JP2021098321A - 積層体 - Google Patents
積層体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021098321A JP2021098321A JP2019231608A JP2019231608A JP2021098321A JP 2021098321 A JP2021098321 A JP 2021098321A JP 2019231608 A JP2019231608 A JP 2019231608A JP 2019231608 A JP2019231608 A JP 2019231608A JP 2021098321 A JP2021098321 A JP 2021098321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- modulus
- young
- resin
- evaluation sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 455
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 47
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 47
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 31
- 239000002345 surface coating layer Substances 0.000 claims description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 92
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 64
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 19
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 14
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 10
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 7
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 7
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- -1 fluororesin Polymers 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000007562 laser obscuration time method Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】割れにくい新規な構造体を提供する。【解決手段】積層体１Ａは、最上層３と、中間層５と、最下層７と、をこの順に積層した本体部９を有する。中間層５は、最上層３に比べてヤング率が低く、かつ、最下層７に比べてヤング率が低い低ヤング率層１１を１層以上備えている。また、低ヤング率層のヤング率（ＧＰａ）と前記最上層のヤング率（ＧＰａ）とは、下記式（１）を満たし、低ヤング率層のヤング率（ＧＰａ）と最下層のヤング率（ＧＰａ）とは、下記式（２）を満たす積層体。低ヤング率層のヤング率≦最上層のヤング率×０．８…式（１）、低ヤング率層のヤング率≦最下層のヤング率×０．８…式（２）。【選択図】図１
Description
本開示は、積層体に関する。
タイル等の構造体が知られている（例えば特許文献１参照）。
従来の構造体は、物体を落とすと割れてしまうおそれがあった。そのため、用途が限定されていた。
本開示は、上記課題を解決するためのものであり、割れにくい新規な構造体を提供することを目的とする。
最上層と、中間層と、最下層と、をこの順に積層した本体部を有し、前記中間層は、前記最上層に比べてヤング率が低く、かつ、前記最下層に比べてヤング率が低い低ヤング率層を１層以上備えている、積層体。
１．積層体１
積層体１は、最上層３と、中間層５と、最下層７と、をこの順に積層した本体部９を有する。中間層５は、低ヤング率層１１を１層以上備えている。低ヤング率層１１は、最上層３に比べてヤング率が低く、かつ、最下層７に比べてヤング率が低い。
積層体１は、最上層３と、中間層５と、最下層７と、をこの順に積層した本体部９を有する。中間層５は、低ヤング率層１１を１層以上備えている。低ヤング率層１１は、最上層３に比べてヤング率が低く、かつ、最下層７に比べてヤング率が低い。
（１）積層パターン
積層体１の積層パターンを例示する。第１実施形態の積層体１Ａは、図１に示すように、３層の積層構造を有する。積層体１Ａは、最上層３と、中間層５と、最下層７と、をこの順に積層してなる。この積層体１Ａでは、中間層５は、低ヤング率層１１となっている。積層体１Ａは、表面コーティング層３１が備えられていないため、本体部９のみからなる。
積層体１の積層パターンを例示する。第１実施形態の積層体１Ａは、図１に示すように、３層の積層構造を有する。積層体１Ａは、最上層３と、中間層５と、最下層７と、をこの順に積層してなる。この積層体１Ａでは、中間層５は、低ヤング率層１１となっている。積層体１Ａは、表面コーティング層３１が備えられていないため、本体部９のみからなる。
第２実施形態の積層体１Ｂは、図２に示すように、５層の積層構造を有する。積層体１Ｂは、最上層３と、中間層５と、最下層７と、をこの順に積層してなる。この積層体１Ｂでは、中間層５は、２層の低ヤング率層１１を備えている。積層体１Ｂでは、中間層５は、低ヤング率層１１と、低ヤング率層１１よりもヤング率が高い高ヤング率層１３と、低ヤング率層１１と、からなっている。積層体１Ｂは、表面コーティング層３１が備えられていないため、本体部９のみからなる。
第３実施形態の積層体１Ｃは、図３に示すように、７層の積層構造を有する。積層体１Ｃは、最上層３と、中間層５と、最下層７と、をこの順に積層してなる。この積層体１Ｃでは、中間層５は、３層の低ヤング率層１１を備えている。積層体１Ｃでは、中間層５は、低ヤング率層１１と、低ヤング率層１１よりもヤング率が高い高ヤング率層１３と、低ヤング率層１１と、低ヤング率層１１よりもヤング率が高い高ヤング率層１３と、低ヤング率層１１と、からなっている。積層体１Ｃは、表面コーティング層３１が備えられていないため、本体部９のみからなる。
上述の積層体１の積層パターンでは、３層、５層、７層の積層構造を例示した。積層体１は、これらの層数に限定されず、７層よりも多くてもよい。層数は、積層体１の製造コスト等の観点から、３層、５層、７層のいずれかが好ましい。
（２）各層のヤング率
（２．１）最上層３のヤング率
最上層３のヤング率は、特に限定されない。最上層３のヤング率は、積層体１の割れを防止する観点から、下限値に関して、１０ＧＰａ以上が好ましく、１２ＧＰａ以上がより好ましく、１４ＧＰａ以上が更に好ましい。最上層３のヤング率は、積層体１の製造コスト等の観点から、上限値に関して、２０ＧＰａ以下が好ましく、１８ＧＰａ以下がより好ましく、１６ＧＰａ以下が更に好ましい。最上層３のヤング率は、１０ＧＰａ以上２０ＧＰａ以下が好ましく、１２ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下がより好ましく、１４ＧＰａ以上１６ＧＰａ以下が更に好ましい。
（２．１）最上層３のヤング率
最上層３のヤング率は、特に限定されない。最上層３のヤング率は、積層体１の割れを防止する観点から、下限値に関して、１０ＧＰａ以上が好ましく、１２ＧＰａ以上がより好ましく、１４ＧＰａ以上が更に好ましい。最上層３のヤング率は、積層体１の製造コスト等の観点から、上限値に関して、２０ＧＰａ以下が好ましく、１８ＧＰａ以下がより好ましく、１６ＧＰａ以下が更に好ましい。最上層３のヤング率は、１０ＧＰａ以上２０ＧＰａ以下が好ましく、１２ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下がより好ましく、１４ＧＰａ以上１６ＧＰａ以下が更に好ましい。
（２．２）最下層７のヤング率
最下層７のヤング率は、特に限定されない。最下層７のヤング率は、積層体１の割れを防止する観点から、下限値に関して、１０ＧＰａ以上が好ましく、１２ＧＰａ以上がより好ましく、１４ＧＰａ以上が更に好ましい。最上層３のヤング率は、積層体１の製造コスト等の観点から、上限値に関して、２０ＧＰａ以下が好ましく、１８ＧＰａ以下がより好ましく、１６ＧＰａ以下が更に好ましい。最上層３のヤング率は、１０ＧＰａ以上２０ＧＰａ以下が好ましく、１２ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下がより好ましく、１４ＧＰａ以上１６ＧＰａ以下が更に好ましい。
最下層７のヤング率は、特に限定されない。最下層７のヤング率は、積層体１の割れを防止する観点から、下限値に関して、１０ＧＰａ以上が好ましく、１２ＧＰａ以上がより好ましく、１４ＧＰａ以上が更に好ましい。最上層３のヤング率は、積層体１の製造コスト等の観点から、上限値に関して、２０ＧＰａ以下が好ましく、１８ＧＰａ以下がより好ましく、１６ＧＰａ以下が更に好ましい。最上層３のヤング率は、１０ＧＰａ以上２０ＧＰａ以下が好ましく、１２ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下がより好ましく、１４ＧＰａ以上１６ＧＰａ以下が更に好ましい。
（２．３）低ヤング率層１１のヤング率
低ヤング率層１１のヤング率は、最上層３のヤング率よりも低く、かつ、最下層７のヤング率よりも低い。低ヤング率層１１のヤング率は、下記式（１）及び（２）を満たすことが好ましい。下記式（１）を満たすことで、最上層３のヤング率を１００％とした場合に、低ヤング率層１１のヤング率は０％よりも大きく８０％以下となる。下記式（２）を満たすことで、最下層７のヤング率を１００％とした場合に、低ヤング率層１１のヤング率は０％よりも大きく８０％以下となる。
０＜低ヤング率層のヤング率≦最上層のヤング率×０．８０…式（１）
０＜低ヤング率層のヤング率≦最下層のヤング率×０．８０…式（２）
低ヤング率層１１のヤング率は、最上層３のヤング率よりも低く、かつ、最下層７のヤング率よりも低い。低ヤング率層１１のヤング率は、下記式（１）及び（２）を満たすことが好ましい。下記式（１）を満たすことで、最上層３のヤング率を１００％とした場合に、低ヤング率層１１のヤング率は０％よりも大きく８０％以下となる。下記式（２）を満たすことで、最下層７のヤング率を１００％とした場合に、低ヤング率層１１のヤング率は０％よりも大きく８０％以下となる。
０＜低ヤング率層のヤング率≦最上層のヤング率×０．８０…式（１）
０＜低ヤング率層のヤング率≦最下層のヤング率×０．８０…式（２）
低ヤング率層１１のヤング率は、下記式（１’）及び（２’）を満たすことがより好ましい。下記式（１’）を満たすことで、最上層３のヤング率を１００％とした場合に、低ヤング率層１１のヤング率は１５％以上６０％以下となる。下記式（２’）を満たすことで、最下層７のヤング率を１００％とした場合に、低ヤング率層１１のヤング率は１５％以上６０％以下となる。
最上層のヤング率×０．１５≦低ヤング率層のヤング率≦最上層のヤング率×０．６０
…式（１’）
最下層のヤング率×０．１５≦低ヤング率層のヤング率≦最下層のヤング率×０．６０
…式（２’）
最上層のヤング率×０．１５≦低ヤング率層のヤング率≦最上層のヤング率×０．６０
…式（１’）
最下層のヤング率×０．１５≦低ヤング率層のヤング率≦最下層のヤング率×０．６０
…式（２’）
中間層５が、低ヤング率層１１を２層以上備えている場合、例えば図２，３の場合には、各低ヤング率層１１のヤング率が最上層３のヤング率よりも低く、かつ、最下層７のヤング率よりも低い。各低ヤング率層１１のヤング率は、下記式（１）及び（２）を満たすことが好ましく、下記式（１’）及び（２’）を満たすことがより好ましい。
中間層５が、低ヤング率層１１を２層以上備えている場合には、各低ヤング率層１１のヤング率は同一であっても、互いに異なっていてもよい。
中間層５が、高ヤング率層１３を備えている場合、例えば図２，３の場合、高ヤング率層１３のヤング率は、上述のように低ヤング率層１１よりも高い。高ヤング率層１３は、最上層３のヤング率と同じとすることができる。高ヤング率層１３のヤング率は、積層体１の割れを防止する観点から、１０ＧＰａ以上が好ましく、１２ＧＰａ以上がより好ましく、１４ＧＰａ以上が更に好ましい。最上層３のヤング率は、積層体１の製造コスト等の観点から、上限値に関して、２０ＧＰａ以下が好ましく、１８ＧＰａ以下がより好ましく、１６ＧＰａ以下が更に好ましい。最上層３のヤング率は、１０ＧＰａ以上２０ＧＰａ以下が好ましく、１２ＧＰａ以上１８ＧＰａ以下がより好ましく、１４ＧＰａ以上１６ＧＰａ以下が更に好ましい。
（２．４）ヤング率の求め方
ヤング率は、次のように求めることができる。セラミックス層の場合には、幅１３ｍｍ×長さ４５ｍｍ×厚み１０ｍｍとしたサンプルをスパン幅：３５ｍｍとした装置（島津製作所製 オートグラフ ＡＧ−Ｘ）に設置し、変位速度：０．５ｍｍ／分の条件で３点曲げ強度試験を実施する。３点曲げ強度測定結果より得られた応力ひずみ曲線の傾きよりヤング率を算出する。
ヤング率は、次のように求めることができる。セラミックス層の場合には、幅１３ｍｍ×長さ４５ｍｍ×厚み１０ｍｍとしたサンプルをスパン幅：３５ｍｍとした装置（島津製作所製 オートグラフ ＡＧ−Ｘ）に設置し、変位速度：０．５ｍｍ／分の条件で３点曲げ強度試験を実施する。３点曲げ強度測定結果より得られた応力ひずみ曲線の傾きよりヤング率を算出する。
樹脂層の場合には、次のようにして求める。樹脂層が「エポキシ樹脂」を主成分とする場合には、樹脂層と同等の成分で形成した幅１１ｍｍ×長さ８０ｍｍ×厚み５ｍｍとしたサンプルをスパン幅：７８ｍｍとした装置（ＩＮＳＴＲＯＮ社製 材料試験装置 ５９８２型）に設置し、サンプル裏面（引張面）にひずみゲージをはり、変位速度：１ｍｍ／分の条件で３点曲げ強度試験を室温下で実施する。ひずみゲージ（共和電業製 ＫＦＧＳ−２−１２０−Ｃ１１）より得られた曲げひずみ０．０５％〜０．２５％の範囲において最小二乗法によりヤング率を算出する。
樹脂層が「エポキシ樹脂」を主成分とし、かつ、「無機フィラー」を含有する場合には、樹脂層と同等の成分で形成した幅１１ｍｍ×長さ８０ｍｍ×厚み５ｍｍとしたサンプルをスパン幅：６９ｍｍとした装置（ＩＮＳＴＲＯＮ社製 材料試験装置 ５９８２型）に設置し、サンプル裏面（引張面）にひずみゲージ（共和電業製 ＫＦＧＳ−２−１２０−Ｃ１１）をはり、変位速度：１ｍｍ／分の条件で３点曲げ強度試験を室温下で実施する。ひずみゲージより得られた曲げひずみ０．０５％〜０．２５％の範囲において最小二乗法によりヤング率を算出する。
樹脂層が「変性シリコーン」を主成分とする場合には、樹脂層と同等の成分で形成した幅１０ｍｍ×長さ８０ｍｍ×厚み１０ｍｍとしたサンプルをスパン幅：６９ｍｍとした装置（ＩＮＳＴＲＯＮ社製 材料試験装置 ５９８２型）に設置し、サンプル裏面（引張面）にひずみゲージ（共和電業製 ＫＦＧＳ−２−１２０−Ｃ１１）をはり、変位速度：２ｍｍ／分の条件で３点曲げ強度試験を室温下で実施する。ひずみゲージより得られた曲げひずみ０．０５％〜０．２５％の範囲において最小二乗法によりヤング率を算出する。
（３）厚み
積層体１の本体部９の厚みは、特に限定されない。積層体１の本体部９の厚みは、積層体１をタイルとする場合には、２ｍｍ以上５０ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以上２０ｍｍ以下がより好ましい。積層体１に、表面コーティングが施されていない場合は、本体部９の厚みは積層体１の厚みとなる。表面コーティングが施されている場合は、表面コーティング層３１の厚みは特に限定されない。表面コーティング層３１の厚みは、1μｍ以上２ｍｍ以下が好ましく、５μｍ以上１ｍｍ以下がより好ましい。
積層体１の本体部９の厚みは、特に限定されない。積層体１の本体部９の厚みは、積層体１をタイルとする場合には、２ｍｍ以上５０ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以上２０ｍｍ以下がより好ましい。積層体１に、表面コーティングが施されていない場合は、本体部９の厚みは積層体１の厚みとなる。表面コーティングが施されている場合は、表面コーティング層３１の厚みは特に限定されない。表面コーティング層３１の厚みは、1μｍ以上２ｍｍ以下が好ましく、５μｍ以上１ｍｍ以下がより好ましい。
各層の厚みは、同じ厚みであっても、違う厚みであってもよい。例えば、３層の積層構造の場合には、各層は本体部９の１／３の厚みとしてもよい。５層の積層構造の場合には、各層は本体部９の１／５の厚みとしてもよい。７層の積層構造の場合には、各層は本体部９の１／７の厚みとしてもよい。
本体部９の厚み（Ｔ１）に対する低ヤング率層１１の厚み（Ｔ２）の比（Ｔ２／Ｔ１）は、特に限定されない。低ヤング率層１１が２層以上の場合、例えば図３，４の場合には、「低ヤング率層１１の厚み（Ｔ２）」とは、全ての低ヤング率層１１の厚みの合計値を意味する。比（Ｔ２／Ｔ１）は、積層体１を割れにくくする観点から、０．２以上０．９以下が好ましく、０．３以上０．８以下がより好ましい。
（４）各層の材質
（４．１）最上層３
最上層３の材質は、特に限定されない。最上層３は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方であることが好ましい。
セラミックス層は、例えば、以下の成分を有する。
ＳｉＯ２：５９質量％以上６９％質量％以下
Ａｌ２Ｏ３：１８質量％以上２８質量％以下
（４．１）最上層３
最上層３の材質は、特に限定されない。最上層３は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方であることが好ましい。
セラミックス層は、例えば、以下の成分を有する。
ＳｉＯ２：５９質量％以上６９％質量％以下
Ａｌ２Ｏ３：１８質量％以上２８質量％以下
最上層３が樹脂層である場合に、この層は樹脂を主成分とする。主成分とは、含有率（質量％）が５０質量％以上の物質をいう。樹脂は、特に限定されない。樹脂として、例えば、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルシリコン樹脂、アクリルウレタン樹脂、フッ素樹脂、及びアルキッド樹脂からなる群より選ばれた１種以上を好適に用いることができる。
（４．２）最下層７
最下層７の材質は、特に限定されない。最下層７は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方であることが好ましい。最下層７の材質は、最上層３の材質と同一であっても異なっていてもよい。
セラミックス層は、例えば、以下の成分を含有する。
ＳｉＯ２：５９質量％以上６９％質量％以下
Ａｌ２Ｏ３：１８質量％以上２８質量％以下
最下層７の材質は、特に限定されない。最下層７は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方であることが好ましい。最下層７の材質は、最上層３の材質と同一であっても異なっていてもよい。
セラミックス層は、例えば、以下の成分を含有する。
ＳｉＯ２：５９質量％以上６９％質量％以下
Ａｌ２Ｏ３：１８質量％以上２８質量％以下
最下層７が樹脂層である場合に、この層は樹脂を主成分とする。主成分とは、含有率（質量％）が５０質量％以上の物質をいう。樹脂は、特に限定されない。樹脂として、例えば、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルシリコン樹脂、アクリルウレタン樹脂、フッ素樹脂、及びアルキッド樹脂からなる群より選ばれた１種以上を好適に用いることができる。
（４．３）低ヤング率層１１
低ヤング率層１１の材質は、特に限定されない。低ヤング率層１１は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方であることが好ましい。
セラミックス層は、例えば、以下の成分を含有する。
ＳｉＯ２：６２質量％以上７２％質量％以下
Ａｌ２Ｏ３：１４質量％以上２４質量％以下
低ヤング率層１１は、最上層３に比べてヤング率が低く、かつ、最下層７に比べてヤング率が低くされる。最上層３、最下層７、低ヤング率層１１がいずれもセラミックス層の場合に、ヤング率の関係をこのようにするためには、例えば、上記成分のうちで、ＳｉＯ２及びＡｌ２Ｏ３の量を、低ヤング率層１１と最上層３で異なるようにし、かつ、低ヤング率層１１と最下層７でも異なるようにする。低ヤング率層１１、最上層３、最下層７の成分が同じであっても、各層の気孔率を調整することで、低ヤング率層１１のヤング率を、最上層３に比べて低く、かつ、最下層７に比べて低くできる。気孔率の調整は、例えば次のように行える。各層の原料にＳｉＣ（炭化ケイ素）を混合し、混合量を各層で異ならせることで、下記反応式に示すようにＳｉＣがＯ２（酸素）と反応して生ずるＣＯ２（二酸化炭素）の量をコントロールして、各層の気孔率を調整できる。層の成分が同じであれば、気孔率が小さい程、ヤング率が低い傾向にある。
ＳｉＣ＋２Ｏ２→ＳｉＯ２＋ＣＯ２↑ （ＣＯ２が生成して孔を形成）
低ヤング率層１１の材質は、特に限定されない。低ヤング率層１１は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方であることが好ましい。
セラミックス層は、例えば、以下の成分を含有する。
ＳｉＯ２：６２質量％以上７２％質量％以下
Ａｌ２Ｏ３：１４質量％以上２４質量％以下
低ヤング率層１１は、最上層３に比べてヤング率が低く、かつ、最下層７に比べてヤング率が低くされる。最上層３、最下層７、低ヤング率層１１がいずれもセラミックス層の場合に、ヤング率の関係をこのようにするためには、例えば、上記成分のうちで、ＳｉＯ２及びＡｌ２Ｏ３の量を、低ヤング率層１１と最上層３で異なるようにし、かつ、低ヤング率層１１と最下層７でも異なるようにする。低ヤング率層１１、最上層３、最下層７の成分が同じであっても、各層の気孔率を調整することで、低ヤング率層１１のヤング率を、最上層３に比べて低く、かつ、最下層７に比べて低くできる。気孔率の調整は、例えば次のように行える。各層の原料にＳｉＣ（炭化ケイ素）を混合し、混合量を各層で異ならせることで、下記反応式に示すようにＳｉＣがＯ２（酸素）と反応して生ずるＣＯ２（二酸化炭素）の量をコントロールして、各層の気孔率を調整できる。層の成分が同じであれば、気孔率が小さい程、ヤング率が低い傾向にある。
ＳｉＣ＋２Ｏ２→ＳｉＯ２＋ＣＯ２↑ （ＣＯ２が生成して孔を形成）
低ヤング率層１１が樹脂層である場合に、この層は樹脂を主成分とする。主成分とは、含有率（質量％）が５０質量％以上の物質をいう。樹脂は、特に限定されない。樹脂として、例えば、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルシリコン樹脂、アクリルウレタン樹脂、フッ素樹脂、及びアルキッド樹脂からなる群より選ばれた１種以上を好適に用いることができる。最上層３及び最下層７がいずれもセラミックス層であり、低ヤング率層１１が樹脂層の場合には、低ヤング率層１１は、最上層３に比べてヤング率が低く、かつ、最下層７に比べてヤング率が低くなる場合が多い。最上層３及び最下層７の少なくとも一方が樹脂層であり、低ヤング率層１１が樹脂層の場合に、各樹脂層のヤング率は、次のように調整できる。例えば、樹脂の種類の選定、添加物の種類の選定、及び添加物の量の調整のいずれか１つ以上によって、各樹脂層のヤング率をコントロールして、低ヤング率層１１が、最上層３に比べてヤング率が低く、かつ、最下層７に比べてヤング率が低くなるようにする。
（４．４）各層の好ましい材質
最上層３、最下層７、及び低ヤング率層１１は、いずれもセラミックス層であることが好ましい。この態様では、積層体１の曲げ強度が強くなる。
最上層３、最下層７、及び低ヤング率層１１は、いずれもセラミックス層であることが好ましい。この態様では、積層体１の曲げ強度が強くなる。
（５）表面コーティング層３１
積層体１Ｄは、表面コーティング層３１を備えていてもよい。例えば、図４の第４実施形態の場合である。表面コーティング層３１は、公知の方法によって形成できる。例えば、セラミックス及び樹脂の少なくとも１種を主成分とした原料を用いて、インクジェット加飾装置、スプレー等の公知のコーティング装置によって、表面コーティング層３１を形成できる。
積層体１Ｄは、表面コーティング層３１を備えていてもよい。例えば、図４の第４実施形態の場合である。表面コーティング層３１は、公知の方法によって形成できる。例えば、セラミックス及び樹脂の少なくとも１種を主成分とした原料を用いて、インクジェット加飾装置、スプレー等の公知のコーティング装置によって、表面コーティング層３１を形成できる。
２．積層体１の製造方法
積層体１の製造方法は、特に限定されない。積層体１は、例えば次のように製造できる。金型に最下層７用のセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行う。
続けて、最下層７よりも一つ上の次の層用のセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行う。更に一つ上の次の層用のセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行う。この操作を繰り返し、最後に、最上層３用のセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行って、成形体を作製する。成形体を焼成し、積層体１を作製する。
積層体１の製造方法は、特に限定されない。積層体１は、例えば次のように製造できる。金型に最下層７用のセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行う。
続けて、最下層７よりも一つ上の次の層用のセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行う。更に一つ上の次の層用のセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行う。この操作を繰り返し、最後に、最上層３用のセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行って、成形体を作製する。成形体を焼成し、積層体１を作製する。
樹脂層を用いた積層体１は、例えば次のように製造できる。金型にセラミックスの顆粒を入れて、所定の面圧にて一軸加圧を行って、成形体を作製する。成形体を焼成して焼成体を得る。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、複数の焼成体を重ねる。焼成体間に樹脂を流し込み、この樹脂を硬化させることで、セラミックス層及び樹脂層を有する積層体１を作製する。
３．積層体１が割れにくくなる推測理由
積層体１が割れにくくなる推測理由を説明する。図５に示すように、単層の物体４１に鋼球４３が衝突すると、衝突面４５からは、ヘルツ破壊４０が生じる。衝突面と反対の面４７からは、曲げ破壊４４が生じる。
積層体１が割れにくくなる推測理由を説明する。図５に示すように、単層の物体４１に鋼球４３が衝突すると、衝突面４５からは、ヘルツ破壊４０が生じる。衝突面と反対の面４７からは、曲げ破壊４４が生じる。
これに対して、本開示の積層体１では、鋼球４３が衝突しても割れにくくなる。ここでは、５層の積層構造の積層体１Ｂを例にして推測される理由を説明する。５層の積層体１Ｂの積層構造は、第２実施形態として既に説明したので、ここでは重複した説明を省略する。図６，７に示すように、鋼球４３が落球すると、最上層３にひずみエネルギー４２が発生し、このひずみエネルギー４２が下の層へ順に伝わっていく。この際、最上層３の直下の層が低ヤング率層１１Ａとなり変形しやすいため、図７に示すように、低ヤング率層１１Ａでひずみエネルギー４２が緩和されると考えられる。その結果、積層体１Ｂは、ヘルツ破壊に対して強くなると推測される。続いて、図８に示すように、ひずみエネルギー４２は高ヤング率層１３に伝わる。この際、高ヤング率層１３は変形しにくいため、ひずみエネルギー４２が伝わりにくい。低ヤング率層１１Ａから高ヤング率層１３へ移る際の界面が重要であり、この界面によりエネルギーが伝わりにくくなるものと推測される。続く低ヤング率層１１Ｂは変形しやすいため、ここでもひずみエネルギー４２が緩和されると考えられる。最後の最下層７は変形しにくいため、図９に示すように、ひずみエネルギー４２が伝わりにくくなると考えられる。ここでも低ヤング率層１１Ｂと最下層７の界面によってひずみエネルギー４２が伝わりにくくなると考えられる。最下層７のヤング率が高いことで、曲げ破壊に対して強くなると考えられる。以上の理由から、積層体１Ｂは、ヘルツ破壊及び曲げ破壊が抑制されて、その結果、割れにくくなると推測される。ここでは、５層構造の積層体１Ｂを例として説明した。その他の層数の積層体１でも同様にして割れにくくなると考えられる。
４．積層体１の効果、及び用途
本開示の積層体１は、物体を落としても割れにくい。積層体１の用途は、特に限定されない。積層体１は、例えば、住宅等の建築物におけるタイルとして好ましく用いられる。
本開示の積層体１は、物体を落としても割れにくい。積層体１の用途は、特に限定されない。積層体１は、例えば、住宅等の建築物におけるタイルとして好ましく用いられる。
以下、実施例により更に具体的に説明する。
１．評価試料の作製（セラミックス層のみからなる評価試料の作製）
次の層を有する図１０から図２１に示す評価試料を作製した。これらの図においては、高ヤング率層は符号Ｈで示し、第１低ヤング率層は符号Ｌ１で示し、第２低ヤング率層は符号Ｌ２で示し、第３低ヤング率層は符号Ｌ３で示す。高ヤング率層Ｈの成分は、ＳｉＯ２：６４質量％、Ａｌ２Ｏ３：２３質量％であった。低ヤング率層Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３の成分は、いずれもＳｉＯ２：６７質量％、Ａｌ２Ｏ３：１９質量％であった。各層のヤング率は、「（２．２）ヤング率の求め方」のセラミックス層の場合に沿って測定した。
次の層を有する図１０から図２１に示す評価試料を作製した。これらの図においては、高ヤング率層は符号Ｈで示し、第１低ヤング率層は符号Ｌ１で示し、第２低ヤング率層は符号Ｌ２で示し、第３低ヤング率層は符号Ｌ３で示す。高ヤング率層Ｈの成分は、ＳｉＯ２：６４質量％、Ａｌ２Ｏ３：２３質量％であった。低ヤング率層Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３の成分は、いずれもＳｉＯ２：６７質量％、Ａｌ２Ｏ３：１９質量％であった。各層のヤング率は、「（２．２）ヤング率の求め方」のセラミックス層の場合に沿って測定した。
（１）評価試料１（図１０参照、比較例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１を作製した。評価試料１の厚みは１０ｍｍにした。
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１を作製した。評価試料１の厚みは１０ｍｍにした。
（２）評価試料２（図１１参照、比較例）
第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料２を作製した。評価試料２の厚みは１０ｍｍにした。
第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料２を作製した。評価試料２の厚みは１０ｍｍにした。
（３）評価試料３（図１２参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料３を作製した。評価試料３の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ２ｍｍにした。
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料３を作製した。評価試料３の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ２ｍｍにした。
（４）評価試料４（図１３参照、比較例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料４を作製した。評価試料４の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ２ｍｍにした。
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料４を作製した。評価試料４の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ２ｍｍにした。
（５）評価試料５（図１４参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第１低ヤング率層Ｌ１の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第１低ヤング率層Ｌ１の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料５を作製した。評価試料５の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ２ｍｍにした。
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第１低ヤング率層Ｌ１の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第１低ヤング率層Ｌ１の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料５を作製した。評価試料５の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ２ｍｍにした。
（６）評価試料６（図１５参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第３低ヤング率層Ｌ３の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第３低ヤング率層Ｌ３の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料６を作製した。評価試料６の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ２ｍｍにした。
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第３低ヤング率層Ｌ３の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第３低ヤング率層Ｌ３の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料６を作製した。評価試料６の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ２ｍｍにした。
（７）評価試料７（図１６参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料７を作製した。評価試料７の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２．３ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．５ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２．３ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．５ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料７を作製した。評価試料７の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２．３ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．５ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２．３ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．５ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２．３ｍｍ
（８）評価試料８（図１７参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料８を作製した。評価試料８の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：０．７ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：４．０ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：０．７ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：４．０ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：０．７ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料８を作製した。評価試料８の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：０．７ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：４．０ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：０．７ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：４．０ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：０．７ｍｍ
（９）評価試料９（図１８参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料９を作製した。評価試料９の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：１．４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．４ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料９を作製した。評価試料９の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：１．４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．４ｍｍ
（１０）評価試料１０（図１９参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１０を作製した。評価試料１０の厚みは８ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：１．６ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．６ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．６ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．６ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．６ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１０を作製した。評価試料１０の厚みは８ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：１．６ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．６ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．６ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：１．６ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：１．６ｍｍ
（１１）評価試料１１（図２０参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１１を作製した。評価試料１１の厚みは２０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：４ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１１を作製した。評価試料１１の厚みは２０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：４ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：４ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：４ｍｍ
（１２）評価試料１２（図２１参照、比較例）
第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１２を作製した。評価試料１２の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２．５ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：２．５ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２．５ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：２．５ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１２を作製した。評価試料１２の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２．５ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：２．５ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２．５ｍｍ
第２低ヤング率層Ｌ２：２．５ｍｍ
２．評価試料の作製（セラミックス層と樹脂層を有する評価試料の作製）
次の層を有する図２２から図２３に示す評価試料を作製した。これらの図においては、高ヤング率層は符号Ｈで示し、第４低ヤング率層は符号Ｌ４で示す。高ヤング率層Ｈは、「１．評価試料の作製（セラミックス層のみからなる評価試料の作製）」において説明した層と同じである。第４低ヤング率層Ｌ４は、表２の第４低ヤング率層Ｌ４−１、第４低ヤング率層Ｌ４−２、第４低ヤング率層Ｌ４−３の３種類とした。第４低ヤング率層Ｌ４−２は、エポキシ樹脂４５質量部、無機フィラー（二酸化ケイ素）２０質量部の混合物を硬化させてなる。第４低ヤング率層Ｌ４のヤング率は、「（２．２）ヤング率の求め方」の樹脂層の場合に沿って測定した。
次の層を有する図２２から図２３に示す評価試料を作製した。これらの図においては、高ヤング率層は符号Ｈで示し、第４低ヤング率層は符号Ｌ４で示す。高ヤング率層Ｈは、「１．評価試料の作製（セラミックス層のみからなる評価試料の作製）」において説明した層と同じである。第４低ヤング率層Ｌ４は、表２の第４低ヤング率層Ｌ４−１、第４低ヤング率層Ｌ４−２、第４低ヤング率層Ｌ４−３の３種類とした。第４低ヤング率層Ｌ４−２は、エポキシ樹脂４５質量部、無機フィラー（二酸化ケイ素）２０質量部の混合物を硬化させてなる。第４低ヤング率層Ｌ４のヤング率は、「（２．２）ヤング率の求め方」の樹脂層の場合に沿って測定した。
（１）評価試料１３（図２２参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、２枚の焼成体を重ねた。焼成体間にエポキシ樹脂を流し込み、このエポキシ樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−１を有する評価試料１３を作製した。評価試料１３の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−１：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、２枚の焼成体を重ねた。焼成体間にエポキシ樹脂を流し込み、このエポキシ樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−１を有する評価試料１３を作製した。評価試料１３の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−１：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
（２）評価試料１４（図２３参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、３枚の焼成体を重ねた。焼成体間にエポキシ樹脂を流し込み、このエポキシ樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−１を有する評価試料１４を作製した。評価試料１４の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−１：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−１：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、３枚の焼成体を重ねた。焼成体間にエポキシ樹脂を流し込み、このエポキシ樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−１を有する評価試料１４を作製した。評価試料１４の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−１：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−１：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
（３）評価試料１５（図２２参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、２枚の焼成体を重ねた。焼成体間にエポキシ樹脂及び無機フィラーの混合物を流し込み、このエポキシ樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−２を有する評価試料１５を作製した。評価試料１５の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−２：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、２枚の焼成体を重ねた。焼成体間にエポキシ樹脂及び無機フィラーの混合物を流し込み、このエポキシ樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−２を有する評価試料１５を作製した。評価試料１５の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−２：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
（４）評価試料１６（図２３参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、３枚の焼成体を重ねた。焼成体間にエポキシ樹脂及び無機フィラーの混合物を流し込み、このエポキシ樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−２を有する評価試料１６を作製した。評価試料１６の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−２：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−２：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、３枚の焼成体を重ねた。焼成体間にエポキシ樹脂及び無機フィラーの混合物を流し込み、このエポキシ樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−２を有する評価試料１６を作製した。評価試料１６の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−２：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−２：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
（５）評価試料１７（図２２参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、２枚の焼成体を重ねた。焼成体間に変性シリコーン樹脂を流し込み、この変性シリコーン樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−３を有する評価試料１７を作製した。評価試料１７の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−３：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、２枚の焼成体を重ねた。焼成体間に変性シリコーン樹脂を流し込み、この変性シリコーン樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−３を有する評価試料１７を作製した。評価試料１７の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−３：３．３ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：３．３ｍｍ
（６）評価試料１８（図２３参照、実施例）
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、３枚の焼成体を重ねた。焼成体間に変性シリコーン樹脂を流し込み、この変性シリコーン樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−３を有する評価試料１８を作製した。評価試料１８の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−３：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−３：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧して得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し焼成体を得た。焼成体の間にスペーサーを挟みつつ、３枚の焼成体を重ねた。焼成体間に変性シリコーン樹脂を流し込み、この変性シリコーン樹脂を硬化させることで、高ヤング率層Ｈ及び第４低ヤング率層Ｌ４−３を有する評価試料１８を作製した。評価試料１８の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、次のようにした。
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−３：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
第４低ヤング率層Ｌ４−３：２ｍｍ
高ヤング率層Ｈ ：２ｍｍ
３．評価方法
（１）落球衝撃試験
各評価試料の上に、１００ｃｍの高さから１４０ｇの鉄球（鋼球）を落下させ、評価試料が割れるか否かを確認した。
（１）落球衝撃試験
各評価試料の上に、１００ｃｍの高さから１４０ｇの鉄球（鋼球）を落下させ、評価試料が割れるか否かを確認した。
（２）３点曲げ強度試験
評価試料１，３，１９について３点曲げ強度試験を行った。３点曲げ強度試験は、次のように行った。幅１３ｍｍ×長さ４５ｍｍ×厚み１０ｍｍとしたサンプルをスパン幅：３５ｍｍとした装置（島津製作所製 オートグラフ ＡＧ−Ｘ）に設置し、変位速度：０．５ｍｍ／分の条件で３点曲げ強度試験を実施する。評価試料１９は、以下のように作製した。
評価試料１，３，１９について３点曲げ強度試験を行った。３点曲げ強度試験は、次のように行った。幅１３ｍｍ×長さ４５ｍｍ×厚み１０ｍｍとしたサンプルをスパン幅：３５ｍｍとした装置（島津製作所製 オートグラフ ＡＧ−Ｘ）に設置し、変位速度：０．５ｍｍ／分の条件で３点曲げ強度試験を実施する。評価試料１９は、以下のように作製した。
（２．１）評価試料１９（図２４参照、実施例）の作製
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１９を作製した。評価試料１９の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ３．３ｍｍにした。
高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に第２低ヤング率層Ｌ２の原料を金型に入れて、４．９ＭＰaの面圧にて一軸加圧した。次に高ヤング率層Ｈの原料を金型に入れて、２４．５ＭＰａの面圧にて一軸加圧した。このようにして得られた成形体を電気炉で１２６５℃まで５℃／分にて昇温した後、１２６５℃で１時間保持し、炉冷する条件にて焼成し、評価試料１９を作製した。評価試料１９の厚みは１０ｍｍにした。各層の厚みは、それぞれ３．３ｍｍにした。
４．評価結果
（１）落球衝撃試験
結果を表３に示す。最上層が高ヤング率層、最下層が高ヤング率層、中間層に低ヤング率層が存在する評価試料３，５，６，７，８，９，１０，１１，１３，１４，１５，１６，１７，１８は、いずれも割れなかった。３，５，６，７，８，９，１０，１１，１４，１５，１６，１８は、落球衝撃試験を１００回繰り返しても割れなかった。１３, １７は、落球衝撃試験を５０回繰り返しても割れなかった。単層の評価試料１，２は、１回の落球衝撃試験で割れた。中間層に低ヤング率層が存在しない評価試料４は、１回の落球衝撃試験で割れた。最下層が低ヤング率層の評価試料１２は、１回の落球衝撃試験で割れた。
（１）落球衝撃試験
結果を表３に示す。最上層が高ヤング率層、最下層が高ヤング率層、中間層に低ヤング率層が存在する評価試料３，５，６，７，８，９，１０，１１，１３，１４，１５，１６，１７，１８は、いずれも割れなかった。３，５，６，７，８，９，１０，１１，１４，１５，１６，１８は、落球衝撃試験を１００回繰り返しても割れなかった。１３, １７は、落球衝撃試験を５０回繰り返しても割れなかった。単層の評価試料１，２は、１回の落球衝撃試験で割れた。中間層に低ヤング率層が存在しない評価試料４は、１回の落球衝撃試験で割れた。最下層が低ヤング率層の評価試料１２は、１回の落球衝撃試験で割れた。
（２）３点曲げ強度試験
結果を表４に示す。最上層が高ヤング率のセラミックス層、最下層が高ヤング率のセラミックス層、中間層に低ヤング率のセラミックス層が存在する評価試料３，１９は、同じ厚みで高ヤング率のセラミックス層のみからなる評価試料１よりも曲げ強度が高いことが確認された。
結果を表４に示す。最上層が高ヤング率のセラミックス層、最下層が高ヤング率のセラミックス層、中間層に低ヤング率のセラミックス層が存在する評価試料３，１９は、同じ厚みで高ヤング率のセラミックス層のみからなる評価試料１よりも曲げ強度が高いことが確認された。
１…積層体、１Ａ…積層体、１Ｂ…積層体、１Ｃ…積層体、１Ｄ…積層体、３…最上層、５…中間層、７…最下層、９…本体部、１１…低ヤング率層、１３…高ヤング率層、３１…表面コーティング層、Ｈ…高ヤング率層、Ｌ１…第１低ヤング率層、Ｌ２…第２低ヤング率層、Ｌ３…第３低ヤング率層、Ｌ４…第４低ヤング率層
Claims (6)
- 最上層と、中間層と、最下層と、をこの順に積層した本体部を有し、
前記中間層は、前記最上層に比べてヤング率が低く、かつ、前記最下層に比べてヤング率が低い低ヤング率層を１層以上備えている、積層体。 - 前記低ヤング率層のヤング率（ＧＰａ）と前記最上層のヤング率（ＧＰａ）とは、下記式（１）を満たし、
前記低ヤング率層のヤング率（ＧＰａ）と前記最下層のヤング率（ＧＰａ）とは、下記式（２）を満たす、請求項１に記載の積層体。
低ヤング率層のヤング率≦最上層のヤング率×０．８ …式（１）
低ヤング率層のヤング率≦最下層のヤング率×０．８ …式（２） - 前記最上層は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方であり、
前記最下層は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方であり、
前記低ヤング率層は、セラミックス層、及び樹脂を主成分とした樹脂層のうちのいずれか一方である、請求項１及び請求項２のいずれか一項に記載の積層体。 - 前記最上層は、セラミックス層であり、
前記最下層は、セラミックス層であり、
前記低ヤング率層は、セラミックス層である、請求項２に記載の積層体。 - 前記中間層は、前記低ヤング率層を２層以上備えている請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の積層体。
- 前記最上層の上には、表面コーティング層が備えられている、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の積層体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019231608A JP2021098321A (ja) | 2019-12-23 | 2019-12-23 | 積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019231608A JP2021098321A (ja) | 2019-12-23 | 2019-12-23 | 積層体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021098321A true JP2021098321A (ja) | 2021-07-01 |
Family
ID=76541797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019231608A Pending JP2021098321A (ja) | 2019-12-23 | 2019-12-23 | 積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2021098321A (ja) |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02209231A (ja) * | 1989-02-09 | 1990-08-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Ｂ↓４ｃクラッド鋼 |
| JPH04114960A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-15 | Mitsubishi Materials Corp | 多層ムライト基板及びその製造方法 |
| JPH09201891A (ja) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Bridgestone Corp | 積層構造体 |
| JPH09227244A (ja) * | 1996-02-22 | 1997-09-02 | Toshiba Corp | セラミックス複合材料およびその製造方法 |
| JPH11115125A (ja) * | 1997-10-21 | 1999-04-27 | Nitto Denko Corp | 表面保護用感圧接着シート用支持フィルムおよび表面保護用感圧接着シート |
| JP2000037800A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-08 | Murata Mfg Co Ltd | 複合積層体およびその製造方法 |
| JP2000343644A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-12 | Inoac Corp | 金属・プラスチック複合体及びその製造方法 |
| JP2001506198A (ja) * | 1996-12-16 | 2001-05-15 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 制振ガラス及びプラスチック積層物 |
| WO2017043575A1 (ja) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | 積水化学工業株式会社 | 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス |
-
2019
- 2019-12-23 JP JP2019231608A patent/JP2021098321A/ja active Pending
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02209231A (ja) * | 1989-02-09 | 1990-08-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Ｂ↓４ｃクラッド鋼 |
| JPH04114960A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-15 | Mitsubishi Materials Corp | 多層ムライト基板及びその製造方法 |
| JPH09201891A (ja) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Bridgestone Corp | 積層構造体 |
| JPH09227244A (ja) * | 1996-02-22 | 1997-09-02 | Toshiba Corp | セラミックス複合材料およびその製造方法 |
| JP2001506198A (ja) * | 1996-12-16 | 2001-05-15 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 制振ガラス及びプラスチック積層物 |
| JPH11115125A (ja) * | 1997-10-21 | 1999-04-27 | Nitto Denko Corp | 表面保護用感圧接着シート用支持フィルムおよび表面保護用感圧接着シート |
| JP2000037800A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-08 | Murata Mfg Co Ltd | 複合積層体およびその製造方法 |
| JP2000343644A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-12 | Inoac Corp | 金属・プラスチック複合体及びその製造方法 |
| WO2017043575A1 (ja) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | 積水化学工業株式会社 | 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3763687A1 (en) | Ceramic compositions and supports for objects to be fired in a kiln or furnace | |
| JPS60103090A (ja) | 高アルミナ含有焼結体及びその製造方法 | |
| EP3308917B1 (en) | Building material and method for producing building material | |
| DE102022104254B4 (de) | Verbundgitterstein für einen großen Kokereiofen und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| TW200909566A (en) | Multilayer fire-resistant material | |
| CN110981532B (zh) | 发泡剂、发泡料、复合发泡陶瓷及其制备方法 | |
| AU2012283408A1 (en) | Composite refractory for an inner lining of a blast furnace | |
| JP2009234817A (ja) | 電子部品焼成用道具材 | |
| JP2021098321A (ja) | 積層体 | |
| KR101679544B1 (ko) | 탄소-결합된 또는 수지-결합된 정형 내화성 제품의 생산을 위한 배치, 그러한 제품의 생산 방법, 상기 유형의 제품 및 마그네시아 스피넬 지르코늄 옥사이드의 용도 | |
| CN103771892B (zh) | 金属强化陶瓷板及其制备方法 | |
| KR20090044374A (ko) | 세라믹 함유 도료가 피복된 친환경 어구용 납발돌의 제조방법 | |
| JP6129941B1 (ja) | タイルパネルおよびその製造方法 | |
| JP5005012B2 (ja) | セラミックコンデンサーの焼成方法および焼成用セッター | |
| CN208501949U (zh) | 一种抗航弹侵彻的钢管陶瓷球玄武岩纤维混凝土防护板 | |
| CN106049788B (zh) | 一种防火免烧陶瓷板及其制作方法 | |
| KR20170023861A (ko) | 내화성 세라믹 생성물 | |
| JP4938234B2 (ja) | 軽量無機質板および該軽量無機質板の製造方法 | |
| EP1705311A1 (en) | Highly-adhesive ceramic tiles, method of producing same and product used for production thereof | |
| JP4870371B2 (ja) | 軽量無機質板および該軽量無機質板の製造方法 | |
| KR20220049170A (ko) | 다기능 타일 및 이의 제조법 | |
| JP2005347674A5 (ja) | ||
| JP4878734B2 (ja) | 無機質板の製造方法 | |
| KR102666804B1 (ko) | 인테리어 마감재 및 그 제조방법 | |
| JP4870334B2 (ja) | 無機質板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A80 | Written request to apply exceptions to lack of novelty of invention |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A80 Effective date: 20191226 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20210120 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221018 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230725 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230801 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230915 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231128 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20240312 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240607 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20240617 |