JP2021071681A - カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 Download PDF

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Yoshiki Nishizawa
佳樹 西澤
善規 元田
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善規 元田
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Tetsuto Okumura
哲人 奥村
瞭太 水谷
Ryota Mizutani
瞭太 水谷
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Abstract

【課題】ガラス基板上にブラックマトリクス(BM)と着色フィルタとが形成されたカラーフィルタにおいて、白抜けがなく、BMや別の色の着色フィルタとの境界領域に発生するツノ段差の高さを低減して平坦性を向上させ、表示特性に優れたカラーフィルタ、及びその製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板上にBMと、Nが3以上のN色の着色樹脂組成物からなる着色フィルタと、を積層したカラーフィルタであって、BMは積層方向における断面視で凸構造であり、凸構造は中央の第3BMと、第3BMの両側に隣接した第1BM及び第2BMと、からなり、第3BMの高さは、第1BMの高さ、及び第2BMの高さよりも高く、第1BMの高さ、第2BMの高さ、及び第3BMの高さは、いずれも1.0μm以上であるカラーフィルタ、及びBMを2回の露光工程を含んで形成する製造方法とする。【選択図】図1

Description

本発明は、カラー液晶表示装置のカラー表示ディスプレイパネル等に使用されるカラーフィルタ、及び該カラーフィルタの製造方法に関する。
液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの調整、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用化されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などが挙げられる。
図8は、液晶表示装置に用いられる一部の画素を拡大して示す、従来のカラーフィルタの構造例500’を示す模式断面図である。図8に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ500’は、ガラス基板51の上に形成された開口部を有するブラックマトリクス52と、そのブラックマトリクス52の開口部に形成された赤色、緑色、青色の着色フィルタ53(53(R)、53(G)、53(B))と、着色フィルタ53上に形成された、保護膜を兼ねるオーバーコート層54よりなる。
カラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板51上に所定の形状の開口部を有するブラックマトリクス52を形成し、次に、ブラックマトリクス52の開口部に位置合わせして着色フィルタ53を各色毎に順次形成し、さらにオーバーコート層54を形成する方法が一般に用いられている。
ブラックマトリクス52は遮光性を有し、その開口部にてガラス基板51上での着色フィルタ53の位置を定め、着色フィルタ53の大きさを均一なものとしている。また、表示装置に用いられる際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストの向上した画像にする機能を有している。
図9は、従来のカラーフィルタの製造方法における、ブラックマトリクスの製造工程を工程順に示す模式断面図である。ブラックマトリクス52の形成には、通常フォトリソグラフィ法が用いられ、ガラス基板51上に、ネガ型の黒色レジスト(黒色感光硬化性樹脂組成物)の塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介したパターン露光、現像によって非露光部の不要な部分のレジストを除去し、残存したレジストにてブラックマトリクス52を形成する。
また、着色フィルタ53は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタの機能を有するものであり、着色フィルタ53の形成にも通常フォトリソグラフィ法が用いられ、ブラックマトリクス52が形成されたガラス基板51上に、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色レジスト(着色感光硬化性樹脂組成物)の塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によって着色フィルタ53を形成する。
また、オーバーコート層54には熱硬化性の透明樹脂が使用され、スピンコート法やダイコート法により塗布、減圧下で乾燥させた後、ベーキングを施して形成される。
従来、ブラックマトリクス52上の着色レジストは、白抜け(色抜け)などの不良が発生しないように、ブラックマトリクス52の端部にオーバーラップする形で形成することが一般的である。この際、テレビや車載向けカラーフィルタなど、ブラックマトリクス5
2の幅が8〜10μm以上のカラーフィルタについては、隣り合う着色フィルタを接触させずに形成することができる。
一方、ブラックマトリクスの幅を8μm未満で設計するカラーフィルタにおいては、オーバーラップ量を十分に確保するために、隣り合う画素の着色レジスト同士を重ねて形成する手法が一般的に採られている。オーバーラップ量を十分に確保できないと、白抜けなどの不良が発生する確率が上昇する。
図10は、2色目の着色フィルタ53(G)の形成からオーバーコート層54の形成までの工程を、ブラックマトリクス52の近傍を拡大して例示する模式断面図である。
図10(a)では、1色目の着色フィルタ(例えば赤色フィルタ53(R))の形成後に2色目の着色フィルタ(例えば緑色フィルタ53(G))を形成した例を示している。図10(a)では、緑色レジスト53(G)aを塗布した後、フォトマスク65を介して露光を行っている。ここではすでに、1色目の着色フィルタ(ここでは赤色フィルタ53(R))がブラックマトリクス52の端部に乗り上げ、盛り上がりを生じている。この盛り上がりをツノ部56と称し、ツノ部56の上部と、赤色フィルタ53(R)上面との高さの差(ΔH)をツノ段差と称する。また、2色目の緑色レジスト53(G)aの塗布膜は、ブラックマトリクスの端部でツノ部を発生するとともに、赤色フィルタ53(R)によるツノ段差ΔHが存在するブラックマトリクスの端部では、ツノ部56上に乗り上げ、さらに高い盛り上がりを生じている。
図10(b)は、2色目の緑色フィルタ53(G)形成後の形態を示している。前記の緑色レジスト53(G)aの塗布膜の盛り上がりの結果、赤色フィルタが存在しないブラックマトリクスの端部には前記赤色フィルタのツノ段差(ΔH)と同様のツノ段差(ΔH)が形成され、赤色フィルタ53(R)によるツノ段差ΔHが存在するブラックマトリクスの端部には前記赤色フィルタのツノ段差(ΔH)よりもさらに高いツノ段差(ΔH)が形成されている。
図10(c)では、3色目の青色フィルタ53(B)を形成し、さらにオーバーコート層54を形成した後の形態を示している。ここでは、前記緑色フィルタ53(G)形成時と同様の理由により、緑色フィルタによるツノ段差ΔHが存在するブラックマトリクスの端部には前記緑色フィルタのツノ段差(ΔH)と同様のツノ段差(緑色フィルタ53(G)に乗り上げたΔH、赤色フィルタ53(R)に乗り上げたΔH)が形成されている。さらにオーバーコート層54は、上述のツノ段差ΔH、ΔH、ΔH、ΔH、ΔHの影響を受けて大きな凹凸を生じている。
オーバーコート層54に大きな凹凸が生じたカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、隣接する画素からの光漏れによる斜め視認性の悪化や混色によるコントラストの低下などが起こり、表示品質に悪影響を及ぼすことになる。
ツノ段差を低くする手法としては、例えば、a)オーバーコート層を形成する前に、カラーフィルタの表面を研磨してツノ段差の高さを低くしておく方法(特許文献1)、b)ブラックマトリクスの膜厚を薄く形成しておく方法、c)ブラックマトリクスの側面のテーパー部の長さを大きくしてツノ段差を低くする方法(特許文献2)などが提案されている。
特開2008−281678号公報 特開平9−189899号公報
しかしながら、上記a)カラーフィルタの表面を研磨する方法では、着色フィルタの表面にキズが生じるとともに工程が増えることでコストを押し上げる要因となるという問題、b)ブラックマトリクスの膜厚を薄くする方法では、ブラックマトリクスの光学濃度が不足するという問題、c)の方法では、ツノ段差は低くなるものの、テーパー角が小さくなることによって後述の表示画像の斜め視認性が悪化する問題が発生する。このように上記a)〜c)の方法での対応にはそれぞれ限界がある。
ツノ段差の影響を抑える方法として、オーバーコート層の膜厚を厚くして上層の平坦性を上げる方法がある。しかしながら、オーバーコート層の厚さを厚くすると、以下のような問題が発生する。
前出の図8はまた、従来のカラーフィルタ500’で、オーバーコート層が厚い場合の斜め視認と混色性の問題を説明するための模式断面図となっている。すなわち、カラーフィルタ500’の上部にオーバーコート層54’を介して液晶層57を図示し、視認者58がガラス基板51側の斜め方向から表示物を視認する様子を表わしている。ここでは、液晶駆動素子(図示せず)によって、青色フィルタ53(B)上の液晶のみが駆動(ON)されているので、本来青色のみ視認されなければならない。しかし、点線で示す視線Lの方向に従って緑色フィルタ53(G)を通過する光(光漏れ)によって緑色が視認され、混色となる様子を示している。
図8から分るように、液晶層57からブラックマトリクス52までの距離が長いほど光漏れは発生しやすい。しかるに、近年、より濃い色を表示するために着色フィルタの厚さは厚くなる傾向がある。着色フィルタの厚さが増すことで、ツノ段差による表面の凹凸が増大するとともに、液晶の転傾などの液晶駆動の異常が発生することも懸念される。表面の凹凸を平坦化するためにはオーバーコート層54’を厚くする必要がある。その結果、ブラックマトリクス52と液晶層57の距離はますます長くなってしまい、混色が発生しやすくなるという問題が発生する。
一方で、液晶表示装置向けカラーフィルタの高付加価値化(ディスプレイの軽量化や薄型化)として、着色フィルタやオーバーコート層を薄膜化する要望がある。しかしながらオーバーコート層の薄膜化は、着色フィルタに対する被膜性の低下を伴うため、被膜性を確保するためには、まず、着色フィルタの平坦化、すなわちツノ段差による着色フィルタ表面の凹凸形状を平坦化することが必要となる。
本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、ガラス基板上にブラックマトリクスと着色フィルタとが形成されたカラーフィルタにおいて、白抜けの発生を低減し、ブラックマトリクスや別の色の着色フィルタとの境界領域に発生するツノ段差の高さを低減して平坦性を向上させ、オーバーコート層の膜厚を抑えて隣接する画素からの光漏れによる斜め
視認性の悪化や、液晶駆動の異常の発生を抑制し、表示特性に優れたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決する手段として、本発明の第一態様は、
ガラス基板上にブラックマトリクスと、Nが3以上のN色の着色樹脂組成物からなる着色フィルタと、を積層したカラーフィルタであって、
前記ブラックマトリクスは積層方向における断面視で凸構造であり、
前記凸構造は中央の第3ブラックマトリクスと、前記第3ブラックマトリクスの両側に隣接した第1ブラックマトリクス及び第2ブラックマトリクスと、からなり、
前記第3ブラックマトリクスの高さは、前記第1ブラックマトリクスの高さ、及び前記第2ブラックマトリクスの高さよりも高く、
前記第1ブラックマトリクスの高さ、前記第2ブラックマトリクスの高さ、及び前記第3ブラックマトリクスの高さは、いずれも1.0μm以上である、
ことを特徴とするカラーフィルタとしたものである。
また、前記第3ブラックマトリクスの高さは1.1μm以上である、ことを特徴とする。
また、前記第3ブラックマトリクスの線幅は、前記第1ブラックマトリクスの線幅と前記第3ブラックマトリクスの線幅と前記第2ブラックマトリクスの線幅とを合計した、前記ブラックマトリクス全体の線幅の20%以上、50%以下である、ことを特徴とする。
また、前記Nが3以上のN色の着色フィルタのうちの1色の着色フィルタは、表面の両端部に凹部を有する、ことを特徴とする。
また、前記Nが3以上のN色の着色フィルタのうちの1色の着色フィルタのうち、少なくとも1色の着色フィルタは、表面の片端部のみに凹部を有する、ことを特徴とする。
また、前記Nが3以上のN色の着色フィルタのうちの1色の着色フィルタは、表面の両端部に凹部を有さない、ことを特徴とする。
また、前記断面視で凸構造のブラックマトリクスは、フォトリソグラフィ法で形成され、前記ガラス基板上にブラックマトリクス用レジストを塗布する工程と、
フォトマスクの露光部を介して前記ブラックマトリクス用レジストが完全に硬化しない露光量で露光する第一露光工程と、
前記フォトマスクに対する平面視での位置を、前記第一露光工程における前記露光部の一部が重なるようにずらして露光する第二露光工程を含んで形成される、ことを特徴とする。
また、前記表面の両端部に凹部を有する1色の着色フィルタは、フォトリソグラフィ法で、1色目の着色フィルタとして形成され、
前記ガラス基板上に断面視で凸構造の前記ブラックマトリクスを形成した後に、
前記ガラス基板上に1色目の着色レジストを塗布する工程と、
フォトマスクの露光部を介して前記1色目の着色レジストが完全に硬化しない露光量で露光する第一露光工程と、
前記フォトマスクに対する平面視での位置を、前記第一露光工程における前記露光部の一部が重なるようにずらして露光する第二露光工程を含んで形成される、ことを特徴とする
また、前記表面の片端部のみに凹部を有する少なくとも1色の着色フィルタは、フォトリソグラフィ法で、2色目以上(N−1)色目以下の着色フィルタとして形成され、
前記ガラス基板上に断面視で凸構造の前記ブラックマトリクスを形成し、さらに1色目の着色フィルタを形成した後に、
前記ガラス基板上に着色レジストを塗布する工程と、
フォトマスクの露光部を介して前記着色レジストが完全に硬化しない露光量で露光する第一露光工程と、
前記フォトマスクに対する平面視での位置を、前記第一露光工程における前記露光部の一部が重なるようにずらして露光する第二露光工程を含んで形成される、ことを特徴とする
また、前記表面の両端部に凹部を有さない1色の着色フィルタは、フォトリソグラフィ法で、N色目の着色フィルタとして形成され、
前記ガラス基板上に断面視で凸構造の前記ブラックマトリクスを形成し、さらに(N−1)以下の色数の着色フィルタを形成した後に、
前記ガラス基板上に着色レジストを塗布する工程と、
フォトマスクの露光部を介して前記着色レジストが完全に硬化しない露光量で露光する第一露光工程と、
前記フォトマスクに対する平面視での位置を、前記第一露光工程における前記露光部の一部が重なるようにずらして露光する第二露光工程
を含んで形成される、ことを特徴とする。
本発明によれば、ガラス基板上にブラックマトリクスと着色フィルタとが形成されたカラーフィルタにおいて、白抜けの発生を抑制し、ブラックマトリクスや別の色の着色フィルタとの境界領域に発生するツノ段差の高さを低減して平坦性を向上させ、オーバーコート層の膜厚を抑えて隣接する画素からの光漏れによる斜め視認性の悪化や、液晶駆動の異常の発生を抑制し、表示特性に優れたカラーフィルタが、製造ラインを停止させない製造方法によって得られる。
本発明の第1実施形態のカラーフィルタの構造を示す模式断面図である。 本発明の第2実施形態のカラーフィルタの構造を示す模式断面図である。 ネガ型フォトレジストの露光量に対する現像後規格化膜厚を例示する特性図である。 本発明のカラーフィルタの製造方法に係る、ブラックマトリクスの製造工程を工程順に示す模式断面図である。 本発明の第2実施形態のカラーフィルタの製造方法に係る、1色目の着色フィルタの製造工程を工程順に示す模式断面図である。 本発明の第2実施形態のカラーフィルタの製造方法に係る、2〜(N−1)色目の着色フィルタの製造工程を工程順に示す模式断面図である。 本発明の第2実施形態のカラーフィルタの製造方法に係る、N色目の着色フィルタの製造工程を工程順に示す模式断面図である。 従来のカラーフィルタの構造例、及びオーバーコート層が厚い場合の斜め視認と混色性の問題を説明するための模式断面図である。 従来のカラーフィルタの製造方法に係る、ブラックマトリクスの製造工程を工程順に示す模式断面図である。 従来のカラーフィルタの製造方法に係る、(a)(b)2色目の着色フィルタの製造工程、(c)従来のカラーフィルタでオーバーコート層が薄い場合の形態を例示する模式断面図である。
以下、本発明の実施形態に係るカラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法について図面を用いて説明する。同一の構成要素については便宜上の理由がない限り同一の符号を付ける。各図面において、見易さのため構成要素の厚さや比率は誇張されていることがあり、構成要素の数も減らして図示していることがある。また、本発明は以下の実施形態そのままに限定されるものではなく、主旨を逸脱しない限りにおいて、適宜の組み合わせ、変形によって具体化できる。
[本発明のカラーフィルタ]
図1は、本発明の第1実施形態のカラーフィルタ100の構造を示す模式断面図である。第1実施形態のカラーフィルタ100は、ガラス基板1上にブラックマトリクス2と、Nが3以上のN色の着色樹脂組成物からなる着色フィルタと、を積層したカラーフィルタである。Nは通常、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色、若しくは高品質化、高輝度化のために、前記3色の他に4色目として白色(透明)を加える形態が考えられるが、以下、N色はR、G、Bの3色とし、R、G、Bの順で着色フィルタを形成する、例を用いて説明する。尚、図1(後述の図2も)ではオーバーコート層4まで有する形態を示している。
第1実施形態のカラーフィルタ100は、ブラックマトリクス2が積層方向における断面視で凸構造である。凸構造は中央の第3ブラックマトリクス23と、第3ブラックマトリクス23の両側面の第1ブラックマトリクス21及び第2ブラックマトリクス22と、からなる。第3ブラックマトリクス23の高さ(t3)は、第1ブラックマトリクス21の高さ(t1)、及び第2ブラックマトリクス22の高さ(t2)よりも高い。ブラックマトリクス2が第3ブラックマトリクス23を頂点とする凸構造であり、両端部に第1ブラックマトリクス21、及び第2ブラックマトリクス22からなる段差を有することで、両側の着色フィルタがブラックマトリクス2に乗り上げるツノ部の高さを小さくすることができる。つまり、ブラックマトリクス2上に乗りあがりツノ部に成りえた着色フィルタ3を、第1ブラックマトリクス21、及び第2ブラックマトリクス22と第3ブラックマトリクス23との段差により吸収できるので、ツノ部の発生を抑制できる。
光学濃度を確保するために、第1ブラックマトリクス21の高さ、及び第2ブラックマトリクス22の高さ、及び第3ブラックマトリクス22の高さは、いずれも1.0μm以上であり、好ましくは第3ブラックマトリクス23の高さは1.1μm以上である。
さらに第1実施形態のカラーフィルタ100は、ブラックマトリクス2の両側に位置する着色フィルタ、換言すると第1ブラックマトリクス21、及び第2ブラックマトリクス22に隣接する着色フィルタがブラックマトリクス2に乗り上げるツノ部の高さをより確実に小さくするために、第3ブラックマトリクス23の線幅(w3)は、第1ブラックマトリクス21の線幅(w1)と第3ブラックマトリクス23の線幅(w3)と第2ブラックマトリクス22の線幅(w2)とを合計したブラックマトリクス全体の線幅の20%以上、50%以下である、ことが好ましい。
第1実施形態のカラーフィルタ100は、上記のような、両端部に段差を有する凸構造であるので、両側の着色フィルタがブラックマトリクス2に乗り上げるツノ部の高さを小さくできる。液晶表示装置の用途、仕様によっては、図1に示すように、従来よりも低いものの、ツノ段差sg、sb1、sb2が残ってしまい、着色フィルタ群の表面が完全に平坦にならない場合がある。その場合は、オーバーコート層4(保護膜を兼ねる)によって最表面を平坦化してもよい。本形態により従来よりもツノ段差を低くできるため、オーバーコート層4は従来構造のオーバーコート層より薄く形成することができる。
図2は、本発明の第2実施形態のカラーフィルタ200の構造を示す模式断面図である。第2実施形態のカラーフィルタ200は、R、G、Bのうち、1色目に形成される赤色フィルタ3(R)2の表面の両端部に凹部dr1、dr2を有している。凹部dr2は、次に形成される緑色フィルタ3(G)2用の緑色レジストが赤色フィルタ3(R)2の端部に乗り上げて図1に示すsgのようなツノ段差が形成されることを緩和する。
また、凹部dr1は、3色目に形成される青色フィルタ3(B)2用の青色レジストが赤色フィルタ3(R)2の端部に乗り上げて図1に示すsb2のようなツノ段差が形成されることを緩和する。
第2実施形態のカラーフィルタ200は、R、G、Bのうち、2色目に形成される緑色フィルタ3(G)2の表面の片端部に凹部dgを有することが好ましい。凹部dgは、3色目に形成される青色フィルタ3(B)2用の青色レジストが緑色フィルタ3(R)2の端部に乗り上げて図1に示すsb1のようなツノ段差が形成されることを緩和する。
第2実施形態のカラーフィルタ200は、R、G、Bのうち、3色目に形成される青色フィルタ3(B)2の両端部は、上記の赤色フィルタ3(R)2の端部の凹部dr1、及び緑色フィルタ3(G)2の端部の凹部dgを埋めるように形成され、青色フィルタ3(B)2の表面の両端部に凹部を有さない、有するとしても小さいことが好ましい。
図1の第1実施形態のカラーフィルタ100と、図2の第2実施形態のカラーフィルタ200を比較すると、後者では凹部dr1、dr2、dgが存在する分だけ、図1に見られるツノ段差sg、sb1、sb2が低くなる(図2では消失しているように図示している)。従って、オーバーコート層4の膜厚は、図2の第2実施形態200では、図1の第1実施形態100よりもさらに薄くすることができる。
[本発明のカラーフィルタの製造方法]
本発明のカラーフィルタの製造方法は、ブラックマトリクス、及びR、G、Bの着色フィルタの形成方法に特徴があるが、いずれもネガ型の、ブラックマトリクス用黒色レジスト、及び各色の着色レジストを用い、フォトリソグラフィ法により形成する。
図3は、ネガ型フォトレジストの露光量に対する現像後規格化膜厚を例示する特性図であり、[非特許文献1:佐々木実、レジストプロセスの基本、電学論E、131巻、1号(2011年)]のFig.6から抽出したものである。
図3から分かるように、ネガ型レジストの現像後規格化膜厚は、露光量(=露光強度×露光時間)とともに上昇し、図3では露光量50(a.u.)になると飽和してほぼ一定となる。尚、飽和以降のネガ型レジストは硬化している。一方、飽和以前の低い露光量では、現像後規格化膜厚は、飽和以降の現像後規格化膜厚よりも薄く、硬化していない。
本発明のカラーフィルタの製造方法では、図3に示すネガ型レジストの特性を利用して、ブラックマトリクスや着色フィルタに、現像後規格化膜厚の異なる箇所を作り、飽和以前で硬化していない膜厚の部分については、現像後のUVキュアにより硬化する。尚、図3の横軸はlogスケールであり、実際の現像後規格化膜厚の変化曲線は図3で見るよりも緩やかである。
<ブラックマトリクスの形成方法>
図4は、本発明のカラーフィルタの製造方法に係る、ブラックマトリクスの製造工程を工程順に示す模式断面図である。ブラックマトリクスの製造方法は、図1の第1実施形態のカラーフィルタ100、図2の第2実施形態のカラーフィルタ200ともに共通である。
まず、ガラス基板1にブラックマトリクス用黒色レジスト2aを塗布し、フォトマスク80を介して、第1露光量α1にて露光を行う(図4(a))と、ブラックマトリクス用レジスト2aに、第1露光部2(α1)が形成される(図4(b))。このときの露光量は、仮に図3の特性のネガレジストとすると、飽和以前の、例えば10〜16(a.u.)とすることができる。
次に、ブラックマトリクス用レジストの第1露光部2(α1)を有するガラス基板1の、フォトマスク80に対する平面視での位置を、第1露光部2(α1)の一部が重なるようにD1だけずらして、第2露光量α2にて露光を行う(図4(c))。このときの露光量α2は、飽和以前の、第1露光量α1と同じ10〜16(a.u.)とすればよい。
図4(c)までの工程により、ブラックマトリクス用黒色レジスト2aには、第1露光部2(α1)、第2露光部2(α2)、第1及び第2露光部2(α1+α2)が形成される(図4(d))。そこで現像を行うと、仮に図3の特性のネガレジストの場合、例えばα1=α2=16(a.u.)であればα1+α2=32(a.u.)であるので、第1及び第2露光部2(α1+α2)は、図3より、ほぼ硬化しているが、第1露光部2(α1)、第2露光部2(α2)は硬化しておらず、膜厚は第1及び第2露光部2(α1+α2)が0.88(a.u.)であり、第1露光部2(α1)、第2露光部2(α2)は0.80(a.u.)となる。
現像後UV硬化工程を行い、第1露光部2(α1)、第2露光部2(α2)、第1及び第2露光部2(α1+α2)を完全に硬化させ、それぞれ第1ブラックマトリクス21、第2ブラックマトリクス22、第3ブラックマトリクス23を形成し、凸構造のブラックマトリクス2を形成する(図4(e))。硬化によりいくらかの膜厚変化は生じるが、第1ブラックマトリクス21の膜厚(=第2ブラックマトリクス22の膜厚)と、第3ブラックマトリクス23の膜厚の差は、ほぼ(0.88−0.80)/0.88×100%=9.1%となる。
同様にして、仮に図3の特性のネガレジストで、例えばα1=α2=10(a.u.)とすれば、α1+α2=20(a.u.)であり、いずれも現像後は硬化していないが、UVキュアにより硬化させた後の第1ブラックマトリクス21の膜厚(=第2ブラックマトリクス22の膜厚)と、第3ブラックマトリクス23の膜厚の差は、ほぼ(0.84−0.65)/0.65×100%=22.5%と前例よりも大きくなる。
第1ブラックマトリクス21の膜厚(=第2ブラックマトリクス22の膜厚)と、第3ブラックマトリクス23との膜厚差をどの程度にするかは、液晶表示装置の用途、仕様、及びブラックマトリクス用黒色レジスト2aの初期膜厚に応じて、α1、α2の露光量を好適に選択して決定することができる。
以下、着色フィルタ部の表面が、図1の第2実施形態よりも平坦になる、図2の第2実施形態のカラーフィルタ200の製造方法を説明する。
<1色目の赤色フィルタの形成方法>
図5は、本発明の第2実施形態のカラーフィルタの製造方法に係る、1色目の赤色フィルタの製造工程を工程順に示す模式断面図である。まず、断面視で凸構造のブラックマトリクスを形成した(図示せず)、ガラス基板1に赤色レジスト3rを塗布する。このとき、赤色レジスト3rの膜厚は、色抜け防止のため、ブラックマトリクスを形成したときの黒色レジスト2aよりも厚くするが、ブラックマトリクスを凸構造に形成した効果により、赤色レジスト3rにツノ部は発生していない。仮に発生しても従来構造よりは低くなる。
次に、フォトマスク90を介して、第3露光量α3にて露光を行う(図5(a))と、赤色レジスト3rに、第3露光部3(α3)が形成される(図5(b))。このときの露光量は、仮に図3の特性のネガレジストとすると、ブラックマトリクスを形成したときと同様の、飽和以前の、例えば10〜16(a.u.)とすればよい。
次に、赤色レジストの第3露光部3(α3)を有するガラス基板1の、フォトマスク90に対する平面視での位置を、第3露光部3(α3)の一部が重なるようにD2だけずらして、第4露光量α4にて露光を行う(図5(c))。このときの露光量α4も、第3露光量α3と同じ10〜16(a.u.)とすればよい。
図5(c)までの工程により、赤色レジスト3rには、第3露光部3(α3)、第4露光部3(α4)、第3及び第4露光部3(α3+α4)が形成されている(図5(d))。そこで現像及びUVキュアを行い完全硬化させると、第3及び第4露光部3(α3+α4)は、第3露光部3(α3)、第4露光部3(α4)の2倍の露光量で露光されているので、現像後の膜減り量の差に起因して、表面の両端部に凹部dr1、dr2が形成される。これにより、第1赤色フィルタ33、第2赤色フィルタ34、第3赤色フィルタ334からなる、赤色フィルタ3(R)2が形成される(図5(e))。
<2色目の緑色フィルタの形成方法>
図6は、本発明の第2実施形態のカラーフィルタの製造方法に係る、2色目の緑色フィルタの製造工程を工程順に示す模式断面図である。まず、断面視で凸構造のブラックマトリクスを形成し(図示せず)、さらに1色目の赤色フィルタを形成した(図示せず)後、ガラス基板1に緑色レジスト3gを塗布する。このとき、緑色レジスト3gの膜厚は、色抜け防止と平坦性のため、1色目の赤色レジスト3rと同程度であることが好ましい。
緑色レジスト3gの塗布時、ブラックマトリクスを凸構造に形成した効果により、ブラックマトリクス直上には緑色レジスト3gによるツノ部は発生しない。仮に発生しても従来構造よりは低くなる。一方、緑色レジスト3gは、先に形成した赤色フィルタに乗り上げツノ段差を生じるが、赤色フィルタの緑色フィルタ側端部には凹部dr2(図2、図5(e)参照)が形成されているので、緩和されたツノ段差sg’となる。
次に、フォトマスク90を介して、第5露光量α5にて露光を行う(図6(a))と、緑色レジスト3gに、第5露光部3(α5)が形成される(図6(b))。このときの露光量は、仮に図3の特性のネガレジストとすると、ブラックマトリクスを形成したときと同様の、飽和以前の、例えば10〜16(a.u.)とすればよい。
次に、緑色レジストの第5露光部3(α5)を有するガラス基板1の、フォトマスク90に対する平面視での位置を、第5露光部3(α5)の一部が重なるようにD3だけずらして、第6露光量α6にて露光を行う(図6(c))。このときの露光量α6も、第5露光量α5と同じ10〜16(a.u.)とすればよい。
図6(c)までの工程により、緑色レジスト3gには、第5露光部3(α5)、第6露光部3(α6)、第5及び第6露光部3(α5+α6)が形成されている(図6(d))。そこで現像及びUVキュアを行い完全硬化させると、第5及び第6露光部3(α5+α6)は、第5露光部3(α5)、第6露光部3(α6)の2倍の露光量で露光されているので、もっとも膜減り量は小さい。一方、第5露光部3(α5)、第6露光部3(α6)はより多く膜減りし、第6露光部3(α6)は凹部dgを形成するが、もともとツノ段差sg’の分だけ厚い第5露光部3(α5)は膜減りの結果、第5及び第6露光部3(α5+α6)と同程度の厚さとなる。このようにして、現像後の膜減り量の差に起因して、表面の右端部に凹部dgを有する、第1緑色フィルタ35、第2緑色フィルタ36、第3緑色フィルタ356からなる、緑色フィルタ3(G)2が形成される(図6(e))。
<3色目の青色フィルタの形成方法>
図7は、本発明の第2実施形態のカラーフィルタの製造方法に係る、3色目の青色フィルタの製造工程を工程順に示す模式断面図である。まず、断面視で凸構造のブラックマトリクスを形成し(図示せず)、次に1色目の赤色フィルタを形成し(図示せず)、さらに2色目の緑色フィルタを形成した(図示せず)後、ガラス基板1に青色レジスト3bを塗布する。このとき、青色レジスト3bの膜厚は、色抜け防止と平坦性のため、1色目、2色目の赤色レジスト3r、緑色レジスト3gと同程度であることが好ましい。
青色レジスト3bの塗布時、ブラックマトリクスを凸構造に形成した効果、及び赤色フィルタの青色フィルタ側端部に凹部dr1(図2、図5(e)参照)を形成した効果、緑色フィルタの青色フィルタ側端部に凹部dg(図2、図6(e)参照)を形成した効果により、青色レジスト3bが乗り上げて発生するツノ段差は、緩和されたツノ段差sb1’、sb2’となる。
次に、フォトマスク90を介して、第7露光量α7にて露光を行う(図7(a))と、青色レジスト3bに、第7露光部3(α7)が形成される(図7(b))。このときの露光量は、仮に図3の特性のネガレジストとすると、ブラックマトリクスを形成したときと同様の、飽和以前の、例えば10〜16(a.u.)とすればよい。
次に、青色レジストの第7露光部3(α7)を有するガラス基板1の、フォトマスク90に対する平面視での位置を、第7露光部3(α7)の一部が重なるようにD4だけずらして、第8露光量α8にて露光を行う(図7(c))。このときの露光量α8も、第7露光量α7と同じ10〜16(a.u.)とすればよい。
図7(c)までの工程により、青色レジスト3bには、第7露光部3(α7)、第8露光部3(α8)、第7及び第8露光部3(α7+α8)が形成されている(図7(d))。そこで現像及びUVキュアを行い完全硬化させると、第7及び第8露光部3(α7+α8)は、第7露光部3(α7)、第8露光部3(α8)の2倍の露光量で露光されているので、もっとも膜減り量は小さい。一方、第7露光部3(α7)、第8露光部3(α8)はいずれもより多く膜減りするが、もともとツノ段差sb1’、sb1’の分だけ厚いので、第7及び第8露光部3(α7+α8)と同程度の厚さとなる。このようにして、現像後の膜減り量の差に起因して、表面の両端部に凹部を有さない、有するとしても小さい、第1青色フィルタ37、第2青色フィルタ38、第3青色フィルタ378からなる、青色フィルタ3(B)2が形成される(図7(e))。
以上、まとめれば、本発明のカラーフィルタの製造方法では、ブラックマトリクス及び各色の着色フィルタの形成の際に、レジスト塗布基板のフォトマスクに対する平面視での位置を一部が重なるようにずらす、計2回の露光を行うことにより、現像後の膜減り量を変えることで、ツノ段差の高さを調整し、然る後にUVキュアにより硬化させて、最終的に着色フィルタ群の表面の平坦性を良化する。
本発明のカラーフィルタではブラックマトリクス上は単色または2色の着色フィルタで覆われるので白抜けは発生しない。また、レジスト塗布基板のフォトマスクに対する平面
視での位置を一部が重なるようにずらした露光工程を追加するだけなので、製造ラインを停止させず、従って稼働率を低下させずにブラックマトリクスや別の色の着色フィルタとの境界領域に発生するツノ段差の高さを低減して平坦性を向上させる。これにより、オーバーコート層の膜厚を抑えて隣接する画素からの光漏れによる斜め視認性の悪化や、液晶駆動の異常の発生を抑制した、表示特性に優れたカラーフィルタが得られる。
尚、図4〜図7では平面視での位置をずらす方向をX方向としたが(図4〜図7の(c)参照)、通常、X−Y平面上で、ブラックマトリクスは格子状に形成され、着色フィルタは矩形状でX、Yそれぞれの方向にマトリクス配列されるので、X軸、Y軸からそれぞれ45°の斜め方向に1回ずらすだけで、X方向、Y方向同時に、一部が重なるような2回目の露光を行うことができる。本願で規定する線幅の条件は、X方向、Y方向に共通する条件である。
さらに、先の製造方法の説明ではすべての着色フィルタのそれぞれにおいて、1度目の露光後に露光部の一部が重なるようにずらして2度目の露光を行う方法を用いた。これに限定されず、いずれか1色乃至複数色の着色フィルタの製法のみに適用してもよい。すべての着色フィルタに用いることで最大の効果を奏するが、1色乃至複数色であっても従来よりもツノ段差を低減することができる。
また、露光時に露光部をずらす際に、フォトマスク90を固定した状態でガラス基板1を適宜移動する方法を採用してもよいし、ガラス基板1を固定した状態でフォトマスク90を適宜移動する方法を採用してもよいし、ガラス基板1およびフォトマスク90を適宜移動させる方法を採用してもよい。また、フォトマスク90は各色の着色フィルタ3で異なるフォトマスクを使用してもよいし、同一のフォトマスク90を用いてもよい。
なお、各図においてブラックマトリクス2および着色フィルタ3をガラス基板1の平面と並行な面を持つ矩形状として記載しているが、実際は現像工程等によって面が傾斜したり、微小な凹凸が発生することがある。これらの場合も本発明の効果を奏するため、本発明に組み込まれる。
100・・・本発明のカラーフィルタの第1実施形態
200・・・本発明のカラーフィルタの第2実施形態
500・・・従来のカラーフィルタ
500’・・・オーバーコート層が厚い従来のカラーフィルタ
1、51・・・ガラス基板
2、52・・・ブラックマトリクス
2a、52a・・・ブラックマトリクス用黒色レジスト
2(α1)・・・・ブラックマトリクス用レジストの第1露光部
2(α2)・・・・ブラックマトリクス用レジストの第2露光部
2(α1+α2)・・・ブラックマトリクス用レジストの第1及び第2露光部
21・・・・・第1ブラックマトリクス
22・・・・・第2ブラックマトリクス
23・・・・・第3ブラックマトリクス
52p・・・・露光後のブラックマトリクス用レジスト
3(R)1、3(R)2、53(R)・・・赤色フィルタ
3r・・・・・・赤色レジスト
3(α3)・・・・赤色レジストの第3露光部
3(α4)・・・・赤色レジストの第4露光部
3(α3+α4)・・・赤色レジストの第3及び第4露光部
33・・・・・第1赤色フィルタ
34・・・・・第2赤色フィルタ
334・・・・第3赤色フィルタ
3(G)1、3(G)2、53(G)・・・緑色フィルタ
3g、53(G)a・・・緑色レジスト
3(α5)・・・・緑色レジストの第5露光部
3(α6)・・・・緑色レジストの第6露光部
3(α5+α6)・・・緑色レジストの第5及び第6露光部
35・・・・・第1緑色フィルタ
36・・・・・第2緑色フィルタ
356・・・・第3緑色フィルタ
3(B)1、3(B)2、53(B)・・・青色フィルタ
3b・・・・・・・・・・青色レジスト
3(α7)・・・・青色レジストの第7露光部
3(α8)・・・・青色レジストの第8露光部
3(α7+α8)・・・青色レジストの第7及び第8露光部
37・・・・・第1青色フィルタ
38・・・・・第2青色フィルタ
378・・・・第3青色フィルタ
4、54・・・オーバーコート層
54’・・・・厚めのオーバーコート層
56・・・ツノ部
57・・・液晶層
58・・・視認者
60、65、80、90・・・フォトマスク
61、66、81、91・・・フォトマスク基板
62、67、82、92・・・遮光部
70・・・露光光
dr1、dr2・・・赤色フィルタの凹部
dg・・・・・・・・緑色フィルタの凹部
sg・・・・・・・・緑色フィルタのツノ段差
sg’・・・・・・緩和されたツノ段差
sb1、sb2・・・青色レジストのツノ段差
sb1’、sb2’・・・緩和されたツノ段差
D1、D2、D3、D4・・・レジスト塗布基板の移動距離
ΔH、ΔH、ΔH、ΔH、ΔH・・・ツノ段差
L・・・・視線

Claims (10)

  1. ガラス基板上にブラックマトリクスと、Nが3以上のN色の着色樹脂組成物からなる着色フィルタと、を積層したカラーフィルタであって、
    前記ブラックマトリクスは積層方向における断面視で凸構造であり、
    前記凸構造は中央の第3ブラックマトリクスと、前記第3ブラックマトリクスの両側に隣接した第1ブラックマトリクス及び第2ブラックマトリクスと、からなり、
    前記第3ブラックマトリクスの高さは、前記第1ブラックマトリクスの高さ、及び前記第2ブラックマトリクスの高さよりも高く、
    前記第1ブラックマトリクスの高さ、前記第2ブラックマトリクスの高さ、及び前記第3ブラックマトリクスの高さは、いずれも1.0μm以上である、
    ことを特徴とするカラーフィルタ。
  2. 前記第3ブラックマトリクスの高さは1.1μm以上である、
    ことを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ。
  3. 前記第3ブラックマトリクスの線幅は、前記第1ブラックマトリクスの線幅と前記第3ブラックマトリクスの線幅と前記第2ブラックマトリクスの線幅とを合計した、前記ブラックマトリクス全体の線幅の20%以上、50%以下である、
    ことを特徴とする請求項1、または2に記載のカラーフィルタ。
  4. 前記Nが3以上のN色の着色フィルタのうちの1色の着色フィルタは、表面の両端部に凹部を有する、
    ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のカラーフィルタ。
  5. 前記Nが3以上のN色の着色フィルタのうちの1色の着色フィルタのうち、少なくとも1色の着色フィルタは、表面の片端部のみに凹部を有する、
    ことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のカラーフィルタ。
  6. 前記Nが3以上のN色の着色フィルタのうちの1色の着色フィルタは、表面の両端部に凹部を有さない、
    ことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のカラーフィルタ。
  7. 前記断面視で凸構造のブラックマトリクスは、フォトリソグラフィ法で形成され、
    前記ガラス基板上にブラックマトリクス用レジストを塗布する工程と、
    フォトマスクの露光部を介して前記ブラックマトリクス用レジストが完全に硬化しない露光量で露光する第一露光工程と、
    前記フォトマスクに対する平面視での位置を、前記第一露光工程における前記露光部の一部が重なるようにずらして露光する第二露光工程を含む、
    ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
  8. 前記表面の両端部に凹部を有する1色の着色フィルタは、フォトリソグラフィ法で、1色目の着色フィルタとして形成され、
    前記ガラス基板上に断面視で凸構造の前記ブラックマトリクスを形成した後に、
    前記ガラス基板上に1色目の着色レジストを塗布する工程と、
    フォトマスクの露光部を介して前記1色目の着色レジストが完全に硬化しない露光量で露光する第一露光工程と、
    前記フォトマスクに対する平面視での位置を、前記第一露光工程における前記露光部の一部が重なるようにずらして露光する第二露光工程を含む、
    ことを特徴とする請求項4に記載のカラーフィルタの製造方法。
  9. 前記表面の片端部のみに凹部を有する少なくとも1色の着色フィルタは、フォトリソグラフィ法で、2色目以上(N−1)色目以下の着色フィルタとして形成され、
    前記ガラス基板上に断面視で凸構造の前記ブラックマトリクスを形成し、さらに1色目の着色フィルタを形成した後に、
    前記ガラス基板上に着色レジストを塗布する工程と、
    フォトマスクの露光部を介して前記着色レジストが完全に硬化しない露光量で露光する第一露光工程と、
    前記フォトマスクに対する平面視での位置を、前記第一露光工程における前記露光部の一部が重なるようにずらして露光する第二露光工程を含む、
    ことを特徴とする請求項5に記載のカラーフィルタの製造方法。
  10. 前記表面の両端部に凹部を有さない1色の着色フィルタは、フォトリソグラフィ法で、N色目の着色フィルタとして形成され、
    前記ガラス基板上に断面視で凸構造の前記ブラックマトリクスを形成し、さらに(N−1)以下の色数の着色フィルタを形成した後に、
    前記ガラス基板上に着色レジストを塗布する工程と、
    フォトマスクの露光部を介して前記着色レジストが完全に硬化しない露光量で露光する第一露光工程と、
    前記フォトマスクに対する平面視での位置を、前記第一露光工程における前記露光部の一部が重なるようにずらして露光する第二露光工程を含む、
    ことを特徴とする請求項6に記載のカラーフィルタの製造方法。
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