JP2021072344A - 方法、GaNウエハ製品の生産方法および生産システム、包装体並びにGaN基板 - Google Patents
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Abstract
Description
同様の手順で得られる二層型GaNウエハにおいて、Feドープによりキャリア濃度を低下させて高抵抗化した領域をおもて面側に設け、裏面側にはアンドープ領域を設けたものも知られている(特許文献2)。
この目的にとって、該領域の厚さが下限厚を下回っていないかどうかを非破壊で検査することができれば好都合である。
および、
共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置を用いること、
を特徴とする方法。
[2]前記板状GaN結晶の厚さ方向に焦点を移動させて複数のラマンスペクトルを測定することにより前記厚さを調べる、[1]に記載の方法。
[3]互いに反対を向いた第一主面と第二主面を有するとともに、互いに異なるキャリア濃度を有する該第一主面側の第一領域と該第二主面側の第二領域を有する板状GaN結晶における該第一領域の厚さが、所定値以上かどうかを判定する方法であること、
および、
共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置を用いること、
を特徴とする方法。
[4]前記第一主面から焦点までの距離を前記所定値に設定してラマンスペクトルを測定することにより前記判定を行う、[3]に記載の方法。
[5]前記第一領域が20μm以上の厚さを有する、[1]〜[4]のいずれかに記載の方法。
[6]前記第一領域と前記第二領域の間でラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数差が1cm−1以上である、[1]〜[5]のいずれかに記載の方法。
[7][1]〜[6]のいずれかに記載の方法が適用される、GaNウエハ製品の生産方法。
[8]前記GaNウエハ製品は、互いに異なるキャリア濃度を有するおもて側領域と裏側領域を有するGaN基板である、[7]に記載の生産方法。
[9]前記おもて側領域のキャリア濃度が前記裏側領域のキャリア濃度より高い、[8]に記載の生産方法。
[10]前記裏側領域が補償不純物でドープされる、[9]に記載の生産方法。
[11]前記おもて側領域のキャリア濃度が前記裏側領域のキャリア濃度より低い、[8]に記載の生産方法。
[12]前記おもて側領域が半絶縁性GaNからなる、[11]に記載の生産方法。
[13]前記裏側領域がドナー不純物で意図的にドープされる、[11]または[12]に記載の生産方法。
[14]GaNウエハ製品の生産方法であって、
該生産方法は、出発GaNウエハを準備するウエハ準備工程および該出発GaNウエハを加工するウエハ加工工程を含み、
該出発GaNウエハは、互いに異なるキャリア濃度を有し、かつ互いに積層された第一GaN層と第二GaN層を含み、
該ウエハ加工工程では、少なくとも該第一GaN層の厚さが減じられ、
該ウエハ加工工程を経る製品の全数または一部が、該第一GaN層の厚さに関連する情報を取得するためのラマン分光分析を受ける、生産方法。
[15]前記ウエハ加工工程の完了後において、前記第一GaN層が20μm以上の厚さを有する、[14]に記載の生産方法。
[16]前記前記第一GaN層および前記第二GaN層の間でラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数差が1cm−1以上である、[14]または[15]に記載の生産方法。
[17]GaNウエハ製品の生産に使用されるシステムであって、
該GaNウエハ製品は、互いに異なるキャリア濃度を有するおもて側領域と裏側領域を有するGaN基板であり、
該システムは、共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置を備え、
該ラマン分光分析装置は、該GaN基板の該おもて側領域の厚さに関連する情報を取得するために使用される生産システム。
[18]前記おもて側領域が20μm以上の厚さを有する、[17]に記載の生産システム。
[19]前記おもて側領域と前記裏側領域の間でラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数差が1cm−1以上である、[17]または[18]に記載の生産システム。
[20]GaNウエハ製品が包装材で包装された包装体であって、
該GaNウエハ製品は、互いに異なるキャリア濃度を有するおもて側領域と裏側領域を有するGaN基板であり、
該おもて側領域の厚さに関連する、測定に基づいた情報が記録された媒体が、該GaNウエハ製品とともに該包装材によって包装された、または、該情報が該包装材に印字された、包装体。
[21]前記おもて側領域が20μm以上の厚さを有する、[20]に記載の包装体。
[22]前記おもて側領域と前記裏側領域の間でラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数差が1cm−1以上である、[20]または[21]に記載の包装体。
[23]半絶縁性であるおもて側領域と、ドナー不純物を含有し、おもて側領域との間でラマンスペクトルのA1(LO)ピーク波数の差が1cm−1以上である裏側領域と、を有するGaN基板。
[24]前記おもて側領域が20μm以上の厚さを有する、[23]に記載のGaN基板。
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味し、「A〜B」は、A以上B以下であることを意味する。
本発明の第一実施形態は、互いに反対を向いた第一主面と第二主面を有するとともに、互いに異なるキャリア濃度を有する該第一主面側の第一領域と該第二主面側の第二領域を有する板状GaN結晶における、該第一領域の厚さを調べる方法である。
該第一領域の厚さを非破壊で調べるために、第一実施形態では、共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置が用いられる。
GaNウエハ10は、その形状が円板であり、互いに反対を向いた2つの主面(大面積面)として、おもて面11と裏面12を有している。加えて、GaNウエハ10は、おもて面11側におもて側領域Rf、裏面12側に裏側領域Rbを有しており、おもて側領域Rfと裏側領域Rbは互いに異なるキャリア濃度を有している。
GaNウエハの形状は、図1に示す円形状の板のみならず、多角形状等の板であってもよい。
GaNウエハ10は、おもて側領域Rfと裏側領域Rbの境界部に、これら2つの領域の中間のキャリア濃度を有する中間領域(図示せず)を有し得る。
キャリア濃度がおもて側領域Rfにおいて裏側領域Rbよりも高いとき、該中間領域で
は、おもて側領域Rfに近づくにつれてキャリア濃度が段階的または連続的に増加していてもよい。反対に、キャリア濃度がおもて側領域Rfにおいて裏側領域Rbよりも低いとき、該中間領域では、おもて側領域Rfに近づくにつれてキャリア濃度が段階的または連続的に減少していてもよい。
GaNウエハ10は、おもて側領域Rfと裏側領域Rbの間に再成長界面を有していてもよい。
GaNウエハ10は、当該ウエハのハンドリングに支障が生じない厚さtを有する。厚さtの下限は直径Dに応じて異なり、あくまで目安であるが、直径Dが約2インチのとき250μm、直径Dが約4インチのとき350μm、直径Dが約6インチのとき450μmである。厚さtは通常1mm以下である。
GaNウエハ10のエッジは面取りされていてもよい。GaNウエハ10には、結晶の方位を表示するオリエンテーション・フラットまたはノッチ、おもて面と裏面の識別を容易にするためのインデックス・フラット等、必要に応じて様々なマーキングを施してもよい。
窒化物半導体は、窒化物系III−V族化合物半導体、III族窒化物系化合物半導体、GaN系半導体などとも呼ばれ、GaNを含む他、GaNのガリウムの一部または全部を他の周期表第13族元素(B、Al、In等)で置換した化合物を含む。
窒化物半導体デバイスは、デバイス構造の主要部が窒化物半導体で形成された半導体デバイスである。代表的な窒化物半導体デバイスとして、レーザーダイオード(LD)、発光ダイオード(LED)などの発光デバイスと、整流器、バイポーラトランジスタ、電界効果トランジスタ、HEMT(High Electron Mobility Transistor)などの電子デバイスと、太陽電池が挙げられる。
おもて側領域Rfを補償不純物でドーピングして半絶縁性としたとき、GaNウエハ10は横型デバイス構造のGaN−HEMTのための基板として好ましく使用できる。GaNでは一般に、比抵抗が104Ω・cm以上であるとき、半絶縁性であるとされる。
ドナー不純物ドーピングによりおもて側領域Rfのキャリア濃度を例えば1×1018cm−3以上としたとき、GaNウエハ10は、縦型デバイス構造の窒化物半導体デバイスのための基板として好ましく使用できる。縦型デバイス構造は、レーザーダイオード(LD)、発光ダイオード(LED)、整流器、バイポーラトランジスタ、電界効果トランジスタ、HEMTなどのデバイスで採用され得る。
例えば、窒化物半導体デバイスがHEMTであるときは、第一窒化物半導体層21と第二窒化物半導体層22は、それぞれ、アンドープGaNチャネル層とアンドープAlGaNキャリア供給層である。
例えば、窒化物半導体デバイスがp−nダイオードであるときは、第一窒化物半導体層
21と第二窒化物半導体層22は、それぞれ、n型GaN層とp型GaN層であり得る。
一例では、該研削によって、図2(c)に示すように、GaNウエハ10から裏側領域Rbが全部除去される。これが可能なのは、おもて側領域Rfが少なくとも20μm、好ましくは40μm以上、より好ましくは50μm以上の厚さを有するときである。この場合も、エピタキシャルウエハの外周部には裏側領域12をリング状に残すように研削を行ってもよい。。
しかし、本発明者が見出したところによれば、GaNウエハ10のおもて側領域Rfの厚さは、共焦点光学系を備え、z軸方向に焦点位置を変化させることのできるラマン分光分析装置を用いることにより測定が可能である。
A1(LO)ピークとは、A1(LO)フォノンモードに起因するラマンピークである。キャリア濃度が増加すると、LOフォノン(格子振動)とプラズモン(電子の集団振動)との相互作用が起こるせいで、A1(LO)フォノンモードがLOフォノン−プラズモン結合モード(LOPCモード)に変化する。これが、A1(LO)ピークのブロード化と高波数シフトの原因である。A1(LO)ピークの波数とキャリア濃度の対応は、概ね下記表1に示す通りである。
る。
おもて側領域Rfのキャリア濃度が裏側領域Rbのキャリア濃度より高いときは、焦点がおもて側領域Rf内から裏側領域Rb内に移ったときにラマンスペクトルのA1(LO)ピークが低波数側に変化する。
反対に、おもて側領域Rfのキャリア濃度が裏側領域Rbのキャリア濃度より低いときは、焦点がおもて側領域Rf内から裏側領域Rb内に移ったときにラマンスペクトルのA1(LO)ピークが高波数側に変化する。
焦点の位置がおもて面11から遠ざかるにつれて、吸収現象のせいで、焦点に到達する励起光の強度が低下し、また、おもて面11を通してGaNウエハ10の外部に放出される信号光の強度も低下するが、ラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数には影響がない。そのため、おもて側領域Rfの厚さが例えば400μm以上であっても、測定精度が著しく低下することはない。
おもて側領域Rfが、アモノサーマル法で成長されたGaN(アモノサーマルGaN)からなるのに対し、裏側領域RbがHVPE−GaNからなるときも、おもて側領域Rfが裏側領域Rbより高いキャリア濃度を有し得る。
あるいは、おもて側領域Rfが補償不純物でドープされていないのに対し、裏側領域Rbが補償不純物でドープされているときも、おもて側領域Rfが裏側領域Rbより高いキャリア濃度を有し得る。
おもて側領域Rfが、HVPE−GaNからなるのに対し、裏側領域RbがアモノサーマルGaNからなるときも、おもて側領域Rfが裏側領域Rbより低いキャリア濃度を有し得る。
あるいは、おもて側領域Rfが補償不純物でドープされているのに対し、裏側領域Rbが補償不純物でドープされていないときも、おもて側領域Rfが裏側領域Rbより低いキャリア濃度を有し得る。
補償不純物とは、n型キャリアを補償する働きを持つ不純物であり、代表例はC(炭素)と遷移金属元素である。遷移金属元素としては、Fe(鉄)、Mn(マンガン)、Co(コバルト)、Cr(クロム)、V(バナジウム)、Ni(ニッケル)、Cu(銅)などが例示される。
例えば、おもて側領域Rfが補償不純物ドーピングにより半絶縁性とされる一方、裏側領域Rbは意図的にドーピングされないとき、どちらの領域もキャリア濃度が1017cm−3台より低く、かつ、おもて側領域Rfのキャリア濃度が裏側領域Rbより数桁下と
なり得る。ところが、かかる場合には、これら2つの領域をA1(LO)ピークの波数で区別できないかも知れない。これは、キャリア濃度の低下とともにA1(LO)ピークの波数が734cm−1付近に収束するからである。
かかる事態への対策として、GaNウエハ10のおもて側領域Rfを半絶縁性とするときは、ラマン分光測定による該おもて側領域Rfの厚さ測定を可能とする目的のために、裏側領域Rbをドナー不純物でドーピングして、おもて側領域Rfとの間のA1(LO)ピーク波数差を1cm−1以上、更には3cm−1以上、更には5cm−1以上としてもよい。
第一実施形態の方法は、例えば、GaNウエハ10を生産するときに、全数検査または抜き取り検査で、おもて側領域Rfの厚さが下限厚以上となっているかどうかを調べるために用いることができる。
本発明の第二実施形態は、互いに反対を向いた第一主面と第二主面を有するとともに、互いに異なるキャリア濃度を有する該第一主面側の第一領域と該第二主面側の第二領域を有する板状GaN結晶における該第一領域の厚さが、所定値以上かどうかを判定する方法である。
該判定を非破壊で行うために、第二実施形態の方法では、共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置が用いられる。
かかる判定を行うには、おもて面11から焦点までの距離を下限厚に設定してGaNウエハ10のラマンスペクトルを測定し、A1(LO)ピークの波数から、該焦点がおもて側領域Rf内にあるか裏側領域Rb内にあるかを調べる。該焦点がおもて側領域Rf内にあれば、おもて側領域Rfの厚さは下限厚以上と判定できる。
第三実施形態は、GaNウエハ製品の生産方法であって、出発GaNウエハを準備するウエハ準備工程および該出発GaNウエハを加工するウエハ加工工程を含む。該出発GaNウエハは、互いに異なるキャリア濃度を有し、かつ互いに積層された第一GaN層と第二GaN層を含み、該ウエハ加工工程では、少なくとも該第一GaN層の厚さが減じられる。該ウエハ加工工程を経る製品の全数または一部が、該第一GaN層の厚さに関連する情報を取得するためのラマン分光分析を受ける。
一GaN層と第二GaN層をこの順、または反対順に成長させた後、シード基板を除去することにより、第一GaN層と第二GaN層を含む出発GaNウエハを準備する。
シード基板上に第一GaN層を先に成長させる場合、第一GaN層の成長完了の後、いきなり成長条件を第二GaN層の成長条件に変更せず、徐々に変化させるのが好ましい。気相成長法を用いる場合なら、ドーピングガスの供給レートを徐々に(段階的または連続的)変化させることが好ましい。
シード基板を除去する方法は特段制限されず、剥離、磨滅、溶解等を用いることができる。剥離による場合、レーザーリフトオフで行いうる他、予めシード基板の表面に剥離層を設けた上でGaN層を成長させてもよい。磨滅による場合、成長させたGaN層の一部も磨滅させてよい。シード基板がGaN基板である場合には、レーザー加工によってGaN基板とその上に成長させたGaN層とを切り離してもよい。
予め完成されたGaNウエハの上に気相法で新たに成長させるGaN層をドーピングする場合、ドーピングガスの供給レートを徐々に(段階的または連続的)増加させることが好ましい。
ウエハ準備工程では、予め完成された厚いGaNウエハの上にGaN層を成長させ、その後、レーザー加工によって該厚いGaNウエハから該GaN層に隣接する部分を切り離すことにより、出発GaNウエハを準備してもよい。この方法で準備された出発GaNウエハでは、厚いGaNウエハに由来する部分と、新たに成長させたGaN層からなる部分の、いずれか一方が第一層であり、他方が第二層である。
出発GaNウエハの厚さを減じる方法は特段制限されず、出発GaNウエハの表面の状態に応じて、研削(粗研削、精密研削)、ラッピング、ポリシング、CMP、エッチングから適宜必要なものを選んで使用することができ、また、これらを組み合わせることができる。
該ラマン分光分析は、ウエハ加工工程の前、途中および後から選ばれる一以上のタイミングで行われ、その回数に特段の制限はない。
ウエハ加工工程の前に、出発GaNウエハにおける第一GaN層の厚さに関する情報を取得することで、第一GaN層が加工前から下限厚を下回っている不良品がウエハ加工工程に流れることを防止できる。
ウエハ加工工程の前または途中に第一GaN層の厚さに関する情報を取得することで、第一GaN層の過度な加工や加工の不足を回避することができる。
ウエハ加工工程の後に、薄化GaNウエハにおける第一GaN層の厚さに関する情報を取得することで、第一GaN層の厚さが下限厚を下回る不良品が出荷されることを防止できる。
第三実施形態の生産方法は、図1に示すGaNウエハ10の生産に好ましく用い得る。
第四実施形態は、GaNウエハ製品の生産システムである。該GaNウエハ製品は、互いに異なるキャリア濃度を有するおもて側領域と裏側領域を有するGaN基板である。該生産システムは、共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置を備え、該ラマン分光分析装置は、該GaN基板の該おもて側領域の厚さに関連する情報を取得するために使用される。
該生産システムは、更に、GaNウエハを構成するGaN結晶の成長に用いられる結晶製造設備を備えていてもよい。該結晶製造設備は、HVPE、THVPE、OVPE、ハロゲンフリーVPE、MOCVD、フラックス法およびアモノサーマル法から選ばれる方法に用いられる装置を少なくとも含むことが好ましい。
おもて側領域の厚さに関連する情報は、好ましくは、前述の第一実施形態または第二実施形態に係る方法により取得される。
第四実施形態の生産システムは、図1に示すGaNウエハ10の生産に好ましく用い得る。
第五実施形態は、GaNウエハ製品が包装材で包装された包装体である。該GaNウエハ製品は、互いに異なるキャリア濃度を有するおもて側領域と裏側領域を有するGaN基板である。該包装体では、該おもて側領域の厚さに関連する、測定に基づいた情報が記録された媒体が、該GaNウエハ製品とともに該包装材によって包装されている、または、該情報が該包装材に印字されている。
測定に基づいた情報とは、ラマン分光測定を含む前述の第一実施形態または第二実施形態に係る方法で得られる情報のように、仕様値あるいは設計値ではなく、実際の測定に基づいた情報ということである。
媒体の種類に特段の限定はなく、紙であってもよいし、電気または磁気を利用した記憶媒体であってもよい。
印字の態様に特段の限定はなく、情報を直接包装材に印字してもよく、情報が記録された印字された外部端末によりアクセスすることができる電子コード等を印字してもよい。
11 おもて面
12 裏面
20 エピタキシャル膜
21 第一窒化物半導体層
22 第二窒化物半導体層
Rf おもて側領域
Rb 裏側領域
D 直径
t 厚さ
Claims (24)
- 互いに反対を向いた第一主面と第二主面を有するとともに、互いに異なるキャリア濃度を有する該第一主面側の第一領域と該第二主面側の第二領域を有する板状GaN結晶における、該第一領域の厚さを調べる方法であること、
および、
共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置を用いること、
を特徴とする方法。 - 前記板状GaN結晶の厚さ方向に焦点を移動させて複数のラマンスペクトルを測定することにより前記厚さを調べる、請求項1に記載の方法。
- 互いに反対を向いた第一主面と第二主面を有するとともに、互いに異なるキャリア濃度を有する該第一主面側の第一領域と該第二主面側の第二領域を有する板状GaN結晶における該第一領域の厚さが、所定値以上かどうかを判定する方法であること、
および、
共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置を用いること、
を特徴とする方法。 - 前記第一主面から焦点までの距離を前記所定値に設定してラマンスペクトルを測定することにより前記判定を行う、請求項3に記載の方法。
- 前記第一領域が20μm以上の厚さを有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第一領域と前記第二領域の間でラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数差が1cm−1以上である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法が適用される、GaNウエハ製品の生産方法。
- 前記GaNウエハ製品は、互いに異なるキャリア濃度を有するおもて側領域と裏側領域を有するGaN基板である、請求項7に記載の生産方法。
- 前記おもて側領域のキャリア濃度が前記裏側領域のキャリア濃度より高い、請求項8に記載の生産方法。
- 前記裏側領域が補償不純物でドープされる、請求項9に記載の生産方法。
- 前記おもて側領域のキャリア濃度が前記裏側領域のキャリア濃度より低い、請求項8に記載の生産方法。
- 前記おもて側領域が半絶縁性GaNからなる、請求項11に記載の生産方法。
- 前記裏側領域がドナー不純物で意図的にドープされる、請求項11または12に記載の生産方法。
- GaNウエハ製品の生産方法であって、
該生産方法は、出発GaNウエハを準備するウエハ準備工程および該出発GaNウエハを加工するウエハ加工工程を含み、
該出発GaNウエハは、互いに異なるキャリア濃度を有し、かつ互いに積層された第一GaN層と第二GaN層を含み、
該ウエハ加工工程では、少なくとも該第一GaN層の厚さが減じられ、
該ウエハ加工工程を経る製品の全数または一部が、該第一GaN層の厚さに関連する情報を取得するためのラマン分光分析を受ける、生産方法。 - 前記ウエハ加工工程の完了後において、前記第一GaN層が20μm以上の厚さを有する、請求項14に記載の生産方法。
- 前記前記第一GaN層および前記第二GaN層の間でラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数差が1cm−1以上である、請求項14または15に記載の生産方法。
- GaNウエハ製品の生産に使用されるシステムであって、
該GaNウエハ製品は、互いに異なるキャリア濃度を有するおもて側領域と裏側領域を有するGaN基板であり、
該システムは、共焦点光学系を備えたラマン分光分析装置を備え、
該ラマン分光分析装置は、該GaN基板の該おもて側領域の厚さに関連する情報を取得するために使用される生産システム。 - 前記おもて側領域が20μm以上の厚さを有する、請求項17に記載の生産システム。
- 前記おもて側領域と前記裏側領域の間でラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数差が1cm−1以上である、請求項17または18に記載の生産システム。
- GaNウエハ製品が包装材で包装された包装体であって、
該GaNウエハ製品は、互いに異なるキャリア濃度を有するおもて側領域と裏側領域を有するGaN基板であり、
該おもて側領域の厚さに関連する、測定に基づいた情報が記録された媒体が、該GaNウエハ製品とともに該包装材によって包装された、または、該情報が該包装材に印字された、包装体。 - 前記おもて側領域が20μm以上の厚さを有する、請求項20に記載の包装体。
- 前記おもて側領域と前記裏側領域の間でラマンスペクトルのA1(LO)ピークの波数差が1cm−1以上である、請求項20または21に記載の包装体。
- 半絶縁性であるおもて側領域と、ドナー不純物を含有し、おもて側領域との間でラマンスペクトルのA1(LO)ピーク波数の差が1cm−1以上である裏側領域と、を有するGaN基板。
- 前記おもて側領域が20μm以上の厚さを有する、請求項23に記載のGaN基板。
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