材質に制限はなく、ドレッシングの対象となる切削ブレードの材質、厚さ、径等に応じて適宜選択される。また、ドレッシング層13に含まれる砥粒の含有量、粒径等にも制限はない。例えば砥粒は、重量比で55%以上65%以下の比率でドレッシング層13に含有される。また、砥粒の平均粒径は、例えば0.1μm以上50μm以下である。
However, the materials of the abrasive grains and the binder contained in the
ドレッシング層13の形成方法にも制限はない。例えば、砥粒をフェノール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂に含浸させた後、この樹脂を板状に成形し、所定の温度(例えば150℃以上約200℃以下)で焼成することによって、ドレッシング層13が形成される。
There is no limitation on the method of forming the
ここで、ドレッシング層13は、パーティクル(微粒子、塵等)を発生させやすい性質をもつ。具体的には、ドレッシング層13に含まれる砥粒や結合材の一部がドレッシング層13から分離して、パーティクルとなることがある。
Here, the
例えば、ドレッサーボード11の出荷の際等に、ドレッサーボード11に衝撃が加わったり、ドレッサーボード11同士が衝突したりすると、ドレッシング層13の表面13a側又は裏面13b側で砥粒の脱落が生じたり、砥粒の脱落によってドレッシング層13の表面13a又は裏面13bに生じた凹凸を起点として結合材の一部が剥がれたりする。この場合、ドレッシング層13から分離された砥粒や結合材の一部がパーティクルとなり、ドレッシング層13の表面13a側又は裏面13b側に付着する。
For example, when the
ドレッシング層13の表面13a側又は裏面13b側にパーティクルが存在すると、切削ブレードのドレッシングを実施するためにドレッサーボード11を切削装置に搬送する際に、パーティクルが飛散する。これにより、切削装置の内部や、切削装置が設置されているクリーンルームが汚染されてしまう。
If particles are present on the
そこで、本実施形態に係るドレッサーボード11では、ドレッシング層13の表面13a側及び裏面13b側にそれぞれ、パーティクルの飛散を防止する飛散防止膜15が設けられる。これにより、ドレッシング層13の表面13a側及び裏面13b側からのパーティクルの飛散が防止され、切削装置やクリーンルームの汚染が抑制される。
Therefore, in the
図1(A)及び図1(B)に示すように、ドレッサーボード11は、ドレッシング層13の表面13a側に設けられた飛散防止膜15(飛散防止膜15A)と、ドレッシング層13の裏面13b側に設けられた飛散防止膜15(飛散防止膜15B)とを備える。飛散防止膜15Aはドレッシング層13の表面13aの全体を覆うように形成され、飛散防止膜15Bはドレッシング層13の裏面13bの全体を覆うように形成される。
As shown in FIGS. 1A and 1B, the
例えば、飛散防止膜15Aと飛散防止膜15Bとはそれぞれ、ドレッシング層13の表面13aと裏面13bとの形状に対応して、平面視で矩形状に形成される。ただし、飛散防止膜15A,15Bの形状に制限はなく、ドレッシング層13の形状に応じて適宜設定される。
For example, the
飛散防止膜15の材質は、パーティクルのドレッシング層13からの飛散を飛散防止膜15によって防止可能であり、且つ、ドレッシングの対象となる切削ブレードによって飛散防止膜15を切削可能であれば、制限はない。例えば飛散防止膜15として、有機膜(樹脂膜等)又は無機膜(酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、金属膜、ガラス膜等)が用いられる。
The material of the
図1(A)及び図1(B)に示すように、ドレッシング層13に飛散防止膜15A,15Bが設けられると、ドレッシング層13の表面13a側又は裏面13b側でパーティクルが発生しても、パーティクルはドレッシング層13と飛散防止膜15A,15Bとによって挟まれて閉じ込められる。これにより、ドレッサーボード11の周囲にパーティクルが飛散することを防止できる。例えば、ドレッシング層13に含まれる砥粒や結合材の一部がドレッシング層13から分離されて粉末状のパーティクルが生成されても、このパーティクルの飛散が飛散防止膜15A,15Bによって防止される。
As shown in FIGS. 1A and 1B, when the
また、飛散防止膜15は、砥粒を含有しない膜によって構成される。そのため、飛散防止膜15では、砥粒の脱落や、砥粒の脱落によって生じた凹凸を起点とする膜剥がれに起因して、パーティクルが生成されることはない。従って、飛散防止膜15からパーティクルが飛散することによる切削装置やクリーンルームの汚染が問題になることはない。
Further, the
なお、後述の通り、ドレッサーボード11を用いて切削ブレードのドレッシングを実施する際には、ドレッサーボード11に純水等の切削液が供給される。そのため、飛散防止膜15は、非水溶性であることが好ましい。例えば飛散防止膜15として、ポリスチレン、ポリエチレン、アクリル、フェノール、エポキシ等の樹脂でなる非水溶性の樹脂膜が用いられる。
As will be described later, when dressing the cutting blade using the
飛散防止膜15が非水溶性の樹脂膜である場合、切削ブレードのドレッシングを実施しても、ドレッシング層13の表面13a側及び裏面13b側に飛散防止膜15が残存する。そのため、切削ブレードのドレッシングの実施後にドレッサーボード11を再度搬送する際にも、パーティクルの飛散が防止される。
When the
飛散防止膜15の成膜方法は、飛散防止膜15の材質に応じて適宜選択できる。例えば飛散防止膜15として、蒸着、スパッタリング、CVD(Chemical Vapor Deposition)等のドライプロセスや、塗布、スピンコート、スプレーコート、浸漬等のウェットプロセスを用いて形成可能な膜が、ドレッシング層13の表面13a側及び裏面13b側に形成される。なお、飛散防止膜15は、ドレッシング層13の表面13a側及び裏面13b側に直接形成されてもよいし、ドレッシング層13とは別途独立して形成された後にドレッシング層13に貼付されてもよい。
The method for forming the
上記のドレッサーボード11を用いて、切削ブレードのドレッシングが行われる。切削ブレードのドレッシングを行う際は、まず、ドレッサーボード11を環状のフレームによって支持する。図2は、フレーム19によって支持されたドレッサーボード11を示す斜視図である。
The dressing of the cutting blade is performed using the
ドレッサーボード11の裏面側(飛散防止膜15B側)には、円形のテープ17が貼付される。テープ17は、ドレッサーボード11の裏面側の全体を覆うことが可能な径を有し、このテープ17の中央部にドレッサーボード11が貼付される。
A
なお、テープ17の構造及び材質に制限はない。例えばテープ17は、円形の基材と、基材上に設けられた粘着層(糊層)とを備えるシート状の部材である。基材は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタラート等の樹脂でなり、粘着層は、エポキシ系、アクリル系、又はゴム系の接着剤等でなる。また、粘着層は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化型の樹脂であってもよい。
There are no restrictions on the structure and material of the
テープ17の外周部は、金属等でなり中央部に円形の開口19aを備える環状のフレーム19に貼付される。開口19aの直径は、ドレッサーボード11の外接円の直径よりも大きく、ドレッサーボード11は開口19aの内側に配置される。ドレッサーボード11及びフレーム19にテープ17が貼付されると、ドレッサーボード11がテープ17を介してフレーム19によって支持される。
The outer peripheral portion of the
フレーム19によって支持されたドレッサーボード11に切削ブレードを切り込ませることにより、切削ブレードのドレッシングが行われる。切削ブレードのドレッシングには、切削装置が用いられる。図3は、切削装置2を示す斜視図である。
Dressing of the cutting blade is performed by cutting the cutting blade into the
切削装置2は、被加工物又はドレッサーボード11を保持する保持テーブル(チャックテーブル)4を備える。保持テーブル4の上面は、X軸方向(加工送り方向、第1水平方向)及びY軸方向(割り出し送り方向、第2水平方向)と概ね平行に形成され、被加工物又はドレッサーボード11を保持する保持面4a(図4参照)を構成している。保持面4aは、保持テーブル4の内部に形成された吸引路(不図示)、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。
The
保持テーブル4の周囲には、ドレッサーボード11を支持するフレーム19を把持して固定する複数のクランプ(不図示)が設けられている。また、保持テーブル4には、保持テーブル4をX軸方向に沿って移動させるボールねじ式の移動機構(不図示)と、保持テーブル4をZ軸方向(鉛直方向、上下方向)に概ね平行な回転軸の周りで回転させるモータ等の回転駆動源(不図示)とが接続されている。
Around the holding table 4, a plurality of clamps (not shown) that grip and fix the
保持テーブル4の上方には、被加工物又はドレッサーボード11を切削する切削ユニット6が配置されている。切削ユニット6は円筒状のハウジング8を備え、このハウジング8内には、円筒状のスピンドル(不図示)がY軸方向と概ね平行に配置された状態で収容されている。
Above the holding table 4, a cutting unit 6 for cutting the workpiece or the
スピンドルの先端部(一端部)はハウジング8の外部に露出しており、この先端部には環状の切削ブレード10が装着される。また、スピンドルの基端部(他端部)には、モータ等の回転駆動源が接続されている。スピンドルの先端部に装着された切削ブレード10は、回転駆動源からスピンドルを介して伝達される動力によって回転する。
The tip (one end) of the spindle is exposed to the outside of the
切削ブレード10としては、例えば、金属等でなる環状の基台と、基台の外周縁に沿って形成された環状の切刃とが一体となって構成された、ハブタイプの切削ブレードが用いられる。ハブタイプの切削ブレードの切刃は、ダイヤモンド等でなる砥粒がニッケルめっき層等の結合材によって固定された電鋳砥石によって構成される。また、切削ブレード10として、砥粒が金属、セラミックス、樹脂等でなる結合材によって固定された環状の切刃によって構成される、ワッシャータイプの切削ブレードを用いることもできる。
As the
スピンドルの先端部に切削ブレード10が装着されると、切削ブレード10はハウジング8に固定されたブレードカバー12に覆われる。ブレードカバー12は、純水等の切削液が供給されるチューブ(不図示)に接続される接続部14と、接続部14に接続され切削ブレード10の両側面側(表裏面側)にそれぞれ配置される一対のノズル16とを備える。一対のノズル16にはそれぞれ、切削ブレード10に向かって開口する噴射口(不図示)が形成されている。
When the
接続部14に切削液が供給されると、一対のノズル16の噴射口から切削ブレード10の両側面(表裏面)に向かって切削液が噴射される。この切削液によって、切削ブレード10と、保持テーブル4によって保持された被加工物又はドレッサーボード11とが冷却されるとともに、切削加工によって生じた屑(切削屑)が洗い流される。
When the cutting fluid is supplied to the connecting
切削ユニット6には、切削ユニット6を移動させるボールねじ式の移動機構(不図示)が接続されている。この移動機構は、切削ユニット6をY軸方向に沿って移動させるとともに、Z軸方向に沿って昇降させる。この移動機構により、切削ブレード10のY軸方向及びZ軸方向における位置が制御される。
A ball screw type moving mechanism (not shown) for moving the cutting unit 6 is connected to the cutting unit 6. This moving mechanism moves the cutting unit 6 along the Y-axis direction and moves it up and down along the Z-axis direction. The position of the
切削装置2を用いて切削ブレード10のドレッシングを行う際は、まず、切削装置2の保持テーブル4によってドレッサーボード11を保持する。例えば、ドレッサーボード11の表面側(飛散防止膜15A側)が上方に露出し、ドレッサーボード11の裏面側(飛散防止膜15B側、テープ17側)が保持テーブル4の保持面4a(図4参照)に対向するように、ドレッサーボード11を保持テーブル4上に配置する。また、ドレッサーボード11を支持するフレーム19を、保持テーブル4の周囲に設けられた複数のクランプ(不図示)によって固定する。
When dressing the
この状態で、保持テーブル4の保持面4aに吸引源の負圧を作用させると、ドレッサーボード11の裏面側がテープ17を介して保持テーブル4によって吸引される。これにより、ドレッサーボード11が保持テーブル4によって保持される。
In this state, when a negative pressure of the suction source is applied to the holding
次に、切削ブレード10をドレッサーボード11に切り込ませ、切削ブレード10でドレッサーボード11を切削する。切削ブレード10をドレッサーボード11に切り込ませることにより、切削ブレード10の先端部(切り刃)が摩耗し、切削ブレード10のドレッシングが行われる。
Next, the
まず、保持テーブル4を回転させて、ドレッサーボード11の一辺の長さ方向をX軸方向に合わせる。また、切削ブレード10がドレッサーボード11の側方に配置されるように、保持テーブル4及び切削ユニット6の位置を調整する。
First, the holding table 4 is rotated to align the length direction of one side of the
さらに、切削ブレード10の先端部がドレッサーボード11のドレッシング層13に切り込むように、切削ユニット6のZ軸方向における位置を調整する。具体的には、切削ブレード10の下端が、ドレッシング層13の表面13aより下方で、且つ、ドレッシング層13の裏面13bよりも上方に配置されるように、切削ユニット6の高さを調整する。
Further, the position of the cutting unit 6 in the Z-axis direction is adjusted so that the tip of the
そして、切削ブレード10を回転させながら、保持テーブル4をX軸方向に沿って移動させ、ドレッサーボード11と切削ブレード10とを相対的に移動させる(加工送り)。これにより、切削ブレード10は、ドレッシング層13に至る切り込み深さでドレッサーボード11に切り込み、ドレッサーボード11を切削する。その結果、ドレッサーボード11の飛散防止膜15A側には、線状の切削溝11aが形成される。
Then, while rotating the
例えば、切削ブレード10を矢印Aで示す方向に回転させながら、保持テーブル4を矢印Bで示す方向に移動させる。この場合、切削ブレード10の下端の移動方向と保持テーブル4の移動方向とが一致するように、保持テーブル4と切削ブレード10とが相対的に移動する。そして、切削ブレード10がドレッサーボード11の表面側(飛散防止膜15A側)から裏面側(飛散防止膜15B側)に向かって切り込む、所謂ダウンカットが行われる。
For example, while rotating the
図4は、切削ブレード10によって切削されるドレッサーボード11を示す断面図である。切削ブレード10は、ドレッシング層13に達する切り込み深さで、ドレッシング層13の表面13a側に切り込む。これにより、ドレッシング層13に含まれる砥粒が切削ブレード10の先端部(切り刃)に接触し、切削ブレード10の先端部が摩耗する。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a
切削ブレード10がドレッシング層13に切り込む際、ドレッシング層13の表面13a側に設けられた飛散防止膜15(飛散防止膜15A)も、ドレッシング層13とともに切削ブレード10によって切削される。ただし、飛散防止膜15は砥粒を含有しておらず、切削ブレード10の摩耗を生じさせにくい。そのため、切削ブレード10が飛散防止膜15を切削しても、切削ブレード10に意図しない過度な摩耗や変形が生じることはない。
When the
なお、飛散防止膜15は、ドレッシング層13による切削ブレード10のドレッシングが阻害されないように、薄く形成されることが好ましい。例えば飛散防止膜15の厚さは、100μm以下に設定される。
The
ただし、飛散防止膜15の厚さは、ドレッシング層13の表面13a及び裏面13bで結合材から突出する砥粒の表面が、飛散防止膜15によって適切に覆われる程度に確保されることが好ましい。例えば、飛散防止膜15の厚さは、砥粒の結合材からの突出量の60%以上に設定される。
However, it is preferable that the thickness of the
その後、切削ユニット6をY軸方向に移動させ(割り出し送り)、切削ブレード10をドレッサーボード11の切削溝11aが形成されていない領域に更に切り込ませる。そして、切削ブレード10が所望の形状となり、且つ、切削ブレード10の先端部で砥粒が結合材から適度に突出するまで、同様の手順を繰り返す。これにより、切削ブレード10のドレッシングが完了する。その後、ドレッサーボード11は保持テーブル4上から所定の保管場所に搬送される。
After that, the cutting unit 6 is moved in the Y-axis direction (indexing feed), and the
以上の通り、本実施形態に係るドレッサーボード11は、ドレッシング層13の表面13a側及び裏面13b側に設けられた飛散防止膜15を備える。これにより、ドレッシング層13からのパーティクルの飛散が防止され、切削装置、クリーンルーム等の汚染が抑制される。
As described above, the
なお、上記の実施形態では、ドレッシング層13の表面13a側及び裏面13b側に飛散防止膜15が設けられ、ドレッシング層13の側面13cが露出した状態のドレッサーボード11(図1(A)及び図1(B)参照)について説明した。ただし、飛散防止膜15は、ドレッシング層13の表面13a及び裏面13bに加え、更にドレッシング層13の側面13cを覆うように設けられていてもよい。
In the above embodiment, the dressing board 11 (FIGS. 1 (A) and 1 (A)) in which the
図5は、ドレッシング層13の表面13a、裏面13b、側面13cを覆う飛散防止膜15を備えるドレッサーボード11を示す断面図である。飛散防止膜15でドレッシング層13の側面13c(4面)の全体を覆うことにより、ドレッシング層13の側面13cからのパーティクルの飛散も防止することができる。これにより、パーティクルの飛散による切削装置2やクリーンルームの汚染が更に効果的に抑制される。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented as long as they do not deviate from the scope of the object of the present invention.
11 ドレッサーボード
11a 切削溝
13 ドレッシング層
13a 表面(第1面)
13b 裏面(第2面)
13c 側面(外周面)
15,15A,15B 飛散防止膜
17 テープ
19 フレーム
19a 開口
2 切削装置
4 保持テーブル(チャックテーブル)
4a 保持面
6 切削ユニット
8 ハウジング
10 切削ブレード
12 ブレードカバー
14 接続部
16 ノズル
11
13b back side (second side)
13c side surface (outer peripheral surface)
15, 15A,
4a Holding surface 6
Claims (2)
結合材によって固定された砥粒を含み、第1面及び第2面を備えるドレッシング層と、
該ドレッシング層の該第1面側及び該第2面側に設けられ、該ドレッシング層からのパーティクルの飛散を防止する飛散防止膜と、を備えることを特徴とするドレッサーボード。 A dresser board for dressing cutting blades
A dressing layer containing abrasive grains fixed by a binder and having first and second surfaces,
A dresser board provided on the first surface side and the second surface side of the dressing layer, and comprising a scattering prevention film for preventing particles from scattering from the dressing layer.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020028977A JP7430450B2 (en) | 2020-02-25 | 2020-02-25 | dresser board |
KR1020210012613A KR20210108309A (en) | 2020-02-25 | 2021-01-28 | Dresser board |
CN202110196067.7A CN113370004A (en) | 2020-02-25 | 2021-02-22 | Trimming plate |
TW110106401A TW202133256A (en) | 2020-02-25 | 2021-02-24 | Dresser plate to provide a dresser plate that prevents particles from scattering |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020028977A JP7430450B2 (en) | 2020-02-25 | 2020-02-25 | dresser board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021133433A true JP2021133433A (en) | 2021-09-13 |
JP7430450B2 JP7430450B2 (en) | 2024-02-13 |
Family
ID=77570610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020028977A Active JP7430450B2 (en) | 2020-02-25 | 2020-02-25 | dresser board |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7430450B2 (en) |
KR (1) | KR20210108309A (en) |
CN (1) | CN113370004A (en) |
TW (1) | TW202133256A (en) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000049120A (en) | 1998-07-27 | 2000-02-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting device |
US20090090066A1 (en) | 2007-10-09 | 2009-04-09 | Chia-Pei Chen | Grinding tool and manufacturing method thereof |
JP4960395B2 (en) | 2009-03-17 | 2012-06-27 | 株式会社東芝 | Polishing apparatus and semiconductor device manufacturing method using the same |
JP6906836B2 (en) | 2017-01-27 | 2021-07-21 | 株式会社ディスコ | How to use laminated dressing board |
-
2020
- 2020-02-25 JP JP2020028977A patent/JP7430450B2/en active Active
-
2021
- 2021-01-28 KR KR1020210012613A patent/KR20210108309A/en unknown
- 2021-02-22 CN CN202110196067.7A patent/CN113370004A/en active Pending
- 2021-02-24 TW TW110106401A patent/TW202133256A/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202133256A (en) | 2021-09-01 |
CN113370004A (en) | 2021-09-10 |
JP7430450B2 (en) | 2024-02-13 |
KR20210108309A (en) | 2021-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI823988B (en) | polishing pad | |
TWI790395B (en) | Carrier removal method | |
JP7139043B2 (en) | cutting equipment | |
KR20230120098A (en) | Cleaning apparatus | |
JP2017213613A (en) | Dresser board and dressing method | |
JP7430450B2 (en) | dresser board | |
JP7504539B2 (en) | Dressing material | |
TW202208079A (en) | Workpiece cleaning method having a removing step for removing the cleaning liquid attached on the lower surface side of the workpiece | |
JP2022053837A (en) | Holding table | |
JP7378890B2 (en) | How to sharpen sharpening boards and cutting blades | |
TWI769294B (en) | polishing pad | |
JP7362212B2 (en) | Grinding method for rectangular workpieces | |
JP2021183356A (en) | Cutting blade | |
JP7251899B2 (en) | Workpiece processing method | |
JP6980341B2 (en) | How to process the protective member | |
JP2024021602A (en) | Chip manufacturing method | |
JP2023077113A (en) | Dressing method for cutting blade | |
JP2022041697A (en) | Cutting device and cutting method of workpiece | |
JP2022012360A (en) | Cutting device | |
JP2021114520A (en) | Cutting device | |
TW202109641A (en) | Method of removing carrier plate | |
JP2024035879A (en) | Workpiece cutting method | |
JP2023092653A (en) | Polishing pad, mount and polishing device | |
JP2020001123A (en) | Grinding wheel | |
JP2019062146A (en) | Protective member processing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231031 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7430450 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |