JP2021105711A - ブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜、当該遮光膜を有するカラーフィルターおよびタッチパネル、当該カラーフィルターおよびタッチパネルを有する表示装置 - Google Patents
ブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜、当該遮光膜を有するカラーフィルターおよびタッチパネル、当該カラーフィルターおよびタッチパネルを有する表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】高遮光性および低反射率を有し、凝集物の発生を抑制することが可能なブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】本願発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物は、(A)不飽和基含有感光性樹脂と、(B)少なくとも2個以上の不飽和結合を有する光重合性モノマーと、(C)光重合開始剤と、(D)黒色顔料、混色顔料および遮光材から選ばれる少なくとも1種の遮光成分と、(E)シリカ粒子と、(F)溶剤と、を含む。【選択図】なし
Description
本発明は、ブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜、当該遮光膜を有するカラーフィルターおよびタッチパネル、当該カラーフィルターおよびタッチパネルを有する表示装置に関する。
近年、モバイル端末の発達により、屋外や車載にて使用するタッチパネルおよび液晶パネル等の表示装置が増加している。上記表示装置において、タッチパネルの外枠には背面の液晶パネル周辺部の光漏れを遮光するために遮光膜が設けられ、上記液晶パネルには黒色表示時に画面から光が漏れるのを抑制するため、および隣接し合うカラーレジスト同士の混色を抑制するために、ブラックマトリックスが設けられている。
表示装置等において、光漏れ等を抑制して上記表示装置等の画面の視認性を改善するために、遮光膜中の黒色顔料の濃度を高くして、遮光膜の遮光性を上げる(遮光膜の光透過性を下げる)ことがある。透明基材や硬化性樹脂の屈折率と比較して、黒色顔料の屈折率は高いため、遮光膜中の黒色顔料濃度を高くしていくと、透明基材の遮光膜が形成された面とは反対の面側から見たときの反射率が高くなってしまう。そのため、透明基材上に形成した遮光膜と透明基材の界面における反射が増加し、遮光膜上への映り込みや、カラーフィルター着色部との反射率の差異でブラックマトリックス境界が目立つという不具合が生じる。
このため、高遮光性と低反射率との両方を有するブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜並びにカラーフィルターが要望されている。
たとえば、特許文献1では、疎水性のシリカ粒子および特定の分散剤(ウレタン系分散剤)を含むことを特徴とする黒色感光性樹脂組成物が開示されている。特許文献1によると、疎水性シリカ粒子および特定の分散剤を用いることにより高遮光性および低反射率を両立するブラックマトリックスを形成できるとされている。
しかしながら、本発明者らが検討したところ、特許文献1に記載の黒色感光性樹脂組成物では、所望する遮光性と反射率の両方を有する遮光膜を得ることができなかった。また、特許文献1に記載の黒色感光性樹脂組成物では、シリカ粒子に由来する凝集物が発生し、太線部や額縁部における光漏れや開口部の異物の原因となることがあった。
そこで、本発明者らは、従来の感光性樹脂組成物における課題を解決するために鋭意検討した結果、シリカ粒子は粒子表面に存在するシラノール基を介して容易に凝集する特徴を有しており、一般的には、シランカップリング剤によって被覆することで有機溶剤中に分散することを可能にしている。しかし、表面に存在する全てのシラノール基をシランカップリング剤で被覆することは困難であり、極性の異なる樹脂組成物と混合した際に分散状態が不安定化し、凝集する傾向があった。レジスト溶剤として比誘電率の高い極性溶剤を適切な範囲で混合することにより、シリカ粒子表面のシラノール基を溶媒和によって安定化することができ、シリカ粒子の凝集を抑制できることを見出した。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、高遮光性および低反射率を有し、凝集物の発生を抑制できるブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜、当該遮光膜を有するカラーフィルターおよびタッチパネル、当該カラーフィルターおよびタッチパネルを有する表示装置を提供することを目的とする。
本発明に係るブラックレジスト用感光性樹脂組成物は、(A)不飽和基含有感光性樹脂と、(B)少なくとも2個以上の不飽和結合を有する光重合性モノマーと、(C)光重合開始剤と、(D)黒色顔料、混色顔料および遮光材から選ばれる少なくとも1種の遮光成分と、(E)シリカ粒子と、(F)溶剤と、を必須成分として含み、前記(F)溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである第1溶剤と、23℃における比誘電率が10〜30である第2溶剤と、を含み、前記(F)溶剤全体の23℃における比誘電率は、8.5以上である。
本発明に係る遮光膜は、上記ブラックレジスト用感光性樹脂組成物を硬化してなる。
本発明に係るカラーフィルターは、上記遮光膜をブラックマトリックスとして有する。
本発明に係るタッチパネルは、上記遮光膜をブラックマトリックスとして有する。
本発明に係る表示装置は、上記カラーフィルターまたは上記タッチパネルを有する。
本発明によれば、高遮光性および低反射率を有し、凝集物の発生を抑制することが可能なブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜、当該遮光膜を有するカラーフィルターおよびタッチパネル、当該カラーフィルターおよびタッチパネルを有する表示装置を提供することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物(以下、感光性樹脂組成物と略称する)は、(A)不飽和基含有感光性樹脂と、(B)少なくとも2個以上の不飽和結合を有する光重合性モノマーと、(C)光重合開始剤と、(D)黒色顔料、混色顔料および遮光材から選ばれる少なくとも1種の遮光成分と、(E)シリカ粒子と、(F)溶剤と、を必須成分として含む。以下、(A)〜(F)成分について、説明する。
1.(A)成分
本実施の形態に係る(A)成分である不飽和基含有感光性樹脂は、1分子中に重合性不飽和基と、アルカリ可溶性を発現するための酸性基を有していることが好ましく、重合性不飽和基とカルボキシ基との両方を含有していることがより好ましい。上記樹脂であれば、特に限定されることなく、広く使用することができる。
本実施の形態に係る(A)成分である不飽和基含有感光性樹脂は、1分子中に重合性不飽和基と、アルカリ可溶性を発現するための酸性基を有していることが好ましく、重合性不飽和基とカルボキシ基との両方を含有していることがより好ましい。上記樹脂であれば、特に限定されることなく、広く使用することができる。
上記不飽和基含有感光性樹脂の例には、ビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物(以下、「一般式(1)で表されるビスフェノール型エポキシ化合物」ともいう)に、(メタ)アクリル酸を反応させ、得られたヒドロキシ基を有する化合物に多塩基カルボン酸またはその無水物を反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート酸付加物がある。ビスフェノール類から誘導されるエポキシ化合物とは、ビスフェノール類とエピハロヒドリンとを反応させて得られるエポキシ化合物またはこれと同等物を意味する。なお、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸およびメタクリル酸の総称であり、これらの一方または両方を意味する。
(A)成分である不飽和基含有感光性樹脂は、一般式(1)で表されるビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と、(メタ)アクリル酸との反応物をさらに多塩基カルボン酸またはその無水物と反応させて得られた不飽和基含有感光性樹脂であることが好ましい。
一般式(1)で表されるビスフェノール型エポキシ化合物は、ビスフェノール類とエピクロルヒドリンとを反応させて得られる2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物である。この反応の際には、一般にジグリシジルエーテル化合物のオリゴマー化を伴うため、ビスフェノール骨格を2つ以上含むエポキシ化合物を含んでいる。
この反応に用いられるビスフェノール類の例には、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルシラン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジメチルシラン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ジメチルシラン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)エーテル、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン、4,4’−ビフェノール、3,3’−ビフェノールなどが含まれる。この中でも、フルオレン−9,9−ジイル基を有するビスフェノール類が好ましい。
また、このようなエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られたエポキシ(メタ)アクリレート分子中のヒドロキシ基とを反応させる(a)ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物の例には、鎖式炭化水素ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物、脂環式ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物、芳香族ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物等が含まれる。ここで、鎖式炭化水素ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物の例には、コハク酸、アセチルコハク酸、マレイン酸、アジピン酸、イタコン酸、アゼライン酸、シトラリンゴ酸、マロン酸、グルタル酸、クエン酸、酒石酸、オキソグルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、スベリン酸、ジグリコール酸等の酸一無水物が含まれる。さらには、任意の置換基が導入されたジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物等が含まれる。また、脂環式ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物の例には、シクロブタンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ノルボルナンジカルボン酸等の酸一無水物が含まれる。さらには、任意の置換基が導入されたジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物等も含まれる。また、芳香族ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物の例には、フタル酸、イソフタル酸、トリメリット酸等の酸一無水物が含まれる。さらには、任意の置換基が導入されたジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸一無水物が含まれる。
また、エポキシ(メタ)アクリレートに反応させる(b)テトラカルボン酸の酸二無水物としては、鎖式炭化水素テトラカルボン酸の酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸の酸二無水物または芳香族テトラカルボン酸の酸二無水物が使用される。ここで、鎖式炭化水素テトラカルボン酸の酸二無水物の例には、ブタンテトラカルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ヘキサンテトラカルボン酸等の酸二無水物が含まれる。さらには、任意の置換基が導入されたテトラカルボン酸の酸二無水物等が含まれる。また、脂環式テトラカルボン酸の酸二無水物の例には、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロへプタンテトラカルボン酸、ノルボルナンテトラカルボン酸等の酸二無水物が含まれる。さらには、任意の置換基が導入されたテトラカルボン酸の酸二無水物等が含まれる。また、芳香族テトラカルボン酸の酸二無水物の例には、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸等の酸二無水物が含まれる。さらには、任意の置換基が導入されたテトラカルボン酸の酸二無水物等が含まれる。
エポキシ(メタ)アクリレートに反応させる(a)ジカルボン酸またはトリカルボン酸の酸無水物と(b)テトラカルボン酸の酸二無水物とのモル比(a)/(b)は、0.01以上10.0以下であることが好ましく、0.02以上3.0未満であることがより好ましい。モル比(a)/(b)を上記範囲内にすると、良好なパターニング性を有する感光性樹脂組成物とするための最適分子量を得ることができる。なお、モル比(a)/(b)が小さいほど分子量は大きくなり、アルカリ溶解性は低下する傾向にある。
また、エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応、およびこの反応で得られたエポキシ(メタ)アクリレートと多塩基カルボン酸またはその酸無水物との反応は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。また、上記反応で合成される不飽和基含有感光性樹脂は、その重量平均分子量(Mw)は2000〜10000が好ましく、酸価は30〜200mgKOH/gであることが好ましい。なお、不飽和基含有感光性樹脂の重量平均分子量(Mw)は、例えば、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)「HLC−8220GPC」(東ソー株式会社製)を用いて求めることができる。また、不飽和基含有感光性樹脂の酸価は、例えば、電位差滴定装置「COM−1600」(平沼産業株式会社製)を用いて求めることができる。
(A)成分である不飽和基含有感光性樹脂として好ましい樹脂の別の例には、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル等の共重合体であって、(メタ)アクリロイル基およびカルボキシ基を有する樹脂が含まれる。上記樹脂の例には、グリシジル(メタ)アクリレートを含む(メタ)アクリル酸エステル類を溶剤中で共重合させて得られた共重合体に、(メタ)アクリル酸を反応させ、最後にジカルボン酸またはトリカルボン酸の無水物を反応させて得られる重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂が含まれる。上記共重合体は、特開2014−111722号公報に示されている、両端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化されたジエステルグリセロールに由来する繰返し単位20〜90モル%、およびこれと共重合可能な1種類以上の重合性不飽和化合物に由来する繰返し単位10〜80モル%で構成され、数平均分子量(Mn)が2000〜20000かつ酸価が35〜120mgKOH/gである共重合体、および特開2018−141968号公報に示されている、(メタ)アクリル酸エステル化合物に由来するユニットと、(メタ)アクリロイル基およびジまたはトリカルボン酸残基を有するユニットと、を含む、重量平均分子量(Mw)3000〜50000、酸価30〜200mgKOH/gの重合体である重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂を参考にできる。
(A)成分の不飽和基含有感光性樹脂については、1種類のみを単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。
2.(B)成分
本実施の形態に係る(B)成分における少なくとも2個以上の不飽和結合を有する光重合性モノマーの例には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類、エチレン性二重結合を有する化合物として(メタ)アクリル基を有する樹枝状ポリマー等が含まれる。これらの光重合性モノマーの1種類のみを単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。また、当該少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーは、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂の分子同士を架橋する役割を果たすことができるものであり、この機能を発揮させるためには不飽和結合を3個以上有するものを用いることが好ましい。また、モノマーの分子量を1分子中の(メタ)アクリロイル基の数で除したアクリル当量が50〜300g/eqであることが好ましく、アクリル当量は80〜200g/eqであることがより好ましい。なお、(B)成分は遊離のカルボキシ基を有しない。
本実施の形態に係る(B)成分における少なくとも2個以上の不飽和結合を有する光重合性モノマーの例には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類、エチレン性二重結合を有する化合物として(メタ)アクリル基を有する樹枝状ポリマー等が含まれる。これらの光重合性モノマーの1種類のみを単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。また、当該少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーは、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂の分子同士を架橋する役割を果たすことができるものであり、この機能を発揮させるためには不飽和結合を3個以上有するものを用いることが好ましい。また、モノマーの分子量を1分子中の(メタ)アクリロイル基の数で除したアクリル当量が50〜300g/eqであることが好ましく、アクリル当量は80〜200g/eqであることがより好ましい。なお、(B)成分は遊離のカルボキシ基を有しない。
(B)成分として組成物に含ませることができる不飽和結合を有する化合物として(メタ)アクリロイル基を有する樹枝状ポリマーの例には、多官能(メタ)アクリレートの(メタ)アクリロイル基の中の炭素−炭素二重結合の一部に多価メルカプト化合物を付加して得られる樹枝状ポリマーが含まれる。具体的には、一般式(3)で表される多官能(メタ)アクリレートの(メタ)アクリロイル基と一般式(4)で表される多価メルカプト化合物を反応させて得られる樹枝状ポリマーなどが含まれる。
一般式(3)で表される多官能(メタ)アクリレートの例には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルが含まれる。これらの化合物は、その1種類のみを単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。
一般式(4)で表される多価メルカプト化合物の例には、トリメチロールプロパントリ(メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパントリ(メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラ(メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールトリ(メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラ(メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メルカプトアセテート)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メルカプトプロピオネート)等が含まれる。これらの化合物は、その1種類のみを単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。
(A)成分と(B)成分との配合割合は、重量比(A)/(B)で、30/70〜90/10であることが好ましく、60/40〜80/20であることがより好ましい。(A)成分の配合割合が30/70以上であると、光硬化後の硬化物が脆くなりにくく、また、未露光部において塗膜の酸価が低くなりにくいためにアルカリ現像液に対する溶解性の低下を抑制できる。よって、パターンエッジがギザつくことや、シャープにならないといった不具合が生じにくい。また、(A)成分の配合割合が90/10以下であると、樹脂に占める光反応性官能基の割合が十分なので、所望する架橋構造の形成を行うことができる。また、樹脂成分における酸価度が高過ぎないので、露光部におけるアルカリ現像液に対する溶解性が高くなりにくいことから、形成されたパターンが目標とする線幅より細くなることや、パターンの欠落を抑制することができる。
3.(C)成分
本実施の形態に係る(C)光重合開始剤の例には、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類;2−(o−クロロフェニル)−4,5−フェニルビイミダゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルビイミダゾール、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルビイミダゾール、2,4,5−トリアリールビイミダゾール等のビイミダゾール系化合物類;2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物類;2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(3,4,5−トリメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メチルチオスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等のハロメチル−S−トリアジン系化合物類;エタノン,1−[9−エチル−6−(2-メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)、1,2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−,2−(O−ベンゾイルオキシム)、1−(4−フェニルスルファニルフェニル)ブタン−1,2−ジオン−2−オキシム−O−ベンゾアート、1−(4−メチルスルファニルフェニル)ブタン−1,2−ジオン−2−オキシム−O−アセタート、1−(4−メチルスルファニルフェニル)ブタン−1−オンオキシム−O−アセタート、4−エトキシ−2−メチルフェニル−9−エチル−6−ニトロ−9H−カルバゾロ−3−イル−O−アセチルオキシム等のO−アシルオキシム系化合物類;ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン等のイオウ化合物;2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類;アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物;2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物、トリエタノールアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン等が含まれる。これらの光重合開始剤は、その1種類のみを単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。
本実施の形態に係る(C)光重合開始剤の例には、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類;2−(o−クロロフェニル)−4,5−フェニルビイミダゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルビイミダゾール、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルビイミダゾール、2,4,5−トリアリールビイミダゾール等のビイミダゾール系化合物類;2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物類;2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(3,4,5−トリメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メチルチオスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等のハロメチル−S−トリアジン系化合物類;エタノン,1−[9−エチル−6−(2-メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)、1,2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−,2−(O−ベンゾイルオキシム)、1−(4−フェニルスルファニルフェニル)ブタン−1,2−ジオン−2−オキシム−O−ベンゾアート、1−(4−メチルスルファニルフェニル)ブタン−1,2−ジオン−2−オキシム−O−アセタート、1−(4−メチルスルファニルフェニル)ブタン−1−オンオキシム−O−アセタート、4−エトキシ−2−メチルフェニル−9−エチル−6−ニトロ−9H−カルバゾロ−3−イル−O−アセチルオキシム等のO−アシルオキシム系化合物類;ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン等のイオウ化合物;2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類;アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物;2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物、トリエタノールアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン等が含まれる。これらの光重合開始剤は、その1種類のみを単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。
好ましく用いることができるO−アシルオキシム系化合物類の例としては、一般式(5)および一般式(6)で表されるO−アシルオキシム系光重合開始剤がある。これらの化合物類の中においても、遮光成分を高濃度で用いる場合には、365nmにおけるモル吸光係数が10000以上であるO−アシルオキシム系光重合開始剤を用いることが好ましい。なお、本発明でいう「光重合開始剤」とは、増感剤を含む意味で使用される。
(C)成分の光重合開始剤の使用量は、(A)および(B)の各成分の合計100重量部を基準として3重量部以上30重量部以下であることが好ましく、5重量部以上20重量部以下であることがより好ましい。(C)成分の配合割合が3重量部以上の場合には、感度が良好であり、十分な光重合の速度を有することができる。(C)成分の配合割合が30重量部以下の場合には、適度な感度を有することができるので、所望するパターン線幅および所望するパターンエッジを得ることができる。
4.(D)成分
本実施の形態に係る(D)成分である黒色顔料、混色顔料および遮光材等の遮光成分は、1〜1000nmの平均粒子径(レーザー回折・散乱法粒径分布計または動的光散乱法粒径分布計測定された平均粒子径)で分散されたものであれば、公知の遮光成分を特に制限なく使用することができる。
本実施の形態に係る(D)成分である黒色顔料、混色顔料および遮光材等の遮光成分は、1〜1000nmの平均粒子径(レーザー回折・散乱法粒径分布計または動的光散乱法粒径分布計測定された平均粒子径)で分散されたものであれば、公知の遮光成分を特に制限なく使用することができる。
(D)成分である黒色顔料の例には、ペリレンブラック、シアニンブラック、アニリンブラック、ラクタムブラック、カーボンブラック、チタンブラックなどが含まれる。
(D)成分である混色顔料の例には、アゾ顔料、縮合アゾ顔料、アゾメチン顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料、イソインドリノン顔料、イソインドリン顔料、ジオキサジン顔料、スレン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、キノフタロン顔料、ジケトピロロピロール顔料、チオインジゴ顔料などの有機顔料から選択される少なくとも2色が混合された顔料が含まれる。
上記(D)成分は、目的とする感光性樹脂組成物の機能に応じて、その1種類のみを単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。
なお、(D)成分として混色顔料を用いる場合に使用可能な有機顔料の例には、カラーインデックス名で以下のナンバーのものが含まれるが、これに限定されない。
ピグメント・レッド2、3、4、5、9、12、14、22、23、31、38、112、122、144、146、147、149、166、168、170、175、176、177、178、179、184、185、187、188、202、207、208、209、210、213、214、220、221、242、247、253、254、255、256、257、262、264、266、272、279等
ピグメント・オレンジ5、13、16、34、36、38、43、61、62、64、67、68、71、72、73、74、81等
ピグメント・イエロー1、3、12、13、14、16、17、55、73、74、81、83、93、95、97、109、110、111、117、120、126、127、128、129、130、136、138、139、150、151、153、154、155、173、174、175、176、180、181、183、185、191、194、199、213、214等
ピグメント・グリーン7、36、58等
ピグメント・ブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、60、80等
ピグメント・バイオレット19、23、37等
ピグメント・レッド2、3、4、5、9、12、14、22、23、31、38、112、122、144、146、147、149、166、168、170、175、176、177、178、179、184、185、187、188、202、207、208、209、210、213、214、220、221、242、247、253、254、255、256、257、262、264、266、272、279等
ピグメント・オレンジ5、13、16、34、36、38、43、61、62、64、67、68、71、72、73、74、81等
ピグメント・イエロー1、3、12、13、14、16、17、55、73、74、81、83、93、95、97、109、110、111、117、120、126、127、128、129、130、136、138、139、150、151、153、154、155、173、174、175、176、180、181、183、185、191、194、199、213、214等
ピグメント・グリーン7、36、58等
ピグメント・ブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、60、80等
ピグメント・バイオレット19、23、37等
(D)成分の遮光成分の配合割合については、所望の遮光度によって任意に決めることができるが、感光性樹脂組成物中の固形分に対して20重量%以上80質量%以下であることが好ましく、40重量%以上70質量%以下であることがより好ましい。(D)成分の遮光成分として、アニリンブラック、シアニンブラック、ラクタムブラック等の有機顔料またはカーボンブラック等のカーボン系遮光成分を用いる場合は、感光性樹脂組成物中の固形分に対して40重量%以上60質量%以下であることが特に好ましい。遮光成分が、感光性樹脂組成物中の固形分に対して20質量%以上であると、遮光性を十分に得ることができる。遮光成分が、感光性樹脂組成物中の固形分に対して80質量%以下であると、本来のバインダーとなる感光性樹脂の含有量が減少することがないため、所望する現像特性および膜形成能を得ることができる。
上記(D)成分は溶剤に分散させた遮光成分分散体として他の配合成分と混合するのが通常であり、その際には分散剤を添加することができる。分散剤は、顔料(遮光成分)分散に用いられている公知の化合物(分散剤、分散湿潤剤、分散促進剤等の名称で市販されている化合物等)等を特に制限なく使用することができる。
分散剤の例には、カチオン性高分子系分散剤、アニオン性高分子系分散剤、ノニオン性高分子系分散剤、顔料誘導体型分散剤(分散助剤)が含まれる。特に、分散剤は、着色剤への吸着点としてイミダゾリル基、ピロリル基、ピリジル基、一級、二級または三級のアミノ基等のカチオン性の官能基を有し、アミン価が1〜100mgKOH/g、数平均分子量(Mn)が1000〜100000の範囲にあるカチオン性高分子系分散剤であることが好ましい。この分散剤の配合量は、遮光成分に対して1〜35質量%であることが好ましく、2〜25質量%であることがより好ましい。なお、樹脂類のような高粘度物質は、一般に分散を安定させる作用を有するが、分散促進能を有しないものは分散剤として扱わない。しかし、分散を安定させる目的で使用することを制限するものではない。なお、分散剤のアミン価は、樹脂成分(固形分)1gを中和するのに必要な酸(酢酸等)の量に対して当量となるKOHのmg数を意味し、JIS−K7237に準拠して測定することができる。また、分散剤の数平均分子量(Mn)は、例えば、上述のゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)「HLC−8220GPC」を用いて求めることができる。
5.(E)成分
(E)成分であるシリカ粒子は、気相反応または液相反応といった製造方法や、形状(球状、非球状)は特に制限されない。
(E)成分であるシリカ粒子は、気相反応または液相反応といった製造方法や、形状(球状、非球状)は特に制限されない。
本発明で使用する(E)成分であるシリカ粒子の種類は特に限定されない。中実シリカを用いてもよいし、中空シリカ粒子を用いてもよい。なお、「中空シリカ粒子」とは、粒子の内部に空洞を有するシリカ粒子のことである。
上記シリカ粒子を使用することにより、当該シリカ粒子を含む遮光膜の屈折率を低くすることができる。
上記シリカ粒子の平均粒子径は、1〜100nmであることが好ましく、10〜90nmであることがより好ましい。平均粒子径が数nmといった小さい粒子径の場合と比較して、上記範囲内の大きさでは、シリカ粒子同士の凝集が生じにくいと考えられる。これにより、上記粒子径の範囲では、シリカ粒子は分散安定性に優れることから、遮光膜内において均一に存在できる。したがって、遮光膜上での反射率のバラツキは生じにくい。
上記シリカ粒子の平均粒子径は、動的光散乱法の粒度分布計「粒径アナライザーFPAR−1000」(大塚電子株式会社製)を用い、キュムラント法により測定することができる。
また、上記シリカ粒子の含有量は、感光性樹脂組成物の全質量に対して0.1〜5質量部であることが好ましく、0.1〜2質量部であることがより好ましい。シリカ粒子の含有量が上記範囲内にあると、低反射率化を達成しつつ、良好なパターニング性を担保することができる。
また、上記シリカ粒子の屈折率は1.10〜1.47のものを用いることができる。通常のシリカ粒子の屈折率1.45〜1.47のものを用いることができる他、低い屈折率を有する中空シリカ粒子を使用することにより、通常のシリカ粒子のみを含む遮光膜の屈折率よりも遮光膜の屈折率をより低くすることもできる。
また、シリカ粒子の屈折率は、上記シリカ粒子を粉末状に処理したものと、屈折率が既知の標準屈折液を混合することにより得られた透明の混合液から求めることができる。この場合、上記混合液の標準屈折液の屈折率をシリカ粒子の屈折率とする。なお、上記シリカ粒子の屈折率は、アッベ屈折率計を用いて測定することができる。
また、感光性樹脂組成物がシリカ粒子を含むことにより、透明基材と形成される遮光膜との屈折率の差によって生じる反射を抑制することができるので、反射防止膜等を別途基材上に設けなくても反射を抑制することができる。
上記シリカ粒子の形状は、真球形状であってもよいし、楕円形状であってもよい。本発明で使用するシリカ粒子の形状は真球形状であることが好ましい。
上記シリカ粒子は、真球度が1.0〜1.5であることが好ましい。シリカ粒子の真球度がこの範囲であれば、粒子形状は真球に近くなる。このため、膜厚の薄い遮光膜中に均質に充填できるようになり、被膜表面平滑性を維持しながら、上記シリカ粒子が被膜表面から外部に露出しない遮光膜を形成できる。そのため、屈折率が低く、十分な強度を有す遮光膜を得ることができる。
上記シリカ粒子の真球度は、粒子の最長径と最短径の割合(任意の100個のシリカ粒子の平均値)から求めることができる。ここで、シリカ粒子の最長径と最短径とは、シリカ粒子を透過型電子顕微鏡で撮影し、得られた顕微鏡写真からシリカ粒子の最長径と最短径を測定して求められた値である。
6.(F)成分
(F)成分である溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである第1溶剤と、23℃における比誘電率が10〜30である第2溶剤とを含む。
(F)成分である溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである第1溶剤と、23℃における比誘電率が10〜30である第2溶剤とを含む。
(F)溶剤のうち、第1溶剤はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである。第1溶剤の含有量は、(F)成分の全質量に対して、10〜90質量%であることが好ましく、20〜80質量%であることがより好ましく、20〜74質量%であることがさらに好ましい。第1溶剤として、10〜90質量%のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含有することにより、バインダー樹脂の溶解性、および黒色顔料の分散性を向上させることができる。
また、上記第2溶剤の、23℃における比誘電率は10〜30であり、13〜20であることがより好ましく、13〜18であることがさらに好ましい。上記第2溶剤として、23℃における比誘電率が10〜30の溶剤を使用することにより、シリカ粒子表面のシラノール基を溶媒和によって安定化することができ、レジスト組成中におけるシリカ粒子の凝集を抑制することができる。
上記第2溶剤は、炭素数が3〜12の鎖状、分岐または環状構造を有する飽和ケトン類、または炭素数が3〜12の鎖状、分岐または環状構造を有する飽和または不飽和アルコール類を含むことが好ましい。
上記第2溶剤の例には、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の飽和ケトン類;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、乳酸エチル、3−メトキシ−3−メチルブタノール等の飽和アルコール類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類等が含まれる。上記第2溶剤の中では、シクロヘキサノン、乳酸エチル、3−メトキシ−3−メチルブタノール、プロピレングリコールモノエチルエーテルであることが好ましく、シクロヘキサノン、乳酸エチル、3−メトキシ−3−メチルブタノールであることがより好ましい。
上記第2溶剤の含有量は、(F)溶剤の全質量に対して、10〜50質量%であることが好ましく、20〜50質量%であることがより好ましく、25〜50質量%であることがさらに好ましい。第2溶剤の含有量を上記の範囲とすることで、シリカ粒子の凝集を抑制しつつ、良好な塗布性を付与することができる。
なお、上記(F)溶剤の比誘電率は、比誘電率計「Model871」(日本ルフト株式会社製)を用いて測定することができる。
また、本実施の形態では、(F)溶剤として、上記第1溶剤および上記第2溶剤以外の常圧における沸点が150℃〜350℃である第3溶剤を含むことができる。上記第3溶剤の常圧における沸点は、150〜350℃であることが好ましく、160〜300℃であることがより好ましい。常圧における沸点が150〜350℃である第3溶剤を含むことにより、レジストの乾燥性を制御し、真空乾燥時の突沸やコーターノズルにおける乾燥異物の発生を抑制することができる。
第3溶剤の例には、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−エトキシプロピオン酸エチル等の酢酸エステル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のグリコールエーテル類;α−もしくはβ−テルピネオール等のテルペン類等が含まれる。上記第3溶剤の中では、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルが好ましい。
上記の第3溶剤の含有量は、(F)溶剤の全質量に対して、1〜30質量%であることが好ましく、1〜20質量%であることが好ましい。上記第3溶剤を上記1〜30質量%の範囲で含有することにより、シリカ粒子の凝集を抑制することができる。
また、(F)溶剤全体の23℃における比誘電率は、8.5以上15.0以下であることが好ましく、8.8以上15.0以下であることがより好ましく、9.3以上15.0以下であることがさらに好ましい。上記(F)溶剤全体の23℃における比誘電率を8.5以上とすることにより、シリカ粒子表面に残存するシラノール基を溶媒和によって安定化することができ、シリカ粒子の凝集を抑制できる。また、23℃における比誘電率を15.0以下とすることにより、減圧下で溶剤を乾燥させるVCD工程における乾燥性や良好な塗布性を担保することができる。ここで、「溶剤全体」とは、第1溶剤および第2溶剤の混合溶剤、または第1溶剤、第2溶剤および第3溶剤の混合溶剤のことを意味する。
また、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じてエポキシ樹脂等の(A)成分以外の樹脂、硬化剤、硬化促進剤、熱重合禁止剤および酸化防止剤、可塑剤、シリカ以外の充填材、レベリング剤、消泡剤、界面活性剤、カップリング剤等の添加剤を配合することができる。
エポキシ樹脂等の(A)成分以外の樹脂の例には、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、ジフェニルフルオレン型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールアラルキル型エポキシ化合物、ナフタレン骨格を含むフェノールノボラック化合物(例えば、NC−7000L:日本化薬株式会社製)、ナフトールアラルキル型エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物(例えば、EPPN−501H:日本化薬株式会社製)、テトラキスフェノールエタン型エポキシ化合物、多価アルコールのグリシジルエーテル、多価カルボン酸のグリシジルエステル、メタクリル酸とメタクリル酸グリシジルの共重合体に代表される(メタ)アクリル酸グリシジルをユニットとして含む(メタ)アクリル基を有するモノマーの共重合体、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(例えば、セロキサイド2021P:株式会社ダイセル製)、ブタンテトラカルボン酸テトラ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)修飾ε−カプロラクトン(例えば、エポリードGT401:株式会社ダイセル製)、エポキシシクロヘキシル基を有するエポキシ化合物(例えば、HiREM−1:四国化成工業株式会社製)、ジシクロペンタジエン骨格を有する多官能エポキシ化合物(例えば、HP7200シリーズ:DIC株式会社製)、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物(例えば、EHPE3150:株式会社ダイセル製)、エポキシ化ポリブタジエン(例えば、NISSO−PB・JP−100:日本曹達株式会社製)、シリコーン骨格を有するエポキシ化合物等が含まれる。硬化剤の例には、エポキシ樹脂の硬化に寄与するアミン系化合物、多価カルボン酸系化合物、フェノール樹脂、アミノ樹脂、ジシアンジアミド、ルイス酸錯化合物等が含まれる。硬化促進剤の例には、三級アミン、四級アンモニウム塩、三級ホスフィン、四級ホスホニウム塩、ホウ酸エステル、ルイス酸、有機金属化合物、イミダゾール類、ジアザビシクロ系化合物等が含まれる。熱重合禁止剤および酸化防止剤の例には、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン、ヒンダードフェノール系化合物等が含まれる。可塑剤の例には、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、リン酸トリクレジル等が含まれる。充填材の例には、ガラスファイバー、マイカ、アルミナ等が含まれる。消泡剤およびレベリング剤の例には、シリコーン系、フッ素系、アクリル系の化合物が含まれる。界面活性剤の例には、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などが含まれる。カップリング剤の例には、3−(グリシジルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が含まれる。
本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤を除いた固形分(固形分には光硬化後に固形分となるモノマーを含む)中に、(A)成分である不飽和基含有感光性樹脂と、(B)成分である少なくとも2個以上不飽和結合を有する光重合性モノマーと、(C)成分である光重合開始剤と、(D)成分である黒色顔料、混色顔料および遮光材から選ばれる少なくとも1種の遮光成分と、(E)シリカ粒子と、を含むことが好ましい。溶剤の量は、目標とする粘度によって変化するが、感光性樹脂組成物の全質量に対して40〜90質量%であることが好ましい。
また、本発明の感光性樹脂組成物を硬化させてなる遮光膜は、例えば、感光性樹脂組成物の溶液を基板等に塗布し、溶剤を乾燥し、光(紫外線、放射線等を含む)を照射して硬化させることで得られる。フォトマスク等を使用して光が当たる部分と当たらない部分とを設けて、光が当たる部分だけを硬化させ、他の部分をアルカリ溶液で溶解させれば、所望のパターンが得られる。
また、本発明の遮光膜をブラックマトリックスとして有する、カラーフィルターまたはタッチパネルは、例えば、膜厚が1.0〜2.0μmである遮光膜を透明基材上に形成し、遮光膜形成後にレッド、ブルーおよびグリーン各画素をフォトリソグラフィーにより形成すること、また、遮光膜中にインクジェットプロセスでレッド、ブルーおよびグリーンのインクを打ち込むこと等により作製される。
なお、本発明の感光性樹脂組成物を硬化させてなる遮光膜は、液晶表示装置のブラックカラムスペーサーとして使用することもできる。たとえば、単一のブラックレジストを用いて、膜厚の異なる部分を複数作製して、一方をスペーサーとして機能させ、他方をブラックマトリックスとして機能させることもできる。
本発明の感光性樹脂組成物を硬化させてなる遮光膜の形成方法の例には、フォトリソグラフィー法が含まれる。フォトリソグラフィー法は、感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、溶媒を除去した(プレベーク)後、得られた塗膜の上にフォトマスクをあて、放射線を照射して露光部を硬化させ、さらにアルカリ水溶液を用いて未露光部を溶出させる現像を行ってパターンを形成し、熱処理(ポストベーク)を行う方法である。
上記基板の例には、ガラス基板、透明フィルム(例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォンなど)上にITOや金などの透明電極が蒸着あるいはパターニングされたものなどが含まれる。
感光性樹脂組成物を基板に塗布する方法の例には、公知の溶液浸漬法、スプレー法、ローラーコーター機、ランドコーター機、スリットコート機やスピナー機を用いる方法などが含まれる。これらの方法によって、所望の厚さに塗布した後、溶剤を除去する(プレベーク)ことにより、被膜が形成される。プレベークはオーブン、ホットプレート等による加熱、真空乾燥またはこれらの組み合わせることによって行うことができる。プレベークにおける加熱温度および加熱時間は使用する溶剤に応じて適宜選択されうるが、例えば、80〜120℃で、1〜10分間行われることが好ましい。
プレベーク後に行われる露光は、露光装置によって行われる。露光は、たとえばフォトリソグラフィー法では、フォトマスクを介して、基板上の塗膜を露光することによりパターンに対応した部分の塗膜のみを感光させて、塗膜に含まれる感光性樹脂組成物を光硬化させる方法で行われる。なお、露光に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができるが、当該放射線の波長の範囲は、250〜450nmであることが好ましい。
露光後は、アルカリ現像に適した現像液に適した現像液で、塗膜上の未露光部分を除去する。アルカリ現像に適した現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、ジエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の水溶液を用いることができる。これらの現像液は、樹脂層の特性に合わせて適宜選択されうるが、必要に応じて界面活性剤を添加することも有効である。現像温度は、20〜35℃であることが好ましく、市販の現像機や超音波洗浄機等を用いて微細な画像を精密に形成することができる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗される。現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができる。
このようにして現像した後、180〜250℃で、20〜100分間、熱処理(ポストベーク)が行われる。このポストベークは、パターニングされた硬化膜(遮光膜)と基板との密着性を高めるため等の目的で行われる。これはプレベークと同様に、オーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。本発明のパターニングされた硬化膜(遮光膜)は、フォトリソグラフィー法による各工程を経て形成される。そして、熱により重合または硬化(両者を合わせて硬化ということがある)を完結させ、所望のパターンを有する遮光膜を得ることができる。
本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物は、前述の通り、露光、アルカリ現像等の操作によって微細なパターンを形成するのに適しているだけでなく、従来のスクリーン印刷によりパターンを形成しても、同様の遮光性、密着性、電気絶縁性、耐熱性、耐薬品性に優れた遮光膜を得ることができる。
本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物は、コ−ティング材として好適に用いることができる。特に、液晶の表示装置あるいは撮影素子に使われるカラーフィルター用インキ、およびこれにより形成される遮光膜は、カラーフィルター、液晶プロジェクション用のブラックマトリックス等として有用である。また、本発明のブラックレジスト用感光性樹脂組成物は、カラー液晶ディスプレーのカラーフィルターインクの他に、有機EL素子に代表される有機電界発光装置、カラー液晶表示装置、カラーファクシミリ、イメージセンサー等の各種の多色表示体における各色分画用または遮光用のインク材料としても使用することができる。本発明のカラーフィルターによれば、着色層(ブラックレジスト層を含む)と基板の界面での外光の反射や、例えば、有機EL素子に用いた際に素子からの発光の反射を低減することができる。つまり、外光の反射の低減による明所コントラストの向上や、発光側からの光取り出し効率改善による発光効率の向上を実現することができる。
以下、実施例および比較例に基づいて、本発明の実施形態を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
まず、(A)成分である重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂の合成例から説明するが、これらの合成例における樹脂の評価は、断りのない限り以下の通りに行った。
[固形分濃度]
合成例中で得られた樹脂溶液1gをガラスフィルター〔重量:W0(g)〕に含浸させて秤量し〔W1(g)〕、160℃にて2時間加熱した後の重量〔W2(g)〕から次式より求めた。
固形分濃度(重量%)=100×(W2−W0)/(W1−W0)
合成例中で得られた樹脂溶液1gをガラスフィルター〔重量:W0(g)〕に含浸させて秤量し〔W1(g)〕、160℃にて2時間加熱した後の重量〔W2(g)〕から次式より求めた。
固形分濃度(重量%)=100×(W2−W0)/(W1−W0)
[酸価]
樹脂溶液をジオキサンに溶解させ、電位差滴定装置「COM−1600」(平沼産業株式会社製)を用いて1/10N−KOH水溶液で滴定して求めた。
樹脂溶液をジオキサンに溶解させ、電位差滴定装置「COM−1600」(平沼産業株式会社製)を用いて1/10N−KOH水溶液で滴定して求めた。
[分子量]
ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)「HLC−8220GPC」(東ソー株式会社製、溶媒:テトラヒドロフラン、カラム:TSKgelSuper H−2000(2本)+TSKgelSuper H−3000(1本)+TSKgelSuper H−4000(1本)+TSKgelSuper H−5000(1本)(東ソー株式会社製)、温度:40℃、速度:0.6ml/min)にて測定し、標準ポリスチレン(東ソー株式会社製、PS−オリゴマーキット)換算値として重量平均分子量(Mw)を求めた。
ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)「HLC−8220GPC」(東ソー株式会社製、溶媒:テトラヒドロフラン、カラム:TSKgelSuper H−2000(2本)+TSKgelSuper H−3000(1本)+TSKgelSuper H−4000(1本)+TSKgelSuper H−5000(1本)(東ソー株式会社製)、温度:40℃、速度:0.6ml/min)にて測定し、標準ポリスチレン(東ソー株式会社製、PS−オリゴマーキット)換算値として重量平均分子量(Mw)を求めた。
[平均粒子径]
シリカ粒子の平均粒子径は、動的光散乱法の粒度分布計「粒径アナライザーFPAR−1000」(大塚電子株式会社製)を用い、キュムラント法により求めた。
シリカ粒子の平均粒子径は、動的光散乱法の粒度分布計「粒径アナライザーFPAR−1000」(大塚電子株式会社製)を用い、キュムラント法により求めた。
合成例で使用する略号は次のとおりである。
BPFE :9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンとクロロメチルオキシランとの反応物。一般式(1)の化合物において、Xがフルオレン−9,9−ジイル基、R1〜R4が水素の化合物
AA :アクリル酸
BPDA :3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
THPA :テトラヒドロ無水フタル酸
TEAB :臭化テトラエチルアンモニウム
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
BPFE :9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンとクロロメチルオキシランとの反応物。一般式(1)の化合物において、Xがフルオレン−9,9−ジイル基、R1〜R4が水素の化合物
AA :アクリル酸
BPDA :3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
THPA :テトラヒドロ無水フタル酸
TEAB :臭化テトラエチルアンモニウム
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
[合成例]
還留冷却器付き500ml四つ口フラスコ中にBPFE(114.4g、0.23モル)、AA(33.2g、0.46モル)、PGMEA(157g)およびTEAB(0.48g)を仕込み、100〜105℃で20時間撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内にBPDA(35.3g、0.12モル)、THPA(18.3g、0.12モル)を仕込み、120〜125℃で6時間撹拌し、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂(A)を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は56.1質量%、酸価(固形分換算)は103mgKOH/g、GPC分析によるMwは3600であった。
還留冷却器付き500ml四つ口フラスコ中にBPFE(114.4g、0.23モル)、AA(33.2g、0.46モル)、PGMEA(157g)およびTEAB(0.48g)を仕込み、100〜105℃で20時間撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内にBPDA(35.3g、0.12モル)、THPA(18.3g、0.12モル)を仕込み、120〜125℃で6時間撹拌し、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂(A)を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は56.1質量%、酸価(固形分換算)は103mgKOH/g、GPC分析によるMwは3600であった。
表1、2に記載の配合量(単位は質量%)で実施例1〜14、比較例1〜8の感光性樹脂組成物を調製した。表中で使用した配合成分は以下のとおりである。
(重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂)
(A):上記合成例で得られたアルカリ可溶性樹脂溶液(固形分濃度56.1質量%)
(A):上記合成例で得られたアルカリ可溶性樹脂溶液(固形分濃度56.1質量%)
(光重合性モノマー)
(B):ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物(アロニックスM−405、東亜合成株式会社製、「アロニックス」は同社の登録商標)
(B):ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物(アロニックスM−405、東亜合成株式会社製、「アロニックス」は同社の登録商標)
(光重合開始剤)
(C):エタノン,1−[9−エチル−6−(2-メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)(IrgacureOXE−02、BASFジャパン社製、「Irgacure」は同社の登録商標)
(C):エタノン,1−[9−エチル−6−(2-メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)(IrgacureOXE−02、BASFジャパン社製、「Irgacure」は同社の登録商標)
(カーボンブラック分散液)
(D):カーボンブラック濃度25.0質量%、高分子分散剤濃度5.0質量%、分散樹脂(合成例のアルカリ可溶性樹脂(A)(固形分5.0質量%)のPGMEA分散液(固形分35.0質量%)
(D):カーボンブラック濃度25.0質量%、高分子分散剤濃度5.0質量%、分散樹脂(合成例のアルカリ可溶性樹脂(A)(固形分5.0質量%)のPGMEA分散液(固形分35.0質量%)
(E):シリカPGMEA分散液「YA050C」(株式会社アドマテックス製、固形分濃度40質量%、平均粒子径50nm)
(溶剤)
(第1の溶剤)
(F)−1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)
(第2の溶剤)
(F)−2:シクロヘキサノン(ANON)
(F)−3:乳酸エチル(EL)
(F)−4:3−メトキシ−3−メチルブタノール(MMB)
(F)−5:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)
(第3の溶剤)
(F)−6:ジエチレングリコールジメチルエーテル(MDM)
(F)−7:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(EDM)
(F)−8:ジエチレングリコールジエチルエーテル(EDE)
(F)−9:ジエチレングリコールジブチルエーテル(BDB)
(第1の溶剤)
(F)−1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)
(第2の溶剤)
(F)−2:シクロヘキサノン(ANON)
(F)−3:乳酸エチル(EL)
(F)−4:3−メトキシ−3−メチルブタノール(MMB)
(F)−5:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)
(第3の溶剤)
(F)−6:ジエチレングリコールジメチルエーテル(MDM)
(F)−7:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(EDM)
(F)−8:ジエチレングリコールジエチルエーテル(EDE)
(F)−9:ジエチレングリコールジブチルエーテル(BDB)
[評価]
評価に使用するためのブラックレジスト用感光性樹脂組成物を硬化してなる硬化膜(遮光膜)を次のように作製した。
評価に使用するためのブラックレジスト用感光性樹脂組成物を硬化してなる硬化膜(遮光膜)を次のように作製した。
(異物、光学濃度、反射率評価用の硬化膜(遮光膜)の作成)
表1、2に示した感光性樹脂組成物を、予め低圧水銀灯で波長254nmの照度1000mJ/cm2の紫外線を照射して表面を洗浄した、125mm×125mmのガラス基板「#1737」(コーニング社製)(以下「ガラス基板」という)上に、加熱硬化処理後の膜厚が1.2μmとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて90℃で1分間プレベークをして乾燥遮光膜を作製した。次いで、乾燥遮光膜の全面にi線照度30mW/cm2の超高圧水銀ランプで50mJ/cm2の紫外線を照射して、遮光膜の光硬化反応を行った。
表1、2に示した感光性樹脂組成物を、予め低圧水銀灯で波長254nmの照度1000mJ/cm2の紫外線を照射して表面を洗浄した、125mm×125mmのガラス基板「#1737」(コーニング社製)(以下「ガラス基板」という)上に、加熱硬化処理後の膜厚が1.2μmとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて90℃で1分間プレベークをして乾燥遮光膜を作製した。次いで、乾燥遮光膜の全面にi線照度30mW/cm2の超高圧水銀ランプで50mJ/cm2の紫外線を照射して、遮光膜の光硬化反応を行った。
次いで、露光した上記硬化膜(遮光膜)を25℃、0.04%水酸化カリウム溶液により1kgf/cm2のシャワー圧にて1分間現像処理を行った後、5kgf/cm2のスプレー水洗を行い、現像後の遮光膜を熱風乾燥機を用いて230℃で30分間、本硬化(ポストベーク)し、実施例1〜14、および比較例1〜8に係る硬化膜(遮光膜)を得た。
上記で得られた実施例1〜14、比較例1〜8のブラックレジスト用感光性樹脂組成物を硬化してなる硬化膜(遮光膜)について、以下の項目について評価した。
[異物評価]
(評価方法)
本硬化(ポストベーク)後の硬化膜(遮光膜)を、顕微鏡を用いて観察し、凝集物に由来する異物の有無を確認した。なお、△以上を合格とした。
(評価方法)
本硬化(ポストベーク)後の硬化膜(遮光膜)を、顕微鏡を用いて観察し、凝集物に由来する異物の有無を確認した。なお、△以上を合格とした。
(異物評価の評価基準)
○:硬化膜(遮光膜)に凝集物に由来する異物が確認されない
△:硬化膜(遮光膜)の一部に凝集物に由来する異物が確認される
×:硬化膜(遮光膜)の全面に凝集物に由来する異物が確認される
○:硬化膜(遮光膜)に凝集物に由来する異物が確認されない
△:硬化膜(遮光膜)の一部に凝集物に由来する異物が確認される
×:硬化膜(遮光膜)の全面に凝集物に由来する異物が確認される
[光学濃度評価]
(評価方法)
マクベス透過濃度計を用いて、作製した硬化膜(遮光膜)の光学濃度(OD)を評価した。また、基板に形成した硬化膜(遮光膜)の膜厚を測定し、光学濃度(OD)の値を膜厚で割った値をOD/μmとした。
(評価方法)
マクベス透過濃度計を用いて、作製した硬化膜(遮光膜)の光学濃度(OD)を評価した。また、基板に形成した硬化膜(遮光膜)の膜厚を測定し、光学濃度(OD)の値を膜厚で割った値をOD/μmとした。
光学濃度(OD)は次の式(1)で算出した。
光学濃度(OD)=−log10T(1)
(Tは透過率を示す)
光学濃度(OD)=−log10T(1)
(Tは透過率を示す)
[反射率評価]
(評価方法)
光学濃度(OD)評価用の遮光膜と同様にして作製した遮光膜付き基板に対して、紫外可視赤外分光光度計「UH4150」(株式会社日立ハイテクサイエンス製)を用いて入射角2°で基板(ガラス基板)側の反射率を測定した。
(評価方法)
光学濃度(OD)評価用の遮光膜と同様にして作製した遮光膜付き基板に対して、紫外可視赤外分光光度計「UH4150」(株式会社日立ハイテクサイエンス製)を用いて入射角2°で基板(ガラス基板)側の反射率を測定した。
[塗布ムラ評価]
(評価方法)
(塗布ムラ評価用の硬化膜(遮光膜)の作成)
表1、2に示した感光性樹脂組成物を、予め低圧水銀灯で波長254nmの照度1000mJ/cm2の紫外線を照射して表面を洗浄した、125mm×125mmのガラス基板「#1737」(コーニング社製)(以下「ガラス基板」という)上に、加熱硬化処理後の膜厚が1.2μmとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、VCDにて200Paで1分間真空乾燥し、ホットプレートを用いて90℃で1分間プレベークをして乾燥遮光膜を作製した。次いで、得られた乾燥遮光膜を230℃で30分間、本硬化(ポストベーク)し、実施例1〜14、および比較例1〜8に係る硬化膜(遮光膜)を得た。
(評価方法)
(塗布ムラ評価用の硬化膜(遮光膜)の作成)
表1、2に示した感光性樹脂組成物を、予め低圧水銀灯で波長254nmの照度1000mJ/cm2の紫外線を照射して表面を洗浄した、125mm×125mmのガラス基板「#1737」(コーニング社製)(以下「ガラス基板」という)上に、加熱硬化処理後の膜厚が1.2μmとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、VCDにて200Paで1分間真空乾燥し、ホットプレートを用いて90℃で1分間プレベークをして乾燥遮光膜を作製した。次いで、得られた乾燥遮光膜を230℃で30分間、本硬化(ポストベーク)し、実施例1〜14、および比較例1〜8に係る硬化膜(遮光膜)を得た。
(評価方法)
本硬化(ポストベーク)後の硬化膜(遮光膜)を、目視にて観察し、塗膜の均一性を確認した。なお、△以上を合格とした。
本硬化(ポストベーク)後の硬化膜(遮光膜)を、目視にて観察し、塗膜の均一性を確認した。なお、△以上を合格とした。
(塗布ムラ評価の評価基準)
○:硬化膜(遮光膜)にムラが確認されない
△:硬化膜(遮光膜)の一部にムラが確認される
×:硬化膜(遮光膜)が均一に製膜されておらず、全面にムラが確認される
○:硬化膜(遮光膜)にムラが確認されない
△:硬化膜(遮光膜)の一部にムラが確認される
×:硬化膜(遮光膜)が均一に製膜されておらず、全面にムラが確認される
上記評価結果を表3、4に示す。
実施例1〜14に示されるように、23℃における比誘電率が10〜30である第2溶剤を含み、溶剤全体の23℃における比誘電率を8.5以上とすることにより、高遮光性および低反射率を有し、凝集物の発生が抑制された遮光膜を得ることができることがわかった。これは、第2溶剤の比誘電率を10〜30に、溶剤全体の比誘電率を23℃における比誘電率を8.5以上とすることで、シリカ粒子の表面に残存するシラノール基を溶媒和によって安定化することができるためであると考えられる。
とくに、23℃における比誘電率が13以上である第2溶剤を含み、全溶剤の質量に対する第2溶剤の含有量が20〜50質量%である実施例1〜3、7〜11、13、14においては、比較例4〜8に見られるような凝集物の発生は顕著に抑制され、光学濃度の低下も見られなかった。これは、比誘電率が高い上記第2溶剤によって、シリカ粒子表面のシラノール基がより効果的に溶媒和されたためであると考えられる。
第3溶剤を含む実施例9〜14においては、第2溶剤の効果としてシリカ粒子由来の凝集物が抑制されているのに加え、高い沸点を有する第3溶剤の効果で乾燥性も改善されており、塗布ムラを抑制することができている。
本発明の感光性樹脂組成物によれば、高遮光性および低反射率を両立するブラックマトリックス用感光性樹脂組成物およびこれを用いた遮光膜並びにカラーフィルター、タッチパネルを提供することができる。また、このカラーフィルターおよびタッチパネルによれば、視認性に優れた各種表示装置を提供することができる。
Claims (9)
- (A)不飽和基含有感光性樹脂と、
(B)少なくとも2個以上の不飽和結合を有する光重合性モノマーと、
(C)光重合開始剤と、
(D)黒色顔料、混色顔料および遮光材から選ばれる少なくとも1種の遮光成分と、
(E)シリカ粒子と、
(F)溶剤と、
を必須成分として含み、
前記(F)溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである第1溶剤と、
23℃における比誘電率が10〜30である第2溶剤と、
を含み、
前記(F)溶剤全体の23℃における比誘電率は、8.5以上であることを特徴とするブラックレジスト用感光性樹脂組成物。 - 前記(A)不飽和基含有感光性樹脂は、一般式(1)で表されるビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と、(メタ)アクリル酸との反応物をさらに多塩基カルボン酸またはその無水物と反応させて得られた樹脂である、請求項1に記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。
- 前記(F)溶剤として、前記第1溶剤または前記第2溶剤以外の第3溶剤を含み、前記第3溶剤の常圧における沸点は、150℃〜350℃であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。
- 前記第2溶剤は、炭素数が3〜12の鎖状、分岐または環状構造を有する飽和ケトン類を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。
- 前記第2溶剤は、炭素数が3〜12の鎖状、分岐または環状構造を有する飽和または不飽和アルコール類を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載のブラックレジスト用感光性樹脂組成物を硬化してなる遮光膜。
- 請求項6に記載の遮光膜をブラックマトリックスとして有する、カラーフィルター。
- 請求項6に記載の遮光膜をブラックマトリックスとして有する、タッチパネル。
- 請求項7に記載のカラーフィルターまたは請求項8に記載のタッチパネルを有する表示装置。
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---|---|---|---|
JP2019236814 | 2019-12-26 | ||
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-
2020
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