CN105629560B - 彩色滤光片及其制造方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种彩色滤光片及其制造方法、显示面板、显示装置及掩模板，属于显示技术领域。该制造方法包括：在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一彩色层，黑矩阵包括由多个横纵交错的隔挡形成的多个开口，每N个开口对应一个像素单元，第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于第一开口内的像素，第二子彩色层包括第二开口和第三开口共用隔挡上的像素，或，第一彩色层包括位于第一开口内的像素，位于第一开口内像素靠近第二开口一侧角段差小于第一开口内像素远离第二开口一侧角段差；在形成有第一彩色层的衬底基板上形成第二彩色层，解决了液晶显示器品质较差，透光均匀性较差的问题，提高了液晶显示器品质和透光均匀性。

Description

彩色滤光片及其制造方法、显示面板、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩色滤光片及其制造方法、显示面板、显示装置及掩模板。

背景技术

液晶显示器(英文：Liquid Crystal Display；简称：LCD)为非主动发光的元件，需要透过内部的背光源提供光源，通过控制液晶旋转角度形成黑、白两色的灰阶显示，再透过彩色滤光片(英文：Color Filter；简称：CF)的红(R)、绿(G)、蓝 (B)三种彩色层形成彩色显示画面。

现有技术中有一种彩色滤光片，如图1所示，该彩色滤光片采用黑矩阵(英文：Black Matrix；简称：BM)102将红、绿、蓝三种彩色层分别隔开。在制作该彩色滤光片时，通常是在衬底基板101上形成BM102，然后在形成有BM102 的衬底基板101上的红色膜层上通过构图工艺形成红色彩色层103，在形成有红色彩色层103的衬底基板101上的绿色膜层上通过构图工艺形成绿色彩色层 104，在形成有绿色彩色层104的衬底基板101上的蓝色膜层上通过构图工艺形成蓝色彩色层105。构图工艺主要包括清洗、涂胶、预固化、曝光、显影和固化 6个阶段。

由于制造上述彩色滤光片时是先涂布红色彩色层，再涂布绿色彩色层，最后涂布蓝色彩色层，所以如图1所示，最终在第二开口14形成的绿色彩色层104 靠近第一开口13的一侧的角段差106较大，绿色彩色层104靠近第三开口15 的一侧的角段差107较小，所以，绿色彩色层两侧的角段差相差较大，厚度的均匀性较差，因此，液晶显示器的品质较差，透光均匀性较差。

发明内容

为了解决现有技术中液晶显示器的品质较差，透光均匀性较差的问题，本发明提供了一种彩色滤光片及其制造方法、显示面板、显示装置及掩模板。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种彩色滤光片的制造方法，所述方法包括：

在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一彩色层，所述黑矩阵包括由多个横纵交错的隔挡形成的多个开口，每N个开口对应一个像素单元，所述N大于或等于3，所述第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，所述第一子彩色层包括位于所述黑矩阵的第一开口内的像素，所述第二子彩色层包括所述黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，所述第一开口、所述第二开口和所述第三开口为对应一个像素单元且依次相邻的三个开口，

或，所述第一彩色层包括位于所述黑矩阵的第一开口内的像素，位于所述第一开口内的像素靠近所述第二开口的一侧的角段差小于所述第一开口内的像素远离所述第二开口的一侧的角段差；

在形成有所述第一彩色层的衬底基板上形成所述第二彩色层，所述第二彩色层包括位于所述黑矩阵的第二开口内的像素。

可选的，所述在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一彩色层，包括：

在形成有所述黑矩阵的衬底基板上采用掩模板形成所述第一彩色层，所述掩模板包括透明基板，所述透明基板上形成有不透光区域，形成有所述不透光区域的透明基板上形成有光线调节区域，所述透明基板上除所述光线调节区域及所述不透光区域之外的区域为全透光区域，所述光线调节区域为透光孔或半透光区域。

可选的，所述光线调节区域为所述透光孔，所述透光孔在所述衬底基板上的投影位于所述第二开口和所述第三开口共用的隔挡上靠近所述第二开口的位置，所述在形成有所述黑矩阵的衬底基板上采用掩模板形成所述第一彩色层，包括：

在形成有所述黑矩阵的衬底基板上采用所述掩模板的全透光区域和透光孔形成所述第一子彩色层和所述第二子彩色层。

可选的，所述光线调节区域为所述半透光区域，所述半透光区域在所述衬底基板上的投影位于所述第一开口与所述第一开口和所述第二开口共用的隔挡的交界处，所述在形成有所述黑矩阵的衬底基板上采用掩模板形成所述第一彩色层，包括：

在形成有所述黑矩阵的衬底基板上采用所述掩模板的全透光区域和半透光区域形成所述第一彩色层。

可选的，所述透光孔为直线状，所述透光孔的长度小于或等于像素显示区的长度，所述透光孔的宽度为所述黑矩阵的宽度的三分之一至二分之一。

可选的，在所述在形成有所述第一彩色层的衬底基板上形成所述第二彩色层之后，所述方法还包括：

在形成有所述第二彩色层的衬底基板上形成所述第三彩色层。

第二方面，提供了一种彩色滤光片，所述彩色滤光片包括：

衬底基板；

所述衬底基板上形成有黑矩阵，所述黑矩阵包括由多个横纵交错的隔挡形成的多个开口，每N个开口对应一个像素单元，所述N大于或等于3；

形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成有第一彩色层，所述第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，所述第一子彩色层包括位于所述黑矩阵的第一开口内的像素，所述第二子彩色层包括所述黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，所述第一开口、所述第二开口和所述第三开口为对应一个像素单元且依次相邻的三个开口，

或，所述第一彩色层包括位于所述黑矩阵的第一开口内的像素，位于所述第一开口内的像素靠近所述第二开口的一侧的角段差小于所述第一开口内的像素远离所述第二开口的一侧的角段差；

形成有所述第一彩色层的衬底基板上形成有所述第二彩色层，所述第二彩色层包括位于所述黑矩阵的第二开口内的像素。

可选的，所述彩色滤光片还包括：

形成有所述第二彩色层的衬底基板上形成有所述第三彩色层。

第三方面，提供了一种显示面板，包括第二方面所述的彩色滤光片。

第四方面，提供了一种显示装置，包括第三方面所述的显示面板。

第五方面，提供了一种掩模板，所述掩模板包括：

透明基板；

所述透明基板上形成有不透光区域；

形成有所述不透光区域的透明基板上形成有光线调节区域，所述透明基板上除所述光线调节区域及所述不透光区域之外的区域为全透光区域，所述光线调节区域为透光孔或半透光区域；

其中，所述全透光区域和所述光线调节区域用于共同形成第一彩色层。

可选的，形成有所述不透光区域的透明基板上形成有全透光膜层；

所述全透光膜层上形成有所述透光孔，所述透光孔在待形成所述第一彩色层的衬底基板上的投影位于第二开口和第三开口共用的隔挡上靠近所述第二开口的位置，所述第二开口用于形成第二彩色层，所述第三开口用于形成第三彩色层。

可选的，形成有所述不透光区域的透明基板上形成有半透光膜层；

所述半透光膜层上形成有所述半透光区域，所述半透光区域在待形成所述第一彩色层的衬底基板上的投影位于第一开口与所述第一开口和第二开口共用的隔挡的交界处，所述第一开口用于形成所述第一彩色层，所述第二开口用于形成第二彩色层。

可选的，所述透光孔为直线状，所述透光孔的长度小于或等于像素显示区的长度，所述透光孔的宽度为所述黑矩阵的宽度的三分之一至二分之一。

可选的，所述透明基板上形成有不透光膜层；

所述不透光膜层上形成有所述不透光区域。

可选的，所述半透光膜层和所述不透光膜层位于所述透明基板的同一侧或不同侧。

本发明提供了一种彩色滤光片及其制造方法、显示面板、显示装置及掩模板，由于该制造方法形成的第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，第二子彩色层包括黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，或者，第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差，使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术中彩色滤光片的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种彩色滤光片的制造方法的流程图；

图3-1是本发明实施例提供的另一种彩色滤光片的制造方法的流程图；

图3-2是图3-1所示实施例中掩模板的结构示意图；

图3-3是图3-2所示掩模板的俯视图；

图3-4至图3-8是图3-1所示流程中彩色滤光片的结构示意图；

图4-1是本发明实施例提供的又一种彩色滤光片的制造方法的流程图；

图4-2是图4-1所示实施例中掩模板的结构示意图；

图4-3是图4-2所示掩模板的俯视图；

图4-4至图4-8是图4-1所示流程中彩色滤光片的结构示意图；

图5-1是现有技术中制造彩色滤光片的掩模板的结构示意图；

图5-2是图5-1所示掩模板的俯视图；

图5-3至图5-7是采用现有技术中的掩模板制造的彩色滤光片的结构示意图。

通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

本发明实施例提供了一种彩色滤光片的制造方法，如图2所示，该方法包括：

步骤201、在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一彩色层，黑矩阵包括由多个横纵交错的隔挡形成的多个开口，每N个开口对应一个像素单元，N大于或等于3，第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，第二子彩色层包括黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，第一开口、第二开口和第三开口为对应一个像素单元且依次相邻的三个开口，或，第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差。

步骤202、在形成有第一彩色层的衬底基板上形成第二彩色层，第二彩色层包括位于黑矩阵的第二开口内的像素。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光片的制造方法，由于该制造方法形成的第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，第二子彩色层包括黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，或者，第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差，使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

进一步的，步骤201可以包括：在形成有黑矩阵的衬底基板上采用掩模板形成第一彩色层。该掩模板包括透明基板，透明基板上形成有不透光区域，形成有不透光区域的透明基板上形成有光线调节区域，透明基板上除光线调节区域及不透光区域之外的区域为全透光区域，该光线调节区域为透光孔或半透光区域。

本发明实施例提供了另一种彩色滤光片的制造方法，如图3-1所示，该方法包括：

步骤301、在形成有黑矩阵的衬底基板上采用掩模板的全透光区域和透光孔形成第一彩色层，第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层。

可选的，如图3-2所示，该掩模板包括透明基板221，透明基板221上形成有不透光区域222，形成有不透光区域222的透明基板221上形成有光线调节区域223，光线调节区域223为透光孔，示例的，透光孔可以为直线状，透光孔的长度小于或等于像素显示区的长度，透光孔的宽度为黑矩阵的宽度的三分之一至二分之一。透明基板221上除透光孔及不透光区域222之外的区域为全透光区域224。透光孔在衬底基板101上的投影位于第二开口14和第三开口15共用的隔挡上靠近第二开口14的位置。图3-2中，101为衬底基板，102为黑矩阵。13为第一开口。图3-3示出了图3-2所示的掩模板的俯视图，图3-3中，224为全透光区域，223为透光孔，222为不透光区域。示例的，透光孔还可以为波纹状，本发明实施例对透光孔的形状不做限定。

如图3-4所示，在形成有黑矩阵102的衬底基板101上采用掩模板的全透光区域224和透光孔223形成第一彩色层，该第一彩色层包括第一子彩色层241 和第二子彩色层242。其中，第一子彩色层241包括位于黑矩阵102的第一开口 13内的像素，第二子彩色层242包括黑矩阵102的第二开口14和第三开口15 共用的隔挡上的像素，示例的，第二子彩色层242的高度与第一子彩色层241 的高度相等。第一开口13、第二开口14和第三开口15为对应一个像素单元且依次相邻的三个开口。图3-4中的243为另一像素单元中的第一彩色层。具体的，在形成有黑矩阵的衬底基板上采用掩模板的全透光区域和透光孔形成第一彩色层的过程可以为：在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一膜层；在形成有第一膜层的衬底基板上通过一次构图工艺形成第一彩色层。构图工艺主要包括清洗、涂胶、预固化、曝光、显影和固化6个阶段。其中，涂胶阶段中涂覆的光刻胶为负性光刻胶。曝光阶段采用紫外光进行曝光。

步骤302、在形成有第一彩色层的衬底基板上形成第二彩色层。

如图3-5所示，在形成有第一彩色层(包括第一子彩色层241和第二子彩色层242)的衬底基板101上形成第二膜层251。接着，按照现有技术通过一次构图工艺形成第二彩色层252，如图3-6所示。第二彩色层252包括位于黑矩阵102 的第二开口14内的像素。由于第一彩色层包括第一子彩色层241和第二子彩色层242，所以在形成第二彩色层时，第二彩色层两侧的环境是对称的，当用于喷涂第二膜层的涂料喷嘴从形成有第一彩色层的衬底基板的上方经过时，喷涂在衬底基板上的第二膜层比较平滑，因此，通过步骤302形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好。图3-5和图3-6中的其他标号可以参考图3-4进行说明。

步骤303、在形成有第二彩色层的衬底基板上形成第三彩色层。

如图3-7所示，在形成有第二彩色层252的衬底基板101上形成第三膜层 261。接着，按照现有技术通过一次构图工艺形成第三彩色层262。如图3-8所示。图3-7和图3-8中的其他标号可以参考图3-2、图3-4至图3-6进行说明。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光片的制造方法，由于该制造方法形成的第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，第二子彩色层包括黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

本发明实施例提供了又一种彩色滤光片的制造方法，如图4-1所示，该方法包括：

步骤401、在形成有黑矩阵的衬底基板上采用掩模板的全透光区域和半透光区域形成第一彩色层，第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差。

可选的，如图4-2所示，该掩模板包括透明基板221，透明基板221上形成有不透光区域222，形成有不透光区域222的透明基板221上形成有光线调节区域223，光线调节区域223为半透光区域。透明基板221上除半透光区域及不透光区域222之外的区域为全透光区域224。半透光区域在衬底基板101上的投影位于第一开口13与第一开口13和第二开口14共用的隔挡的交界处。该掩模板也称作半色调掩模板(Half Tone Mask)。不透光区域设置有不透光膜层，半透光区域设置有可调节光透射率的半透光膜层。不透光膜层和半透光膜层可以设置在透明基板的同一侧，也可以设置在透明基板的不同侧。半色调掩模板的全透光区域允许光全部通过，不透光区域使光全部不通过，半透光区域允许光部分通过，且半透光区域的光透射率可以调节。半透光区域能够使光均匀通过，从而使衬底基板相应位置处形成的残留膜层的厚度一致。

图4-3示出了图4-2所示的掩模板的俯视图，图4-3中，224为全透光区域， 223为半透光区域，222为不透光区域。

如图4-4所示，在形成有黑矩阵102的衬底基板101上采用掩模板的全透光区域224和半透光区域223形成第一彩色层441，第一彩色层441包括位于黑矩阵的第一开口13内的像素，位于第一开口13内的像素靠近第二开口14的一侧的角段差442小于第一开口13内的像素远离第二开口14的一侧的角段差443。图4-4中的440为另一像素单元中的第一彩色层。具体的，在形成有黑矩阵的衬底基板上采用掩模板的全透光区域和半透光区域形成第一彩色层的过程可以为：在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一膜层；在形成有第一膜层的衬底基板上通过一次构图工艺形成第一彩色层。构图工艺主要包括清洗、涂胶、预固化、曝光、显影和固化6个阶段。其中，涂胶阶段中涂覆的光刻胶为负性光刻胶。由于采用半色调掩模板对衬底基板进行曝光，所以位于第一开口13内的负性光刻胶靠近第二开口14的一侧会曝光不充分，曝光处理后再进行显影处理和固化处理，最终使得位于第一开口13内的像素靠近第二开口14的一侧的角段差小于第一开口13内的像素远离第二开口14的一侧的角段差。

步骤402、在形成有第一彩色层的衬底基板上形成第二彩色层。

如图4-5所示，在形成有第一彩色层441的衬底基板101上形成第二膜层 251。接着，按照现有技术通过一次构图工艺形成第二彩色层252，如图4-6所示。第二彩色层252包括位于黑矩阵102的第二开口14内的像素。由于第一彩色层441包括位于黑矩阵的第一开口13内的像素，位于第一开口13内的像素靠近第二开口14的一侧的角段差小于第一开口13内的像素远离第二开口14的一侧的角段差，所以在形成第二彩色层时，第二彩色层两侧的环境是对称的，当用于喷涂第二膜层的涂料喷嘴从形成有第一彩色层的衬底基板的上方经过时，喷涂在衬底基板上的第二膜层比较平滑，因此，通过步骤402形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好。图4-5和图4-6中的其他标号可以参考图4-4进行说明。

步骤403、在形成有第二彩色层的衬底基板上形成第三彩色层。

如图4-7所示，在形成有第二彩色层252的衬底基板101上形成第三膜层 261。接着，按照现有技术通过一次构图工艺形成第三彩色层262，如图4-8所示。在形成第三彩色层262时，第三彩色层两侧的环境是对称的，即黑矩阵102 的第二开口14和第三开口15共用的隔挡上有像素，黑矩阵的第三开口15和另一像素单元的第一开口共用的隔挡上也有像素，所以，形成的第三彩色层两侧的角段差相差较小。图4-7和图4-8中的其他标号可以参考图4-2、图4-4至图 4-6进行说明。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光片的制造方法，由于该制造方法形成的第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差，使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

图5-1示出了现有技术中制造彩色滤光片的掩模板的结构示意图，该掩模板包括透明基板221，透明基板221上形成有不透光区域222，透明基板221上除不透光区域222之外的区域为全透光区域224。图5-2为图5-1所示的掩模板的俯视图，图5-2中，224为全透光区域，222为不透光区域。

现有技术中，如图5-3所示，在形成有黑矩阵102的衬底基板101上采用掩模板的全透光区域形成第一彩色层441。440为另一像素单元中的第一彩色层。如图5-4所示，在形成有第一彩色层441的衬底基板101上形成第二膜层251。接着，通过一次构图工艺形成第二彩色层252，如图5-5所示。构图工艺主要包括清洗、涂胶、预固化、曝光、显影和固化6个阶段。彩色层涂胶采用负性光刻胶，负性光刻胶经过曝光、显影后，曝光的负性光刻胶保留，未曝光的负性光刻胶被洗掉，最后再经过烘烤炉(OVEN)固化阶段，形成彩色层。第二彩色层252包括位于黑矩阵102的第二开口14内的像素。由于第一彩色层441的存在，所以在形成第二彩色层252时，第二彩色层252两侧的环境是不对称的，即黑矩阵102的第一开口13和第二开口14共用的隔挡上有像素，黑矩阵102 的第二开口14和第三开口15共用的隔挡上没有像素，当涂料喷嘴从衬底基板的上方经过时，喷涂在衬底基板上的第二膜层不平滑，最终使得第二彩色层252 靠近第一开口13的一侧的角段差较大，靠近第三开口15的一侧的角段差较小。而第二彩色层两侧的角段差相差越大，产品品质受到影响就越大。

然后，如图5-6所示，在形成有第二彩色层252的衬底基板101上形成第三膜层261。最后，通过一次构图工艺形成第三彩色层262。如图5-7所示。在形成第三彩色层262时，第三彩色层262两侧的环境是对称的，即黑矩阵102的第二开口14和第三开口15共用的隔挡上有像素，黑矩阵102的第三开口15和另一像素单元的第一开口共用的隔挡上也有像素，所以，形成的第三彩色层两侧的角段差相差较小。

因此，相较于现有技术，采用本发明实施例提供的彩色滤光片的制造方法，能够保证在形成第二彩色层时，第二彩色层两侧的环境对称，从而使形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

本发明实施例提供了一种彩色滤光片，如图3-8所示，该彩色滤光片包括：

衬底基板101；

衬底基板101上形成有黑矩阵102，黑矩阵102包括由多个横纵交错的隔挡形成的多个开口，每N个开口对应一个像素单元，N大于或等于3；

形成有黑矩阵102的衬底基板101上形成有第一彩色层，第一彩色层包括第一子彩色层241和第二子彩色层242，第一子彩色层241包括位于黑矩阵102 的第一开口13内的像素，第二子彩色层242包括黑矩阵102的第二开口14和第三开口15共用的隔挡上的像素，第一开口13、第二开口14和第三开口15为对应一个像素单元且依次相邻的三个开口(N等于3)；

形成有第一彩色层的衬底基板101上形成有第二彩色层252，第二彩色层 252包括位于黑矩阵102的第二开口14内的像素。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光片，由于该彩色滤光片的第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，第二子彩色层包括黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

进一步的，如图3-8所示，该彩色滤光片还包括：

形成有第二彩色层252的衬底基板101上形成有第三彩色层262。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光片，由于该彩色滤光片的第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，第二子彩色层包括黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

本发明实施例提供了另一种彩色滤光片，如图4-8所示，该彩色滤光片包括：

衬底基板101；

衬底基板上形成有黑矩阵102，黑矩阵102包括由多个横纵交错的隔挡形成的多个开口，每N个开口对应一个像素单元，N大于或等于3；

形成有黑矩阵102的衬底基板101上形成有第一彩色层441，第一彩色层 441包括位于黑矩阵102的第一开口13内的像素，位于第一开口13内的像素靠近第二开口14的一侧的角段差小于第一开口13内的像素远离第二开口14的一侧的角段差；

形成有第一彩色层441的衬底基板101上形成有第二彩色层252，第二彩色层252包括位于黑矩阵102的第二开口14内的像素。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光片，由于该彩色滤光片的第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差，使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

进一步的，如图4-8所示，该彩色滤光片还包括：

形成有第二彩色层252的衬底基板101上形成有第三彩色层262。

综上所述，本发明实施例提供的彩色滤光片，由于该彩色滤光片的第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差，使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

本发明实施例提供了一种显示面板，包括图3-8或图4-8所示的彩色滤光片。

本发明实施例提供了一种显示装置，包括显示面板，该显示面板包括图3-8 或图4-8所示的彩色滤光片。

本发明实施例提供了一种掩模板，如图3-2所示，该掩模板包括：

透明基板221；

透明基板221上形成有不透光区域222；

形成有不透光区域222的透明基板221上形成有光线调节区域223，透明基板221上除光线调节区域223及不透光区域222之外的区域为全透光区域224，该光线调节区域223为透光孔。

其中，全透光区域224和光线调节区域223用于共同形成第一彩色层。

综上所述，本发明实施例提供的掩模板，由于该掩模板包括透光孔，使得通过该掩模板在衬底基板上形成的第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，第二子彩色层包括黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，进而使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

可选的，透光孔为直线状，透光孔的长度小于或等于像素显示区的长度，透光孔的宽度为黑矩阵的宽度的三分之一至二分之一。此外，透光孔还可以为波纹状。本发明实施例对透光孔的形状不做限定。

可选的，如图3-2所示，形成有不透光区域的透明基板上形成有全透光膜层；全透光膜层上形成有透光孔，透光孔在待形成第一彩色层的衬底基板101上的投影位于第二开口14和第三开口15共用的隔挡上靠近第二开口14的位置，第二开口14用于形成第二彩色层，第三开口15用于形成第三彩色层。

综上所述，本发明实施例提供的掩模板，由于该掩模板包括透光孔，使得通过该掩模板在衬底基板上形成的第一彩色层包括第一子彩色层和第二子彩色层，第一子彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，第二子彩色层包括黑矩阵的第二开口和第三开口共用的隔挡上的像素，进而使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

本发明实施例提供了另一种掩模板，如图4-2所示，该掩模板包括：

透明基板221；

透明基板221上形成有不透光区域222；

形成有不透光区域222的透明基板221上形成有光线调节区域223，透明基板221上除光线调节区域223及不透光区域222之外的区域为全透光区域224，该光线调节区域223为半透光区域。

其中，全透光区域224和光线调节区域223用于共同形成第一彩色层。

综上所述，本发明实施例提供的掩模板，由于该掩模板包括半透光区域，使得通过该掩模板在衬底基板上形成的第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差，进而使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

可选的，如图4-2所示，形成有不透光区域的透明基板上形成有半透光膜层；半透光膜层上形成有半透光区域，半透光区域在待形成第一彩色层的衬底基板 101上的投影位于第一开口13与第一开口13和第二开口14共用的隔挡的交界处，第一开口13用于形成第一彩色层，第二开口14用于形成第二彩色层。

可选的，如图4-2所示，透明基板上形成有不透光膜层；不透光膜层上形成有不透光区域222。

可选的，半透光膜层和不透光膜层位于透明基板的同一侧或不同侧。即不透光膜层和半透光膜层可以设置在透明基板的同一侧，也可以设置在透明基板的不同侧。

该掩模板的全透光区域允许光全部通过，不透光区域能够使光全部不通过，半透光区域允许光部分通过，且半透光区域的光透射率可以调节。半透光区域能够使光均匀通过，从而使衬底基板相应位置处形成的残留膜层的厚度一致。

综上所述，本发明实施例提供的掩模板，由于该掩模板包括半透光区域，使得通过该掩模板在衬底基板上形成的第一彩色层包括位于黑矩阵的第一开口内的像素，位于第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于第一开口内的像素远离第二开口的一侧的角段差，进而使得后续形成的第二彩色层两侧的角段差相差较小，厚度的均匀性更好，因此，提高了液晶显示器的品质和透光均匀性。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一彩色层，所述黑矩阵包括由多个横纵交错的隔挡形成的多个开口，每N个开口对应一个像素单元，所述N大于或等于3，所述第一彩色层包括位于所述黑矩阵的第一开口内的像素，位于所述第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于所述第一开口内的像素远离所述第二开口的一侧的角段差；

在形成有所述第一彩色层的衬底基板上形成第二彩色层，所述第二彩色层包括位于所述黑矩阵的所述第二开口内的像素；

在形成有所述第二彩色层的衬底基板上形成第三彩色层，所述第三彩色层包括位于所述黑矩阵的第三开口内的像素，所述第一开口、所述第二开口以及所述第三开口为与一个像素单元对应且依次相邻的三个开口。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一彩色层，包括：

在形成有所述黑矩阵的衬底基板上采用掩模板形成所述第一彩色层，所述掩模板包括透明基板，所述透明基板上形成有不透光区域，形成有所述不透光区域的透明基板上形成有光线调节区域，所述透明基板上除所述光线调节区域及所述不透光区域之外的区域为全透光区域，所述光线调节区域为半透光区域。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述光线调节区域为所述半透光区域，所述半透光区域在所述衬底基板上的投影位于所述第一开口与所述第一开口和所述第二开口共用的隔挡的交界处，所述在形成有所述黑矩阵的衬底基板上采用掩模板形成所述第一彩色层，包括：

在形成有所述黑矩阵的衬底基板上采用所述掩模板的全透光区域和半透光区域形成所述第一彩色层。

4.一种彩色滤光片，其特征在于，所述彩色滤光片包括：

衬底基板；

所述衬底基板上形成有黑矩阵，所述黑矩阵包括由多个横纵交错的隔挡形成的多个开口，每N个开口对应一个像素单元，所述N大于或等于3；

形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成有第一彩色层，所述第一彩色层包括位于所述黑矩阵的第一开口内的像素，位于所述第一开口内的像素靠近第二开口的一侧的角段差小于所述第一开口内的像素远离所述第二开口的一侧的角段差；

形成有所述第一彩色层的衬底基板上形成有第二彩色层，所述第二彩色层包括位于所述黑矩阵的所述第二开口内的像素；

形成有所述第二彩色层的衬底基板上形成有第三彩色层，所述第三彩色层包括位于所述黑矩阵的第三开口内的像素，所述第一开口、所述第二开口以及所述第三开口为与一个像素单元对应且依次相邻的三个开口。

5.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求4所述的彩色滤光片。

6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求5所述的显示面板。

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