JP6682759B2 - カラーフィルタ基板の製造方法 - Google Patents
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Description
そしてフォトマスク10は、透明基板A19上に、
第1のフォトスペーサ15に対応した開口部11と、
第2のフォトスペーサ16に対応したハーフトーン膜A形成部12と、
オーバーコート層17に対応したハーフトーン膜A12よりも透過率の少ないハーフトーン膜B形成部13と、
前記カラーフィルタパネルの外周部に対応した遮光部と、
を具備する。
(1)まず図2(a)に示すように、透明基板B上110に、少なくとも、ブラックマトリクス120と、複数色の着色画素130と、を形成する。
(2)つぎに、形成された透明基板B110上にフォトレジスト17を塗布、形成する(図2(b))。
(3)つぎに、上記実施形態例で記載のフォトマスク10を介し、フォトレジスト17を露光・現像する(図2(c))。
(4)つぎに、不要なレジストを除去し、カラーフィルタ基板を得る(図2(d))。
サブPS部) HT膜:酸化Cr 透過率20〜40%
OC 部) HT膜:酸化Cr 透過率5〜10%
パネル外周部)遮光膜:Cr 透過率0%
このような特性値を有する材料を用いてフォトマスクを設計する手法を例示する。
メインPS Aμm
サブPS 0.8Aμm
メインPS/サブPS膜厚差 0.2Aμm
OC膜厚 0.4Aμm
フォトレジスト膜厚は、この設計値から1.4Aμmと選定される。
フォトレジストとしては、ネガ型フォトレジストを用いる。
サブPS部) HT膜 透過率20%
OC 部) HT膜 透過率6%
として選定できる。
(1)まず、透明基板の全面に酸化クロム膜31とクロム膜32を順次形成する(図5(a)に示す)。この膜形成はスパッタ方式で形成するのがよく、酸化クロム膜の形成には、アルゴンガスと酸素ガスを混合した雰囲気中でスパッタして形成することで、クロムを共通のターゲットとすることができるので、それぞれの材料をターゲットとする必要がないので作業が効率が上がる。そして、酸化クロム膜はオーバーコート層17の形成に必要な透過率を満足する膜厚となる様に形成する。酸化クロム膜は、半透明膜である。
(2)つぎに、遮光部14に対応した部位にレジストが残る様に、レジストパターン41を形成する(図5(b)に示す)。
(3)クロム膜をエッチングする(図5(c)に示す)。
(4)つぎに、第1のフォトスペーサ15の開口部11と、第2のフォトスペーサ16のハーフトーン膜A形成部12と、に対応した部位が開口したレジストパターンを形成する(図5(d)に示す)。
(6)つぎに、レジストパターン42を全て剥離してから、開口部11に対応した部位が開口したレジストパターン43を形成する(図5(f)に示す)。
(7)つぎに酸化クロムをエッチングして、開口部11の酸化クロム膜を全て除去する(図6(g)に示す)。
(8)レジストパターン43を剥離する(図6(h)に示す)。
オーバーコート層17に対応した部位を開口した遮光部14には、クロム膜と基板に形成した厚さの酸化クロム膜、
第1のフォトスペーサ15に対応した開口部11には、透明基板の開口部、
第2のフォトスペーサ16に対応したハーフトーン膜A形成部12には、ハーフトーン膜A形成部12に必要な透過率を満足する膜厚の酸化クロム膜、
遮光層と開口部とハーフトーン膜A形成部とを除く部位13には、形成した膜厚の酸化クロム膜、がそれぞれ対応する。そして、それぞれの部位が設計に対応した透過率となるように、各膜の厚さを調整して製造する。なお、本実施例では透過率を調整するための膜として酸化クロム膜を用いたが、別の材料を用いてもよい。例えば、モリブデンシリサイドを用いることができる。
11・・・開口部
12・・・ハーフトーン膜A形成部
13・・・ハーフトーン膜B形成部
14・・・遮光部
15・・・第1のフォトスペーサ
16・・・第2のフォトスペーサ
17・・・オーバーコート層
18・・・着色画素
19・・・透明基板
20・・・カラーフィルタ基板
31・・・酸化クロム膜
32・・・クロム膜
41、42、43・・・レジストパターン
110・・・透明基板
120・・・遮光膜
130・・・透明着色画素
140・・・オーバーコート層
151・・・第1のフォトスペーサ
152・・・第2のフォトスペーサ
190・・・ハーフトーン膜
200・・・カラーフィルタ基板__
Claims (3)
- 透明基板上に多数のカラーフィルタパネルを面付けしたカラーフィルタ基板を製造するため、少なくとも、ブラックマトリックスと複数の着色画素とを形成する工程と、フォトレジストを塗布する工程と、第1のフォトスペーサに対応した開口部と第2のフォトスペーサに対応したハーフトーン膜A形成部とオーバーコート層に対応し、かつ、前記ハーフトーン膜Aよりも透過率の少ないハーフトーン膜B形成部と前記カラーフィルタパネルの外周部に対応した遮光部とを有するフォトマスクを用いて前記フォトレジストを露光・現像する工程と、を含むカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記遮光部で、前記カラーフィルタパネルの外周部のオーバーコート層を除去することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
- 請求項1に記載の前記フォトマスクが、
前記第1のフォトスペーサの高さをA、
前記第2のフォトスペーサの透過率を0.8×A、
前記オーバーコート層の厚みを0.4×Aとするため、
前記ハーフトーン膜Aの透過率を20%、
前記ハーフトーン膜Bの透過率を6%と
したフォトマスクであることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記フォトレジストがネガ型であることを特徴とする請求項1または2に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
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