JP2021089149A - 電圧センサ - Google Patents

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洋貴 杉山
Hiroki Sugiyama
洋貴 杉山
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Abstract

【課題】感度低下及び大型化を抑えつつも、高電圧の測定を行うことが可能な電圧センサを提供する。【解決手段】機械的な支持手段10によって支持された振動子20と、振動子20に対して所定のギャップを介して対向配置された固定電極30と、固定電極30と異なる位置に配置され、振動子20を振動させるために交流の駆動電圧が印加される駆動電極40と、を備え、固定電極30に測定対象となる電圧を印加することで、静電引力を振動子20に作用させ、当該振動子20の共振周波数が変化することで、測定対象となる電圧を測定する電圧センサ1であって、固定電極30と振動子20とは、少なくとも互いの対向面が絶縁膜Iによって覆われている。【選択図】図2

Description

本発明は、電圧センサに関する。
従来、機械的なサスペンションによって支持された振動子と、この振動子に対して所定のギャップを介して対向配置された固定電極と、を具備し、固定電極に測定対象である電圧を印加することで、静電引力を振動子に作用させ、振動子の共振周波数が変化することで、測定対象である電圧を算出する電圧センサが提案されている(特許文献1参照)。
この電圧センサでは、測定対象となる電圧が固定電極に印加されると、この電圧による静電引力により、実質的にサスペンションのバネ定数が変化することとなり、振動子の共振周波数が変化することとなる。この変化は、測定対象となる電圧の大きさに相関があることから、変化した共振周波数から測定対象となる電圧の値を測定することができる。
特許第6370832号公報
しかし、特許文献1に記載のような電圧センサは、振動子と固定電極とのギャップが例えばマイクロメートルオーダーに小さいことから、固定電極に高電圧が印加された場合には振動子への放電が発生して素子破壊を招き得ることから、高電圧の測定が困難となっている。そこで、放電が発生し難いように、振動子と固定電極とのギャップを広げることが考えられるが、この場合には、電圧センサの感度低下及び大型化を招いてしまう。
本発明はこのような従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、感度低下及び大型化を抑えつつも、高電圧の測定を行うことが可能な電圧センサを提供することにある。
本発明の電圧センサは、機械的な支持手段によって支持された振動子と、前記振動子に対して所定のギャップを介して対向配置された固定電極と、前記固定電極と異なる位置に配置され、前記振動子を振動させるために交流の駆動電圧が印加される駆動電極と、を備え、前記固定電極に測定対象となる電圧を印加することで、静電引力を前記振動子に作用させ、当該振動子の共振周波数が変化することで、測定対象となる電圧を測定する電圧センサであって、前記固定電極と前記振動子とは、少なくとも互いの対向面が絶縁膜によって覆われている。
本発明によれば、固定電極と振動子とは少なくとも互いの対向面が絶縁膜によって覆われているため、対向面同士での放電を防止することができる。これにより、両者のギャップを広げなくとも放電が発生し得る箇所同士の距離(空間距離や沿面距離)を広げることとなり、感度低下及び大型化を抑えつつも、高電圧の測定を行うことができる。
本発明の実施形態に係る電圧センサの原理を示す基本構成図である。 本実施形態に係る電圧センサを示す平面図である。 図2に示した振動子のリング部と固定電極との一部拡大図である。 図2に示したリング部の撓みの様子を示す概念図である。 図2に示したリング部を示す斜視図である。 本実施形態に係る電圧センサの第1変形例を示す断面図である。 本実施形態に係る電圧センサの第2変形例を示す断面図である。 本実施形態に係る電圧センサの第3変形例を示す断面図である。
以下、本発明を好適な実施形態に沿って説明する。なお、本発明は以下に示す実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。また、以下に示す実施形態においては、一部構成の図示や説明を省略している箇所があるが、省略された技術の詳細については、以下に説明する内容と矛盾が発生しない範囲内において、適宜公知又は周知の技術が適用されていることはいうまでもない。
図1は、本発明の実施形態に係る電圧センサの原理を示す基本構成図である。図1に示すように、基本原理に係る電圧センサVSは、機械的なサスペンションVS1と、振動子VS2と、固定電極VS3とから構成されている。
サスペンションVS1は、振動子VS2を支持するものであって、所定のバネ定数kを有するものである。振動子VS2は、サスペンションVS1により支持された平板電極である。
固定電極VS3は、振動子VS2にある隙間を介して対向配置された平板電極であり、振動子VS2とは平行平板電極の関係を有している。なお、両者間の初期ギャップをgとする。
このような電圧センサVSにおいて固定電極VS3に測定対象となる電圧が印加されたとする。このとき、固定電極VS3から振動子VS2に対して静電引力が付与されて例えば両者間のギャップが距離xだけ変位する。これにより、振動子VS2と固定電極VS3との間の静電容量も変化する。
演算部(図示せず)は、このような静電容量の変化から測定対象となる電圧を算出することができる。
なお、演算部が静電容量の変化を信号として捉えるために、振動子VS2には交流電圧が印加される。この結果、振動子VS2は、サスペンションVS1の弾性力により振動することとなる。
図2は、本実施形態に係る電圧センサ1を示す平面図である。図2に示すように、電圧センサ1は、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)加工技術を利用して作成されるマイクロ電圧センサであって、基板Bに対して、支持手段10、振動子20、2つの固定電極30、2つの駆動電極40、及び、測定電極50を備えている。
支持手段10は、振動子20を支持するものである。なお、支持手段10のうち1つは共振周波数を測定するための測定電極50につながっている。本実施形態に係る振動子20は、リング部21と、電極部22とを備えている。リング部21は、円形状(例えば真円若しくは楕円)又は略円形状(例えば真円や楕円に近い多角形)の部材であって、支持手段10によって支持されることで浮いた状態となっている。なお、以下の説明においてリング部21は円形状(真円)であるものとして説明する。2つの電極部22は、リング部21を挟むように、リング部21の一側と他側とのそれぞれに設けられた電極である。2つの電極部22は、一側及び他側のそれぞれにおいて2段に形成されており、各段それぞれが多数の歯を有する櫛歯形状となっている。
2つの固定電極30は、測定対象となる電圧が印加される被測定電極である。これら2つの固定電極30は、電圧センサ1を平面視して、一側と他側とを結ぶ方向に対して直角方向にそれぞれ1つずつ(第1方向に1つ、第2方向に1つ)配置されている。
図3は、図2に示した振動子20のリング部21と固定電極30との一部拡大図である。図3に示すように、固定電極30は、円形状のリング部21の外形に合わせて、リング部21側が円弧形状となっており、円弧内側部位31が振動子20のリング部21と所定のギャップを有して対向配置されている。
再度図2を参照する。2つの駆動電極40は、2つの固定電極30とは異なる位置に配置されており、具体的にはリング部21を挟むように設けられている。これら2つの駆動電極40はそれぞれが電極部41を備えている。それぞれの電極部41は、振動子20の電極部22と対向配置されている。より詳細に各電極部41は、それぞれが多数の歯を有する櫛歯形状となっており、電極部22の櫛歯と噛み合うように配置されている。さらに、本実施形態に係る電圧センサ1は、2つの駆動電極40を接続する接続部42を第2方向側端部に有しており、実質上2つの駆動電極40は1つの部材となっている。
図4は、図2に示したリング部21の振動の様子を示す概念図である。図4に示すように、2つの駆動電極40に対して同位相の交流の駆動電圧(正負が変化する駆動電圧)が印加されると、2つの駆動電極40を結ぶ直線上において、円内側方向にリング部21を縮めるように力が作用し、その後、円外側方向にリング部21を拡げるように力が作用し、これが繰り返されることとなる。このため、円内側方向に力が作用した場合には、リング部21は図4において縦長の楕円形状となり、円外側方向に力が作用した場合には、リング部21は図4において横長の楕円形状となる。このようにリング部21は、縦長の楕円形状と横長の楕円形状とを交互に繰り返すようなワイングラスモードの振動をすることとなる。
さらに、本実施形態において上記支持手段10は4つであり、4つの支持手段10は、振動子20のうち振動振幅が最小となる4つの節QPに接続されている。このため、4つの支持手段10は、円形状の振動子20の振動を阻害し難くなっている。なお、支持手段10は、振動子20を支持できれば、4つに限らず、1つ、2つ又は3つであってもよい。
ここで、振動子20の共振周波数fは、以下の式となる。
Figure 2021089149
iは、振動モードによって決まるパラメータ(ワイングラスモード共振ではi=2)であり、Rは、リング部21の半径であり、Eはヤング率であり、Iは断面二次モーメントである。また、mはリング円周の単位長さあたりの質量であり、hはリング高さであり、wはリング幅である。
図5はリング部21を示す斜視図である。図5に示すように、詳細には、wがリング部21の径方向の厚みを示し、hが径方向を含む平面に対して垂直となる長さを示し、リング部21の半径を示すRは、リング部21の中心点から、リング部21の幅中央までの距離を示す。
上記のような共振周波数fは、図1を参照して説明した例と同様に、2つの固定電極30に測定対象となる電圧が印加されると、この電圧の大きさに応じて変化する。電圧センサ1に接続される演算部(図示せず)は、この変化から測定対象となる電圧を演算により求めることとなる。
ここで、上記のような電圧センサ1は、振動子20のリング部21と固定電極30とのギャップが例えばマイクロメートルオーダーに小さい。このため、固定電極30に高電圧が印加された場合には振動子20側に放電してしまう可能性がある。一方で、放電を防止するためにリング部21と固定電極30とのギャップを広げるとすると、感度低下を招くと共に、電圧センサ1の大型化を招いてしまう。
そこで、本実施形態に係る電圧センサ1は、略全体が絶縁膜Iによって覆われており(図2に示す破線矩形箇所以外が絶縁膜Iによって覆われており)、固定電極30の一部及び測定電極50の一部のみが露出した状態となっている。固定電極30及び測定電極50の露出部は絶縁膜Iが設けられていない導通窓CW1,CW2となっている。固定電極30の導通窓CW1は測定電圧を印加するための電気接続部となる。測定電極50の導通窓CW2は共振周波数を測定するための電気接続部となる。
このように構成することにより、放電については導通窓CW1と導通窓CW2との間のみで発生し得ることとなる。特に、導通窓CW1,CW2の距離は、リング部21と固定電極30との距離よりも大きくなることから、リング部21と固定電極30との距離を広げることなく、放電を抑えて高電圧の測定を可能とすることができる。
なお、絶縁膜Iについては金属蒸着のように樹脂の粒子を散布することで形成することができる。この場合において導通窓CW1,CW2は、導通窓CW1,CW2となる部分にマスクが施されて形成されることとなるが、特にこれに限らず、絶縁膜Iの形成後に、樹脂が削り取られて形成されてもよい。また、絶縁層Iとなる樹脂は、半導体プロセス中に成膜される二酸化ケイ素や窒化ケイ素のほか、後工程で製膜されるパレリン等であってもよい。
ここで、導通窓CW1,CW2同士は極力離れていることが好ましい。図2に示す例において測定電極50は、電圧センサ1の第1方向寄りに設けられている。このため、固定電極30の導通窓CW1は、第2方向側の固定電極30に設けられることが好ましい。このように、電圧センサ1を第1方向側と、その反対側の第2方向側とに均等面積で2分した場合、導通窓CW1,CW2は、2分した一方と他方とにそれぞれ設けられることが好ましい。これにより、一層放電を抑えて高電圧の測定を可能とすることができるからである。
図6は、本実施形態に係る電圧センサ1の第1変形例を示す断面図である。図6に示すように、電圧センサ1の基板Bはいわゆるハンドル層であって、ハンドル層上に犠牲層SCが設けられ、犠牲層SC上にデバイス層DLが設けられ、デバイス層DL上に、薄膜(金属層)TFが設けられ、この薄膜TFとデバイス層DLとによって固定電極30等の電極が形成されることとなる。
このような電圧センサ1において、絶縁膜Iは、電圧センサ1の略全体を覆う構成に限らず、リング部21及び円弧内側部位31の互いの対向面20a,30aのみを覆う構成であってもよい。これによっても、放電が発生し得る最短距離部分を絶縁膜Iによって覆うことができるからである。
図7は、本実施形態に係る電圧センサ1の第2変形例を示す断面図である。図7に示すように、絶縁膜Iは、対向面20a,30aのみならず、リング部21及び固定電極30の対向面20a,30aと交差する面のうち、対向面20a,30a側の部位を覆う構成であってもよい。これによっても、放電が発生し得る最短距離部分を、確実に絶縁膜Iによって覆うことができるからである。
図8は、本実施形態に係る電圧センサ1による電圧測定結果を示すグラフである。なお、図8に示す例において電圧センサ1の導通窓CW1,CW2間の空間距離については3mmとし、沿面距離(凹凸面に沿った距離)については3.2mmとした。駆動電極40に印加する駆動電圧については、株式会社エフエヌ回路ブロック社の高速バイポーラ電源(BA4825)を用いて0〜20Vの正弦波とした。また、測定に関しては、株式会社エフエヌ回路ブロック社の周波数特定分析機(FRA5097)を用いた。
図8に示すように、測定電圧が100V(破線参照)、300V(一点鎖線参照)、900V(実線参照)のそれぞれで共振周波数が変化していることがわかる。特に、高電圧となる900Vについても放電が発生することなく共振周波数を測定できることもわかった。なお、図示を省略したが、1000V以下では放電が発生することなく共振周波数を測定することができた。
このようにして、本実施形態に係る電圧センサ1によれば、固定電極30と振動子20とは少なくとも互いの対向面20a,30aが絶縁膜Iによって覆われているため、対向面20a,30a同士での放電を防止することができる。これにより、両者のギャップを広げなくとも放電が発生し得る箇所同士の距離(空間距離や沿面距離)を広げることとなり、感度低下及び大型化を抑えつつも、高電圧の測定を行うことができる。
また、絶縁膜Iが、固定電極30の一部(導通窓CW1)及び測定電極50の一部(導通窓CW2)のみを露出させた状態で、振動子20、固定電極30の残部、及び測定電極50の残部(更には基板Bや駆動電極40)を覆う場合には、放電発生箇所を、導通窓CW1,CW2の間に限定することができ、一層放電が発生し得る箇所同士の距離を広げて、より一層高電圧の測定を行うことができる。
以上、実施形態に基づき本発明を説明したが、本発明は上記実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、変更を加えてもよいし、可能な範囲で公知又は周知の技術を組み合わせてもよい。
例えば、本実施形態において電極部22,41は櫛歯形状となっているが、特に櫛歯形状に限らず、平板電極であってもよい。また、振動子20は円形状のリング部21を備えるが、これに限らず、円形状のリング部21ではなく直線的形状の振動子によって構成されていてもよいし、形状を問うものではない。
加えて、上記実施形態において2つの駆動電極40は、2つの固定電極30を結ぶ方向に対して直角となる位置にそれぞれ配置されているが、特に直角に限らず、やや傾いた位置に配置されていてもよい。この場合、2つの駆動電極40はリング部21の節QPと対向しないように、配置することが好ましい。
さらに、上記実施形態において固定電極30は、2つである例を説明したが、特に個数は2つに限られるものではない。さらに、固定電極30は、円形状又は略円形状の振動子20の外側に設けられる場合に限らず、内側に設けられていてもよい。
加えて、本実施形態に係る電圧センサ1は、固定電極30、駆動電極40、及び測定電極50に接続されるワイヤについても導体露出部がないように絶縁体や、上記絶縁膜Iによって覆うようにしてもよい。
1 :電圧センサ
10 :支持手段
20 :振動子
20a :対向面
30 :固定電極
30a :対向面
40 :駆動電極
50 :測定電極
CW1 :導通窓
CW2 :導通窓
I :絶縁膜

Claims (2)

  1. 機械的な支持手段によって支持された振動子と、前記振動子に対して所定のギャップを介して対向配置された固定電極と、前記固定電極と異なる位置に配置され、前記振動子を振動させるために交流の駆動電圧が印加される駆動電極と、を備え、前記固定電極に測定対象となる電圧を印加することで、静電引力を前記振動子に作用させ、当該振動子の共振周波数が変化することで、測定対象となる電圧を測定する電圧センサであって、
    前記固定電極と前記振動子とは、少なくとも互いの対向面が絶縁膜によって覆われている
    ことを特徴とする電圧センサ。
  2. 共振周波数を測定するための前記振動子に接続された測定電極をさらに備え、
    前記絶縁膜は、前記固定電極の一部及び前記測定電極の一部のみが露出した状態で、前記振動子、前記固定電極の残部、及び前記測定電極の残部を覆っている
    ことを特徴とする請求項1に記載の電圧センサ。
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