JP2021123624A - 蛍光色素及びその利用 - Google Patents

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Abstract

【課題】新規な蛍光色素を提供することを課題とする。
【解決手段】ローダミン類の基本骨格におけるキサンテン環の酸素原子がケイ素原子に置換された骨格を有する蛍光色素において、ケイ素原子をスピロ原子とするスピロ環構造を付与することにより、超解像顕微鏡法にも利用可能な新規な蛍光色素を得て、上記の課題を解決した。
【選択図】図１

Description

本発明は、蛍光色素に関する。本発明は、蛍光色素と複合化物質が結合した標識複合化物質に関する。本発明は、蛍光色素又は標識複合化物質を含む組成物に関する。本発明は、超解像顕微鏡法により被検物質に関する情報を取得する方法に関する。
細胞や生体分子を蛍光顕微鏡やフローサイトメトリーで検出するため、蛍光色素が広く用いられている。蛍光色素としては、例えば特許文献１に示されるような、ローダミン類の基本骨格におけるキサンテン環の酸素原子がケイ素原子に置換された骨格(以下、Ｓｉローダミン骨格ともいう)を有する化合物が知られている。
中国特許出願公告第100361999号明細書
本発明は、新規な蛍光色素、標識複合化物質、組成物及び被検物質に関する情報の取得方法を提供することを目的とする。
ローダミン類においては、キサンテン環部位の９位の炭素原子をスピロ原子とする分子内スピロ環が形成された状態(閉環体)と、該スピロ環が開裂された状態(開環体)とが平衡にあることが知られている。開環体のローダミン類は吸収及び蛍光を示すが、閉環体のローダミン類は無色且つ無蛍光である。このことは、Ｓｉローダミン骨格を有する蛍光色素についても同様である。本発明者らは、Ｓｉローダミン骨格を有する蛍光色素における分子内スピロ環の可逆的な形成及び開裂反応に着目して、新規な蛍光色素の作製を試みた。その結果、本発明者らは、Ｓｉローダミン骨格を有する蛍光色素において、Ｓｉ原子をスピロ原子とするスピロ環構造を付与することにより、本発明を完成した。
本発明は、以下の式（Ｉ）で示される化合物もしくはその互変異性体、又はその塩からなる蛍光色素を提供する。
Figure 2021123624
式中、
Ａは、置換基を有していてもよいＳｉを含むＣ４〜Ｃ７の複素環を示し、
Ｘは、ヒドロキシ又は−ＮＲ1Ｒ2を示し、
Ｙ1は、＝Ｏ又は＝Ｎ+Ｒ3Ｒ4を示し、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立して、Ｈ、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル、又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のヘテロアルキルを示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4、Ｒ1とＲ5、及びＲ3とＲ6の組み合わせの少なくとも一つは、それらが結合するＮと一緒になって、置換基を有していてもよいＮを含む複素環を形成していてもよく、
Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は、独立して、Ｈ、ハロゲン、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルコキシ、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルチオ、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいアリール、置換基を有していてもよいヘテロアリール、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2 -、−ＳＯ3Ｈ、−ＳＯ3 -、及び−Ｌ−Ｒからなる群から選択され；
Ｌは、１〜１６個の非水素原子を有する、直鎖、分岐鎖、環又はこれらの任意の組み合わせ構造の２価のリンカーであり、ここで、リンカー中に１以上のヘテロ原子が存在する場合、当該ヘテロ原子はエステル、アミン、アミド、エーテル、チオエーテル、カルボニルからなる群から独立して選択される１以上の基として含まれ；
Ｒは反応基であり；及び
Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11のうち隣り合う２つの基の１以上の組み合わせは共に環を形成していてもよい；
ただし、Ｒ1とＲ5、及びＲ3とＲ6の組み合わせの少なくとも一つが、それらが結合するＮと一緒になって、置換基を有していてもよいＮを含む複素環を形成し、かつＲ2及びＲ4が置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルである化合物及びその互変異性体並びにその塩を除く。
本発明は、上記の蛍光色素と複合化物質が結合した標識複合化物質を提供する。本発明は、上記の蛍光色素又は標識複合化物質を含む組成物を提供する。本発明は、上記の蛍光色素又は標識複合化物質を被検物質と結合させ、超解像顕微鏡法により該被検物質に関する情報を取得する方法を提供する。
本発明によれば、新規な蛍光色素、標識複合化物質、組成物及び被検物質に関する情報の取得方法が提供される。
実施例１９の蛍光色素の開環体及び閉環体の構造式である。 実施例１、７、８、１０、１７、１９、２３、３３及び３６の蛍光色素及びこれらの比較例の蛍光色素における９位炭素のマリケン電荷を示すグラフである。 実施例１９の比較例である化合物Ａ及び実施例１の比較例である化合物Ｂの構造式である。 実施例１９の蛍光色素、化合物Ａ、実施例１の蛍光色素及び化合物Ｂのデューティサイクルを示すグラフである。 実施例１〜３６の蛍光色素のデューティサイクルを示す表である。 ａは、抗チューブリン抗体(一次抗体)を加えず、実施例７の蛍光色素で標識した抗マウスIgG抗体(二次抗体)のみを用いて免疫染色した細胞の透過光像である。ｂは、ａと同一視野における蛍光像である。ａ及びｂにおいて、細胞の輪郭を点線で示した。ｃは、一次抗体及び二次抗体を用いて免疫染色した細胞の蛍光像である。ｄは、ｃと同一視野における超解像画像である。ｃ及びｄの各画像の左上部分にある短い線は、染色された微小管の画像のラインプロファイルを解析した部位を示す。ｅは、ｃ及びｄの各画像について解析したラインプロファイルと半値幅を示す。 ｆは、抗チューブリン抗体(一次抗体)を加えず、実施例３６の蛍光色素で標識した抗マウスIgG抗体(二次抗体)のみを用いて免疫染色した細胞の透過光像である。ｇは、ｆと同一視野における蛍光像である。ｆ及びｇにおいて、細胞の輪郭を点線で示した。ｈは、一次抗体及び二次抗体を用いて免疫染色した細胞の蛍光像である。ｉは、ｈと同一視野における超解像画像である。ｈ及びｉの各画像の左上部分にある短い線は、染色された微小管の画像のラインプロファイルを解析した部位を示す。ｊは、ｈ及びｉの各画像について解析したラインプロファイルと半値幅を示す。
[略号及び用語]
本明細書で使用される略号は、当業者に周知の慣用的な略号である。本明細書では、下記の略号を使用する。
（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）2ＰｄＣｌ2：ビス［ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン］ジクロロパラジウム（II）
1Ｈ−ＮＭＲ：プロトン核磁気共鳴スペクトルメトリー
Ｂｎ：ベンジル
Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
Ｂｕ：ブチル
ＤＡＳＴ：三フッ化Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ硫黄
ＤＣＭ：ジクロロメタン
ＤＤＱ：２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン
ＤＩＰＥＡ：Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン
ＤＭＡＰ：Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン
ＤＭＥ：ジメトキシエタン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー
ＬＣ−ＭＳ：液体クロマトグラフィー−マススペクトルメトリー
ＭＳ：マススペクトルメトリー
ｍ−：メタ
ｎ−：ノルマル
ＮＢＳ：Ｎ−ブロモスクシンイミド
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ｏ−：オルト
ｐ−：パラ
ＰＰＴＳ：ピリジニウムパラトルエンスルホナート
ＰｙＢＯＰ：ヘキサフルオロリン酸（ベンゾトリアゾール-1-イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム
ｓｅｃ：セカンダリー
ｔ−：ターシャリー
ｔｅｒｔ：ターシャリー
ＴＢＡＦ：フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ＴＢＳ：ターシャリーブチルジメチルシリル
ＴＥＡ：トリエチルアミン
Ｔｆ：トリフルオロメチルスルホニル
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＸＰｈｏｓ：２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル
用語「アルキル」とは、直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素鎖である１価の基をいう。本実施形態の蛍光色素では、アルキルは、１〜６個の炭素原子を有する。本明細書では、１〜６個の炭素原子を有するアルキルを「Ｃ１〜Ｃ６のアルキル」という。Ｃ１〜Ｃ６のアルキルとしては、例えばメチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−メチル−１−プロピル、２−ブチル、２−メチル−２−プロピル（ｔ−ブチル）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、２−メチル−２−ブチル、３−メチル−２−ブチル、３−メチル−１−ブチル、２−メチル−１−ブチル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチル−２−ペンチル、３−メチル−２−ペンチル、４−メチル−２−ペンチル、３−メチル−３−ペンチル、２−メチル−３−ペンチル、２，３−ジメチル−２−ブチル、３，３−ジメチル‐２‐ブチル及びヘキシルが挙げられるが、これらに限定されない。
用語「シクロアルキル」とは、３〜１０個の炭素原子の飽和環式炭化水素基をいう。シクロアルキルとしては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロオクチルなどの単一環構造、又はアダマンタニル、デカヒドロナフチルなどの多環構造が含まれる。
用語「ヘテロアルキル」とは、酸素、窒素及び硫黄から選択されるヘテロ原子により上記アルキルにおける結合端以外の１つ以上の炭素原子が置換された基をいう。用語「アルコキシ」とは、アルキル−Ｏ−基をいう。用語「アルキルチオ」とは、アルキル−Ｓ−基をいう。アルキルの定義は上記のとおりである。「ヒドロキシアルキル」とは、少なくとも１個、例えば、１〜３個のヒドロキシにより置換されたアルキル基をいう。
用語「アリール」とは、１つ以上の閉じた環を有し、その１つ又は複数の環は、独立して、縮合及び／又は架橋したものであり得る、芳香族炭素環式基をいう。例えば、フェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントラセニル、ビフェニル、及びピレニルが挙げられるが、これらに限定されない。「ヘテロアリール」とは、環のうちの少なくとも１つに、酸素、窒素及び硫黄から選択される１つ以上のヘテロ原子を含み、それらの環のうちの少なくとも１つは芳香族であり、その１つ又は複数の環は、独立して、縮合及び／又は架橋したものであり得る、１つ以上の閉じた環を有する環状基をいう。例えば、キノリニル、イソキノリニル、インドリル、フリル、チエニル、ピラゾリル、キノキサリニル、ピロリル、インダゾリル、チエノ［２，３−ｃ］ピラゾリル、ベンゾフリル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジル、チオフェニルピラゾリル、ベンゾチエニル、ベンゾチアゾリル、チアゾリル、２−フェニルチアゾリル、イソオキサゾリルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
用語「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素をいう。用語「ハロアルキル」とは、本明細書において規定される１つ以上のハロゲンで置換された本明細書で定義されるアルキルを指す。ハロアルキルにおいて、１つ以上のハロゲンは同じであってもよいし、異なってもよい。
用語「アミノ」とは、−ＮＨ2基をいう。
用語「複素環」とは、１つ以上のヘテロ原子を含む、飽和又は部分的に不飽和の環系をいう。複素環は、単環式、二環式又は三環式基であってもよい。複素環は、環に結合したオキソ基（＝Ｏ）又はチオキソ基（＝Ｓ）も含むことができる。本明細書では、式（Ｉ）中の複素環としてのＡについて言及する場合、「複素環Ａ」又は単に「Ａ」と記載する。
用語「反応基」は、本実施形態の蛍光色素で標識しようとする所定の物質に対して反応性を有する官能基をいう。本実施形態の蛍光色素における反応基Ｒとしては、例えば、ヒドロキシ、カルボキシル、スルホン酸、不飽和イミド、不飽和アミド、不飽和エステル、カルボン酸の活性化エステル、アミン、アルコール、ニトリル、メルカプタン、ボロナート、ホスホラミダイト、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化スルホニル、アルファ位にハロゲンを有するアミド又はエステル、イソシアナート、イソチオシアナート、アジド、アルデヒド、アシルニトリル、光活性化可能な基などが挙げられるが、これらに限定されない。
本明細書に記載の化合物において、置換基が２以上存在する場合、各置換基の定義は、他の置換基の定義とは独立である。置換基の種類及び置換基の数の組み合わせは、そのような組み合わせが化学的に安定な化合物をもたらす場合にのみ許容される。
[１．蛍光色素]
本発明者らは、Ｓｉローダミン骨格を有する蛍光色素において、Ｓｉ原子をスピロ原子とするスピロ環構造を付与すると、当該蛍光色素のデューティサイクル(duty cycle)が低下することを見出した。デューティサイクルとは、実験例２で述べるように、蛍光色素の明滅持続時間に対する発光時間の合計の比率をいう。デューティサイクルが小さいと、蛍光色素はより散発的に発光するので、当該蛍光色素の１分子発光を検出しやすくなる。よって、デューティサイクルの小さい蛍光色素は、超解像顕微鏡法に適している。本発明者らは、このようなＳｉローダミン骨格を有する蛍光色素のデューティサイクルを低下させる技術により、上記の式（Ｉ）で示される化合物もしくはその互変異性体、又はその塩からなる本実施形態の蛍光色素を得た。
さらなる実施形態では、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11において、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のヘテロアルキル、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルコキシ、及び置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルチオの置換基は、いずれも、独立して、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ、アミノ、アリール、ヘテロアリール、−ＣＯ2Ｈ及び−ＳＯ3Ｈから選択されてもよい。また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11において、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいＮを含む複素環、置換基を有していてもよいアリール、及び置換基を有していてもよいヘテロアリールの置換基は、いずれも、独立して、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル、Ｃ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ、アミノ、アリール、ヘテロアリール、−ＣＯ2Ｈ及び−ＳＯ3Ｈから選択されてもよい。
さらなる実施形態では、式（Ｉ）において、Ｘは−ＮＲ1Ｒ2であり、Ｙ1は＝Ｎ+Ｒ3Ｒ4である。この場合、式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、独立して、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のＯを含むヘテロアルキルであることが好ましい。ここで、式（Ｉ）中、Ｒ1とＲ2、及びＲ3とＲ4の組み合わせはいずれも、それらが結合するＮと一緒になって、置換基を有していてもよいＮを含む複素環を形成してもよい。かかるＮを含む複素環としては、アゼチジン環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、オキサゼパン環が挙げられる。さらに、Ｒ1とＲ2、及びＲ3とＲ4は２か所以上で連結していてもよく、その場合Ｎを含む複素環は架橋環を形成する。かかる架橋環としては、７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン環等が挙げられる。ある実施形態において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4における置換基は、それぞれ、無置換、又はハロゲン若しくはＣ１〜Ｃ６のアルコキシ置換である。
さらなる実施形態では、式（Ｉ）において、Ｘはヒドロキシであり、Ｙ1は＝Ｏである。
本実施形態では、複素環Ａは、置換基を有していてもよい、ヘテロ原子としてＳｉ原子を含み、４〜７個の炭素原子を有する複素環である。本明細書では、４〜７個の炭素原子を有する複素環を「Ｃ４〜Ｃ７の複素環」という。複素環Ａは、環にＳｉ原子以外のヘテロ原子(例えば酸素、窒素、硫黄)をさらに含んでもよい。例えば、複素環Ａは、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル、Ｃ１〜Ｃ６のハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ、アミノ、アリール、ヘテロアリール、−ＣＯ2Ｈ及び−ＳＯ3Ｈから独立して選択される１以上の置換基により置換されていてもよい。複素環Ａは単環式であることが好ましく、例えば以下の環が挙げられるが、これらに限定されない。以下に示される環は、置換基を有していてもよい。
Figure 2021123624
ある実施形態では、複素環Ａは、以下に示されるＣ４又はＣ５の複素環である。以下に示される環は、置換基を有していてもよい。
Figure 2021123624
別の実施形態では、複素環Ａは、無置換である。
さらなる実施形態では、式（Ｉ）において、Ｒ8及びＲ11はＨである。
さらなる実施形態では、式（Ｉ）において、Ｒ7は−ＣＯ2 -である。この場合、式（Ｉ）の化合物の互変異性体は、以下の式（ＩＩ）で示される化合物である。式（ＩＩ）中、Ｙ2は、ヒドロキシ又は−ＮＲ3Ｒ4であり、Ａ、Ｘ、Ｒ5、Ｒ6及びＲ8〜Ｒ11の定義は式（Ｉ）と同じである。
Figure 2021123624
本実施形態では、Ｌは、飽和又は部分的に不飽和であってもよい。さらなる実施形態では、−Ｌ−Ｒは、−ＣＯＮＨ−Ｌ’−Ｒである。Ｌ’は、１〜１３個の非水素原子を有する、直鎖、分岐鎖、環又はこれらの任意の組み合わせ構造の２価のリンカーである。ここで、リンカー中に１つ以上のヘテロ原子が存在する場合、当該ヘテロ原子は、エステル、アミン、アミド、エーテル、チオエーテル、及びカルボニルからなる群から独立して選択される１つ以上の基として含まれている。Ｌ及びＬ’におけるアミンは、２級又は３級アミンである。ある実施形態において、Ｌ−Ｒは、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）n−Ｒである（ｎは１から１３の整数である）。別の実施形態において、ｎは１から６の整数であり、さらなる実施形態においてｎは１、２又は３である。ある実施形態において、Ｌは、−ＣＯＮＨ−Ｃ2Ｈ4−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）m−Ｒである（ｍは１、２又３である）。ある実施形態において、Ｒは１−マレイミドである。
ある実施形態では、Ｒ9及びＲ10のいずれか１つが、以下に示されるいずれかの基である。
Figure 2021123624
この場合のＲ9及びＲ10の残りの基は、−Ｌ−Ｒと異なる基である。ある実施形態では、かかる残りの基は、水素；ハロゲン；ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ及びＣ１〜Ｃ６のアルキルチオからなる群より独立して選択される１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル；又はＣ１〜Ｃ６のアルキル及びＣ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキルからなる群より独立して選択される１以上の置換基で置換されていてもよいアミノ；である。
好ましい式（Ｉ）の化合物又はその互変異性体としては、例えば、以下の構造式で表される化合物が挙げられるが、本実施形態の蛍光色素はこれらに限定されない。
Figure 2021123624
Figure 2021123624
＜一般製造法＞
次に、式（Ｉ）の化合物又はその塩の合成法について説明する。
式（Ｉ−２）の化合物は、式（Ｉ）のＲ7がＣＯＯ-であり、かつＲ9又はＲ10のいずれか１つがＣＯＯＨである式（Ｉ−１）の化合物より、スキーム１−１に示す方法で合成することができる。
スキーム１−１
Figure 2021123624
式中、Ａ、Ｘ、Ｙ1及びＲ5〜Ｒ11は式（Ｉ）との定義と同じであり、Ｌ’は１〜１３個の非水素原子を有する、直鎖、分岐鎖、環又はこれらの任意の組み合わせ構造の２価のリンカーであり、ここで、リンカー中に1以上のヘテロ原子が存在する場合、当該ヘテロ原子はエステル、アミン、アミド、エーテル、チオエーテル、及びカルボニルからなる群から独立して選択される１以上の基として含まれている。Ｒ12は、Ｈ、ハロゲン、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルコキシ、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルチオ、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいアリール、置換基を有していてもよいヘテロアリール、ＳＯ3Ｈ及びＳＯ3 -からなる群から選択される基を示す。また、式（Ｉ−１）、（ａ）及び（Ｉ−２）は塩を組んでもよく、塩としては特に限定されないが、例えばＴＦＡ塩が利用可能である。式（ａ）の化合物は既知の方法で合成してもよく、又は市販品を使用してもよい。市販品としては、例えばＮ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩などが利用できる。Ｓｔｅｐ１に示される反応は一般的なアミド化反応を意味し、必要に応じて縮合剤を用いることが出来る。縮合剤としては、例えばＰｙＢＯＰなどが使用できる。反応に使用する溶媒としては、不活性であれば特に制限されず、例えばＴＨＦ、ＤＭＥ、ＤＭＦ、ＮＭＰ、ＤＭＳＯ又はそれらの混合物などが利用できる。反応を促進するため塩基を加えてもよく、塩基としてはＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ又はピリジンなどが利用できるが特に制限されない。
別法として、スキーム１−２に示される通り、マレイミド部位を最終段階に構築することもできる。
スキーム１−２
Figure 2021123624
式中、Ａ、Ｘ、Ｙ1、Ｌ’及びＲ5〜Ｒ12はスキーム１−１の定義と同じである。Ｐ1は保護基を示し、特に限定されないが、例えばＢｏｃ基を用いることができる。式（Ｉ−１）、（ｂ）、（ｃ）、（Ｉ−３）及び（Ｉ−２）は塩を組んでもよく、塩としては特に限定されず、例えばＴＦＡ塩が利用可能である。式（ｂ）の化合物は既知の方法で合成してもよく、また市販品を用いることもできる。Ｓｔｅｐ１はアミド化を意味し、スキーム１−１に示されるＳｔｅｐ１と同様である。Ｓｔｅｐ２は脱保護反応を意味し、Ｐ1がＢｏｃの場合、ＴＦＡが利用できる。Ｓｔｅｐ３はマレイミド基の構築を意味し、塩基性条件下、メチル ２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−カルボキシラートを作用させることで式（Ｉ−２）の化合物を合成することができる。溶媒としては不活性であれば限定されず、例えばＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテルなどが利用できる。塩基としては特に限定されず、例えば炭酸水素ナトリウム水溶液などが利用できる。
式（Ｉ−１）、(ｃ)、（Ｉ−３）及び（Ｉ−２）で示される化合物は適当な処理をすることでスキーム１−３において式（ＩＩ−１）、（ｄ）、（ＩＩ−３）及び（ＩＩ−２）で示されるスピロラクトン体としてそれぞれ単離することができる。また、これらは適当な緩衝液に溶解させることにより、スキーム１−３で示される平衡状態として存在することができる。
スキーム１−３
Figure 2021123624
式（Ｉ−１）、（ｃ）、（Ｉ−３）及び（Ｉ−２）はスキーム１−２の定義と同じである。式（ＩＩ−１）、（ｄ）、（ＩＩ−３）及び（ＩＩ−２）におけるＡ、Ｘ、Ｙ2、Ｒ5〜Ｒ11は式（ＩＩ）と同じ定義であり、Ｌ’及びＲ12はスキーム１−２と定義が同じである。
式（Ｉ−１）の化合物はスキーム２−１に示す方法で式（ｅ）と式（ｆ）の化合物から合成することができる。
スキーム２−１
Figure 2021123624
式（ｅ）及び式（ｆ）の化合物のＡ、Ｘ、Ｙ1及びＲ5〜Ｒ11は式（ＩＩ）と定義が同じであり、式（Ｉ−１）はスキーム１−１の定義と同じである。式（ｅ）のＸ及びＹ2は、好ましくはそれぞれＮＲ1Ｒ2及びＮＲ3Ｒ4であり、Ｒ1〜Ｒ4は式（ＩＩ）の定義と同じである。式（Ｉ−１）のＸ及びＹ1は、好ましくはそれぞれＮＲ1Ｒ2及びＮ+Ｒ3Ｒ4であり、Ｒ1〜Ｒ4は式（Ｉ）の定義と同じである。Ｓｔｅｐ１は縮合反応に引き続く酸化反応を意味し、溶媒はキシレン若しくは酢酸などが使用でき、酸化剤としては臭化第二銅が使用できる。反応は加熱することにより促進されるが、通常８０℃から１４０℃で行い、必要に応じてマイクロ波による加熱も使用できる。
式（Ｉ−１）において、ＸがＮＲ1Ｈであり、Ｙ1がＮ+Ｒ3Ｈである式（Ｉ−４）の化合物は、スキーム２−２に示される方法で式（ｇ）と式（ｆ）の化合物から製造することができる。
スキーム２−２
Figure 2021123624
式（ｆ）、式（ｈ）及び式（Ｉ−４）で表される化合物のＲ1〜Ｒ12とＡはスキーム１−１の定義と同じである。Ｉ式（ｇ）のＲ1〜Ｒ5は式（II）と定義が同じであり、Ｐ2及びＰ3は同一の、又は異なる保護基を表す。保護基としては特に限定されないが、例えばアリル基などが利用できる。Ｓｔｅｐ１はスキーム２−１と同様の反応であり、Ｓｔｅｐ２は脱保護反応を意味する。脱保護反応としては、例えばＰ2及びＰ3がアリル基である場合、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）存在下、１，３−ジメチルバルビツール酸を用いることができる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＤＣＭなどが使用できる。
スキーム２−１で用いる式（ｅ）の化合物は以下の方法で合成できる。
スキーム２−３
Figure 2021123624
式中、環Ａ、Ｘ、Ｙ2、Ｒ5及びＲ6はスキーム２−１と定義が同じであり、ｈａｌはハロゲンを表す。式（ｉ）及び式（ｊ）の化合物にアルキル金属試薬を作用させ、次いで式（ｋ）で表される環状ジクロロシラン試薬と反応させることにより、式（ｅ）の化合物を合成することができる。式（ｉ）及び式（ｊ）の化合物は市販のものを使用することができ、既知の方法で合成することもできる。ハロゲンとしては、臭素などが使用できる。アルキル金属試薬としては、ｎ−ブチルリチウムなどが使用できる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＴＨＦ又はジエチルエーテルなどが使用できる。反応温度は通常室温以下で実施し、好ましくは０℃である。
スキーム２−２で用いる式（ｇ）の化合物は以下の方法で合成できる。
スキーム２−４
Figure 2021123624
式中、環Ａ、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｐ2及びＰ3はスキーム２−２と定義が同じであり、ｈａｌはハロゲンを表す。ｓｔｅｐ１はスキーム２−３で示した方法と同様である。式（ｌ）及び式（ｍ）の化合物は市販のものを使用することができ、既知の方法又は製造例に記載された方法で合成することもできる。
スキーム２−１及びスキーム２−２で用いる式（ｆ）の製造方法はひとつに限定されないが、例えば以下の方法で合成することができる。
スキーム２−５
Figure 2021123624
式中、Ｒ8〜Ｒ12はスキーム２−１と定義が同じであり、ｈａｌはハロゲンを表す。Ｐ4は同一の、又は異なる保護基を示す。保護基としてはとくに限定されないが、例えばｔｅｒｔ−Ｂｕ基が利用できる。式（ｎ）の化合物は市販のものを使用することができ、既知の方法もしくは製造例に記載された方法で合成することもできる。保護基Ｐ4がｔｅｒｔ−Ｂｕ基の場合、式（ｏ）の化合物は式（ｎ）の化合物のカルボキシル基を酸クロライドに変換した後、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシドを作用させることにより得ることができる。溶媒としては不活性であるなら特に限定されず、例えばジクロロメタン、ＴＨＦ又はそれらの混合溶媒などが利用できる。反応温度としては、通常０℃から室温で行うことが出来る。別法として、式（ｎ）の化合物を、ＤＭＡＰ存在下、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルと反応させることにより式（ｏ）の化合物を得ることができる。溶媒としては不活性であるなら特に限定されず、例えばＴＨＦ、ジエチルエーテル、ＤＭＦ、ジクロロメタン、トルエン、１，４−ジオキサン又はそれらの混合溶媒などが利用できる。反応温度としては、通常加熱することにより加速され、室温から溶媒沸点で行うことができる。式（ｐ）の化合物は、式（ｏ）の化合物とトリ−ｎ−ブチル（１−プロペニル）チンから、右田・小杉・スティル クロスカップリング反応で得ることができる。ハロゲンとしては特に限定されないが、例えば臭素が使用できる。触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）が使用できる。溶媒としてはＮＭＰが使用できる。反応温度としては、通常加熱することにより加速され、好ましくは１２０℃で行うことができる。式（ｐ）の化合物は通常幾何異性体の混合物として得られるが、各々の異性体の存在比率は特に限定されない。式（ｑ）の化合物は、式（ｐ）の化合物の１−プロペニル基を酸化的開裂させることで得ることができる。酸化剤としては特に限定されないが、例えば式（ｐ）の化合物を含水溶媒に溶解し、塩基、触媒量の四酸化オスミウム及び過剰量の過ヨウ素酸ナトリウムを加えることにより得ることができる。溶媒としては不活性であれば特に限定されることはなく、例えば１，４−ジオキサンが使用できる。塩基としては２，６−ルチジンが使用できる。式（ｆ）の化合物は、式（ｑ）の化合物を脱保護させることで得ることができる。反応条件は特に限定されないが、例えば保護基Ｐ4がｔｅｒｔ−Ｂｕ基である場合、ＴＦＡを用いることができる。
スキーム２−５の式（ｎ）、式（ｏ）及び式（ｐ）のＲ12がｈａｌのとき、ｓｔｅｐ３で合成される化合物はスキーム２−６の式（ｒ）と表記される。式（ｑ）の化合物はスキーム２−６の方法により、式（ｒ）の化合物からも合成できる。
スキーム２−６
Figure 2021123624
式中、Ｒ8〜Ｒ11、ｈａｌ及びＰ4はスキーム２−５と定義が同じである。新たに導入されるＲ12はスキーム１−１の定義と同じであるが、好ましくは置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルコキシ、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルチオである。ハロゲンとしては特に限定されないが、例えばフッ素などが使用できる。Ｓｔｅｐ１は芳香族求核置換反応を意味し、式（ｓ）で表される化合物としてはナトリウムメトキシド、又はナトリウムメタンチオラートなどが利用できる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＴＨＦ、ジエチルエーテルもしくはメタノール又はそれらの混合物などが使用できる。
スキーム２−５の式（ｎ）のＲ12がｈａｌのとき、式（ｎ）はスキーム２−７の式（ｔ）と表記できる。式（ｔ）の化合物から、スキーム２−７に示す方法で式（ｏ）の化合物を製造することもできる。
スキーム２−７
Figure 2021123624
式中、Ｒ8〜Ｒ11、Ｐ4はスキーム２−５と定義が同じである。ｈａｌは同一の又は異なるハロゲンであり、好ましくは臭素である。新たに変換されるＲ12はスキーム１−１の定義と同じであるが、好ましくは置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルである。式（ｔ）の化合物は市販のものを使用することができ、既知の方法で合成することもできる。式（ｕ）の化合物はスキーム２−５のｓｔｅｐ１と同様の方法で得ることができる。式（ｖ）の化合物は式（ｕ）の二つのｈａｌのうち一つに対して選択的にプロペニル基を導入することで合成することができる。具体的には式（ｕ）の化合物とトリ−ｎ−ブチル（１−プロペニル）チンから、右田・小杉・スティル クロスカップリング反応で合成することができる。触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）が使用できる。溶媒としてはＮＭＰが使用できる。反応温度としては、通常加熱することにより加速され、好ましくは１２０℃で行うことができる。式（ｖ）の化合物は通常幾何異性体の混合物として得られるが、各々の異性体の存在比率は特に限定されない。式（ｗ）の化合物はスキーム２−５のｓｔｅｐ３と同様の方法で合成できる。式（ｗ）の化合物のアルデヒド基からｓｔｅｐ４を経て種々の方法でＲ12に変換することが出来る。ｓｔｅｐ４は単一の工程でもよく、又は複数の工程でもよい。単一の工程としては、例えば式（ｗ）の化合物にＤＡＳＴを作用させることによりジフルオロメチル基に誘導できる。複数の工程としては、例えば式（ｗ）の化合物に水素化ホウ素ナトリウムを作用させた後、得られたアルコールをアッペル反応にて臭素に変換し、さらにナトリウムメトキシドで置換することでメトキシメチル基に変換できる。
式（ｆ）の化合物は、互変異性によって式（ｘ）の構造を取ることができる。通常、両化合物の混合物として得られるが、その存在比率は特に限定されない。
スキーム２−８
Figure 2021123624
式（ｈ）で表される化合物は適当な処理をすることでスキーム２−９において式（ｙ）で示されるスピロラクトン体として単離することができる。また、これらは適当な緩衝液に溶解させることにより、スキーム２−９で示される平衡状態として存在することができる。
スキーム２−９
Figure 2021123624
式中、Ａ、Ｒ1〜Ｒ12、Ｐ2及びＰ3はスキーム２−２と定義が同じである。
式（Ｉ−１）の化合物はスキーム３−１に示す方法でも合成することができる。
スキーム３−１
Figure 2021123624
式中、環Ａ、Ｘ、Ｙ1及びＲ1〜Ｒ12はスキーム１−１と同じ定義であり、ｈａｌとＰ4はスキーム２−５と同じ定義である。Ｐ5は同一の、又は異なる保護基を表す。保護基Ｐ4としては特に限定されないが、例えばｔｅｒｔ−Ｂｕ基を利用できる。保護基Ｐ5としては特に限定されないが、例えばＴＢＳ基などを利用できる。ハロゲンとしては、臭素が利用できる。式（Ｉ−１）の化合物は塩を組んでもよく、塩としては特に限定されないが、例えばＴＦＡ塩が利用可能である。式（ｏ）の化合物にアルキル金属試薬を作用させ、次いで式（ｚ）の化合物を加えることで式（ａａ）の化合物を合成できる。アルキル金属試薬として、ｎ−ブチルリチウムを利用することができる。反応温度は通常通常室温以下で行い、−１００℃から室温で行うことができる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＴＨＦ、ｎ−ヘキサン及びそれらの混合物が使用できる。触媒としてルイス酸を加えることもできる。ルイス酸としては、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を使用できる。式（ａｂ）の化合物は、式（ａａ）の化合物の保護基Ｐ5を脱保護することで合成することができる。保護基Ｐ5がＴＢＳ基の場合、例えばＴＢＡＦで脱保護することができる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＴＨＦを使用することができる。式（ａｃ）の化合物は、式（ａｂ）の化合物にトリフルオロメタンスルホン酸無水物を作用させることで合成できる。塩基としては特に限定されないが、例えばピリジンが使用できる。溶媒としては不活性であれば特に限定されないが、例えばジクロロメタンなどが使用できる。ＸがＮＲ1Ｒ2であり、Ｙ1がＮ+Ｒ3Ｒ4のとき、式（ａｄ）の化合物は、式（ａｃ）の化合物からブッフバルト・ハートウィッグ反応で合成することができる。反応に用いるパラジウム触媒としては、例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリス（ベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）又は（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）2ＰｄＣｌ2などが使用でき、必要に応じてＸＰｈｏｓなどのリン配位子を加えることができる。塩基としては、炭酸セシウム、ナトリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシドなどが使用できる。溶媒としては１，４−ジオキサン、トルエン、ＴＨＦなどが使用できる。反応は通常加熱することで促進され、通常封管中１００℃〜１２０℃で行うことができる。また、必要に応じてマイクロ波による加熱も使用できる。式（Ｉ−１）の化合物は式（ａｄ）の保護基Ｐ4を脱保護することで合成することができる。Ｐ4がｔｅｒｔ−Ｂｕ基のとき、ＴＦＡを用いることができる。
式（ｏ）のＲ12がｈａｌのとき、式（ｏ）はスキーム３−２の式（ｕ）と表記することもできる。式（ａａ）の化合物は式（ｕ）の化合物から、スキーム３−２に示す方法で合成することもできる。
スキーム３−２
Figure 2021123624
式中、環Ａ、Ｐ4，Ｐ5、Ｒ5〜Ｒ12はスキーム３−１と定義が同じであり、ｈａｌは同一の、又は異なるハロゲンである。式（ａｅ）の化合物のｈａｌとしては特に限定されないが、例えば塩素が利用できる。ｓｔｅｐ１はスキーム３−１のｓｔｅｐ１と同様の反応であり、式ｕの二つのハロゲンのうち、一つだけを選択的に金属交換することにより実現できる。ｓｔｅｐ２で新たに導入されるＲ12はスキーム１−１の定義と同じであるが、好ましくは置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルである。ｓｔｅｐ２でＲ12を導入する方法としては特に限定されないが、たとえは鈴木−宮浦クロスカップリングもしくは右田・小杉・スティル クロスカップリング反応が使用できる。パラジウム触媒としては、例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）又は（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）2ＰｄＣｌ2などが使用でき、必要に応じてＸＰｈｏｓなどのリン配位子を加えることができる。鈴木−宮浦クロスカップリングの場合、無機塩基水溶液を加えることで反応が促進されるが、塩基としては炭酸カリウムが使用できる。溶媒としては１，４−ジオキサン又はＤＭＦなどが使用できる。Ｒ12元としては特に限定されないが、例えばトリメチルボロキシン又はテトラメチルスズが使用できる。反応は加熱することで促進されるが、通常１００℃から１８０℃で行い、必要に応じてマイクロ波による加熱も使用できる。
スキーム３−１の式（ｏ）、式（ａａ）、式（ａｂ）及び式（ａｃ）のＲ12がｈａｌのとき、式（ａｃ）はスキーム３−３の式（ａｆ）と表記できる。式（Ｉ−１）の化合物は式（ａｆ）の化合物から、スキーム３−３に示す方法で合成することもできる。
スキーム３−３
Figure 2021123624
式中、環Ａ、Ｘ、Ｙ1、ｈａｌ、Ｐ4及びＲ1〜Ｒ11はスキーム３−１と定義が同じである。ｈａｌとしては特に限定されないが、例えば塩素が利用できる。Ｒ12はスキーム１−１と定義が同じであるが、好ましくは置換基を有していてもよいアミノ基である。式（Ｉ−１）、の化合物は塩を組んでもよく、塩としては特に限定されないが、例えばＴＦＡ塩が利用可能である。ｓｔｅｐ１はスキーム３−１のｓｔｅｐ４と同様の反応であるが、ＯＴｆのみならず、ｈａｌも同時に置換することができる。ｓｔｅｐ２はスキーム３−１のｓｔｅｐ５と同様の反応であるが、保護基Ｐ4の脱保護のみならず、ＸからＲ12への変換も行う事ができる。Ｘとしては、上記工程が実現できるものであれば特に限定されないが、例えばアゼチジン−１−イル基が利用できる。また、その際変換されて得られるＲ12としては３−ヒドロキシプロピルアミノ基が利用できる。
スキーム３−４
スキーム３−１及びスキーム３−２で用いる式（ｚ）の化合物は以下の方法で合成できる。
Figure 2021123624
式中、環Ａ、ｈａｌ、Ｐ5及びＲ5〜Ｒ6はスキーム３−１の定義と同じである。ハロゲンとしては例えば臭素を使用することができる。保護基Ｐ5としては特に限定されないが、例えばＴＢＳ基が使用できる。既知の方法で合成される式（ａｈ）の化合物に、アルキル金属試薬を作用させ、次いで式（ｋ）で表される環状ジクロロシラン試薬と反応させることにより、式（ａｉ）の化合物を合成することができる。アルキル金属試薬としてはｓｅｃ−ブチルリチウムを使用することができる。溶媒としては、不活性であれば特に限定されることはなく、例えばＴＨＦなどが使用できる。反応温度は−７８℃から室温で行うことができる。式（ｚ）の化合物は式（ａｉ）の化合物に酸化剤を作用させることで合成することができる。酸化剤としては、過マンガン酸カリウム、ＤＤＱ、クロラニルなどが使用できる。溶媒としては不活性ならば特に限定されず、例えばジクロロメタン、メタノール、１，４−ジオキサン、アセトン、水及びそれらの混合溶媒などが使用できる。
式（ｚ）の保護基Ｐ5を脱保護することにより式（ａｊ）の化合物を合成することができる。
スキーム３−５
Figure 2021123624
 式中、環Ａ、Ｐ5、Ｒ5〜Ｒ6はスキーム３−１の定義と同じである。Ｐ5としては、例えばＴＢＳを利用することができる。Ｐ5がＴＢＳの場合、ｓｔｅｐ１でＴＢＡＦを利用することができる。
スキーム３−４のｓｔｅｐ２において、反応中又は後処理の過程で保護基Ｐ5が外れることにより、式（ａｉ）の化合物から式（ａｊ）を直接合成することもできる。式（ａｊ）のヒドロキシル基を任意の保護基Ｐ5で保護することにより式（ｚ）の化合物を合成することもできる。
スキーム３−６
Figure 2021123624
式中、環Ａ、Ｒ5〜Ｒ6はスキーム３−１の定義と同じである。Ｐ5はそれぞれ同一の、又は異なる保護基を意味する。式（ａｉ）のＰ5としては容易に脱保護できるものであれば特に限定されないが、例えばＴＢＳ基を用いることができる。Ｓｔｅｐ１はスキーム３−４のｓｔｅｐ２と同様の工程であるが、同時に起こる脱保護反応が不十分である場合、必要に応じて粗生成物に対して脱保護反応を行うこともできる。例えば保護基Ｐ5がＴＢＳ基の場合、得られた粗生成物に対してＴＢＡＦを作用させることにより式（ａｊ）の化合物を得ることができる。Ｓｔｅｐ２で導入する保護基Ｐ5としては、とくに限定されないが、例えばＴＢＳ基を用いることが出来る。式（ｚ）のＰ5がＴＢＳの場合、Ｓｔｅｐ２でＴＢＳＣｌを利用することができる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＤＭＦ、ジクロロメタン又はそれらの混合物を使用することができる。塩基としてはイミダゾールを使用することができる。
式（ａｄ）及び（ａｇ）で表される化合物は適当な処理をすることでスキーム３−７の式（ａｋ）及び（ａｌ）で示されるスピロラクトン体として単離することができる。また、これらは適当な緩衝液に溶解させることにより、スキーム３−７で示される平衡状態として存在することができる。式（ａｄ）はスキーム３−１の定義と同じであり、式（ａｇ）はスキーム３−３の定義と同じである。式（ａｋ）及び（ａｌ）のＡ、Ｘ、Ｙ1、Ｒ5〜Ｒ11は式（II）と同じ定義であり、Ｐ4及びＲ12はスキーム３−１と定義が同じである。
スキーム３−７
Figure 2021123624
式（Ｉ−１）においてＸがＯＨであり、Ｙ1がＯである式（Ｉ−５）の化合物はスキーム３−８に示す方法でも合成することができる。
スキーム３−８
Figure 2021123624
式中、環Ａ、及びＲ1〜Ｒ12はスキーム１−１と同じ定義であり、ｈａｌとＰ4はスキーム２−５と同じ定義である。Ｐ5は同一の、又は異なる保護基を表す。保護基Ｐ4としては特に限定されないが、例えばｔｅｒｔ−Ｂｕ基を利用できる。保護基Ｐ5としては特に限定されないが、例えばＴＢＳ基などを利用できる。ハロゲンとしては特に限定されないが、例えば臭素が使用できる。式（Ｉ−５）の化合物は塩を組んでもよく、塩としては特に限定されないが、例えばＴＦＡ塩が利用可能である。式（ｏ）の化合物にアルキル金属試薬を作用させ、次いで式（ｚ）の化合物を加えることで式（ａａ）の化合物を合成できる。アルキル金属試薬として、例えばｎ−ブチルリチウムを利用することができる。反応温度は通常通常室温以下で行い、−１００℃から室温で行うことができる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＴＨＦ、ｎ−ヘキサン及びそれらの混合物が使用できる。触媒としてルイス酸を加えることもできる。ルイス酸としては、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を使用できる。式（ａｂ）の化合物は、式（ａａ）の化合物の保護基Ｐ5を脱保護することで合成することができる。保護基Ｐ5がＴＢＳ基の場合、例えばＴＢＡＦで脱保護することができる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＴＨＦを使用することができる。式（Ｉ−５）の化合物は式（ａｂ）の保護基Ｐ4を脱保護することで合成することができる。Ｐ4がｔｅｒｔ−Ｂｕ基のとき、ＴＦＡを用いることができる。
式（Ｉ−１）において、ＸがＮＲ1Ｒ2でありＹ1がＮ+Ｒ3Ｒ4である式（Ｉ−６）の化合物はスキーム４−１に示す方法でも合成できる。
スキーム４−１
Figure 2021123624
式中、Ｘ及びＹ1はそれぞれＮＲ1Ｒ2及びＮ+Ｒ3Ｒ4であり、Ａ及びＲ1〜Ｒ12はスキーム１−１と定義が同じである。ｈａｌはハロゲンを意味し、好ましくは臭素である。式（ａｏ）の化合物は式（ａｐ）の化合物と平衡状態で存在することもでき、混合物として得ることもできる。また、式（ａｎ）と式（ａｏ）の化合物は塩として得ることもできる。式（ａｎ）の化合物にアルキル金属試薬を作用させたのち、式（ａｍ）の化合物を加えることで式（ａｏ）の化合物を得ることができる。アルキル金属試薬はｔｅｒｔ−ブチルリチウムが使用できる。溶媒としては不活性であれば特に限定されず、例えばＴＨＦなどが使用できる。反応温度は−７８℃から室温で行うことができる。通常式（ａｏ）の化合物は単離することなく次の工程に進むことができる。式（ａｏ）の化合物の４，４−ジメチル−４，５−ジヒドロオキサゾール基をカルボキシル基に変換することで式（Ｉ−６）の化合物を合成することができる。反応条件としては特に限定されないが、通常酸加水分解反応が利用できる。酸としては特に限定されないが、例えば５規定塩酸を使用できる。反応は通常加熱することにより加速し、８０℃から溶媒沸点で行うことができる。
スキーム４−１で用いる式（ａｍ）の化合物は以下の方法で合成することができる。
スキーム４−２
Figure 2021123624
式中、環Ａ及びＲ1〜Ｒ6はスキーム４−１と定義が同じであり、ｈａｌはハロゲンを表す。式（ａｑ）及び式（ａｒ）の化合物は市販のものを使用することができ、既知の方法又は製造例に記載された方法で合成することもできる。ハロゲンとしては特に限定されないが、臭素を使用することができる。式（ａｓ）の化合物は、式（ａｑ）及び式（ａｒ）の化合物の混合物を酸性条件下、ホルムアルデヒドと反応させることにより合成することができる。溶媒としては酢酸を使用することができる。反応温度としては、通常加熱することにより反応が促進されるが、５０℃から１２０℃で行うことができる。式（ａｔ）の化合物は、式（ａｓ）の化合物にアルキル金属試薬を作用させ、次いで式（ｋ）で表される環状ジクロロシラン試薬と反応させることにより合成することができる。アルキル金属試薬としては、ｓｅｃ−ブチルリチウムを使用することができる。溶媒としては、不活性であるならば特に限定されないが、例えばＴＨＦなどが使用できる。反応温度としては、−７８℃から室温で行うことができる。式（ａｍ）の化合物は、式（ａｔ）の化合物に酸化剤を作用させることにより合成することができる。酸化剤としては、過マンガン酸カリウム、ＤＤＱ、クロラニルなどが使用できる。溶媒としては不活性ならば特に限定されず、例えばジクロロメタン、メタノール、１，４−ジオキサン、アセトン、水及びそれらの混合溶媒などが使用できる。
式（ａｍ）の化合物はスキーム４−３の方法で合成することもできる。
スキーム４−３
Figure 2021123624
式中、環Ａ及びＲ1〜Ｒ6はスキーム４−１と定義が同じである。式（ａｕ）の化合物は、式（ａｊ）の化合物をトリフルオロメタンスルホン酸無水物と反応させることで合成することができる。塩基としてはピリジンを使用することができる。溶媒としては不活性なら特に限定されることはなく、例えばジクロロメタンなどが使用できる。式（ａｍ）の化合物は式（ａｕ）の化合物からブッフバルト・ハートウィッグ反応で合成することができる。反応に用いるパラジウム触媒としては、例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリス（ベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）又は（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）2ＰｄＣｌ2などが使用でき、必要に応じてＸＰｈｏｓなどのリン配位子を加えることができる。塩基としては、炭酸セシウム、ナトリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシドなどが使用できる。溶媒としては１，４−ジオキサン、トルエン、ＴＨＦなどが使用できる。反応は加熱することで促進され、通常封管中１００℃〜１２０℃で行うことができる。また、必要に応じてマイクロ波による加熱も使用できる。式（ａｖ）及び式（ａｗ）の化合物は、市販のものを利用できるし、既知の方法又は製造例に記載された方法で合成することもできる。
[２．標識複合化物質]
本発明の範囲には、本実施形態の蛍光色素と複合化物質が結合した標識複合化物質も含まれる。ここで、複合化物質とは、本実施形態の蛍光色素と共有結合的に結合できる物質をいう。複合化物質としては、例えば、表面（例えばビーズ、固体担体、樹脂、粒子又はアッセイプレート）、生物学的分子もしくは生体分子（例えばタンパク質、ヌクレオチド、ポリヌクレオチド、ＤＮＡ及びＲＮＡを含む核酸、酵素の基質、抗体、ナノボディ、ポリペプチド、ポリペプチド系毒素、アミノ酸、脂質、炭水化物、ハプテン、金属キレート剤等のイオン錯体化剤、微粒子、合成ポリマーもしくは天然ポリマー、細胞、ウイルス、他の蛍光分子もしくは表面）、小分子（例えば薬剤、薬剤化合物）、又は例えばクロロアルカンもしくはシアノベンゾチアゾール等の他の関心ある部分である。他の好適な複合化物質には、ランタニド錯体化グループ；ニッケル錯体化グループ；コバルト錯体化グループ；エチレンジアミン四酢酸；ニトリロ三酢酸；ヌクレオチド；酵素の基質；酵素の阻害剤、好ましくは酵素と共有結合を形成する不可逆性の酵素の阻害剤；受容体のアゴニスト；１０μＭ以上のＫＤで核酸に結合するリガンド；１０μＭ以上のＫＤでタンパク質に結合するリガンド；ＳＮＡＰ−タグの基質；ＣＬＩＰ−タグの基質；Ｈａｌｏ−タグの基質、ジヒドロ葉酸還元酵素に結合するリガンド；メトトレキサート；トリメトプリム；ビオチンリガーゼの基質；リンペプチド転移酵素の基質；リポ酸リガーゼの基質；ビオチン；ストレプトアビジン、アビジン又はニュートラアビジンに結合するリガンド；酵素の補助因子；ホルモン；毒素；フルオロフォア；核酸ポリマー；ハプテン；抗原；薬剤；脂質；脂質アセンブリ；非生物有機ポリマー；ポリマー微粒子；動物細胞、植物細胞；細菌、酵母；ウイルス；及び原生生物が含まれるが、これらに限定されない。好ましい実施形態では、複合化物質はタンパク質又は核酸である。
本実施形態の蛍光色素における複合化物質との結合部位は特に限定されないが、好ましくはＲ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11の少なくとも１つであり、より好ましくはＲ8、Ｒ9及びＲ10の少なくとも１つである。特に好ましくは、本実施形態の蛍光色素における複合化物質との結合部位は、−Ｌ−ＲであるＲ8、Ｒ9又はＲ10の反応基Ｒである。
[３．組成物]
本発明の範囲には、本実施形態の蛍光色素又は標識複合化物質を含む組成物も含まれる(以下、単に組成物ともいう)。本実施形態の組成物は、超解像顕微鏡法に用いられる試薬組成物であってもよい。超解像顕微鏡法とは、光の回折限界を超えた分解能を有する顕微鏡である超解像顕微鏡を用いたイメージング技術であり、当該技術分野において公知である。
本実施形態の蛍光色素は互変異性を有し、分子内スピロ環が形成された状態(閉環体)と、該スピロ環が開裂された状態(開環体)とが平衡にある。そのため、本実施形態の蛍光色素は、自発的に明滅する性質を有する。よって、本実施形態の組成物は、超解像顕微鏡法の一種である局在化顕微鏡法に用いられる試薬組成物であることが好ましい。ここで、局在化顕微鏡法（Localization microscopy）とは、光活性化局在性顕微鏡法(Photoactivated localization microscopy; PALM)、明滅支援型局在性顕微鏡法(Blinking assisted localization microscopy; BALM)、PAINT法(Points accumulation for imaging in nanoscale topography)に代表される蛍光体の一分子発光の検出に基づく超解像顕微鏡法である。局在化顕微鏡法では、まず、被検物質と、発光状態と消光状態との切り替えが可能な蛍光体とを結合させ、被検物質に結合した該蛍光体を空間的に重ならないよう時間をずらして発光させて撮像する。そして、発光した蛍光体を一分子ずつ検出し、検出した一分子の蛍光体の位置を数十nmの精度で決定する。このような撮像及び検出を数千から数万回繰り返して、一分子の蛍光体の位置情報を重ね合わせることにより、被検物質の超解像画像を構築する。加えて、局在化顕微鏡法以外の超解像顕微鏡法として知られる誘導放出抑制顕微鏡法(Stimulated emission depletion microscopy; STED)、構造化照明顕微鏡(Structured illumination microscopy; SIM)、SOFI法(Super-resolution optical fluctuation imaging)、MINFLUX法(Minimal emission fluxes)などに使用できる可能性を否定するものではない。
本実施形態の組成物は、必要に応じて、試薬の調製に通常用いられる添加剤を含んでもよい。そのような添加剤としては、例えば、溶解補助剤、ｐＨ調節剤、緩衝剤、等張化剤などが挙げられる。添加剤の配合量は、当業者が適宜決定できる。本実施形態の組成物の形態は特に限定されず、固体(粉末、結晶、顆粒、錠剤、凍結乾燥品など)であってもよいし、液体(溶液、懸濁液、乳濁液など)であってもよい。
[４．被検物質に関する情報を取得する方法]
本発明の範囲には、本実施形態の蛍光色素又は標識複合化物質を被検物質と結合させ、超解像顕微鏡法により該被検物質に関する情報を取得する方法も含まれる(以下、情報取得方法ともいう)。この方法では、公知の超解像顕微鏡を用いることができる。例えば、HM-1000 (シスメックス株式会社)などが挙げられる。上述のように、本実施形態の蛍光色素は自発的に明滅する性質を有するので、本実施形態の情報取得方法は、超解像顕微鏡法のうち、局在化顕微鏡法に適している。
本実施形態の蛍光色素又は標識複合化物質と被検物質との結合の様式は、特に限定されず、被検物質の種類に応じて適宜決定できる。被検物質が、組織、細胞、細胞小器官又は生体分子(タンパク質、核酸など)である場合は、生物学分野において公知の染色法により、本実施形態の蛍光色素又は標識複合化物質と被検物質とを結合できる。そのような染色法としては、例えば、免疫組織化学、蛍光抗体法などが挙げられる。
本実施形態の情報取得方法では、超解像顕微鏡法により得られた被検物質の画像から、被検物質に関する情報を得ることができる。被検物質に関する情報は、被検物質の構造に関する情報であってもよいし、被検物質の量に関する情報であってもよい。被検物質の構造に関する情報としては、例えば、被検物質の大きさ、形態、凝集度などが挙げられる。被検物質の量に関する情報としては、例えば、被検物質の存否、又は、被検物質の濃度、含有量(重量)及びそれらを示す測定値自体などが挙げられる。被検物質の量に関する情報には、「少量」、「中程度」、「多量」などのように被検物質の量を段階的に示す情報も含まれる。好ましい実施形態では、被検物質に関する情報は、被検物質の構造に関する情報である。
以下に、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
以下の実施例、参考例及び製造例中の「室温」は、通常約１０℃から約３５℃を示す。％は、特記しない限り、重量パーセントを示す。
プロトン核磁気共鳴スペクトルの化学シフトは、テトラメチルシランに対するδ単位（ｐｐｍ）で記録され、カップリング定数はヘルツ（Ｈｚ）で記録されている。分裂パターンの略号は、以下のとおりである。
ｓ：シングレット、ｄ：ダブレット、ｔ：トリプレット、ｑ：カルテット、ｑｕｉｎ：クインテット、ｍ：マルチプレット、ｂｒ．ｓ．：ブロードシングレット。
製造例及び実施例においてマイクロウェーブ反応装置を用いた反応は、Ｂｉｏｔａｇｅ社製ｉｎｉｔｉａｔｏｒ(商標)を用いた。
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに関して、シリカゲルは、Ｍｅｒｃｋ社製Ｓｉｌｉｃａ Ｇｅｌ６０（７０−２３０ｍｅｓｈ）、富士シリシア化学社製ＰＳＱ６０Ｂ、又は市販プレパックカラムを用いた。プレパックカラムとしては、ＹＡＭＡＺＥＮ社製Ｈｉ−Ｆｌａｓｈ(商標) Ｃｏｌｕｍｎ（Ｓｉｌｉｃａｇｅｌ）；サイズＳ（１６×６０ｍｍ）、Ｍ（２０×７５ｍｍ）、Ｌ（２６×１００ｍｍ）、２Ｌ（２６×１５０ｍｍ）、３Ｌ（４６×１３０ｍｍ）のいずれか、又はＢｉｏｔａｇｅ社製Ｂｉｏｔａｇｅ(商標)ＳＮＡＰ Ｕｌｔｒａ Ｓｉｌｉｃａ Ｃａｒｔｒｉｄｇｅ；サイズ１０ｇ、２５ｇ、５０ｇのいずれかを用いた。
逆相クロマトグラフィーに関しては、ＹＭＣ社製ＹＭＣ＊ＧＥＬ ＯＤＳ−Ａ １２ｎｍ Ｓ−５０μｍを用いるか、市販のプレパックカラムを用いた。プレパックカラムとしては、ＹＭＣ−ＤｉｓｐｏＰａｃｋ ＡＴ ＯＤＳ−２５（４０ｇ又は１２０ｇ）、あるいはＢｉｏｔａｇｅ社製Ｂｉｏｔａｇｅ(商標)ＳＮＡＰ Ｕｌｔｒａ Ｃ１８ １２ｇを用いた。
薄層クロマトグラフィーに関しては、シリカゲルと記載されている場合、Ｍｅｒｃｋ社製ＴＬＣ Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０ Ｆ254を用い、ＮＨシリカゲルと記載されている場合、富士シリシア化学社製ＣＨＲＯＭＡＴＯＲＥＸ ＴＬＣ Ｐｌａｔｅｓ ＮＨもしくは和光純薬工業製ＮＨ2シリカゲル６０Ｆ254プレート−ワコー（層厚０．７５ｍｍ）を用いた。
フェーズセパレーターに関しては、Ｂｉｏｔａｇｅ製ＩＳＯＬＵＴＥ(登録商標) Ｐｈａｓｅ Ｓｅｐａｒａｔｏｒを用いた。
以下に示す化合物の命名は、一般的に用いられる試薬を除き、「Ｅ−ノートブック」バージョン１２及び１３（パーキンエルマー社）、または「ＣｈｅｍＤｒａｗ Ｐｒｏｆｅｓｓｉｏｎａｌ」バージョン１７．１（パーキンエルマー社）で表示されたものを用いた。
以下に示す化合物の物質量は、「Ｅ−ノートブック」バージョン１２及び１３（パーキンエルマー社）、または「ＡＣＤ／ＣｈｅｍＳｋｅｔｃｈ ２０１７．２」（ＡＣＤ社）で表示されたものを用いた。
製造例１
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−クロロテレフタラートの合成
Figure 2021123624
２−ブロモ−５−クロロテレフタル酸（５００ｍｇ，１．７９ｍｍｏｌ， ＣＡＳ Ｎｏ． ５００５５０−６０−７）、ＤＣＭ（１０．０ｍＬ）、ＴＨＦ（５．００ｍＬ）及びＤＭＦ（１滴）の混合物に塩化オキサリル（６２６μＬ，７．１６ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、対応する酸クロリドを得た。得られた酸クロリドのＴＨＦ（５．００ｍＬ）溶液に、氷浴下カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド（８０３ｍｇ，７．１６ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で一晩撹拌した。氷と飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（４０８ｍｇ，１．０４ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６１（ｓ，９Ｈ），１．６１（ｓ，９Ｈ），７．７０（ｓ，１Ｈ），７．９４（ｓ，１Ｈ）．
製造例２
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（トリフルオロメチル）テレフタラートの合成
Figure 2021123624
（１）５−ブロモ−４−メチル−２−（トリフルオロメチル）安息香酸の合成
４−メチル−２−（トリフルオロメチル）安息香酸（１．３６ｇ，６．６６ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．１２０９８５−６４−０）の硫酸（７．１０ｍＬ，１３３ｍｍｏｌ）溶液にＮＢＳ（１．１９ｇ，６．６６ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。氷浴下、反応混合物に氷を加え反応を停止させた。発生した固体を回収することで標記化合物の粗生成物（２．４９ｇ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：２．４７（ｓ，３Ｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ）．
（２）２−ブロモ−５−（トリフルオロメチル）テレフタル酸の合成
製造例２−（１）で得た化合物（２．２９ｇ）、ピリジン（１３．７ｍＬ，１７０ｍｍｏｌ）及び水（４５．８ｍＬ）の混合物に過マンガン酸カリウム（３．８４ｇ，２４．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２．３時間撹拌した。さらに水（１００ｍＬ）を加え５０℃で４．２時間撹拌した。さらに過マンガン酸カリウム（１０．８ｇ，６８．４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４．５時間撹拌した。室温まで冷却した後、不溶物を濾過した。不溶物を希ピリジン水溶液で洗浄し、溶出物にジメチルスルフィドを加えた。新たに発生した不溶物を濾過し、溶出物を減圧下５０℃で濃縮した。得られた残渣を水（１０．０ｍＬ）に溶解し、氷浴下濃塩酸を加えた。発生した固体を回収することで標記化合物の粗生成物（２．７４ｇ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：８．１２（ｓ，１Ｈ），８．１５（ｓ，１Ｈ）．
（３）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（トリフルオロメチル）テレフタラートの合成
製造例２−（２）で得た化合物（２．７４ｇ）、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（７．６４ｇ，３５．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（２１４ｍｇ，１．７５ｍｍｏｌ）、トルエン（２８．０ｍＬ）及びＤＭＦ（２．８０ｍＬ）の混合物を８０℃で２時間撹拌した。さらにＤＭＡＰ（２１４ｍｇ，１．７５ｍｍｏｌ）と二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（７．６４ｇ，３５．０ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３．５時間撹拌した。さらに二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（３．００ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）加え、８０℃で１．５時間撹拌した。室温まで冷却した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（１．６６ｇ，３．９０ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．５８（ｓ，９Ｈ），１．６２（ｓ，９Ｈ），７．９５（ｓ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１Ｈ）．
製造例３
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−フルオロテレフタラートの合成
Figure 2021123624
２−ブロモ−５−フルオロテレフタル酸（２００ｍｇ，７６０μｍｏｌ， ＣＡＳ Ｎｏ． １２４５８０７−６４−０）、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（６６４ｍｇ，３．０４ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（１８．６ｍｇ，１５２μｍｏｌ）、トルエン（５．００ｍＬ）及びＤＭＦ（５００μＬ）の混合物を８０℃で５時間撹拌した。室温に冷却した後、酢酸エチルで希釈した。有機層を水で２回洗浄し、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し、標記化合物（７０．０ｍｇ，１８７μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．５９（ｓ，９Ｈ），１．６１（ｓ，９Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝１０．５４Ｈｚ，１Ｈ），８．０７（ｄ，Ｊ＝６．６４Ｈｚ，１Ｈ）．
製造例４
３，７−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オンの合成
Figure 2021123624
（１）３，７−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］の合成
ビス（２−ブロモ−４−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）フェニル）メタン（４．９５ｇ，８．４４ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．１３８３１１８−９７−５）のＴＨＦ（４９．８ｍＬ，６０８ｍｍｏｌ）溶液にｓｅｃ−ブチルリチウム（１．０５Ｍシクロヘキサン−ヘキサン溶液，２２．９ｍＬ，２４．１ｍｍｏｌ）を−７８℃で２０分かけて滴下した。同温で１時間撹拌した後、シクロペンタメチレンジクロロシラン（２．７１ｇ，１６．０ｍｍｏｌ， ＣＡＳ Ｎｏ． ２４０６−３４−０）のＴＨＦ（１９．５ｍＬ）溶液を１０分かけて滴下した。室温にて１時間３０分間撹拌した後、氷及び飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（３．６８ｇ，７．０１ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．２２（ｓ，１２Ｈ），１．０１（ｓ，１８Ｈ），１．０２−１．０６（ｍ，４Ｈ），１．６６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９２−２．０３（ｍ，４Ｈ），３．９５（ｓ，２Ｈ），６．７９（ｄｄ，Ｊ＝８．４０，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），７．１５−７．２０（ｍ，４Ｈ）．
（２）３，７−ジヒドロキシ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オンの合成
製造例４−（１）の方法で得た化合物（１０．１ｇ，１９．２ｍｍｏｌ）のアセトン（５０５ｍＬ）溶液を１３ｍｍ試験管１０１本に分注した。氷浴下、各試験管に過マンガン酸カリウム（８１．３ｍｇ，５１４μｍｏｌ、合計８．２１ｇ，５１．９ｍｍｏｌ）を加えた。室温で一晩撹拌した後、各試験管にＤＣＭを加えた。生じた不溶物を濾過し、溶出物を一つのナスフラスコに集めた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで、標記化合物（１．９７ｇ，６．３５ｍｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３１１［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３，７−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オンの合成
製造例４−（２）で得た化合物（５９０ｍｇ，１．９０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０．０ｍＬ）溶液に、イミダゾール（７７６ｍｇ，１１．４ｍｍｏｌ）及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（８５９ｍｇ，５．７０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で一晩撹拌した後、氷を加えて反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で３回洗浄した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（９５４ｍｇ，１．７７ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．２７（ｓ，１２Ｈ），１．０２（ｓ，１８Ｈ），０．９９−１．０５（ｍ，４Ｈ），１．７１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９６−２．０７（ｍ，４Ｈ），６．９９（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ）．
製造例５
ｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート及び１０−オキソ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−３，７−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）の合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジヒドロキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモテレフタラート（１．５４ｇ，４．３１ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．１４５６８８５−４６−３）のＴＨＦ（２０．０ｍＬ）／ｎ−ヘキサン（１０．０ｍＬ）混合溶液に、内温−９５℃以下でｎ−ブチルリチウム（２．６５Ｍヘキサン溶液、１．６２ｍＬ，４．３１ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で１０分間撹拌した後、製造例４−（３）で得られた３，７−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（５８０ｍｇ，１．０８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０．０ｍＬ）溶液を内温−９５℃以下で滴下した。同温で５分間撹拌した後、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（２７３μＬ，２．１５ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を徐々に室温まで昇温させ、室温で６時間撹拌撹拌した。氷浴下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることで反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去することで付加体を含む混合物を得た。得られた混合物にＴＨＦ（１０．０ｍＬ）及びテトラブチルアンモニウムフルオリド（１．００Ｍ ＴＨＦ溶液，５．３８ｍＬ，５．３８ｍｍｏｌ）を加え、室温で７時間撹拌した。氷浴下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることで反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物を、３，７−ジヒドロキシ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オンとの混合物（６７０ｍｇ）として得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５１５［Ｍ＋Ｈ］+ （保持時間 １．４８分）
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３１１［Ｍ＋Ｈ］+ （保持時間 １．１８分）
（２）ｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート及び１０−オキソ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−３，７−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）の合成
製造例５−（１）で得られた混合物（６７０ｍｇ）のＤＣＭ（１０．０ｍＬ）溶液に、氷浴下ピリジン（１．０５ｍＬ，１３．０ｍｍｏｌ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（１．０９ｍＬ，６．５１ｍｍｏｌ）を加えた。室温で一晩撹拌した後、氷水を加えて反応を停止させた。水層をＤＣＭで抽出し、有機層を１Ｎ塩酸及び水で洗浄した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで、ｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（４７２ｍｇ，６０６μｍｏｌ）及び１０−オキソ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−３，７−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）（１９７ｍｇ，３４３μｍｏｌ）を得た。
ｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２７−１．３１（ｍ，２Ｈ），１．３２−１．３９（ｍ，２Ｈ），１．５８（ｓ，９Ｈ）．１．７９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０５−２．１８（ｍ，４Ｈ），７．１９−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．２８−７．３５（ｍ，２Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．９２（ｓ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ，１Ｈ），８．２１（ｄｄ，Ｊ＝８．２０，１．１７Ｈｚ，１Ｈ）．
１０−オキソ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−３，７−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０６−１．１７（ｍ，４Ｈ），１．７６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０４（ｂｒ．ｓ．，４Ｈ），７．４８（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），８．５３（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ）．
製造例６
ｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキシラートの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジヒドロキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ４−ブロモイソフタラート（３７４ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．１４３１３７７−５６−８）のＴＨＦ（１０．０ｍＬ）／ｎ−ヘキサン（５．００ｍＬ）混合溶液に、内温−９５℃以下でｎ−ブチルリチウム（２．６５Ｍ ヘキサン溶液、３９５μＬ，１．０５ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で１０分間撹拌した後、製造例４−（３）で得られた３，７−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（９４．０ｍｇ，１７４μｍｏｌ）のＴＨＦ（５．００ｍＬ）溶液を内温−９５℃以下で滴下した。同温で１０分間撹拌した後、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（４４．０μＬ，３４９μｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を−７８℃に昇温させ、同温で２時間撹拌した。反応混合物を−４５℃に昇温させ、同温で１時間２０分撹拌した。反応混合物を−２０℃に昇温させ、同温で３０分間撹拌した。反応混合物を０℃に昇温させ、同温で３０分間撹拌した。原料の消失を確認した後、氷水と飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄した。溶媒を留去することで付加体を含む混合物を得た。得られた混合物をＴＨＦ（５．００ｍＬ）に溶解し、氷浴下テトラブチルアンモニウムフルオリド（１．００Ｍ ＴＨＦ溶液，８７２μＬ，８７２μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で４時間撹拌した。氷浴下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることで反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、水及び飽和食塩水で洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（６２．０ｍｇ，１２０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５１５［Ｍ＋Ｈ］+
（２）ｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキシラートの合成
製造例５−（２）に準じ、製造例６−（１）で得た化合物（６２．０ｍｇ，１２０μｍｏｌ）から標記化合物（３１．０ｍｇ，４０．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２６−１．３３（ｍ，４Ｈ），１．６３（ｓ，９Ｈ），１．７８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），７．１６−７．２０（ｍ，４Ｈ），７．４２−７．４７（ｍ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝２．３４Ｈｚ，２Ｈ），８．４０（ｄｄ，Ｊ＝８．２０，１．５６Ｈｚ，１Ｈ），８．５９−８．６４（ｍ，１Ｈ）．
製造例７
ｔｅｒｔ−ブチル ５−クロロ−３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ５−クロロ−３’，７’−ジヒドロキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、製造例１で得たジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−クロロテレフタラート（９４５ｍｇ，２．４１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０．０ｍＬ）／ｎ−ヘキサン（１０．０ｍＬ）混合溶液に、内温−９５℃以下でｎ−ブチルリチウム（２．６５Ｍヘキサン溶液、９１０μＬ，２．４１ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で１０分間撹拌した後、製造例４−（３）で得た３，７−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（１３０ｍｇ，２４１μｍｏｌ）のＴＨＦ（１０．０ｍＬ）溶液を内温−９５℃以下で滴下した。同温で５分間撹拌した後、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（６１．０μＬ，４８２μｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を徐々に室温まで昇温させ、室温で一晩撹拌した。氷を加えて反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を留去することで付加体を含む混合物を得た。得られた混合物にＴＨＦ（１０．０ｍＬ）及びテトラブチルアンモニウムフルオリド（１．００Ｍ ＴＨＦ溶液，１．２１ｍＬ，１．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。氷及び飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることで反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（１１９ｍｇ，２１７μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５４９［Ｍ＋Ｈ］+
（２）ｔｅｒｔ−ブチル ５−クロロ−３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
製造例７−（１）で得た化合物（１１９ｍｇ，２１７μｍｏｌ）、ＤＣＭ（５．００ｍＬ）及びピリジン（１４０μＬ，１．７３ｍｍｏｌ）の混合物に、氷浴下トリフルオロメタンスルホン酸無水物（１４２μＬ，８６７μｍｏｌ）を滴下した。室温に昇温し、２．５時間撹拌した。氷を加えて反応を停止し、水層をＤＣＭで抽出した。有機層を希塩酸及び水で洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（１２８ｍｇ，１５７μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２２−１．３３（ｍ，４Ｈ），１．６０（ｓ，９Ｈ），１．７８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０８−２．１９（ｍ，２Ｈ），７．２２−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．６４（ｓ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝２．３４Ｈｚ，２Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ）．
製造例８
ｔｅｒｔ−ブチル ５−メチル−３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−５−クロロ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、製造例１の方法で得たジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−クロロテレフタラート（４．２７ｇ，１０．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０．０ｍＬ）／ｎ−ヘキサン（２５．０ｍＬ）混合溶液に、内温−９５℃以下でｎ−ブチルリチウム（２．６５Ｍヘキサン溶液、４．１１ｍＬ，１０．９ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で１０分間撹拌した後、製造例４−（３）で得た３，７−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（５８７ｍｇ，１．０９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２５．０ｍＬ）溶液を内温−９５℃以下で滴下した。同温で５分間撹拌した後、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（２７６μＬ，２．１８ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を徐々に室温まで昇温させ、室温で５．５時間撹拌撹拌した。氷及び飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（純度５３％，１．５８ｇ，１．０８ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．２１（ｓ，１２Ｈ），０．９８（ｓ，１８Ｈ），１．１６−１．２３（ｍ，４Ｈ），１．６１（ｓ，９Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．００（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０７−２．１８（ｍ，２Ｈ），６．７２（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｓ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１Ｈ）．
（２）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジヒドロキシ−５−メチル−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、製造例８−（１）で得た化合物（純度５３％，１００ｍｇ，６８．０μｍｏｌ）、トリメチルボロキシン（４８．０μＬ，３４１μｍｏｌ）、（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）2ＰｄＣｌ2（１９．３ｍｇ，２７．０μｍｏｌ）、１Ｎ炭酸カリウム水溶液（３４１μＬ，３４１μｍｏｌ）及び１，４−ジオキサン（３．００ｍＬ）の混合物を、マイクロ波照射装置にて１８０℃で１０分間撹拌した。室温まで冷却し、酢酸エチルで希釈した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去することで中間体を得た。この中間体をＴＨＦ（５．００ｍＬ）に溶解し、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１Ｍ ＴＨＦ溶液、３４１μＬ，３４１μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で１．５時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることで反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で二回洗浄した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（１９．０ｍｇ，３６．０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５２９［Ｍ＋Ｈ］+
（３）ｔｅｒｔ−ブチル ５−メチル−３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
製造例５−（２）に準じ、製造例８−（２）の方法で得られる化合物（９７．０ｍｇ，１８３μｍｏｌ）から標記化合物（８０．０ｍｇ，１０１μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２８−１．３４（ｍ，４Ｈ），１．５８（ｓ，９Ｈ），１．７８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．６７（ｓ，３Ｈ），７．１８−７．２３（ｍ，２Ｈ），７．２７−７．３１（ｍ，２Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７３（ｓ，１Ｈ），７．８５（ｓ，１Ｈ）．
製造例９
３，７−ジモルホリノ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オンの合成
Figure 2021123624
製造例５−（２）で得られた１０−オキソ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−３，７−ジイルビス（トリフルオロメタンスルホナート）（１２２ｍｇ，２１２μｍｏｌ）、モルホリン（５１．８ｍｇ，５９５μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１９．４ｍｇ，２１．０μｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ（３０．４ｍｇ，６４．０μｍｏｌ）、炭酸セシウム（１９４ｍｇ，５９５μｍｏｌ）及び１，４−ジオキサン（２．００ｍＬ）の混合液を、窒素雰囲気下、封管中１１０℃で４時間撹拌した。室温まで冷却した後、ＤＣＭで希釈した。不溶物を濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物の粗生成物（１０３ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ４４９［Ｍ＋Ｈ］+
製造例１０
３，７−ビス（ジメチルアミノ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オンの合成
Figure 2021123624
（１）Ｎ３，Ｎ３，Ｎ７，Ｎ７−テトラメチル−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−３，７−ジアミンの合成
４，４’−メチレンビス（３−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン）（５００ｍｇ，１．２１ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．６３５９４−７０−７）のＴＨＦ（１５．０ｍＬ）溶液にｓｅｃ−ブチルリチウム（１．００Ｍシクロヘキサン−ヘキサン溶液，３．４６ｍＬ，３．４６ｍｍｏｌ）を−７８℃で２０分かけて滴下した。同温で３０分間撹拌した後、シクロペンタメチレンジクロロシラン（３９０ｍｇ，２．３１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液を滴下した。室温で３．５時間撹拌した後、氷及び飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させた。水層をＤＣＭで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（２９２ｍｇ，８３３μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３５１［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３，７−ビス（ジメチルアミノ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オンの合成
製造例１０−（１）で得られた化合物（２３２ｍｇ，６６２μｍｏｌ）のアセトン（２０．０ｍＬ）溶液に、氷浴下過マンガン酸カリウム（２８２ｍｇ，１．７９ｍｍｏｌ）を３０分間かけて加えた。同温で１時間撹拌した後、ＤＣＭで希釈した。生じた不溶物をセライト濾過で除いた。溶出物を室温以下で減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（８２．０ｍｇ，２２５μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．９８−１．１０（ｍ，４Ｈ），１．７２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．００−２．１０（ｍ，４Ｈ），３．１１（ｓ，１２Ｈ），６．８５（ｄｄ，Ｊ＝９．１８，２．９３Ｈｚ，２Ｈ），６．９８（ｄ，Ｊ＝２．７３，２Ｈ），８．４０（ｄ，Ｊ＝９．３７Ｈｚ，２Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３６５［Ｍ＋Ｈ］+
製造例１１
３，７−ビス（ジメチルアミノ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シロラン］−１０−オンの合成
Figure 2021123624
（１）Ｎ３，Ｎ３，Ｎ７，Ｎ７−テトラメチル−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シロラン］−３，７−ジアミンの合成
製造例１０−（１）に準じ、４，４’−メチレンビス（３−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン）（５００ｍｇ，１．２１ｍｍｏｌ）とシクロテトラメチレンジクロロシラン（３５７ｍｇ，２．３１ｍｍｏｌ， ＣＡＳ Ｎｏ． ２４０６−３３−９）から、標記化合物（２８６ｍｇ，８５０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３３７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３，７−ビス（ジメチルアミノ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シロラン］−１０−オンの合成
製造例１０−（２）に準じ、製造例１１−（１）で得た化合物（２７６ｍｇ，８２０μｍｏｌ）から、標記化合物（１１５ｍｇ，３２８μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０４−１．１１（ｍ，４Ｈ），１．９１−２．００（ｍ，４Ｈ），３．０９（ｓ，１２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），６．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），８．４０（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３５１［Ｍ＋Ｈ］+
製造例１２
３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）の合成
Figure 2021123624
窒素雰囲気下、３−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン（６．１６ｇ，２７．０ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．５３１４２−１９−１）のジエチルエーテル（７０．０ｍＬ）溶液に、氷浴下ｎ−ブチルリチウム（２．６７Ｍ ｎ−ヘキサン溶液，１０．６ｍＬ，２８．４ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。同温で３時間撹拌した後、シクロペンタメチレンジクロロシラン（２．７４ｇ，１６．２ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（１０．０ｍＬ）溶液を滴下した。室温まで昇温させ、１８時間撹拌した。水を加えて反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（３．５２ｇ，８．９２ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０６−１．２１（ｍ，１６Ｈ），１．４６−１．５８（ｍ，２Ｈ），１．７４−１．８５（ｍ，４Ｈ），３．３２（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），６．６９（ｄｄｄ，Ｊ＝８．３０，２．８３，０．９８Ｈｚ，２Ｈ），６．８１−６．９１（ｍ，４Ｈ），７．２０（ｄｄ，Ｊ＝８．４０，７．２２Ｈｚ，２Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ３９５［Ｍ＋Ｈ］+
製造例１３
１，１’−（シリナン−１，１−ジイルビス（３，１−フェニレン））ジピロリジンの合成
Figure 2021123624
製造例１２に準じ、１−（３−ブロモフェニル）ピロリジン（８８２ｍｇ，３．９０ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．２１９９２８−１３−９）から標記化合物（３６５ｍｇ，９３４μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１３−１．２３（ｍ，４Ｈ），１．４６−１．５６（ｍ，２Ｈ），１．７４−１．８５（ｍ，４Ｈ），１．９４−２．０４（ｍ，８Ｈ），３．２２−３．３２（ｍ，８Ｈ），６．５４−６．６２（ｍ，２Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝２．３４Ｈｚ，２Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，２Ｈ），７．２１（ｄｄ，Ｊ＝８．２０，７．０３Ｈｚ，２Ｈ）．
製造例１４
７，７’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（１−アリル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン）の合成
Figure 2021123624
（１）１−アリル−７−ブロモ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンの合成
７−ブロモ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン（１０．６ｇ，５０．０ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．１１４７４４−５１−３）、炭酸カリウム（２７．６ｇ，２００ｍｍｏｌ）、アリルブロミド（１２．１ｇ，１００ｍｍｏｌ）及びＤＭＦ（２０．０ｍＬ）の混合物を室温で２４時間撹拌した。反応混合物に水を加えて反応を停止させ、酢酸エチル及び飽和食塩水を加えた。分取した有機層を合わせ、水及び飽和食塩水で洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し標記化合物（１２．４ｇ，４９．２ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．８９−１．９８（ｍ，２Ｈ），２．６９（ｔ，Ｊ＝６．２５Ｈｚ，２Ｈ），３．２４−３．２９（ｍ，２Ｈ），３．８３（ｄｔ，Ｊ＝４．８８，１．６６Ｈｚ，２Ｈ），５．１５（ｔ，Ｊ＝１．５６Ｈｚ，１Ｈ），５．１７−５．２１（ｍ，１Ｈ），５．７４−５．８９（ｍ，１Ｈ），６．６０−６．６８（ｍ，２Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ）．
（２）７，７’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（１−アリル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン）の合成
製造例１２に準じ、製造例１４−（１）で得た化合物（５．０４ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）から標記化合物（２．３０ｇ，５．２０ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０３−１．１４（ｍ，４Ｈ），１．４３−１．５３（ｍ，２Ｈ），１．６７−１．８４（ｍ，４Ｈ），１．８８−２．０１（ｍ，４Ｈ），２．７５（ｔ，Ｊ＝６．４４Ｈｚ，４Ｈ），３．１９−３．３１（ｍ，４Ｈ），３．８４（ｄｔ，Ｊ＝５．４７，１．５６Ｈｚ，４Ｈ），５．０６−５．２１（ｍ，４Ｈ），５．８１（ｄｄｔ，Ｊ＝１７．１３，１０．３０，５．２２Ｈｚ，２Ｈ），６．７０−６．８１（ｍ，４Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ，２Ｈ）．
製造例１５
３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ホルミルテレフタラートの合成
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモテレフタラート（３．５７ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１．１６ｇ，１．００ｍｍｏｌ）、トリ−ｎ−ブチル（１−プロペニル）チン（４．３０ｇ，１３．０ｍｍｏｌ）及びＮＭＰ（１０．０ｍＬ）の混合物を１２０℃で４時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製しジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−（プロパ−１−エン−１−イル）テレフタラート（２．９０ｇ，９．１１ｍｍｏｌ）を幾何異性体の混合物として得た。
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−（プロパ−１−エン−１−イル）テレフタラート（２．８７ｇ，９．００ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（８０．０ｍＬ），水（２０．０ｍＬ）、２，６−ルチジン（２．０９ｍＬ，１８．０ｍｍｏｌ）及び四酸化オスミウム（４％水溶液、１．４３ｍＬ，２２５μｍｏｌ）の混合物に、過ヨウ素酸ナトリウム（５．７８ｇ，２７．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間撹拌した。反応混合物に水及びＤＣＭを加え、室温で５分間撹拌した。フェーズセパレーターで有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し標記化合物（１．４５ｇ，４．７３ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６２（ｓ，９Ｈ），１．６２（ｓ，９Ｈ），７．９１（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，１Ｈ），８．１７−８．２５（ｍ，１Ｈ），８．４３（ｄ，Ｊ＝１．１７Ｈｚ，１Ｈ），１０．５６（ｓ，１Ｈ）．
（２）３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（１）で得た化合物（１．３８ｇ，４．５０ｍｍｏｌ）のＤＣＭ（２０．０ｍＬ）溶液にＴＦＡ（３．４７ｍＬ）を加え、室温で１８時間撹拌した。溶媒を減圧留去することで標記化合物（８７４ｍｇ，４．５０ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：６．６７（ｓ，１Ｈ），７．９６（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），８．１２−８．１６（ｍ，１Ｈ），８．１９（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ １９３［Ｍ−Ｈ］-
製造例１６
１−ヒドロキシ−３−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ４−ホルミルイソフタラートの合成
製造例１５−（１）に準じ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ４−ブロモイソフタラート（１．１８ｇ，３．３０ｍｍｏｌ）からジ−ｔｅｒｔ−ブチル ４−（プロパ−１−エン−１−イル）イソフタラート（１．０５ｇ，３．３０ｍｍｏｌ）を幾何異性体の混合物として得た。製造例１５−（１）に準じ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ４−（プロパ−１−エン−１−イル）イソフタラート（９５５ｍｇ，３．００ｍｍｏｌ）から標記化合物（６１０ｍｇ，１．９９ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６２（ｓ，９Ｈ），１．６４（ｓ，９Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），８．１６−８．２１（ｍ，１Ｈ），８．４９（ｄ，Ｊ＝１．１７Ｈｚ，１Ｈ），１０．６３（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ）．
（２）１−ヒドロキシ−３−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（２）に準じ、製造例１６−（１）で得た化合物（５８２ｍｇ，１．９０ｍｍｏｌ）から標記化合物（３６９ｍｇ，１．９０ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：６．６８−６．７７（ｍ，１Ｈ），７．７６−７．８６（ｍ，１Ｈ），８．２０−８．２７（ｍ，１Ｈ），８．２９−８．３７（ｍ，２Ｈ），１３．５３（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ １９３［Ｍ−Ｈ］-
製造例１７
６−フルオロ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−フルオロ−５−ホルミルテレフタラートの合成
製造例１５−（１）に準じ、製造例３の方法で得られるジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−フルオロテレフタラート（２．２６ｇ，６．０２ｍｍｏｌ）から標記化合物（９３５ｍｇ，２．８８ｍｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６３（ｓ，９Ｈ），１．６５（ｓ，９Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝１０．５４Ｈｚ，１Ｈ），８．４０（ｄ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１Ｈ），１０．５３（ｓ，１Ｈ）．
（２）６−フルオロ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（２）に準じ、製造例１７−（１）の方法で得られる化合物（１６３ｍｇ，５０３μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（１１９ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２１１［Ｍ−Ｈ］-
製造例１８
６−クロロ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−クロロ−５−ホルミルテレフタラートの合成
製造例１５−（１）に準じ、製造例１の方法で得られるジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−クロロテレフタラート（５６８ｍｇ，１．４５ｍｍｏｌ）からジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−クロロ−５−（プロパ−１−エン−１−イル）テレフタラート（４０５ｍｇ，１．１５ｍｍｏｌ）を幾何異性体の混合物として得た。
製造例１５−（１）に準じ、２−クロロ−５−（プロパ−１−エン−１−イル）テレフタラート（３８８ｍｇ，１．１０ｍｍｏｌ）から標記化合物（３３０ｍｇ，９６８μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６１（ｓ，９Ｈ），１．６３（ｓ，９Ｈ），７．９１（ｓ，１Ｈ），８．１８（ｓ，１Ｈ），１０．５４（ｓ，１Ｈ）．
（２）６−クロロ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（２）に準じ、製造例１８−（１）で得た化合物（３２４ｍｇ，９５０μｍｏｌ）から標記化合物（２１７ｍｇ，９４９μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：６．６６（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），７．９４（ｓ，１Ｈ），８．３１（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２２７［Ｍ−Ｈ］-
製造例１９
６−ブロモ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−ホルミルテレフタラートの合成
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２，５−ジブロモテレフタラート（８７２ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ，ＣＡＳ＃８６８１５８−３４−３）、トリ−ｎ−ブチル（１−プロペニル）チン（７２８ｍｇ，２．２０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（２３１ｍｇ，２００μｍｏｌ）及びＮＭＰ（４．００ｍＬ）の混合物を、１２０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することでジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（プロパ−１−エン−１−イル）テレフタラート（７１０ｍｇ，１．７９ｍｍｏｌ）を幾何異性体の混合物として得た。
製造例１５−（１）に準じ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（プロパ−１−エン−１−イル）テレフタラート（６９５ｍｇ，１．７５ｍｍｏｌ）から標記化合物（２２０ｍｇ，５７１μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６２（ｓ，９Ｈ），１．６３（ｓ，９Ｈ），８．１２（ｓ，２Ｈ），１０．５４（ｓ，１Ｈ）．
（２）６−ブロモ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（２）に準じ、製造例１９−（１）で得た化合物（２１２ｍｇ，５５０μｍｏｌ）から標記化合物（１５０ｍｇ，５４９μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：６．６８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），７．９２（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），８．１３（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２７１［Ｍ−Ｈ］-
製造例２０
６−（ジフルオロメチル）−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（ジフルオロメチル）テレフタラートの合成
製造例１９−（１）で得られたジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−ホルミルテレフタラート（３０８ｍｇ，８００μｍｏｌ）のＤＣＭ（３．００ｍＬ）溶液に、氷浴下ＤＡＳＴ（２６２μＬ，２．００ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を室温で１２時間撹拌した後、氷浴下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えることで反応停止させた。混合物にジクロロメタン及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、室温で５分撹拌した。有機層をフェーズセパレーターで分取し、溶出物を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（３０１ｍｇ，７３９μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６１（ｓ，９Ｈ），１．６２（ｓ，９Ｈ），７．３９（ｔ，Ｊ＝５５．４５Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．１５（ｓ，１Ｈ）．
（２）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−（ジフルオロメチル）−５−ホルミルテレフタラートの合成
製造例１５−（１）に準じ、製造例２０−（１）の方法で得られる化合物（３２６ｍｇ，８００μｍｏｌ）から標記化合物（１３２ｍｇ，３７０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．５２（ｓ，９Ｈ），１．５５（ｓ，９Ｈ），７．３８（ｔ，Ｊ＝５５．０６Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ），８．２６（ｓ，１Ｈ），１０．５０（ｓ，１Ｈ）．
（３）６−（ジフルオロメチル）−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（２）に準じ、製造例２０−（２）で得た化合物（１２８ｍｇ，３６０μｍｏｌ）から標記化合物（８８．０ｍｇ，３６０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：６．７８（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｔ，Ｊ＝５４．８７Ｈｚ，１Ｈ），８．０７（ｓ，１Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ），８．４３（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ）．
製造例２１
３−ヒドロキシ−６−（メトキシメチル）−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（ヒドロキシメチル）テレフタラートの合成
製造例１９−（１）で得たジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−ホルミルテレフタラート（３８５ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５．００ｍＬ）溶液に、氷浴下水素化ホウ素ナトリウム（３７．８ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を同温で１時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液とジクロロメタンを加え、５分間撹拌した。有機層をフェーズセパレーターで分取し、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（２８７ｍｇ，７４１μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６１（ｓ，９Ｈ），１．６１（ｓ，９Ｈ），３．６２（ｔ，Ｊ＝７．２２Ｈｚ，１Ｈ），４．７３（ｄ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ，２Ｈ），７．７２（ｓ，１Ｈ），８．１０（ｓ，１Ｈ）．
（２）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（ブロモメチル）テレフタラートの合成
製造例２１−（１）で得た化合物（２７１ｍｇ，７００μｍｏｌ）のＤＣＭ（５．００ｍＬ）溶液に、氷浴下トリフェニルホスフィン（２７５ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ）及び四臭化炭素（４６４ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）を加えた。同温で２時間撹拌した後、反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し、標記化合物（２３０ｍｇ，５１１μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６２（ｓ，９Ｈ），１．６３（ｓ，９Ｈ），４．８５（ｓ，２Ｈ），７．６８（ｓ，１Ｈ），８．０８（ｓ，１Ｈ）．
（３）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（メトキシメチル）テレフタラートの合成
製造例２１−（２）で得た化合物（２２１ｍｇ，４９０μｍｏｌ）のジクロロメタン（３．００ｍＬ）溶液に、氷浴下ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、１７７μＬ，７３５μｍｏｌ）を滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物にＴＨＦ（３．００ｍＬ）を加え、同温でさらに３時間撹拌した。反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（４６．０ｍｇ，１１５μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．５９（ｓ，９Ｈ），１．６１（ｓ，９Ｈ），３．４６（ｓ，３Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ）．
（４）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ホルミル−５−（メトキシメチル）テレフタラートの合成
製造例１５−（１）に準じ、製造例２１−（３）で得た化合物（４５．０ｍｇ，１１２μｍｏｌ）からジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−（メトキシメチル）−５−（プロパ−１−エン−１−イル）テレフタラート（３２．０ｍｇ，８８．０μｍｏｌ）を幾何異性体の混合物として得た。
製造例１５−（１）に準じ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−（メトキシメチル）−５−（プロパ−１−エン−１−イル）テレフタラート（３０．０ｍｇ，８３．０μｍｏｌ）から標記化合物（２８．０ｍｇ，８０．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６１（ｓ，９Ｈ），１．６３（ｓ，９Ｈ），３．５１（ｓ，３Ｈ），４．８７（ｓ，２Ｈ），８．１２（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｓ，１Ｈ），１０．５３（ｓ，１Ｈ）．
（５）３−ヒドロキシ−６−（メトキシメチル）−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（２）に準じ、製造例２１−（４）で得た化合物（２７．０ｍｇ，７７．０μｍｏｌ）から標記化合物（１８．０ｍｇ，７６．０μｍｏｌ）を、互変異性体の混合物として得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：３．３７（ｓ，３Ｈ），４．７８（ｓ，２Ｈ），６．７０（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），７．９３（ｓ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），８．２７（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），１３．５９（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ）．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：３．４０（ｓ，３Ｈ），４．８３（ｓ，２Ｈ），８．１０（ｓ，１Ｈ），８．２２（ｓ，１Ｈ），１０．４５（ｓ，１Ｈ），１３．５９（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ）．
製造例２２
３−ヒドロキシ−１−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ホルミル−５−（トリフルオロメチル）テレフタラートの合成
製造例１５−（１）に準じ、製造例２−（３）の方法で得られるジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ブロモ−５−（トリフルオロメチル）テレフタラート（２０５ｍｇ，４８２μｍｏｌ）から標記化合物（１６５ｍｇ，４４１μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．５５（ｓ，９Ｈ），１．５９（ｓ，９Ｈ），８．１３（ｓ，１Ｈ），８．２３（ｓ，１Ｈ），１０．６３（ｓ，１Ｈ）．
（２）３−メトキシ−１−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（２）に準じ、製造例２２−（１）で得た化合物（１６５ｍｇ，４４１μｍｏｌ）から、標記化合物（１２５ｍｇ，４５３μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：３．５９（ｓ，３Ｈ），６．６７（ｓ，１Ｈ），８．１３（ｓ，１Ｈ），８．２６（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２７５［Ｍ−Ｈ］-
（３）３−ヒドロキシ−１−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例２２−（２）で得た化合物（１２５ｍｇ，４５３μｍｏｌ）のメタノール（１．００ｍＬ）溶液に５Ｎ塩酸（１０．０ｍＬ，５０．０ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃で２．５時間撹拌した。室温に戻したのち、溶媒を減圧留去することで標記化合物（１０３ｍｇ，３９３μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：６．８１（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），８．０６（ｓ，１Ｈ），８．２１（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２６１［Ｍ−Ｈ］-
製造例２３
３−ヒドロキシ−６−メトキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３，６−ジメトキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１７−（１）で得たジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−フルオロ−５−ホルミルテレフタラート（１２０ｍｇ，３７０μｍｏｌ）のＴＨＦ（３．００ｍＬ）溶液に、氷浴下ナトリウムメトキシド（５．４Ｍメタノール溶液、７２．０μＬ，３８８μｍｏｌ）を加えた。同温で２時間撹拌した後、室温で１時間撹拌した。少量の酢酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで希釈した。混合物を水で洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（２７．０ｍｇ，９２．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．５９（ｓ，９Ｈ），３．６３（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），６．２６（ｓ，１Ｈ），７．３８（ｓ，１Ｈ），７．７８（ｓ，１Ｈ）．
（２）３−ヒドロキシ−６−メトキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例２２−（３）に準じ、製造例２３−（１）で得た化合物（２７．０ｍｇ，９２．０μｍｏｌ）から標記化合物を含む混合物（１９．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２２５［Ｍ＋Ｈ］+
製造例２４
３−ヒドロキシ−６−（メチルチオ）−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
Figure 2021123624
（１）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−ホルミル−５−（メチルチオ）テレフタラートの合成
製造例１７−（１）で得たジ−ｔｅｒｔ−ブチル ２−フルオロ−５−ホルミルテレフタラート（１２０ｍｇ，３７０μｍｏｌ）のＴＨＦ（５．００ｍＬ）溶液にナトリウムメタンチオラート（３１．３ｍｇ，４４４μｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去することで標記化合物の粗生成物（１３９ｍｇ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．６２（ｓ，９Ｈ），１．６３（ｓ，９Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），７．６８（ｓ，１Ｈ），８．４２（ｓ，１Ｈ），１０．４７（ｓ，１Ｈ）．
（２）３−ヒドロキシ−６−（メチルチオ）−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸の合成
製造例１５−（２）に準じ、製造例２４−（１）で得た化合物（１３７ｍｇ）から標記化合物の粗生成物（１３２ｍｇ）を互変異性体の混合物として得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：２．５１（ｓ，３Ｈ），６．６７（ｓ，１Ｈ），７．７２（ｓ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ）．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ｐｐｍ）：２．５０（ｓ，３Ｈ），７．６５（ｓ，１Ｈ），８．３１（ｓ，１Ｈ），１０．３５（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ２３９［Ｍ−Ｈ］-
実施例１
３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
製造例５−（２）で得られたｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（１００ｍｇ，１２８μｍｏｌ）、アゼチジン（２０．５ｍｇ，３６０μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１１．８ｍｇ，１３．０μｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ（１８．４ｍｇ，３９．０μｍｏｌ）、炭酸セシウム（１１７ｍｇ，３６０μｍｏｌ）及び１，４−ジオキサン（５．００ｍＬ）の混合液を、窒素雰囲気下、封管中１１０℃で４．５時間撹拌した。不溶物を濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（６２．０ｍｇ，１０５μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５９３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）２−（３−（アゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（アゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）−４−カルボキシベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（１）で得た化合物（６２．０ｍｇ，１０５μｍｏｌ）のＤＣＭ（２．００ｍＬ）溶液に、ＴＦＡ（２００μＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、残存のＴＦＡをメタノールで共沸除去することで標記化合物の粗生成物（７０．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５３７［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１−（２）の方法で得られる化合物（１５．０ｍｇ）のＤＭＦ（１．００ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（１９．０μＬ，１３８μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（１３．５ｍｇ，５３．０μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（１８．０ｍｇ，３５．０μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で２時間撹拌した後、混合物を直接逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製した。目的物を含むフラクションを回収し、余剰のアセトニトリルを減圧留去した。残渣の水層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（１０．３ｍｇ，１６．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１６−１．２６（ｍ，４Ｈ），１．７１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１０（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．３１−２．４４（ｍ，４Ｈ），３．６１−３．６９（ｍ，２Ｈ），３．７６−３．８４（ｍ，２Ｈ），３．９０（ｔ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ，８Ｈ），６．２５（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．８０（ｍ，１Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｓ，１Ｈ），７．８４（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），７．９７−８．０２（ｍ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６５９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ビス（３−フルオロアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ビス（３−フルオロアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、製造例５−（２）で得たｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（１９．０ｍｇ，２４．０μｍｏｌ）、３−フルオロアゼチジン塩酸塩（７．６２ｍｇ，６８．０μｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ． ６１７７１８−４６−４）、炭酸セシウム（４７．７ｍｇ，１４６μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（２．２３ｍｇ，２．４４μｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ（３．４９ｍｇ，７．３２μｍｏｌ）及び１，４−ジオキサン（３．００ｍＬ）の混合物を、封管中１００℃で４時間撹拌した。室温まで冷却した後、ＤＣＭで希釈した。不溶物を濾過し、溶出物を濃縮した。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し標記化合物（７．００ｍｇ，１１．０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６２９［Ｍ＋Ｈ］+
（２）４−カルボキシ−２−（３−（３−フルオロアゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（３−フルオロアゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）ベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例２−（１）で得た化合物（７．００ｍｇ，１１．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（８．００ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５７３［Ｍ＋Ｈ］+
（３）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ビス（３−フルオロアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２−（２）で得た化合物（８．００ｍｇ）のＤＭＦ（１．００ｍＬ）溶液に、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（６．８１ｍｇ，２７．０μｍｏｌ）、ＴＥＡ（９．７４μＬ，７０．０μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（９．０９ｍｇ，１７．０μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌した後、直接逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製した。得られた粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（２．４０ｍｇ，３．４５μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１４−１．２４（ｍ，４Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．６０−３．６８（ｍ，２Ｈ），３．７７−３．８６（ｍ，２Ｈ），３．９２−４．０６（ｍ，４Ｈ），４．１５−４．２７（ｍ，４Ｈ），５．３１−５．５４（ｍ，２Ｈ），６．３０（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．８１−６．８３（ｍ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．８７（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ），７．８２−７．８８（ｍ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６９５［Ｍ＋Ｈ］+
実施例３
３’，７’−ビス（３，３−ジフルオロアゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ビス（３，３−ジフルオロアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
実施例１−（１）に準じ、製造例５−（２）で得たｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（１９．０ｍｇ，２４．０μｍｏｌ）と３，３−ジフルオロアゼチジン塩酸塩（８．８５ｍｇ，６８．０μｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ． ２８８３１５−０３−７）から標記化合物（１４．０ｍｇ，２１．０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６６５［Ｍ＋Ｈ］+
（２）４−カルボキシ−２−（３−（３，３−ジフルオロアゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（３，３−ジフルオロアゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）ベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例３−（１）で得た化合物（１４．０ｍｇ，２１．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（１６．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６０９［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ビス（３，３−ジフルオロアゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１−（３）に準じ、実施例３−（２）で得た化合物（１６．０ｍｇ）から標記化合物の粗生成物を得た。さらにシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＤＣＭ／ジエチルエーテル）で精製することで標記化合物（６．２０ｍｇ，８．４８μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１７−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．６１−３．６７（ｍ，２Ｈ），３．８０−３．８５（ｍ，２Ｈ），４．２５（ｔ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，８Ｈ），６．３４（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．７３（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．８６（ｍ，１Ｈ），６．８７（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７７（ｓ，１Ｈ），７．８４（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），８．００−８．０４（ｍ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７３１［Ｍ＋Ｈ］+
実施例４
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ビス（３−メトキシアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ビス（３−メトキシアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
実施例１−（１）に準じ、製造例５−（２）で得たｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（１９．０ｍｇ，２４．０μｍｏｌ）と３−メトキシアゼチジン塩酸塩（８．４４ｍｇ，６８．０μｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ． １４８６４４−０９−１）から標記化合物の粗生成物（１８．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６５３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）４−カルボキシ−２−（３−（３−メトキシアゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（３−メトキシアゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）ベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例４−（１）で得た化合物（１８．０ｍｇ）から標記化合物の粗生成物（２０．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５９７［Ｍ＋Ｈ］+
（３）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ビス（３−メトキシアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１−（３）に準じ、実施例４−（２）で得た化合物（２０．０ｍｇ）から標記化合物（８．４０ｍｇ，１２．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１５−１．２６（ｍ，４Ｈ），１．７２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．３３（ｓ，６Ｈ），３．６１−３．６７（ｍ，２Ｈ），３．６９−３．７８（ｍ，４Ｈ），３．７８−３．８４（ｍ，２Ｈ），４．１１（ｔ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ，４Ｈ），４．３０−４．３７（ｍ，２Ｈ），６．２８（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），６．７１（ｓ，２Ｈ），６．７５−６．８１（ｍ，１Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７３（ｓ，１Ｈ），７．８４（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７１９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例５
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ビス（３−メチルアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ビス（３−メチルアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
実施例１−（１）に準じ、製造例５−（２）で得たｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（１９．０ｍｇ，２４．０μｍｏｌ）と３−メチルアゼチジン塩酸塩（７．３５ｍｇ，６８．０μｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ． ９３５６６９−２８−６）から標記化合物（１０．０ｍｇ，１６．０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６２１［Ｍ＋Ｈ］+
（２）４−カルボキシ−２−（３−（３−メチルアゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（３−メチルアゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）ベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例５−（１）で得た化合物（１０．０ｍｇ，１６．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（１１．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５６５［Ｍ＋Ｈ］+
（３）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ビス（３−メチルアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例３−（３）に準じ、実施例５−（２）で得た化合物（１１．０ｍｇ）から標記化合物の粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（２．００ｍｇ，２．９１μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１７−１．２３（ｍ，４Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２８（ｓ，３Ｈ），１．７１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１０（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．７６−２．９１（ｍ，２Ｈ），３．４０−３．５２（ｍ，４Ｈ），３．５９−３．６９（ｍ，２Ｈ），３．７６−３．８５（ｍ，２Ｈ），３．９８−４．０７（ｍ，４Ｈ），６．２４（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７２−６．７７（ｍ，１Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７３（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６８７［Ｍ＋Ｈ］+
実施例６
３’，７’−ビス（３，３−ジメチルアゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ビス（３，３−ジメチルアゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
実施例１−（１）に準じ、製造例５−（２）で得たｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（２０．０ｍｇ，２６．０μｍｏｌ）と３，３−ジメチルアゼチジン塩酸塩（８．７４ｍｇ，７２．０μｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ． ８９３８１−０３−３）から標記化合物（１４．０ｍｇ，２２．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１７−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．３１（ｓ，１２Ｈ），１．５５（ｓ，９Ｈ），１．７２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９７−２．１８（ｍ，４Ｈ），３．６０（ｓ，８Ｈ），６．２９（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．８６（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），７．８３（ｓ，１Ｈ），７．９４（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｄｄ，Ｊ＝８．２０，１．１７Ｈｚ，１Ｈ）．
（２）４−カルボキシ−２−（３−（３，３−ジメチルアゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（３，３−ジメチルアゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）ベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例６−（１）で得た化合物（１４．０ｍｇ，２２．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（１６．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５９３［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ビス（３，３−ジメチルアゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２−（３）に準じ、実施例６−（２）で得た化合物（１６．０ｍｇ）から標記化合物の粗生成物を得た。さらにシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ジエチルエーテル）で精製することで標記化合物（５．００ｍｇ，６．９９μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１６−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．３１（ｓ，１２Ｈ），１．７１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１０（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．５９（ｓ，８Ｈ），３．６１−３．６７（ｍ，２Ｈ），３．７８−３．８４（ｍ，２Ｈ），６．２４（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７３−６．７８（ｍ，３Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｓ，１Ｈ），７．８２（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７１５［Ｍ＋Ｈ］+
実施例７
３’，７’−ジ（７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジ（７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、製造例５−（２）で得たｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（１２．０ｍｇ，１５．０μｍｏｌ）、７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン（４．１９ｍｇ，４３．０μｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ. ２７９−４０−３）、炭酸セシウム（１４．１ｍｇ，４３．０μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１．４１ｍｇ，１．５４μｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ（２．２０ｍｇ，４．６２μｍｏｌ）及び１，４−ジオキサン（２．００ｍＬ）の混合物を、封管中１００℃で２時間撹拌した。室温まで冷却した後、ＤＣＭで希釈した。不溶物を濾過し、溶出物を濃縮した。残渣をＮＨシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し、標記化合物の粗生成物（１３．０ｍｇ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１５−１．２３（ｍ，４Ｈ），１．５６（ｓ，９Ｈ），１．５７−１．６３（ｍ，８Ｈ），１．７４−１．８２（ｍ，１０Ｈ），２．０３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），４．２０（ｂｒ．ｓ．，４Ｈ），６．７２（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ），７．９３−７．９７（ｍ，１Ｈ），８．１２（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ）．
（２）２−（３−（７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−イウム−７−イリデン）−７−（７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）−４−カルボキシベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例７−（１）で得た化合物（１３．０ｍｇ）から標記化合物の粗生成物（１５．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６１７［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ジ（７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１−（３）に準じ、実施例７−（２）で得た化合物（１５．０ｍｇ）から標記化合物（２．１０ｍｇ，２．８４μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１４−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．３９−１．４７（ｍ，８Ｈ），１．７３−１．８１（ｍ，１０Ｈ），１．９９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．６１−３．６７（ｍ，２Ｈ），３．７８−３．８５（ｍ，２Ｈ），４．１９（ｂｒ．ｓ．，４Ｈ），６．６４−６．７０（ｍ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７２−６．７５（ｍ，２Ｈ），６．８０（ｔ，Ｊ＝５．２７Ｈｚ，１Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．２０，１．５６Ｈｚ，１Ｈ），７．９８−８．０３（ｍ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７３９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例８
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３’，７’−ジ（ピペリジン−１−イル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３−オキソ−３’，７’−ジ（ピペリジン−１−イル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
窒素雰囲気下、製造例５−（２）で得られたｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（２５．０ｍｇ，３２．０μｍｏｌ）、ピペリジン（１３．７ｍｇ，１６１μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（５．８８ｍｇ，６．４２μｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ（６．１２ｍｇ，１３．０μｍｏｌ）、炭酸セシウム（２９．３ｍｇ，９０．０μｍｏｌ）及び１，４−ジオキサン（２．００ｍＬ）の混合物を、封管中１１０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却した後、ＤＣＭで希釈した。不溶物を濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで中間体を得た。得られた中間体をＤＣＭ（４．００ｍＬ）に溶解させ、ＴＦＡ（１．００ｍＬ）を加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌した後、溶媒を減圧留去した。残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（７．２０ｍｇ，１２．０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５９３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３’，７’−ジ（ピペリジン−１−イル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例８−（１）で得た化合物（７．００ｍｇ，１２．０μｍｏｌ）、ＰｙＢＯＰ（７．３７ｍｇ，１４．０μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（３．６０ｍｇ，１４．０μｍｏｌ）、トリエチルアミン（９．８８μＬ，７１．０μｍｏｌ）及びＤＭＦ（１．００ｍＬ）の混合物を室温で２時間撹拌した。氷を加えて反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し、粗精製物を得た。得られた粗精製物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＤＣＭ／ＭｅＯＨ）で精製することで標記化合物（２．２０ｍｇ，３．０８μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２３−１．３０（ｍ，４Ｈ），１．５６−１．６３（ｍ，４Ｈ），１．６５−１．７８（ｍ，１０Ｈ），１．９５−２．０５（ｍ，２Ｈ），２．０８−２．２１（ｍ，２Ｈ），３．１４−３．２４（ｍ，８Ｈ），３．５９−３．６９（ｍ，２Ｈ），３．７７−３．８６（ｍ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７２−６．７７（ｍ，３Ｈ），６．８０−６．８６（ｍ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７２（ｓ，１Ｈ），７．８２（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），７．９７−８．０２（ｍ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７１５［Ｍ＋Ｈ］+
実施例９
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ジ（１，４−オキサゼパン−４−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジ（１，４−オキサゼパン−４−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
実施例１−（１）に準じ、製造例５−（２）で得られたｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（２０．０ｍｇ，２６．０μｍｏｌ）と１，４−オキサゼパン（７．２７ｍｇ，７２．０μｍｏｌ）から標記化合物（９．００ｍｇ，１３．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２０−１．３１（ｍ，４Ｈ），１．５７（ｓ，９Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９７−２．０６（ｍ，６Ｈ），２．１１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．５９−３．７２（ｍ，１２Ｈ），３．８０−３．８６（ｍ，４Ｈ），６．５７（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，３．１２Ｈｚ，２Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝１．１７Ｈｚ，１Ｈ），７．９７（ｄｄ，Ｊ＝７．８１，０．７８Ｈｚ，１Ｈ），８．１４（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６８１［Ｍ＋Ｈ］+
（２）２−（３−（１，４−オキサゼパン−４−イウム−４−イリデン）−７−（１，４−オキサゼパン−４−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）−４−カルボキシベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例９−（１）で得た化合物（９．００ｍｇ，１３．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（１０．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６２５［Ｍ＋Ｈ］+
（３）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ジ（１，４−オキサゼパン−４−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例９−（２）で得た化合物（１０．０ｍｇ）のＤＭＦ（２．００ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（１１．０μＬ，８１．０μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（４．１３ｍｇ，１６．０μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（８．４５ｍｇ，１６．０μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で３時間撹拌した後、氷を加え反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで粗生成物を得た。さらに粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＤＣＭ／ＭｅＯＨ）で精製することで標記化合物（４．０５ｍｇ，５．４２μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１５−１．３０（ｍ，４Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９１−２．０７（ｍ，６Ｈ），２．１１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．５６−３．７２（ｍ，１４Ｈ），３．７７−３．８８（ｍ，６Ｈ），６．５３（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．９３Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），６．７９−６．８５（ｍ，１Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），７．７７（ｓ，１Ｈ），７．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７４７［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１０
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ビス（ジプロピルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ビス（ジプロピルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
実施例１−（１）に準じ、製造例５−（２）で得られたｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（２０．０ｍｇ，２６．０μｍｏｌ）とジプロピルアミン（７．２８ｍｇ，７２．０μｍｏｌ）から標記化合物（３．００ｍｇ，４．４１μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６８１［Ｍ＋Ｈ］+
（２）４−カルボキシ−２−（７−（ジプロピルアミノ）−３−（ジプロピルイミニオ）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）ベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例１０−（１）で得た化合物（３．００ｍｇ，４．４１μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（７．００ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６２５［Ｍ＋Ｈ］+
（３）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ビス（ジプロピルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１０−（２）で得た化合物（７．００ｍｇ）のＤＭＦ（２．００ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（７．９２μＬ，５７．０μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（２．８９ｍｇ，１１．０μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（５．９２ｍｇ，１１．０μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で４．５時間撹拌した後、氷を加え反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で３回洗浄した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ジエチルエーテル）で精製することで標記化合物（２．３６ｍｇ，３．１６μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．９２（ｔ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ，１２Ｈ），１．１７−１．２４（ｍ，４Ｈ），１．５６−１．６６（ｍ，８Ｈ），１．７２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．２１−３．２９（ｍ，８Ｈ），３．６２−３．６９（ｍ，２Ｈ），３．７９−３．８４（ｍ，２Ｈ），６．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，３．１２Ｈｚ，２Ｈ），６．７０（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），６．７１（ｓ，２Ｈ），６．７３（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），７．８４（ｄｄ，Ｊ＝７．８１，１．５６Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７４７［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１１
３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル （１−（３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−イル）−１−オキソ−５，８，１１−トリオキサ−２−アザトリデカン−１３−イル）カルバマートの合成
実施例１−（２）で得られる化合物（７０．０ｍｇ）、１３−アミノ−５，８，１１−トリオキサ−２−アザトリデカノイックアシッド １，１−ジメチルエチルエステル（３７．７ｍｇ，１２９μｍｏｌ， ＣＡＳ Ｎｏ． １０１１８７−４０−０）、ＰｙＢｏｐ（８４．０ｍｇ，１６１μｍｏｌ）、ＴＥＡ（９０．０μＬ，６４５μｍｏｌ）及びＤＭＦ（２．００ｍＬ）の混合物を室温で一晩撹拌した。反応混合物に氷を加え反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で３回洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（６７．０ｍｇ，８３．０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ８１１［Ｍ＋Ｈ］+
（２）４−（（２−（２−（２−（２−アミノエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）カルバモイル）−２−（３−（アゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（アゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）ベンゾアート ２ＴＦＡ塩の合成
実施例１１−（１）で得た化合物（６７．０ｍｇ，８３．０μｍｏｌ）のＤＣＭ（４．００ｍＬ）溶液にＴＦＡ（８００μＬ）を加え、室温で１時間撹拌した。溶媒を減圧留去することにより標記化合物の粗生成物（８０．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７１１［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１１−（２）で得た化合物（８０．０ｍｇ）、ＴＨＦ（３．０３ｍＬ）及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３．０３ｍＬ）の混合物に、メチル ２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−カルボキシラート（７９．０ｍｇ，５１１μｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ． ５５７５０−４８−６）を加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌した後、酢酸エチルで希釈した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製することで標記化合物（２３．０ｍｇ，２９．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１５−１．２９（ｍ，４Ｈ），１．７１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．３７（ｑｕｉｎ，Ｊ＝７．２２Ｈｚ，４Ｈ），３．４５−３．５４（ｍ，６Ｈ），３．５５−３．６３（ｍ，６Ｈ），３．６３−３．６８（ｍ，４Ｈ），３．９０（ｔ，Ｊ＝７．２２Ｈｚ，８Ｈ），６．２４（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６０（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．０３−７．０９（ｍ，１Ｈ），７．７５−７．８０（ｍ，１Ｈ），７．９６−８．００（ｍ，２Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７９１［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１２
３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキシラートの合成
実施例２−（１）に準じ、製造例６−（２）で得たｔｅｒｔ−ブチル ３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキシラート（３１．０ｍｇ，４０．０μｍｏｌ）から標記化合物（６．００ｍｇ，１０．１μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５９３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）２−（３−（アゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（アゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）−５−カルボキシベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例１２−（１）の方法で得られる化合物（１５．０ｍｇ，２５．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（１７．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５３７［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
実施例３−（３）に準じ、実施例１２−（２）で得た化合物（１７．０ｍｇ）から標記化合物（１．５０ｍｇ，２．２８μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１７−１．２６（ｍ，４Ｈ），１．７２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．３２−２．４３（ｍ，４Ｈ），３．６８−３．７５（ｍ，２Ｈ），３．８３−３．８８（ｍ，２Ｈ），３．９０（ｔ，Ｊ＝７．２２Ｈｚ，８Ｈ），６．２４（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．３４Ｈｚ，２Ｈ），６．７４（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．７６（ｓ，２Ｈ），６．７８−６．８４（ｍ，１Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．３９（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），８．１１（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．７６Ｈｚ，１Ｈ），８．２５（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６５９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１３
３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−５−クロロ−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−５−クロロ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート及びｔｅｒｔ−ブチル ３’，５，７’−トリ（アゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、製造例７−（２）で得たｔｅｒｔ−ブチル ５−クロロ−３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（１２８ｍｇ，１５７μｍｏｌ）、アゼチジン（２５．２ｍｇ，４４１μｍｏｌ）、炭酸セシウム（１４４ｍｇ，４４１μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１４．４ｍｇ，１６．０μｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ（２２．５ｍｇ，４７．０μｍｏｌ）及びトルエン（２．００ｍＬ）の混合物を封管中１１０℃で４．５時間撹拌した。室温まで冷却した後、不溶物を濾過した。溶出物を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することでｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−５−クロロ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートを得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６２７［Ｍ＋Ｈ］+
また、副生成物として、ｔｅｒｔ−ブチル ３’，５，７’−トリ（アゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートを得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６４８［Ｍ＋Ｈ］+
（２）２−（３−（アゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（アゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）−４−カルボキシ−５−クロロベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例１３−（１）で得たｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−５−クロロ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートから標記化合物の粗生成物（１５．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５７１［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−５−クロロ−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１０−（３）に準じ、実施例１３−（２）で得た化合物（１５．０ｍｇ）から標記化合物の粗生成物を得た。さらに、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＤＣＭ／ＭｅＯＨ）で精製することで標記化合物（１．１０ｍｇ，１．５９μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１３−１．２１（ｍ，４ Ｈ），１．７１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１０（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．３２−２．４３（ｍ，４Ｈ），３．６４−３．７２（ｍ，２Ｈ），３．７６−３．８３（ｍ，２Ｈ），３．９１（ｔ，Ｊ＝７．２２Ｈｚ，８Ｈ），６．２８（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），６．４４（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），６．６８（ｓ，２Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝２．３４Ｈｚ，２Ｈ），７．４５（ｓ，１Ｈ），７．９５（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６９３［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１４
３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−メチル−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−５−メチル−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
実施例１−（１）に準じ、製造例８−（３）で得たｔｅｒｔ−ブチル ５−メチル−３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（４０．０ｍｇ，５０．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（３５．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６０７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）２−（３−（アゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（アゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）−４−カルボキシ−５−メチルベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例１４−（１）で得た化合物（３５．０ｍｇ）から標記化合物の粗生成物（４２．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５５１［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−メチル−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１４−（２）で得た化合物（４２．０ｍｇ）のＤＭＦ（２．００ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（４４．０μＬ，３１６μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（１９．３ｍｇ，７６．０μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（４９．３ｍｇ，９５．０μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で１．５時間撹拌した後、酢酸エチルで希釈した。有機層を水で３回洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製した。得られた粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ジエチルエーテル）で精製した。得られた粗生成物を、さらにシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＤＣＭ／ＭｅＯＨ）で精製することで標記化合物（１６．０ｍｇ，２４．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１８−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．７２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．３７−２．４３（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｓ，３Ｈ），３．６２−３．６７（ｍ，２Ｈ），３．７７−３．８１（ｍ，２Ｈ），３．９２（ｔ，Ｊ＝７．２２Ｈｚ，８Ｈ），６．２２（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），６．２８（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６９（ｓ，２Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝２．３４Ｈｚ，２Ｈ），７．２８（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６７３［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１５
３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−（（３−ヒドロキシプロピル）アミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）２−（３−（アゼチジン−１−イウム−１−イリデン）−７−（アゼチジン−１−イル）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）−４−カルボキシ−５−（（３−ヒドロキシプロピル）アミノ）ベンゾアート ２ＴＦＡ塩の合成
実施例１３−（１）で副生成物として得られたｔｅｒｔ−ブチル ３’，５，７’−トリ（アゼチジン−１−イル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートのＤＣＭ／ＴＦＡ（２：１）溶液を室温で３時間撹拌した。溶媒を減圧留去することで標記化合物を含む混合物（９．００ｍｇ）を得た。得られた混合物はさらに精製することなく次の反応に用いた。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６１０［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ジ（アゼチジン−１−イル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−（（３−ヒドロキシプロピル）アミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１０−（３）に準じ、実施例１５−（１）で得られた混合物（９．００ｍｇ）から標記化合物（１．２２ｍｇ，１．６７μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１７−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．７０（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．８６−２．００（ｍ，４Ｈ），２．１３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．３２−２．４３（ｍ，４Ｈ），３．３３−３．４１（ｍ，２Ｈ），３．５４−３．６０（ｍ，２Ｈ），３．７７（ｄｄ，Ｊ＝６．４４，４．４９Ｈｚ，２Ｈ），３．８５（ｔ，Ｊ＝５．８６Ｈｚ，２Ｈ），３．９１（ｔ，Ｊ＝７．２２Ｈｚ，８Ｈ），６．２３−６．３０（ｍ，２Ｈ），６．５５（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），６．６７（ｓ，２Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝５．４７Ｈｚ，２Ｈ），６．８５（ｓ，２Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），７．３３（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７３２［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１６
３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−メチル−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−５−メチル−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
実施例１−（１）に準じ、製造例８−（３）で得られたｔｅｒｔ−ブチル ５−メチル−３−オキソ−３’，７’−ビス（（（トリフルオロメチル）スルホニル）オキシ）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラート（４０．０ｍｇ，５０．０μｍｏｌ）とジメチルアミン（２Ｍ ＴＨＦ溶液、７１．０μＬ，１４１μｍｏｌ）から標記化合物（１０．０ｍｇ，１７．０μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５８３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）４−カルボキシ−２−（７−（ジメチルアミノ）−３−（ジメチルイミニオ）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）−５−メチルベンゾアート ＴＦＡ塩の合成
実施例１−（２）に準じ、実施例１６−（１）で得た化合物（１０．０ｍｇ，１７．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（１５．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５２７［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−メチル−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１６−（２）で得た化合物（１５．０ｍｇ）のＤＭＦ（２．００ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（１６．０μＬ，１１７μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（７．１４ｍｇ，２８．０μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（１８．３ｍｇ，３５．０μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で１．５時間撹拌した後、酢酸エチルで希釈した。混合物を水で３回洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し、粗生成物を得た。さらにシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ジエチルエーテル）で精製することで標記化合物（１０．０ｍｇ，１５．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２１−１．２９（ｍ，４Ｈ），１．７５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．５５（ｓ，３Ｈ），３．００（ｓ，１２Ｈ），３．６０−３．６８（ｍ，２Ｈ），３．７５−３．８３（ｍ，２Ｈ），６．１９（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），６．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６９（ｓ，２Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．２７（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６４９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１７
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ジモルホリノ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ジモルホリノ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
２，２’−（２−ブロモ−１，４−フェニレン）ビス（４，４−ジメチル−４，５−ジヒドロオキサゾール）（１．５６ｇ，４．４３ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．１１５５８０−６９−３）のＴＨＦ（２０．０ｍＬ）溶液に、−７８℃でｔｅｒｔ−ブチルリチウム（１．６２Ｍ ｎ−ペンタン溶液、２．７４ｍＬ、４．４３ｍｍｏｌ）を２０分間かけて滴下した。同温でさらに１時間撹拌した後、製造例９で得た３，７−ジモルホリノ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（５１．０ｍｇ，１１４μｍｏｌ）のＴＨＦ（２．００ｍＬ）溶液を滴下した。反応混合物を−４０度まで昇温し、同温で３時間撹拌した。反応混合物を徐々に室温まで昇温させ、３日間撹拌した。氷浴下、酢酸（５．００ｍＬ）を加えることで反応を停止させた。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に５Ｎ塩酸（５０．０ｍＬ）を加え、８０℃で４時間撹拌した。室温まで冷却した後、混合物を飽和炭酸ナトリウム水溶液で中和した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル（→酢酸エチル／メタノール））で精製することで標記化合物を含む混合物（４８．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５９７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ジモルホリノ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１７−（１）で得た化合物（４８．０ｍｇ）のＤＭＦ（２．００ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（６７．０μＬ，４８３μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（２４．５ｍｇ，９７．０μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（５０．２ｍｇ，９７．０μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で３．５時間撹拌した後、混合物を直接逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製し粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（１３．６ｍｇ，１９．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１９−１．３２（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．１４−３．２２（ｍ，８Ｈ），３．６１−３．６７（ｍ，２Ｈ），３．７８−３．８４（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．８９（ｍ，８Ｈ），６．７３（ｓ，２Ｈ），６．７３−６．７６（ｍ，２Ｈ），６．７９（ｓ，１Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｓ，１Ｈ），７．８２（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７１９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１８
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ジモルホリノ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ジモルホリノ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボン酸の合成
実施例１７−（１）に準じ、製造例９で得た３，７−ジモルホリノ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（５１．０ｍｇ，１１４μｍｏｌ）と２，２’−（４−ブロモ−１，３−フェニレン）ビス（４，４−ジメチル−４，５−ジヒドロオキサゾール）（１．５６ｇ，４．４３ｍｍｏｌ，ＣＡＳ Ｎｏ．１４２６０９０−０１−８）から標記化合物を含む混合物（４４．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５９７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ジモルホリノ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
実施例１７−（２）に準じ、１８−（１）で得た化合物（４４．０ｍｇ）から標記化合物（１３．７ｍｇ，１９．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１９−１．３１（ｍ，４Ｈ），１．７６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．１７−３．２２（ｍ，８Ｈ），３．６８−３．７４（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．９２（ｍ，１０Ｈ），６．７５（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．５４Ｈｚ，２Ｈ），６．７７（ｓ，２Ｈ），６．８４（ｓ，１Ｈ），６．８６−６．９０（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ），８．１２（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７１９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例１９
３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例１７−（１）に準じ、製造例１０−（２）で得た３，７−ビス（ジメチルアミノ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（２００ｍｇ，５４９μｍｏｌ）から標記化合物（２７０ｍｇ，５２７μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５１３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例１９−（１）の方法で得られる化合物（２５．０ｍｇ，４９．０μｍｏｌ）のＤＭＦ（２．００ｍＬ）溶液に、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（２８．５ｍｇ，１１２μｍｏｌ）、ＰｙＢＯＰ（３８．１ｍｇ，７３．０μｍｏｌ）及びＴＥＡ（４１．０μＬ，２９３μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で３日間撹拌した後、反応混合物を直接逆相クロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製した。目的物を含むフラクションを回収し、余剰のアセトニトリルを減圧留去した後、残渣の水層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。水層をＤＣＭで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル（→酢酸エチル））で精製することで標記化合物（２．０７ｍｇ，３．２６μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２４−１．３３（ｍ，４Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．９７（ｓ，１２Ｈ），３．６１−３．６８（ｍ，２Ｈ），３．７７−３．８５（ｍ，２Ｈ），６．５５（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．９３Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７４（ｓ，１Ｈ），６．８０（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７２（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６３５［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２０
３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル （１−（３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−イル）−１−オキソ−５，８，１１−トリオキサ−２−アザトリデカン−１３−イル）カルバマートの合成
実施例１１−（１）に準じ、実施例１９−（１）の方法で得られる３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸（２７０ｍｇ，５２７μｍｏｌ）から標記化合物（１７８ｍｇ，２２６μｍｏｌ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７８７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）４−（（２−（２−（２−（２−アミノエトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）カルバモイル）−２−（７−（ジメチルアミノ）−３−（ジメチルイミニオ）−３Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−イル）ベンゾアート ２ＴＦＡ塩の合成
実施例１１−（２）に準じ、実施例２０−（１）で得た化合物（１７８ｍｇ，２２６μｍｏｌ）から標記化合物の粗生成物（２１０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６８７［Ｍ＋Ｈ］+
（３）３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２−（２−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エトキシ）エトキシ）エトキシ）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２０−（２）で得た化合物（２１０ｍｇ）、メチル ２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−カルボキシラート（２１４ｍｇ，１．３８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（８．２０ｍＬ）および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（８．２０ｍＬ）の混合物を室温で３．５時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し、有機層を分取した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで粗精製物を得た。この粗精製物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製することで粗精製物を得た。この粗精製物を逆相クロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製した。目的物を含むフラクションを回収し、余剰のアセトニトリルを減圧留去した後、残渣の水層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去することで標記化合物（８９．０ｍｇ，１１６μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１７−１．２６（ｍ，４Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．００（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．９７（ｓ，１２Ｈ），３．４３−３．５３（ｍ，６Ｈ），３．５４−３．６２（ｍ，６Ｈ），３．６４−３．６６（ｍ，４Ｈ），６．５４（ｄｄ，Ｊ＝８．７９，２．９３Ｈｚ，２Ｈ），６．６０（ｓ，２Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），７．０１−７．０７（ｍ，１Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），７．９５−８．０３（ｍ，２Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７６７［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２１
３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボン酸の合成
実施例１８−（１）に準じ、製造例１０−（２）で得た３，７−ビス（ジメチルアミノ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（５０．０ｍｇ，１３７μｍｏｌ）から標記化合物を含む混合物（４７．７ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５１３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
実施例２１−（１）で得た化合物（４７．０ｍｇ，９２．０μｍｏｌ）のＤＭＦ（１．００ｍＬ）溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（９６．０μＬ，５５０μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（５３．６ｍｇ，２１１μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（７１．６ｍｇ，１３８μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌した後、水を加えて反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製した。目的物を含むフラクションを回収し、余剰のアセトニトリルを減圧留去した。水層を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ジエチルエーテル）で精製することで標記化合物（５．００ｍｇ，７．８８μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１８−１．３０（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．９８（ｓ，１２Ｈ），３．６７−３．７６（ｍ，２Ｈ）、３．８２−３．９２（ｍ，２Ｈ），６．５４（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．７３−６．８３（ｍ，３Ｈ），６．７６（ｓ，２Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．７６Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６３５［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２２
３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シロラン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シロラン］−６−カルボン酸の合成
実施例１７−（１）に準じ、製造例１１−（２）で得た３，７−ビス（ジメチルアミノ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シロラン］−１０−オン（４０．０ｍｇ，１１４μｍｏｌ）から、標記化合物を含む混合物（２７．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ４９９［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジメチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シロラン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２２−（１）で得た化合物（２７．０ｍｇ）、ＰｙＢＯＰ（４３．８ｍｇ，８４．０μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（３２．８ｍｇ，１２９μｍｏｌ）、ＴＥＡ（４７．０μＬ，３３７μｍｏｌ）およびＤＭＦ（２．００ｍＬ）の混合物を室温で一晩撹拌した。混合物を直接逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製した。目的物を含むフラクションを回収し、余剰のアセトニトリルを０度以下で減圧留去した。残渣の水層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、水層を酢酸エチルで抽出した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ジエチルエーテル）で精製することで標記化合物（３．６８ｍｇ，５．９３μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２１（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，２Ｈ），１．２５−１．３２（ｍ，２Ｈ），１．９５−２．０６（ｍ，４Ｈ），２．９５（ｓ，１２Ｈ），３．５６−３．６４（ｍ，２Ｈ），３．７６−３．８３（ｍ，２Ｈ），６．６１（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６５（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），６．７１（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ），７．７０−７．７５（ｍ，１Ｈ），７．９３−７．９７（ｍ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６２１［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２３
３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（９９．０ｍｇ，２５０μｍｏｌ）、製造例１５−（２）で得た３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１４６ｍｇ，７５０μｍｏｌ）、臭化第二銅（１６．８ｍｇ，７５．０μｍｏｌ）及び酢酸（２１５μＬ，３．７５ｍｍｏｌ）の混合物を１４０℃で８時間撹拌した。室温まで冷却した後、混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し標記化合物（４０．０ｍｇ，７０．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０４−１．１９（ｍ，１２Ｈ），１．２０−１．３２（ｍ，４Ｈ），１．６５−１．８５（ｍ，２Ｈ），１．９５−２．０６（ｍ，２Ｈ），２．０９−２．２１（ｍ，２Ｈ），３．２５−３．４２（ｍ，８Ｈ），６．４９（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），８．００−８．０９（ｍ，２Ｈ），８．２４（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５６９［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２３−（１）で得た化合物（９．６７ｍｇ，１７．０μｍｏｌ）のＤＭＦ（５００μＬ）溶液に、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（９．９４ｍｇ，３９．０μｍｏｌ）、ＰｙＢＯＰ（１３．３ｍｇ，２６．０μｍｏｌ）及びＴＥＡ（１４．０μＬ，１０２μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で１８時間撹拌した後、反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製し標記化合物（２．００ｍｇ，２．８９μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１４−１．２１（ｍ，１２Ｈ），１．２１−１．３２（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１１−２．２１（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），３．６１−３．７１（ｍ，２Ｈ），３．７８−３．８８（ｍ，２Ｈ），６．４９（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６９−６．８０（ｍ，３Ｈ），６．７３（ｓ，２Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７６（ｄｄ，Ｊ＝１．５６，０．７８Ｈｚ，１Ｈ），７．８６（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｄｄ，Ｊ＝７．８１，０．７８Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６９１［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２４
３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボン酸の合成
実施例２３−（１）に準じ、製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（９９．０ｍｇ，２５０μｍｏｌ）と製造例１６−（２）で得た１−ヒドロキシ−３−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１４６ｍｇ，７５０μｍｏｌ）から標記化合物（４９．０ｍｇ，８６．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１０−１．２７（ｍ，１６Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９６−２．０７（ｍ，２Ｈ），２．０９−２．２２（ｍ，２Ｈ），３．３７（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），６．４９（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，３．１２Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），８．３５（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），８．６９（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５６９［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
実施例２３−（２）に準じ、実施例２４−（１）で得た化合物（１０．２ｍｇ，１８．０μｍｏｌ）から標記化合物（３．００ｍｇ，４．３４μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１７（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．２０−１．３０（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９４−２．０５（ｍ，２Ｈ），２．１１−２．２１（ｍ，２Ｈ），３．３７（ｑ，Ｊ＝６．７７Ｈｚ，８Ｈ），３．６７−３．７７（ｍ，２Ｈ），３．８２−３．９０（ｍ，２Ｈ），６．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６７−６．７７（ｍ，４Ｈ），６．９１（ｔ，Ｊ＝５．２７Ｈｚ，１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），８．１４（ｄｄ，Ｊ＝８．２０，１．５６Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６９１［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２５
３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−フルオロ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−５−フルオロ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（７０．０ｍｇ，１７７μｍｏｌ）、製造例１７−（２）で得た６−フルオロ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１２５ｍｇ）、臭化第二銅（１１．９ｍｇ，５３．０μｍｏｌ）及び酢酸（２．００ｍＬ）の混合物を１４０度で４時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去することで、標記化合物の粗生成物（９６．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５８７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−フルオロ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２５−（１）で得た化合物（７６．０ｍｇ）、ＰｙＢＯＰ（８１．０ｍｇ，１５５μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（３９．５ｍｇ，１５５μｍｏｌ）、トリエチルアミン（９０．０μＬ，６４８μｍｏｌ）及びＤＭＦ（１．００ｍＬ，１２．９ｍｍｏｌ）の混合物を室温で２．５時間撹拌した。氷を加えて反応を停止させ、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（５．７０ｍｇ，８．０４μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１２−１．２１（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．２１−１．２８（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１０−２．２２（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），３．６７−３．７４（ｍ，２Ｈ），３．８０−３．８８（ｍ，２Ｈ），６．４９（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．７１−６．７８（ｍ，２Ｈ），６．７４（ｓ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．１３（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝９．７６Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｄ，Ｊ＝６．２５Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７０９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２６
５−クロロ−３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）５−クロロ−３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例２３−（１）に準じ、製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（３９．５ｍｇ，１００μｍｏｌ）と、製造例１８−（２）で得た６−クロロ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（６８．６ｍｇ，３００μｍｏｌ）から標記化合物（８．００ｍｇ，１３．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０３−１．３５（ｍ，１６Ｈ），１．６９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０２−２．１５（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），６．６０（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７９（ｓ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６０３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）５−クロロ−３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２３−（２）に準じ、実施例２６−（１）で得た化合物（７．８４ｍｇ，１３．０μｍｏｌ）から標記化合物の粗精製物を得た。得られた粗精製物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製し、標記化合物（１．６０ｍｇ，２．２１μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１８（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．１９−１．２４（ｍ，４Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．３８（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），３．６３−３．７２（ｍ，２Ｈ），３．７５−３．８４（ｍ，２Ｈ），６．４２（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），６．５１（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６８（ｓ，２Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），７．４６（ｓ，１Ｈ），７．９６（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７２５［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２７
５−ブロモ−３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）５−ブロモ−３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（１５０ｍｇ，３８０μｍｏｌ）、製造例１９−（２）で得た６−ブロモ−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（２０８ｍｇ，７６０μｍｏｌ）、臭化第二銅（２５．５ｍｇ，１１４μｍｏｌ）及び酢酸（１．０９ｍＬ）の混合物を、１４０℃で６時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応混合物を直接逆相クロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製することで標記化合物（１０５ｍｇ，１６２μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１０−１．２３（ｍ，１６Ｈ），１．６８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９１−２．１２（ｍ，４Ｈ），３．４０（ｑ，Ｊ＝７．２９Ｈｚ，８Ｈ），６．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｓ，１Ｈ），８．１９（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６４９［Ｍ＋Ｈ］+
（２）５−ブロモ−３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２３−（２）に準じ、実施例２７−（１）で得た化合物（９．７２ｍｇ，１５．０μｍｏｌ）から標記化合物（４．２０ｍｇ，５．４６μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１０−１．２４（ｍ，１６Ｈ），１．７２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．３７（ｑ，Ｊ＝７．２９Ｈｚ，８Ｈ），３．６２−３．７２（ｍ，２Ｈ），３．７３−３．８２（ｍ，２Ｈ），６．３１（ｔ，Ｊ＝５．６６Ｈｚ，１Ｈ），６．５１（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，３．１２Ｈｚ，２Ｈ），６．６７（ｓ，２Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｓ，１Ｈ），８．１４（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７６９，７７１［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２８
３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−５−（ジフルオロメチル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−５−（ジフルオロメチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例２７−（１）に準じ、製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（７０．０ｍｇ，１７７μｍｏｌ）と、製造例２０−（３）で得た６−（ジフルオロメチル）−３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（８７．０ｍｇ，３５５μｍｏｌ）から標記化合物（２２．０ｍｇ，３６．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＭｅＯＨ−ｄ4）δ（ｐｐｍ）：１．１１−１．２３（ｍ，１６Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．００（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１０（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．４７（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），６．５９（ｄｄ，Ｊ＝９．１８，２．９３Ｈｚ，２Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝９．３７Ｈｚ，２Ｈ），７．１７（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｔ，Ｊ＝５５．８４Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６１９［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−５−（ジフルオロメチル）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２８−（１）で得た化合物（２７．８ｍｇ，４５．０μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（２６．３ｍｇ，１０４μｍｏｌ）、ＰｙＢＯＰ（３５．１ｍｇ，６８．０μｍｏｌ）、トリエチルアミン（３８．０μＬ，２７０μｍｏｌ）及びＤＭＦ（５００μＬ）の混合物を室温で２時間撹拌した。反応混合物を直接逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製することで標記化合物（１１．８ｍｇ，１６．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＭｅＯＨ−ｄ4）δ（ｐｐｍ）：１．１６（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．１９−１．２６（ｍ，４Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９４−２．０６（ｍ，２Ｈ），２．１１−２．１７（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），３．５０（ｄｄ，Ｊ＝６．４４，４．４９Ｈｚ，２Ｈ），３．６５−３．７３（ｍ，２Ｈ），６．５２（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６６（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），７．１２（ｔ，Ｊ＝５５．２６Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｓ，１Ｈ），７．５８（ｓ，１Ｈ），８．２２（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７４１［Ｍ＋Ｈ］+
実施例２９
３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−（メトキシメチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−５−（メトキシメチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例２７−（１）に準じ、製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（１４．６ｍｇ，３７．０μｍｏｌ）と、製造例２１−（５）で得た３−ヒドロキシ−６−（メトキシメチル）−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１７．６ｍｇ，７４．０μｍｏｌ）から標記化合物（７．００ｍｇ，１１．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１６（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．２０−１．２９（ｍ，４Ｈ），１．７２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．００（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．３７（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），３．５４（ｓ，３Ｈ），４．８９（ｓ，２Ｈ），６．５０（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．２０（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６１３［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−（メトキシメチル）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２８−（２）に準じ、実施例２９−（１）で得た化合物（６．１３ｍｇ，１０．０μｍｏｌ）から標記化合物（１．００ｍｇ，１．３６μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１８（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．２１−１．２６（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．３８（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），３．４８（ｓ，３Ｈ），３．６０−３．７１（ｍ，２Ｈ），３．７３−３．８４（ｍ，２Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），６．５０（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，３．１２Ｈｚ，２Ｈ），６．６８（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝２．３４Ｈｚ，２Ｈ），７．３８−７．４３（ｍ，１Ｈ），７．６０（ｓ，１Ｈ），７．９７（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７３５［Ｍ＋Ｈ］+
実施例３０
３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−５−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−３−オキソ−５−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例２５−（１）に準じ、製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（５０．０ｍｇ，１２７μｍｏｌ）及び製造例２２−（３）で得た３−ヒドロキシ−１−オキソ−６−（トリフルオロメチル）−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１００ｍｇ，３８０μｍｏｌ）から、標記化合物の粗生成物（６１．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６３７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−５−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例３０−（１）で得た化合物（６１．０ｍｇ）のＤＭＦ（３．００ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（４０．０μＬ，２８７μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（２９．２ｍｇ，１１５μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（７４．８ｍｇ，１４４μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌した後、混合物を直接逆相クロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製した。得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（１５．０ｍｇ，２０．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１８（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．２１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．２６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０９−２．１９（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），３．６１−３．６９（ｍ，２Ｈ），３．７３−３．８０（ｍ，２Ｈ），６．１８−６．２４（ｍ，１Ｈ），６．５３（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，３．１２Ｈｚ，２Ｈ），６．６５（ｓ，２Ｈ），６．６９（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），７．４０（ｓ，１Ｈ），８．２７（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７５９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例３１
３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−メトキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−５−メトキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（２０．０ｍｇ，５１．０μｍｏｌ）、製造例２３−（２）で得た３−ヒドロキシ−６−メトキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（３４．１ｍｇ，１５２μｍｏｌ）、臭化第二銅（３．４０ｍｇ，１５．０μｍｏｌ）及び酢酸（２．００ｍＬ）の混合物を１４０℃で２０時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル（→酢酸エチル／メタノール））で精製することで標記化合物を含む混合物（１３．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５９９［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−メトキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例９−（２）に準じ、実施例３１−（１）で得た化合物（１３．０ｍｇ）から標記化合物（１．９３ｍｇ，２．６８μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１５（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．２６（ｂｒ．ｓ．，４Ｈ），１．７１（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．９８（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．１５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），３．３５（ｑ，Ｊ＝６．７７Ｈｚ，８Ｈ），３．６５−３．７３（ｍ，２Ｈ），３．８０−３．８７（ｍ，２Ｈ），４．１１（ｓ，３Ｈ），６．４４（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．５９Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．４９（ｓ，１Ｈ），８．１８（ｔ，Ｊ＝５．０８Ｈｚ，１Ｈ），８．２２（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７２１［Ｍ＋Ｈ］+
実施例３２
３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−（メチルチオ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−５−（メチルチオ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例３１−（１）に準じ、製造例１２で得た３，３’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン）（７０．０ｍｇ，１７７μｍｏｌ）と、製造例２４−（２）で得た３−ヒドロキシ−６−（メチルチオ）−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１２８ｍｇ）から、標記化合物を含む混合物（３８．０ｍｇ）を得た。
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６１５［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３’，７’−ビス（ジエチルアミノ）−Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−５−（メチルチオ）−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例３２−（１）で得た化合物（３８．０ｍｇ）のＤＭＦ（２．００ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（１３．０μＬ，９３．０μｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミド ＴＦＡ塩（１８．９ｍｇ，７４．０μｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（３８．６ｍｇ，７４．０μｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加えて反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で２回洗浄した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（２１．５ｍｇ，２９．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０７（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，１２Ｈ），１．０９−１．１５（ｍ，４Ｈ），１．６２（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．８７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ），３．２７（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，８Ｈ），３．５４−３．６１（ｍ，２Ｈ），３．６５−３．７２（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４１（ｍ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．５６（ｓ，２Ｈ），６．６５（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝３．１２Ｈｚ，２Ｈ），７．３１（ｓ，１Ｈ），７．６８（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ７３７［Ｍ＋Ｈ］+
実施例３３
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３’，７’−ジ（ピロリジン−１−イル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）３−オキソ−３’，７’−ジ（ピロリジン−１−イル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例２３−（１）に準じ、製造例１３で得た１，１’−（シリナン−１，１−ジイルビス（３，１−フェニレン））ジピロリジン（９８．０ｍｇ，２５０μｍｏｌ）と、製造例１５−（２）で得た３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１４６ｍｇ，７５０μｍｏｌ）から標記化合物（２８．０ｍｇ，５０．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１５−１．３１（ｍ，４Ｈ），１．７４（ｂｒ．ｓ．，４Ｈ），１．９３−２．０６（ｍ，８Ｈ），２．１４（ｄ，Ｊ＝１７．１８Ｈｚ，２Ｈ），３．２２−３．３６（ｍ，８Ｈ），６．４１（ｄｄ，Ｊ＝８．９８，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．７９（ｄ，Ｊ＝８．９８Ｈｚ，２Ｈ），６．９９（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．９７−８．０６（ｍ，２Ｈ），８．１７−８．２５（ｍ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５６５［Ｍ＋Ｈ］+
（２）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−３’，７’−ジ（ピロリジン−１−イル）−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２３−（２）に準じ、実施例３３−（１）で得た化合物（９．６０ｍｇ，１７．０μｍｏｌ）から標記化合物（４．００ｍｇ，５．８２μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．１６−１．３５（ｍ，４Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．８９−２．０７（ｍ，１０Ｈ），２．０９−２．２３（ｍ，２Ｈ），３．１９−３．３８（ｍ，８Ｈ），３．５７−３．７０（ｍ，２Ｈ），３．７４−３．８５（ｍ，２Ｈ），６．３８（ｄｄ，Ｊ＝８．５９，２．７３Ｈｚ，２Ｈ），６．６６−６．８２（ｍ，３Ｈ），６．７１（ｓ，２Ｈ），６．９７（ｄ，Ｊ＝２．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．７０（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６８７［Ｍ＋Ｈ］+
実施例３４
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−１’，２’，３’，４’，８’，９’，１０’，１１’−オクタヒドロ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，６’−シリノ［３，２−ｇ：５，６−ｇ’］ジキノリン−１３’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）１’，１１’−ジアリル−３−オキソ−１’，２’，３’，４’，８’，９’，１０’，１１’−オクタヒドロ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，６’−シリノ［３，２−ｇ：５，６−ｇ’］ジキノリン−１３’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例２３−（１）に準じ、製造例１４−（２）で得た７，７’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（１−アリル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン）（８８５ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）と製造例１５−（２）で得た３−ヒドロキシ−１−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１．１７ｇ，６．００ｍｍｏｌ）から粗生成物を得た。さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（９８．０ｍｇ，１５９μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０４−１．２１（ｍ，４Ｈ），１．６９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．８０−１．９３（ｍ，４Ｈ），１．９３−２．１３（ｍ，４Ｈ），２．４３−２．６６（ｍ，４Ｈ），３．１８−３．３４（ｍ，４Ｈ），３．８５−４．０２（ｍ，４Ｈ），５．１４−５．２８（ｍ，４Ｈ），５．８１−５．９６（ｍ，２Ｈ），６．５０（ｓ，２Ｈ），６．９３（ｓ，２Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｄｄ，Ｊ＝７．８１，０．７８Ｈｚ，１Ｈ），８．１８（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６１７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３−オキソ−１’，２’，３’，４’，８’，９’，１０’，１１’−オクタヒドロ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，６’−シリノ［３，２−ｇ：５，６−ｇ’］ジキノリン−１３’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例３４−（１）で得た化合物（３０．８ｍｇ，５０．０μｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１１．６ｍｇ，１０．０μｍｏｌ）、１，３−ジメチルバルビツール酸（４６．８ｍｇ，３００μｍｏｌ）及びＤＣＭ（５．００ｍＬ）の混合物を室温で１０時間撹拌した。反応混合物を直接逆相クロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製することで標記化合物（１５．０ｍｇ，２８．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＭｅＯＨ−ｄ4）δ（ｐｐｍ）：１．０３−１．１０（ｍ，２Ｈ），１．１０−１．１７（ｍ，２Ｈ），１．６７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．７５−１．８７（ｍ，４Ｈ），１．９２−２．０１（ｍ，２Ｈ），２．０７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．５０（ｔ，Ｊ＝６．０５Ｈｚ，４Ｈ），３．２２−３．３０（ｍ，４Ｈ），６．４７（ｓ，２Ｈ），６．９７（ｓ，２Ｈ），７．８８（ｓ，１Ｈ），８．００（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ），８．１８（ｄ，Ｊ＝８．２０Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５３７［Ｍ＋Ｈ］+
（３）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−１’，２’，３’，４’，８’，９’，１０’，１１’−オクタヒドロ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，６’−シリノ［３，２−ｇ：５，６−ｇ’］ジキノリン−１３’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例２８−（２）に準じ、実施例３４−（２）で得た化合物（１３．４ｍｇ，２５．０μｍｏｌ）から標記化合物（２．６０ｍｇ，３．９５μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＭｅＯＨ−ｄ4）δ（ｐｐｍ）：１．１１（ｄｔ，Ｊ＝１８．３５，６．８３Ｈｚ，４Ｈ），１．７３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．７９−１．９１（ｍ，４Ｈ），１．９５−２．０８（ｍ，２Ｈ），２．１３（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．５２（ｔ，Ｊ＝６．２５Ｈｚ，４Ｈ），３．３１−３．３７（ｍ，４Ｈ），３．５１−３．５９（ｍ，２Ｈ），３．７３（ｄｄ，Ｊ＝６．２５，４．６９Ｈｚ，２Ｈ），６．５１（ｓ，２Ｈ），６．７５（ｓ，２Ｈ），７．０６（ｓ，２Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝１．１７Ｈｚ，１Ｈ），７．９３（ｄｄ，Ｊ＝７．８１，１．５６Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６５９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例３５
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−１’，２’，３’，４’，８’，９’，１０’，１１’−オクタヒドロ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，６’−シリノ［３，２−ｇ：５，６−ｇ’］ジキノリン−１３’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）１’，１１’−ジアリル−３−オキソ−１’，２’，３’，４’，８’，９’，１０’，１１’−オクタヒドロ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，６’−シリノ［３，２−ｇ：５，６−ｇ’］ジキノリン−１３’，１’’−シリナン］−５−カルボン酸の合成
実施例２７−（１）に準じ、製造例１４−（２）で得た７，７’−（シリナン−１，１−ジイル）ビス（１−アリル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン）（１０２ｍｇ，２３０μｍｏｌ）と、製造例１６−（２）で得た１−ヒドロキシ−３−オキソ−１，３−ジヒドロイソベンゾフラン−５−カルボン酸（１３４ｍｇ，６９０μｍｏｌ）から標記化合物（４２．０ｍｇ，６８．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０５−１．１７（ｍ，４Ｈ），１．６９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．７９−１．９３（ｍ，４Ｈ），１．９４−２．１２（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．６７（ｍ，４Ｈ），３．１８−３．３４（ｍ，４Ｈ），３．８８−３．９８（ｍ，４Ｈ），５．１４−５．３０（ｍ，４Ｈ），５．８８（ｄｄｔ，Ｊ＝１６．９９，１０．３５，４．８８，４．８８Ｈｚ，２Ｈ），６．４８（ｓ，２Ｈ），６．９４（ｓ，２Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｄｄ，Ｊ＝８．０１，１．３７Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝０．７８Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６１７［Ｍ＋Ｈ］+
（２）３−オキソ−１’，２’，３’，４’，８’，９’，１０’，１１’−オクタヒドロ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，６’−シリノ［３，２−ｇ：５，６−ｇ’］ジキノリン−１３’，１’’−シリナン］−５−カルボン酸の合成
実施例３４−（２）に準じ、実施例３５−（１）で得た化合物（４０．１ｍｇ，６５．０μｍｏｌ）から標記化合物（２１．０ｍｇ，３９．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＭｅＯＨ−ｄ4）δ（ｐｐｍ）：１．００−１．１５（ｍ，４Ｈ），１．６６（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎ，Ｊ＝５．８６Ｈｚ，４Ｈ），１．９５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．４９（ｔ，Ｊ＝６．０５Ｈｚ，４Ｈ），３．２２−３．３０（ｍ，４Ｈ），６．４３（ｓ，２Ｈ），６．９６（ｓ，２Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ），８．３０（ｄ，Ｊ＝７．８１Ｈｚ，１Ｈ），８．６２（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５３７［Ｍ＋Ｈ］+
（３）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３−オキソ−１’，２’，３’，４’，８’，９’，１０’，１１’−オクタヒドロ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，６’−シリノ［３，２−ｇ：５，６−ｇ’］ジキノリン−１３’，１’’−シリナン］−５−カルボキサミドの合成
実施例２８−（２）に準じ、実施例３５−（２）で得た化合物（１９．０ｍｇ，３５．０μｍｏｌ）から粗生成物を得た。さらに逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（水／アセトニトリル、０．１％ギ酸）で精製することで標記化合物（２．６０ｍｇ，３．９５μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．０６−１．２０（ｍ，４Ｈ），１．６７（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），１．７８−１．８９（ｍ，４Ｈ），１．９５（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．０９（ｂｒ．ｓ．，２Ｈ），２．４８−２．６３（ｍ，４Ｈ），３．２１−３．３４（ｍ，４Ｈ），３．６４−３．７６（ｍ，２Ｈ），３．８１−３．８９（ｍ，２Ｈ），６．４８（ｓ，２Ｈ），６．７６（ｓ，２Ｈ），６．８７（ｓ，２Ｈ），７．３２−７．３６（ｍ，１Ｈ），８．０２（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），８．０７（ｄｄ，Ｊ＝８．２０，１．５６Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｄ，Ｊ＝１．１７Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ６５９［Ｍ＋Ｈ］+
実施例３６
Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ジヒドロキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
Figure 2021123624
（１）ｔｅｒｔ−ブチル ３’，７’−ジヒドロキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキシラートの合成
窒素雰囲気下、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル２−ブロモテレフタラート（１．００ｇ，２．８０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１４．０ｍＬ）／ｎ−ヘキサン（７ｍＬ）混合溶液に、内温−９５℃以下でｎ−ブチルリチウム（２．７６Ｍヘキサン溶液、１．０１４ｍＬ，２．８０ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で１０分間撹拌した後、製造例４−（３）で得られた３，７−ビス（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オン（３７７ｍｇ，０．７０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（７ｍＬ）溶液を内温−９５℃以下で滴下した。同温で５分間撹拌した後、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（１７８μＬ，１．４０ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を徐々に室温まで昇温させ、室温で１２時間撹拌撹拌した。氷浴下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることで反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した。混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去することで付加体を含む混合物を得た。得られた混合物にＴＨＦ（７．０ｍＬ）及びテトラブチルアンモニウムフルオリド（１．００Ｍ ＴＨＦ溶液，３．５ｍＬ，３．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で７時間撹拌した。氷浴下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えることで反応を停止させた。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物を、３，７−ジヒドロキシ−１０Ｈ−スピロ［ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５，１’−シリナン］−１０−オンとの混合物（３００ｍｇ）として得た。
（２）３’，７’−ジヒドロキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボン酸の合成
実施例３６−（１）で得た化合物（１０４．９ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）のＤＣＭ（４．００ｍＬ）溶液に、ＴＦＡ（４００μＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留去し、残存のＴＦＡをメタノールで共沸除去することで標記化合物の粗生成物を得た。
（３）Ｎ−（２−（２，５−ジオキソ−２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール−１−イル）エチル）−３’，７’−ジヒドロキシ−３−オキソ−３Ｈ−ジスピロ［イソベンゾフラン−１，１０’−ジベンゾ［ｂ，ｅ］シリン−５’，１’’−シリナン］−６−カルボキサミドの合成
実施例３６−（２）の方法で得た化合物のＤＭＦ（１０．０ｍＬ）溶液に、ＴＥＡ（１７０μＬ，１．２２ｍｍｏｌ）、Ｎ−（２−アミノエチル）マレイミドＴＦＡ塩（１１８．７ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ）及びＰｙＢＯＰ（１５８．７ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で２時間撹拌した後、混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製することで標記化合物（１５．７ｍｇ，２７．０μｍｏｌ）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＭｅＯＨ−ｄ4）δ（ｐｐｍ）：１．１６−１．１９（ｍ，２Ｈ），１．２５−１．２８（ｍ，２Ｈ），１．７３−１．７８（ｍ，２Ｈ），２．００−．２．０８（ｍ，２Ｈ），２．１３−２．２３（ｍ，２Ｈ），３．５０−３．５８（ｍ，２Ｈ），３．６８−３．７３（ｍ，２Ｈ），６.６８（ｄｄ，Ｊ＝８．８０，２．７５Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ），６．７６−６．７９（ｍ，２Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝２．７０Ｈｚ，２Ｈ），７．６５（ｂｒ．ｓ．，１Ｈ），７．９３（ｄｄ，Ｊ＝８．０５，１．３５Ｈｚ，１Ｈ），７．９８−８．０１（ｍ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ ｍ／ｚ ５８１［Ｍ＋Ｈ］+
実験例１
量子化学計算ソフトGaussian09（Gaussian社）を用いて、各実施例の化合物の開環体の構造最適化を実施し、９位炭素（図１参照。なお、図１では、一例として実施例１９が示される）の原子電荷をマリケン電荷法によって算出した。（計算条件：APFD/6-311G+(2d, p)、IEFPCM/Ethanol）
比較実験例１
各実施例の化合物に対応する比較例として、Ｓｉ原子を含むスピロ環構造(以下、Ｓｉスピロ環部位と呼ぶ)に代えて、置換基として２つのメチル基を有するＳｉ原子としたこと以外は同じ構造を有する化合物についても、実験例１と同様の操作で９位炭素のマリケン電荷を算出した。
実験例１及び比較実験例１の結果
図２に示すように、Ｓｉスピロ環部位を有する化合物においてマリケン電荷が上昇した。マリケン電荷が上昇することにより、開環体から閉環体に平衡が移動しやすくなり、デューティサイクルが低下すると考えられる。
実験例２
＜化合物での抗体の標識＞
〔2-メルカプトエチルアミン（MEA）による抗体の還元〕
はじめにエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩（EDTA・2Na）を超純水に混合してエチレンジアミン四酢酸（EDTA） 0.10M、pH 6.0の溶液（以下、EDTA溶液）を調製した。次に、NaH2PO4・2H2O、EDTA・2Naを超純水に混合して0.10 M NaH2PO4、1.0 mM EDTA、pH 6.0の溶液（以下、反応溶液と呼ぶ）を調製した。続いて、反応溶液とMEAを混合し0.35 M MEAの溶液（以下、MEA溶液）を調製した。最後に、抗アミロイドβ抗体6E10溶液（Biolegend社）を、体積比でアミロイドβ抗体6E10溶液：EDTA溶液：MEA溶液＝体積比で100：1：10となるように混合し、ヒートブロックを用いて37℃で90分間加温した（以下、抗体溶液１と呼ぶ）。
〔未反応MEAの除去〕
Amicon Filters 10kDa（Merck Millipore社）を用いて、14k×gで遠心することにより未反応のMEAを除去した溶液を得た（以下、抗体溶液２と呼ぶ）。
〔化合物での抗体の標識反応〕
抗体溶液２の抗体濃度を吸光度に基づいて定量した。次に、抗体溶液２と実施例１及び実施例１９で合成した化合物を、モル比で抗体：化合物＝1：50になるように混合し、ヒートブロックを用いて37℃で１時間加温した。
〔未反応の化合物の除去〕
Amicon Filters 10kDa（Merck Millipore社）を用いて、標識反応後の抗体溶液を添加し、総量が0.50 mLとなるようPhosphate buffered saline（Sigama社）(以下、PBSと呼ぶ）を添加して14k×gで遠心することにより未反応の化合物を除去し、化合物で標識された抗体の溶液を得た（以下、抗体溶液３と呼ぶ）。以下、各化合物で標識された抗体を「標識抗体」と呼ぶ。
〔MALDI-TOF MSによる標識数の評価〕
はじめに、アセトニトリル及びトリフルオロ酢酸を超純水に混合して30%アセトニトリル及び0.10%トリフルオロ酢酸に調製した溶液（以下、TA30溶液と呼ぶ）を調製した。シナピン酸1.0 mgに対してTA30溶液を0.10 mL加え、10分間超音波をかけた。その後、遠心分離してその上清をマトリックスとして用いた。抗体溶液３を10μLとり、0.20%トリフルオロ酢酸の水溶液を用いて2倍に希釈した。マイクロピペッターにZipTip U-C18（Merck Millipore社）を装着し、10μLのTA30溶液で先端のレジンを洗浄したのち、標識抗体をレジンに吸着させた。その後、シナピン酸のマトリックスを3.0μL吸い取り、MALDIプレート（Bruker社）上に標識抗体を溶出させた。サンプルがプレート上で乾燥したのち、Ultraflex MALDI-TOF MS（Bruker社）を用いて標識数の測定を行い、それぞれ１〜３分子の化合物で抗体が標識されていることを確認した。
＜化合物１分子の明滅時間評価＞
〔１分子測定に用いるガラスの作製〕
カバーガラス（松浪硝子工業株式会社）を、UVオゾンクリーナーUV-1（Samco社）を用いて１分間洗浄した（以下、UVオゾン洗浄ガラスと呼ぶ）。測定には洗浄後12時間以上経たガラスを用いた。
〔標識抗体保持ガラス試料の調製〕
PBSを超純水に混合して調製したpH 7.4のPBS溶液を用いて抗体溶液３を１分子発光の輝点同士が重ならずに検出できる濃度に希釈した。UVオゾン洗浄ガラス上に100μL滴下し、遮光・室温環境で10分間静置した。超純水1.0 mLを用いて、希釈した抗体溶液３を３回洗い流し、標識抗体を表面に保持したガラス試料を得た（以下、標識抗体保持ガラス試料と呼ぶ）。
〔観察溶液の調製〕
トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンとNaClを超純水に混合して、50 mMトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン、10 mM NaCl、pH 7.4のトリス緩衝生理食塩水(以下、TBS溶液と呼ぶ)を調製した。TBS溶液を用いて表１の条件で観察溶液を調整した（以下、観察溶液と呼ぶ）。
Figure 2021123624
〔顕微鏡を用いた化合物１分子の発光観察〕
蛍光顕微鏡IX81（Olympus社）、レーザー発振器OBIS（Coherent社、レーザー波長640 nm）、EMCCDカメラiXon（Andor社）からなる顕微鏡システムを使用して観察を行った。標識抗体保持ガラス試料をステージに載せ、観察溶液を50μL滴下した。表２の撮像条件で観察を行った。
Figure 2021123624
〔１分子発光のデューティサイクルの評価〕
観察された輝点それぞれに対して、輝度の時間変化を解析した。蛍光色素である各化合物１分子は、発光状態と消光状態を繰り返す明滅現象を示す。励起光の照射開始時から最後に発光状態から消光状態へと変化するまでの時間を明滅持続時間と定義し、各化合物１分子の明滅時間を算出した。さらに、発光時間の積算（ＯＮ時間）を算出したのち、デューティサイクルを「ＯＮ時間/明滅持続時間」として算出した。その後、各化合物１分子のデューティーサイクルを平均して算出したものを、各化合物のデューティーサイクルとした(Tynan C.J.ら, PLoS one, 2012, Vol.7,e36265参照)。一般に、デューティサイクルが小さいほど、蛍光色素の１分子発光を検出しやすくなる。よって、デューティサイクルの小さい蛍光色素は、超解像イメージングに適しているとされる。
比較実験例２
図３に示す化合物Ａ（実施例１９の比較例）及び化合物Ｂ（実施例１の比較例）を用いた点以外は実験例２と同様の操作でデューティサイクルを測定した。その結果、図４に示すように、Ｓｉスピロ環部位を導入した実施例１９及び実施例１の化合物は、それぞれ化合物Ａ及び化合物Ｂと比べて低いデューティサイクルであることが確認された。
実験例３
実験例２と同様の操作で実施例１から実施例３６のデューティサイクルを測定した。その結果を図５に示す。なお、実施例３６の化合物は、Ｓｉ置換キサンテン骨格の３位と６位にヒドロキシ、或いはケトンを有しており、吸収極大波長が実施例１から実施例３５の化合物とは異なるため、研究用１分子蛍光顕微鏡HM-1000（シスメックス株式会社）を使用し、観察溶媒にProlong(商標) Live（Thermo Fisher Scientific社）を用いて、表２の条件で評価を行った。それらの点以外は実験例２と同様の操作でデューティサイクルを測定した。
実験例４
〈固定細胞における微小管の超解像イメージング〉
4%パラホルムアルデヒド含有PBS溶液を用いて固定化したHeLa細胞に対して、0.5% Triton X-100含有PBS溶液を添加して透過処理を行った。続いて、3％ BSA/0.5% Triton X-100含有PBS溶液を添加して、細胞をブロッキング処理したのち、一次抗体として抗チューブリン抗体（T5201, Thermo Fisher Scientific社）を0.2% BSA/0.1% TritonX-100含有PBS溶液で10μg/mLに希釈して添加した場合と、添加しない場合の２種類の細胞を用意した。さらに、二次抗体として、マレイミド基を介して実施例７及び実施例３６の化合物で標識した抗マウスIgG抗体（ab6708, Abcam社）をそれぞれ作製し、0.2% BSA/0.1% TritonX-100含有PBS溶液で10 μg/mLに希釈して添加した。最後に、観察溶媒としてPBSで希釈したProlong(商標) Liveを添加し、HM-1000（シスメックス社）にて透過光像と蛍光像を撮像した。蛍光像の撮像条件を表３に示す。
Figure 2021123624
その結果、一次抗体を加えずに二次抗体のみで蛍光撮像した場合では微小管構造が確認できず、一次抗体と二次抗体を加えたときにのみ微小管に特徴的な線維状の構造が可視化できたことから、実施例７又は実施例３６の化合物を標識した二次抗体を用いて微小管の抗体染色が可能であることが確認された（図６のｂ及びｃ、図７のｇ及びｈ参照）。続いて、取得した画像データを画像解析ソフトImageJ（Ovesny, Mら, Bioimage informatics, 2014, 30, 2389-2390参照）を用いて超解像画像への変換した（図６のｄ及び図７のｉ参照）。その際に、単一分子発光のみを抽出して超解像画像への変換に用いた。得られた超解像画像への変換前と変換後の画像中の微小管に対して、垂直方向のラインプロファイルとその半値幅を取得すると、変換前と比べて変換後の画像では半値幅が小さくなり、光の回折限界（約２００nm）よりも小さい解像度で微小管を可視化できていることから、実施例７及び実施例３６の化合物を用いて超解像画像が構築できることが確認された（図６のｅ及び図７のｊ参照）。

Claims (22)

  1. 以下の式（Ｉ）で示される化合物もしくはその互変異性体、又はその塩からなる蛍光色素：
    Figure 2021123624
     （式中、
    Ａは、置換基を有していてもよいＳｉを含むＣ４〜Ｃ７の複素環を示し、
    Ｘは、ヒドロキシ又は−ＮＲ1Ｒ2を示し、
    Ｙ1は、＝Ｏ又は＝Ｎ+Ｒ3Ｒ4を示し、
    Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立して、Ｈ、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル、又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のヘテロアルキルを示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4、Ｒ1とＲ5、及びＲ3とＲ6の組み合わせの少なくとも一つは、それらが結合するＮと一緒になって、置換基を有していてもよいＮを含む複素環を形成していてもよく、
    Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は、独立して、Ｈ、ハロゲン、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルコキシ、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルチオ、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいアリール、置換基を有していてもよいヘテロアリール、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2 -、−ＳＯ3Ｈ、−ＳＯ3 -、及び−Ｌ−Ｒからなる群から選択され；
    Ｌは、１〜１６個の非水素原子を有する、直鎖、分岐鎖、環又はこれらの任意の組み合わせ構造の２価のリンカーであり、ここで、リンカー中に１以上のヘテロ原子が存在する場合、当該ヘテロ原子はエステル、アミン、アミド、エーテル、チオエーテル、カルボニルからなる群から独立して選択される１以上の基として含まれ；
    Ｒは反応基であり；及び
    Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11のうち隣り合う２つの基の１以上の組み合わせは共に環を形成していてもよい；
    ただし、Ｒ1とＲ5、及びＲ3とＲ6の組み合わせの少なくとも一つが、それらが結合するＮと一緒になって、置換基を有していてもよいＮを含む複素環を形成し、かつＲ2及びＲ4が置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルである化合物及びその互変異性体並びにその塩を除く。）
  2. Ｘは−ＮＲ1Ｒ2であり、Ｙ1は＝Ｎ+Ｒ3Ｒ4である、請求項１に記載の蛍光色素。
  3. Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、独立して、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のＯを含むヘテロアルキルである、請求項２に記載の蛍光色素。
  4. Ｒ1とＲ2、及びＲ3とＲ4の組み合わせはいずれも、それらが結合するＮと一緒になって、置換基を有していてもよいＮを含む複素環を形成する、請求項３に記載の蛍光色素。
  5. Ｘはヒドロキシであり、Ｙ1は＝Ｏである、請求項１に記載の蛍光色素。
  6. Ａは、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル、Ｃ１〜Ｃ６のハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ、アミノ、アリール、ヘテロアリール、−ＣＯ2Ｈ及び−ＳＯ3Ｈから独立して選択される１以上の置換基により置換されていてもよいＳｉを含むＣ４〜Ｃ７の複素環である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の蛍光色素。
  7. Ａは、
    Figure 2021123624
     又は
    である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の蛍光色素。
  8. Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11において、
    置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のヘテロアルキル、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルコキシ、及び置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキルチオの置換基は、いずれも、独立して、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ、アミノ、アリール、ヘテロアリール、−ＣＯ2Ｈ及び−ＳＯ3Ｈから選択され、
    置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいＮを含む複素環、置換基を有していてもよいアリール、及び置換基を有していてもよいヘテロアリールの置換基は、いずれも、独立して、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル、Ｃ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ、アミノ、アリール、ヘテロアリール、−ＣＯ2Ｈ及び−ＳＯ3Ｈから選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の蛍光色素。
  9. Ｒ8及びＲ11はＨである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の蛍光色素。
  10. Ｒ7は−ＣＯ2 -であり、互変異性体が以下の式（ＩＩ）で示される化合物である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の蛍光色素。
    Figure 2021123624
     （式中、
    Ｙ2は、ヒドロキシ又は−ＮＲ3Ｒ4であり；及び
    Ａ、Ｘ、Ｒ5、Ｒ6及びＲ8〜Ｒ11の定義は式（Ｉ）と同じである。）
  11. Ｒが、ヒドロキシ、カルボキシル、スルホン酸、不飽和イミド、不飽和アミド、不飽和エステル、カルボン酸の活性化エステル、アミン、アルコール、ニトリル、メルカプタン、ボロナート、ホスホラミダイト、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化スルホニル、アルファ位にハロゲンを有するアミド又はエステル、イソシアナート、イソチオシアナート、アジド、アルデヒド、アシルニトリル、及び光活性化可能な基から選択される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の蛍光色素。
  12. −Ｌ−Ｒが、−ＣＯＮＨ−Ｌ’−Ｒであり、ここで、Ｌ’は１〜１３個の非水素原子を有する、直鎖、分岐鎖、環又はこれらの任意の組み合わせ構造の２価のリンカーであり、ここで、リンカー中に１つ以上のヘテロ原子が存在する場合、当該ヘテロ原子はエステル、アミン、アミド、エーテル、チオエーテル、及びカルボニルからなる群から独立して選択される１つ以上の基として含まれている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の蛍光色素。
  13. Ｒ9及びＲ10のいずれか１つが、
    Figure 2021123624
     又は
    である、請求項１２に記載の蛍光色素。
  14. 以下から選択される化合物もしくはその互変異性体、又はその塩からなる蛍光色素。
    Figure 2021123624
    Figure 2021123624
  15. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の蛍光色素と複合化物質が結合した標識複合化物質。
  16. 複合化物質がタンパク質又は核酸である請求項１５に記載の標識複合化物質。
  17. 請求項１〜１４のいずれかに記載の蛍光色素、又は請求項１５もしくは１６に記載の標識複合化物質を含む、組成物。
  18. 超解像顕微鏡法に用いられる試薬組成物である、請求項１７に記載の組成物。
  19. 前記超解像顕微鏡法が局在化顕微鏡法である、請求項１８に記載の組成物。
  20. 請求項１〜１４のいずれかに記載の蛍光色素、又は請求項１５もしくは１６に記載の標識複合化物質を被検物質と結合させ、超解像顕微鏡法により前記被検物質に関する情報を取得する方法。
  21. 前記被検物質に関する情報が、前記被検物質の構造に関する情報である、請求項２０に記載の方法。
  22. 前記被検物質の構造に関する情報が、前記被検物質の大きさ、形態及び凝集度から選択される少なくとも１つの情報である、請求項２１に記載の方法。
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