JP2021041353A - 洗浄ノズル - Google Patents
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Abstract
Description
洗浄ノズル85は、チャックテーブル30に保持されたウェーハWの裏面Wbを、洗浄水を噴射することによって洗浄する。
噴射口93は、箱91の下面91cの略中央に形成された細長い開口部である。噴射口93は、X軸方向に沿って延びる長方形状を有している。噴射口93は、ウェーハW(図1参照)の半径以上の長さを有する。
なお、図4では、便宜上、箱91における−X側の端面91dに設けられている洗浄水供給口97も示している。
振動板101は、たとえばステンレスからなる板であり、第2電極板105における2つの下端部(−Z方向側の端部)、ならびに、箱91の第1長側壁91aおよび第2長側壁91bの内側に取り付けられている。
その後、ウェーハWを保持したチャックテーブル30は、図示しないY軸方向移動手段によって、洗浄装置80の洗浄ノズル85の真下に配置される。
この際、昇降シリンダ83が、洗浄ノズル85の高さを調整する。さらに、昇降シリンダ83は、たとえば、洗浄ノズル85の長方形の噴射口93が、ウェーハWの中央部分から外周部分までの上方に配置されるように、洗浄ノズル85のX軸方向における位置を調整する。
そして、X軸方向に延びる細長い長方形の噴射口93の略全体から、超音波振動水Lsが、X軸方向に延びる水幕のように、チャックテーブル30とともに回転するウェーハWの裏面Wbに向かって噴射される。
11:第1の装置ベース、12:第2の装置ベース、13:コラム、
26:スピンナ洗浄ユニット、28:スピンナ洗浄ノズル、
30:チャックテーブル、300:テーブル面、
31:搬入機構、36:搬出機構、
61:仮置きテーブル、63:位置合わせ手段、
80:洗浄装置、81:枠体、81a:縦柱部、81b:横柱部、
83:昇降シリンダ、85:洗浄ノズル、
91:箱、91a:第1長側壁、91b:第2長側壁、
91c:下面、91d:端面、
93:噴射口、97:洗浄水供給口、
95:超音波振動板、101:振動板、103:第1電極板、
104:圧電素材、105:第2電極板、106:輻射面、107:高周波電源、
L:洗浄水、Ls:超音波振動水、S:超音波振動
Claims (3)
- 保持手段に保持される被洗浄物の被洗浄面に洗浄水を噴射して被洗浄物を洗浄する洗浄ノズルであって、
直方体の箱と、
該箱の下面に形成された長方形の噴射口と、
該噴射口に対向するように該箱内に配置され、該箱の側壁で支持されている長尺状の超音波振動板と、
該超音波振動板と該噴射口との間の該箱内に洗浄水を供給するための洗浄水供給口と、を備える洗浄ノズル。 - 該超音波振動板は、該噴射口に向かう側が凹んだ円弧状の断面を有する、
請求項1記載の洗浄ノズル。 - 被洗浄物が半導体ウェーハであって、
該噴射口が、半導体ウェーハの半径以上の長さを有する、
請求項1記載の洗浄ノズル。
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