JP2021125680A5 - - Google Patents

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JP2021125680A5
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Claims (16)

  1. 基板を保持する基板保持部と、中央ゾーンと前記中央ゾーンを取り囲む周辺ゾーンとを確定する複数のランドを有するチャックと、を備える装置の、前記チャックで保持され、基板を平坦化するために用いられるスーパーストレートであって、
    前記基板保持部で保持される基板を平坦化する際に接触する接触面を有する第1の側と、
    中央部分と、前記中央部分を取り囲む周辺部分とを有する第2の側と、を有する本体を備え、さらに前記周辺部分は、凹部領域を含み、
    前記スーパーストレートの前記第2の側は、前記チャックの前記複数のランドと接触することで保持される
    ことを特徴とするスーパーストレート。
  2. 前記凹部領域は、前記チャックの前記複数のランドのうち最外周のランドで保持される、ことを特徴とする請求項1に記載のスーパーストレート。
  3. 前記凹部領域は、前記本体と同心である、
    ことを特徴とする請求項1に記載のスーパーストレート。
  4. 前記凹部領域は、前記第2の側の前記周辺部分の全体にわたって円周方向に延在する、段差を構成するように低くなった面を含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載のスーパーストレート。
  5. 前記凹部領域は、前記第2の側の前記周辺部分の全体にわたって円周方向に延在する、テーパを構成するように低くなった面を含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載のスーパーストレート。
  6. 前記第1の側は、前記第1の側から延在するメサを含み、前記接触面は、前記メサに設けられている、
    ことを特徴とする請求項1に記載のスーパーストレート。
  7. 前記メサのエッジは、前記本体のエッジからある半径方向幅の位置にある、
    ことを特徴とする請求項に記載のスーパーストレート。
  8. 前記第2の側の前記凹部領域は、前記メサの前記エッジから前記本体の前記エッジまでの前記半径方向幅よりもより広い半径方向幅を有する、
    ことを特徴とする請求項に記載のスーパーストレート。
  9. 前記第2の側の前記凹部領域は、前記メサの前記エッジから前記本体の前記エッジまでの前記半径方向幅と等しい半径方向幅を有する、
    ことを特徴とする請求項に記載のスーパーストレート。
  10. 前記凹部領域は、前記中央部分と前記第2の側のエッジとの間に円周方向に延在するトレンチをさらに備える、
    ことを特徴とする請求項1に記載のスーパーストレート。
  11. 請求項1に記載のスーパーストレートを、前記スーパーストレートの前記第2の側で、前記チャックによって保持すること、
    前記スーパーストレートのエッジに向かって延びる湾曲を有するように前記スーパーストレートを曲げるための圧力を加えること、
    を含むことを特徴とする方法。
  12. 前記チャックによって前記スーパーストレートを成形可能材料の方へ前進させて、前記スーパーストレートの第1の表面を前記成形可能材料に接触させることを更に含む、
    ことを特徴とする請求項11に記載の方法。
  13. 前記成形可能材料を固化させて前記基板の上に固体層を形成し、前記固体層から前記スーパーストレートを除去することを更に含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  14. 基板を保持する基板保持部と、
    中央ゾーンと前記中央ゾーンを取り囲む周辺ゾーンとを確定する複数のランドを有し、前記基板を平坦化するために用いられるスーパーストレートを保持するチャックと、を備える装置であって、
    前記スーパーストレートは、
    前記基板保持部で保持される前記基板を平坦化する際に接触する接触面を有する第1の側と、
    中央部分と、前記中央部分を取り囲む周辺部分とを有し、前記チャックの前記複数のランドと接触することで保持される第2の側と、を有する本体を備え、さらに前記周辺部分は、凹部領域を含み、
    前記スーパーストレートは、前記第2の側が前記チャックの複数のランドと接触することで保持されることを特徴とする装置。
  15. 前記チャックの前記複数のランドは、同じ高さを有する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の装置。
  16. 物品を形成するための方法であって、
    基板の上に成形可能材料を分配すること、
    請求項1に記載のスーパーストレートを、前記スーパーストレートの前記第2の側で、前記チャックによって保持すること、
    前記スーパーストレートのエッジに向かって延在する湾曲を有するように前記スーパーストレートを曲げるための圧力を加えること、
    前記チャックによって前記スーパーストレートを成形可能材料の方へ前進させて、前記スーパーストレートの第1の表面を前記成形可能材料に接触させること
    前記成形可能材料を固化させて前記基板の上に固体層を形成すること、
    前記固体層から前記スーパーストレートを除去すること、および、
    前記固体層を有する前記基板を処理して前記物品を形成すること、
    を含むことを特徴とする方法。
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