JP2021125638A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021125638A JP2021125638A JP2020019761A JP2020019761A JP2021125638A JP 2021125638 A JP2021125638 A JP 2021125638A JP 2020019761 A JP2020019761 A JP 2020019761A JP 2020019761 A JP2020019761 A JP 2020019761A JP 2021125638 A JP2021125638 A JP 2021125638A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- type region
- region
- contact
- insulating film
- type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 39
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 18
- 210000000746 body region Anatomy 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
12 :半導体基板
14 :ソース電極
16 :ドレイン電極
18 :トレンチ
20 :ゲート絶縁膜
22 :ゲート電極
24 :層間絶縁膜
30 :ソース領域
32 :ボディ領域
32a :コンタクト領域
32b :低濃度領域
36 :ドリフト領域
36a :高濃度領域
36b :低濃度領域
38 :ドレイン領域
40 :層間絶縁膜
42 :ゲート配線
51 :第1p型領域
52 :第2p型領域
52a :コンタクト領域
52b :低濃度領域
52x :第1コンタクト部
52y :第2コンタクト部
54 :n型領域
56 :pn接合
58 :pn接合
100 :矢印
102 :矢印
200 :半導体装置
202 :底部p型領域
204 :接続p型領域
Claims (3)
- 半導体装置であって、
トランジスタを有する半導体基板と、
前記半導体基板上に配置されており、前記トランジスタのソースに接続されているソース電極と、
前記半導体基板上に配置されている層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に配置されており、前記トランジスタのゲートに接続されているゲート配線、
を有し、
前記半導体基板が、
前記ゲート配線の下部で前記層間絶縁膜に接する第1p型領域と、
前記第1p型領域に接するn型領域と、
前記n型領域に接し、前記n型領域によって前記第1p型領域から分離されており、前記ソース電極に接する第2p型領域、
を有する半導体装置。 - 前記n型領域が、前記ソース電極に接している請求項1の半導体装置。
- 前記第2p型領域が、第1コンタクト部と第2コンタクト部で前記ソース電極に接しており、
前記ゲート配線が、前記第1コンタクト部と前記第2コンタクト部の間に配置されている、
請求項1または2の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020019761A JP7334638B2 (ja) | 2020-02-07 | 2020-02-07 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020019761A JP7334638B2 (ja) | 2020-02-07 | 2020-02-07 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021125638A true JP2021125638A (ja) | 2021-08-30 |
JP7334638B2 JP7334638B2 (ja) | 2023-08-29 |
Family
ID=77460148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020019761A Active JP7334638B2 (ja) | 2020-02-07 | 2020-02-07 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7334638B2 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011007387A1 (ja) * | 2009-07-15 | 2011-01-20 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置およびその製造方法 |
JP2015211159A (ja) * | 2014-04-28 | 2015-11-24 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素半導体装置 |
WO2015178024A1 (ja) * | 2014-05-23 | 2015-11-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 炭化珪素半導体装置 |
WO2018155553A1 (ja) * | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および電力変換装置 |
WO2018155566A1 (ja) * | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および電力変換装置 |
WO2019123717A1 (ja) * | 2017-12-19 | 2019-06-27 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および電力変換装置 |
WO2019124378A1 (ja) * | 2017-12-19 | 2019-06-27 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および電力変換装置 |
-
2020
- 2020-02-07 JP JP2020019761A patent/JP7334638B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011007387A1 (ja) * | 2009-07-15 | 2011-01-20 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置およびその製造方法 |
JP2015211159A (ja) * | 2014-04-28 | 2015-11-24 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素半導体装置 |
WO2015178024A1 (ja) * | 2014-05-23 | 2015-11-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 炭化珪素半導体装置 |
WO2018155553A1 (ja) * | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および電力変換装置 |
WO2018155566A1 (ja) * | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および電力変換装置 |
WO2019123717A1 (ja) * | 2017-12-19 | 2019-06-27 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および電力変換装置 |
WO2019124378A1 (ja) * | 2017-12-19 | 2019-06-27 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および電力変換装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7334638B2 (ja) | 2023-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9318547B2 (en) | Wide bandgap insulated gate semiconductor device | |
JP6606007B2 (ja) | スイッチング素子 | |
US10361267B2 (en) | Semiconductor device | |
JP6593294B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2016115847A (ja) | 半導体装置 | |
JP2019079833A (ja) | スイッチング素子とその製造方法 | |
JP2012069797A (ja) | 絶縁ゲート型トランジスタ | |
JP2018060984A (ja) | 半導体装置 | |
JP2014216572A (ja) | 半導体装置 | |
JP6514035B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6283709B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2017191817A (ja) | スイッチング素子の製造方法 | |
JP6299658B2 (ja) | 絶縁ゲート型スイッチング素子 | |
JP2017174961A (ja) | スイッチング素子の製造方法 | |
JP2019161112A (ja) | 半導体装置 | |
JP7334638B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6754308B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2021034528A (ja) | スイッチング素子 | |
JP2020088158A (ja) | スイッチング素子 | |
KR20190100598A (ko) | 향상된 채널 이동도를 갖는 전력 반도체 및 그 제조 방법 | |
JP6754310B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7077112B2 (ja) | 半導体装置 | |
US11682696B2 (en) | Semiconductor device having a high breakdown voltage | |
US11682695B2 (en) | Semiconductor device having a high breakdown voltage | |
JP6814652B2 (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20200720 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220609 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230622 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230718 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230731 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7334638 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |