JP2021019087A - 磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ - Google Patents
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 145
- 230000000694 effects Effects 0.000 title claims abstract description 26
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 254
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims abstract description 61
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 31
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical group [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 353
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 230000005355 Hall effect Effects 0.000 description 15
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 12
- 230000005290 antiferromagnetic effect Effects 0.000 description 10
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 229910020068 MgAl Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020598 Co Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002519 Co-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005347 FeSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017028 MnSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001364096 Pachycephalidae Species 0.000 description 1
- 229910019041 PtMn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005642 SnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
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- G01R33/09—Magnetoresistive devices
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
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- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1659—Cell access
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
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- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1675—Writing or programming circuits or methods
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/18—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using Hall-effect devices
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10B61/00—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/10—Magnetoresistive devices
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/80—Constructional details
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/80—Constructional details
- H10N50/85—Magnetic active materials
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N52/00—Hall-effect devices
- H10N52/80—Constructional details
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Abstract
Description
図7に、典型的な磁気抵抗効果素子100の断面模式図を示す。磁気抵抗効果素子100は、磁化固定層(ピン層)101と磁化自由層102とその間に挟持された非磁性層103を備える。磁化自由層102が受ける磁場には磁化固定層101の端部101aからの漏れ磁場BLもあり、この漏れ磁場BLの影響で、平行から反平行への磁化反転時の反転電流と反平行から平行への磁化反転時の反転電流とで非対称な磁化反転挙動となる。
「第1実施形態」
図1(a)は、本発明の第1実施形態にかかる磁気抵抗効果素子の断面模式図であり、図1(b)は、第1強磁性層、非磁性層及び第2強磁性層の積層体の4つの例の平面模式図である。図1(b)において、矢印は磁化容易軸の方向の一例を示すものである。また、図2は、第1強磁性層あるいは第2強磁性層の平面模式図であり、便宜上、当該平面模式図において、第1強磁性層及び第2強磁性層の両方の符号を付与した。
磁気抵抗効果素子10は、第1強磁性層1と、第2強磁性層2と、第1強磁性層1と第2強磁性層2とで挟持された非磁性層3と、が積層方向である第1方向(z方向)に積層されており、第1強磁性層1及び第2強磁性層2はいずれも、第1方向(z方向)において中心部1A、2Aが外周部1B、2Bに対して突き出るように曲がっており、中心部1A、2Aの突き出る向きは互いに逆であって、第1方向(z方向)において互いの中心部1A、2A間の距離に比べて互いの外周部1B、2B間の距離が大きい。
磁気抵抗効果素子10は、第1強磁性層1、非磁性層3及び第2強磁性層2の積層構造を基板5上に備えた例である。
磁気抵抗効果素子10は、本発明の効果を奏する範囲でこれらの層以外にキャップ層、下地層等の他の層を有してもよい。
第1強磁性層1及び第2強磁性層2は磁性体である。第1強磁性層1及び第2強磁性層2は、それぞれ磁化をもつ。磁気抵抗効果素子10は、第1強磁性層1の磁化と第2強磁性層2の磁化の相対角の変化を抵抗値変化として出力する。
図1に示した第1強磁性層1及び第2強磁性層2は、磁化がxy平面の面内方向に配向した面内磁化膜であるが、磁化がz方向に配向した垂直磁化膜であってもよい。
すなわち、第1強磁性層1及び第2強磁性層2について、中心部1A、2Aの突き出る向きは互いに逆である。そのため、第1強磁性層1及び第2強磁性層2は、z方向において、互いの中心部1A、2A間の距離に比べて互いの外周部1B、2B間の距離が大きくなるように構成されている。
図1及び図2を参照して、第1強磁性層あるいは第2強磁性層の中心部及び外周部について詳細に説明する。
まず、中心線X0−X0は、第1強磁性層及び第2強磁性層の中心を貫くz方向に平行な線である。第1強磁性層の中心あるいは第2強磁性層の中心とは、図1(b)(i)のような円の場合はその円の中心であり、図1(b)(ii)のような楕円の場合は短軸と長軸の交点であり、図1(b)(iii)や(iv)のような正方形、長方形などの四辺形の場合は、対角線の交点を指す。
本明細書において「中心部」とは、+z側から−z側へ平面視して、中心線X0−X0を中心とし、第1強磁性層1あるいは第2強磁性層2の外周1a、2aの、面積比で1/10の相似形を、z方向に掃引して得られる部分である。例えば、平面視で半径rの円の場合(図2参照)、面積比で1/10の相似形の円とは、中心線X0−X0を中心とする半径がおおよそ0.316rの円である。
また、本明細書において「外周部」とは、+z側から−z側へ平面視して、中心線X0−X0を中心とし、第1強磁性層1あるいは第2強磁性層2の外周1a、2aの、面積比で7/10の相似形を強磁性層の平面形状から除いた残りの領域を、z方向に掃引して得られる部分である。例えば、平面視で半径rの円の場合(図2参照)、面積比で7/10の相似形の円とは、中心線X0−X0を中心とする半径がおおよそ0.837rの円であり、「外周部」は強磁性層の平面形状からこの0.837rの円を除いた残りの領域である。
磁気抵抗効果素子10においては、第1強磁性層1の中心部1Aと第2強磁性層2の中心部2Aとのz方向の距離(矢印A、A’で示した線間の距離)に比べて、第1強磁性層1の外周部1Bと第2強磁性層2の外周部2Bとのz方向の距離(矢印B、B’で示した線間の距離)が大きい。第1強磁性層1と第2強磁性層2の距離とは、z方向における、第1強磁性層1の下面1bと第2強磁性層2の上面2bとの距離を意味する。例えば、第1強磁性層1の中心部1Aと第2強磁性層2の中心部2Aとの距離とは、z方向における、第1強磁性層1の中心部1Aにおける下面1bと第2強磁性層2の中心部2Aにおける上面2bとの距離を意味する。
なお、互いの外周部間のz方向の距離を決定する際、第1強磁性層1の外周部1Bの下面(第2強磁性層2に対向する面)1bの任意の点、第2強磁性層1の外周部2Bの上面(第1強磁性層1に対向する面)2bの任意の点を選択できる。図1に示す例では、第1強磁性層1の外周部1Bの下面1bと側面1Baとの交点P2と、第2強磁性層1の外周部2Bの上面2bと側面2Baとの交点Q2との距離を、互いの外周部間のz方向の距離とした。同様に、互いの中心部間のz方向の距離を決定する際、第1強磁性層1の中心部1Aの下面1bの任意の点、第2強磁性層1の中心部2Aの上面2bの任意の点を選択できる。図1に示す例では、第1強磁性層1の中心部1Aの下面1bの中心線X0−X0の近傍の点P1と、第2強磁性層1の外周部2Bの上面2bの中心線X0−X0の近傍の点Q1との距離を、互いの中心部間のz方向の距離とした。
ここで、非磁性層が絶縁層の場合、曲がっておらず平らな第1強磁性層及び第2強磁性層を用いた構成において、層間距離(非磁性層の厚み)を大きくすることにより、第2強磁性層から第1強磁性層に入る漏れ磁場は低減できるが、強磁性層間に流れるトンネル電流が層間距離(非磁性層の厚み)に対して指数関数的に低減し、磁気抵抗効果素子の感度が大きく損なわれる。これに対して、磁気抵抗効果素子10では、第1強磁性層及び第2強磁性層の互いの中心部寄りの距離は小さいままで、外周部側の距離のみを大きくする構成である。そのため、磁気抵抗効果素子の感度をできるだけ維持しつつ、第2強磁性層から第1強磁性層に入る漏れ磁場を低減して、第1強磁性層の磁化反転の対称性の向上を図ることができる。
例えば、第1の距離を矢印A、A’で示した線間の距離とし、第2の距離を矢印B、B’で示した線間の距離とし、第3の距離については、中心線X0−X0を挟んで矢印B、B’で示した線とは反対側の位置における、第1強磁性層1の外周部1Bと第2強磁性層1の外周部2Bとの距離とすることによって、第1の距離と、第1の距離よりも長い第2の距離と、第1の距離よりも長い第3の距離とが存在する。あるいは、第3の距離については、中心線X0−X0を挟んで矢印B、B’で示した線とは反対側の位置における、第1強磁性層1の中心部1Aと外周部1Bとの間の部分と、第2強磁性層1の中心部2Aと外周部2Bとの間の部分との距離にとることによっても、当該大小関係の距離の組み合わせとなる。
この例の場合、第1の方向と垂直方向の第2の方向(y方向)から見て、第1の距離を有する位置は、第2の距離を有する位置と第3の距離を有する位置とに挟まれている。
第1強磁性層1の膜厚が第2強磁性層2の膜厚よりも薄いことが好ましい。第2強磁性層2は磁化固定層であるため、強い磁気異方性が必要になるが強い垂直磁気異方性を出すために厚い膜構成が必要となるからである。
非磁性層3には、公知の材料を用いることができる。例えば、非磁性層3が絶縁体からなる場合(トンネルバリア層である場合)、その材料としては、Al2O3、SiO2、MgO、及びMgAl2O4などを用いることができる。また、これらのほかにも、Al、Si、Mgの一部が、Zn、Beなどに置換された材料なども用いることができる。これらの中でも、MgOやMgAl2O4はコヒーレントトンネルが実現できる材料であるため、スピンを効率よく注入できる。また、非磁性層3が金属からなる場合、その材料としてはCu、Au、Agなどを用いることができる。さらに、非磁性層3が半導体からなる場合、その材料としては、Si、Ge、CuInSe2、CuGaSe2、Cu(In,Ga)Se2等を用いることができる。
しかし、非磁性層3は、第1強磁性層1及び第2強磁性層2よりもxy面方向のサイズが小さく、第1方向(z方向)から平面視して、第1強磁性層1及び第2強磁性層2の外周内に収まる構成であってもよい。
基板5は、平坦性に優れることが好ましい。平坦性に優れた表面を得るために、材料として例えば、Si、AlTiC等を用いることができる。
図3(a)は、本発明の第2実施形態にかかる磁気抵抗効果素子の断面模式図である。図3(b)は、第1強磁性層、非磁性層及び第2強磁性層の積層体の4つの例の平面模式図である。図3(b)において、矢印は磁化容易軸の方向の一例を示すものである。
第1実施形態と同じ符号を用いた部材は同じ構成を有するものであり、説明を省略する。また、第1実施形態と符号が異なっていても機能が同じ部材については説明を省略する場合がある。
第1強磁性層11及び第2強磁性層12がいずれも、第1方向(z方向)に沿って非磁性層13から離間するにつれて、第1方向(z方向)に直交する断面の断面積が大きくなるように形成されてなる。
図3を参照して、第1方向(z方向)に直交する断面(xy面に平行な断面)が円状である構成を例にして説明する。
第1強磁性層11は、z方向に沿って非磁性層13から離間するにつれて(非磁性層13から+z方向へ向かって)、z方向に直交する断面の断面積が大きくなるように(例えば、第1強磁性層11の非磁性層13に接する断面の直径はR2であるのに対して、第1強磁性層11の、非磁性層13から最も離間する断面の直径はR1である)形成されてなる。第1強磁性層11は、非磁性層13と同径の部分(z方向から平面視して重なる部分)である同径部11Aと、同径部11Aの外側に配置して、z方向から平面視して非磁性層13と重ならない部分である周端部11Bとからなる。
同様に、第2強磁性層12は、z方向に沿って非磁性層13から離間するにつれて(非磁性層13から−z方向へ向かって)、z方向に直交する断面の断面積が大きくなるように(例えば、第2強磁性層12の非磁性層13に接する断面の直径はR2であるのに対して、第2強磁性層12の、非磁性層13から最も離間する断面の直径はR1である)形成されてなる。第2強磁性層12は、非磁性層13と同径の部分(z方向から平面視して重なる部分)である同径部12Aと、同径部11Aの外側に配置して、z方向から平面視して非磁性層13と重ならない部分である周端部12Bとからなる。
例えば、第1強磁性層11はその側面11aが、z方向に沿って非磁性層13から離間するにつれて傾斜が急になるように、又は、傾斜が緩くなるように形成されてなるものでもよい。同様に、第2強磁性層12はその側面12aが、z方向に沿って非磁性層13から離間するにつれて傾斜が急になるように、又は、傾斜が緩くなるように形成されてなるものでもよい。
非磁性部13が内側に入ることで、第1強磁性層11及び第2強磁性層12の側面11a、12aには、非磁性部13から由来する界面磁気異方性が利用できないため、異方性が変化し、磁化反転が容易になるからである。
図4は、本発明の第3実施形態にかかる磁気抵抗効果素子の断面模式図である。
第1実施形態又は第2実施形態と同じ符号を用いた部材は同じ構成を有するものであり、説明を省略する。また、第1実施形態又は第2実施形態と符号が異なっていても機能が同じ部材については説明を省略する場合がある。
スピン軌道トルク配線層7は、X方向に延在する。スピン軌道トルク配線層7は、第1強磁性層1のZ方向に向いた一面に接続されている。スピン軌道トルク配線層7は、第1強磁性層1に直接接続されていてもよいし、他の層を介して接続されていてもよい。
層の膜厚がスピン拡散長以下であれば、スピン軌道トルク配線層7から伝搬するスピンを第1強磁性層1に十分に伝えることができる。
図5は、本発明の第4実施形態にかかる磁気抵抗効果素子の断面模式図である。
第1実施形態〜第3実施形態のいずれかと同じ符号を用いた部材は同じ構成を有するものであり、説明を省略する。また、第1実施形態〜第3実施形態のいずれかと符号が異なっていても機能が同じ部材については説明を省略する場合がある。
本発明の磁気抵抗効果素子は、公知の成膜法を用いて製造することができる。
第1強磁性層及び第2強磁性層、非磁性層の加工は公知の方法例えば、イオンミリング、RIEなどを用いたり、デバイス加工後の酸化工程などで作ることができる。
図1に示した磁気抵抗効果素子10は例えば、曲がりの内磁気抵抗効果素子に対して、円柱状に加工した後に、酸素を暴露することにより、側壁から非磁性層に酸素を侵入させて非磁性層を厚み方向に太らせるようにして作製することができる。
また、図3に示した磁気抵抗効果素子20は例えば、第1方向(面直方向)に対して90度未満の角度でイオンミリングを入射させることで、入射角度に応じたエッジ構造を作ることができる。ただし上層も削られてしまうので、上層にエッチングレートの遅い材料でキャップすることで、単なる円錐形から磁気抵抗効果素子20を作製することができる。
図4に示した磁気抵抗効果素子30は例えば、図1に示した磁気抵抗効果素子10を形成後、CMPをかけることで作ることができる。同様に、図5に示した磁気抵抗効果素子40は例えば、図3に示した磁気抵抗効果素子20を形成後、CMPをかけることで作ることができる。
本発明の一実施形態に係る磁気メモリは、本発明のスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子を複数備える。
図6は、磁気抵抗効果素子の各層の積層方向に沿って磁気抵抗効果素子10の変形例を切断した断面図である。図6に示す磁気記録素子1000は、磁気抵抗効果素子10の適用例の一例である。
2、12 第2強磁性層
3 非磁性層
7 スピン軌道トルク配線層
10、20、30、40 磁気抵抗効果素子
Claims (9)
- 第1強磁性層と、
第2強磁性層と、
前記第1強磁性層と前記第2強磁性層とで挟持された非磁性層と、が第1方向に積層されており、
前記第1強磁性層及び前記第2強磁性層はいずれも、前記第1方向において中心部が外周部に対して突き出るように曲がっており、中心部の突き出る向きは互いに逆であって、前記第1方向において互いの中心部間の距離に比べて互いの外周部間の距離が大きい、磁気抵抗効果素子。 - 磁化方向が可変な第1強磁性層と、
磁化方向が固定されている第2強磁性層と、
前記第1強磁性層と前記第2強磁性層とで挟持された非磁性層とが、第1方向に積層されており、
前記第1強磁性層及び前記第2強磁性層はいずれも、前記第1方向に沿って前記非磁性層から離間するにつれて、前記第1方向に直交する断面の断面積が大きくように形成されてなる、磁気抵抗効果素子。 - 第1強磁性層と、
第2強磁性層と、
前記第1強磁性層と前記第2強磁性層との間に形成された非磁性層と、を備え、
前記第1の強磁性層と前記非磁性層と前記第2の強磁性層とが並ぶ第1方向における前記第1強磁性層と前記第2強磁性層との距離として、少なくとも、
第1の距離と、
前記第1の距離よりも長い第2の距離と、
前記第1の距離よりも長い第3の距離と、
が存在している、磁気抵抗効果素子。 - 前記第1の方向と垂直方向の第2の方向から見て、
前記第1の距離を有する位置が、前記第2の距離を有する位置と前記第3の距離を有する位置とに挟まれている、請求項3に記載の磁気抵抗効果素子。 - 前記第1強磁性層の膜厚が前記第2強磁性層の膜厚よりも薄い、請求項1〜4のいずれか一項に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記非磁性層がNaCl構造を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記非磁性層がスピンネル構造または逆スピネル構造を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記第1方向に対して交差する第2の方向に延在し、前記第1強磁性層に接合するスピン軌道トルク配線を備える、請求項1〜7のいずれか一項に記載の磁気抵抗効果素子。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の磁気抵抗効果素子を複数備えた、磁気メモリ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019133796A JP7346967B2 (ja) | 2019-07-19 | 2019-07-19 | 磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ |
US16/912,832 US11264071B2 (en) | 2019-07-19 | 2020-06-26 | Magnetoresistance effect element and magnetic memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019133796A JP7346967B2 (ja) | 2019-07-19 | 2019-07-19 | 磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021019087A true JP2021019087A (ja) | 2021-02-15 |
JP7346967B2 JP7346967B2 (ja) | 2023-09-20 |
Family
ID=74346226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019133796A Active JP7346967B2 (ja) | 2019-07-19 | 2019-07-19 | 磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11264071B2 (ja) |
JP (1) | JP7346967B2 (ja) |
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KR102080631B1 (ko) | 2014-08-08 | 2020-02-24 | 고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠 | 자기 저항 효과 소자 및 자기 메모리 장치 |
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2019
- 2019-07-19 JP JP2019133796A patent/JP7346967B2/ja active Active
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2020
- 2020-06-26 US US16/912,832 patent/US11264071B2/en active Active
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Also Published As
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---|---|
JP7346967B2 (ja) | 2023-09-20 |
US11264071B2 (en) | 2022-03-01 |
US20210020216A1 (en) | 2021-01-21 |
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