JP2021125471A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
10 処理ユニット
12 処理チャンバ
12a 天井面
13 蓋部材(蓋部)
15 支持トレイ(支持部)
30 移載ユニット
51 昇降機構(移動部)
57 流体供給部
121 開口
124,124A,124B,124C 液切り部材(液切り部位)
126A,126B 液切り部位
L 液膜
S 基板
SP 処理空間
Claims (10)
- 基板を処理するための処理空間を形成し、側部に前記処理空間と連通する開口を有する処理チャンバと、
上面に液膜が形成された前記基板を水平姿勢に支持し、前記開口を介して前記処理空間に搬入する支持部と
を備え、
前記開口には、前記基板上の前記液膜のうち予め定められた規定厚さよりも大きな膜厚を有する部分に接触して液切りすることで前記液膜の厚さを調整する液切り部位が設けられ、
前記液切り部位の下端は、前記処理空間の天井面よりも低く前記基板の上面より高い位置で、前記基板の搬送方向に直交かつ水平な幅方向における前記基板の両端部よりも外側まで水平方向に延びている、基板処理装置。 - 前記液切り部位の前記下端は、前記処理空間側から見て前記開口よりも外側に突出している請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記液切り部位は、前記開口に取り付けられた、前記幅方向を長手方向とする平板状部材である請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記開口の上端は前記処理空間の前記天井面と同一の連続した水平面にあり、
前記平板状部材の下端が前記開口の上端よりも下方に延びている請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記液切り部位は、前記処理チャンバと一体に形成されている請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記基板を支持する前記支持部が前記処理空間に収容された状態で前記開口を閉塞する蓋部と、
前記蓋部を前記処理チャンバに対し相対的に進退移動させて、前記蓋部が前記開口を閉塞する閉塞状態と、前記蓋部が前記開口から離間した離間状態とを切り替える移動部と
を備える請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記支持部が前記蓋部に取り付けられ、前記移動部は前記蓋部と前記支持部とを一体的に前記処理チャンバに対し相対移動させる請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記閉塞状態において、前記液切り部位が前記処理空間と連通する空間にある請求項6または7に記載の基板処理装置。
- 前記処理空間へ処理流体を供給する流体供給部を備え、
前記処理空間内で、超臨界状態の前記処理流体により前記基板を処理する請求項1ないし8のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記処理流体は二酸化炭素であり、前記液膜を構成する液体は有機溶剤である請求項9に記載の基板処理装置。
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