JP2021009174A - ワイヤグリッド偏光板 - Google Patents
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Abstract
【課題】保護フィルムを剥離させた後における偏光度及び光透過率に優れながらも、不適切な保護フィルムの除去や貼り換え、及び保護フィルムの剥がし忘れを発見、防止できるワイヤグリッド偏光板を提供することを目的とする。【解決手段】粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲である粘着フィルムによって剥離される金属膜を、金属細線が形成された面と同じ面に有する、ワイヤグリッド偏光板。【選択図】図1
Description
本発明は、ワイヤグリッド偏光板に関する。
近年、液晶表示装置に、反射型偏光板が使用される機会が増加している。反射型偏光板は、特定の直線偏光成分の光を反射し、この特定の直線偏光成分と直交する成分の光を透過する。反射型偏光板の例として、透明基板上に複数の導電体(金属線)が平行に延在したワイヤグリッド型偏光板がある。
ワイヤグリッド型偏光板は、一般的に金属細線のピッチが入光する光の波長よりも十分に小さい場合、入光する光のうち、金属細線の延在方向と直交する電場ベクトルを有する直線偏光成分の光を透過させ、金属細線の延在方向の電場ベクトルを有する直線偏光成分の光を反射する特性を有する。
ワイヤグリッド型偏光板を作製する方法としては、基材表面に導電体の薄膜を作製し、薄膜上にポリマー層を形成した後、干渉露光法や電子線描画法等により作製したパターンを有する金型を用いてポリマー層上にパターンを形成し、ポリマー層のパターンを用いて導電体の薄膜をドライエッチング法等で金属細線を作製する方法が知られている(特許文献1)。また、凹凸形状基材に対し、斜め蒸着法を利用して、基材凸部の側面に導電体を蒸着する方法も知られている(特許文献2)。
特許文献1の製造方法は、干渉露光、電子線描画やドライエッチング等に必要な、高価な製造装置が必要であり、また、低生産性といった問題を有している。一方で、特許文献2の製造方法は、工程を簡易なものとすることができるために高生産性とすることができ、また、基材凸部の側面に導電体が蒸着されるため、導電体と基材凸部との接触面積を大きくでき、外力等による導電体の欠損を少なくできる。このようなワイヤグリッド型偏光板を、以下、ワイヤグリッド偏光板という。
特許文献1の製造方法は、干渉露光、電子線描画やドライエッチング等に必要な、高価な製造装置が必要であり、また、低生産性といった問題を有している。一方で、特許文献2の製造方法は、工程を簡易なものとすることができるために高生産性とすることができ、また、基材凸部の側面に導電体が蒸着されるため、導電体と基材凸部との接触面積を大きくでき、外力等による導電体の欠損を少なくできる。このようなワイヤグリッド型偏光板を、以下、ワイヤグリッド偏光板という。
ワイヤグリッド偏光板は、高偏光反射率にできる反射型偏光子であるため、光のリサイクルによる高輝度化が可能となり、また、光の吸収から生じる熱の発生が小さいという点、また偏光ミラーとして反射映像を利用できる点で、液晶表示装置に適している。
近年、液晶表示機器において放送技術や画像技術の進歩に伴い、より高画質、高輝度化が求められるようになっている。このため、ワイヤグリッド偏光板についてもより高品位であることが求められている。
近年、液晶表示機器において放送技術や画像技術の進歩に伴い、より高画質、高輝度化が求められるようになっている。このため、ワイヤグリッド偏光板についてもより高品位であることが求められている。
ワイヤグリッド偏光板をその製造所から出荷する際、傷つき防止のためにワイヤグリッド偏光板に微粘着性の保護フィルムを予め貼付することがされる。しかしながら一般の微粘着性の保護フィルムを使用した場合、粘着剤の成分が金属細線間に移行してしまい、ワイヤグリッド偏光板の光学性能を損なう問題がある。
このような問題を防止するために、特許文献3には、金属細線間に移行するような粘着剤成分の含有量が少なく、光学特性を維持できる特殊な保護フィルムを製造所内で予め貼付して得られるワイヤグリッド偏光板が提案されている。このような保護フィルムを貼付しておくことにより、出荷後のワイヤグリッド偏光板の光学特性を維持したまま、金属細線を傷つけることなく小片状の部品に裁断加工したり、運搬したり、別の光学材料と貼り合わせた積層体に部品加工したりすることができる。
しかしながらワイヤグリッド偏光板の出荷後に、顧客又は第三者によって不用意に保護フィルムが除去されたり、加工性を考慮して粘着力や、厚みや、その他機能が異なる別の保護フィルムに貼り換えられたりすることがある。このような不適切な保護フィルムの除去や貼り換えは、金属細線の損傷を引き起こし、偏光板の光学特性が損なわれるおそれがある。したがって、不適切な保護フィルムの除去や貼り換えを、発見したり防止したりすることが課題となっている。
また、ワイヤグリッド偏光板の製造所内で予め貼付する特殊な保護フィルムは、出荷前検査を実施する点から透明かつ薄手のフィルムであることが好ましいが、その反面部品加工されたワイヤグリッド偏光板を機器に組み付ける際に保護フィルムを剥がすべきところを、誤って保護フィルムを剥がさずに組み立て作業が行われる恐れがあることが課題となっている。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、保護フィルムを剥離させた後における光学特性、すなわち、偏光度及び光透過率に優れながらも、不適切な保護フィルムの除去や貼り換え、及び保護フィルムの剥がし忘れを発見、防止できるワイヤグリッド偏光板を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ワイヤグリッド偏光板に、所定の金属膜を設けることによって、優れた偏光度及び光透過率を保ちながら、不適切な保護フィルムの除去や貼り換えを発見、防止し、保護フィルムの剥がし忘れを防ぐことができることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]
粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲である粘着フィルムによって剥離される金属膜を、金属細線が形成された面と同じ面に有する、
ワイヤグリッド偏光板。
[2]
前記金属膜の面積が、前記ワイヤグリッド偏光板の面積に対して0.01%以上50%以下の範囲であって、
前記金属膜が、独立して、または周期的に配列している、
[1]に記載のワイヤグリッド偏光板。
[3]
前記金属膜が、前記金属細線方向と垂直に、帯状に形成されている、
[1]又は[2]に記載のワイヤグリッド偏光板。
[4]
前記金属膜が、前記金属細線方向と平行に、帯状に形成されている、
[1]又は[2]に記載のワイヤグリッド偏光板。
[5]
前記金属細線が形成された面に、粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲であって、前記金属膜の剥離力を越える粘着力を有する保護フィルムをさらに有する、
[1]〜[4]のいずれかに記載のワイヤグリッド偏光板。
[1]
粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲である粘着フィルムによって剥離される金属膜を、金属細線が形成された面と同じ面に有する、
ワイヤグリッド偏光板。
[2]
前記金属膜の面積が、前記ワイヤグリッド偏光板の面積に対して0.01%以上50%以下の範囲であって、
前記金属膜が、独立して、または周期的に配列している、
[1]に記載のワイヤグリッド偏光板。
[3]
前記金属膜が、前記金属細線方向と垂直に、帯状に形成されている、
[1]又は[2]に記載のワイヤグリッド偏光板。
[4]
前記金属膜が、前記金属細線方向と平行に、帯状に形成されている、
[1]又は[2]に記載のワイヤグリッド偏光板。
[5]
前記金属細線が形成された面に、粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲であって、前記金属膜の剥離力を越える粘着力を有する保護フィルムをさらに有する、
[1]〜[4]のいずれかに記載のワイヤグリッド偏光板。
本発明のワイヤグリッド偏光板は、偏光度及び光透過率に優れながら、不適切な保護フィルムの除去や貼り換え、及び保護フィルムの剥がし忘れを発見、防止することができる。
以下、本発明の実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について、詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく。その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
本実施形態のワイヤグリッド偏光板は、粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲である粘着フィルムによって剥離される金属膜を、金属細線が形成された面と同じ面に有する。
金属膜は、金属細線と同じ金属素材を使用して同時に形成することもできる。これにより金属膜を効率よく形成できるうえ、さらにワイヤグリッド偏光板自体を破壊検査することなく、代わりに容易にサンプリングすることが可能な金属膜を検査することで偏光板としての特性を低コストで評価できる。
保護フィルムで保護されたワイヤグリッド偏光板は、顧客又は第三者によって不用意に保護フィルムが除去されたり、加工性を考慮して粘着力や厚みが異なる一方、粘着剤成分の含有量が不適切な別の保護フィルムに貼り換えられたりする。本実施形態のワイヤグリッド偏光板によれば、当該偏光板の外観から金属膜が剥がされた痕跡を観察でき、上記の不適切な操作を発見及び防止できる。
また上記とは別の問題として、部品加工されたワイヤグリッド偏光板を機器に組み付ける際に、部品加工以前に予め貼付されていた保護フィルムを剥がすべきところを、剥がさないまま誤って組み立ててしまうことがある。本実施形態のワイヤグリッド偏光板によれば、金属膜の有無から保護フィルムの有無がわかるため、保護フィルムの剥がし忘れを発見及び防止できる。
保護フィルムで保護されたワイヤグリッド偏光板は、顧客又は第三者によって不用意に保護フィルムが除去されたり、加工性を考慮して粘着力や厚みが異なる一方、粘着剤成分の含有量が不適切な別の保護フィルムに貼り換えられたりする。本実施形態のワイヤグリッド偏光板によれば、当該偏光板の外観から金属膜が剥がされた痕跡を観察でき、上記の不適切な操作を発見及び防止できる。
また上記とは別の問題として、部品加工されたワイヤグリッド偏光板を機器に組み付ける際に、部品加工以前に予め貼付されていた保護フィルムを剥がすべきところを、剥がさないまま誤って組み立ててしまうことがある。本実施形態のワイヤグリッド偏光板によれば、金属膜の有無から保護フィルムの有無がわかるため、保護フィルムの剥がし忘れを発見及び防止できる。
ワイヤグリッド偏光板は、入光する光が偏光される程度に微細な一定間隔で金属細線が並設されていればよく、金属単体の凹凸部からなる配線であっても、別の凹凸構造の上に形成される金属配線であっても構わない。金属配線が別の凹凸構造の上に形成される場合、その形成方法は別の凹凸構造の凸部の上部に形成されてもよいし、別の凹凸構造の凸部の一部または全部を覆うような形であってもよい。
ここではワイヤグリッド偏光板が、複数の格子状凸部が並設して構成された凸凹構造の格子状凸部上に金属細線が形成されてなる場合について図1を参照して説明する。
ここではワイヤグリッド偏光板が、複数の格子状凸部が並設して構成された凸凹構造の格子状凸部上に金属細線が形成されてなる場合について図1を参照して説明する。
図1は、本実施形態の積層体の断面を模式的に示した図である。ワイヤグリッド偏光板1は、微細な凸凹構造11a(一方向に延在した凸部を持つ格子状の凸凹構造)を表面に有する透明な基材11と、この基材11の凸凹構造11aの格子状凸部を含む領域上に設けられた金属細線12と、この基材11の金属細線12が形成された面と同じ面に形成された金属膜13から構成されている。
ワイヤグリッド偏光板1は、金属細線12の先端部及び金属膜13の表面と接触する粘着層22と保護フィルム基材21からなる保護フィルム2と予め貼り合わせてから出荷することで、輸送時や部品加工時に金属細線12が傷つくことを防止できる。
微細な凸凹構造11aは、高さが0.01μm以上10μm以下であることが好ましく、ピッチが0.01μm以上10μm以下であることが好ましい。微細な凸凹構造11aは、例えば光ナノインプリント技術を応用して製造することができる。なお、ここでは基材11は、基材11の表面に凸凹構造11aが形成された単層構造を有しているが、単層に限定されない。凸凹構造11aの高さ及びピッチは、例えば走査型電子顕微鏡等を用いて測定することができる。
基材11を単層で構成する場合、基材の材質としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)樹脂、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)樹脂、PC(ポリカーボネート)樹脂、PS( ポリスチレン)樹脂、PE(ポリエチレン)樹脂、PP(ポリプロピレン)樹脂、COP(シクロオレフィンポリマー) などの熱可塑性樹脂;TAC(トリアセチルセルロース)樹脂などの樹脂;ガラス;などを挙げることができる。これらの基材に所望の凸凹構造を反転した凹凸構造を有する型を用いて凸凹構造を熱転写する方法や、あるいは延伸加工が可能な熱可塑性樹脂によりピッチの大きな反転型を用いて熱転写した後に延伸加工を施して、所望のピッチの凸凹構造11aを設けた基材11を得ることができる。また、ガラス基板に凸凹構造11aを設ける場合には、フォトリソグラフィー、エッチングなどの通常のパターニング方法を用いることができる。
基材11はベース基材上に、凸凹構造11aを有するように紫外線硬化型樹脂層が形成された複層構造であってもよい。この場合、その材質はPET樹脂、PMMA樹脂、PC樹脂、PS樹脂、COPなどの熱可塑性樹脂やTAC樹脂などの樹脂、ガラスなどを挙げることができる。紫外線硬化型樹脂層には、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系などの紫外線硬化型樹脂を用いることができる。
紫外線硬化型樹脂を用いて凸凹構造11aを形成する場合には、上記の基材11を構成する樹脂、ガラスの表面に上記の紫外線硬化樹脂を塗布し、所望の凸凹構造を反転した凹凸構造を有する型に押し当てながら紫外線で硬化して、型の凹凸構造を紫外線硬化型樹脂に転写して基材11上に凸凹構造11aを設ける。
基材11が単層あるいは複層のいずれであっても、凸凹構造11aのピッチは、偏光特性を考慮すると150nm以下が好ましく、より好ましくは120nm以下であり、さらに好ましくは100nm以下である。ピッチが小さくなるほど偏光特性は向上する。一方加工の容易さの面では20nm以上であることが好ましい。
凸凹構造11aの格子状凸部の高さは0.01μm以上10μm以下であることが好ましく、強度面からは格子状凸部間のピッチに対して0.5倍以上1.5倍以下の高さ、特に0.8倍以上1.5倍以下の高さであることがより好ましい。凸凹構造11aの上に金属細線12を設けた際に、(格子状凸部+金属細線12)の高さが格子状凸部間のピッチに対して0.5倍以上1.5倍以下の高さ、特に0.8倍以上1.5倍以下の高さであることが強度、偏光性能の面からより好ましい。
凸凹構造11aの表面に誘電体層を設けてもよい。誘電体層が凸凹構造11aの格子状凸部の表面を覆うことにより、格子状凸部と金属細線との間の密着性を向上することができる。
金属細線12を構成する金属は光の反射率が高い素材が好ましく、アルミニウム、銀などを挙げることができる。金属配線12のピッチは、凸凹構造11aと同様0.01μm以上10μm以下であることが好ましく、金属細線12の幅は、偏光度、透過率などを考慮すると、格子状凸部間のピッチの35%以上60%以下であることが好ましい。金属細線の高さと幅の比(アスペクト比)は2以上5以下が好ましく、特に2以上3.5以上が好ましい。金属細線の高さは可視光領域の偏光特性を考慮した場合、120nm以上220nm以下がさらに好ましく、140nm以上200nm以下であることが最も好ましい。金属細線12を形成する方法は金属細線12を構成する材料と基材を構成する材料とを考慮して適宜選択する。例えば、真空蒸着法などを用いることができる。
金属膜13は基材11の金属細線が形成された面と同じ面に形成される。金属膜13と基材11との間の密着力は、金属細線12と凸凹構造11aとの間の密着力と比較して小さく、粘着力が0.02N/25mm以上0.50N/25mm以下の範囲である粘着フィルムによって、金属膜13だけを基材11から剥離除去することができる。すなわち、保護フィルム2の粘着力が0.02N/25mm以上0.50N/25mm以下の範囲のものを使用した場合、ワイヤグリッド偏光板1から保護フィルム2を剥がすとワイヤグリッド偏光板1から金属膜13も同時に剥離するので、保護フィルム2が剥がされていることを容易に確認できる。
金属膜13を基材11から剥離するための粘着フィルム、すなわち保護フィルム2の粘着力は、保護フィルムをワイヤグリッド偏光板に安定に固定するためには0.05N/25mm以上0.50N/25mm以下の範囲であることが好ましく、0.08N/25mm以上0.40N/25mm以下の範囲であることがより好ましく、0.10N/25mm以上0.30N/25mm以下の範囲であることがさらに好ましい。
金属膜13と基材11との密着力も金属膜13が製造工程の中で保護フィルムを貼り合わせる前に剥落することを防止したり、保護フィルムを貼り合わせる際の軽微な応力で金属膜が損傷することを防止したりするためには、接着力は、0.05N/25mm以上であることが好ましく、0.08N/25mm以上であることがより好ましく、0.10N/25mm以上であることがさらに好ましい。
一方、保護フィルム2を剥離する際の応力でワイヤグリッド偏光板にしわなどの損傷を与えないようにするためには、接着力は、0.50N/25mm以下であることが好ましく、0.40N/25mm以下であることがより好ましく、0.30N/25mm以下であることがさらに好ましい。
金属膜13と基材11との密着力も金属膜13が製造工程の中で保護フィルムを貼り合わせる前に剥落することを防止したり、保護フィルムを貼り合わせる際の軽微な応力で金属膜が損傷することを防止したりするためには、接着力は、0.05N/25mm以上であることが好ましく、0.08N/25mm以上であることがより好ましく、0.10N/25mm以上であることがさらに好ましい。
一方、保護フィルム2を剥離する際の応力でワイヤグリッド偏光板にしわなどの損傷を与えないようにするためには、接着力は、0.50N/25mm以下であることが好ましく、0.40N/25mm以下であることがより好ましく、0.30N/25mm以下であることがさらに好ましい。
金属膜13と基材11との間の密着力を調整する方法としては、化学的な方法と物理的な方法が挙げられる。
化学的な方法としては、基材11上に金属膜13を形成する以前に、基材11の表面を表面改質剤加工する方法や、コロナ処理やプラズマ処理などを施して表面改質する方法が挙げられる。
表面改質の度合いを評価する指標の一つに基材11の表面の表面張力を評価する方法がある。基材11として表面張力が低い素材を選定し、金属細線12を形成する領域を、金属膜13を形成する領域と比較してより高表面張力になるようそれぞれの領域の改質度を調整する方法が挙げられる。
表面改質の度合いを評価する指標の一つに基材11の表面の表面張力を評価する方法がある。基材11として表面張力が低い素材を選定し、金属細線12を形成する領域を、金属膜13を形成する領域と比較してより高表面張力になるようそれぞれの領域の改質度を調整する方法が挙げられる。
物理的な方法としては、基材11上に金属膜13を形成する以前に、基材11の表面の平坦度を調整する方法が挙げられる。例えば上記の金属細線13が形成される凸凹構造11aの場合、格子状凸部の高さは、凸部間のピッチに対して0.5倍以上1.5倍以下、好ましくは0.8倍以上1.5倍以下の比率を有する粗面であることから金属細線12と基材11との密着力はきわめて高い。これに対して金属膜13が形成される領域の基材11の表面をより平坦にした領域を作製することで金属膜13の密着力をより低く調整することができる。
必要に応じて上記したような化学的方法と物理的を組み合わせて密着力を調整することができる。また金属膜13の領域内に、それぞれ基材11との間の密着力が異なる複数の領域を同時に形成することもでき、これにより保護フィルム2を剥がしたときに金属膜13のどの領域までが剥離したかによって、保護フィルム2のロット毎の密着力のばらつきを監視することもできる。
金属膜13は、金属細線12と同じ金属素材を使用して同時に基材11上に形成することができる。これにより金属膜13を効率よく形成できるうえ、さらにワイヤグリッド偏光板自体を破壊検査することなく、代わりに金属膜を検査することで偏光板としての特性を低コストで評価できる。このように形成した金属膜13の厚みは金属細線12の厚みと同様に100nm以上200nm以下前後と極めて薄いものになるので、一度ワイヤグリッド偏光板1から剥がれた金属膜13を偽装し補修することは困難である。このように形成した金属膜13を、ワイヤグリッド偏光板の機能部分である金属細線12が形成された領域の代わりに破壊検査することで偏光板としての特性を低コストで評価できることも好ましい。
金属膜13の面積は、0.01mm2以上5000mm2以下であることが好ましく、金属膜13の剥離の有無を目視で容易に確認するためには0.04mm2以上であることがより好ましく、生産効率の観点からは4000mm2以下であることがより好ましい。金属膜13を偏光板としての特性を評価する目的で形成する場合にはより大面積であってもよいが、生産効率の観点から、金属膜13の面積は、ワイヤグリッド偏光板1の面積に対して0.01%以上50%以下の範囲であることが好ましく、0.02%以上10%以下の範囲であることがより好ましい。
金属膜13をワイヤグリッド偏光板1の面内のいずれの場所に形成するかは、保護フィルム2が剥がされることを監視する視点や、特性評価のためのサンプリングの視点や、裁断加工での製品取り効率の視点などから任意に選択できる。金属膜13はワイヤグリッド偏光板1の面内の所望の場所に独立して形成してもよく、ワイヤグリッド偏光板1の面内に所望の規則性で周期的に形成してもよい。
金属膜13の形状としては特に限定されないが、円形、長方形、正方形、平行四辺形等があげられる。金属膜13は、保護フィルム2が剥がされることの監視の観点、及び、剥離があった場合の視認のし易さの観点、及び、特性評価のためのサンプリングの観点から帯状に連続して形成されていることが好ましい。
金属膜13を金属細線12の方向と垂直に、帯状に形成することによってワイヤグリッド偏光板1の透過軸方向の特性について連続的にサンプリングすることが可能になる。また、金属膜13を金属細線12の方向と平行に、帯状に形成することによってワイヤグリッド偏光板1の反射軸方向の特性について連続的にサンプリングすることが可能になる。帯状の金属膜13はワイヤグリッド偏光板1の面内に一定間隔で周期的に形成することが好ましく、特性評価のためのサンプリングのしやすさの観点からは50mm以上1000mm以下の間隔で形成されていることが好ましく、保護フィルム2が剥がされることの監視のしやすさの観点からは、10mm以上300mm以下の間隔で形成されていることが好ましい。金属膜13が帯状である場合、その横幅は0.1mm〜100mmの範囲であることが好ましく、0.5mm〜80mmの範囲であることがより好ましく、1mm〜50mmの範囲であることがさらに好ましく、2mm〜20mmの範囲であることがよりさらに好ましい。
本実施形態のワイヤグリッド偏光板は、前記金属細線が形成された面に、粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲であって、前記金属膜の剥離力を越える粘着力を有する保護フィルムを有することが好ましい。保護フィルムが貼付されていることでワイヤグリッド偏光板の表面を周辺環境からの汚染や、取扱い時の擦れや切断加工などの外力から保護できる。また、保護フィルムは金属細線間に移行するような粘着剤成分の含有量が少なく、光学特性を維持できるものが好ましい。
金属膜13の剥離力を越える粘着力を有する保護フィルムは、JIS Z1528に準拠した、90度剥離試験の条件で、引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分で剥離力を測定した値でその粘着力を評価する。ワイヤグリッド偏光板1の上に貼付した保護フィルム2をJIS Z1528に準拠した、90度剥離試験の条件で引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分で剥離した際に、金属膜13の領域の50%以上が剥離している場合について金属膜13の剥離力を越えていると判断する。
ワイヤグリッド偏光板1の上に貼付された保護フィルム2の粘着層22は、金属細線12の頂部の形状及び金属膜13に追従して接触し、ワイヤグリッド偏光板1と保護フィルムの基材21とを結合するために必要な結合力を有すると共に、保護フィルム2をワイヤグリッド偏光板1から外す際には、金属細線12を凸凹構造11aから剥離させたり、ワイヤグリッド偏光板1を変形させたり、粘着層22の凝集破壊により粘着材が金属細線上に残留しない程度の易剥離性を持つことが好ましい。その一方で保護フィルム2をワイヤグリッド偏光板1から外す際には、金属膜13の少なくとも一部を基材11から剥離させる粘着力を有する。具体的には、保護フィルム2の粘着力は0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下であることが好ましい。粘着層22は、ワイヤグリッド偏光板の光学性能を、保護フィルム2を貼付ける前と保護フィルム2を剥離した後とで維持できることが好ましい。
このような保護フィルムについては、本出願人の特開2009−258168号公報に記載されており、この内容はすべてここに含められる。
このような保護フィルムについては、本出願人の特開2009−258168号公報に記載されており、この内容はすべてここに含められる。
[実施例1]
(格子状凸部の形成)
まず、特開2006−224659号公報に記載された方法を用いて、ピッチが230nmで、微細凹凸格子の高さが350nmである微細凹凸格子から、表面の微細凹凸格子のピッチと高さとが140nm/162nmで、厚さ0.3mm、縦200mm、横180mmのニッケルスタンパを作製した。微細格子の延在方向はスタンパの縦方向と一致させた(スタンパ1)。スタンパ1の中央部における十文字及びスタンパ1の周囲に幅10mmのカブトンテープを貼り付けることにより、テープの下にある微細凹凸格子をマスキングしたものを準備した。
(格子状凸部の形成)
まず、特開2006−224659号公報に記載された方法を用いて、ピッチが230nmで、微細凹凸格子の高さが350nmである微細凹凸格子から、表面の微細凹凸格子のピッチと高さとが140nm/162nmで、厚さ0.3mm、縦200mm、横180mmのニッケルスタンパを作製した。微細格子の延在方向はスタンパの縦方向と一致させた(スタンパ1)。スタンパ1の中央部における十文字及びスタンパ1の周囲に幅10mmのカブトンテープを貼り付けることにより、テープの下にある微細凹凸格子をマスキングしたものを準備した。
(紫外線硬化樹脂を用いた転写フィルムの作製)
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)を20質量%、ヘキサメチレンジアクリレート(HDDA)を47質量%、ラウリルアクリレートを30質量%、ダロキュア1173(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)を3質量%配合し、異物をろ過して光硬化性樹脂組成物(組成物1)を作製した。
組成物1を厚さ100μmのPETフィルムに10μmの厚みで塗布し、表面にスタンパ1を押し付けて、PETフィルム側から1J/cm2の光量で紫外光照射して硬化させて、格子状凸部の転写と、カプトンテープの貼り跡からなる帯状の平坦部の転写とが同時になされた転写フィルムを作製した。
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)を20質量%、ヘキサメチレンジアクリレート(HDDA)を47質量%、ラウリルアクリレートを30質量%、ダロキュア1173(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)を3質量%配合し、異物をろ過して光硬化性樹脂組成物(組成物1)を作製した。
組成物1を厚さ100μmのPETフィルムに10μmの厚みで塗布し、表面にスタンパ1を押し付けて、PETフィルム側から1J/cm2の光量で紫外光照射して硬化させて、格子状凸部の転写と、カプトンテープの貼り跡からなる帯状の平坦部の転写とが同時になされた転写フィルムを作製した。
(ワイヤグリッド偏光板の作製)
<真空蒸着法を用いた金属の蒸着>
得られた紫外線硬化樹脂の転写フィルムに、電子ビーム真空蒸着法(EB蒸着法)を用いて金属を被着した。本実施例では、金属としてアルミニウム(Al)を用い、真空度2.5×10-3Pa、蒸着速度4nm/s、常温下においてアルミニウムを蒸着した。
<エッチングによる不要金属の除去>
転写フィルムにAlを被着した後、フィルムを室温下の0.1質量%水酸化ナトリウム水溶液中で55秒の条件で洗浄し、すぐに水洗してエッチングを停止させた。その後、フィルムを乾燥して、金属細線と、カプトンテープの貼り跡の転写部に形成された帯状の金属膜とを有する転写フィルムを作製した。この転写フィルムの断面を、電界放出型走査型電子顕微鏡にて観察したところ、格子状凸部のピッチ、形成した金属細線の高さ、及び幅はそれぞれ、140nm/162nm/63nmであった。また帯状の金属膜の厚みについては図2の×印を付けた9カ所について測定したところいずれも92〜96nmの範囲であった。このようにして実施例1のワイヤグリッド偏光板(偏光板1)を作製した。
<真空蒸着法を用いた金属の蒸着>
得られた紫外線硬化樹脂の転写フィルムに、電子ビーム真空蒸着法(EB蒸着法)を用いて金属を被着した。本実施例では、金属としてアルミニウム(Al)を用い、真空度2.5×10-3Pa、蒸着速度4nm/s、常温下においてアルミニウムを蒸着した。
<エッチングによる不要金属の除去>
転写フィルムにAlを被着した後、フィルムを室温下の0.1質量%水酸化ナトリウム水溶液中で55秒の条件で洗浄し、すぐに水洗してエッチングを停止させた。その後、フィルムを乾燥して、金属細線と、カプトンテープの貼り跡の転写部に形成された帯状の金属膜とを有する転写フィルムを作製した。この転写フィルムの断面を、電界放出型走査型電子顕微鏡にて観察したところ、格子状凸部のピッチ、形成した金属細線の高さ、及び幅はそれぞれ、140nm/162nm/63nmであった。また帯状の金属膜の厚みについては図2の×印を付けた9カ所について測定したところいずれも92〜96nmの範囲であった。このようにして実施例1のワイヤグリッド偏光板(偏光板1)を作製した。
[保護フィルムの作製]
厚さ50μmのPET製基材に、厚さ25μmのシリコーンゴム製の粘着剤層を設けたフィルムを作製し、さらにこれをヘキサン中に1時間浸漬した後、80℃の熱風乾燥機中で3時間乾燥して保護フィルムを作製した(保護フィルム1)。
保護フィルム1の粘着層が偏光板1の金属細線及び金属膜と対向するようにして密着させた。その後、20℃、55%RHの環境で24時間保持した。このようにして積層体を作製した(積層体1)。
厚さ50μmのPET製基材に、厚さ25μmのシリコーンゴム製の粘着剤層を設けたフィルムを作製し、さらにこれをヘキサン中に1時間浸漬した後、80℃の熱風乾燥機中で3時間乾燥して保護フィルムを作製した(保護フィルム1)。
保護フィルム1の粘着層が偏光板1の金属細線及び金属膜と対向するようにして密着させた。その後、20℃、55%RHの環境で24時間保持した。このようにして積層体を作製した(積層体1)。
[保護フィルムからの抽出成分量の測定]
保護フィルム1を620cm2採取し、短冊状に裁断したものをトルエン50mlに12時間浸漬した抽出液を真空乾燥して抽出成分量を評価した結果、抽出成分量は、保護フィルム1について1cm2当たり0.11mgであった。
保護フィルム1を620cm2採取し、短冊状に裁断したものをトルエン50mlに12時間浸漬した抽出液を真空乾燥して抽出成分量を評価した結果、抽出成分量は、保護フィルム1について1cm2当たり0.11mgであった。
[保護フィルム剥離の際の移行成分量の測定]
積層体1から保護フィルム1を剥離した後の偏光板1について、(1)偏光板1を700cm2採取し、短冊状に裁断したものをクロロホルム50mlに浸漬し、1時間超音波照射した抽出液を濃縮して抽出成分を回収した、これをGPC分析によって保護フィルム1からの移行成分と判定された成分の量を測定した。その結果、移行成分量は、保護フィルム1について1cm2当たり0.0002mgであった。また、偏光板1のワイヤグリッド面のXPS分析によりシロキサン系粘着成分が14atomic%検出され、物質量としては保護フィルム1について1cm2当たり凡そ0.00015mgと判定した。
積層体1から保護フィルム1を剥離した後の偏光板1について、(1)偏光板1を700cm2採取し、短冊状に裁断したものをクロロホルム50mlに浸漬し、1時間超音波照射した抽出液を濃縮して抽出成分を回収した、これをGPC分析によって保護フィルム1からの移行成分と判定された成分の量を測定した。その結果、移行成分量は、保護フィルム1について1cm2当たり0.0002mgであった。また、偏光板1のワイヤグリッド面のXPS分析によりシロキサン系粘着成分が14atomic%検出され、物質量としては保護フィルム1について1cm2当たり凡そ0.00015mgと判定した。
[偏光板からの抽出成分量の測定]
積層体1から保護フィルム1を剥離した後の偏光板1を700cm2採取し、短冊状に裁断したものをクロロホルム50mlに浸漬し、1時間超音波照射した抽出液を真空乾燥して抽出成分量を評価した結果、抽出成分量は、偏光板1の全体の質量の0.08質量%であり、紫外線硬化樹脂部分の質量に対する値と考えても0.90質量%であった。
積層体1から保護フィルム1を剥離した後の偏光板1を700cm2採取し、短冊状に裁断したものをクロロホルム50mlに浸漬し、1時間超音波照射した抽出液を真空乾燥して抽出成分量を評価した結果、抽出成分量は、偏光板1の全体の質量の0.08質量%であり、紫外線硬化樹脂部分の質量に対する値と考えても0.90質量%であった。
[90度剥離法による剥離力測定]
積層体1について、幅25mm、長さ80mmに裁断したものを、JIS Z1528に準拠した、粘着テープ90度剥離試験治具を用いて、引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分での剥離力を測定した結果、剥離力は、0.16N/25mmであった。
積層体1について、幅25mm、長さ80mmに裁断したものを、JIS Z1528に準拠した、粘着テープ90度剥離試験治具を用いて、引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分での剥離力を測定した結果、剥離力は、0.16N/25mmであった。
[保護フィルム剥離後の外観]
偏光板1と同じ大きさの保護フィルム1を積層した積層体1を作製した。次いで積層体1から保護フィルム1を引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分で90度剥離したところ、金属膜13の領域の面積の、85%が剥離した。剥離した金属膜13は保護フィルム1に貼りついていた。金属膜13が取り去られた後の偏光板1には金属膜13の下にあった帯状の紫外線硬化樹脂層とPET樹脂が残り、これらは透明であるため、その周囲の金属光沢のある金属膜の残部や金属細線領域との対比により容易に視認できた。その一方、金属細線は保護フィルムによって取り去られることは無く、剥離後の偏光板1の金属細線の領域についても光学顕微鏡を用いて20カ所について100倍で観察したがそのいずれにも何ら異常は認められなかった。
剥離した金属膜13の貼りついた保護フィルム1を再び剥離後の偏光板1に貼り合わせようとしたが、金属膜の不規則な裂け目を完全に一致させることは困難であり、保護フィルム1を剥がした痕跡を隠すことはできなかった。
偏光板1と同じ大きさの保護フィルム1を積層した積層体1を作製した。次いで積層体1から保護フィルム1を引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分で90度剥離したところ、金属膜13の領域の面積の、85%が剥離した。剥離した金属膜13は保護フィルム1に貼りついていた。金属膜13が取り去られた後の偏光板1には金属膜13の下にあった帯状の紫外線硬化樹脂層とPET樹脂が残り、これらは透明であるため、その周囲の金属光沢のある金属膜の残部や金属細線領域との対比により容易に視認できた。その一方、金属細線は保護フィルムによって取り去られることは無く、剥離後の偏光板1の金属細線の領域についても光学顕微鏡を用いて20カ所について100倍で観察したがそのいずれにも何ら異常は認められなかった。
剥離した金属膜13の貼りついた保護フィルム1を再び剥離後の偏光板1に貼り合わせようとしたが、金属膜の不規則な裂け目を完全に一致させることは困難であり、保護フィルム1を剥がした痕跡を隠すことはできなかった。
[分光光度計による偏光性能評価]
保護フィルム1と密着させる前の偏光板1と、60℃の熱風乾燥機中で8時間加熱した積層体1から保護フィルム1を剥離した後の偏光板1’について分光光度計を用い、直線偏光に対する平行ニコル時及び直交ニコル時の透過光強度を測定した。測定波長域は可視光として400nm〜780nmとし、偏光度を下記式より算出した。
偏光度=[(Imax−Imin)/(Imax+Imin)]×100(%)
ここで、Imaxは平行ニコル時の透過光強度であり、Iminは直交ニコル時の透過光強度である。その結果について図3に示す。偏光板1および偏光板1’の偏光度にはほとんど差が認められなかった。
保護フィルム1と密着させる前の偏光板1と、60℃の熱風乾燥機中で8時間加熱した積層体1から保護フィルム1を剥離した後の偏光板1’について分光光度計を用い、直線偏光に対する平行ニコル時及び直交ニコル時の透過光強度を測定した。測定波長域は可視光として400nm〜780nmとし、偏光度を下記式より算出した。
偏光度=[(Imax−Imin)/(Imax+Imin)]×100(%)
ここで、Imaxは平行ニコル時の透過光強度であり、Iminは直交ニコル時の透過光強度である。その結果について図3に示す。偏光板1および偏光板1’の偏光度にはほとんど差が認められなかった。
本発明に係る積層体及びワイヤグリッド偏光板は、保護フィルムを密着させた前後で、可視光領域のほぼ全領域にわたって同程度の優れた偏光度及び透過率を示した。またこの積層体をカッターナイフで切断した後で保護フィルムを剥離して、ワイヤグリッド偏光板の切断部とその周辺を目視外観評価したところ、いずれの箇所にも粘着層の付着等の異常は何ら認められなかった。
このように、本発明の積層体は保護フィルムによってワイヤグリッド偏光板の表面を周辺環境からの汚染や、取扱い時の擦れや切断加工等の外力から保護できる。また、保護フィルムからの悪影響、例えば粘着剤によるワイヤグリッド偏光板性能の低下や、保護フィルムを剥離する際のワイヤグリッド表面の損傷や移行物質による汚染もほとんどなかった。
このように、本発明の積層体は保護フィルムによってワイヤグリッド偏光板の表面を周辺環境からの汚染や、取扱い時の擦れや切断加工等の外力から保護できる。また、保護フィルムからの悪影響、例えば粘着剤によるワイヤグリッド偏光板性能の低下や、保護フィルムを剥離する際のワイヤグリッド表面の損傷や移行物質による汚染もほとんどなかった。
[実施例2]
スタンパ1についてカプトンテープでマスキングする代わりにラッピング材を用いて微細凹凸格子の上から平坦かつ直径5mmの円形にて数カ所研磨したものを準備した。研磨は、粒度400、2000、10000の3水準のラッピング材で各水準3カ所、計9カ所で実施した。
上記以外は実施例1と同様にして9カ所に円形の金属膜が形成されたワイヤグリッド偏光板(偏光板2)を作製した。また、実施例1と同様にして偏光板2と同じ大きさの保護フィルム1との積層体(積層体2)を作製した後、積層体2から保護フィルム1を引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分で90度剥離したところ、粒度400で研磨した金属膜部ではその面積の53〜56%が剥離した。また、粒度2000で研磨した金属膜部ではその面積の85〜91%が剥離し、粒度10000で研磨した金属膜部ではその面積の94〜100%が剥離した。
低粒度のラッピング材での研磨によって形成された金属膜は保護フィルムによって取り去られる膜の面積は低下する半面、金属膜の裂け目の形状はより複雑になり保護フィルム1を剥がした痕跡を隠し難くするという点では有効であることがわかった。一方、高粒度のラッピング材で金属膜を形成した場合には保護フィルムによってほぼ全ての金属膜が取り去られるため加工後に保護フィルムを剥がしたあとの部品の外観が美しいという利点があることがわかった。
その一方、金属細線は保護フィルムによって取り去られることは無かった。剥離後の偏光板1の金属細線の領域についても光学顕微鏡を用いて20カ所について100倍で観察したところ、実施例1と同様にそのいずれにも何ら異常は認められなかった。
スタンパ1についてカプトンテープでマスキングする代わりにラッピング材を用いて微細凹凸格子の上から平坦かつ直径5mmの円形にて数カ所研磨したものを準備した。研磨は、粒度400、2000、10000の3水準のラッピング材で各水準3カ所、計9カ所で実施した。
上記以外は実施例1と同様にして9カ所に円形の金属膜が形成されたワイヤグリッド偏光板(偏光板2)を作製した。また、実施例1と同様にして偏光板2と同じ大きさの保護フィルム1との積層体(積層体2)を作製した後、積層体2から保護フィルム1を引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分で90度剥離したところ、粒度400で研磨した金属膜部ではその面積の53〜56%が剥離した。また、粒度2000で研磨した金属膜部ではその面積の85〜91%が剥離し、粒度10000で研磨した金属膜部ではその面積の94〜100%が剥離した。
低粒度のラッピング材での研磨によって形成された金属膜は保護フィルムによって取り去られる膜の面積は低下する半面、金属膜の裂け目の形状はより複雑になり保護フィルム1を剥がした痕跡を隠し難くするという点では有効であることがわかった。一方、高粒度のラッピング材で金属膜を形成した場合には保護フィルムによってほぼ全ての金属膜が取り去られるため加工後に保護フィルムを剥がしたあとの部品の外観が美しいという利点があることがわかった。
その一方、金属細線は保護フィルムによって取り去られることは無かった。剥離後の偏光板1の金属細線の領域についても光学顕微鏡を用いて20カ所について100倍で観察したところ、実施例1と同様にそのいずれにも何ら異常は認められなかった。
[実施例3]
実施例2に比べ、スタンパ1の研磨形状を円形にする代わりに平坦かつ金属細線の方向と垂直方向の帯状にしたものを準備した。研磨は、粒度400、2000、10000の3水準のラッピング材で、帯状の金属膜の幅については20mm、5mm、1mmの各3水準で実施した。上記以外は実施例1と同様にして9本の帯状の金属膜が形成されたワイヤグリッド偏光板(偏光板3)を作製した。また、実施例1と同様にして偏光板3と同じ大きさの保護フィルム1との積層体(積層体3)を作製した後、積層体3から保護フィルム1を引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分で90度剥離したところ、粒度400で研磨した金属膜部ではいずれの幅の帯部についてもその面積の51〜55%が金属膜の全長にわたりほぼ均等に剥離した。また粒度2000で研磨した金属膜部ではその面積の83〜89%が剥離し、粒度10000で研磨した金属膜部ではその面積の94〜100%が剥離した。帯状の金属膜の場合には保護フィルムによって取り去られた金属膜の形状がより複雑なうえに金属膜の裂け目が長くつながって発生した。そのため、帯の幅をより細くした場合には剥離前の金属膜の視認性はより低下するが、その反面剥離した後ではいずれの幅であっても充分な視認性を発揮することがわかった。
その一方、金属細線は保護フィルムによって取り去られることは無かった。剥離後の偏光板1の金属細線の領域についても光学顕微鏡を用いて20カ所について100倍で観察したところ、実施例1と同様にそのいずれにも何ら異常は認められなかった。
実施例2に比べ、スタンパ1の研磨形状を円形にする代わりに平坦かつ金属細線の方向と垂直方向の帯状にしたものを準備した。研磨は、粒度400、2000、10000の3水準のラッピング材で、帯状の金属膜の幅については20mm、5mm、1mmの各3水準で実施した。上記以外は実施例1と同様にして9本の帯状の金属膜が形成されたワイヤグリッド偏光板(偏光板3)を作製した。また、実施例1と同様にして偏光板3と同じ大きさの保護フィルム1との積層体(積層体3)を作製した後、積層体3から保護フィルム1を引っ張り試験機にて剥離速度1000mm/分で90度剥離したところ、粒度400で研磨した金属膜部ではいずれの幅の帯部についてもその面積の51〜55%が金属膜の全長にわたりほぼ均等に剥離した。また粒度2000で研磨した金属膜部ではその面積の83〜89%が剥離し、粒度10000で研磨した金属膜部ではその面積の94〜100%が剥離した。帯状の金属膜の場合には保護フィルムによって取り去られた金属膜の形状がより複雑なうえに金属膜の裂け目が長くつながって発生した。そのため、帯の幅をより細くした場合には剥離前の金属膜の視認性はより低下するが、その反面剥離した後ではいずれの幅であっても充分な視認性を発揮することがわかった。
その一方、金属細線は保護フィルムによって取り去られることは無かった。剥離後の偏光板1の金属細線の領域についても光学顕微鏡を用いて20カ所について100倍で観察したところ、実施例1と同様にそのいずれにも何ら異常は認められなかった。
1 ワイヤグリッド偏光板
2 保護フィルム
11 基材
11a 凸凹構造
12 金属細線
13 金属膜
14 金属膜の厚み測定場所
21 保護フィルム基材
22 粘着層
2 保護フィルム
11 基材
11a 凸凹構造
12 金属細線
13 金属膜
14 金属膜の厚み測定場所
21 保護フィルム基材
22 粘着層
Claims (5)
- 粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲である粘着フィルムによって剥離される金属膜を、金属細線が形成された面と同じ面に有する、
ワイヤグリッド偏光板。 - 前記金属膜の面積が、前記ワイヤグリッド偏光板の面積に対して0.01%以上50%以下の範囲であって、
前記金属膜が、独立して、または周期的に配列している、
請求項1に記載のワイヤグリッド偏光板。 - 前記金属膜が、前記金属細線方向と垂直に、帯状に形成されている、
請求項1又は2に記載のワイヤグリッド偏光板。 - 前記金属膜が、前記金属細線方向と平行に、帯状に形成されている、
請求項1又は2に記載のワイヤグリッド偏光板。 - 前記金属細線が形成された面に、粘着力が0.02N/25mm以上0.5N/25mm以下の範囲であって、前記金属膜の剥離力を越える粘着力を有する保護フィルムをさらに有する、
請求項1〜4のいずれか一項に記載のワイヤグリッド偏光板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019121435A JP2021009174A (ja) | 2019-06-28 | 2019-06-28 | ワイヤグリッド偏光板 |
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ID=74199899
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113759456A (zh) * | 2021-09-14 | 2021-12-07 | 长光卫星技术有限公司 | 一种带有玻璃基底的薄膜金属线栅偏振片的制备方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070092368A (ko) * | 2006-03-09 | 2007-09-13 | 주식회사 엘지화학 | 나노 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법 |
JP2008096677A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Asahi Kasei Corp | ワイヤグリッド偏光板 |
JP2009156885A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Sony Corp | ワイヤグリッド偏光フィルム及びその製造方法、並びに液晶ディスプレイ |
JP2009258168A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-11-05 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 成形体及びそれを用いた積層体 |
JP2011033869A (ja) * | 2009-08-03 | 2011-02-17 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 固定フィルム |
JP2011115687A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Japan Gore Tex Inc | 通気フィルター、該通気フィルターの固定方法、および電気装置の製造方法。 |
JP2017185679A (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 大阪シーリング印刷株式会社 | 感熱記録体 |
JP2018184577A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | 日本ゴア株式会社 | 保護フィルム付膜片、保護フィルム付膜片の保護フィルム除去方法および電気装置の製造方法 |
US20180339501A1 (en) * | 2017-05-23 | 2018-11-29 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. | Nanometer wire grid structure fabrication method |
-
2019
- 2019-06-28 JP JP2019121435A patent/JP2021009174A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070092368A (ko) * | 2006-03-09 | 2007-09-13 | 주식회사 엘지화학 | 나노 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법 |
JP2008096677A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Asahi Kasei Corp | ワイヤグリッド偏光板 |
JP2009156885A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Sony Corp | ワイヤグリッド偏光フィルム及びその製造方法、並びに液晶ディスプレイ |
JP2009258168A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-11-05 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 成形体及びそれを用いた積層体 |
JP2011033869A (ja) * | 2009-08-03 | 2011-02-17 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 固定フィルム |
JP2011115687A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Japan Gore Tex Inc | 通気フィルター、該通気フィルターの固定方法、および電気装置の製造方法。 |
JP2017185679A (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 大阪シーリング印刷株式会社 | 感熱記録体 |
JP2018184577A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | 日本ゴア株式会社 | 保護フィルム付膜片、保護フィルム付膜片の保護フィルム除去方法および電気装置の製造方法 |
US20180339501A1 (en) * | 2017-05-23 | 2018-11-29 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. | Nanometer wire grid structure fabrication method |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113759456A (zh) * | 2021-09-14 | 2021-12-07 | 长光卫星技术有限公司 | 一种带有玻璃基底的薄膜金属线栅偏振片的制备方法 |
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