JP2021053784A - 研磨パッド、その製造方法及びそれを用いた研磨方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Ad(p−f)=[100×(Ap−Af)]/Ap
Ad(p−f)=[100×(Ap−Af)]/Ap
前記プレポリマー製造ステップは、前記イソシアネート化合物及びアルコール化合物を含む第1組成を混合し、60〜100℃で1〜5時間反応させて、第1重合体を形成する第1過程;及び前記第1重合体と前記フッ素系化合物を含む第2組成を混合し、60〜100℃で0.5〜3時間反応させて、第2重合体を形成する第2過程;を含むことができる。
研磨率=シリコンウエハの研磨厚さ(Å)/研磨時間(60秒)
10 トップパッド、研磨層
15 第1接着層
30 ボトムパッド、サブパッド
35 第2接着層
50 フィルム
55 第3接着層
Claims (15)
- ポリウレタンを研磨パッドに含み、前記ポリウレタンは下記化学式1で表されるフッ素系繰り返し単位を含み、前記研磨パッドとヒュームドシリカスラリーで研磨された基板上の欠陥が40個以下である低欠陥特性を有する、研磨パッド。
前記化学式1において、
前記R11及びR12は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R11及び前記R12のうち少なくとも1つはフッ素であり、前記Lは、炭素数1〜5のアルキレン又は−O−であり、
前記R13及びR14は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R13及び前記R14のうち少なくとも1つはフッ素であり、
前記nは、0〜20の整数であり、前記mは、0〜20の整数であり、前記nと前記mは同時に0ではない。 - 前記ポリウレタンは、下記化学式2−1又は化学式2−2で表される繰り返し単位を主鎖に含む、請求項1に記載の研磨パッド。
前記化学式2−1又は化学式2−2において、
前記R11及びR12は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R11及び前記R12のうち少なくとも1つはフッ素であり、前記Lは、炭素数1〜5のアルキレン又は−O−であり、
前記R13及びR14は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R13及び前記R14のうち少なくとも1つはフッ素であり、
前記nは、0〜20の整数であり、前記mは、0〜20の整数であり、前記nと前記mは同時に0ではなく、
前記R21は、−Si(R15)(R16)(R31)−であり、前記R15及びR16は、それぞれ独立して、水素、又は炭素数1〜10のアルキル基であり、前記R31は、−(CH2)m1−又は−(CH2)m2−(OCH2CH2)m3−(但し、m1、m2及びm3は、それぞれ独立して、1〜20の整数)である。 - 前記研磨パッドは、下記式1による接触角の差値(Ad(p−f)、%)が1.5〜5である、請求項1に記載の研磨パッド。
[式1]
Ad(p−f)=[100×(Ap−Af)]/Ap
前記式1において、
前記Apは、純水(pure water)で測定した接触角であり、
前記Afは、ヒュームドシリカスラリーで測定した接触角である。 - 前記ポリウレタンは発泡体形態であり、前記発泡体の平均気孔サイズは10〜30μmである、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記ポリウレタンは、ショアD硬度が55〜65である、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨パッドは、前記ポリウレタンを含むトップパッドと、前記トップパッドの一面上に位置する不織布又はスエードタイプのサブパッドとを含む、請求項1に記載の研磨パッド。
- ポリウレタン系研磨層であるトップパッド(top pad)を含み、前記ポリウレタン系研磨層はウレタン組成物の発泡体を含む、前記ウレタン組成物はウレタン系プレポリマー、硬化剤、及び発泡剤を含む、前記ウレタン系プレポリマーは、イソシアネート化合物、アルコール化合物、及びフッ素系化合物を含むプレポリマー組成物の共重合体である、前記フッ素系化合物はフッ素系繰り返し単位を含み、少なくとも一末端がヒドロキシ基、アミン基、またはエポキシ基を含む、前記フッ素系繰り返し単位は下記化学式1である、研磨パッド。
前記化学式1において、
前記R11及びR12は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R11及び前記R12のうち少なくとも1つはフッ素であり、前記Lは、炭素数1〜5のアルキレン又は−O−であり、
前記R13及びR14は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R13及び前記R14のうち少なくとも1つはフッ素であり、
前記nは、0〜20の整数であり、前記mは、0〜20の整数であり、前記nと前記mは同時に0ではない。 - 前記フッ素系化合物は、前記プレポリマー組成物全体を基準として0.1〜5重量%含まれる、請求項7に記載の研磨パッド。
- 前記トップパッドは、前記化学式1で表されるフッ素系繰り返し単位を含まない発泡体形態のポリウレタンと比較して、研磨されたシリコンウエハの欠陥の程度を80%以上減少させる、請求項7に記載の研磨パッド。
- 前記フッ素系化合物は、下記化学式3で表される化合物である、請求項7に記載の研磨パッド。
前記化学式3において、
前記R11及びR12は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R11及び前記R12のうち少なくとも1つはフッ素であり、前記Lは、炭素数1〜5のアルキレン又は−O−であり、
前記R13及びR14は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R13及び前記R14のうち少なくとも1つはフッ素であり、
前記nは、0〜20の整数であり、前記mは、0〜20の整数であり、前記nと前記mは同時に0ではなく、
前記R21及び前記R22は、それぞれ独立して、−(CH2)m1−又は−(CH2)m2−(OCH2CH2)m3−(但し、m1、m2、及びm3は、それぞれ独立して、1〜20の整数)であり、
前記R41及びR42は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、アミン基、またはエポキシ基である。 - 前記プレポリマーは、NCO%が8〜12%である、請求項7に記載の研磨パッド。
- i)ウレタン組成物の重合反応を行って発泡体形態のポリウレタンを形成するポリウレタン形成過程と;ii)前記ポリウレタンを含むトップパッドを製造するトップパッド製造過程と;iii)前記トップパッドをサブパッド(sub pad)と接着して研磨パッドを製造するラミネーション過程と;を含んで、
前記ウレタン組成物はウレタンプレポリマー、硬化剤、及び発泡剤を含む、前記ポリウレタンは下記化学式1で表されるフッ素系繰り返し単位を含む、
下記化学式1で表されるフッ素系繰り返し単位を主鎖に含むポリウレタン研磨パッドを製造する、研磨パッドの製造方法。
前記化学式1において、
前記R11及びR12は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R11及び前記R12のうち少なくとも1つはフッ素であり、前記Lは、炭素数1〜5のアルキレン又は−O−であり、
前記R13及びR14は、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル基及びフッ素からなる群から選択されたいずれか1つであり、前記R13及び前記R14のうち少なくとも1つはフッ素であり、
前記nは、0〜20の整数であり、前記mは、0〜20の整数であり、前記nと前記mは同時に0ではない。 - 前記プレポリマーは、ウレタンプレポリマーの製造方法で製造され、
前記プレポリマーの製造方法は、プレポリマー組成物を、50〜120℃で反応させて、NCO%が8〜12wt%であるウレタンプレポリマーを製造するプレポリマー製造ステップを含む、
前記プレポリマー組成物はイソシアネート化合物、アルコール化合物、及び前記化学式1のフッ素系繰り返し単位を含み、少なくとも一末端がヒドロキシ基、アミン基、またはエポキシ基を含むフッ素系化合物を含む、請求項12に記載の研磨パッドの製造方法。 - 前記プレポリマー製造ステップは、前記イソシアネート化合物及びアルコール化合物を含む第1組成を混合し、60〜100℃で1〜5時間反応させて、第1重合体を形成する第1過程と;前記第1重合体と前記フッ素系化合物を含む第2組成を混合し、60〜100℃で0.5〜3時間反応させて、第2重合体を形成する第2過程と;を含む、請求項13に記載の研磨パッドの製造方法。
- 請求項1に記載の研磨パッドと研磨前のウエハをCMP研磨装置に装着する準備ステップと;前記CMP研磨装置に研磨用スラリーを投入しながら、前記研磨前のウエハを前記研磨パッドを用いて研磨を行って、研磨されたウエハを製造する研磨ステップと;を含む、研磨されたウエハの製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022202215A1 (ja) | 2021-03-26 | 2022-09-29 | 株式会社カネカ | FormII型の還元型補酵素Q10結晶又はその結晶性固体の製造方法及び晶析装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012172936A1 (ja) * | 2011-06-13 | 2012-12-20 | Dic株式会社 | ポリウレタン組成物、撥水剤、皮革様シートの表皮層形成用ポリウレタン樹脂組成物及び皮革様シート |
JP2017074649A (ja) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド |
JP2019024079A (ja) * | 2017-05-29 | 2019-02-14 | エスケイシー・カンパニー・リミテッドSkc Co., Ltd. | 多孔質ポリウレタン研磨パッドおよびそれを用いて半導体デバイスを調製するための方法 |
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