JP7378890B2 - How to sharpen sharpening boards and cutting blades - Google Patents

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Description

本発明は、被加工物を切削する切削ブレードの目立てをするための目立てボード、及び、該目立てボードを用いた切削ブレードの目立て方法に関する。 The present invention relates to a sharpening board for sharpening a cutting blade for cutting a workpiece, and a method for sharpening a cutting blade using the sharpening board.

デバイスチップの製造工程では、格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)によって区画された複数の領域にそれぞれIC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイスが形成されたウェーハが用いられる。このウェーハを分割予定ラインに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが得られる。デバイスチップは、携帯電話、パーソナルコンピュータ等の様々な電子機器に搭載される。 In the device chip manufacturing process, devices such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integrations) are formed in multiple regions divided by multiple dividing lines (street) arranged in a grid pattern on a wafer. is used. By dividing this wafer along the planned dividing line, a plurality of device chips each having a device are obtained. Device chips are installed in various electronic devices such as mobile phones and personal computers.

ウェーハの分割には、ウェーハを保持するチャックテーブルと、ウェーハを切削する切削ユニットとを備える切削装置が用いられる。この切削装置の切削ユニットには、ウェーハを切削するための環状の切削ブレードが装着される。切削ブレードは、例えば、ダイヤモンドでなる砥粒を金属でなるボンド材で固定することによって形成される(特許文献1参照)。切削ユニットに装着された切削ブレードを回転させ、チャックテーブルによって保持されたウェーハに切り込ませることにより、ウェーハが切削され、分割される。 A cutting device that includes a chuck table that holds the wafer and a cutting unit that cuts the wafer is used to divide the wafer. The cutting unit of this cutting device is equipped with an annular cutting blade for cutting the wafer. The cutting blade is formed, for example, by fixing abrasive grains made of diamond with a bond material made of metal (see Patent Document 1). The wafer is cut and divided by rotating a cutting blade attached to the cutting unit and cutting into the wafer held by the chuck table.

切削ブレードによってウェーハを加工する前には、切削ブレードの先端部を摩耗させ、ボンド材から砥粒を適度に露出させる、目立てが実施される。この目立ての工程では、加工対象となるウェーハと同じ材質でなる目立て用のウェーハ(ダミーウェーハ)に切削ブレードを切り込ませ、ダミーウェーハを線状に切削する作業が繰り返される。この目立てを行うことにより、ボンド材が摩耗して砥粒がボンド材から適度に突出し、切削ブレードがウェーハの切削に適した状態となる。 Before processing a wafer with a cutting blade, a sharpening process is performed in which the tip of the cutting blade is worn to expose a suitable amount of abrasive grains from the bond material. In this dressing process, a cutting blade is cut into a dressing wafer (dummy wafer) made of the same material as the wafer to be processed, and the process of cutting the dummy wafer into a linear shape is repeated. By performing this sharpening, the bond material is worn, the abrasive grains are appropriately protruded from the bond material, and the cutting blade becomes suitable for cutting the wafer.

しかしながら、ダミーウェーハを用いて目立てを行う場合には、切削ブレードをダミーウェーハに多数回(例えば400回程度)切り込ませる必要があり、目立て作業に手間と時間がかかる。そのため、目立て作業を実施すると、切削装置によるウェーハの加工が長時間滞ってしまい、加工効率が低下するという問題がある。 However, when dressing is performed using a dummy wafer, it is necessary to cut the dummy wafer with a cutting blade many times (for example, about 400 times), which takes time and effort. Therefore, when the dressing operation is performed, processing of the wafer by the cutting device is delayed for a long time, resulting in a problem that processing efficiency is reduced.

そこで、砥粒を含有する目立て用のボード(目立てボード)に切削ブレードを切り込ませることにより、切削ブレードの目立てを行う手法が提案されている(特許文献2参照)。この目立て用ボードを用いると、ダミーウェーハを用いる場合と比較して切削ブレードの摩耗量が増大する。これにより、切削ブレードの目立てに必要な切り込み回数が低減され、目立て作業に要する工程数及び時間を大幅に削減することが可能となる。 Therefore, a method has been proposed in which a cutting blade is sharpened by cutting the cutting blade into a sharpening board (sharpening board) containing abrasive grains (see Patent Document 2). When this dressing board is used, the amount of wear on the cutting blade increases compared to when a dummy wafer is used. As a result, the number of cuts required for sharpening the cutting blade is reduced, and the number of steps and time required for the sharpening work can be significantly reduced.

特開2000-87282号公報Japanese Patent Application Publication No. 2000-87282 特開2011-11280号公報Japanese Patent Application Publication No. 2011-11280

上記のように、切削ブレードの目立てに砥粒を含む目立てボードを用いることにより、目立て作業の効率化を図ることができる。しかしながら、この目立てボードに切削ブレードを切り込ませると、切削ブレードの先端部でボンド材が激しく摩耗し、砥粒がボンド材から過度に突出しやすい。そして、砥粒の突出量が大きい状態の切削ブレードでウェーハを切削すると、ウェーハに欠け(チッピング)等の加工不良が発生し、デバイスチップの品質が低下することがある。 As described above, by using a sharpening board containing abrasive grains to sharpen the cutting blade, it is possible to improve the efficiency of the sharpening work. However, when a cutting blade is cut into this sharpening board, the bond material is severely worn at the tip of the cutting blade, and the abrasive grains tend to protrude excessively from the bond material. If a wafer is cut with a cutting blade with a large protrusion of abrasive grains, processing defects such as chipping may occur in the wafer, and the quality of device chips may deteriorate.

本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、加工不良の発生を抑制することが可能な目立てボード、及び、該目立てボードを用いた切削ブレードの目立て方法の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of this problem, and aims to provide a sharpening board that can suppress the occurrence of machining defects, and a method for sharpening a cutting blade using the sharpening board.

本発明の一態様によれば、被加工物を切削する切削ブレードを切り込ませて該切削ブレードの目立てをするための目立てボードであって、該被加工物と同じ材質でなり砥粒を含有しない基板と、該基板上に設けられ、砥粒を含有する目立て部材と、を備え、該基板及び該目立て部材は、該切削ブレードと接触して該切削ブレードを摩耗させる目立てボードが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a sharpening board for sharpening the cutting blade by cutting a cutting blade into the workpiece, the board being made of the same material as the workpiece and containing abrasive grains. and a sharpening member provided on the substrate and containing abrasive grains, wherein the substrate and the sharpening member contact the cutting blade to wear the cutting blade. .

なお、好ましくは、該基板の厚さは、0.2mm以上1mm以下であり、該目立て部材の厚さは、0.05mm以上1mm以下である。 Preferably , the thickness of the substrate is 0.2 mm or more and 1 mm or less, and the thickness of the dressing member is preferably 0.05 mm or more and 1 mm or less.

また、本発明の他の一態様によれば、砥粒を含有しない基板と、該基板上に設けられ砥粒を含有する目立て部材と、を備える目立てボードを用いて、被加工物を切削する切削ブレードの目立てをする切削ブレードの目立て方法であって、切削装置のチャックテーブルによって該目立てボードの該基板側を保持する保持工程と、該切削ブレードを該目立てボードの該目立て部材側に切り込ませ、該切削ブレードで該被加工物と同じ材質でなる該基板を該目立て部材とともに切削する目立て工程と、を備える切削ブレードの目立て方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, a workpiece is cut using a sharpening board that includes a substrate that does not contain abrasive grains and a sharpening member that is provided on the substrate and contains abrasive grains. A cutting blade sharpening method for sharpening a cutting blade, the method includes a holding step of holding the substrate side of the sharpening board with a chuck table of a cutting device, and cutting the cutting blade into the sharpening member side of the sharpening board. There is provided a method for sharpening a cutting blade, comprising a sharpening step of cutting the substrate made of the same material as the workpiece with the cutting blade together with the sharpening member.

本発明の一態様に係る目立てボードは、砥粒を含有しない基板と、砥粒を含有する目立て部材とを備える。そして、切削ブレードで基板を目立て部材とともに切削することにより、切削ブレードの目立てを実施できる。このとき、切削ブレードを基板に達するように目立てボードに切り込ませると、切削ブレードの先端部の摩耗が緩和される。これにより、切削ブレードの過剰な目立てが防止され、切削ブレードによって被加工物を加工する際における加工不良の発生が抑制される。 A dressing board according to one aspect of the present invention includes a substrate that does not contain abrasive grains and a dressing member that contains abrasive grains. Then, by cutting the substrate together with the dressing member with the cutting blade, the dressing of the cutting blade can be carried out. At this time, if the cutting blade is cut into the dressing board so as to reach the substrate, wear at the tip of the cutting blade is alleviated. This prevents excessive sharpening of the cutting blade, and suppresses the occurrence of machining defects when machining a workpiece with the cutting blade.

図1(A)は目立てボードを示す斜視図であり、図1(B)は目立てボードを示す断面図である。FIG. 1(A) is a perspective view showing a dressing board, and FIG. 1(B) is a sectional view showing the dressing board. フレームによって支持された目立てボードを示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a dressing board supported by a frame; 切削装置を示す斜視図である。It is a perspective view showing a cutting device. 切削ブレードが目立てボードに切り込む様子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing how the cutting blade cuts into the dressing board.

以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。まず、本実施形態に係る目立てボードの構成例について説明する。本実施形態に係る目立てボードは、被加工物を切削する環状の切削ブレードの目立て(ドレッシング)に用いられる。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, a configuration example of the dressing board according to the present embodiment will be described. The dressing board according to this embodiment is used for dressing an annular cutting blade that cuts a workpiece.

切削ブレードは、被加工物に切り込んで被加工物を切削する加工工具であり、ダイヤモンド等でなる砥粒をボンド材で固定することによって形成される。例えば、切削ブレードとして、砥粒がニッケルめっき等で固定された切刃を備える電鋳ハブブレードや、砥粒が金属、セラミックス、樹脂等でなるボンド材によって固定された切刃からなる環状のブレード(ワッシャーブレード)が用いられる。 A cutting blade is a processing tool that cuts into a workpiece to cut the workpiece, and is formed by fixing abrasive grains made of diamond or the like with a bond material. For example, as cutting blades, there are electroformed hub blades that have a cutting edge with abrasive grains fixed by nickel plating, etc., and annular blades that have a cutting edge that has abrasive grains fixed with a bond material made of metal, ceramics, resin, etc. (washer blade) is used.

切削ブレードによって切削される被加工物の例としては、例えば、格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)によって区画された複数の領域にそれぞれIC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイスを備えるシリコンウェーハが挙げられる。このシリコンウェーハを切削ブレードで切削して、分割予定ラインに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが製造される。 An example of a workpiece to be cut by a cutting blade is an IC (Integrated Circuit), an LSI (Large Scale Integration), etc. ) and the like can be mentioned. By cutting this silicon wafer with a cutting blade and dividing it along the planned dividing line, a plurality of device chips each having a device are manufactured.

ただし、被加工物の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば、被加工物は、シリコン以外の半導体(GaAs、InP、GaN、SiC等)、ガラス、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる、任意の形状及び大きさのウェーハであってもよい。また、被加工物に形成されるデバイスの種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はなく、被加工物にはデバイスが形成されていなくてもよい。また、被加工物は、CSP(Chip Size Package)基板、QFN(Quad Flat Non-leaded package)基板等のパッケージ基板であってもよい。 However, there are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the workpiece. For example, the workpiece may be a wafer of any shape and size made of a material other than silicon (GaAs, InP, GaN, SiC, etc.), glass, ceramics, resin, metal, or the like. Furthermore, there are no restrictions on the type, quantity, shape, structure, size, arrangement, etc. of devices formed on the workpiece, and the workpiece does not need to have any devices formed thereon. Further, the workpiece may be a package substrate such as a CSP (Chip Size Package) substrate or a QFN (Quad Flat Non-leaded package) substrate.

切削ブレードを回転させながら、切削ブレードの先端部を目立てボードに切り込ませると、目立てボードに接触する切削ブレードの先端部でボンド材が摩耗し、砥粒のボンド材からの突出量が大きくなる。このようにして切削ブレードの目立てが行われ、切削ブレードの切れ味が向上する。 If the tip of the cutting blade cuts into the sharpening board while rotating the cutting blade, the bond material will wear out at the tip of the cutting blade that comes into contact with the sharpening board, and the amount of abrasive grains that protrude from the bond material will increase. . In this way, the cutting blade is sharpened, and the sharpness of the cutting blade is improved.

図1(A)は目立てボード11を示す斜視図であり、図1(B)は目立てボード11を示す断面図である。目立てボード11は、板状の基板(第1目立て層)13と、基板13上に設けられた板状の目立て部材(第2目立て層)15とを備える。基板13と目立て部材15とは、互いに接するように目立てボード11の厚さ方向に重ねられている。なお、図1(A)及び図1(B)では基板13と目立て部材15とがそれぞれ平面視で矩形状である例を示しているが、基板13及び目立て部材15の形状に制限はない。 FIG. 1(A) is a perspective view showing the dressing board 11, and FIG. 1(B) is a sectional view showing the dressing board 11. The dressing board 11 includes a plate-shaped substrate (first dressing layer) 13 and a plate-shaped dressing member (second dressing layer) 15 provided on the substrate 13. The substrate 13 and the dressing member 15 are stacked in the thickness direction of the dressing board 11 so as to be in contact with each other. Note that although FIGS. 1A and 1B show an example in which the substrate 13 and the dressing member 15 are each rectangular in plan view, the shapes of the substrate 13 and the dressing member 15 are not limited.

基板13は、砥粒を含有しない板状の部材であり、表面(第1面)13a及び裏面(第2面)13bを備える。例えば基板13は、切削ブレードによって切削される予定の被加工物と同じ材質でなる。切削ブレードによって切削される被加工物がシリコンウェーハである場合には、基板13としてシリコンでなる板状の部材を用いることができる。 The substrate 13 is a plate-shaped member that does not contain abrasive grains, and has a front surface (first surface) 13a and a back surface (second surface) 13b. For example, the substrate 13 is made of the same material as the workpiece to be cut by the cutting blade. When the workpiece to be cut by the cutting blade is a silicon wafer, a plate-shaped member made of silicon can be used as the substrate 13.

基板13の表面13a上には、目立て部材15が設けられている。目立て部材15は、砥粒を含有する板状の部材であり、表面(第1面)15a及び裏面(第2面)15bを備える。例えば目立て部材15は、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂でなり、SiC等でなる砥粒を含有している。目立て部材15は、裏面15b側が基板13の表面13a側と接するように、基板13上に積層されている。 A dressing member 15 is provided on the surface 13a of the substrate 13. The sharpening member 15 is a plate-shaped member containing abrasive grains, and has a front surface (first surface) 15a and a back surface (second surface) 15b. For example, the sharpening member 15 is made of resin such as phenol resin or epoxy resin, and contains abrasive grains made of SiC or the like. The dressing member 15 is laminated on the substrate 13 so that the back surface 15b side is in contact with the front surface 13a side of the substrate 13.

目立て部材15は、基板13とは別途独立して形成された後に、基板13と貼り合わされてもよいし、基板13上に直接形成されてもよい。例えば、目立て部材15は、SiC等でなる砥粒をフェノール樹脂やエポキシ樹脂等の樹脂に含浸させた後、この樹脂を板状に成形し、所定の温度(例えば150℃以上約200℃以下)で焼成することによって形成される。このように形成された目立て部材15は、例えば、接着剤によって基板13と接合される。 The dressing member 15 may be formed separately from the substrate 13 and then bonded to the substrate 13, or may be formed directly on the substrate 13. For example, the sharpening member 15 is made by impregnating abrasive grains made of SiC or the like in a resin such as phenol resin or epoxy resin, and then molding this resin into a plate shape at a predetermined temperature (for example, 150°C or more and about 200°C or less). It is formed by firing. The dressing member 15 formed in this manner is bonded to the substrate 13 using, for example, an adhesive.

また、目立て部材15は、スクリーン印刷等によって基板13の表面13a上に直接形成してもよい。スクリーン印刷を用いると、基板13上に薄い目立て部材15(例えば、厚さ100μm以下)を形成しやすくなる。 Further, the dressing member 15 may be formed directly on the surface 13a of the substrate 13 by screen printing or the like. When screen printing is used, it becomes easier to form a thin dressing member 15 (for example, thickness of 100 μm or less) on the substrate 13.

また、砥粒を含浸させた樹脂を基板13の表面13a上に塗布した後、この樹脂を、スキージ等の工具を用いて基板13の表面13aに押し付けながら延ばすことにより、基板13の表面13a上に厚さが概ね均一な樹脂層を形成してもよい。その後、この樹脂層を焼成することにより、基板13上に目立て部材15が形成される。 Further, after applying a resin impregnated with abrasive grains onto the surface 13a of the substrate 13, the resin is stretched while being pressed against the surface 13a of the substrate 13 using a tool such as a squeegee. A resin layer having a generally uniform thickness may be formed. Thereafter, by firing this resin layer, a dressing member 15 is formed on the substrate 13.

なお、基板13及び目立て部材15の厚さに制限はない。例えば、基板13の厚さは、0.2mm以上1mm以下とすることができる。また、目立て部材15の厚さは、0.05mm以上1mm以下とすることができる。基板13及び目立て部材15の厚さの具体的な値は、後述の通り目立ての条件に応じて適宜設定される。 Note that there is no limit to the thickness of the substrate 13 and the dressing member 15. For example, the thickness of the substrate 13 can be 0.2 mm or more and 1 mm or less. Further, the thickness of the dressing member 15 can be set to 0.05 mm or more and 1 mm or less. Specific values of the thicknesses of the substrate 13 and the dressing member 15 are appropriately set according to the dressing conditions as described later.

また、目立て部材15に含まれる砥粒の含有量、粒径等にも制限はない。例えば砥粒は、重量比で55%以上65%以下の比率で目立て部材15に含有される。また、目立て部材15に含まれる砥粒の粒径は、目立てが行われる切削ブレードの材質、厚さ、径等に応じて適宜設定される。例えば、目立て部材15には、平均粒径が0.1μm以上50μm以下である砥粒が含有される。 Further, there are no restrictions on the content, particle size, etc. of abrasive grains contained in the sharpening member 15. For example, the abrasive grains are contained in the sharpening member 15 at a weight ratio of 55% to 65%. Further, the grain size of the abrasive grains included in the sharpening member 15 is appropriately set according to the material, thickness, diameter, etc. of the cutting blade to be sharpened. For example, the sharpening member 15 contains abrasive grains having an average particle size of 0.1 μm or more and 50 μm or less.

上記の目立てボード11を用いて、切削ブレードの目立てが行われる。切削ブレードの目立てを行う際は、まず、目立てボード11を環状のフレームによって支持する。図2は、フレーム19によって支持された目立てボード11を示す斜視図である。 The cutting blade is sharpened using the sharpening board 11 described above. When sharpening a cutting blade, first, the sharpening board 11 is supported by an annular frame. FIG. 2 is a perspective view of the dressing board 11 supported by the frame 19.

目立てボード11の裏面側(基板13の裏面13b側)には、円形のテープ17が貼付される。テープ17は、基板13の裏面13b側の全体を覆うことが可能な大きさを有し、このテープ17の中央部に基板13の裏面13b側が貼付される。 A circular tape 17 is attached to the back side of the dressing board 11 (the back side 13b side of the substrate 13). The tape 17 has a size that can cover the entire back surface 13b side of the substrate 13, and the back surface 13b side of the substrate 13 is attached to the center of the tape 17.

なお、テープ17の材料に制限はない。例えばテープ17は、円形の基材と、基材上に設けられた粘着層(糊層)とを備える。基材は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタラート等の樹脂でなり、粘着層は、エポキシ系、アクリル系、又はゴム系の接着剤等でなる。また、粘着層は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化型の樹脂であってもよい。 Note that there is no restriction on the material of the tape 17. For example, the tape 17 includes a circular base material and an adhesive layer (glue layer) provided on the base material. The base material is made of a resin such as polyolefin, polyvinyl chloride, or polyethylene terephthalate, and the adhesive layer is made of an epoxy, acrylic, or rubber adhesive. Further, the adhesive layer may be an ultraviolet curing resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays.

テープ17の外周部は、金属等でなり中央部に円形の開口19aを備える環状のフレーム19に貼付される。なお、開口19aの直径は、目立てボード11の外接円の直径よりも大きく、目立てボード11は開口19aの内側に配置される。目立てボード11及びフレーム19にテープ17が貼付されると、目立てボード11がテープ17を介してフレーム19によって支持される。 The outer periphery of the tape 17 is attached to an annular frame 19 made of metal or the like and having a circular opening 19a in the center. Note that the diameter of the opening 19a is larger than the diameter of the circumscribed circle of the dressing board 11, and the dressing board 11 is arranged inside the opening 19a. When the tape 17 is attached to the dressing board 11 and the frame 19, the dressing board 11 is supported by the frame 19 via the tape 17.

フレーム19によって支持された目立てボード11に切削ブレードを切り込ませることにより、切削ブレードの目立てが行われる。この切削ブレードの目立ては、切削装置を用いて実施される。図3は、切削装置2を示す斜視図である。 The cutting blade is sharpened by cutting the cutting blade into the sharpening board 11 supported by the frame 19. This sharpening of the cutting blade is performed using a cutting device. FIG. 3 is a perspective view showing the cutting device 2. As shown in FIG.

切削装置2は、被加工物又は目立てボード11を保持するチャックテーブル(保持テーブル)4を備える。チャックテーブル4の上面は、X軸方向(加工送り方向、前後方向、第1水平方向)及びY軸方向(割り出し送り方向、左右方向、第2水平方向)と概ね平行に形成され、被加工物又は目立てボード11を保持する保持面を構成している。この保持面は、チャックテーブル4の内部に形成された吸引路(不図示)を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。 The cutting device 2 includes a chuck table (holding table) 4 that holds a workpiece or a dressing board 11 . The upper surface of the chuck table 4 is formed approximately parallel to the X-axis direction (processing feed direction, front-rear direction, first horizontal direction) and the Y-axis direction (indexing feed direction, left-right direction, second horizontal direction). Alternatively, it constitutes a holding surface that holds the dressing board 11. This holding surface is connected to a suction source (not shown) such as an ejector via a suction path (not shown) formed inside the chuck table 4.

チャックテーブル4の周囲には、目立てボード11を支持するフレーム19を把持して固定する複数のクランプ(不図示)が設けられている。また、チャックテーブル4は、チャックテーブル4をX軸方向に沿って移動させる移動機構(不図示)と、チャックテーブル4をZ軸方向(鉛直方向、上下方向)に概ね平行な回転軸の周りで回転させる回転機構(不図示)とに接続されている。 A plurality of clamps (not shown) are provided around the chuck table 4 to grip and fix a frame 19 that supports the dressing board 11. The chuck table 4 also includes a moving mechanism (not shown) that moves the chuck table 4 along the X-axis direction, and a movement mechanism (not shown) that moves the chuck table 4 around a rotation axis that is generally parallel to the Z-axis direction (vertical direction, vertical direction). It is connected to a rotation mechanism (not shown) for rotation.

チャックテーブル4の上方には、被加工物又は目立てボード11を切削する切削ユニット6が配置されている。切削ユニット6は円筒状のハウジング8を備え、このハウジング8内には、Y軸方向と概ね平行に配置された円筒状のスピンドル(不図示)が収容されている。 A cutting unit 6 for cutting a workpiece or a dressing board 11 is arranged above the chuck table 4. The cutting unit 6 includes a cylindrical housing 8, and a cylindrical spindle (not shown) arranged approximately parallel to the Y-axis direction is accommodated within the housing 8.

スピンドルの先端部(一端部)はハウジング8の外部に露出しており、この先端部には環状の切削ブレード10が装着される。また、スピンドルの基端部(他端部)にはモータ等の回転駆動源が接続されている。スピンドルの先端部に装着された切削ブレード10は、回転駆動源からスピンドルを介して伝達される動力によって回転する。 A tip (one end) of the spindle is exposed outside the housing 8, and an annular cutting blade 10 is attached to this tip. Further, a rotational drive source such as a motor is connected to the base end (other end) of the spindle. The cutting blade 10 attached to the tip of the spindle is rotated by power transmitted via the spindle from a rotational drive source.

また、スピンドルの先端部に切削ブレード10が装着されると、切削ブレード10はハウジング8に固定されたブレードカバー12に覆われる。ブレードカバー12は、純水等の切削液が供給されるチューブ(不図示)に接続される接続部14と、接続部14に接続され切削ブレード10の両側面側(表裏面側)にそれぞれ配置される一対のノズル16とを備える。一対のノズル16にはそれぞれ、切削ブレード10に向かって開口する噴射口(不図示)が形成されている。 Further, when the cutting blade 10 is attached to the tip of the spindle, the cutting blade 10 is covered by a blade cover 12 fixed to the housing 8. The blade cover 12 has a connection part 14 connected to a tube (not shown) to which cutting fluid such as pure water is supplied, and a connection part 14 connected to the connection part 14 and arranged on both sides (front and back sides) of the cutting blade 10. A pair of nozzles 16 are provided. Each of the pair of nozzles 16 is formed with an injection port (not shown) that opens toward the cutting blade 10 .

接続部14に切削液が供給されると、一対のノズル16の噴射口から切削ブレード10の両側面(表裏面)に向かって切削液が噴射される。この切削液によって、切削ブレード10と、チャックテーブル4によって保持された被加工物又は目立てボード11とが冷却されるとともに、切削加工によって生じた屑(切削屑)が洗い流される。 When the cutting fluid is supplied to the connecting portion 14, the cutting fluid is sprayed from the injection ports of the pair of nozzles 16 toward both sides (front and back surfaces) of the cutting blade 10. This cutting fluid cools the cutting blade 10 and the workpiece or dressing board 11 held by the chuck table 4, and also washes away debris generated by the cutting process.

また、切削ユニット6には、切削ユニット6を移動させる移動機構(不図示)が接続されている。この移動機構は、切削ユニット6をY軸方向に沿って移動させるとともに、Z軸方向に沿って昇降させる。これにより、切削ブレード10のY軸方向及びZ軸方向における位置が制御される。 Further, the cutting unit 6 is connected to a moving mechanism (not shown) that moves the cutting unit 6. This moving mechanism moves the cutting unit 6 along the Y-axis direction and raises and lowers it along the Z-axis direction. Thereby, the position of the cutting blade 10 in the Y-axis direction and the Z-axis direction is controlled.

切削装置2を用いて切削ブレード10の目立てを行う際は、まず、切削装置2のチャックテーブル4によって目立てボード11を保持する(保持工程)。具体的には、目立てボード11の表面側(目立て部材15の表面15a側)が上方に露出し、目立てボード11の裏面側(基板13の裏面13b側)がチャックテーブル4の保持面に対向するように、テープ17を介して目立てボード11をチャックテーブル4上に配置する。また、目立てボード11を支持するフレーム19を、チャックテーブル4の周囲に設けられた複数のクランプ(不図示)によって固定する。 When sharpening the cutting blade 10 using the cutting device 2, first, the sharpening board 11 is held by the chuck table 4 of the cutting device 2 (holding step). Specifically, the front surface side of the sharpening board 11 (the surface 15a side of the sharpening member 15) is exposed upward, and the back surface side of the sharpening board 11 (the back surface 13b side of the substrate 13) faces the holding surface of the chuck table 4. The sharpening board 11 is placed on the chuck table 4 with the tape 17 in between. Further, a frame 19 that supports the dressing board 11 is fixed by a plurality of clamps (not shown) provided around the chuck table 4.

この状態で、チャックテーブル4の保持面に吸引源の負圧を作用させると、目立てボード11がテープ17を介してチャックテーブル4によって吸引される。これにより、目立てボード11の基板13側がチャックテーブル4によって保持される。 In this state, when negative pressure from a suction source is applied to the holding surface of the chuck table 4, the dressing board 11 is suctioned by the chuck table 4 through the tape 17. Thereby, the substrate 13 side of the dressing board 11 is held by the chuck table 4.

次に、切削ブレード10を目立てボード11の目立て部材15側に切り込ませ、切削ブレード10で基板13を目立て部材15とともに切削する(目立て工程)。切削ブレード10を目立てボード11に切り込ませることにより、切削ブレード10の先端部が摩耗し、切削ブレード10の目立てが行われる。 Next, the cutting blade 10 is cut into the dressing member 15 side of the dressing board 11, and the substrate 13 is cut together with the dressing member 15 by the cutting blade 10 (sharpening step). By cutting the cutting blade 10 into the sharpening board 11, the tip of the cutting blade 10 is worn out, and the cutting blade 10 is sharpened.

目立て工程では、まず、チャックテーブル4を回転させて、目立てボード11の一辺の長さ方向をX軸方向又はY軸方向に合わせる。また、切削ブレード10と目立てボード11とが平面視で重ならず、且つ正面視で重なるように、チャックテーブル4及び切削ユニット6の位置を調整する。 In the dressing process, first, the chuck table 4 is rotated to align the length direction of one side of the dressing board 11 with the X-axis direction or the Y-axis direction. Further, the positions of the chuck table 4 and the cutting unit 6 are adjusted so that the cutting blade 10 and the sharpening board 11 do not overlap in a plan view and overlap in a front view.

さらに、切削ブレード10の先端部が目立てボード11の基板13に切り込むように、切削ユニット6のZ軸方向における位置を調整する。具体的には、切削ブレード10の下端10a(図4参照)が、基板13の表面13aより下方で、且つ、基板13の裏面13bよりも上方に配置されるように、切削ユニット6の高さを調整する。 Further, the position of the cutting unit 6 in the Z-axis direction is adjusted so that the tip of the cutting blade 10 cuts into the substrate 13 of the dressing board 11. Specifically, the height of the cutting unit 6 is adjusted such that the lower end 10a (see FIG. 4) of the cutting blade 10 is located below the front surface 13a of the substrate 13 and above the back surface 13b of the substrate 13. Adjust.

そして、切削ブレード10を回転させながら、チャックテーブル4をX軸方向に移動させて、目立てボード11と切削ブレード10とを相対的に移動させる(加工送り)。これにより、切削ブレード10が目立てボード11の目立て部材15側に切り込む。その結果、目立てボード11の基板13及び目立て部材15が切削ブレード10に接触して、切削ブレード10を摩耗させる。また、目立てボード11の目立て部材15側には、線状の切削溝11aが形成される(図3参照)。 Then, while rotating the cutting blade 10, the chuck table 4 is moved in the X-axis direction to relatively move the sharpening board 11 and the cutting blade 10 (processing feed). As a result, the cutting blade 10 cuts into the dressing board 11 on the dressing member 15 side. As a result, the substrate 13 of the dressing board 11 and the dressing member 15 come into contact with the cutting blade 10, causing the cutting blade 10 to wear out. Moreover, a linear cutting groove 11a is formed on the dressing member 15 side of the dressing board 11 (see FIG. 3).

例えば、切削ブレード10を矢印Aで示す方向に回転させながら、チャックテーブル4を矢印Bで示す方向(後方)に移動させる。この場合、切削ブレード10の下端の移動方向とチャックテーブル4の移動方向とが一致するように、チャックテーブル4と切削ブレード10とが相対的に移動する。そして、切削ブレード10が目立てボード11の表面側(目立て部材15側)から裏面側(基板13側)に向かって切り込む、所謂ダウンカットが行われる。 For example, while rotating the cutting blade 10 in the direction shown by arrow A, the chuck table 4 is moved in the direction shown by arrow B (backward). In this case, the chuck table 4 and the cutting blade 10 move relatively so that the moving direction of the lower end of the cutting blade 10 and the moving direction of the chuck table 4 match. Then, a so-called down cut is performed in which the cutting blade 10 cuts from the front side (dressing member 15 side) of the dressing board 11 toward the back side (substrate 13 side).

図4は、切削ブレード10が目立てボード11に切り込む様子を示す断面図である。切削ブレード10は、下端10aが基板13に達する切り込み深さDで、目立てボード11の目立て部材15側に切り込む。なお、切削ブレード10の目立てボード11への切り込み深さDは、目立てボード11の表面(目立て部材15の表面15a)と切削ブレード10の下端10aとの高さの差に相当する。 FIG. 4 is a cross-sectional view showing how the cutting blade 10 cuts into the dressing board 11. The cutting blade 10 cuts into the dressing member 15 side of the dressing board 11 at a cutting depth D such that the lower end 10a reaches the substrate 13. Note that the cutting depth D of the cutting blade 10 into the dressing board 11 corresponds to the difference in height between the surface of the dressing board 11 (the surface 15a of the dressing member 15) and the lower end 10a of the cutting blade 10.

また、切削ブレード10の目立てボード11への切り込み深さDは、切削ブレード10の目立て部材15への切り込み深さDと、切削ブレード10の基板13への切り込み深さDとの和に相当する。切り込み深さDは目立て部材15の厚さに相当し、切り込み深さDは基板13の表面13aと切削ブレード10の下端10aとの高さの差に相当する。 Further, the cutting depth D of the cutting blade 10 into the dressing board 11 is the sum of the cutting depth D1 of the cutting blade 10 into the dressing member 15 and the cutting depth D2 of the cutting blade 10 into the substrate 13. Equivalent to. The cut depth D1 corresponds to the thickness of the dressing member 15, and the cut depth D2 corresponds to the difference in height between the surface 13a of the substrate 13 and the lower end 10a of the cutting blade 10.

切削ブレード10を目立てボード11に切り込ませると、切削ブレード10は、目立て部材15を表面15a側から裏面15b側に向かって切削して切断するとともに、基板13の表面13a側の一部を切削する。その結果、切削ブレード10の先端部でボンド材の摩耗が生じる。 When the cutting blade 10 cuts into the dressing board 11, the cutting blade 10 cuts the dressing member 15 from the front surface 15a side toward the back surface 15b side, and also cuts a part of the front surface 13a side of the substrate 13. do. As a result, the bond material wears out at the tip of the cutting blade 10.

その後、切削ユニット6をY軸方向に移動させ(割り出し送り)、切削ブレード10を目立てボード11の切削溝11aが形成されていない領域に更に切り込ませる。そして、切削ブレード10の先端部で砥粒がボンド材から十分に突出するまで、同様の手順を繰り返す。これにより、切削ブレード10の目立てが行われ、切削ブレード10の切れ味が向上する。 Thereafter, the cutting unit 6 is moved in the Y-axis direction (indexing feed), and the cutting blade 10 is further cut into the region of the dressing board 11 where the cutting groove 11a is not formed. Then, the same procedure is repeated until the abrasive grains sufficiently protrude from the bond material at the tip of the cutting blade 10. As a result, the cutting blade 10 is sharpened, and the sharpness of the cutting blade 10 is improved.

ここで、基板13は砥粒を含有しておらず、目立て部材15は砥粒を含有している。そのため、基板13は目立て部材15よりも切削ブレード10の摩耗を生じさせにくい。そして、切削ブレード10を目立てボード11に切り込ませると、切削ブレード10の先端部は目立て部材15と接触して摩耗するとともに、基板13と接触して僅かに摩耗する。 Here, the substrate 13 does not contain abrasive grains, and the sharpening member 15 contains abrasive grains. Therefore, the substrate 13 is less likely to cause wear of the cutting blade 10 than the dressing member 15. Then, when the cutting blade 10 is cut into the dressing board 11, the tip of the cutting blade 10 comes into contact with the dressing member 15 and is worn, and also comes into contact with the substrate 13 and is slightly worn.

このように、目立て部材15の下方に砥粒を含有しない基板13を配置し、切削ブレード10を基板13に達するように切り込ませると、切削ブレード10を目立て部材15のみに切り込ませる場合と比較して、切削ブレード10の先端部の摩耗が緩和される。これにより、切削ブレード10の先端部におけるボンド材の過剰な摩耗、及び砥粒の過剰な突出が防止される。その結果、後に切削ブレード10で被加工物を切削する際、被加工物に欠け(チッピング)等の加工不良が発生することを防止できる。 In this way, if the substrate 13 that does not contain abrasive grains is placed below the sharpening member 15 and the cutting blade 10 is made to cut so as to reach the substrate 13, the case where the cutting blade 10 is made to cut only into the sharpening member 15 is different. In comparison, wear at the tip of the cutting blade 10 is alleviated. This prevents excessive wear of the bond material at the tip of the cutting blade 10 and excessive protrusion of the abrasive grains. As a result, when the workpiece is later cut with the cutting blade 10, processing defects such as chipping can be prevented from occurring in the workpiece.

他方、切削ブレード10の摩耗は、主に砥粒を含有する目立て部材15との接触によって生じる。そのため、従来のように切削ブレード10を被加工物と材質が同一で砥粒を含有しない目立て用のウェーハ(ダミーウェーハ)に切り込ませる場合と比較して、切削ブレード10の摩耗が促進される。その結果、切削ブレード10の目立てに要する工程数及び時間が削減される。 On the other hand, wear of the cutting blade 10 is mainly caused by contact with the sharpening member 15 containing abrasive grains. Therefore, compared to the conventional case where the cutting blade 10 cuts into a dressing wafer (dummy wafer) that is made of the same material as the workpiece and does not contain abrasive grains, the wear of the cutting blade 10 is accelerated. . As a result, the number of steps and time required for sharpening the cutting blade 10 are reduced.

なお、基板13は、後に切削ブレード10によって加工される被加工物と同じ材質でなることが好ましい。例えば、被加工物がシリコンウェーハである場合は、シリコンでなる基板13を用いることが好ましい。この場合、切削ブレード10の先端部が、被加工物と材質が同じ基板13と接触して摩耗する。その結果、切削ブレード10の先端部における砥粒の突出量が、被加工物の材質に合わせて最適化される。これにより、切削ブレード10が被加工物の切削に馴染むように目立てが行われ、切削ブレード10が被加工物の加工により適した状態となる。 Note that the substrate 13 is preferably made of the same material as the workpiece to be processed later by the cutting blade 10. For example, when the workpiece is a silicon wafer, it is preferable to use the substrate 13 made of silicon. In this case, the tip of the cutting blade 10 comes into contact with the substrate 13 made of the same material as the workpiece and wears out. As a result, the amount of abrasive grain protrusion at the tip of the cutting blade 10 is optimized depending on the material of the workpiece. As a result, the cutting blade 10 is sharpened so that it is suitable for cutting the workpiece, and the cutting blade 10 is brought into a state more suitable for machining the workpiece.

ただし、基板13の材質と被加工物の材質とは異なっていてもよい。この場合、基板13の材質は、被加工物の性質(脆性、延性、靭性等)に基づき、基板13と被加工物とで切削ブレード10を摩耗させる効果が同等となるように選択されることが好ましい。例えば、被加工物がGaAsウェーハである場合は、シリコンでなる基板13を用いてもよい。 However, the material of the substrate 13 and the material of the workpiece may be different. In this case, the material of the substrate 13 is selected based on the properties of the workpiece (brittleness, ductility, toughness, etc.) so that the effect of wearing the cutting blade 10 on the substrate 13 and the workpiece is equivalent. is preferred. For example, if the workpiece is a GaAs wafer, the substrate 13 made of silicon may be used.

図4に示す切り込み深さD及び切り込み深さDの値は、切削ブレード10の材質、厚さ、径、目立てボード11の材質等に応じて、切削ブレード10の目立てが適切に実施されるように設定される。そして、この切り込み深さDと切り込み深さDとの値に基づき、目立て部材15の厚さ(切り込み深さDに対応)が設定される。例えば、切り込み深さDが0.25~0.3mm程度、切り込み深さDが0.05~0.1mm程度に設定される場合には、目立て部材15の厚さは0.2mm程度に設定される。 The values of the cutting depth D and the cutting depth D2 shown in FIG. 4 are determined according to the material, thickness, diameter of the cutting blade 10, material of the sharpening board 11, etc., so that the sharpening of the cutting blade 10 is appropriately carried out. It is set as follows. Then, the thickness of the dressing member 15 (corresponding to the cutting depth D1 ) is set based on the values of the cutting depth D and the cutting depth D2 . For example, when the cut depth D is set to about 0.25 to 0.3 mm and the cut depth D2 is set to about 0.05 to 0.1 mm, the thickness of the dressing member 15 is set to about 0.2 mm. Set.

基板13の厚さは、切り込み深さDよりも大きい値であれば制限はない。ただし、基板13の厚さは、基板13の剛性がある程度高くなり、目立てボード11に撓みが生じにくくなるように設定されることが好ましい。例えば、基板13の厚さは目立て部材15の厚さ以上、好ましくは目立て部材15の厚さの3倍以上に設定される。また、基板13の裏面13b側に目立てボード11を支持するサポート部材を固定して、目立てボード11の剛性を高めてもよい。 The thickness of the substrate 13 is not limited as long as it is larger than the cutting depth D2 . However, it is preferable that the thickness of the substrate 13 is set so that the rigidity of the substrate 13 is increased to some extent and the sharpening board 11 is less likely to be bent. For example, the thickness of the substrate 13 is set to be greater than or equal to the thickness of the dressing member 15, preferably at least three times the thickness of the dressing member 15. Further, the rigidity of the dressing board 11 may be increased by fixing a support member that supports the dressing board 11 to the back surface 13b side of the substrate 13.

以上の通り、本実施形態に係る目立てボード11は、砥粒を含有しない基板13と、砥粒を含有する目立て部材15とを備える。そして、切削ブレード10で基板13を目立て部材15とともに切削することにより、切削ブレード10の目立てを実施できる。このとき、切削ブレード10を基板13に達するように目立てボード11に切り込ませると、切削ブレード10の先端部の摩耗が緩和される。これにより、切削ブレード10の過剰な目立てが防止され、切削ブレード10によって被加工物を加工する際における加工不良の発生が抑制される。 As described above, the dressing board 11 according to the present embodiment includes the substrate 13 that does not contain abrasive grains, and the dressing member 15 that contains abrasive grains. Then, by cutting the substrate 13 with the cutting blade 10 together with the dressing member 15, the cutting blade 10 can be dressed. At this time, if the cutting blade 10 is cut into the dressing board 11 so as to reach the substrate 13, wear on the tip of the cutting blade 10 is alleviated. This prevents excessive sharpening of the cutting blade 10, and suppresses the occurrence of machining defects when machining a workpiece with the cutting blade 10.

なお、目立て前の切削ブレード10は、その先端部で砥粒がほとんど露出していない状態となっている。この状態の切削ブレード10を目立てボード11に切り込ませると、目立てボード11及び切削ブレード10にかかる圧力(加工負荷)が大きくなり、目立てボード11及び切削ブレード10に割れ、欠け等が発生する恐れがある。そのため、目立ての前半での加工送り速度は、目立ての後半での加工送り速度よりも小さく設定することが好ましい。 Note that the cutting blade 10 before sharpening has almost no abrasive grains exposed at its tip. If the cutting blade 10 in this state is cut into the dressing board 11, the pressure (processing load) applied to the dressing board 11 and the cutting blade 10 will increase, and there is a risk that the dressing board 11 and the cutting blade 10 may crack or chip. There is. Therefore, it is preferable that the machining feed rate in the first half of sharpening is set lower than the machining feed rate in the second half of sharpening.

例えば、まず、切削ブレード10を所定の回転数(例えば30000rmp)で回転させるとともに、チャックテーブル4を第1の加工送り速度(例えば10mm/s)で移動させ、1回目の切削を行う(第1切削ステップ)。その後、切削ブレード10の回転数を維持したまま、チャックテーブル4を第1の加工送り速度よりも速い第2の加工送り速度(例えば40mm/s)で移動させ、2回目以降の切削を行う(第2切削ステップ)。 For example, first, the cutting blade 10 is rotated at a predetermined rotation speed (for example, 30,000 rpm), and the chuck table 4 is moved at a first machining feed rate (for example, 10 mm/s) to perform the first cutting (first cutting step). Thereafter, while maintaining the rotational speed of the cutting blade 10, the chuck table 4 is moved at a second machining feed rate (for example, 40 mm/s) faster than the first machining feed rate, and the second and subsequent cutting is performed ( 2nd cutting step).

このように、少なくとも1回目の切削におけるチャックテーブル4の加工送り速度を小さく設定することにより、加工負荷を低減し、目立てボード11及び切削ブレード10に割れ、欠け等が発生することを防止できる。なお、第1切削ステップ及び第2切削ステップにおける切削回数に制限はない。例えば、第1切削ステップにおける切削回数は1回、第2切削ステップにおける切削回数は10回以上50回以下程度に設定される。 In this way, by setting the machining feed rate of the chuck table 4 low in at least the first cutting, the machining load can be reduced, and cracks, chips, etc. can be prevented from occurring in the dressing board 11 and the cutting blade 10. Note that there is no limit to the number of times of cutting in the first cutting step and the second cutting step. For example, the number of cuttings in the first cutting step is set to one, and the number of cuttings in the second cutting step is set to about 10 to 50 times.

また、第1切削ステップにおける切削ブレード10の目立てボード11への切り込み深さを、第2切削ステップにおける切削ブレード10の目立てボード11への切り込み深さより小さく設定してもよい。この場合にも、第1切削ステップにおける加工負荷を低減することができる。 Further, the cutting depth of the cutting blade 10 into the dressing board 11 in the first cutting step may be set smaller than the cutting depth of the cutting blade 10 into the dressing board 11 in the second cutting step. Also in this case, the processing load in the first cutting step can be reduced.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, etc. according to the above embodiments can be modified and implemented as appropriate without departing from the scope of the objective of the present invention.

11 目立てボード
11a 切削溝
13 基板(第1目立て層)
13a 表面(第1面)
13b 裏面(第2面)
15 目立て部材(第2目立て層)
15a 表面(第1面)
15b 裏面(第2面)
17 テープ
19 フレーム
19a 開口
2 切削装置
4 チャックテーブル(保持テーブル)
6 切削ユニット
8 ハウジング
10 切削ブレード
10a 下端
12 ブレードカバー
14 接続部
16 ノズル
11 Dressing board 11a Cutting groove 13 Substrate (first dressing layer)
13a Surface (first side)
13b Back side (second side)
15 Dressing member (second dressing layer)
15a Surface (first side)
15b Back side (second side)
17 Tape 19 Frame 19a Opening 2 Cutting device 4 Chuck table (holding table)
6 Cutting unit 8 Housing 10 Cutting blade 10a Lower end 12 Blade cover 14 Connection part 16 Nozzle

Claims (3)

被加工物を切削する切削ブレードを切り込ませて該切削ブレードの目立てをするための目立てボードであって、
該被加工物と同じ材質でなり砥粒を含有しない基板と、
該基板上に設けられ、砥粒を含有する目立て部材と、を備え、
該基板及び該目立て部材は、該切削ブレードと接触して該切削ブレードを摩耗させることを特徴とする目立てボード。
A sharpening board for sharpening a cutting blade by cutting a cutting blade into the workpiece,
a substrate made of the same material as the workpiece and containing no abrasive grains;
A sharpening member provided on the substrate and containing abrasive grains,
A sharpening board, wherein the substrate and the sharpening member contact the cutting blade to wear the cutting blade.
該基板の厚さは、0.2mm以上1mm以下であり、
該目立て部材の厚さは、0.05mm以上1mm以下であることを特徴とする請求項1記載の目立てボード。
The thickness of the substrate is 0.2 mm or more and 1 mm or less,
The dressing board according to claim 1, wherein the dressing member has a thickness of 0.05 mm or more and 1 mm or less.
砥粒を含有しない基板と、該基板上に設けられ砥粒を含有する目立て部材と、を備える目立てボードを用いて、被加工物を切削する切削ブレードの目立てをする切削ブレードの目立て方法であって、
切削装置のチャックテーブルによって該目立てボードの該基板側を保持する保持工程と、
該切削ブレードを該目立てボードの該目立て部材側に切り込ませ、該切削ブレードで該被加工物と同じ材質でなる該基板を該目立て部材とともに切削する目立て工程と、を備えることを特徴とする切削ブレードの目立て方法。
A cutting blade sharpening method for sharpening a cutting blade for cutting a workpiece using a sharpening board comprising a substrate containing no abrasive grains and a sharpening member provided on the substrate and containing abrasive grains. hand,
a holding step of holding the substrate side of the dressing board with a chuck table of a cutting device;
A sharpening step of cutting the cutting blade into the sharpening member side of the sharpening board and cutting the substrate made of the same material as the workpiece with the cutting blade together with the sharpening member. How to sharpen cutting blades.
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