JP2021087910A - イオン交換ユニット及び加工廃液処理装置 - Google Patents
イオン交換ユニット及び加工廃液処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021087910A JP2021087910A JP2019219299A JP2019219299A JP2021087910A JP 2021087910 A JP2021087910 A JP 2021087910A JP 2019219299 A JP2019219299 A JP 2019219299A JP 2019219299 A JP2019219299 A JP 2019219299A JP 2021087910 A JP2021087910 A JP 2021087910A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- ion exchange
- processing
- container
- exchange resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 157
- 239000002699 waste material Substances 0.000 title claims description 147
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 64
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims abstract description 44
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 34
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 18
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 13
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 10
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 10
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000008429 bread Nutrition 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
4 枠体
4a 底面
6 廃液貯留タンク
8 廃液供給ポンプ
10 廃液濾過ユニット(廃液濾過手段)
12 ガイドレール
14 受け皿(パン)
16 濾過水貯留タンク
16a 流入部(流入口)
16b 流出部(流出口)
18 イオン交換ユニット(イオン交換手段)
20 容器
20a 内壁
22a 流入部(流入口)
22b 流出部(流出口)
24 イオン交換樹脂
26 温度調節ユニット(温度調節手段)
28 制御ユニット(制御部)
30 入力部
32 表示部
Claims (3)
- 水からイオンを除去するイオン交換ユニットであって、
イオン交換樹脂を収容する変形可能なチューブ状の容器を備え、
該容器の一端側に流入し、該イオン交換樹脂によってイオンが除去された水が、該容器の他端側から流出することを特徴とするイオン交換ユニット。 - 加工装置に接続され、該加工装置から排出された加工廃液を処理する加工廃液処理装置であって、
該加工廃液を貯留する廃液貯留タンクと、
該廃液貯留タンクから供給された該加工廃液を濾過する廃液濾過ユニットと、
該廃液濾過ユニットによって濾過された該加工廃液からイオンをイオン交換樹脂によって除去するイオン交換ユニットと、
該イオン交換ユニットによってイオンが除去された該加工廃液の温度を調節する温度調節ユニットと、を備え、
該イオン交換ユニットは、該イオン交換樹脂を収容する変形可能なチューブ状の容器を備えることを特徴とする加工廃液処理装置。 - 該イオン交換ユニットは、該容器の一端側に接続され該廃液濾過ユニットによって濾過された該加工廃液が流入する流入部と、該容器の他端側に接続され該イオン交換樹脂によってイオンが除去された該加工廃液が流出する流出部と、を備え、
該イオン交換樹脂によってイオンが除去された該加工廃液の純度は、該容器の該イオン交換樹脂が収容される領域の断面積及び長さを変更することによって調整可能であることを特徴とする請求項2記載の加工廃液処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019219299A JP7433702B2 (ja) | 2019-12-04 | 2019-12-04 | 加工廃液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019219299A JP7433702B2 (ja) | 2019-12-04 | 2019-12-04 | 加工廃液処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021087910A true JP2021087910A (ja) | 2021-06-10 |
JP7433702B2 JP7433702B2 (ja) | 2024-02-20 |
Family
ID=76218783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019219299A Active JP7433702B2 (ja) | 2019-12-04 | 2019-12-04 | 加工廃液処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7433702B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5297278B2 (ja) | 2009-06-25 | 2013-09-25 | 本田技研工業株式会社 | イオン交換器 |
JP6410619B2 (ja) | 2015-01-21 | 2018-10-24 | 株式会社ディスコ | 純水精製装置 |
-
2019
- 2019-12-04 JP JP2019219299A patent/JP7433702B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7433702B2 (ja) | 2024-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5086123B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP2011041878A (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP2009095941A (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP2009214193A (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP2021087910A (ja) | イオン交換ユニット及び加工廃液処理装置 | |
JP7399564B2 (ja) | イオン交換ユニット及びイオン交換樹脂の交換方法 | |
JP2019209417A (ja) | 純水リサイクルシステム | |
US11390536B2 (en) | Waste liquid treating apparatus | |
JP5681029B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP5266006B2 (ja) | 加工廃液処理装置のフィルターユニット | |
JP5770004B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP5086124B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
US20050211632A1 (en) | Base dosing water purification system and method | |
JP6246537B2 (ja) | サンプリング機構 | |
JP7446668B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP7483310B2 (ja) | 表示システム | |
JP7258440B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP5086125B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP7466999B2 (ja) | 純水生成装置 | |
US11319214B2 (en) | Waste liquid treating apparatus | |
CN113368589A (zh) | 显示系统 | |
JP7341611B2 (ja) | 廃液処理装置 | |
JP2021094674A (ja) | 廃液処理装置及び加工水再生システム | |
JP2022109399A (ja) | 純水生成装置、及び紫外線照射ユニット | |
JP7339033B2 (ja) | 加工廃液処理装置の設置方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221021 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230801 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7433702 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |