JP2021131570A - 画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】斜め色差を一層抑制できる画像表示装置を提供する。【解決手段】一形態に係る画像表示装置は、光反射性画像表示層と、位相差フィルム及び偏光フィルムとを備え、偏光フィルムの吸収軸と位相差フィルムの面内遅相軸とのなす角度が４５度±５度であり、上記位相差フィルムの面内リタデーションをＲ０とし、位相差フィルムの厚さ方向に対して傾斜角θ方向に直交する面を投影面とし、位相差フィルムの面内進相軸及び面内遅相軸を回転軸と仮定した場合において、投影面での位相差フィルムの面内リタデーションをＲ（θ）ｆａｓｔ及びＲ（θ）ｓｌｏｗとし、投影面での光反射性画像表示層の面内リタデーションをＲ（θ）Ｍとしたとき、所定の式であらわされる条件を満たす。【選択図】図２

Description

本発明は、画像表示装置に関する。

フラットパネル表示装置には、表示装置の光学補償のために、位相差フィルム及び偏光フィルムが積層された光学積層体が設けられる。例えばフラットパネル表示装置の中でも有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）画像表示装置では、外部からの入射光が、内部に組込まれた光反射性の画像表示層によって視認側に向けて反射する内部反射光を低減するために、光反射性画像表示層の視認側に、このような光学積層体が積層されて使用される。このような光学積層体としては、例えば、特許文献１に記載されているような楕円偏光板がある。

特開２０１５−１６３９４０号公報

フラットパネル表示装置のうちでも、例えば有機ＥＬ画像表示装置では、画面を正面方向からみた場合と斜め方向からみた場合とで、内部の反射性画像表示層から僅かに反射されて視認側に到達する内部反射光の反射色が異なり、更に斜め方向においては面内角に応じた反射色を生じる。この斜め方向においては面内角に応じた反射色の色差の最大値を斜め色差と呼ぶ。表示装置の画像表示面上に、特許文献１に記載されているような光学積層体を配置することで、斜め色差は抑制される。しかしながら、近年、斜め色差の更なる抑制が求められている。

したがって、本発明は、斜め色差を一層抑制できる画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明の一側面に係る画像表示装置は、光反射性画像表示層と、上記光反射性画像表示層の画像表示面上に設けられた位相差フィルム及び偏光フィルムとを備える画像表示装置であって、上記偏光フィルムの吸収軸と上記位相差フィルムの面内遅相軸とのなす角度が４５度±５度であり、上記位相差フィルムの面内リタデーションをＲ０とし、上記位相差フィルムの厚さ方向に対して傾斜角θ方向に直交する面を投影面とし、上記位相差フィルムの面内進相軸を回転軸と仮定した場合において、上記投影面における上記位相差フィルムの面内リタデーションをＲ（θ）_ｆａｓｔとし、上記位相差フィルムの上記面内遅相軸を回転軸と仮定した場合において、上記投影面における上記位相差フィルムの面内リタデーションがＲ（θ）_ｓｌｏｗとし、上記投影面における上記光反射性画像表示層の面内リタデーションをＲ（θ）Ｍとしたとき、下式（ｉ）〜式（ｉｖ）を満たす。
α＝Ｒ０−｛Ｒ（θ）_ｆａｓｔ ＋ Ｒ（θ）Ｍ｝ ・・・（ｉ）
β＝Ｒ０−｛Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ − Ｒ（θ）Ｍ｝ ・・・（ｉｉ）
｜α（θ）｜＋｜β（θ）｜＜１０ｎｍ ・・・（ｉｉｉ）
｜Ｒ（θ）Ｍ｜＞０ｎｍ ・・・（ｉｖ）

上記構成では、位相差フィルムの面内リタデーションとともに、光反射性画像表示層の面内リタデーションが考慮されている。そのため、光反射画像表示層上に、位相差フィルム及び偏光フィルムを設けることによって、斜め色差を十分に抑制できる。

上記Ｒ０、上記Ｒ（θ）_ｆａｓｔ、上記Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ及び上記Ｒ（θ）Ｍは、例えば、波長５５０ｎｍにおけるリタデーションであってもよい。

上記傾斜角θは、５０度であってもよい。

本発明の他の側面に係る画像表示装置は、光反射性画像表示層と、上記光反射性画像表示層の画像表示面上に設けられた位相差フィルム及び偏光フィルムとを備える画像表示装置であって、上記偏光フィルムの吸収軸と上記位相差フィルムの面内遅相軸とのなす角度が４５度±５度であり、上記位相差フィルムの面内リタデーションをＲ０とし、上記位相差フィルムの厚さ方向のリタデーションをＲｔｈとし、上記位相差フィルムの厚さ方向に対して傾斜角が５０度である方向に直交する面を投影面とし、上記投影面における上記光反射性画像表示層の面内リタデーションをＲ（５０）Ｍとし、上記Ｎｚ及び上記ρを式（ｖ）及び式（ｖｉ）で表したとき、上記Ｎｚ及び上記ρが、式（ｖｉｉ）、式（ｖｉｉｉ）及び式（ｉｘ）を満たすか、または、式（ｖｉｉ）、式（ｘ）及び式（ｘｉ）を満たし、上記Ｒ０、上記Ｒｔｈ及び上記Ｒ（５０）Ｍは、波長５５０ｎｍに対するリタデーションである。
Ｎｚ＝（Ｒｔｈ／Ｒ０）＋０．５・・・（ｖ）
ρ＝Ｒ（５０）Ｍ／Ｒ０・・・（ｖｉ）
３．５ρ＋０．３９＜Ｎｚ＜３．５ρ＋０．６５ ・・・（ｖｉｉ）
ρ＞０・・・（ｖｉｉｉ）
０．５＜Ｎｚ≦１．５・・・（ｉｘ）
ρ＜０・・・（ｘ）
−１．５＜Ｎｚ＜０．５・・・（ｘｉ）

上記構成においても、光反射性画像表示層の面内リタデーションが考慮されている。そのため、光反射画像表示層上に、位相差フィルム及び偏光フィルムを設けることによって、斜め色差を十分に抑制できる。

上記位相差フィルムは、ＡプレートとＣプレートとを有してもよい。

上記位相差フィルムと上記偏光フィルムとは円偏光板を構成してもよい。

本発明によれば、斜め色差を一層抑制できる画像表示装置を提供できる。

図１は、一実施形態に係る画像表示装置の概略構成を示す模式図である。 図２は、遅相軸と、進相軸及び偏光フィルムの吸収軸との関係を示す図面である。 図３は、投影面を説明するための図面である。 図４は、斜め視野の位相差を説明するための図面である。 図５は、第１実施形態の観点に基づいた実施例及び比較例の結果を示す図表である。 図６は、第１実施形態の観点に基づいた実施例及び比較例の結果を示す図表である。 図７は、第１実施形態の観点に基づいた実施例及び比較例の結果を示す図表である。 図８は、第２実施形態の観点に基づいた実施例及び比較例の結果を示す図表である。 図９は、第２実施形態の観点に基づいた実施例及び比較例の結果を示す図表である。 図１０は、第２実施形態の観点に基づいた実施例及び比較例の結果を示す図表である。 図１１は、図８〜図１０に示した結果をρ-Ｎｚ座標系にプロットした図面である。

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。

図１は、一実施形態に係る画像表示装置２の概略構成を示す模式図である。画像表示装置２は、画像表示層（光反射性画像表示層）４と、光学積層体６とを有する。画像表示層４と光学積層体６とは接合されている。図１に示した形態では、画像表示層４と光学積層体６とは粘着剤層８ａによって接合されている。

画像表示層４は、内部で画像を形成し、画像表示面４ａに画像を表示する。画像表示層４は、画像を形成するための素子構造などを含む。そのため、上記素子構造に含まれる電極、素子構造間を接続する配線等は、光を反射する反射部として機能する。そのため、画像表示層４は、光学積層体６側から画像表示装置２に入射した光を反射する光反射性を有する。画像表示層４の厚さは、例えば、０.２ｍｍ〜１．０ｍｍである。

画像表示層４は、画像表示面４ａに画像を形成するように構成されていれば、層構成及び材料などは限定されない。画像表示層４は、例えば、金、銀、銅、鉄、錫、ニッケル、クロム、モリブデン、チタン、アルミニウム、インジウム等の金属、それらの合金と酸化物等を用いた電極及び配線から形成される部分（又は層）、樹脂フィルム、バンク材、発光素子などの誘電体部分、及びその他の層などの多重積層体であり得る。

画像表示層４として、例えば、フラットパネル表示装置である。フラットペネル表示装置の例は、薄型（又はパネル状）の有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、「ＯＬＥＤ表示装置」ともいう、独立発光する画素を有する無機エレクトロルミネッセンスデバイス（以下、「マイクロＬＥＤ表示装置」ともいう）が挙げられる。画像表示層４として例示する表示装置は、画像表示面上に、光学補償するための部材を含まない状態の装置である。

画像表示層４がＯＬＥＤ表示装置である場合、典型的には、ＯＬＥＤ表示装置が備える電極が上記反射部である。ＯＬＥＤ表示装置は、互いに対向する一対の電極間に有機発光材料層が挟持された薄膜構造体を有する。この有機発光材料層に一方の電極から電子が注入されるとともに、他方の電極から正孔が注入されることにより有機発光材料層内で電子と正孔とが結合して自己発光を行う。有機発光材層を挟む２つの電極のうち画像表示面４ａ側の電極は有機発光材層からの光を透過する機能を有する一方、他方の電極は有機発光材層からの光を画像表示面４ａに向けて反射する機能を有する。したがって、上記他方の電極が、典型的には、ＯＬＥＤ表示装置における反射部として機能する。

ＯＬＥＤ表示装置は、バックライトを必要とする液晶表示装置等と比較して視認性がよく、より薄型化が可能であり、かつ、直流低電圧駆動が可能であるという利点を有する。

画像表示層４がマイクロＬＥＤ表示装置である場合、化合物半導体で形成される発光部と画素接続部及び、電極部分が外光を反射する。したがって、マイクロＬＥＤ表示装置においては、上記発光部、画素接続部及び電極部分が上記反射部に相当する。

［粘着剤層］
粘着剤層８ａは、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤層８ｂの厚みは、通常３〜３０μｍであり、好ましくは３〜２５μｍである。

粘着剤組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの；ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの；ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの；ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。

［光学積層体］
光学積層体６は、偏光板１０と、位相差フィルム１２と有する。光学積層体６は、画像表示面４ａに表示される画像を補償するための光学要素である。偏光板１０と位相差フィルム１２とは接合されている。偏光板１０と位相差フィルム１２とは、図１に示したように粘着剤層８ｂによって接合され得る。粘着剤層８ｂの例は、粘着剤層８ａの場合と同様である。

［偏光板］
偏光板１０は、偏光フィルム１４を有する。偏光板１０は、２枚の保護フィルム１６を更に有してもよい。図１に例示した形態に基づいて偏光板１０を説明する。

偏光フィルム１４は、直線偏光特性を有する。偏光フィルム１４の例は、一軸延伸された樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向されたフィルムである。偏光フィルム１４は、直線偏光特性を有する樹脂フィルムであれば特に限定されず、公知の偏光板に使用されるものであればよい。

偏光フィルム１４が有する樹脂フィルムの例は、ポリビニルアルコール（以下「ＰＶＡ」と称す場合もある）系樹脂フィルム、ポリ酢酸ビニル樹脂フィルム、エチレン／酢酸ビニル樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム及びポリエステル樹脂フィルムを含む。通常、二色性色素の吸着性及び配向性の観点からＰＶＡ系樹脂フィルム、特にＰＶＡフィルムが用いられる。

２枚の保護フィルム１６は、偏光フィルム１４を挟んでおり、偏光フィルム１４を保護する。２枚の保護フィルム１６それぞれは、例えば、樹脂フィルム（例えば、トリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」とも称す）系フィルム）、ガラスカバー又はガラスフィルムである。２枚の保護フィルム１６の材料は、同じでもよいし、異なっていてもよい。保護フィルム１６の数は、１枚でもよい。例えば、偏光板１０は、位相差フィルム１２側の保護フィルム１６を有さなくてもよい。

偏光板１０は、長尺の部材を準備し、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせた後、所定形状に裁断して製造してもよいし、それぞれの部材を所定の形状に裁断した後、貼り合わせることによって製造され得る。

［位相差フィルム］
位相差フィルム１２は、入射した光に一定の位相差を生じさせる機能を有する。位相差フィルム１２は、図２に示したように、フィルム面内の遅相軸（面内遅相軸）１２ａ及び進相軸（面内進相軸）１２ｂを有する。遅相軸１２ａと進相軸１２ｂとの間の角度は、略９０度である。略９０度とは、９０度±５度を意味する。

位相差フィルム１２は、遅相軸１２ａが、図２に破線で示した偏光フィルム１４の吸収軸１４ａに対して略４５度となるように配置される。略４５度とは、４５±５度を意味する。

図１に戻って、位相差フィルム１２を更に説明する。位相差フィルム１２は、偏光板１０と接合されている。図１に例示した形態では、粘着剤層８ｂによって、位相差フィルム１２は、偏光板１０に接合されている。粘着剤層８ｂの例は、粘着剤層８ａの場合と同様である。

位相差フィルム１２は、Ａプレート（位相差子層）１８及びＣプレート（位相差子層）２０を有する。Ａプレート１８及びＣプレート２０は接合されている。図１に示した形態では、Ａプレート１８及びＣプレート２０は接着剤層８ｃによって接合されている。本実施形態において、位相差フィルム１２の遅相軸１２ａ及び進相軸１２ｂは、Ａプレート１８における面内の遅相軸及び進相軸である。なお、Ｃプレート２０は面内の位相差が実質的に０（ゼロ）であり、面内に遅相軸および進相軸が不存在である。以下、断らない限り、Ａプレート１８及びＣプレート２０における屈折率異方性を説明する場合には、図２に示した遅相軸１２ａ及び進相軸１２ｂを使用する。

［Ａプレート］
Ａプレート１８は、下記式（１）〜式（３）で表される特性を有するものであることが好ましい。Ａプレート１８は、ポジティブＡプレートであることができ、λ／４板であることができる。また、Ａプレート１８は、逆波長分散性を示すことが好ましい。このようなＡプレート１８を備えることで、反射光の色付きを抑制することができる。本実施形態では、Ａプレート１８の遅相軸（遅相軸１２ａ）は、偏光フィルム１４の吸収軸１４ａに対して略４５度となるように配置される。略４５度の意味は、前述のとおりである。

ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ …（１）
０．８０＜Ｒ０Ａ（４５０）／Ｒ０Ａ（５５０）＜０．９３ …（２）
１３０ｎｍ＜Ｒ０Ａ（５５０）＜１５０ｎｍ …（３）
式（１）〜式（３）において、ｎｘは、遅相軸１２ａ方向の屈折率を表し、ｎｙは、進相軸１２ｂ方向の屈折率を表し、ｎｚは、Ａプレート１８の厚さ方向（遅相軸１２ａ及び進相軸１２ｂに直交する方向）の屈折率を表す。Ｒ０Ａ（λ）は、Ａプレート１８の波長λｎｍにおけるリタデーションを表す。したがって、式（２）及び式（３）中の、Ｒ０Ａ（４５０）及びＲ０Ａ（５５０）は、波長４５０ｎｍ及び波長５５０ｎｍのリタデーションを表している。

ｎｙ≒ｎｚは、ｎｙとｎｚとが完全に等しい場合に加え、ｎｙとｎｚとが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、ｎｙとｎｚとの差の大きさが０．０１以内であれば、ｎｙとｎｚとが実質的に等しいと言うことができる。

Ｒ０Ａ（λ）は、波長λｎｍにおける屈折率ｎ（λ）と、Ａプレート１８の厚さｄ１から、以下の式に基づいて算出することができる。
Ｒ０Ａ（λ）＝〔ｎｘ（λ）−ｎｙ（λ）〕×ｄ１
Ｒ０Ａ（４５０）／Ｒ０Ａ（５５０）は、Ａプレート１８の波長分散性を表し、好ましくは０．９２以下である。

波長λｎｍにおけるＡプレート１８のリタデーションＲ０Ａ（λ）について、Ｒ０Ａ（４５０）は１００ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒ０Ａ（５５０）は１３７ｎｍ以上１４５ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒ０Ａ（６５０）は１３７以上１６５以下であることが好ましい。Ｒ０Ａ（６５０）は、波長６５０ｎｍのリタデーションを表している。

［Ｃプレート］
Ｃプレート２０は、下記式（４）で表される特性を有するものであることが好ましい。Ｃプレート２０は、ポジティブＣプレート２０であることができる。このようなＣプレート２０を備えることで、反射光の色付きを抑制することができる。
ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ …（４）
式（４）において、ｎｘは、遅相軸１２ａの方向の屈折率を表し、ｎｙは、進相軸１２ｂの方向の屈折率を表し、ｎｚは、Ｃプレート２０の厚さ方向（遅相軸１２ａ及び進相軸１２ｂに直交する方向）の屈折率を表す。

ｎｘ≒ｎｙは、ｎｘとｎｙとが完全に等しい場合に加え、ｎｘとｎｙとが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、ｎｘとｎｙとの差の大きさが０．０１以内であれば、ｎｘとｎｙとが実質的に等しいと言うことができる。

画像表示層４の反射特性に依存するが、具体的に、Ｃプレート２０の厚さ方向のリタデーションは、波長５５０ｎｍにおいて、−１２０ｎｍ以上０ｎｍ以下であることが好ましく、−１１０ｎｍ以上−１０ｎｍ以下であることがより好ましく、−９０ｎｍ以上−２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

Ｃプレート２０の波長λ［ｎｍ］の光に対する厚さ方向のリタデーションを、ＲｔｈＣ（λ）としたとき、ＲｔｈＣ（λ）は、波長λｎｍにおける屈折率ｎ（λ）と、Ｃプレート２０の厚さｄ２から、以下の式に基づいて算出することができる。
ＲｔｈＣ（λ）＝｛〔ｎｘ（λ）＋ｎｙ（λ）〕／２−ｎｚ（λ）｝×ｄ２

ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）は、Ｃプレート２０の波長分散性を表し、好ましくは１．５以下であり、より好ましくは１．１以下である。ＲｔｈＣ（４５０）及びＲｔｈＣ（５５０）はそれぞれ、波長４５０ｎｍ及び波長５５０ｎｍに対するＣプレート２０の厚さ方向のリタデーションである。

本実施形態において、Ａプレート１８及びＣプレート２０の厚さは、０．１μ以上５μｍ以下とすることができる。Ａプレート１８及びＣプレート２０の厚さがこの範囲内であると、十分な耐久性が得られ、光学積層体６の薄層化に貢献し得る。当然のことながら、Ａプレート１８及びＣプレート２０の厚さは、λ／４の位相差を与える層、λ／２の位相差を与える層、ポジティブＡプレート、又はポジティブＣプレート等の所望のリタデーション、及び厚さ方向のリタデーションが得られるよう調整され得る。

［接着剤層］
接着剤層８ｃは、公知の位相差フィルムで使用されている接着剤で形成されていればよい。接着剤としては、例えば、水系接着剤及び活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。接着剤層８ｃの代わりに、粘着剤層８ｂと同様の粘着剤層を使用してもよい。

［位相差フィルムの形成方法］
位相差フィルム１２が備えるＡプレート１８及びＣプレート２０は、熱可塑性樹脂や後述する重合性液晶化合物を含む組成物から形成することができる。Ａプレート１８及びＣプレート２０は重合性液晶化合物を含む組成物から形成されることが好ましい。重合性液晶化合物を含む組成物から形成される層としては、重合性液晶化合物が硬化した層が挙げられる。

Ａプレート１８が満たす式（１）〜式（３）の関係、Ｃプレート２０が満たす式（４）の関係は、例えばＡプレート１８及びＣプレート２０を形成する熱可塑性樹脂や重合性液晶化合物の種類や配合比率を調整したり、Ａプレート１８及びＣプレート２０の厚さを調整したりすることによって制御される。

重合性液晶化合物が硬化した層は例えば、基材に設けられた配向膜上に形成される。この基材は、配向膜を支持する機能を有し、長尺に形成されている基材であってもよい。この基材は、離型性支持体として機能し、転写用の位相差フィルム１２を支持することができる。さらに、その表面が剥離可能な程度の接着力を有するものが好ましい。基材としては、上記保護フィルムの材料として例示をした樹脂フィルムが挙げられる。

基材の厚さとしては、特に限定されないが、例えば２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲とすることが好ましい。基材の厚さが２０μｍ以上であると、強度が付与される。一方で、厚さが２００μｍ以下であると、基材を裁断加工して枚葉の基材とするにあたり、加工屑の増加、裁断刃の磨耗を抑制できる。

基材は、種々のブロッキング防止処理が施されていてもよい。ブロッキング防止処理としては、例えば、易接着処理、フィラー等を練り込ませる処理、エンボス加工（ナーリング処理）等が挙げられる。このようなブロッキング防止処理を基材に対して施すことによって、基材を巻き取る際の基材同士の張り付き、いわゆるブロッキングを効果的に防止することができ、生産性高く光学フィルムを製造することが可能となる。

重合性液晶化合物が硬化した層は、配向膜を介して基材上に形成される。すなわち、基材、配向膜の順で積層され、重合性液晶化合物が硬化した層は前記配向膜上に積層される。

配向膜は、垂直配向膜に限らず、重合性液晶化合物の分子軸を水平配向させる配向膜であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を傾斜配向させる配向膜であってもよい。Ａプレート１８を作製する場合には、水平配向膜を使用することができ、Ｃプレート２０を作製する場合には、垂直配向膜を使用することができる。配向膜としては、後述する重合性液晶化合物を含む組成物の塗工等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向膜が挙げられる。配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。

配向膜に用いる樹脂としては、公知の配向膜の材料として用いられる樹脂であれば特に限定されるものではなく、従来公知の単官能又は多官能の（メタ）アクリレート系モノマーを重合開始剤下で硬化させた硬化物等を用いることができる。具体的に、（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、ウレタンアクリレート等を例示することができる。なお、樹脂としては、これらの１種類であってもよいし、２種類以上の混合物であってもよい。

光配向膜は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物から形成される。光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

なかでも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

本実施形態で使用される重合性液晶化合物の種類については、特に限定されないものの、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。なお、高分子とは、一般に重合度が１００以上のものを言う（「高分子物理・相転移ダイナミクス、土井 正男著、２頁、岩波書店、１９９２」参照）。

本実施形態では、何れの重合性液晶化合物を用いることもできる。さらに、２種以上の棒状液晶化合物や、２種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。

棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１、又は、特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好適に用いることができる。円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］、又は、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好適に用いることができる。

重合性液晶化合物は、２種類以上を併用してもよい。その場合、少なくとも１種類が分子内に２以上の重合性基を有している。すなわち、前記重合性液晶化合物が硬化した層は、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。

重合性液晶化合物は、重合反応をし得る重合性基を有する。重合性基としては、例えば、重合性エチレン性不飽和基や環重合性基等の付加重合反応が可能な官能基が好ましい。より具体的には、重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を挙げることができる。その中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基及びアクリロイル基の両者を包含する概念である。

重合性液晶化合物が硬化した層は、後述するように、重合性液晶化合物を含む組成物を、例えば配向膜上に塗工することによって形成することができる。前記組成物には、上述した重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。例えば、前記組成物には、重合開始剤が含まれていることが好ましい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、例えば、熱重合開始剤や光重合開始剤が選択される。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ等が挙げられる。重合開始剤の使用量は、前記塗工液中の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。

また、前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられる。その中でも、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。

重合性モノマーとしては、上述した重合性液晶化合物と共重合することができるものが好ましい。具体的な重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。重合性モノマーの使用量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。

前記組成物には、塗工膜の均一性及び膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられる。その中でも特に、フッ素系化合物が好ましい。具体的な界面活性剤としては、例えば、特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特開２００５−６２６７３号公報中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。

また、前記組成物には、溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が挙げられる。その中でも、アルキルハライド、ケトンが好ましい。また、２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

また、前記組成物には、偏光フィルム界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤等の垂直配向促進剤、並びに、偏光フィルム界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤等の水平配向促進剤といった各種配向剤が含まれていてもよい。さらに、前記組成物には、上記成分以外にも、密着改良剤、可塑剤、ポリマー等が含まれていてもよい。

位相差フィルム１２が、Ａプレート１８及びＣプレート２０として重合性液晶化合物が硬化した層を２層以上含む場合、重合性液晶化合物が硬化した層を配向膜上にそれぞれ作製し、両者を例えば接着剤層８ｃを介して積層することにより、位相差フィルム１２が製造され得る。両者を積層した後、基材及び配向膜は剥離することができる。位相差フィルム１２の厚さは、３〜３０μｍであることが好ましく、５〜２５μｍであることがより好ましい。

位相差フィルム１２は、長尺の部材を準備し、ロール・トゥ・ロールでそれぞれの部材を貼り合わせた後、所定形状に裁断して製造してもよいし、それぞれの部材を所定の形状に裁断した後、貼り合わせてもよい。Ｃプレート２０は、Ａプレート１８上に、直接Ｃプレート２０を形成することによって得てもよい。すなわち、接着剤層８ｃは省略可能である。

［位相差フィルムの変形例］
位相差フィルム１２は、Ａプレート１８及びＣプレート２０以外に、位相差を有する他の層（以下、「その他の位相差子層」ということがある。）を１つ以上備えていてもよい。その他の位相差子層としては、画像表示層４に対して設けられるタッチセンサー、画像表示層４を封止するための封止層、画像表示層４に対するベースフィルム等が挙げられる。また、その他の位相差子層は、偏光フィルム１４に貼合されている保護フィルムであってもよい。その他の位相差子層は、偏光フィルム１４と画像表示層４との間に配置され、好ましくは、画像表示層４と、画像表示層４に最も近い位置にあるＡプレート１８又はＣプレート２０との間に配置される。

その他の位相差子層は、Ａプレートであってもよいが、通常はＣプレートであることができる。その他の位相差子層は、下記式（５）で表される特性を有していてもよい。すなわち、その他の位相差子層は、ネガティブＣプレートであることができる。
ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ …（５）
式（５）において、ｎｘは、遅相軸１２ａの方向の屈折率を表し、ｎｙは、進相軸１２ｂの方向の屈折率を表し、ｎｚは、その他の位相差子層の厚さ方向の屈折率を表す。

式（５）中におけるｎｘ≒ｎｙは、ｎｘとｎｙとが完全に等しい場合に加え、ｎｘとｎｙとが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、ｎｘとｎｙとの差の大きさが０．０１以内であれば、ｎｘとｎｙとが実質的に等しいと言うことができる。

その他、位相差フィルム１２は、上述した基材や配向膜を含んでいてもよく、ＡプレートとＣプレート以外の組み合わせを含んでいてもよい。具体的には二つ以上のＡプレートを組み合わせた構成でもよい。

画像表示装置２は、前面板及び遮光パターン（ベゼル）の少なくとも一方を更に備えもよい。前面板及び遮光パターンをそれぞれ説明する。

＜前面板＞
前面板は、偏光板１０の視認側に配置されてもよい。前面板は、接着層を介して偏光板１０に積層することができる。接着層としては、例えば前述の粘着剤層８ｂや接着剤層８ｃが挙げられる。

前面板としては、ガラス、樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなるもの等が挙げられる。ガラスとしては、例えば、高透過ガラスや、強化ガラスを用いることができる。特に薄い透明面材を使用する場合には、化学強化を施したガラスが好ましい。ガラスの厚みは、例えば１００μｍ〜５ｍｍとすることができる。

樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなる前面板は、既存のガラスのように硬直ではなく、フレキシブルな特性を有することができる。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、５〜１００μｍであってもよい。

樹脂フィルムとしては、ノルボルネン又は多環ノルボルネン系単量体のようなシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体、セルロース（ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、イソブチルエステルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース）エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリシクロオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ等の高分子で形成されたフィルムであってもよい。樹脂フィルムは、未延伸、１軸又は２軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独又は２種以上混合して使用することができる。樹脂フィルムとしては、透明性及び耐熱性に優れたポリアミドイミドフィルム又はポリイミドフィルム、１軸又は２軸延伸ポリエステルフィルム、透明性及び耐熱性に優れるとともに、フィルムの大型化に対応できるシクロオレフィン系誘導体フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム及び透明性と光学的に異方性のないトリアセチルセルロース及びイソブチルエステルセルロースフィルムが好ましい。樹脂フィルムの厚さは５〜２００μｍ、好ましくは、２０〜１００μｍであってもよい。

＜遮光パターン＞
遮光パターン（ベゼル）は、前面板における画像表示層４側に形成することができる。遮光パターンは、画像表示装置２の各配線を隠し使用者に視認されないようにすることができる。遮光パターンの色及び／又は材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色等の多様な色を有する樹脂物質で形成することができる。一実施形態において、遮光パターンの厚さは２μｍ〜５０μｍであってもよく、好ましくは４μｍ〜３０μｍであってもよく、より好ましくは６μｍ〜１５μｍの範囲であってもよい。また、遮光パターンと表示部の間の段差による気泡混入及び境界部の視認を抑制するために、遮光パターンに形状を付与することができる。

［光学積層体の製造方法］
光学積層体６は、偏光板１０と位相差フィルム１２とを粘着剤層８ｂを介して積層することで製造される。例えば、偏光板１０を製造した後に、位相差フィルム１２と対向する保護フィルム１６上に、剥離フィルム上に形成された粘着剤層８ｂを積層させる。粘着剤層８ｂ上の剥離フィルムを剥離し、露出した粘着剤層８ｂを介して、偏光板１０と、別途製造されている位相差フィルム１２とを貼り合わせる。こうして得られた光学積層体６は、円偏光板として機能することができる。

［画像表示装置の製造方法］
上記光学積層体６が有する位相差フィルム１２を、粘着剤層８ａを介して、画像表示層４に貼合することによって、画像表示装置２が得られる。通常、図１に示したように、Ｃプレート２０が画像表示層４側に位置するように、光学積層体６は、画像表示層４に貼合される。

画像表示装置２が満たす条件を第１実施形態及び第２実施形態として説明する。

（第１実施形態）
図３に示したように、画像表示装置２の厚さ方向（画像表示層４及び光学積層体６の積層方向）に対して傾斜角θ方向に直交する面を投影面２２と称す。上記厚さ方向は、遅相軸１２ａ及び進相軸１２ｂに直交する方向に相当する。位相差フィルム１２の進相軸１２ｂを回転軸（傾斜軸）と仮定した場合において、投影面２２における位相差フィルム１２のリタデーションをＲ（θ）_ｆａｓｔとし、位相差フィルム１２の遅相軸１２ａを回転軸と仮定した場合において、投影面２２における位相差フィルム１２のリタデーションをＲ（θ）_ｓｌｏｗとし、投影面２２における画像表示層４のリタデーションをＲ（θ）Ｍとする。遅相軸１２ａ（又は進相軸１２ｂ）を回転軸と仮定するとは、遅相軸１２ａ（又は進相軸１２ｂ）回りに位相差フィルム１２を傾けることを意味する。本明細書において、投影面２２における位相差フィルムまたは画像表示層のリタデーションとは、投影面２２に投影された位相差フィルムまたは画像表示層のリタデーションである。

画像表示装置２では、Ｒ（θ）_ｆａｓｔ、Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ及びＲ（θ）Ｍが、下式（ｉ）〜式（ｉｖ）を満たす。
α＝Ｒ０−｛Ｒ（θ）_ｆａｓｔ ＋ Ｒ（θ）Ｍ｝ ・・・（ｉ）
β＝Ｒ０−｛Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ − Ｒ（θ）Ｍ｝ ・・・（ｉｉ）
｜α（θ）｜＋｜β（θ）｜＜１０ｎｍ ・・・（ｉｉｉ）
｜Ｒ（θ）Ｍ｜＞０ｎｍ ・・・（ｉｖ）

これによって、画像表示装置２の画面を正面方向からみた場合と傾斜角θ方向からみた場合とで反射色が異なり、斜め方向においては面内角に応じた反射色を生じる。この斜め方向においては面内角に応じた反射色の色差の最大値を斜め色差と呼ぶ。さらに、斜め色差が最小となったとき、正面方向からみた場合と傾斜角θ方向からみた場合の色差が最小となる。そのため、画像表示装置２に表示される画像を種々の角度からみても、正面方向（上記厚さ方向）から見た場合と同様の画像を観察できる。

この点を更に説明する。前述したように、画像表示層４は、光学積層体６側から画像表示装置２に入射した光を反射する光反射性表示層である。よって、以下の説明では、画像表示層４を、上記反射特性に基づいて光反射層ＲＬ（図１参照）と称す。以下の説明では、光学積層体６が円偏光板であるが、光学積層体６は円偏光板に限定されない。

［光電場の位相差］
光電場は伝搬方向と垂直な面において振動しておりＳ偏光、Ｐ偏光の各成分に分解することができる。このときＳ偏光とＰ偏光の電界振動周期のずれを角振動数の差が位相差である。垂直入射ではない場合の光反射層ＲＬへの入射光位相差δｉと反射光位相差δrの差Δδ＝δｒ−δｉ（以下「光反射層ＲＬの反射位相差Δδ」ということがある。）は、エリプソメトリやストークス偏光計を用いて測定されたストークスベクトルＳ＝（Ｓ０，Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３）から算出することができる。

光電場の偏光方位角ψ、楕円率角ε、位相差δ、楕円率χはストークスベクトルを用いて、下式（６）〜（９）で表される（「分光エリプソメトリ―、藤原裕之著、丸善出版、６８頁〜７８頁、２０１１年」参照）。

入射光が、偏光方位角ψ＝４５°かつ楕円率χ＝０の直線偏光で、ストークスベクトルＳｉ＝（Ｓｉ０，Ｓｉ１，Ｓｉ２，Ｓｉ３）＝（１，０，１，０）のとき、上式（６）〜（８）より位相差δｉは０となる。

同様に光反射層ＲＬが前記入射光を反射し、その反射光が偏光方位角ψ＝４５°かつ楕円率χ＝０．４の楕円偏光で、ストークスベクトルＳｒ＝（Ｓｒ０，Ｓｒ１，Ｓｒ２，Ｓｒ３）＝（１，１，０．７，０．７）のとき、上式（６）〜（８）より位相差δｒはπ／４となる。このとき、光反射層ＲＬの反射位相差Δδはπ／４と表される。なお、本明細書では、偏光方位角ψ＝４５°かつ直線偏光の入射光に対する光反射層ＲＬの反射位相差Δδの正負において、楕円率角ε＞０の場合を正とし、楕円率角ε＜０の場合を負とする。

位相差Δδは対応する波長λ（ｎｍ）を用いて、下式（１０）によってリタデーションＲ（ｎｍ）に換算することができる。

[光反射層の角度依存性]
光反射層ＲＬの反射位相差Δδは光反射層ＲＬへの光の入射角θｒによって変化する。下式（１１）にマクスウェル方程式に媒質の屈折率の境界条件を設定して変形した式を示す（「応用工学Ｉ、鶴田匡夫著、丸善出版、２８頁〜４５頁、１９９０年」参照）。下式（１１）は、誘電体側から金属側に斜め入射される場合を表しており、誘電体の屈折率はｎ＝ｎ_１であり、金属の屈折率は複素屈折率を用いてｎ＝−ｉｋとする。

垂直入射で反射位相差Δδは０となり、入射角θrの増加に伴い増加する。

光反射層ＲＬが例えば、ＯＬＥＤ表示装置又はマイクロＬＥＤ表示装置である場合、光反射層ＲＬは電極及び配線、発光画素、バンク材、プラスチックフィルム等の多重積層体である。実際の測定では、入射角θｒごとにストークスベクトルを測定し、入射角θｒごとの光反射層ＲＬの反射位相差Δδを算出して理論計算に供することができる。

光反射層ＲＬの反射位相差Δδは自由電子などの電荷キャリアを持つ金属結晶などの反射面で生じ、樹脂フィルム等の誘電体などの電荷キャリアを持たない反射面では生じない。

光反射層ＲＬが例えば、ＯＬＥＤ表示装置又はマイクロＬＥＤ表示装置である場合、その反射位相差Δδは、光反射層ＲＬを形成する電極及び配線の密度、形状、金属種によって様々な値をとり得る。そのため、有限の反射位相差Δδを持つ。多くの場合、傾斜角５０度の投影面２２での反射位相差Δδ（５０）の絶対値は波長５５０ｎｍの値で０．０１ｒａｄ以上、反射リタデーションＲ（５０）Ｍの絶対値は同じく波長５５０ｎｍの値で１．０ｎｍ以上である。

遅相軸１２ａを回転軸として傾けられた位相差フィルム１２を観察した際の斜め視野の位相差は、下記手順によって計算できる。

図４に示したように、正面方向をｚ軸としたデカルト座標系において、位相差フィルム１２の屈折率のうち遅相軸１２ａ（図４においてｘ軸）に平行な成分をｎｘ、進相軸１２ｂに平行な成分をｎｙとし、正面方向に平行な成分をｎｚ、位相差フィルム１２中を伝搬する光電場ベクトルとｚ軸のなす角をφ、位相差フィルム１２から出射して空気中を伝搬する光電場ベクトルとｚ軸のなす角をφｙｚとしてスネルの法則を適用すると、下式（１２）を得る。φｙｚは、遅相軸１２ａを回転軸とした場合の傾斜角θに対応する。

遅相軸１２ａを回転軸とした斜め視野の位相差は、下式（１３）のとおり、投影面（位相差フィルム１２と観測者を結ぶ直線に垂直な平面）２２にｎｙとｎｚから各々投影された実効屈折率Ｎｙｚとｎｘから求めることができる。式（１３）中のｄは、位相差フィルム１２の厚さである。

このとき、投影面２２における実効屈折率Ｎｙｚは屈折率楕円体を用いて下式（１４）で求めることができる（「光学材料の屈折率制御技術の最前線、渡辺敏行・魚津吉弘監修、シーエムシー出版、１４頁〜１６頁、２００９年」参照）。

進相軸１２ｂを回転軸とした斜め視野の位相差も式（１３）と同様にして、下式（１５）で表される。下記式のφｘｚは、進相軸１２ｂを回転軸とした場合の傾斜角θに対応する。式（１５）中のｄは、式（１３）の場合と同様である。

偏光フィルム１４の透過軸方向（吸収軸１４ａに直交する方向）の透過率と吸収軸１４ａ方向の透過率、位相差フィルム１２が有するＡプレート１８及びＣプレート２０の三次元屈折率、光反射層ＲＬの反射位相差、粘着剤や前面板の透過率、などの光学要素のパラメータを測定し、ミュラー行列に代入することで、これらの光学要素を透過もしくは反射した場合の光電場状態を精度よく計算することができる。

たとえば、光学積層体６（円偏光板）を通過して光反射層ＲＬで反射され、光学積層体６（円偏光板）を透過し観測される光電場を計算する場合、反射光Ｓ_ｏｕｔのストークスベクトルは下式（１６）の解として得られる。
Ｓ_ｏｕｔ ＝ Ｐ・Ａ・Ｃ・Ｍ・Ｃ・Ａ・Ｐ・Ｓ_ｉｎ …（１６）
式（１６）において、Ｐ、Ａ、Ｍ、Ｓ_ｉｎは、次のとおりである。
Ｐ：偏光フィルム１４のミュラー行列
Ａ：Ａプレート１８ミュラー行列
Ｃ：Ｃプレート２０のミュラー行列
Ｍ：光反射層ＲＬのミュラー行列
Ｓ_ｉｎ：入射光のストークスベクトル

光学要素のミュラー行列は４×４の行列であり、例えば偏光フィルム１４、位相差フィルム１２は下式（１７）〜（１８）で表される（「偏光伝搬解析の基礎と応用、小野浩司著、内田老鶴圃、５７頁〜６１頁、２０１５年」参照）。

式（１７）中のＴ_１は、偏光フィルム１４における透過軸方向の透過率であり、Ｔ_２は、偏光フィルム１４における吸収軸１４ａ方向の透過率である。式（１７）中のΔδ（ｒａｄ）は、位相差フィルム１２の位相差である。

光反射層ＲＬはＣプレート２０と同様に傾斜角θに比例して位相差が増加する位相差子と捉えることができる。そのため、位相差子要素と振幅反射要素を分離して定義できる。光反射層ＲＬの位相差子要素は位相差フィルム１２と同様にミュラー行列を定義した。

実際の円偏光板構成を計算するにあたっては、光学要素の光学軸をミュラー行列に反映させる必要がある。例えば、式（１８）の位相差フィルム１２が有するＡプレート１８の面内の遅相軸（遅相軸１２ａ）を角度ξ（ｒａｄ）だけ回転させて定義する場合、式（１９）に示すようにミュラー行列の両側から回転行列Ｚ（ξ）を作用させる。

光学積層体６（円偏光板）を通って光反射層ＲＬで反射し、再び光学積層体６（円偏光板）を通って視認される光の反射率スペクトルは、上式（１６）から各波長のストークスベクトルのＳ０成分を求めることで得られる。これは、空気と光学積層体６（円偏光板）との界面で反射されずに光学積層体６（円偏光板）の内部に到達した成分の反射率に相当する。一方で、空気と光学積層体６（円偏光板）との界面の反射率Ｒｆｏは傾斜角θ、その屈折率ｎｓに比例して変化し、下式（２０）で表される。

なお、光学積層体６（円偏光板）と空気との界面は、例えば光学積層体６が偏光板１０の表面で空気層と接する場合は、偏光板１０と空気との界面である。光学積層体６が偏光板１０の視認側に更に前面板を備え、更に、この前面板が偏光板１０に接着剤層を介して密着して積層されている場合には、光学積層体６（円偏光板）と空気との界面は、この前面板の視認側と空気層との界面である。

上記より、光学積層体６（円偏光板）の空気との界面における表面反射率と、光学積層体６（円偏光板）を通って光反射層ＲＬで反射し、再び光学積層体６を通って視認される内部反射率との合計反射率Ｒｆは下式（２１）で得られる。なお、光学積層体６（円偏光板）を構成する層間の界面反射、及び多重反射は考慮しないものとする。
Ｒｆ ＝ Ｒｆｏ＋（１−Ｒｆｏ）×Ｓ０
＝ Ｒｆｏ＋Ｓ０−Ｒｆｏ×Ｓ０ ・・・（２１）

なお、光学積層体６（円偏光板）は、空気との界面に反射防止膜を備えていてもよい。反射防止膜としては、屈折率の低い低屈折率層のみで構成された単層構造であってもよいし、屈折率の低い低屈折率層と、屈折率の高い高屈折率層とがこの順で積層された多層構造であってもよい。反射防止膜を備え、表面反射率が例えば２％以下、更には１％以下である場合には、光学積層体６（円偏光板）を通って光反射層ＲＬで反射し、再び光学積層体６（円偏光板）を通って視認される内部反射光の色差が比較的視認され易くなることから、本発明の構成が効果をより有効に発揮し易い。

標準イルミナントＷ（λ）の三刺激値Ｘ_Ｗ，Ｙ_Ｗ，Ｚ_Ｗと反射光イルミナントＲｆ（λ）×Ｗ（λ）の三刺激値Ｘ_Ｒｆ，Ｙ_Ｒｆ，Ｚ_Ｒｆは、三刺激値の等色関数ｘ（λ），ｙ（λ）， ｚ（λ）（国際照明委員会（ＣＩＥ）勧告、１９３１年）をもちいて下式（２２Ａ）〜（２２Ｂ）から算出される（「色彩工学入門、篠田博之・藤枝一郎 共著、森北出版、１０６頁〜１０７頁、２００７年」参照）。標準イルミナントにはＤ６５光源（ＩＳＯ １０５２６：１９９９ ／ ＣＩＥ Ｓ００５／Ｅ−１９９８）を使用した。

Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系の反射光色相値ａ^＊，ｂ^＊及び彩度値Ｃ^＊は、標準イルミナントＷ（λ）の三刺激値Ｘ_Ｗ，Ｙ_Ｗ，Ｚ_Ｗと反射光イルミナントＲｆ（λ）×Ｗ（λ）の三刺激値Ｘ_Ｒｆ，Ｙ_Ｒｆ，Ｚ_Ｒｆをもちいて式（２３）〜（２５）から算出される（「色彩工学入門、篠田博之・藤枝一郎 共著、森北出版、１２２頁、２００７年」参照）。

Ａプレート１８の遅相軸１２ａとｘ軸、進相軸１２ｂとｙ軸が各々平行であるとき、ｚ軸からθだけ傾けた視野（傾斜角θ方向）から画像表示装置２を観察する場合（図２における白抜き矢印方向から観察する場合）を、「傾斜角θ観察」（図２参照）と呼ぶ。

このときｘｙ面内角度ξの変化に伴って彩度Ｃ^＊はＡプレート１８の二回対称性に起因した二極値Ｃ_ｆ ^＊とＣ_ｓ ^＊をとり、これらのａ^＊ｂ^＊平面内の座標をＣ_ｆ ^＊（ａ_ｆ ^＊，ｂ_ｆ ^＊）、Ｃ_ｓ ^＊（ａ_ｓ ^＊，ｂ_ｓ ^＊）とする。この二点間の距離ΔＣ^＊は傾斜角θ観察の斜め色差として下式（２６）で示される。

傾斜角θ観察における斜め色差が最小となるとき、画像表示装置２をあらゆる角度から観察した場合においても反射色の色変化及び強度変化が最小となり、最良の画像表示性能が得られる。

偏光フィルム１４の特性を不変とし、位相差フィルム１２と光反射層ＲＬの特性を調整して最小の斜め色差を実現するためには下式（２７）を満たせばよい。
ＲｔｈＡ ＋ ＲｔｈＣ ＋ ＲｔｈＭ ＝ ０ ・・・（２７）
式（２７）において、ＲｔｈＡはＡプレート１８の厚み方向のリタデーションであり、ＲｔｈＣはＣプレート２０の厚み方向のリタデーションであり、ＲｔｈＭは、光反射層ＲＬの厚み方向のリタデーションである。

Ａプレート１８の面内リタデーションのうち進相軸１２ｂが回転軸の場合の投影面２２におけるリタデーションをＲ（θ）Ａ_ｆａｓｔ、遅相軸１２ａが回転軸の場合の投影面におけるリタデーションをＲ（θ）Ａ_ｓｌｏｗとする。同様に、投影面２２におけるＣプレート２０の面内リタデーションをＲ（θ）Ｃ、投影面２２における光反射層ＲＬの面内リタデーションをＲ（θ）Ｍとする。

正面から観察した際（傾斜角θ＝０の場合）のＡプレート１８のリタデーションをＲ（０）Ａとすると、下式（２８）を用いて画像表示装置２の最適な光学設計を記述できる。下式（２８）は上式（２７）を満たす場合に同時に成り立ち、このとき式（２６）の傾斜角θ観察の斜め色差ΔＣ^＊が最適となる。
Ｒ（θ）Ａ_ｆａｓｔ＋｛Ｒ（θ）Ｃ＋Ｒ（θ）Ｍ｝
＝Ｒ（θ）Ａ_ｓｌｏｗ−｛Ｒ（θ）Ｃ＋Ｒ（θ）Ｍ｝
＝Ｒ０Ａ・・・（２８）

また、Ａプレート１８とＣプレート２０を一つの位相差子層をみなすと、傾斜角θ観察の投影面２２での面内リタデーションＲ（θ）_ｆａｓｔ，Ｒ（θ）_ｓｌｏｗは下式（２９），（３０）で表される。
Ｒ（θ）_ｆａｓｔ＝Ｒ（θ）Ａ_ｆａｓｔ＋Ｒ（θ）Ｃ ・・・（２９）
Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ＝Ｒ（θ）Ａ_ｓｌｏｗ−Ｒ（θ）Ｃ ・・・（３０）

式（２８）を式（２９），（３０）を用いて書き換えると下式（３１），（３２）が得られる。
α ＝ Ｒ０−｛Ｒ（θ）_ｆａｓｔ＋Ｒ（θ）Ｍ｝ ・・・（３１）
β ＝ Ｒ０−｛Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ−Ｒ（θ）Ｍ｝ ・・・（３２）

更に、本実施形態の光反射層ＲＬは、反射位相差を有することから、下式（３３）が成立する。
｜Ｒ（θ）Ｍ｜＞０ｎｍ ・・・（３３）

式（３１）〜（３３）は、前記式（ｉ），（ｉｉ），（ｉｖ）に対応する。更に、画像表示装置２は、式（ｉｉｉ）も満たす。式（ｉ）及び式（ｉｉ）（又は式（３１）及び式（３２）は、上述したように、光反射層ＲＬの反射位相差を考慮した式である。

円偏光板といった光学補償部材の設計では、従来は光反射層の反射位相差を反映させていなかった。しかしながら、実際には、光反射層の反射位相差の影響が生じるため、斜め色差を十分に（或いは設計どおりに）に抑制できなかった。

これに対して、画像表示装置２は、光反射層ＲＬの反射位相差を考慮した式（ｉ）〜式（ｉｖ）を満たす。そのため、画像表示装置２では、斜め色差を最小にするために最適な設計が為された構成を有する。その結果、斜め色差を十分に（或いは、設計どおり又は所望の状態に）抑制できる。

式（ｉ）〜式（ｉｖ）を満たすように、画像表示装置２を製造するには、例えば、位相差フィルム１２が有するＡプレート１８及びＣプレート２０を形成する熱可塑性樹脂や重合性液晶化合物の種類や配合比率を調整したり、Ａプレート１８及びＣプレート２０の厚さを調整すればよい。

画像表示層４の例として、ＯＬＥＤ表示装置及びマイクロＬＥＤ表示装置を挙げた。しかしながら、画像表示層４の他の例としては、液晶表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ）、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶともいう）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤともいう）を有する表示装置及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置等のいずれをも含む。本実施形態の積層体は、特に有機ＥＬ表示装置又は無機ＥＬ表示装置に特に有効に用いることができる。

特に、有機ＥＬ表示装置又は無機ＥＬ表示装置を光反射層ＲＬとして有する画像表示装置２では、外光反射光の強度変化が抑制され、斜め方向から見たときにも正面方向と変わらない安定した黒表示能力を示すことができる。

（第２実施形態）
第２実施形態として、画像表示装置２が満たす条件を、第１実施形態とは異なる観点から説明する。第２実施形態においても、図３に示したように、画像表示装置２の厚さ方向（画像表示層４及び光学積層体６の積層方向）に対して傾斜角θ方向に直交する面を投影面２２と称す。第２実施形態において、投影面２２は、θ＝５０度の場合の面である。したがって、投影面２２における画像表示層４のリタデーションをＲ（５０）Ｍとする。第２実施形態で説明するリタデーションは、断らない限り、波長５５０ｎｍに対するリタデーションである。

位相差フィルム１２の面内リタデーションをＲ０とし、位相差フィルム１２の厚さ方向のリタデーションをＲｔｈとする。Ｒ０は、位相差フィルム１２を構成する各層の面内リタデーションの合計である。Ｒｔｈは、位相差フィルム１２を構成する各層の厚さ方向のリタデーションの合計である。図１に示したように、位相差フィルム１２がＡプレート及びＣプレートを有する場合、Ｒ０は、Ａプレート及びＣプレートそれぞれの面内リタデーションの合計であり、Ｒｔｈは、Ａプレート及びＣプレートそれぞれの厚さ方向のリタデーションの合計である。

位相差フィルム１２のＮｚ係数を、式（ｖ）で表す。更に、位相差フィルムの面内リタデーションＲ０と、投影面２２での画像表示層４の面内リタデーションＲ（５０）Ｍとの比をρ係数として式（ｖｉ）で表す。
Ｎｚ＝（Ｒｔｈ／Ｒ０）＋０．５・・・（ｖ）
ρ＝Ｒ（５０）Ｍ／Ｒ０・・・（ｖｉ）

画像表示装置２は、以下の式（ｖｉｉ）、式（ｖｉｉｉ）及び式（ｉｘ）を全て満たすか、または、式（ｖｉｉ）、式（ｘ）及び式（ｘｉ）を満たす。
３．５ρ＋０．３９＜Ｎｚ＜３．５ρ＋０．６５ ・・・（ｖｉｉ）
ρ＞０・・・（ｖｉｉｉ）
０．５＜Ｎｚ≦１．５・・・（ｉｘ）
ρ＜０・・・（ｘ）
−１．５＜Ｎｚ＜０．５・・・（ｘｉ）

換言すれば、画像表示装置２は、ρ-Ｎｚ座標系（デカルト座標系）において、式（ｖｉｉ）で表される領域のうち、式（ｖｉｉ）、式（ｖｉｉｉ）及び式（ｉｘ）を全て満たす領域または、式（ｖｉｉ）、式（ｘ）及び式（ｘｉ）を満たす領域に含まれるρ及びＮｚの組を満たす位相差フィルム１２及び画像表示層４を備える装置である。なお、式（ｖｉｉｉ）の代わりに、式（ｖｉｉｉ−１）であってもよい。式（ｉｘ）の代わりに、式（ｉｘ−１）であってもよい。式（ｘ）の代わりに式（ｘ−１）であってもよい。式（ｘｉ）の代わりに、式（ｘｉ−１）であってもよい。
０＜ρ＜０．１２・・・（ｖｉｉｉ−１）
０．５＜Ｎｚ≦１．０・・・（ｉｘ−１）
−０．０６＜ρ＜０・・・（ｘ−１）
０．２＜Ｎｚ＜０．５・・・（ｘｉ−１）

ρが０より大きい場合（上記式（ｖｉｉｉ）を満たす場合）、以下の式（ｘｉｉ）、式（ｘｉｉｉ）および式（ｘｉｖ）を満たす範囲が好ましい。
０．０６≦ρ≦０．１１ ・・・（ｘｉｉ）
Ｎｚ≧３．５ρ＋０．４０５ ・・・（ｘｉｉｉ）
Ｎｚ≦３．５ρ＋０．６１・・・（ｘｉｖ）

ρが０より小さい場合（上記式（ｘ）を満たす場合）、以下の式（ｘｖ）、式（ｘｖｉ）および式（ｘｖｉｉ）を満たす範囲が好ましい。
−０．０７≦ρ≦−０．０４・・・（ｘｖ）
Ｎｚ≧３．５ρ＋０．４２・・・（ｘｖｉ）
Ｎｚ≦３．５ρ＋０．５９・・・（ｘｖｉｉ）

第２実施形態の画像表示装置２は、例えば、位相差フィルム１２が有するＡプレート１８及びＣプレート２０を形成する熱可塑性樹脂や重合性液晶化合物の種類や配合比率を調整したり、Ａプレート１８及びＣプレート２０の厚さを調整することによって製造され得る。

第２実施形態においても、画像表示装置２は、画像表示層４の反射位相差を考慮した上記条件を満たす。そのため、画像表示装置２では、斜め色差を最小にするために最適な設計が為された構成を有する。その結果、斜め色差を十分に（或いは、設計どおり又は所望の状態に）抑制できる。

以上、本発明の種々の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではない。光学積層体６の一例として円偏光板を挙げたが、光学積層体６は円偏光板に限定されない。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。なお、例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、質量％及び質量部を意味する。以下の説明の円偏光板が、上記実施形態で説明した光学積層体に対応し、光反射層が画像表示層に対応する。

［測定方法］
＜フィルムの厚さの測定方法＞
フィルムの厚さは接触式膜厚計（株式会社ニコン製ＭＨ−１５Ｍ、カウンタＴＣ１０１、ＭＳ−５Ｃ）を用いて測定した。

＜リタデーションの測定方法＞
ＡプレートとＣプレートの厚さ方向のリタデーションや面内リタデーションは、複屈折評価装置(王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ)を使用して測定した。

光反射層の入射角ごとのリタデーションは、分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ製 Ｍ−２０００）を使用して測定した。

＜傾斜角５０度観察の斜め色差ΔＣ^＊＞
傾斜角５０度観察の斜め色差ΔＣ^＊をＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＳｙｓｔｅｍｓＧｍｂＨ製のディスプレイ評価システムＤＭＳ８０３で測定した。

［光反射層の準備］
以下の７種類の光反射層を用いた。
光反射層Ａ：久保金属製作所製の真鍮板であるＭ５６０を使用した。
光反射層Ｂ：市販のＡｐｐｌｅ Ｉｎｃ．製ＯＬＥＤ表示装置搭載スマートホンｉＰｈｏｎｅ（登録商標）Ｘを分解し、カバーガラスと円偏光板を取り除いて使用した。
光反射層Ｃ：株式会社ＵＡＣＪ製のアルミホイルであるマイホイル厚形５０の光沢面を使用した。
光反射層Ｄ：銅板に硬質クロムめっき（工業用クロムメッキＪＩＳ Ｈ８６１５）を施して得た。
光反射層Ｅ：無アルカリガラス板であるＣｏｒｎｉｎｇ製Ｅａｇｌｅ ＸＧを使用した。
光反射層Ｆ：高反射率反射板としてＡｌａｎｏｄ製の高反射コーティング付きアルミ蒸着反射板であるＭＩＲＯ５ ５０１１ＧＰを使用した。
光反射層Ｇ：市販のサムスン電子製ＯＬＥＤ表示装置搭載タブレットＧａｌａｘｙ ｔａｂ Ｓ ８．４を分解し、カバーガラスと円偏光板を取り除いて使用した。

各光反射層の傾斜角５０度の波長５５０ｎｍの反射位相差Δδ５０（５５０）及び反射リタデーションＲ５０Ｍ（５５０）は、表１に示すとおりであった。これらは実際のＯＬＥＤ表示装置を模した条件で測定するために、各光反射層Ａ〜Ｇの上に未延伸シクロオレフィンポリマーを貼合して測定した。シクロオレフィンポリマーの面内リタデーションは波長４５０ｎｍ，５５０ｎｍ，６３０ｎｍのいずれにおいても０．１未満であった。

［円偏光板の作製］
〔水平配向膜形成用組成物の調製〕
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを混合した。得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向膜形成用組成物を得た。

〔垂直配向膜形成用組成物の調製〕
日産化学工業株式会社製、サンエバーＳＥ６１０を使用した。

〔水平配向液晶硬化膜形成用組成物の調製〕
水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）を形成するために、下記の重合性液晶化合物Ａと重合性液晶化合物Ｂを用いた。重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０−３１２２３号公報に記載された方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９−１７３８９３号公報に記載された方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。

［重合性液晶化合物Ａ］

［重合性液晶化合物Ｂ］

重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを８７：１３の質量比で混合した。得られた混合物１００部に対して、レベリング剤（Ｆ−５５６；ＤＩＣ株式会社製）を１．０部、重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向液晶硬化膜形成用組成物を得た。

〔垂直配向液晶硬化膜形成用組成物の調整〕
垂直配向液晶硬化膜（Ｃプレート）を形成するために、以下の手順で組成物を調製した。重合性液晶化合物であるＰａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社登録商標）１００部に対して、レベリング剤としてＦ−５５６を０．１部、及び重合開始剤としてイルガキュア３６９を３部添加した。固形分濃度が１３％となるようにシクロペンタノンを添加して、垂直配向液晶硬化膜形成用組成物を得た。

〔偏光板の作製〕
平均重合度約２，４００、ケン化度９９．９モル％以上、厚さ７５μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを準備した。ＰＶＡフィルムを３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たＰＶＡフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６．５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。ホウ酸処理工程を経たＰＶＡフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光フィルムを得た。ＰＶＡフィルムの延伸は、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において行った。ＰＶＡフィルムの総延伸倍率は５．３倍であった。得られた偏光フィルムの厚さは１０μｍであった。

偏光フィルムと、ケン化処理されたトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ株式会社製 ＫＣ４ＵＹＴＡＣ 厚さ４０μｍ）とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてＴＡＣフィルムを有する偏光板を得た。なお、水系接着剤は水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、「クラレポバール ＫＬ３１８」）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（田岡化学工業株式会社製、「スミレーズレジン６５０」、固形分濃度３０％の水溶液〕１．５部とを添加して調製した。

得られた偏光板について光学特性の測定を行った。測定は上記で得られた偏光板の偏光フィルム面を入射面として分光光度計（「Ｖ７１００」、日本分光株式会社製）にて実施した。偏光板の吸収軸はポリビニルアルコールの延伸方向と一致しており、得られた偏光板の視感度補正単体透過率は４２．３％、視感度補正偏光度は９９．９９６％、単体色相ａは−１．０、単体色相ｂは２．７であった。

〔水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）の作製〕
日本ゼオン株式会社製の環状オレフィン系樹脂（ＣＯＰ）フィルム（ＺＦ−１４−５０）上にコロナ処理を実施した。コロナ処理は、ウシオ電機株式会社製のＴＥＣ−４ＡＸを使用して行った。コロナ処理は、出力０．７８ｋＷ、処理速度１０ｍ／分の条件で１回行った。ＣＯＰフィルムに水平配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥した。塗布膜に対して、偏光ＵＶ照射装置（「ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−９」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３１３ｎｍにおける積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように、軸角度４５°にて偏光ＵＶ露光を実施した。得られた水平配向膜の膜厚は１００ｎｍであった。

続いて、水平配向膜に、水平配向液晶硬化膜形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した。塗布膜に対して、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、水平配向液晶硬化膜を形成した。水平配向液晶硬化膜の膜厚は約１．９μｍであった。

水平配向液晶硬化膜上に、粘着剤層を積層した。当該粘着剤層を介して、ＣＯＰフィルム、配向膜、水平配向液晶硬化膜からなるフィルムをガラスに貼合した。ＣＯＰフィルムを剥離して、リタデーションを測定するためのサンプルを得た。

各波長におけるリタデーションＲ０Ａ（λ）を測定した結果は、以下のとおりであり、水平配向液晶硬化膜は、逆波長分散性を示した。
Ｒ０Ａ（４５０）＝１２４ｎｍ
Ｒ０Ａ（５５０）＝１４２ｎｍ
Ｒ０Ａ（６５０）＝１４６ｎｍ
Ｒ０Ａ（４５０）／Ｒ０Ａ（５５０）＝０．８７
Ｒ０Ａ（６５０）／Ｒ０Ａ（５５０）＝１．０３

水平配向液晶硬化膜は、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚの関係を満たす、ポジティブＡプレートであった。なお、各波長におけるリタデーションＲｔｈＡ（λ）を測定した結果は、以下のとおりであった。
ＲｔｈＡ（４５０）＝６４ｎｍ
ＲｔｈＡ（５５０）＝７１ｎｍ
ＲｔｈＡ（６５０）＝７３ｎｍ

〔垂直配向液晶硬化膜（Ｃプレート）の作製〕
ＣＯＰフィルムに対して、コロナ処理を実施した。コロナ処理の条件は上記と同じとした。ＣＯＰフィルム上に、垂直配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥させて、垂直配向膜を得た。得られた垂直配向膜の膜厚は５０ｎｍであった。

垂直配向膜に、バーコーターを用いて垂直配向液晶硬化膜形成用組成物を塗布し、９０℃で１２０秒間乾燥した。塗布膜に対して、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、垂直配向液晶硬化膜を形成した。このようにしてＣＯＰフィルム、垂直配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなるフィルムを得た。垂直配向液晶硬化膜の膜厚は、０．２μｍであった。

垂直配向液晶硬化膜上に粘着剤層を積層した。当該粘着剤層を介して、ＣＯＰフィルム、配向膜、垂直配向液晶硬化膜からなるフィルムをガラスに貼合した。ＣＯＰフィルムを剥離して、リタデーションを測定するためのサンプルを得た。波長５５０ｎｍにおけるリタデーションＲｔｈＣ１（５５０）を測定した結果、
ＲｔｈＣ（５５０）＝−２０ｎｍであった。
垂直配向液晶硬化膜は、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚの関係を満たすポジティブＣプレートであった。

ＣＯＰフィルム上に形成された垂直配向膜及び垂直配向液晶硬化膜（Ｃプレート）の垂直配向液晶硬化膜面と、ＣＯＰフィルム上に形成された水平配向膜及び水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）の水平配向液晶硬化膜面とを、粘着剤を介して接着し、その後、Ａプレート側のＣＯＰフィルムを剥離して、ＣＯＰフィルム、Ｃプレート、Ａプレートがこの順に積層されたフィルムを得た。

このフィルムのうち、水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）にコロナ処理を施した。コロナ処理の条件は上記と同じとした。偏光板１０における偏光フィルム１４と水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）とが互いに接するように、両者を、粘着剤層を介して積層した。このとき、偏光フィルムの吸収軸と、水平配向液晶硬化膜の遅相軸とのなす角度は４５°であった。このようにして、位相差フィルムと偏光板とが粘着剤層を介して積層された円偏光板（１）を得た。この円偏光板（１）は、ＴＡＣフィルム、偏光フィルム、粘着剤層、水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）、粘着剤層、垂直配向液晶硬化膜（Ｃプレート）の層構成を有していた。

［円偏光板（２）の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が０．３μｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−３０ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（２）を作製した。

［円偏光板（３）の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が０．４μｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−４０ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（３）を作製した。

［円偏光板（４）の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が０．５μｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−５０ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（４）を作製した。

［円偏光板（５）の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が０．６μｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−６０ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（５）を作製した。

［円偏光板（６）の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が０．７μｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−７０ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（６）を作製した。

［円偏光板（７）の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が０．８μｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−８０ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（７）を作製した。

［円偏光板（８）の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が０．９μｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−９０ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（８）を作製した。

［円偏光板（９）の作製］
垂直配向液晶硬化膜の膜厚が１．０μｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−１００ｎｍとなるようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（９）を作製した。

［円偏光板（１０）の作製］
Ｃプレート２０を有さないようにしたこと以外は円偏光板（１）と同様にして、円偏光板（１０）を作製した。

＜実施例１＞
円偏光板（１）における、ＣＯＰフィルムを剥離して露出した面に、粘着剤層を積層した。この粘着剤層を介して、円偏光板（１）と光反射層Ａとを積層し、積層体を得た。

得られた積層体について、円偏光板（１）のＡプレートの面内リタデーションＲ０Ａ（５５０）、傾斜角５０度観察する際の投影面での面内リタデーションのうち、回転軸を進相軸と仮定したときのリタデーションＲ５０Ａ_ｆａｓｔ（５５０）、回転軸を遅相軸と仮定したときのリタデーションＲ５０Ａ_ｓｌｏｗ（５５０）と、Ｃプレートの厚み方向のリタデーションＲｔｈＣ（５５０）、傾斜角５０度観察する際の投影面での面内リタデーションをＲ５０Ｃ（５５０）と、光反射層の傾斜角５０度観察する際の投影面での反射位相差Ｒ５０Ｍ（５５０）の値とをそれぞれ測定した。

得られた積層体について、斜め色差を測定した。

得られた積層体について、偏光板１０の透過軸方向の透過率Ｔ１、吸収軸方向の透過率Ｔ２、Ａプレートの３次元屈折率ｎＡｘ、ｎＡｙ、ｎＡｚ、及び、波長５５０ｎｍの面内リタデーションＲ０Ａ、Ｃプレート２０の３次元屈折率ｎＡｘ、ｎＡｙ、ｎＡｚ、及び波長５５０ｎｍの厚み方向のリタデーションＲｔｈＣ、光反射層の反射リタデーションＲ５０Ｍについて波長３８０ｎｍ〜波長７８０ｍｍの範囲の上記測定データを元に式（６）〜式（２６）を用いて傾斜角５０度観察の斜め色差を計算した。

得られた積層体について、目視により光反射層表面に描かれた図形の視認性を評価した。図形の視認が難しいもの程、反射色の変化が小さく角度に拠らない良好な表示特性が得られる。図形は直径３ｍｍ、開口部０．５ｍｍのランドルト環とし、青緑色油性ペンであるゼブラ製ハイマッキーライトブルーで描かれた。開口方向は無作為とした。観察は水平配向液晶硬化膜の光学軸と観測者の位置との関係を変化させて行った。

具体的には、Ａプレートの進相軸に平行な面内角度で、仰角（傾斜角）５０度付近から目視で観察した。この方向の反射光の色相は青緑色となり、光反射層表面に描かれた図形の色と似通るので視認は相対的に難しくなる。一方、Ａプレートの遅相軸に平行な面内角度で、仰角５０度付近から目視で観察したときの反射光の色相は赤色となり、光反射層表面に描かれた図形の色と異なるので、図形の視認は相対的に易しくなる。図形の開口方向の視認性を、遅相軸方向及び進相軸方向からみた場合の全体の結果として下記の１〜４の基準で明確に判断した。
「１」：開口方向を認識することができない。
「２」：目を凝らすと、開口方向を認識できる。
「３」：開口方向を認識できる。
「４」：鮮明に開口方向を認識できる。

その結果、実施例１で得られた積層体は、いずれの方向から見ても反射光の色が均一であり、広い視野角で良好な黒表示ができることがわかった。

［実施例２〜１９、比較例１〜３０及び参考例１〜１０］
円偏光板（１）〜（１０）と光反射層Ａ〜Ｇとの組合せを図５〜図７に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を作製した。得られた積層体について、実施例１と同様に斜め色差を測定した。また、得られた積層体について、実施例１と同様に、目視により水平配向液晶硬化膜の光学軸と観測者の位置との関係を変化させたとき光反射層表面に描かれた図形の視認性を評価した。

ただし、光反射層Ｂを用いた比較例９では市販のＡｐｐｌｅ Ｉｎｃ．製ＯＬＥＤ表示装置搭載スマートホンｉＰｈｏｎｅ（登録商標）Ｘを分解し、カバーガラスのみを取り除いて斜め色差ΔＣ^＊の測定および図形の視認性評価を実施した。

また、光反射層Ｇを用いた比較例２３では市販のサムスン電子製ＯＬＥＤ表示装置搭載タブレットＧａｌａｘｙ ｔａｂ Ｓ ８．４を分解し、カバーガラスのみを取り除いて斜め色差ΔＣ^＊の測定および図形の視認性評価を実施した。

光反射層Ｅは、表１に示したように、反射位相差が０であることから、光反射層Ｅと円偏光板（１）〜（１０）の組み合わせについては、式（６）〜式（２６）を用いたシミュレーションにより、傾斜角５０度観察の斜め色差を計算した。そのため、光反射層Ｅを用いた場合を参考例１〜１０とした。

以上の実施例１〜１９、比較例１〜３０及び参考例１〜１０の結果を第１実施形態の観点で整理した。図５〜図７は、第１実施形態の観点に基づいた実施例、参考例及び比較例の結果を示す図表である。

図５〜図７において、各項目名の意味は以下のとおりである。
Ｉ：使用した光反射層
ＩＩ：使用した偏光板
ＩＩＩ：視覚評価の結果
ΔＣ^＊：斜め色差の測定結果
Ｒ０：円偏光板の厚さ方向のリタデーションの測定結果
Ｒ５０_ｆａｓｔ：傾斜角５０度観察した際の投影面での円偏光板の面内リタデーションのうち、回転軸を進相軸と仮定したときのリタデーションの測定結果
Ｒ５０_ｓｌｏｗ：傾斜角５０度観察した際の投影面での円偏光板の面内リタデーションのうち、回転軸を遅相軸と仮定したときのリタデーションの測定結果
Ｒ５０Ｍ：投影面での光反射層の面内リタデーション
α：式（ｉ）のＲ０、Ｒ（θ）_ｆａｓｔ及びＲ（θ）Ｍを、Ｒ０、Ｒ５０_ｆａｓｔ及びＲ５０Ｍとした場合の計算結果
β：式（ｉｉ）のＲ０、Ｒ（θ）、Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ及びＲ（θ）Ｍを、Ｒ０、Ｒ５０_ｓｌｏｗ及びＲ５０Ｍとした場合の計算結果
｜α｜＋｜β｜：図５〜図７におけるα及びβに基づいた計算結果

図５〜図７における、Ｒ０、Ｒ５０_ｆａｓｔ、Ｒ５０_ｓｌｏｗ及びＲ５０Ｍは、波長５５０ｎｍにおけるリタデーションであった。
また、図５〜図７において、参考例１〜１０は、シミュレーション結果であるため、項目名ＩＩＩ（視覚評価の結果）の欄を空欄としている。

図５〜図７に示したように、比較例１〜３０及び参考例１〜１０は、上記式（ｉ）〜（ｉｖ）の何れかを満たしていない。比較例１〜３０における視覚評価は３以上であった。一方、実施例１〜１９は、上記式（ｉ）〜（ｉｖ）を満たしている。この際の視覚評価は、１又は２であった。したがって、実施例１〜１９では、斜め色差を十分抑制できていることが理解できる。

実施例１〜１９、比較例１〜３０及び参考例１〜１０の結果を第２実施形態の観点で整理した。図８〜図１０は、第２実施形態の観点に基づいた実施例、参考例及び比較例の結果を示す図表である。

図８〜図１０において、各項目名の意味は以下のとおりである。項目名「Ｉ」、「ＩＩ」、「ＩＩＩ」、「ΔＣ^＊」及び「Ｍ５０Ｍ」は図５〜図７の場合と同様である。
Ｒ０Ａ：円偏光板が有する水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）の面内リタデーションの測定結果
ＲｔｈＡ：円偏光板が有する水平配向液晶硬化膜（Ａプレート）の厚さ方向のリタデーションの測定結果
ＲｔｈＣ：円偏光板が有する垂直配向液晶硬化膜（Ｃプレート）の厚さ方向のリタデーションの測定結果
Ｎｚ：式（ｖ）におけるＲｔｈ及びＲ０をそれぞれ、（ＲｔｈＡ＋ＲｔｈＣ）及びＲ０Ａとした場合の算出結果（Ｎｚ係数）
ρ：式（ｖｉ）におけるＲ（５０）Ｍ及びＲ０を、Ｒ５０Ｍ及びＲ０とした場合の算出結果（ρ係数）

図８〜図１０における、Ｒ０、Ｒ０Ａ、ＲｔｈＡ、ＲｔｈＣ及びＲ５０Ｍは、波長５５０ｎｍにおけるリタデーションであった。
また、図８〜図１１においても、参考例は、シミュレーション結果であるため、項目名ＩＩＩ（視覚評価の結果）の欄を空欄としている。

図１１は、図８〜図１０に記載の実施例１〜１９及び比較例１〜３０を、ρ-Ｎｚ平面にプロットした図面である。図１１の横軸は、ρを示し、縦軸はＮｚを示している。図１１中のラインＬ１及びラインＬ２は、それぞれ次に示す式で表されるラインである。
Ｌ１：Ｎｚ＝３．５ρ＋０．６５
Ｌ２：Ｎｚ＝３．５ρ＋０．３９

図１１のρ＞０のうち、ハッチングが付されている領域は、式（ｖｉ）、式（ｖｉｉｉ）及び式（ｉｘ）を全て満たす領域である。図１１のρ＜０のうち、ハッチングが付されている領域は、式（ｖｉ）、式（ｘ）及び式（ｘｉ）を満たす領域である。

図１１に示したように、全ての実施例は、ハッチング領域内に含まれており、比較例は、ハッチング領域に含まれていない。更に、図８〜図１０より、比較例１〜３０における視覚評価は３以上であった。一方、実施例１〜１９の視覚評価は、１又は２であった。したがって、式（ｖｉ）、式（ｖｉｉｉ）及び式（ｉｘ）を全て満たす又は式（ｖｉ）、式（ｘ）及び式（ｘｉ）を満たす領域（図１１のハッチング領域）に含まれる実施例１〜１９では、斜め色差を十分抑制できていることが理解できる。

図１１において、二点鎖線で囲まれた領域２４は、ρが０より大きい範囲において、前述した式（ｘｉｉ）、式（ｘｉｉｉ）および式（ｘｉｖ）を満たす範囲である。領域２４に、実施例が含まれていることから、ρが０より大きい範囲では、式（ｘｉｉ）、式（ｘｉｉｉ）および式（ｘｉｖ）を満たすことが好ましいことが理解できる。
図１１において、二点鎖線で囲まれた領域２６は、ρが０より小さい範囲において、前述した式（ｘｖ）、式（ｘｖｉ）および式（ｘｖｉｉ）を満たす範囲を満たす範囲である。領域２６に、実施例が含まれていることから、ρが０より小さい範囲では、式（ｘｖ）、式（ｘｖｉ）および式（ｘｖｉｉ）を満たす範囲を満たすことが好ましいことが理解できる。

２…画像表示装置、４…画像表示層（光反射性画像表示層）、１２…位相差フィルム、１２ａ…遅相軸（面内遅相軸）、１２ｂ…進相軸（面内進相軸）、１４…偏光フィルム、１４ａ…吸収軸、１８…Ａプレート、２０…Ｃプレート、２２…投影面。

Claims (4)

1. 光反射性画像表示層と、前記光反射性画像表示層の画像表示面上に設けられた位相差フィルム及び偏光フィルムとを備える画像表示装置であって、
   前記偏光フィルムの吸収軸と前記位相差フィルムの面内遅相軸とのなす角度が４５度±５度であり、
   前記位相差フィルムの面内リタデーションをＲ０とし、
   前記位相差フィルムの厚さ方向に対して傾斜角θ方向に直交する面を投影面とし、
   前記位相差フィルムの面内進相軸を回転軸と仮定した場合において、前記投影面における前記位相差フィルムの面内リタデーションをＲ（θ）_ｆａｓｔとし、
   前記位相差フィルムの前記面内遅相軸を回転軸と仮定した場合において、前記投影面における前記位相差フィルムの面内リタデーションをＲ（θ）_ｓｌｏｗとし、
   前記投影面における前記光反射性画像表示層の面内リタデーションをＲ（θ）Ｍとしたとき、
   下式（ｉ）〜式（ｉｖ）を満たし、
   α＝Ｒ０−｛Ｒ（θ）_ｆａｓｔ ＋ Ｒ（θ）Ｍ｝ ・・・（ｉ）
   β＝Ｒ０−｛Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ − Ｒ（θ）Ｍ｝ ・・・（ｉｉ）
   ｜α（θ）｜＋｜β（θ）｜＜１０ｎｍ ・・・（ｉｉｉ）
   ｜Ｒ（θ）Ｍ｜＞０ｎｍ ・・・（ｉｖ）
   前記Ｒ０、前記Ｒ（θ）_ｆａｓｔ、前記Ｒ（θ）_ｓｌｏｗ及び前記Ｒ（θ）Ｍは、波長５５０ｎｍにおけるリタデーションであり、
   前記傾斜角θは、５０度である、
   画像表示装置。
2. 光反射性画像表示層と、前記光反射性画像表示層の画像表示面上に設けられた位相差フィルム及び偏光フィルムとを備える画像表示装置であって、
   前記偏光フィルムの吸収軸と前記位相差フィルムの面内遅相軸とのなす角度が４５度±５度であり、
   前記位相差フィルムの面内リタデーションをＲ０とし、
   前記位相差フィルムの厚さ方向のリタデーションをＲｔｈとし、
   前記位相差フィルムの厚さ方向に対して傾斜角が５０度である方向に直交する面を投影面とし、
   前記投影面における前記光反射性画像表示層の面内リタデーションをＲ（５０）Ｍとし、
   Ｎｚ及びρを式（ｖ）及び式（ｖｉ）で表したとき、前記Ｎｚ及び前記ρが、式（ｖｉｉ）、式（ｖｉｉｉ）及び式（ｉｘ）を満たすか、または、式（ｖｉｉ）、式（ｘ）及び式（ｘｉ）を満たし、
   前記Ｒ０、前記Ｒｔｈ及び前記Ｒ（５０）Ｍは、波長５５０ｎｍに対するリタデーションである、
   画像表示装置。
   Ｎｚ＝（Ｒｔｈ／Ｒ０）＋０．５・・・（ｖ）
   ρ＝Ｒ（５０）Ｍ／Ｒ０・・・（ｖｉ）
   ３．５ρ＋０．３９＜Ｎｚ＜３．５ρ＋０．６５ ・・・（ｖｉｉ）
   ρ＞０・・・（ｖｉｉｉ）
   ０．５＜Ｎｚ≦１．５・・・（ｉｘ）
   ρ＜０・・・（ｘ）
   −１．５＜Ｎｚ＜０．５・・・（ｘｉ）
3. 前記位相差フィルムは、ＡプレートとＣプレートとを有する、
   請求項１または２に記載の画像表示装置。
4. 前記位相差フィルムと前記偏光フィルムとは円偏光板を構成する、
   請求項１〜３の何れか一項に記載の画像表示装置。
   
   

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