JP2021070603A - Method for breaking bonded substrate and method for dividing stress substrate - Google Patents

Method for breaking bonded substrate and method for dividing stress substrate Download PDF

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Abstract

To provide a method for suitably and surely breaking a substrate bonded on a ground substrate by resins having different thermal shrinkages.SOLUTION: A method for breaking a bonded substrate comprises: the bonding step of bonding a bonded substrate while deforming the bonded substrate into a flat shape by contacting one main surface of a ground substrate to a holding tape horizontally stretched while pressing the bonded substrate from a side of the other main surface; the scribing step of forming a scribe line along a breaking schedule position of the bonded substrate by pressure-contacting and rolling a scribing wheel on the other main surface along the break schedule position to extend a vertical crack along the break schedule position; and the break step of breaking the ground substrate by pushing a break bar by a predetermined pushing amount from the side of the one main surface. In the scribing step, a scribe load applied to the ground substrate is set so that a ratio of an expansion depth of the vertical crack to a thickness of the ground substrate is 5-30%.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、基板の分断に関し、特に、脆性材料基板に樹脂が貼り合わされてなる貼り合わせ基板の分断に関する。 The present invention relates to the division of a substrate, and more particularly to the division of a bonded substrate formed by bonding a resin to a brittle material substrate.

ガラスウェハなどの脆性材料基板に樹脂が貼り合わされてなる貼り合わせ基板は、電子部品などの種々の母基板として利用される。そのような貼り合わせ基板は通常、多数の個片に分断されて使用されることから、これを精度良く分断したいという一定のニーズがある。 A bonded substrate in which a resin is bonded to a brittle material substrate such as a glass wafer is used as various mother substrates such as electronic components. Since such a bonded substrate is usually divided into a large number of pieces and used, there is a certain need to divide the bonded substrate with high accuracy.

特開2015−070267号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-070267

上述のような貼り合わせ基板の中には、樹脂の収縮率と下地基板の収縮率との相違に起因して、樹脂側が凸または凹になる形態にて反っている(湾曲している)ものがある。このような反り(湾曲)のある貼り合わせ基板を好適にかつ確実に分断する手法は、必ずしも見出されてはいない。 Some of the bonded substrates as described above are warped (curved) in a form in which the resin side is convex or concave due to the difference between the shrinkage rate of the resin and the shrinkage rate of the underlying substrate. There is. A method for appropriately and surely dividing a bonded substrate having such a warp (curvature) has not always been found.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、下地基板と熱収縮率が異なる樹脂が下地基板に貼り合わされてなる貼り合わせ基板を好適にかつ確実に分断出来る方法を提供することを、目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method capable of appropriately and surely dividing a bonded substrate in which a resin having a heat shrinkage ratio different from that of the base substrate is bonded to the base substrate. And.

上記課題を解決するため、請求項1の発明は、下地基板の一方主面に前記下地基板とは熱収縮率が異なる樹脂が貼り合わされてなり、前記樹脂側が凸状または凹状に反っている貼り合わせ基板を、あらかじめ定められた分断予定位置にて分断する方法であって、前記一方主面側から前記貼り合わせ基板を押圧しつつ前記下地基板の他方主面を水平に張設された保持テープと接触させることによって、前記貼り合わせ基板を平坦な形状に変形させつつ前記保持テープに貼付する貼付工程と、前記保持テープに貼付された前記貼り合わせ基板の前記分断予定位置に沿って、スクライビングホイールを前記一方主面上で圧接転動させることによって、前記下地基板に前記分断予定位置に沿ったスクライブラインを形成し、前記下地基板の厚み方向において前記分断予定位置に沿った垂直クラックを伸展させる、スクライブ工程と、前記下地基板の前記他方主面側からブレークバーを所定の押し込み量にて押し込むことで、前記下地基板を分断するブレーク工程と、を備え、前記スクライブ工程においては、前記垂直クラックの伸展深さの前記下地基板の厚みに対する比が5%〜30%となるように、前記スクライビングホイールを前記一方主面上で圧接転動させる際に前記スクライビングホイールが前記下地基板に印加するスクライブ荷重を設定する、ことを特徴とする。 In order to solve the above problems, in the invention of claim 1, a resin having a heat shrinkage rate different from that of the base substrate is bonded to one main surface of the base substrate, and the resin side is curved in a convex or concave shape. A holding tape in which the laminated substrate is divided at a predetermined planned division position, and the other main surface of the base substrate is horizontally stretched while pressing the bonded substrate from the one main surface side. The scribing wheel is attached to the holding tape while deforming the bonded substrate into a flat shape by contacting with the holding tape, and along the planned division position of the bonded substrate attached to the holding tape. Is pressed and rolled on one of the main surfaces to form a scribing line along the planned division position on the base substrate, and vertical cracks along the planned division position are extended in the thickness direction of the base substrate. , A break step of dividing the base substrate by pushing a break bar from the other main surface side of the base substrate with a predetermined pushing amount, and the vertical crack in the scribing step. The scribing that the scribing wheel applies to the base substrate when the scribing wheel is pressure-welded and rolled on one of the main surfaces so that the ratio of the extension depth to the thickness of the base substrate is 5% to 30%. It is characterized by setting a load.

請求項2の発明は、請求項1に記載の貼り合わせ基板の分断方法であって、前記貼り合わせ基板においては前記樹脂側が凸状に反っており、前記スクライブ工程においては前記一方主面を前記下地基板の上面とし、前記ブレーク工程においては前記他方主面を前記下地基板の上面とする、ことを特徴とする。 The invention of claim 2 is the method for dividing a bonded substrate according to claim 1. In the bonded substrate, the resin side is warped in a convex shape, and in the scribe step, the one main surface is said to be the same. It is characterized in that the upper surface of the base substrate is used, and the other main surface is used as the upper surface of the base substrate in the break step.

請求項3の発明は、請求項1に記載の貼り合わせ基板の分断方法であって、前記貼り合わせ基板においては前記下地基板側が凸状に反っており、前記スクライブ工程においては前記一方主面を前記下地基板の上面とし、前記ブレーク工程においては前記他方主面を前記下地基板の上面とする、ことを特徴とする。 The invention of claim 3 is the method for dividing a bonded substrate according to claim 1. In the bonded substrate, the base substrate side is warped in a convex shape, and in the scribe step, the one main surface is used. It is characterized in that the upper surface of the base substrate is used, and the other main surface is used as the upper surface of the base substrate in the break step.

請求項4の発明は、一方主面側と他方主面側とにおいて面内方向に作用する応力の向きが異なる応力基板を、あらかじめ定められた分断予定位置にて分断する方法であって、水平に張設された保持テープに対し前記他方主面を接触させる態様にて、前記応力基板を平坦な形状にて前記保持テープに貼付した状態で、前記応力基板の前記分断予定位置に沿ってスクライビングホイールを前記一方主面上で圧接転動させることによって、前記応力基板に前記分断予定位置に沿ったスクライブラインを形成し、前記応力基板の厚み方向において前記分断予定位置に沿った垂直クラックを伸展させる、スクライブ工程と、前記応力基板の前記他方主面側からブレークバーを所定の押し込み量にて押し込むことで、前記応力基板を分断するブレーク工程と、を備え、前記スクライブ工程においては、前記垂直クラックの伸展深さの前記応力基板の厚みに対する比が5%〜30%となるように、前記スクライビングホイールを前記一方主面上で圧接転動させる際に前記スクライビングホイールが前記応力基板に印加するスクライブ荷重を設定する、ことを特徴とする。 The invention of claim 4 is a method of dividing a stress substrate having different stress directions acting in the in-plane direction on one main surface side and the other main surface side at a predetermined planned division position, and is horizontal. In a mode in which the other main surface is brought into contact with the holding tape stretched on the holding tape, the stress substrate is attached to the holding tape in a flat shape, and scribing is performed along the planned division position of the stress substrate. By pressure-welding and rolling the wheel on one of the main surfaces, a scribing line is formed on the stress substrate along the planned division position, and vertical cracks along the planned division position are extended in the thickness direction of the stress substrate. The scribing step is provided with a scribing step and a breaking step of dividing the stress substrate by pushing the break bar from the other main surface side of the stress substrate with a predetermined pushing amount. In the scribing step, the vertical is provided. The scribing wheel applies to the stress substrate when the scribing wheel is pressure-welded and rolled on one of the main surfaces so that the ratio of the crack extension depth to the thickness of the stress substrate is 5% to 30%. It is characterized by setting a scribing load.

請求項5の発明は、請求項4に記載の応力基板の分断方法であって、前記応力基板においては、前記一方主面側において面内方向に引張応力が作用し、前記他方主面側において面内方向に圧縮応力が作用しており、前記スクライブ工程においては前記一方主面を前記応力基板の上面とし、前記ブレーク工程においては前記他方主面を前記応力基板の上面とする、ことを特徴とする。 The invention of claim 5 is the method for dividing a stress substrate according to claim 4, wherein in the stress substrate, tensile stress acts in the in-plane direction on the one main surface side, and on the other main surface side. A compressive stress acts in the in-plane direction, and in the scribing step, the one main surface is the upper surface of the stress substrate, and in the break step, the other main surface is the upper surface of the stress substrate. And.

請求項6の発明は、請求項4に記載の応力基板の分断方法であって、前記応力基板においては、前記一方主面側において面内方向に圧縮応力が作用し、前記他方主面側において面内方向に引張応力が作用しており、前記スクライブ工程においては前記一方主面を前記応力基板の上面とし、前記ブレーク工程においては前記他方主面を前記応力基板の上面とする、ことを特徴とする。 The invention of claim 6 is the method for dividing a stress substrate according to claim 4, wherein in the stress substrate, compressive stress acts in the in-plane direction on the one main surface side, and on the other main surface side. A tensile stress acts in the in-plane direction, and in the scribing step, the one main surface is the upper surface of the stress substrate, and in the break step, the other main surface is the upper surface of the stress substrate. And.

請求項1ないし請求項3の発明によれば、樹脂側が凸または下地基板側が凸になる形態にて反っている(湾曲している)貼り合わせ基板を、好適にかつ確実に分断することが出来る。 According to the inventions of claims 1 to 3, a bonded substrate that is warped (curved) in a form in which the resin side is convex or the base substrate side is convex can be appropriately and surely divided. ..

請求項4ないし請求項6の発明によれば、一方主面側と他方主面側において応力が作用する向きが異なる応力基板を、好適にかつ確実に分断することが出来る。 According to the inventions of claims 4 to 6, stress substrates in which stress acts on one main surface side and the other main surface side in different directions can be suitably and surely divided.

貼り合わせ基板10に対するスクライブ処理の様子を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the state of the scribe processing with respect to the bonded substrate 10. スクライブ処理に供する前の貼り合わせ基板10の状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the bonded substrate 10 before scribe processing. スクライブ処理を開始する際の貼り合わせ基板10における応力状態を示す図である。It is a figure which shows the stress state in the bonded substrate 10 at the time of starting a scribe process. スクライブ荷重Lの値がスクライブ処理に与える影響を示す図である。It is a figure which shows the influence which the value of the scribe load L has on the scribe processing. スクライブ荷重Lの値がスクライブ処理に与える影響を示す図である。It is a figure which shows the influence which the value of the scribe load L has on the scribe processing. 貼り合わせ基板10に対するブレーク処理の様子を模式的に示す図である。It is a figure which shows the state of the break process with respect to the bonded substrate 10 schematically. スクライブ処理に供する前の貼り合わせ基板10の状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the bonded substrate 10 before scribe processing. スクライブ処理を開始する際の貼り合わせ基板10における応力状態を示す図である。It is a figure which shows the stress state in the bonded substrate 10 at the time of starting a scribe process. スクライブ処理の様子を示す図である。It is a figure which shows the state of the scribe processing. 5通りのスクライブ処理におけるスクライブ荷重Lの大きさと、分断面の撮像画像から特定される垂直クラックCRの伸展深さd1の厚みtに対する比d1/tと、撮像画像から判定される分断品質の良否と、分断面の撮像画像の一部とを、一覧にして示す図である。The magnitude of the scribe load L in the five types of scribe processing, the ratio d1 / t of the extension depth d1 of the vertical crack CR specified from the captured image of the cross section to the thickness t, and the quality of the split quality judged from the captured image. It is a figure which shows in a list with a part of the captured image of the sectional cross section.

<第1の実施の形態>
以下、本発明の第1の実施の形態において行う分断処理についてその概要を説明する。分断処理は、スクライブ処理とこれに続くブレーク処理とを行うことで実現される。
<First Embodiment>
Hereinafter, the outline of the division process performed in the first embodiment of the present invention will be described. The division process is realized by performing a scribe process and a break process that follows the scribe process.

図1は、本実施の形態において行う、貼り合わせ基板10に対するスクライブ処理の様子を模式的に示す図である。図2は、スクライブ処理に供する前の貼り合わせ基板10の状態を示す図である。図3は、スクライブ処理を開始する際の貼り合わせ基板10における応力状態を示す図である。 FIG. 1 is a diagram schematically showing a state of scribe processing on the bonded substrate 10 performed in the present embodiment. FIG. 2 is a diagram showing a state of the bonded substrate 10 before being subjected to scribe processing. FIG. 3 is a diagram showing a stress state in the bonded substrate 10 when the scribe process is started.

貼り合わせ基板10は、概略、下地基板1の一方主面1a上に樹脂2が貼り合わされた構成を有する。 The bonded substrate 10 generally has a configuration in which the resin 2 is bonded on one main surface 1a of the base substrate 1.

下地基板1は、平面サイズ(直径)が20cm〜30cm程度で厚みtが0.1mm〜1.0mm程度の脆性材料基板であり、例えばガラスウェハが例示される。 The base substrate 1 is a brittle material substrate having a plane size (diameter) of about 20 cm to 30 cm and a thickness t of about 0.1 mm to 1.0 mm, and a glass wafer is exemplified.

樹脂2は、1μm〜50μm程度の厚みを有してなり、下地基板1よりも収縮率(熱収縮率)が小さいものとする。なお、樹脂2の内部や表面に金属配線や電極を備えていてもよく、表面に半田ボールが形成されていてもよい。 It is assumed that the resin 2 has a thickness of about 1 μm to 50 μm and has a shrinkage rate (heat shrinkage rate) smaller than that of the base substrate 1. The resin 2 may be provided with metal wiring or electrodes inside or on the surface, or solder balls may be formed on the surface.

本実施の形態においては、このような構成を有する貼り合わせ基板10を、あらかじめ定められた分断予定位置Pにおいて分断するものとする。図1に示す場合においては、ストリートと称される樹脂2の隙間の位置に、分断予定位置Pが設定されてなる。それゆえ、図1に示す場合において実際にスクライブ対象面となるのは、ストリートにおいて露出する下地基板1の一方主面1aである。ストリートの幅は、例えば20μm〜200μm程度である。 In the present embodiment, the bonded substrate 10 having such a configuration is divided at a predetermined planned division position P. In the case shown in FIG. 1, the planned division position P is set at the position of the gap of the resin 2 called the street. Therefore, in the case shown in FIG. 1, what is actually the scribe target surface is one main surface 1a of the base substrate 1 exposed on the street. The width of the street is, for example, about 20 μm to 200 μm.

なお、本実施の形態においては説明の簡単のため、樹脂2は図面視左右方向において2つの部分に分かれており、それらの部分の間に一のストリートが形成されてなる態様を示しているが、実際には、貼り合わせ基板10の面内の互いに直交する2つの方向のそれぞれに、多数のストリートが所定の間隔で形成されていてよく、その場合には、それら多数のストリートの各々において、スクライブ処理さらにはブレーク処理がなされることになる。 In the present embodiment, for the sake of simplicity, the resin 2 is divided into two parts in the left-right direction in the drawing, and one street is formed between these parts. In practice, a large number of streets may be formed at predetermined intervals in each of the two directions orthogonal to each other in the plane of the bonded substrate 10, in which case, in each of the large number of streets, Scribing processing and break processing will be performed.

スクライブ処理は、公知のスクライブ装置100を用いて行う。図1に示すように、スクライブ装置100は、スクライブ対象物を水平姿勢にて下方支持可能なステージ101と、外縁部に刃先102eを有する円板状部材であるスクライビングホイール(カッターホイール)102とを、主として備える。スクライビングホイール102は、垂直面内において回転自在な態様にてスクライブ装置100に保持される。 The scribe processing is performed using a known scribe device 100. As shown in FIG. 1, the scribe device 100 includes a stage 101 capable of downwardly supporting a scribe object in a horizontal posture, and a scribing wheel (cutter wheel) 102 which is a disk-shaped member having a cutting edge 102e at an outer edge portion. , Mainly prepared. The scribing wheel 102 is held by the scribing device 100 in a rotatable manner in a vertical plane.

スクライビングホイール102は、直径が2mm〜3mmの円板状の部材(スクライビングツール)であり、外周面に断面視二等辺三角形状の刃先102eを有する。また、少なくとも刃先102eはダイヤモンドにて形成されてなる。また、刃先102eの角度(刃先角)αは100°〜135°であるのが好適である。 The scribing wheel 102 is a disk-shaped member (scribing tool) having a diameter of 2 mm to 3 mm, and has an isosceles right triangular cutting edge 102e on the outer peripheral surface. Further, at least the cutting edge 102e is made of diamond. Further, the angle (edge angle) α of the cutting edge 102e is preferably 100 ° to 135 °.

貼り合わせ基板10は、樹脂2が備わる一方主面1a側を上面(スクライブ対象面)とし、他方主面1b側をステージ101に対する載置面とする態様にて、ステージ101に載置固定され、位置決めされる。 The bonded substrate 10 is mounted and fixed on the stage 101 in such a manner that one main surface 1a side provided with the resin 2 is the upper surface (scribe target surface) and the other main surface 1b side is the mounting surface with respect to the stage 101. Positioned.

より詳細には、貼り合わせ基板10は、スクライブ処理に先立ち、その他方主面1bを、あらかじめ略環状のリング(例えばダイシングリング)RGに張設された保持テープ(例えばダイシングテープ)DTに貼付させた状態とされる。そして、係る態様にて貼り合わせ基板10が保持テープDTに貼付されてなる該リングRGがステージ101に載置固定されることで、貼り合わせ基板10がステージ101に載置固定される。 More specifically, prior to the scribing process, the bonding substrate 10 has the other main surface 1b attached to a holding tape (for example, dicing tape) DT that is previously attached to a substantially annular ring (for example, dicing ring) RG. It is said that it is in a state of being. Then, in such an embodiment, the ring RG in which the bonded substrate 10 is attached to the holding tape DT is mounted and fixed on the stage 101, so that the bonded substrate 10 is mounted and fixed on the stage 101.

ただし、図1においては、水平方向に平坦な形状を有する貼り合わせ基板10が、ステージ101に載置固定されているが、実際の貼り合わせ基板10は、少なくともステージ101の載置前においては、図2に示すように、樹脂2が形成された一方主面1a側がわずかに凸となり、他方主面1b側が凹となっている。すなわち、貼り合わせ基板10は反っている(湾曲している)。これは、所定の温度下での下地基板1に対する樹脂2となる樹脂層の形成後、貼り合わせ基板10が常温に冷やされたことの結果である。 However, in FIG. 1, the bonded substrate 10 having a flat shape in the horizontal direction is mounted and fixed on the stage 101, but the actual bonded substrate 10 is mounted and fixed at least before the stage 101 is mounted. As shown in FIG. 2, one main surface 1a side on which the resin 2 is formed is slightly convex, and the other main surface 1b side is concave. That is, the bonded substrate 10 is warped (curved). This is a result of the bonded substrate 10 being cooled to room temperature after the formation of the resin layer to be the resin 2 on the base substrate 1 under a predetermined temperature.

具体的には、下地基板1よりも収縮率が小さい樹脂2が貼り合わされている一方主面1a側は、他方主面1b側に比して収縮しがたいことにより、図2に示すような反り(湾曲)が生じている。同時に、係る状態においては、図2に示すように、樹脂2には面内方向に圧縮応力fcが生じている。 Specifically, the resin 2 having a shrinkage ratio smaller than that of the base substrate 1 is bonded to the main surface 1a side, which is less likely to shrink than the other main surface 1b side, as shown in FIG. Warpage (curvature) is occurring. At the same time, in such a state, as shown in FIG. 2, a compressive stress fc is generated in the resin 2 in the in-plane direction.

本実施の形態においては、このような反り(湾曲)が生じている貼り合わせ基板10を、一方主面1aの側から外力によって押圧しつつ保持テープDTに貼付したうえで、ステージ101に載置固定することによって、図1に示すような水平方向に平坦な形状に変形させ、反り(湾曲)の解消を図ったうえで、スクライブ処理を行うようにしている。 In the present embodiment, the bonded substrate 10 having such a warp (curvature) is attached to the holding tape DT while being pressed by an external force from the side of the main surface 1a, and then placed on the stage 101. By fixing it, it is deformed into a flat shape in the horizontal direction as shown in FIG. 1, and after eliminating the warp (curvature), the scribe process is performed.

貼り合わせ基板10の変形を伴う貼付は、一方主面1a側からの外力による押圧によって、下地基板1に反りを解消させる向きの外力(粘着力)を作用させつつ他方主面1bを水平に張設された保持テープDTと接触させることにより、実現される。より詳細には、当該変形は、外力が作用することによって、前記保持テープDTと接触する他方主面1b近傍においては下地基板1が面内方向外側へと広げられ、その反対面である一方主面1a近傍においては下地基板1が面内方向内側へと縮められることによりなされる。 When the bonding substrate 10 is attached with deformation, the other main surface 1b is stretched horizontally while applying an external force (adhesive force) in the direction of eliminating the warp on the base substrate 1 by pressing with an external force from the main surface 1a side. It is realized by contacting with the provided holding tape DT. More specifically, in the deformation, the base substrate 1 is expanded outward in the in-plane direction in the vicinity of the other main surface 1b in contact with the holding tape DT by the action of an external force, and the other main surface is the opposite surface. In the vicinity of the surface 1a, the base substrate 1 is shrunk inward in the in-plane direction.

そして、係る変形の結果として、換言すれば、下地基板1に対する外力の作用の結果として、スクライブ処理の実行を開始する際の下地基板1の内部では、図3に示すように、下地基板1の一方主面1a近傍において引張応力Faが生じ、他方主面1b近傍において圧縮応力Fbが生じている。 Then, as a result of such deformation, in other words, as a result of the action of an external force on the base substrate 1, inside the base substrate 1 when starting the execution of the scribe process, as shown in FIG. 3, the base substrate 1 On the one hand, the tensile stress Fa is generated in the vicinity of the main surface 1a, and the compressive stress Fb is generated in the vicinity of the other main surface 1b.

一方で、樹脂2には保持テープDTへの貼付前、貼り合わせ基板10の反り(湾曲)に伴い圧縮応力fcが作用していたが、係る圧縮応力は、貼付後は緩和される。これは、一方主面1aの近傍において下地基板1を面内方向内側へと縮める向きに、外力が作用したことの効果である。 On the other hand, the compressive stress fc acted on the resin 2 due to the warp (curvature) of the bonded substrate 10 before being attached to the holding tape DT, but the compressive stress is relaxed after the application. This is the effect of the external force acting in the direction of contracting the base substrate 1 inward in the in-plane direction in the vicinity of the main surface 1a.

本実施の形態においては、このような応力状態のもと、貼り合わせ基板10に対するスクライブ処理を行うようになっている。 In the present embodiment, the scribe process is performed on the bonded substrate 10 under such a stress state.

概略的にいえば、スクライブ処理においては、図1および図3に示すように、分断予定位置Pとスクライビングホイール102の回転面とが同一の鉛直面(図面に垂直な面)内に位置するように位置決めがなされたうえで、スクライビングホイール102が、所定のスクライブ荷重Lを印加しつつ、ストリートにて露出する下地基板1上において当該分断予定位置Pに沿って圧接転動させられる。これにより、下地基板1の表面近傍にスクライブラインSLが形成され、さらには、分断予定位置Pに沿って、該スクライブラインSLから厚み方向に垂直クラックCRが伸展(浸透)する。スクライビングホイール102の圧接転動は、例えば、図示しない駆動機構によりステージ101をスクライビングホイール102に対して相対的に水平移動させることにより実現される。 Generally speaking, in the scribe process, as shown in FIGS. 1 and 3, the planned division position P and the rotating surface of the scribing wheel 102 are located in the same vertical plane (plane perpendicular to the drawing). The scribing wheel 102 is pressure-welded and rolled along the planned division position P on the base substrate 1 exposed on the street while applying a predetermined scribe load L. As a result, the scribe line SL is formed near the surface of the base substrate 1, and further, the vertical crack CR extends (penetrates) from the scribe line SL in the thickness direction along the planned division position P. The pressure contact rolling of the scribing wheel 102 is realized, for example, by moving the stage 101 horizontally with respect to the scribing wheel 102 by a drive mechanism (not shown).

ここで問題となるのが、スクライブ荷重Lの設定である。図4および図5は、スクライブ荷重Lの値がスクライブ処理に与える影響を示す図である。 The problem here is the setting of the scribe load L. 4 and 5 are diagrams showing the effect of the value of the scribe load L on the scribe processing.

スクライブ処理においては通常、垂直クラックCRが、スクライブ荷重Lの大きさL0に応じた所定の伸展深さ(本実施の形態においては一方主面1aから垂直クラックCRの先端までの距離)dにて、形成される。 In the scribe treatment, the vertical crack CR is usually at a predetermined extension depth (distance from one main surface 1a to the tip of the vertical crack CR in the present embodiment) d according to the magnitude L0 of the scribe load L. ,It is formed.

ただし、本実施の形態においては、内部において引張応力Faが生じている一方主面1a側がスクライブ処理の対象となるので、無応力の状態に比して、垂直クラックCRが伸展しやすい状態となっている。そのため、無応力の状態に比して、スクライブ荷重Lが小さい場合でも、垂直クラックCRが伸展しやすい状態となっている。 However, in the present embodiment, since the tensile stress Fa is generated inside and the main surface 1a side is subject to the scribe treatment, the vertical crack CR is more likely to extend than in the non-stressed state. ing. Therefore, the vertical crack CR is in a state where it is easy to extend even when the scribe load L is smaller than in the stress-free state.

そればかりか、図4に示すように、スクライブ荷重Lの大きさL0がある臨界値Lc以上(L0≧Lc)であった場合、垂直クラックCRが臨界深さd=dc以上のある深さd=d0にまで到達するのみならず、さらにはその先端から他方主面1bに向けて、意図しない下地基板1の破断(「先走り」とも称する)が生じてしまう。破断面FRは必ずしも分断予定位置Pに沿って形成されるわけではないので、そのような意図しない破断が生じた場合、貼り合わせ基板10は好適に分断されたことにはならない。なお、破断は貼り合わせ基板10を横断する態様にて生じる場合もあれば、部分的にのみ生じる場合もある。 Not only that, as shown in FIG. 4, when the magnitude L0 of the scribe load L is a certain critical value Lc or more (L0 ≧ Lc), the vertical crack CR is a depth d having a critical depth d = dc or more. Not only does it reach = d0, but it also causes an unintended breakage (also referred to as “first run”) of the base substrate 1 from its tip toward the other main surface 1b. Since the fracture surface FR is not necessarily formed along the planned division position P, the bonded substrate 10 is not suitably divided when such an unintended fracture occurs. It should be noted that the breakage may occur in a mode of crossing the bonded substrate 10 or may occur only partially.

なお、臨界深さd=dcとは、垂直クラックCRの伸展がこれよりも浅い限りは、先端からの下地基板1の破断が生じないという垂直クラックCRの伸展深さであり、スクライブ荷重Lが=Lcのときの垂直クラックCRの伸展深さであるとする。 The critical depth d = dc is the extension depth of the vertical crack CR that the base substrate 1 does not break from the tip as long as the extension of the vertical crack CR is shallower than this, and the scribe load L is It is assumed that the extension depth of the vertical crack CR when = Lc.

それゆえ、本実施の形態においては、図5に示すように、垂直クラックCRの到達が臨界深さd=dc未満のある深さd=d1に留まるように、臨界値Lc未満の大きさL1にてスクライブ荷重Lを印加するようにする。概略的にいえば、垂直クラックCRの伸展が下地基板1の一方主面1a近傍の引張応力が作用する領域内で確実に留まるように、スクライブ荷重Lを印加すればよい。係る場合においては、スクライブ荷重Lの大きさL=L1は、同種材料および同じ厚みにて形成された無応力状態の脆性材料基板に対して同様のスクライブ処理を行う場合よりも垂直クラックCRの伸展深さが小さくなるように、設定される。このような、垂直クラックCRの伸展深さが小さいスクライブ処理を、低浸透スクライブと称する。 Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 5, the magnitude L1 having a critical value less than Lc is reached so that the arrival of the vertical crack CR stays at a certain depth d = d1 having a critical depth d = dc. The scribe load L is applied at. Roughly speaking, a scribe load L may be applied so that the extension of the vertical crack CR is surely stayed in the region where the tensile stress acts in the vicinity of one main surface 1a of the base substrate 1. In such a case, the magnitude L = L1 of the scribe load L is the extension of the vertical crack CR as compared with the case where the same scribe treatment is performed on the brittle material substrate in the stress-free state formed of the same material and the same thickness. It is set so that the depth is small. Such a scribe treatment in which the extension depth of the vertical crack CR is small is referred to as a low-penetration scribe.

実際に低浸透スクライブを行う際のスクライブ荷重Lの好適な大きさは、下地基板1の厚みによっても異なるが、垂直クラックCRの伸展深さd1が、下地基板1の厚みtの5%〜30%となるように設定するのが好適である。具体的な値は、臨界深さd=dcを与えるスクライブ荷重Lの臨界値Lcをあらかじめ実験的に特定あるいは推定し、その値に基づいて設定すればよい。 The suitable size of the scribe load L when actually performing low penetration scribe varies depending on the thickness of the base substrate 1, but the extension depth d1 of the vertical crack CR is 5% to 30% of the thickness t of the base substrate 1. It is preferable to set it to be%. The specific value may be set based on the critical value Lc of the scribe load L that gives the critical depth d = dc, which is experimentally specified or estimated in advance.

スクライブ処理が終了した貼り合わせ基板10は続いて、ブレーク処理に供される。図6は、貼り合わせ基板10に対するブレーク処理の様子を模式的に示す図である。ブレーク処理は、公知のブレーク装置200を用いて行うことができる。 The bonded substrate 10 for which the scribe processing has been completed is subsequently subjected to a break processing. FIG. 6 is a diagram schematically showing a state of break processing on the bonded substrate 10. The break process can be performed using a known break device 200.

ブレーク装置200は、少なくとも表面部分が弾性体からなり、ブレーク対象物を水平姿勢にて下方支持可能な支持体201と、鉛直下方に断面視三角形状の刃先202eを有する板状部材であるブレークバー202とを、主として備える。 The break device 200 is a plate-like member having at least a surface portion made of an elastic body, a support 201 capable of downwardly supporting a break object in a horizontal posture, and a cutting edge 202e having a triangular cross section in the vertical direction. 202 is mainly provided.

支持体201としては、例えば、上面が平坦な金属製の部材の当該上面に板状の弾性体を載置固定した構成などが、採用可能である。 As the support 201, for example, a configuration in which a plate-shaped elastic body is placed and fixed on the upper surface of a metal member having a flat upper surface can be adopted.

ブレークバー202は、断面視二等辺三角形状の刃先202eが刃渡り方向に延在するように設けられてなる板状の金属製(例えば超硬合金製)部材である。図6においては、刃渡り方向が図面に垂直な方向となるように、ブレークバー202を示している。また、一度のブレーク動作によって刃渡り方向全般に渡るブレークを行えるよう、ブレークバー202の刃渡りは、貼り合わせ基板10の平面サイズよりも大きい。 The break bar 202 is a plate-shaped metal (for example, cemented carbide) member provided with an isosceles right triangular cutting edge 202e extending in the blade crossing direction. In FIG. 6, the break bar 202 is shown so that the blade crossing direction is perpendicular to the drawing. Further, the blade length of the break bar 202 is larger than the plane size of the bonded substrate 10 so that a break can be performed in the entire blade length direction by one break operation.

図6においては、スクライブ処理によって垂直クラックCRが形成されてなる、ある分断予定位置Pが、ブレーク処理の対象とされるときの様子を示している。 FIG. 6 shows a state in which a certain scheduled division position P, in which a vertical crack CR is formed by scribe processing, is targeted for break processing.

スクライブ処理後の貼り合わせ基板10は、リングRGに張設された保持テープDTに貼付された状態でブレーク処理に供される。ただし、図6に示すように、ブレーク処理に際しては、スクライブ処理の際には露出していた一方主面側が保護フィルムPFによって被覆される。保護フィルムPFは、その端縁部がリングRGに貼付される態様にて、樹脂2を被覆する。スクライブ処理後の貼り合わせ基板10は、他方主面側が上方となり、一方主面側が下方となる姿勢にて、換言すれば、リングRG、保持テープDT、および保護フィルムPFともども支持体201上に載置固定される。すなわち、保護フィルムPFが支持体201と接触する態様にて、載置固定される。 The bonded substrate 10 after the scribe treatment is subjected to the break processing in a state of being attached to the holding tape DT stretched on the ring RG. However, as shown in FIG. 6, during the break process, the main surface side, which was exposed during the scribe process, is covered with the protective film PF. The protective film PF is coated with the resin 2 in such a manner that the edge portion thereof is attached to the ring RG. The bonded substrate 10 after the scribe treatment is placed on the support 201 together with the ring RG, the holding tape DT, and the protective film PF in a posture in which the other main surface side is upward and the one main surface side is downward. It is fixed. That is, the protective film PF is placed and fixed in such a manner that it comes into contact with the support 201.

そして、分断予定位置Pに沿ったブレーク動作を行う場合は、個々の分断予定位置Pとブレークバー202の刃渡り方向とが並行となるように、貼り合わせ基板10が支持体201に載置固定される。そして、それぞれの分断予定位置Pについて、当該分断予定位置Pとブレークバー202が同一の鉛直面(図面に垂直な面)内に位置するように位置決めがなされたうえで、ブレークバー202が、矢印ARにて示すように、当該分断予定位置Pに向けて下降させられる。ブレークバー202は、その刃先202eが保持テープDTに当接した後もさらに、所定距離(押し込み量と称される)zだけ押し込まれる。 Then, when the break operation is performed along the planned division position P, the bonded substrate 10 is placed and fixed on the support 201 so that the individual planned division positions P and the blade crossing direction of the break bar 202 are parallel to each other. To. Then, for each planned division position P, the break bar 202 is indicated by an arrow after the planned division position P and the break bar 202 are positioned so as to be located in the same vertical plane (plane perpendicular to the drawing). As shown by AR, it is lowered toward the planned division position P. The break bar 202 is further pushed by a predetermined distance (referred to as a pushing amount) z even after the cutting edge 202e comes into contact with the holding tape DT.

このように、スクライブラインSLを下方に位置させた姿勢の貼り合わせ基板10の分断予定位置Pに向けて、ブレークバー202を下降させ、さらに所定の押し込み量にて押し込むと、スクライブ処理によって形成されていた垂直クラックCRが分断予定位置Pに沿って厚み方向にさらに伸展し、上面となっている貼り合わせ基板10の他方主面1bにまで、より具体的には下地基板1の保持テープDTに対する被貼付面にまで、到達する。 In this way, when the break bar 202 is lowered toward the planned division position P of the bonded substrate 10 in the posture in which the scribe line SL is positioned downward and further pushed in with a predetermined pushing amount, the scribe bar 202 is formed by the scribe process. The vertical crack CR that had been formed further extends in the thickness direction along the planned division position P, and extends to the other main surface 1b of the bonded substrate 10 that is the upper surface, and more specifically, with respect to the holding tape DT of the base substrate 1. It reaches the surface to be attached.

なお、スクライブ処理前の下地基板1においては、一方主面1a側において引張応力が作用し、他方主面1b側においては圧縮応力が作用していたが、前者がスクライブ処理による垂直クラックCRの伸展によって少なくとも部分的には開放されることに伴い、ブレーク処理を実行する時点では、後者についても、スクライブ処理前よりは緩和されており、好ましくは無応力の状態となっている。それゆえ、貼り合わせ基板10はブレークバー202の下降に伴い好適にかつ確実に分断される。 In the base substrate 1 before the scribe treatment, tensile stress was applied on one main surface 1a side and compressive stress was applied on the other main surface 1b side, but the former was the extension of vertical crack CR by scribe treatment. At the time when the break process is executed, the latter is also relaxed as compared with that before the scribe process, and is preferably in a stress-free state. Therefore, the bonded substrate 10 is suitably and surely divided as the break bar 202 is lowered.

以上、説明したように、本実施の形態によれば、下地基板よりも熱収縮率が小さい樹脂が下地基板の一方主面側に貼り合わされてなることで樹脂側が凸になる形態にて反っている(湾曲している)貼り合わせ基板をスクライブ処理とブレーク処理とによって分断する場合において、下地基板の一方主面側に意図的に引張応力を生じさせた状態で下地基板の該一方主面に対しスクライブ処理を行い、その後反対面側からブレークバーを当接させることによってブレーク処理を行うことで、当該貼り合わせ基板を、好適にかつ確実に分断することが出来る。 As described above, according to the present embodiment, a resin having a smaller heat shrinkage rate than that of the base substrate is bonded to one main surface side of the base substrate, so that the resin side is warped in a convex shape. When a bonded (curved) bonded substrate is divided by a scribe treatment and a break treatment, a tensile stress is intentionally generated on one main surface side of the base substrate on the one main surface of the base substrate. On the other hand, the scribe process is performed, and then the break process is performed by bringing the break bar into contact with the opposite surface side, whereby the bonded substrate can be appropriately and surely divided.

<第2の実施の形態>
図7は、本発明の第2の実施の形態においてスクライブ処理に供する前の貼り合わせ基板20の状態を示す図である。図8は、スクライブ処理を開始する際の貼り合わせ基板20における応力状態を示す図である。図9は、本実施の形態におけるスクライブ処理の様子を示す図である。
<Second embodiment>
FIG. 7 is a diagram showing a state of the bonded substrate 20 before being subjected to scribe processing in the second embodiment of the present invention. FIG. 8 is a diagram showing a stress state in the bonded substrate 20 when the scribe process is started. FIG. 9 is a diagram showing a state of scribe processing in the present embodiment.

貼り合わせ基板20は、第1の実施の形態に係る貼り合わせ基板10と同様、下地基板11の一方主面11a上に樹脂12が貼り合わされた構成を有する。ただし、貼り合わせ基板10とは異なり、貼り合わせ基板20においては、樹脂12の方が下地基板11よりも収縮率(熱収縮率)が大きいものとする。係る貼り合わせ基板20においては、樹脂12が貼り合わされている一方主面11a側が他方主面11b側に比して収縮しやすいことにより、図7に示すような、下地基板側が凸となる反り(湾曲)が生じている。すなわち、貼り合わせ基板20においては、樹脂12が形成された一方主面11a側がわずかに凹となり、他方主面11b側が凸となっている。同時に、係る状態においては、図7に示すように、樹脂12には面内方向に引張応力fsが生じている。 Like the bonded substrate 10 according to the first embodiment, the bonded substrate 20 has a configuration in which the resin 12 is bonded on one main surface 11a of the base substrate 11. However, unlike the bonded substrate 10, in the bonded substrate 20, the resin 12 has a larger shrinkage rate (heat shrinkage rate) than the underlying substrate 11. In the bonded substrate 20, the one main surface 11a side to which the resin 12 is bonded tends to shrink as compared with the other main surface 11b side, so that the base substrate side becomes convex as shown in FIG. Curvature) is occurring. That is, in the bonded substrate 20, one main surface 11a side on which the resin 12 is formed is slightly concave, and the other main surface 11b side is convex. At the same time, in such a state, as shown in FIG. 7, a tensile stress fs is generated in the resin 12 in the in-plane direction.

上述した第1の実施の形態における分断手法は、図7に示すような貼り合わせ基板20にも適用が可能である。係る分断処理も、第1の実施の形態と同様、スクライブ処理とこれに続くブレーク処理とを行うことで実現される。 The division method in the first embodiment described above can also be applied to the bonded substrate 20 as shown in FIG. 7. Such a division process is also realized by performing a scribe process and a break process following the scribe process, as in the first embodiment.

スクライブ処理は、第1の実施の形態と同様、公知のスクライブ装置100を用いて行うことが出来る。貼り合わせ基板10と同様、貼り合わせ基板20の場合も、一方主面11aの側から外力によって押圧しつつ保持テープDTに貼付したうえで、ステージ101に載置固定することによって、図1に示すような水平方向に平坦な形状に変形させ、反り(湾曲)の解消を図ったうえで、スクライブ処理を行う。より詳細には、反りを解消するための当該変形は、外力の作用により、保持テープDTと接触する他方主面11b近傍においては下地基板11が面内方向内側へと縮められ、その反対面である一方主面11a近傍においては下地基板11が面内方向外側へと広げられることによってなされる。 The scribe process can be performed using a known scribe device 100 as in the first embodiment. Similar to the bonded substrate 10, the bonded substrate 20 is also attached to the holding tape DT while being pressed by an external force from the side of the main surface 11a, and then mounted and fixed on the stage 101, as shown in FIG. After deforming the shape into a flat shape in the horizontal direction to eliminate warpage (curvature), scribe processing is performed. More specifically, in the deformation for eliminating the warp, the base substrate 11 is shrunk inward in the in-plane direction in the vicinity of the other main surface 11b in contact with the holding tape DT by the action of an external force, and on the opposite surface. On the other hand, in the vicinity of the main surface 11a, the base substrate 11 is spread outward in the in-plane direction.

係る変形の結果として、スクライブ処理の実行を開始する際の下地基板11の内部では、図8に示すように、下地基板11の一方主面11a近傍において圧縮応力Fcが生じ、他方主面11b近傍において引張応力Fdが生じている。 As a result of such deformation, a compressive stress Fc is generated in the vicinity of one main surface 11a of the base substrate 11 and in the vicinity of the other main surface 11b inside the base substrate 11 when the execution of the scribe processing is started, as shown in FIG. The tensile stress Fd is generated in.

一方で、樹脂22には保持テープDTへの貼付前、貼り合わせ基板20の反り(湾曲)に伴い引張応力fsが作用していたが、係る引張応力は、貼付後は緩和される。これは、一方主面11aの近傍において下地基板11を面内方向外側へと拡げる向きに、外力が作用したことの効果である。 On the other hand, before the resin 22 was attached to the holding tape DT, a tensile stress fs acted on the resin 22 due to the warp (curvature) of the bonded substrate 20, but the tensile stress is relaxed after the application. This is the effect of the external force acting in the direction of expanding the base substrate 11 outward in the in-plane direction in the vicinity of the main surface 11a.

本実施の形態においては、このような応力状態のもと、貼り合わせ基板20に対するスクライブ処理を行うようになっている。 In the present embodiment, the scribe process is performed on the bonded substrate 20 under such a stress state.

係る場合、内部において圧縮応力Fcが生じている一方主面11a側がスクライブ処理の対象となるので、無応力の状態に比して、垂直クラックCRが伸展しにくい状態となっている。それゆえ、本実施の形態においても、図9に示すように、垂直クラックCRの到達が臨界深さd=dc未満のある深さd=d2に留まるよう、臨界値Lc未満の大きさL2にてスクライブ荷重Lを印加するようにすることで、つまりは低浸透スクライブを行うことで、意図しない垂直クラックCRに起因した下地基板11の破壊は回避される。概略的にいえば、垂直クラックCRの伸展が下地基板11の一方主面11a近傍の圧縮応力Fcが作用する領域内で確実に留まるように、スクライブ荷重Lを印加すればよい。 In such a case, while the compressive stress Fc is generated inside, the main surface 11a side is subject to the scribe treatment, so that the vertical crack CR is less likely to extend than in the non-stressed state. Therefore, also in the present embodiment, as shown in FIG. 9, the vertical crack CR is set to a magnitude L2 less than the critical value Lc so that the arrival of the vertical crack CR stays at a certain depth d = d2 less than the critical depth d = dc. By applying the scribe load L, that is, by performing the low penetration scribe, the destruction of the base substrate 11 due to the unintended vertical crack CR can be avoided. Roughly speaking, a scribe load L may be applied so that the extension of the vertical crack CR is surely stayed in the region where the compressive stress Fc near one main surface 11a of the base substrate 11 acts.

本実施の形態においても、実際に低浸透スクライブを行う際のスクライブ荷重Lの好適な大きさは、下地基板11の厚みによっても異なるが、垂直クラックCRの伸展深さd2が、下地基板11の厚みtの5%〜30%となるように設定するのが好適である。 Also in this embodiment, the suitable size of the scribe load L when actually performing low penetration scribe differs depending on the thickness of the base substrate 11, but the extension depth d2 of the vertical crack CR is the base substrate 11. It is preferable to set the thickness to be 5% to 30% of t.

係る態様にてスクライブ処理を行った後、第1の実施の形態と同様に、公知のブレーク装置200を用いたブレーク処理を行うようにすれば、貼り合わせ基板20を好適に分断することが出来る。 If the scribe process is performed in such an embodiment and then the break process is performed using a known break device 200 as in the first embodiment, the bonded substrate 20 can be suitably divided. ..

<変形例>
下地基板1の一方主面1aが全面的に樹脂2にて覆われている場合には、分断予定位置Pに相当する部分の樹脂2のみをあらかじめ除去したうえで、上述の主要にて分断を行うようにすればよい。下地基板11の一方主面11aが全面的に樹脂12にて覆われている場合も同様である。
<Modification example>
When one main surface 1a of the base substrate 1 is completely covered with the resin 2, only the resin 2 in the portion corresponding to the planned division position P is removed in advance, and then the division is performed in the main part described above. You can do it. The same applies when one main surface 11a of the base substrate 11 is completely covered with the resin 12.

上述の第1の実施の形態における貼り合わせ基板の分断は、一方主面側において面内方向に引張応力が作用し、他方主面側において面内方向に圧縮応力が作用する応力基板に対しても、適用が可能である。すなわち、保持テープに対し他方主面を接触させる態様にて応力基板を平坦な形状にて保持テープに貼付したうえで、係る応力基板の一方主面側に対して上述の実施形態と同様の条件でスクライブ処理を行い、その後、他方主面にブレークバーを当接させる態様にてブレーク処理を行うようにすれば、応力基板を好適に分断することが出来る。保持テープに貼付する前の応力基板が反っている場合には、もちろん、一方主面側から応力基板を押圧しつつ応力基板の他方主面を水平に張設された保持テープと接触させることによって、平坦な形状に変形させるようにすればよい。 The division of the bonded substrate according to the first embodiment described above is applied to a stress substrate in which a tensile stress acts in the in-plane direction on one main surface side and a compressive stress acts in the in-plane direction on the other main surface side. Is also applicable. That is, after the stress substrate is attached to the holding tape in a flat shape in such a manner that the other main surface is brought into contact with the holding tape, the same conditions as those in the above-described embodiment are applied to one main surface side of the stress substrate. The stress substrate can be suitably divided by performing the scribe treatment in the above manner and then performing the break treatment in such a manner that the break bar is brought into contact with the other main surface. If the stress substrate before being attached to the holding tape is warped, of course, by pressing the stress substrate from one main surface side and bringing the other main surface of the stress substrate into contact with the horizontally stretched holding tape. , It may be deformed into a flat shape.

同様に、上述の第2の実施の形態における貼り合わせ基板の分断は、一方主面側において面内方向に圧縮応力が作用し、他方主面側において面内方向に引張応力が作用する応力基板に対しても、適用が可能である。 Similarly, in the division of the bonded substrate in the second embodiment described above, a stress substrate in which a compressive stress acts in the in-plane direction on one main surface side and a tensile stress acts in the in-plane direction on the other main surface side. It can also be applied to.

下地基板1としてのガラスウェハの一方主面1aに樹脂2を貼り合わせた、樹脂2の側が凸となる形態にて反っている(湾曲している)貼り合わせ基板10を5枚用意し、それぞれについて、上述の実施の形態のように、下地基板1の他方主面1b側に圧縮応力が生じ、一方主面1a側に引張応力が生じるように、リングRGに張設された保持テープDTに貼付したうえで、相異なる5通りの条件でスクライブ処理を行った。 Five bonded substrates 10 in which the resin 2 is bonded to one main surface 1a of the glass wafer as the base substrate 1 and the resin 2 side is convex (curved) are prepared, and each of them is prepared. On the holding tape DT stretched on the ring RG so that compressive stress is generated on the other main surface 1b side of the base substrate 1 and tensile stress is generated on the other main surface 1a side as in the above-described embodiment. After pasting, scribe processing was performed under five different conditions.

具体的には、下地基板1の厚みtを0.15mmとし、スクライブ荷重Lを1.2N、2.2N、3.5N、3.7N、4.0Nの5水準に違えた。スクライビングホイール102としては刃先角αが125°のものを用いた。スクライブ速度は100mm/secとした。 Specifically, the thickness t of the base substrate 1 was set to 0.15 mm, and the scribe load L was changed to five levels of 1.2N, 2.2N, 3.5N, 3.7N, and 4.0N. As the scribing wheel 102, a wheel having a cutting edge angle α of 125 ° was used. The scribe speed was 100 mm / sec.

さらに、係るスクライブ処理に続いてブレーク処理を行い、得られた分断面の断面品質を評価した。 Further, a break process was performed following the scribe process, and the cross-sectional quality of the obtained partial cross section was evaluated.

図10は、上記5通りのスクライブ処理におけるスクライブ荷重Lの大きさと、分断面の撮像画像から特定される垂直クラックCRの伸展深さd1の厚みtに対する比(図10においては「深さ比」と記載)d1/tと、当該撮像画像から判定される分断品質の良否と、分断面の撮像画像の一部とを、一覧にして示す図である。なお、分断品質(図10においては「断面品質」と記載)の良否については、良好な品質の分断面が得られた場合には「○」(丸印)を記載し、得られなかった場合には「×」(バツ印)を付している。また、深さ比d1/tは百分率にて示している。 FIG. 10 shows the ratio of the magnitude of the scribe load L in the above five types of scribe processing to the thickness t of the extension depth d1 of the vertical crack CR specified from the captured image of the sectional cross section (“depth ratio” in FIG. 10”. It is a figure which shows a list of d1 / t, the quality of the division quality judged from the captured image, and a part of the captured image of the divided cross section. Regarding the quality of the division quality (described as "cross-section quality" in FIG. 10), if a division cross section of good quality is obtained, enter "○" (circle), and if not obtained. Is marked with an "x" (cross mark). The depth ratio d1 / t is shown as a percentage.

図10に示すように、スクライブ荷重Lの大きさが3.7Nの場合と4.0Nの場合には深さ比d1/tが約50%以上となり、分断面の品質は良好ではなかった。具体的には、スクライブ処理後の時点で破断が生じてしまっていた。 As shown in FIG. 10, when the magnitude of the scribe load L was 3.7 N and 4.0 N, the depth ratio d1 / t was about 50% or more, and the quality of the sectional cross section was not good. Specifically, the fracture had occurred at the time after the scribe treatment.

一方、スクライブ荷重Lの大きさが1.2Nの場合、2.2Nの場合、および3.5Nの場合には、ブレーク処理後の分断面の品質は良好であった。係る場合においては、深さ比d1/tは最大でも30%以下に留まり、5%〜30%なる範囲をみたしていた。 On the other hand, when the magnitude of the scribe load L was 1.2 N, 2.2 N, and 3.5 N, the quality of the partial cross section after the break treatment was good. In such a case, the depth ratio d1 / t remained at 30% or less at the maximum, and the range of 5% to 30% was satisfied.

以上の結果は、上述の実施の形態のように、一方主面1aに樹脂2を貼り合わせた、樹脂2の側が凸となる形態にて反っている(湾曲している)貼り合わせ基板10について、下地基板1の他方主面1b側に圧縮応力が生じ、スクライブ対象面である一方主面1a側に引張応力が生じるように、意図的に応力を生じさせた状態で、垂直クラックCRの伸展深さの下地基板の厚みに対する比が5%〜30%なる範囲をみたすようにスクライブ処理を行うことで、貼り合わせ基板10を好適に分断出来ることを意味している。 The above results are obtained for the bonded substrate 10 in which the resin 2 is bonded to the main surface 1a and is warped (curved) in a form in which the side of the resin 2 is convex, as in the above-described embodiment. , Extension of vertical crack CR in a state where stress is intentionally generated so that compressive stress is generated on the other main surface 1b side of the base substrate 1 and tensile stress is generated on the other main surface 1a side which is the scribe target surface. It means that the bonded substrate 10 can be suitably divided by performing the scribe treatment so that the ratio of the depth to the thickness of the underlying substrate is in the range of 5% to 30%.

1 下地基板
1a (下地基板の)一方主面
1b (下地基板の)他方主面
2 樹脂
10 貼り合わせ基板
100 スクライブ装置
101 ステージ
102 スクライビングホイール
102e (スクライビングホイールの)刃先
200 ブレーク装置
201 支持体
202 ブレークバー
202e (ブレークバーの)刃先
CR 垂直クラック
DT 保持テープ
FR 破断面
Fa 引張応力
Fb、f 圧縮応力
L スクライブ荷重
P 分断予定位置
PF 保護フィルム
RG リング
SL スクライブライン
1 Base board 1a (base board) One main surface 1b (base board) Other main surface 2 Resin 10 Laminated board 100 Scribing device 101 Stage 102 Scribing wheel 102e (Scribbing wheel) Cutting edge 200 Break device 201 Support 202 Break Bar 202e (break bar) cutting edge CR vertical crack DT holding tape FR fracture surface Fa tensile stress Fb, f compressive stress L scribing load P planned division position PF protective film RG ring SL scribe line

Claims (6)

下地基板の一方主面に前記下地基板とは熱収縮率が異なる樹脂が貼り合わされてなり、前記樹脂側が凸状または凹状に反っている貼り合わせ基板を、あらかじめ定められた分断予定位置にて分断する方法であって、
前記一方主面側から前記貼り合わせ基板を押圧しつつ前記下地基板の他方主面を水平に張設された保持テープと接触させることによって、前記貼り合わせ基板を平坦な形状に変形させつつ前記保持テープに貼付する貼付工程と、
前記保持テープに貼付された前記貼り合わせ基板の前記分断予定位置に沿って、スクライビングホイールを前記一方主面上で圧接転動させることによって、前記下地基板に前記分断予定位置に沿ったスクライブラインを形成し、前記下地基板の厚み方向において前記分断予定位置に沿った垂直クラックを伸展させる、スクライブ工程と、
前記下地基板の前記他方主面側からブレークバーを所定の押し込み量にて押し込むことで、前記下地基板を分断するブレーク工程と、
を備え、
前記スクライブ工程においては、前記垂直クラックの伸展深さの前記下地基板の厚みに対する比が5%〜30%となるように、前記スクライビングホイールを前記一方主面上で圧接転動させる際に前記スクライビングホイールが前記下地基板に印加するスクライブ荷重を設定する、
ことを特徴とする、貼り合わせ基板の分断方法。
A resin having a heat shrinkage rate different from that of the base substrate is bonded to one main surface of the base substrate, and the bonded substrate whose resin side is curved in a convex or concave shape is divided at a predetermined planned division position. How to do
By pressing the bonded substrate from the one main surface side and bringing the other main surface of the base substrate into contact with the holding tape stretched horizontally, the bonded substrate is deformed into a flat shape and held. The sticking process to stick to the tape and
A scribe line along the planned division position is provided on the base substrate by pressure-welding and rolling the scribing wheel on one of the main surfaces along the planned division position of the bonded substrate attached to the holding tape. A scribe step of forming and extending vertical cracks along the planned division position in the thickness direction of the base substrate.
A break step of dividing the base substrate by pushing the break bar from the other main surface side of the base substrate with a predetermined pushing amount.
With
In the scribe step, the scribing is performed when the scribing wheel is pressure-welded and rolled on one of the main surfaces so that the ratio of the extension depth of the vertical crack to the thickness of the base substrate is 5% to 30%. Sets the scribe load that the wheel applies to the substrate.
A method of dividing a bonded substrate, which is characterized in that.
請求項1に記載の貼り合わせ基板の分断方法であって、
前記貼り合わせ基板においては前記樹脂側が凸状に反っており、
前記スクライブ工程においては前記一方主面を前記下地基板の上面とし、
前記ブレーク工程においては前記他方主面を前記下地基板の上面とする、
ことを特徴とする、貼り合わせ基板の分断方法。
The method for dividing a bonded substrate according to claim 1.
In the bonded substrate, the resin side is warped in a convex shape.
In the scribe step, the one main surface is used as the upper surface of the base substrate.
In the break step, the other main surface is used as the upper surface of the base substrate.
A method of dividing a bonded substrate, which is characterized in that.
請求項1に記載の貼り合わせ基板の分断方法であって、
前記貼り合わせ基板においては前記下地基板側が凸状に反っており、
前記スクライブ工程においては前記一方主面を前記下地基板の上面とし、
前記ブレーク工程においては前記他方主面を前記下地基板の上面とする、
ことを特徴とする、貼り合わせ基板の分断方法。
The method for dividing a bonded substrate according to claim 1.
In the bonded substrate, the base substrate side is warped in a convex shape.
In the scribe step, the one main surface is used as the upper surface of the base substrate.
In the break step, the other main surface is used as the upper surface of the base substrate.
A method of dividing a bonded substrate, which is characterized in that.
一方主面側と他方主面側とにおいて面内方向に作用する応力の向きが異なる応力基板を、あらかじめ定められた分断予定位置にて分断する方法であって、
水平に張設された保持テープに対し前記他方主面を接触させる態様にて、前記応力基板を平坦な形状にて前記保持テープに貼付した状態で、前記応力基板の前記分断予定位置に沿ってスクライビングホイールを前記一方主面上で圧接転動させることによって、前記応力基板に前記分断予定位置に沿ったスクライブラインを形成し、前記応力基板の厚み方向において前記分断予定位置に沿った垂直クラックを伸展させる、スクライブ工程と、
前記応力基板の前記他方主面側からブレークバーを所定の押し込み量にて押し込むことで、前記応力基板を分断するブレーク工程と、
を備え、
前記スクライブ工程においては、前記垂直クラックの伸展深さの前記応力基板の厚みに対する比が5%〜30%となるように、前記スクライビングホイールを前記一方主面上で圧接転動させる際に前記スクライビングホイールが前記応力基板に印加するスクライブ荷重を設定する、
ことを特徴とする、応力基板の分断方法。
This is a method of dividing a stress substrate having different stress directions acting in the in-plane direction on the main surface side and the other main surface side at a predetermined planned division position.
In a mode in which the other main surface is brought into contact with the horizontally stretched holding tape, the stress substrate is attached to the holding tape in a flat shape along the planned division position of the stress substrate. By crimping and rolling the scribing wheel on one of the main surfaces, a scribe line is formed on the stress substrate along the planned division position, and vertical cracks along the planned division position are formed in the thickness direction of the stress substrate. The scribe process and the extension process
A break step of dividing the stress substrate by pushing the break bar from the other main surface side of the stress substrate with a predetermined pushing amount.
With
In the scribe step, the scribing is performed when the scribing wheel is pressure-welded and rolled on one of the main surfaces so that the ratio of the extension depth of the vertical crack to the thickness of the stress substrate is 5% to 30%. Sets the scribe load that the wheel applies to the stress substrate,
A method for dividing a stress substrate, which is characterized in that.
請求項4に記載の応力基板の分断方法であって、
前記応力基板においては、前記一方主面側において面内方向に引張応力が作用し、前記他方主面側において面内方向に圧縮応力が作用しており、
前記スクライブ工程においては前記一方主面を前記応力基板の上面とし、
前記ブレーク工程においては前記他方主面を前記応力基板の上面とする、
ことを特徴とする、応力基板の分断方法。
The method for dividing a stress substrate according to claim 4.
In the stress substrate, tensile stress acts in the in-plane direction on the one main surface side, and compressive stress acts in the in-plane direction on the other main surface side.
In the scribe step, the one main surface is used as the upper surface of the stress substrate.
In the break step, the other main surface is used as the upper surface of the stress substrate.
A method for dividing a stress substrate, which is characterized in that.
請求項4に記載の応力基板の分断方法であって、
前記応力基板においては、前記一方主面側において面内方向に圧縮応力が作用し、前記他方主面側において面内方向に引張応力が作用しており、
前記スクライブ工程においては前記一方主面を前記応力基板の上面とし、
前記ブレーク工程においては前記他方主面を前記応力基板の上面とする、
ことを特徴とする、応力基板の分断方法。
The method for dividing a stress substrate according to claim 4.
In the stress substrate, compressive stress acts in the in-plane direction on the one main surface side, and tensile stress acts in the in-plane direction on the other main surface side.
In the scribe step, the one main surface is used as the upper surface of the stress substrate.
In the break step, the other main surface is used as the upper surface of the stress substrate.
A method for dividing a stress substrate, which is characterized in that.
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