JP2021044460A - Mis型半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
このため、半導体としてダイヤモンドを用いた電子デバイスは、大電力動作、高速・高周波動作、高耐圧および高い熱限界を示すとして期待されている。
特に、ダイヤモンドを半導体として用いたMIS(Metal Insulator Semiconductor)型半導体装置は、高性能インバーターや高出力高周波増幅器を構成する上でのコア素子として注目されている。
これは、ダイヤモンド半導体では、ドーパントの活性化エネルギーが大きく高いキャリア密度と移動度を両立するのが容易ではないのが1つの要因になっている。
また、ダイヤモンドを気相合成で製造する場合、気相合成の工程で必須のプロセスガスである水素原子の関係で、自動的にダイヤモンドの表面がほぼ完全に水素終端されることももう1つの要因として挙げることができる。
水素終端ダイヤモンド半導体は、工程数を削減できるという製造面での優位性に加え、水素終端がほぼ完全になされるため、高い品質を得やすいという特徴がある。
ダイヤモンド半導体の表面が水素終端されると、ダイヤモンド半導体の表面近傍に電気伝導領域が存在するようになり、p型の半導体になる。
非特許文献3では、ダイヤモンドの表面に形成されたAl2O3膜の酸素点欠陥やAl欠損などによる非占有準位が負に帯電することにより、ダイヤモンド表面近傍にホールを誘起して電気伝導が発現することが開示されている。
さらに、非特許文献4には、ダイヤモンドの表面近傍に高濃度のホールを蓄積すべくダイヤモンドをNO2ガスに晒した後、Al2O3膜で封止してFET(Field Effect Transistor)を作製した例が開示されている。
しかし、水素終端されたダイヤモンド半導体層を用いたMIS型半導体装置を製造してみると、製造されたMIS型半導体装置は、ホールの移動度が不十分で低消費電力および高速動作に資さないという問題があった。また、非電圧印加時に電流が流れることは消費電力上もセーフティ上も好ましくないが、この電流の低減と移動度の向上は両立しなかった。
(構成1)
半導体層と絶縁体層と導電体層を有し、前記絶縁体層が前記半導体層と前記導電体層で挟まれたp型のMIS型半導体装置であって、
前記半導体層は少なくとも前記絶縁体層と接する部分の一部が水素終端されたダイヤモンドからなり、
閾値電圧VTHが負電圧である、MIS型半導体装置。
(構成2)
前記絶縁体層は窒化ホウ素からなる、構成1記載のMIS型半導体装置。
(構成3)
前記絶縁体層は窒化ホウ素の単結晶からなる、構成1または2記載のMIS型半導体装置。
(構成4)
前記絶縁体層は六方晶窒化ホウ素(h−BN)からなる、構成1から3の何れか1記載のMIS型半導体装置。
(構成5)
前記半導体層と前記絶縁体層との界面に存在する荷電不純物の密度が0cm−2以上5×1011cm−2以下である、構成1から4の何れか1記載のMIS型半導体装置。
(構成6)
前記半導体層と前記絶縁体層との界面に存在する荷電不純物の密度が0cm−2以上1×1011cm−2以下である、構成1から4の何れか1記載のMIS型半導体装置。
(構成7)
前記導電体層はグラファイトからなる、構成1から6の何れか1記載のMIS型半導体装置。
(構成8)
水素で終端されたダイヤモンドからなる第1主表面を有する半導体層を形成することと、
前記半導体層の水素で終端された面の少なくとも一部に接して絶縁体層を形成することと、
前記絶縁体層の少なくとも一部の上に導電体層を形成することを有し、
前記半導体層を形成することの直後から前記絶縁体層を形成することの直前に至るまで間の雰囲気が、真空、水素ガス、不活性ガスおよび不活性ガスが添加された水素ガスからなる群より選ばれる何れかの1つである、MIS型半導体装置の製造方法。
(構成9)
第1主表面の少なくとも一部にダイヤモンドからなる半導体層が露出している部分を有する部材を準備する部材準備することと、
前記半導体層が露出している部分の少なくとも一部を水素処理することと、
前記半導体層の前記水素処理された部分の少なくとも一部に接して絶縁体層を形成することと、
前記絶縁体層の少なくとも一部の上に導電体層を形成することを有し、
前記水素処理することの直後から前記絶縁体層を形成することの直前に至るまで間の雰囲気が、真空、水素ガス、不活性ガスおよび不活性ガスが添加された水素ガスからなる群より選ばれる何れかの1つである、MIS型半導体装置の製造方法。
(構成10)
前記絶縁体層を形成することの雰囲気が真空、水素ガス、不活性ガスおよび不活性ガスが添加された水素ガスからなる群より選ばれる何れかの1つである、構成8または9記載のMIS型半導体装置の製造方法。
(構成11)
前記絶縁体層は窒化ホウ素からなる、構成8から10の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
(構成12)
前記絶縁体層は窒化ホウ素の単結晶からなる、構成8から11の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
(構成13)
前記絶縁体層は六方晶窒化ホウ素(h−BN)からなる、構成8から12の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
(構成14)
前記半導体層と前記絶縁体層との界面に存在する荷電不純物の密度が0cm−2以上5×1011cm−2以下である、構成8から13の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
(構成15)
前記半導体層と前記絶縁体層との界面に存在する荷電不純物の密度が0cm−2以上1×1011cm−2以下である、構成8から13の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
(構成16)
前記不活性ガスはアルゴンガスである、構成8から15の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
(構成17)
前記雰囲気の圧力は大気圧である、構成8または9に記載のMIS型半導体装置の製造方法。
以下本発明を実施するための形態について図面を参照しながら説明する。
前述のように、これまでの水素終端ダイヤモンド半導体では、水素終端された半導体表面近傍の電気伝導にはダイヤモンド半導体の表面に付着した、あるいはダイヤモンド半導体に接した絶縁膜中の負電荷が必要と考えられてきた。
それに対し、発明者は、この負電荷は必ずしも必要ではなく、むしろ負電荷はクーロン散乱によって電荷キャリアの移動度を低下させるとともに、ノーマリオン動作(すなわち、正の閾値電圧VTH)を引き起こす要因になると考えた。そこで、水素終端ダイヤモンド表面形成後大気に暴露することなく、水素終端されたダイヤモンド半導体に接した絶縁膜を形成することで、負電荷密度を低減し、高いキャリア移動度(ホール移動度)と負の閾値電圧VTHを両立して得られることを見出した。
なお、本発明では、閾値電圧VTHは、MIS型半導体装置において、ソースに対してゲートに印加したゲート電圧VGに対するソースとドレイン間に流れるドレイン電流IDの絶対値の平方根(|ID|1/2)の特性曲線を直線近似し、ID=0に外挿したときのゲート電圧VGの値のことをいう。
この中で、ゲート絶縁膜は、窒化ホウ素が好ましく、単結晶の窒化ホウ素がより好ましく、六方晶窒化ホウ素(h−BN)がより一層好ましい。また、絶縁膜を複合膜とするときは、水素終端ダイヤモンド層に接する面の膜を窒化ホウ素からなる膜とすることが好ましく、単結晶の窒化ホウ素からなる膜とすることがより好ましく、六方晶窒化ホウ素(h−BN)からなる膜とすることがより一層好ましい。
ゲート絶縁膜として、窒化ホウ素、好ましくは単結晶の窒化ホウ素、より一層好ましくは六方晶窒化ホウ素(h−BN)を用いた場合は、よりホール移動度を高めることができ、また、閾値電圧VTHはより大きな負電圧となって制御性も向上するという効果が得られる。
本発明のMIS型半導体装置101は、図1に示すように、ダイヤモンド基板21、ダイヤモンド半導体層22、ゲート絶縁体層(ゲート絶縁膜)23および導電体層(ゲート電極)24を基本構成要素とし、他に、ソース電極およびその配線28、ドレイン電極およびその配線29、ゲート電極配線27、絶縁膜25、低抵抗化層26を有する構造をもつ。ここで、ダイヤモンド半導体層22の少なくとも第1主表面は、後述のように水素終端処理されている。
ここで、基板がダイヤモンド以外であっても基板上にダイヤモンドからなる薄膜を形成し、それをダイヤモンド半導体層22としてもよい。また、ダイヤモンド基板21を半導体層として利用し、ダイヤモンド基板21の表層部をダイヤモンド半導体層22としてもよい。肝要なことは、ダイヤモンドからなる半導体層がゲート絶縁膜23と接していることである。ここで、ダイヤモンドからなる半導体層(ダイヤモンド半導体層)22には、ドーパントが含まれていてもよい。
これらの窒化ホウ素(BN)の中で、ゲート絶縁体層23としては、ゲート絶縁体層23中の電荷トラップを減らす観点から、六方晶窒化ホウ素(h−BN)が一番好ましく、それが単結晶となっていることがより好ましい。
未結合手は水素と結合させ安定化することができる。この状態を水素終端と呼ぶ。
例えば、化学気相合成したダイヤモンドの表面は、合成中に水素プラズマに晒されるため水素終端となる。このような水素終端ダイヤモンド表面を使えば、ダイヤモンド側の表面準位密度を低減できる。
一方、h−BNの表面は構造上、未結合手をもたない。そのため、h−BNと水素終端ダイヤモンドの接合界面の界面準位密度は低い。さらに、単結晶h−BNからなる絶縁体層(絶縁膜)中のトラップ密度は小さい。これらのことから、絶縁体層中のトラップや界面準位に捕獲された電荷によるキャリア散乱を低減できる。
1原子ペア層以上の稠密な膜になるとリーク電流が抑えられ、ゲート絶縁体層として機能しやすくなる。トンネル電流を含めたリーク電流を抑制するためには1nm以上の厚さが好ましい。
また、ゲート絶縁体層23の厚さが300nm以下の場合、MIS型半導体装置として十分な静電容量を得やすくなる。
ここで、MIS型半導体装置101は、ゲート電極24に印加する負電位によって前記チャネル層にホールを誘起する。一方、ゲート電極24に電圧が印加されない場合は、シャットオフの状態になり、MIS型半導体装置101はノーマリーオフ動作となる。荷電不純物の密度が上記範囲に収まっている場合は、その荷電不純物によって誘起されるホールは極少量のため、ゲート電極24に電圧が印加されないときのソースドレイン間のリーク電流は大変小さい。
一方、ゲート絶縁体層(ゲート絶縁膜)として窒化ホウ素、好ましくは単結晶の窒化ホウ素、より好ましくはh−BN、さらに一層好ましくは単結晶のh−BNを用いた本発明の構造では、ゲート絶縁体層23中の電荷トラップは少ない傾向がある。このため、キャリア伝導は散乱が少なく、高いキャリア移動度が得られる。
なお、閾値電圧VTHは、ゲート電極24の材料、ゲート絶縁体層23の材料とその膜厚、半導体チャネル層の材料、不純物およびその密度などに左右される。
また、集積回路として本発明のMIS半導体装置を用いる場合は、インテグレーションとしての各種熱処理が加わることから、それらの熱処理も勘案した材料の拡散を考慮の上、材料を選択する。
これらの導電膜は、ダイヤモンド半導体層22と接する部分でオーミックコンタクトが取れることが好ましい。例えば、導電膜として、金(Au)、パラジウム(Pd)などの高い仕事関数を有する金属を用いることが好ましい。これらの高仕事関数の金属は直接接触でオーミックコンタクトがとれるという特徴がある。また、チタン(Ti)を用いることもできる。ここで、Tiは、アニールしてダイヤモンドと反応させてTiCを形成しておくことが好ましい。一方で、Tiは酸化されやすいので、ダイヤモンド半導体層22と電気的接触をとる場合は、ダイヤモンド半導体層22側からTi、その上にPtやAuやWといった材料が積層された導電膜構造とすることが好ましい。
次に、このMIS型半導体装置101の製造方法を、断面構造を示した図3、4およびフローチャートで示した図5を用いて説明する。
まず、図3(a)に示すように、ダイヤモンド基板21を準備する。ダイヤモンド基板としては、例えば、IbタイプあるいはIIaタイプで、結晶面が100あるいは111のものを好んで用いることができる。
ここで、ダイヤモンド基板21の表面は、平坦(平面)で原子レベルの平滑な面であることが好ましい。電界効果トランジスタの電気特性としては、ダイヤモンド半導体層22とゲート絶縁体層23との界面の平坦性、平滑性が重要であるが、その界面の平坦性、平滑性を十分高いものにするためには、ダイヤモンド基板21表面の平坦度、平滑度および清浄度を十分に高めておく必要がある。
水素終端されたダイヤモンド半導体層22は、例えば、CH4ガスとH2ガスを用いたマイクロ波プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)により成膜することができる。
ダイヤモンド半導体層22の厚さは10nm以上が好ましい。厚さが10nm以上であると、特にIb基板の場合に、基板からの不純物の混入を抑制することができる。
不活性ガスを使用する場合は、大気圧が取り扱いの容易さから好ましい。ここで、大気圧とは、低気圧、高気圧、高所を含む大気環境下での圧力、およびグローブボックス等で外気が混入しないように与圧にした状態を含む圧力を指す。
また、環境中の酸素ガス(O2ガス)の濃度は0.5ppm以下、露点は−80℃以下が好ましい。
水素終端されたダイヤモンドの表面は化学的に安定であり、このレベルの環境で荷電不純物が少なく、荷電不純物散乱の少ない高いホール移動度を得るに好適な半導体層としての表面状態を得ることができる。
絶縁膜23aは、劈開して得られた窒化ホウ素薄膜の貼り合わせ法、熱CVDやプラズマCVDなどの化学的気相成長法、スパッタリングなどの物理的気相成長法、および物理化学的気相成長法などにより形成することができる。具体例としては、トリエチルボラン(TEB)とアンモニア(NH3)を原料ガスとし、キャリアガスに水素(H2)を用いた有機金属気相成長法(MOCVD:Metal−Organic Chemical Vapor Deposition)、RFプラズマにより作製した活性窒素と電子銃により加熱供給されたホウ素を用いた分子線エピタキシー法(MBE:Molecular Beam Epitaxy)などを挙げることができる。
なお、絶縁膜23aを劈開して得られた窒化ホウ素薄膜の貼り合わせで形成する場合は、その貼り合わせ環境が、真空、水素ガス、不活性ガスおよび不活性ガスが添加された水素ガスからなる群より選ばれる何れかの1つであることが好ましい。すなわち、絶縁膜23aの形成工程の環境が、真空、水素ガス、不活性ガスおよび不活性ガスが添加された水素ガスからなる群より選ばれる何れかの1つであることが好ましい。
このゲート電極24の形成方法としては、ゲート電極24を構成する導電材料をスパッタリング法、蒸着法、CVD法および貼り合わせ法などで絶縁膜23a上に被着させた後、リソグラフィによってレジストパターンを形成し、引き続きエッチングを行って形成する方法が挙げられる。このエッチングとしては、微細加工性の観点からドライエッチングが好んで用いることができるが、ウェットエッチングを用いることもできる。ウェットエッチングの場合は、作製されるMIS型半導体装置101へのダメージを抑制しやすいという特徴がある。
また、リフトオフ用のレジストパターンを絶縁膜23a上に形成した後、ゲート電極24を構成する導電材料をスパッタリング法、蒸着法、CVD法などで堆積させ、リフトオフする方法も挙げることができる。
ここで、成膜した絶縁膜25aには、電気特性の安定化に妨げとなる空孔や所望ではない水が含まれることが多いので、アニールを施しておくことが好ましい。
なお、前述の低抵抗化層26は、これらの電極または/および配線を形成した後にアニールを施すなどして形成してもよい。
以上の工程により、ダイヤモンド半導体層22とh−BNからなるゲート絶縁体層23を有するMIS型半導体装置101が作製される。
したがって、本発明により、移動度とキャリア密度の両特性を高いレベルで兼ね備えた高性能MIS型半導体装置が提供される。
実施の形態1では、水素終端ダイヤモンド半導体層形成工程S1、すなわちダイヤモンド基板21上に終端が水素になっているダイヤモンド半導体層22を形成する工程を経てMIS型半導体装置101を製造する方法を説明した。
実施の形態2では、水素終端ダイヤモンド半導体層形成工程S1に代えて、図6に示すように、ダイヤモンド半導体露出部材準備工程S11と水素終端処理工程S12とし、他の工程は実施の形態1と同様にしてMIS型半導体装置を提供する。
その後、露出したダイヤモンド半導体の少なくとも一部を水素終端処理する(工程S12)。
水素終端処理の方法としては、水素ガス下でのプラズマ、または熱処理を挙げることができる。プラズマを用いた場合を例にとると、MP−CVD装置を用い、H2流量500sccm、圧力4KPa、ヒーター設定温度600℃およびマイクロ波出力300Wの条件で10分処理する方法を挙げることができる。
以下、真空or不活性ガス環境処置(S13)は実施の形態1の真空or不活性ガス環境処置(S2)、窒化ホウ素絶縁体層形成工程(S14)は実施の形態1の窒化ホウ素絶縁体層形成工程(S3)、および導電体層形成工程(S15)は実施の形態1の導電体層形成工程(S4)と同様とすればよい。
以上により、実施の形態1と同様の特性を有するMIS型半導体装置を提供することができる。
<素子構造>
実施例1のMIS型半導体装置201の素子構造を要部断面構造図である図7を参照しながら説明する。ここで、図7(a)は、上面から見た平面視図で、図7(b)および図7(c)は、それぞれ図7(a)のAとA′およびBとB′を結んだ線で断面をとったときの断面図を示す。また、図7では構成をわかりやすく説明するために、その構成要素を矩形などで単純化して示している。
このMIS型半導体装置201は、ダイヤモンド基板31、水素終端層32、ゲート絶縁膜33、ゲート電極34G、ソース電極37Sおよびドレイン電極37D、ゲート電極配線62G、ソース電極配線62S、ドレイン電極配線62Dおよび絶縁膜61からなる。
ここで、ソース電極37Sおよびドレイン電極37Dは、上から厚さ5nmの白金(Pt)からなる導電膜36、厚さ5nmのTiからなる導電膜35、およびダイヤモンド基板31と導電膜35のTiとの界面に生成される炭化チタン(TiC)からなる低抵抗化層42で構成される。
ゲート絶縁膜33は、六方晶窒化ホウ素(h−BN)で、その膜厚は23nmである。
同様にドレインは、厚さ5nmのTiおよび厚さ5nmのPtからなるオーミック接触用の導電膜(それぞれ図7中の35、36)とドレイン電極配線(ボンディングパッド配線)62Dからなる。ここで、ドレイン電極配線62Dは厚さ5nmのTi、厚さ5nmのPt、厚さ10nmのTiおよび厚さ100nmのAuが順次積層された構造となっており、導電膜35とダイヤモンド基板31の境界領域には、TiCからなる低抵抗化層42が形成されている。
以下、素子作製工程を断面図である図8から図13を参照しながら説明する。ここで、図8−10は図7(a)のAとA′を結んだ線での断面図、および図11−13は図7(a)のBとB′を結んだ線での断面図である。
ダイヤモンド基板31としてロシアTISNCM研究所製の高温高圧合成IIa(111)ダイヤモンド単結晶基板を準備し、通常の方法で熱混酸および有機洗浄により基板の清浄化を行った。ここで、用いたダイヤモンド基板31の大きさは2.5mm×2.5mm×0.3mmである。
レーザーリソグラフィにより、アライメントマークをダイヤモンド基板31上に形成した(図示なし)。
ここで、アライメントマークの形成工程を以下に示す。
最初に、ダイヤモンド基板31の表面に下層レジストPMGI−SF6S(Microchem製)をスピンコートし、180℃で5分ベークした。その後、フォトレジストAZ−5214E(メルクパフォーマンスマテリアルズ製)をスピンコートし、110℃で2分ベークした。
次に、高速マスクレス露光装置(ナノシステムソリューションズ製、DL−1000/NC2P)を用いて、アライメントマークパターンを描画した。TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)2.38%で合計150秒現像した後、純水で合計120秒洗浄し、その後窒素ブローを行った。
その後、80℃設定のウォーターバスで加熱したNMP中に試料を漬け、リフトオフを行った。
最後に、アセトンとIPAでダイヤモンド基板31をリンスした後、窒素ブローを行ってダイヤモンド基板31の所定の場所にアライメントマークを形成した。
ダイヤモンド表面に電子線レジストgL−2000DR2.0(Gluon Lab製)をダイヤモンド基板31上にスピンコートし、180℃で5分ベークした。
その後、エスペーサー300Z(昭和電工製)をスピンコートし、100kV電子線描画装置(エリオニクス製、ELS−7000)を用いて、オーミック電極のパターンを描画した。描画後、エスペーサー除去のため純水で60秒洗浄し、その後窒素ブローを行った。そしてキシレンで60秒現像し、IPAで60秒洗浄した後、窒素ブローを行ってダイヤモンド基板31上にレジストパターン51を形成した(図8(a)、図11(a))。
その後、80℃設定のウォーターバスで加熱したNMP中に試料を漬け、リフトオフを行った。アセトンとIPAでリンスした後、窒素ブローを行った。
しかる後、MPCVD装置(セキテクノトロン製、AX5200−S)内においてH2雰囲気(H2流量500sccm、圧力80Torr)で35分間アニールを行い、ダイヤモンドとTiの界面にTiCからなる低抵抗化層42を形成した(図8(c)、図11(c))。アニールの際の設定温度は、650℃までおよそ31分で上昇させ、650℃で35分間保持した。
上記のオーミック電極形成に引き続きMPCVD装置(セキテクノトロン製、AX5200−S)内でダイヤモンドを10分間水素プラズマにさらし、表面の水素終端化とレジスト残渣の除去を行って、ダイヤモンド基板31の露出面に水素終端層32を形成した(図8(d)、図11(d))。
水素プラズマの条件は、H2流量500sccm、圧力30Torr、ヒーター設定温度600℃、マイクロ波出力300Wである。
さらに、真空搬送用チャンバーと接続可能な別のMPCVD装置(セキテクノトロン製、AX5000)内においてH2雰囲気(H2流量500sccm、圧力80Torr)で35分間アニールを行った。アニールの際の設定温度は、710℃までおよそ34分で上昇させ、710℃で35分間保持した。
MPCVD装置(セキテクノトロン製、AX5000)内でダイヤモンドを10分間水素プラズマにさらし、表面吸着物の除去を行った。水素プラズマの条件はH2流量500sccm、圧力30Torr、ヒーター設定温度670℃、マイクロ波出力300Wである。
処理装置1001は、水素終端処理チャンバー1011と試料搬送・一時保管室1025を主要な構成要素としている。そして、水素終端処理チャンバー1011を主体とした水素終端処理部E1と、試料搬送・一時保管室1025を主体とした試料搬送部E2に大別され、ゲートバルブ1024の先(ゲートバルブ1024と搬送中間室1027の接続部)で、E1部とE2部は切り離せるようになっている。
また、試料搬送・一時保管室1025には配管1071、バルブ1072、フランジ1073およびベローズ配管1074を介してターボ排気セット1075が接続されている。ここで、ターボ排気セット1075は、ターボ分子ポンプとダイヤフラムポンプからなるT−Station75D(エドワーズ製)である。
水素終端処理チャンバー1011は、ゲートバルブ1012を介してターボポンプ(STP−iX455、エドワーズ製)1013に繋がれ、ターボポンプ1013はバルブ1014および配管1015を介してスクロールポンプ(nXDS15i、エドワーズ製)1016に接続されている。このため、いわゆるオイルフリーの真空ポンプ構成になっている。1011の真空度は、真空計1063(電離真空計TG200、アンペール製)によって読み取ることができる。
また、水素終端処理チャンバー1011は、プロセスガス(H2ガス)1023がバルブ1022を介して導入できるようになっている。
なお、水素終端処理チャンバー1011には、水素終端処理を行うときに1011内の圧力をモニターするためのバラトロン真空計1020も取り付けられている。
処理装置1002は、貼り合わせ処理室(グローブボックス)1031と試料搬送・一時保管室1025を主要な構成要素としている。試料搬送・一時保管室1025を主体とした前記の試料搬送部E2は、ゲートバルブ1043を介して貼り合わせ処理部E3が接続されて、試料が大気に晒されることなく、貼り合わせ処理室(グローブボックス)1031に試料を搬送できるようになっている。
真空排気系E4は、ベローズ配管1109、1111、バルブ1110、真空計(クリスタル/コールドカソード コンビネーションゲージ CC−10、東京電子製)1112が備えられたチャンバー1101、アングルバルブ1102、ターボポンプ(nEXT300D、エドワーズ製)1103、バルブ1104、配管1107およびスクロールポンプ(nXDS15i、エドワーズ製)1105を有し、さらにチャンバー1101をスクロールポンプ1105で粗引きする配管1107とバルブ1106も備えている。
Arガスは、Arガスシリンダー1052から配管1053を介して貼り合わせ処理室1031およびパスボックス1034に供給されるようになっている。ここで、貼り合わせ処理室1031およびパスボックス1034に向かう配管1053にはそれぞれバルブ1054および1055が設けられている。
また、このArガスは、配管1042,1045およびバルブ1041,1044を介して貼り合わせ処理室1031に接続された不活性ガス循環精製機1040によって常時精製され、酸素濃度0.5ppm以下、露点−79℃以下に保たれている。さらに、この精製されたArガスは、バルブ1108を介して接続された真空排気系E4を介して、試料搬送部E2に導入できるようになっている。
貼り合わせ処理室1031は、いわゆるグローブボックスとなっており、雰囲気を外部と隔離して貼り付け作業をするためのブチルゴム手袋が付随している。また、貼り合わせ処理室1031は、バルブ1054を介してArガスシリンダー1052に、またバルブ1038を介してスクロールポンプ1037につながっており、手袋に手を入れたときなどに貼り合わせ処理室1031の内部の圧力を調整できるようになっている。さらに顕微鏡が備えられていて(図示なし)、外部と雰囲気(ガス)的に遮断された環境の下で、ミクロンオーダーの貼り付け作業が可能になっている。顕微鏡の画像は、不活性ガス環境を害することなく、貼り合わせ処理室1031の外部でモニターにより観察できるようになっている。
なお、貼り合わせ処理室1031の外壁は、ステンレスとガラスからなり、貼り合わせ処理室1031の内容量は約310Lである。
最初に、前工程として、ゲートバルブ1012,1024、1026およびバルブ1014を開き、ターボポンプ1013およびスクロールポンプ1016を用いて、水素終端処理チャンバー1011および搬送中間室1027および試料搬送・一時保管室1025を真空状態にする。このときの真空は真空計1063の読みで3×10−5Pa以下とした。
その後、ゲートバルブ1012、1024、1026およびバルブ1014を閉じ、バルブ1022,1019,1061を開け、上述の水素終端処理を行った。また、この処理の間、バルブ1072と1026を開け、ターボ排気セット1075を用いて試料搬送・一時保管室1025と搬送中間室1027の真空を引いておいた。
その後、バルブ1072を閉じ、ターボ排気セット1075をシャットダウンした。またべローズ配管1074を外した。ゲートバルブ1024および1026を開き、試料搬送ロッド1029を使用して試料を試料搬送・一時保管室1025に移動させた。そして、移動が完了したら、ゲートバルブ1026を閉じた。
しかる後、ゲートバルブ1012を閉じ、バルブ1022を開いてArガスを導入して水素終端処理チャンバー1011と搬送中間室1027を大気圧にしてから、1024を閉じた。
また、真空排気系E4をフランジ1028のところで試料搬送部E2に接続し、搬送中間室1027をターボポンプ1103およびスクロールポンプ1105により真空排気した。真空が1×10−3Pa以下まで下がったら、ゲートバルブ1026を開けた。アングルバルブ1102を閉じたあと、ベローズ配管1111、バルブ1108、1110、チャンバー1101、およびベローズ配管1109を介して、搬送中間室1027と試料搬送・一時保管室1025にArガスを導入した。ここで、ベローズ配管1111の接続先である貼り合わせ処理室(グローブボックス)1031は、Arガスシリンダー1052および不活性ガス循環精製機(Arガス循環精製機)1040により、大気圧で精製された状態のArガスが満たされている。
この後、以下に示すh−BNの貼り付けを行った。
上記のように水素終端処理チャンバー1011でダイヤモンド基板31の露出した第1主表面が水素終端処理された試料は、真空に保持された試料搬送・一時保管室1025を経由して、Arガスで満たされたグローブボックス1031に搬送された。この状態でのグローブボックス1031内の酸素濃度は0.6ppm以下であり、露点は−79℃以下であった。
しかる後、グローブボックス中でアニールを行った。この際、20℃から100℃まで16分で昇温し100℃で30分保持、200℃まで20分で昇温し200℃で30分保持、および300℃まで20分で昇温し300℃で3時間保持するシーケンスを用いた。
グローブボックス1031内でスコッチテープ法により、グラファイト(キッシュグラファイト、クアーズテック製)の劈開を行った。劈開したグラファイトは、アクリル基板に貼ってあるPDMS上に転写した。光学顕微鏡を用いてPDMS膜上のグラファイトとダイヤモンドのチャネル領域との位置合わせを行い、グラファイトをh−BN/ダイヤモンド上に貼りあわせた。
その後、グローブボックス1031中でアニールを行った。この際、20℃から100℃まで16分で昇温し100℃で30分保持、200℃まで20分で昇温し200℃で30分保持、および300℃まで20分で昇温し300℃で1時間保持するシーケンスを用いた。
試料をグローブボックス1031から取り出した後、前述の電子線リソグラフィ法により、ホールバーのパターンを描画した。ここで、レジストはPMMA−A6(Microchem製)を、描画には125kV電子線描画装置(エリオニクス製、ELS−F125)を、現像液にはMIBK(メチルイソブチルケトン):IPA=1:3の混合液を用いた。
その後、CCP−RIE装置により、ゲート電極となる領域以外のグラファイトのドライエッチングを3分間行った。プラズマの条件はN2流量96sccm、CHF3流量2sccm、O2流量2sccm、圧力10Pa、RF出力35Wである。なお、このエッチングの際、h−BNは膜厚方向に途中までエッチングされる。
しかる後、アセトン中に試料を入れ、エッチングマスクとして用いたレジストを除去した。IPAで洗浄した後、窒素ブローを行って、グラファイトからなるゲート電極34Gを形成した。なお、このエッチングの際に、ダイヤモンド基板31の第1主表面の露出した領域は、酸化されて酸素終端層43aが形成される(図9(b)、図12(b))。
ゲート電極34Gを形成後、前述のレーザーリソグラフィにより、レジストパターン52を形成した(図9(c)、図12(c))。レジストはAZ−5214Eの単層である。
その後、CCP−RIE装置により、h−BNのドライエッチングを3分間行った。プラズマの条件は、N2流量96sccm、CHF3流量2sccm、O2流量2sccm、圧力10PaそしてRF出力35Wである。その後、アセトン中に試料を入れ、エッチングマスクとして用いたレジストを除去した。なお、このエッチングの際に、酸素終端層43aはより酸化されて、酸素終端層43aは緻密に酸化された酸素終端層43に変わる(図9(d)、図12(d))。
前述の貼り合わせの手法を用いて、ゲート電極34Gからのゲート電極配線62Gが水素終端されたチャネル部32と電気的に接触しないように、ゲート電極配線62Gを這わすためのh−BN(61)を、接触を防止する酸素終端と水素終端の領域の境界71に貼り合わせた(図10(a)、図13(a))。
前述のレーザーリソグラフィを用いて、ゲート電極配線(62G)、ソース電極配線(62S)、ドレイン電極配線(62D)およびそれぞれのボンディングパッドを形成するためのレジストパターン53を形成した。レジストはAZ−5214Eの単層である。
その後、電子銃型蒸着装置によって、厚さ10nmのTiと厚さ100nmのAuを順次蒸着し、TiとAuからなる導電膜62aを堆積させた(図10(b)、図13(b))。
しかる後、アセトン中に試料を浸してリフトオフを行い、IPAでリンスした後、窒素ブロー乾燥を行って、ボンディングパッドを有するゲート電極配線62G、ソース電極配線62Sおよびドレイン電極配線62Dが形成されたMIS型半導体装置201を作製した(図10(c)、図13(c))。
作製されたMIS型半導体装置201を上面から撮った光学顕微鏡写真を参考までに図16に示す。
前述の方法によって作製したMIS型半導体装置201のFET(電界効果トランジスタ)の電気特性を調べた。ここで、測定器としては、ソースメジャーユニットB2901A(Keysight Technologies製)、ファンクションジェネレータ33220A(Agilent Technologies製)、アンプ1201および1211(DL Instruments製)、デジタルボルトメーター34401A(Agilent Technologies製)を用いた。また、超伝導マグネットを備えた無冷媒冷却装置(仁木工芸製)と上記測定器を用いてホール効果測定を行った。
図17から、600cm2V−1s−1を超える高いホール(Hall)移動度が得られることが確認された。
また、図18から、ゲート電極34Gに負電圧を印加するほど線形的にホール(Hall)シートキャリア密度が増え、ゲート電極34Gに印加する電圧が−10Vのときには6×1012cm−2を超える高いホール(Hall)シートキャリア密度が得られることが実証された。
ここで、式(A1)−(A4)は、それぞれ非特許文献6の式(1),(2),(4)および(5)に基づくものであるが、非特許文献とは異なり、重い正孔バンド、軽い正孔バンド、スピン軌道スプリットオフバンドそれぞれについて計算した。また、有効質量も、表面平行と垂直を区別した。作製した試料と同様に、ダイヤモンドの表面は(111)を考えている。そして、それぞれの移動度は、μHH=eτHH/mc HH*、μLH=eτLH/mc LH*、μSO=eτSO/mc SO*より計算した。
μ =(nHHμHH 2+nLHμLH 2+nSOμSO 2)/(nHHμHH+nLHμLH+nSOμSO)
・・・(A5)
n =(nHHμHH+nLHμLH+nSOμSO)2/(nHHμHH 2+nLHμLH 2+nSOμSO 2)
・・・(A6)
ここで、nHH、nLH、nSOはそれぞれ、重い正孔バンド、軽い正孔バンド、スピン軌道スプリットオフバンドに属するホールの面キャリア密度である。あるトータルのキャリア密度の場合に、nHH、nLH、nSOにどのように分布するかは、以下の式(A7)―(A10)からシュレーディンガー方程式とポアソン方程式を連立して解くことにより求めた。
mz iは表面垂直方向の有効質量(mz HH*、mz LH*、mz SO*)、m// iは表面平行方向の有効質量(mc HH*、mc LH*、mc SO*)、eφ(z)はポテンシャルエネルギー、En iは固有エネルギー(i=HH,LH,SOの第nサブバンドの最高エネルギー)、Ψn iは固有エネルギーEn iに対応する表面垂直方向の波動関数、EFはフェルミレベル、nn iはi=HH,LH,SOの第nサブバンドを満たすホールの面キャリア密度、およびn2Dはトータルのホールキャリア密度である。
温度 T=300 K
ダイヤモンドの比誘電率 εS=5.7
密度 ρ=3515 kgm−3
縦音響フォノン速度 ul=17536ms−1
変形ポテンシャル Dac=8eV
二乗平均平方根(RMS)表面ラフネス Δ=0.25nm
表面ラフネスの横方向の緩和長 L=2nm
負の電荷の表面からの距離 d=0
表面に平行方向の有効質量 mc *
重い正孔バンド mc HH*=0.299m0
軽い正孔バンド mc LH*=0.503m0
スピン軌道スプリットオフバンド mc SO*=0.375m0
(m0は静止質量)
表面に垂直方向の有効質量 mz *
重い正孔バンド mz HH*=0.763m0
軽い正孔バンド mz LH*=0.248m0
スピン軌道スプリットオフバンド mz SO*=0.375m0
スピン軌道ギャップエネルギー ΔSO=6meV
ドナー密度 ND=1.76×1016cm−3(0.1ppm)
このホール(Hall)移動度は、同構造で水素終端層を形成してからh−BNを貼り合わせるまでの環境が大気の下で作製されたFETのそれに比べ約2倍である。また、非特許文献5で開示された(図19に示された)これまでに報告されたダイヤモンドFETの移動度と大気に晒された水素終端ダイヤモンドの表面伝導の移動度に比べ大幅に高いものである。
また、音響フォノン、表面ラフネスおよび表面電荷不純物の効果を取り込んで計算されるシミュレーション結果と実験結果を比較すると、本発明のFETの実験結果は、表面電荷不純物が5×1011cm−2のときの理論計算とよく一致していることがわかる。このことから、本発明の半導体層として水素終端ダイヤモンドを、またゲート絶縁膜33としてh−BNを用い、水素終端層を形成してからh−BNを貼り合わせるまでの環境を真空および大気圧のArガスとして作製された実施例1のFETの表面電荷不純物は、約5×1011cm−2と考えられる。さらに、この表面電荷不純物が1×1011cm−2に低減された場合は、上記の2×1011cm−2から6×1012cm−2のキャリア密度領域で、1×103cm2V−1s−1以上という高い移動度が得られると理論計算される。
実施例1のFETは、キャリア密度が1012〜1013cm−2領域において、ダイヤモンド半導体層22とゲート絶縁体層23との界面に存在する表面電荷による移動度の抑制が少なく、ダイヤモンド半導体材料のもつ高移動度特性が引き出せて、移動度の高いものとなる。
この結果から、しきい値電圧VTHは−0.792Vと算出され、実施例1で作製したMIS型半導体装置201はノーマリーオフ動作をすることが実証された。
このため、本発明は、高温環境で利用可能なロジック回路、高温環境で利用可能なインバーターなどのパワーデバイスを例とした大電力、高周波、高温対応の半導体装置の道を切り開くものとなっており、産業上大いに利用されることが期待される。
12:水素
13:ホウ素
14:窒素
21:ダイヤモンド基板
22:ダイヤモンド半導体層
23:ゲート絶縁体層(ゲート絶縁膜)
23a:絶縁膜
24:導電体層(ゲート電極)
25:絶縁膜
25a:絶縁膜
26:低抵抗化層
27:ゲート電極配線
28:ソース電極およびその電極配線
29:ドレイン電極及びその電極配線
31:ダイヤモンド基板
32:水素終端層
33:ゲート絶縁膜(ゲート絶縁体h−BN)
33a:絶縁膜
34G:ゲート電極(グラファイト)
35:導電膜
35a:導電膜
36:導電膜
36a:導電膜
37S:ソース電極
37D:ドレイン電極
42:低抵抗化層
43:酸素終端層
43a:酸素終端層
51,52,53:レジストパターン
61:絶縁膜(素子分離用h−BN)
62:導電膜(電極配線)
62a:導電膜
62G:ゲート電極配線(ボンディングパッド配線)
62S:ソース電極配線(ボンディングパッド配線)
62D:ドレイン電極配線(ボンディングパッド配線)
71:酸素終端と水素終端の領域の境界
101:MIS型半導体装置
201:MIS型半導体装置
1001:処理装置
1002:処理装置
1011:水素終端処理チャンバー
1012:ゲートバルブ
1013:ターボポンプ
1014:バルブ
1015:配管
1016:スクロールポンプ
1017:バルブ
1018:配管
1019:バルブ
1020:バラトロン真空計
1022:バルブ
1023:プロセスガス
1024:ゲートバルブ
1025:試料搬送・一時保管室
1026:ゲートバルブ
1027:搬送中間室
1028:フランジ
1029:試料搬送ロッド
1031:貼り合わせ処理室(グローブボックス)
1032:仕切り扉
1034:パスボックス
1035:バルブ
1036:配管
1037:スクロールポンプ
1038:バルブ
1039:圧力計
1040:不活性ガス循環精製機(Arガス循環精製機)
1041:バルブ
1042:配管
1043:ゲートバルブ
1044:バルブ
1045:配管
1052:Arガスシリンダー
1053:配管
1054:バルブ
1055:バルブ
1061:排気量調整バルブ
1062:配管
1063:真空計
1071:配管
1072:バルブ
1073:フランジ
1074:ベローズ配管
1075:ターボ排気セット
1101:チャンバー
1102:アングルバルブ
1103:ターボポンプ
1104:バルブ
1105:スクロールポンプ
1106:バルブ
1107:配管
1108:バルブ
1109:ベローズ配管
1110:バルブ
1111:ベローズ配管
1112:真空計
E1:水素終端処理部
E2:試料搬送部
E3:貼り合わせ処理部
E4:真空排気系
Claims (17)
- 半導体層と絶縁体層と導電体層を有し、前記絶縁体層が前記半導体層と前記導電体層で挟まれたp型のMIS型半導体装置であって、
前記半導体層は少なくとも前記絶縁体層と接する部分の一部が水素終端されたダイヤモンドからなり、
閾値電圧VTHが負電圧である、MIS型半導体装置。 - 前記絶縁体層は窒化ホウ素からなる、請求項1記載のMIS型半導体装置。
- 前記絶縁体層は窒化ホウ素の単結晶からなる、請求項1または2記載のMIS型半導体装置。
- 前記絶縁体層は六方晶窒化ホウ素(h−BN)からなる、請求項1から3の何れか1記載のMIS型半導体装置。
- 前記半導体層と前記絶縁体層との界面に存在する荷電不純物の密度が0cm−2以上5×1011cm−2以下である、請求項1から4の何れか1記載のMIS型半導体装置。
- 前記半導体層と前記絶縁体層との界面に存在する荷電不純物の密度が0cm−2以上1×1011cm−2以下である、請求項1から4の何れか1記載のMIS型半導体装置。
- 前記導電体層はグラファイトからなる、請求項1から6の何れか1記載のMIS型半導体装置。
- 水素で終端されたダイヤモンドからなる第1主表面を有する半導体層を形成することと、
前記半導体層の水素で終端された面の少なくとも一部に接して絶縁体層を形成することと、
前記絶縁体層の少なくとも一部の上に導電体層を形成することを有し、
前記半導体層を形成することの直後から前記絶縁体層を形成することの直前に至るまで間の雰囲気が、真空、水素ガス、不活性ガスおよび不活性ガスが添加された水素ガスからなる群より選ばれる何れかの1つである、MIS型半導体装置の製造方法。 - 第1主表面の少なくとも一部にダイヤモンドからなる半導体層が露出している部分を有する部材を準備する部材準備することと、
前記半導体層が露出している部分の少なくとも一部を水素処理することと、
前記半導体層の前記水素処理された部分の少なくとも一部に接して絶縁体層を形成することと、
前記絶縁体層の少なくとも一部の上に導電体層を形成することを有し、
前記水素処理することの直後から前記絶縁体層を形成することの直前に至るまで間の雰囲気が、真空、水素ガス、不活性ガスおよび不活性ガスが添加された水素ガスからなる群より選ばれる何れかの1つである、MIS型半導体装置の製造方法。 - 前記絶縁体層を形成することの雰囲気が真空、水素ガス、不活性ガスおよび不活性ガスが添加された水素ガスからなる群より選ばれる何れかの1つである、請求項8または9記載のMIS型半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁体層は窒化ホウ素からなる、請求項8から10の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁体層は窒化ホウ素の単結晶からなる、請求項8から11の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁体層は六方晶窒化ホウ素(h−BN)からなる、請求項8から12の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
- 前記半導体層と前記絶縁体層との界面に存在する荷電不純物の密度が0cm−2以上5×1011cm−2以下である、請求項8から13の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
- 前記半導体層と前記絶縁体層との界面に存在する荷電不純物の密度が0cm−2以上1×1011cm−2以下である、請求項8から13の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
- 前記不活性ガスはアルゴンガスである、請求項8から15の何れか1記載のMIS型半導体装置の製造方法。
- 前記雰囲気の圧力は大気圧である、請求項8または9に記載のMIS型半導体装置の製造方法。
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